JPH0819727A - 排ガス処理方法 - Google Patents
排ガス処理方法Info
- Publication number
- JPH0819727A JPH0819727A JP6154043A JP15404394A JPH0819727A JP H0819727 A JPH0819727 A JP H0819727A JP 6154043 A JP6154043 A JP 6154043A JP 15404394 A JP15404394 A JP 15404394A JP H0819727 A JPH0819727 A JP H0819727A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust gas
- gas treatment
- treatment method
- pore size
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 18
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 238000007873 sieving Methods 0.000 claims abstract description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 7
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 2
- 229910004014 SiF4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 28
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000004880 explosion Methods 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ＮＦ3 を含む排ガスの処理方法を提供する。
【構成】ＮＦ3 を含む排ガスを、４〜７Åの細孔径をも
つ、活性炭、モレキュラーシービングカーボン、ゼオラ
イトの中の少なくとも１種類以上の吸着剤を充填した充
填層に、−２０〜８０℃の温度範囲で通過させる。ま
た、フッ素系酸性ガスを含有する場合、当該ガスを処理
するため前段に処理装置を設置する。
つ、活性炭、モレキュラーシービングカーボン、ゼオラ
イトの中の少なくとも１種類以上の吸着剤を充填した充
填層に、−２０〜８０℃の温度範囲で通過させる。ま
た、フッ素系酸性ガスを含有する場合、当該ガスを処理
するため前段に処理装置を設置する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】ＮＦ3 は、半導体やアモルファス
シリコンデバイス製造分野の、エッチングや装置のクリ
ーニングにおいて、大量に消費されている。本発明は、
これらの分野で使用されているＮＦ3 を含有する排ガス
から、選択的にＮＦ3 を吸着除去するための排ガス処理
方法に関するものである。
シリコンデバイス製造分野の、エッチングや装置のクリ
ーニングにおいて、大量に消費されている。本発明は、
これらの分野で使用されているＮＦ3 を含有する排ガス
から、選択的にＮＦ3 を吸着除去するための排ガス処理
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術および解決すべき問題点】ＮＦ3 は、Ｓｉ
またはＳｉ化合物の加工エッチングや、これらの製造装
置内部の堆積物を除去するために使用されているが、そ
の消費量は、近年大幅に伸びている。また、ＮＦ3 は毒
性（ＴＬＶ＝１０ｐｐｍ）を有するが、常温では安定で
反応性も無いため、除去の困難なガスである。
またはＳｉ化合物の加工エッチングや、これらの製造装
置内部の堆積物を除去するために使用されているが、そ
の消費量は、近年大幅に伸びている。また、ＮＦ3 は毒
性（ＴＬＶ＝１０ｐｐｍ）を有するが、常温では安定で
反応性も無いため、除去の困難なガスである。
