JPH0648075A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁気記録情報とホログラムまたは回折格子か
らな可視情報の双方を複合的に記録することができ、偽
造・変造の防止において効果的であり、セキュリティ性
にくずれた情報記録媒体を提供すること。 【構成】 磁気記録層を有してなる情報記録媒体であっ
て、前記磁気記録層がホログラムまたは回折格子からな
るか、あるいは磁気記録層上にホログラム形成層または
回折格子形成層を備えることを特徴とする情報記録媒
体。

Description

【発明の詳細な説明】

【産業上の利用分野】本発明は、情報記録媒体に関し、
特に磁気記録層そのものをホログラムまたは回折格子層
とするか、あるいは磁気記録層上にホログラム形成層ま
たは回折格子形成層を有することによって単一媒体中に
複数種類の情報記録を行い得る情報記録媒体に関するも
のである。

【従来の技術】プラスチック基材の表面に磁気記録層が
形成されてなる磁気記録媒体は、クレジットカード、Ｉ
Ｄカード、定期券、磁気テープなどとして広く普及して
いる。このような磁気記録媒体は、その記録密度が高
く、しかも外部から簡単には記録情報を読み出すことが
できないという利点がある。

【発明が解決しようとする課題】近年、磁気カードの普
及に伴い、その変造・偽造が社会問題となりつつあが、
従来の磁気記録媒体は、この偽造防止の点においても十
分有効な防止手段を具備していないのが現状である。本
発明は上述した点に鑑みてなされたものであって、以下
のような目的を有する。 （１）磁気記録情報とホログラムからなる可視情報の双
方を複合的に記録することができる情報記録媒体を提供
すること。 （２）偽造・変造の防止において効果的であり、セキュ
リティ性にすぐれた情報記録媒体を提供すること。

【課題を解決するための手段】本発明による情報記録媒
体は、磁気記録層を同時にホログラム層または回折格子
層とすること、あるいは磁気記録層上にホログラム形成
層または回折格子形成層を有することによって、複数種
類の情報を同一の情報記録媒体に記録することが可能で
あり、さらに偽造・変造の防止においてもすぐれたもの
としたことを基本的特徴とするものである。以下、本発
明を添付図面に示す好ましい具体例に基づいて説明す
る。図１は、本発明による情報記録媒体の基本的構成を
示す断面図である。本図に示すように、本発明による情
報記録媒体は、基材１上に磁気記録層２が形成されてな
る。この磁気記録層２は同時に可視情報層としてのホロ
グラム層２または回折格子層２を兼ねている。図２は、
本発明の他の実施態様の断面図であり、この場合におい
ては、基材１上に形成された磁気記録層を兼ねたホログ
ラム層２または回折格子層２が、ホログラム形成層３ａ
または回折格子形成層３ａと薄膜層３ｂによって構成さ
れている。さらに、ホログラム層２または回折格子層２
の表面に保護層４が形成されている。図３は、本発明の
他の実施態様の断面図であり、この場合、基材１１上に
形成された磁気記録層１２上に薄膜層１３を介してホロ
グラム形成層１４または回折格子形成層１４が設けられ
ている。そして、このホログラム形成層１４または回折
格子形成層１４上に保護層１５が形成されている。ま
ず、基材１，１１はシート状、フィルム状あるいは板状
の材質からなり、材料としては特に制限されるものでは
なく、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ナイロ
ン、セルロースジアセテート、ポリスチレン、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリイミド、ポ
リカーボネートなどのプラスチック、銅、アルミニウム
などの金属、紙、含浸紙などを単独あるいは組み合わせ
て用いることができる。基材の厚さは、０．００５〜５
mm程度が適当である。ホログラム形成層を兼ねた磁気記
録層２、あるいは磁気記録層１２に含有される磁性材料
としては、γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、ＣｒＯ₂ 、Ｆ
ｅ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ、ＭｎＡｌ、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライトなどの
従来公知の無機磁性微粒子や高分子磁性材料、有機磁性
材料等が用いられ得る。磁気記録層としての形成方法に
は、（イ）これら磁性材料を樹脂バインダーに混練して
コーティング法や印刷による方法、（ロ）真空蒸着法・
スパッタリング法・メッキ法などによる薄膜形成法があ
る。特に磁気記録層２では、（イ）の場合、磁気記録層
２はホログラム形成層または回折格子形成層となり、
（ロ）の場合は、ホログラム反射層または回折格子反射
層となる。ホログラム形成層または回折格子形成層の形
成材料としては、ポリ塩化ビニル、メチルメタアクリレ
ートのようなアクリル、ポリスチレン、ポリカーボネー
ト等の熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、
エポキシ、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタ
ン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレー
ト、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール
（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレー
ト、トリアジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂を硬化
させたもの、あるいは上記の熱可塑性樹脂と熱硬化性樹
脂との混合物を挙げることができる。さらに、ホログラ
ム形成層または回折格子形成層の形成材料として、ラジ
カル重合性不飽和基を有する熱成形性物質が使用可能で
あり、これには下記の２種のものがある。 （１）ガラス転移点が０〜２５０℃のポリマー中にラジ
カル重合性不飽和基を有するもの。より具体的には、下
記の〜に示される化合物を重合もしくは共重合させ
たポリマーに対して、後述する方法（イ）〜（ニ）によ
りラジカル重合性不飽和基を導入したものを挙げること
ができる。 水酸基を有する単量体：Ｎ−メチロールアクリルア
ミド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルア
クリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ
プロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノ
キシプロピルアクリレート等。 カルボキシル基を有する単量体：アクリル酸、メタ
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
等。 エポキシ基を有する単量体：グリシジルメタクリレ
ート等。 アジリジニル基を有する単量体：２−アジリジニル
エチルメタクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸
アリル等。 アミド基を有する単量体：アクリルアミド、メタク
リルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタ
クリレート等。 スルフォン基を有する単量体：２−アクリルアミド
−２−メチルプロパンスルフォン酸等。 イソシアネート基を有する単量体：２，４−トルエ
ンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレー
トの１モル対１モル付加物等のジイソシアネートと、活
性水素を有するラジカル重合単量