【０００３】我々はＮＦ3 の処理方法として、Ｓｉを始
めとする各種金属、およびこれらの非酸化物系化合物と
ＮＦ3 を２００℃〜８００℃で反応させ、得られるフッ
化物ガスを補集する方法を提案した（特公昭６３−４８
５７０号）。これらの反応薬剤のうち特に金属Ｓｉは
反応性がよい安価である反応生成物（ＳｉＦ4 ）は
常温で十分な蒸気圧を有し、そのため系から容易に排出
できるＳｉＦ4 はアルカリで完全に処理できるという
特長があり、ＮＦ3 処理に最も適しているといえる。
めとする各種金属、およびこれらの非酸化物系化合物と
ＮＦ3 を２００℃〜８００℃で反応させ、得られるフッ
化物ガスを補集する方法を提案した（特公昭６３−４８
５７０号）。これらの反応薬剤のうち特に金属Ｓｉは
反応性がよい安価である反応生成物（ＳｉＦ4 ）は
常温で十分な蒸気圧を有し、そのため系から容易に排出
できるＳｉＦ4 はアルカリで完全に処理できるという
特長があり、ＮＦ3 処理に最も適しているといえる。
【０００４】しかしながらこの処理方法は、定常的にＮ
Ｆ3 を排出する装置の排ガス除去のためには有効である
が、ガス漏洩等の緊急時の除去には有効な方法ではな
い。従来技術では、事故等によるＮＦ3 の漏洩発生等の
緊急時の除害について、対応することは不可能で、大気
中への希釈放出が一般的であった。
Ｆ3 を排出する装置の排ガス除去のためには有効である
が、ガス漏洩等の緊急時の除去には有効な方法ではな
い。従来技術では、事故等によるＮＦ3 の漏洩発生等の
緊急時の除害について、対応することは不可能で、大気
中への希釈放出が一般的であった。
【０００５】一方、定常的にＮＦ3 を含有する排ガスを
除去する場合においても、５００℃以上の温度を必要と
することから、保守管理の手間が大きく、また、高温域
での反応除去のため、異常反応による爆発の危険性をは
らんでいた。
除去する場合においても、５００℃以上の温度を必要と
することから、保守管理の手間が大きく、また、高温域
での反応除去のため、異常反応による爆発の危険性をは
らんでいた。
【０００６】ＮＦ3 の流通量が増加している現状では、
ユーザー、取扱い店、輸送、メーカー等において、漏洩
事故の発生の可能性が増加している。ＮＦ3 は毒性のあ
るガスであり、漏洩発生時に緊急除去する方法の開発が
望まれていた。
ユーザー、取扱い店、輸送、メーカー等において、漏洩
事故の発生の可能性が増加している。ＮＦ3 は毒性のあ
るガスであり、漏洩発生時に緊急除去する方法の開発が
望まれていた。
【０００７】
【問題点を解決するための手段】上述の問題について検
討を重ねた結果、本発明者らは特定の細孔径をもつ吸着
剤を用いることにより選択的にＮＦ3 を吸着除去するこ
とを見いだし本発明に至った。
討を重ねた結果、本発明者らは特定の細孔径をもつ吸着
剤を用いることにより選択的にＮＦ3 を吸着除去するこ
とを見いだし本発明に至った。
【０００８】すなわち本発明は、ＮＦ3 を含有する排ガ
スを、４〜７Åの細孔径をもつ、活性炭、モレキュラー
シービングカーボン、ゼオライトの中の少なくとも１種
類以上の吸着剤を充填した充填層を通過させることによ
り、選択的にＮＦ3 を吸着除去することを特徴とする排
ガス処理方法で、吸着除去する温度範囲が−２０〜８０
℃であり、吸着処理方法の前段にＳｉＦ4 、ＷＦ6 、Ｈ
Ｆ等フッ素系酸性排ガス処理装置を設置し、前段処理を
行うことを特徴とする排ガス処理方法を提供するもので
ある。
スを、４〜７Åの細孔径をもつ、活性炭、モレキュラー
シービングカーボン、ゼオライトの中の少なくとも１種
類以上の吸着剤を充填した充填層を通過させることによ
り、選択的にＮＦ3 を吸着除去することを特徴とする排
ガス処理方法で、吸着除去する温度範囲が−２０〜８０
℃であり、吸着処理方法の前段にＳｉＦ4 、ＷＦ6 、Ｈ
Ｆ等フッ素系酸性排ガス処理装置を設置し、前段処理を
行うことを特徴とする排ガス処理方法を提供するもので
ある。
【０００９】本発明において用いられる吸着剤は、活性
炭、モレキュラーシービングカーボン（ＭＳＣ）、ゼオ
ライトが有効で、さらにその細孔径が４〜７Åのものが
好ましい。細孔径が４Å未満だとＮＦ3 が細孔内に入ら
ないので好ましくなく、７Åを越えるとＮＦ3 が凝集で
きなくなるので好ましくない。
炭、モレキュラーシービングカーボン（ＭＳＣ）、ゼオ
ライトが有効で、さらにその細孔径が４〜７Åのものが
好ましい。細孔径が４Å未満だとＮＦ3 が細孔内に入ら
ないので好ましくなく、７Åを越えるとＮＦ3 が凝集で
きなくなるので好ましくない。
【００１０】次にＮＦ3 を吸着除去する温度は、−２０
〜８０℃の範囲が好ましく、最適には０〜５０℃の範囲
が好ましい。吸着温度が、−２０℃未満だと冷却コスト
が高くなり経済的でなくなり好ましくなく、８０℃を越
えると吸着しなくなり好ましくない。
〜８０℃の範囲が好ましく、最適には０〜５０℃の範囲
が好ましい。吸着温度が、−２０℃未満だと冷却コスト
が高くなり経済的でなくなり好ましくなく、８０℃を越
えると吸着しなくなり好ましくない。
【００１１】また、ＮＦ3 排ガス中にＳｉＦ4 、Ｗ
Ｆ6 、ＨＦ等のフッ素系酸性ガスが含まれている場合
は、吸着剤のＮＦ3 除害効率が低下するため、その前段
でこれらフッ素系酸性ガスを除去する必要がある。除去
方法としては、固体アルカリ等を用い固体の反応物とし
て無害化し除去する。このことによりＮＦ3 のみの排ガ
スとなり除害効率が大幅に向上する。
Ｆ6 、ＨＦ等のフッ素系酸性ガスが含まれている場合
は、吸着剤のＮＦ3 除害効率が低下するため、その前段
でこれらフッ素系酸性ガスを除去する必要がある。除去
方法としては、固体アルカリ等を用い固体の反応物とし
て無害化し除去する。このことによりＮＦ3 のみの排ガ
スとなり除害効率が大幅に向上する。
【００１２】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明するが、係る実施例に限定されるものではない。
説明するが、係る実施例に限定されるものではない。
【００１３】実施例１ ガスクロマトグラフィの充填カラム（７５×４ｍｍ）に
細孔径５Åのモレキュラーシービングカーボン（ＭＳＣ
−５Ａ）を充填し、５０℃に保持したカラムにＡｒとＮ
Ｆ3 （Ａｒ：ＮＦ3 ＝１：１９）の混合ガスを４ｍｌ／
ｍｉｎの速度で供給した。その検出結果、保持時間１．
５８分にＡｒに基づくピークと１０．２２分にＮＦ3 に
基づくピークの２本のピークが観測され、ＮＦ3 が吸着
しているのが確認された。
細孔径５Åのモレキュラーシービングカーボン（ＭＳＣ
−５Ａ）を充填し、５０℃に保持したカラムにＡｒとＮ
Ｆ3 （Ａｒ：ＮＦ3 ＝１：１９）の混合ガスを４ｍｌ／
ｍｉｎの速度で供給した。その検出結果、保持時間１．
５８分にＡｒに基づくピークと１０．２２分にＮＦ3 に
基づくピークの２本のピークが観測され、ＮＦ3 が吸着
しているのが確認された。
【００１４】実施例２ 実施例１と同様に充填カラム（７５×４ｍｍ）に細孔径
５．１〜５．６Åのゼオライト（ＺＳＭ−５）を充填
し、５０℃に保持したカラムにＡｒとＮＦ3 （Ａｒ：Ｎ
Ｆ3 ＝１：１９）の混合ガスを４ｍｌ／ｍｉｎの速度で
供給した。その結果、保持時間０．５８分にＡｒのピー
クが、また２．８４分にＮＦ3 に基づくピークの２本の
ピークが観測され、ＮＦ3 が吸着しているのが確認され
た。
５．１〜５．６Åのゼオライト（ＺＳＭ−５）を充填
し、５０℃に保持したカラムにＡｒとＮＦ3 （Ａｒ：Ｎ
Ｆ3 ＝１：１９）の混合ガスを４ｍｌ／ｍｉｎの速度で
供給した。その結果、保持時間０．５８分にＡｒのピー
クが、また２．８４分にＮＦ3 に基づくピークの２本の
ピークが観測され、ＮＦ3 が吸着しているのが確認され
た。
【００１５】実施例３ 実施例１と同様に充填カラム（７５×４ｍｍ）に細孔平
均１５〜３０Åであるが、４〜１０Åの小さな細孔も存
在する活性炭を充填し、５０℃に保持したカラムにＡｒ
とＮＦ3 （Ａｒ：ＮＦ3 ＝１：１９）の混合ガスを４ｍ
ｌ／ｍｉｎの速度で供給した。その結果、保持時間０．
１８分と０．７０分に２本のピークが観測され、ＮＦ3
が吸着しているのが確認された。
均１５〜３０Åであるが、４〜１０Åの小さな細孔も存
在する活性炭を充填し、５０℃に保持したカラムにＡｒ
とＮＦ3 （Ａｒ：ＮＦ3 ＝１：１９）の混合ガスを４ｍ
ｌ／ｍｉｎの速度で供給した。その結果、保持時間０．
１８分と０．７０分に２本のピークが観測され、ＮＦ3
が吸着しているのが確認された。
【００１６】比較例１ 実施例１と同様に充填カラム（７５×４ｍｍ）に４〜１
０Åの小さな細孔径が存在しないシリカアルミナ、アル
ミナ、ジルコニア、シリカゲル、酸化バリウムを各々充
填し、５０℃に保持したカラムにＡｒとＮＦ3 （Ａｒ：
ＮＦ3 ＝１：１９）の混合ガスを４ｍｌ／ｍｉｎの速度
で供給した。その結果、いずれも１本のピークが観測さ
れ、ＮＦ3 とＡｒが同時に流出しているのが確認され、
ＮＦ3 は吸着されなかった。
０Åの小さな細孔径が存在しないシリカアルミナ、アル
ミナ、ジルコニア、シリカゲル、酸化バリウムを各々充
填し、５０℃に保持したカラムにＡｒとＮＦ3 （Ａｒ：
ＮＦ3 ＝１：１９）の混合ガスを４ｍｌ／ｍｉｎの速度
で供給した。その結果、いずれも１本のピークが観測さ
れ、ＮＦ3 とＡｒが同時に流出しているのが確認され、
ＮＦ3 は吸着されなかった。
【００１７】実施例４ ガスクロマトグラフィの充填カラム（７５×４ｍｍ）に
細孔径３Å、４Åのモレキュラーシービングカーボン
（ＭＳＣ−３ＡとＭＳＣ−４Ａ）、および７Å、８Åの
ゼオライト（ＡｌＰＯ−５とＡｌＰＯ−８）を各々充填
し、５０℃に保持したカラムにＡｒとＮＦ3 （Ａｒ：Ｎ
Ｆ3 ＝１：１９）の混合ガスを４ｍｌ／ｍｉｎの速度で
供給した。その結果、細孔径４Å、７Åのものについて
は２本のピークが観測され、ＮＦ3 が吸着しているのが
確認されたが、細孔径３Å、８Åのものについては１本
のピークだけが観測され、ＮＦ3 とＡｒが同時に流出し
ており、ＮＦ3 は吸着されなかった。
細孔径３Å、４Åのモレキュラーシービングカーボン
（ＭＳＣ−３ＡとＭＳＣ−４Ａ）、および７Å、８Åの
ゼオライト（ＡｌＰＯ−５とＡｌＰＯ−８）を各々充填
し、５０℃に保持したカラムにＡｒとＮＦ3 （Ａｒ：Ｎ
Ｆ3 ＝１：１９）の混合ガスを４ｍｌ／ｍｉｎの速度で
供給した。その結果、細孔径４Å、７Åのものについて
は２本のピークが観測され、ＮＦ3 が吸着しているのが
確認されたが、細孔径３Å、８Åのものについては１本
のピークだけが観測され、ＮＦ3 とＡｒが同時に流出し
ており、ＮＦ3 は吸着されなかった。
【００１８】実施例５ 実施例１と同様に充填カラム（７５×４ｍｍ）に細孔径
５Åのモレキュラーシービングカーボン（ＭＳＣ−５
Ａ）を充填し、カラムを−２０℃、０℃、８０℃、１０
０℃、１５０℃に各々保持し、ＡｒとＮＦ3 （Ａｒ：Ｎ
Ｆ3 ＝１：１９）の混合ガスを４ｍｌ／ｍｉｎの速度で
供給した。その結果、−２０℃、０℃、８０℃に保持し
たカラムについては２本のピークが観測され、ＮＦ3 が
吸着しているのが確認されたが、１００℃、１５０℃に
保持したカラムについては１本のピークだけが観測さ
れ、ＮＦ3 とＡｒが同時に流出しており、ＮＦ3 は吸着
されなかった。
５Åのモレキュラーシービングカーボン（ＭＳＣ−５
Ａ）を充填し、カラムを−２０℃、０℃、８０℃、１０
０℃、１５０℃に各々保持し、ＡｒとＮＦ3 （Ａｒ：Ｎ
Ｆ3 ＝１：１９）の混合ガスを４ｍｌ／ｍｉｎの速度で
供給した。その結果、−２０℃、０℃、８０℃に保持し
たカラムについては２本のピークが観測され、ＮＦ3 が
吸着しているのが確認されたが、１００℃、１５０℃に
保持したカラムについては１本のピークだけが観測さ
れ、ＮＦ3 とＡｒが同時に流出しており、ＮＦ3 は吸着
されなかった。
【００１９】実施例６ 実施例１と同様に充填カラム（７５×４ｍｍ）に細孔径
５Åのモレキュラーシービングカーボン（ＭＳＣ−５
Ａ）を充填し、カラムを５０℃に保持し、ＡｒとＮＦ3
とＳｉＦ4 （Ａｒ：ＮＦ3 ：ＳｉＦ4 ＝１：１８：１）
の混合ガスを４ｍｌ／ｍｉｎの速度で供給した。その結
果、１本のピークだけが観測され、ＮＦ3とＡｒとＳｉ
Ｆ4 が同時に流出しており、ＮＦ3 は吸着されなかっ
た。
５Åのモレキュラーシービングカーボン（ＭＳＣ−５
Ａ）を充填し、カラムを５０℃に保持し、ＡｒとＮＦ3
とＳｉＦ4 （Ａｒ：ＮＦ3 ：ＳｉＦ4 ＝１：１８：１）
の混合ガスを４ｍｌ／ｍｉｎの速度で供給した。その結
果、１本のピークだけが観測され、ＮＦ3とＡｒとＳｉ
Ｆ4 が同時に流出しており、ＮＦ3 は吸着されなかっ
た。
【００２０】次に混合ガスを固形のＮａＯＨを充填した
層を通過させた後、充填カラムに４ｍｌ／ｍｉｎの速度
で供給した。その結果、２本のピークが観測され、ＮＦ
3 が吸着しているのが確認された。
層を通過させた後、充填カラムに４ｍｌ／ｍｉｎの速度
で供給した。その結果、２本のピークが観測され、ＮＦ
3 が吸着しているのが確認された。
【００２１】
【発明の効果】本発明による吸着除去方法を用いれば、
常温での処理が可能であり、かつ、充填層を通過させる
だけで除去可能であり、緊急時の対応が可能となる。さ
らに、常温域での除去法であるため保守管理が容易にな
り、可燃性ガスとの混合による爆発の危険性も回避でき
る。また、排ガスにＮＦ3 の他に、フッ素系酸性ガスが
含まれている場合、前段に酸性排ガス処理設備を設置す
ることにより、効果的にＮＦ3 の除去が可能である。
常温での処理が可能であり、かつ、充填層を通過させる
だけで除去可能であり、緊急時の対応が可能となる。さ
らに、常温域での除去法であるため保守管理が容易にな
り、可燃性ガスとの混合による爆発の危険性も回避でき
る。また、排ガスにＮＦ3 の他に、フッ素系酸性ガスが
含まれている場合、前段に酸性排ガス処理設備を設置す
ることにより、効果的にＮＦ3 の除去が可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 53/34 １２８
Claims (3)
- 【請求項１】 ＮＦ3 を含有する排ガスを、４〜７Åの
細孔径をもつ、活性炭、モレキュラーシービングカーボ
ン、ゼオライトの中の少なくとも１種類以上の吸着剤を
充填した充填層を通過させることにより、選択的にＮＦ
3 を吸着除去することを特徴とする排ガス処理方法。 - 【請求項２】 吸着除去する温度範囲が−２０〜８０℃
であることを特徴とする請求項１記載の排ガス処理方
法。 - 【請求項３】 吸着処理方法の前段にＳｉＦ4 、Ｗ
Ｆ6 、ＨＦ等フッ素系酸性排ガス処理装置を設置し、前
段処理を行うことを特徴とする請求項１、請求項２記載
の排ガス処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6154043A JPH0819727A (ja) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | 排ガス処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6154043A JPH0819727A (ja) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | 排ガス処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0819727A true JPH0819727A (ja) | 1996-01-23 |
Family
ID=15575676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6154043A Pending JPH0819727A (ja) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | 排ガス処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0819727A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002273144A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-09-24 | Japan Atom Energy Res Inst | ガス分離装置 |
| KR100788301B1 (ko) * | 2004-12-23 | 2007-12-27 | 주식회사 효성 | 제올라이트 3에이를 이용한 삼불화질소 가스의 정제방법 |
-
1994
- 1994-07-06 JP JP6154043A patent/JPH0819727A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002273144A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-09-24 | Japan Atom Energy Res Inst | ガス分離装置 |
| KR100788301B1 (ko) * | 2004-12-23 | 2007-12-27 | 주식회사 효성 | 제올라이트 3에이를 이용한 삼불화질소 가스의 정제방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6030591A (en) | Process for removing and recovering halocarbons from effluent process streams | |
| KR101263494B1 (ko) | 이산화탄소의 정화 방법 | |
| US5051117A (en) | Process for removing gaseous contaminating compounds from carrier gases containing halosilane compounds | |
| CA2522258A1 (en) | Sorbents and methods for the removal of mercury from combustion gases | |
| US20040123736A1 (en) | Methods for regenerating process gas purifier materials | |
| KR20010062657A (ko) | 가스 회수 시스템 및 가스 회수 방법 | |
| JPH11226335A (ja) | Ｌｓｘゼオライト上の吸着により不活性流体を精製する方法 | |
| CN1297473C (zh) | 气体精制方法及装置 | |
| JPH0819727A (ja) | 排ガス処理方法 | |
| US20250304445A1 (en) | Waste gas treatment device, waste gas treatment method, and waste gas adsorption and recovery system including the same | |
| CN106276828A (zh) | 一种吸附提纯三氟化氮的方法 | |
| JP3516716B2 (ja) | トリフルオロメタンの精製法 | |
| JP3298106B2 (ja) | 水溶性有機溶剤含有排気ガスの処理方法 | |
| JP2000024457A (ja) | ＣｌＦ３を含む排ガスの減少システム | |
| KR20190010979A (ko) | 반도체 드라이 스크러버 시스템 | |
| JPS6274430A (ja) | 希ガスハライドエキシマ−レ−ザ−ガスの精製法 | |
| JP3650588B2 (ja) | パーフルオロコンパウンドのリサイクル利用方法 | |
| JP3908819B2 (ja) | フロンの回収方法 | |
| JP3463873B2 (ja) | パーフルオロコンパウンドのリサイクル利用方法 | |
| JPS61133127A (ja) | ガス状酸性ハロゲン化合物の除去方法 | |
| JPS63291624A (ja) | ガリウム・ヒ素ウェハ−のドライエッチング排ガスの処理方法 | |
| JPH10216479A (ja) | 三弗化窒素ガスの除害方法 | |
| JP2514144B2 (ja) | Ｎｆ３ 分解ガスの処理方法 | |
| JPS62279824A (ja) | 希ガスハライドエキシマ−レ−ザ−ガスの精製法 | |
| JPH0647233A (ja) | ハロゲン系排ガスの処理方法 |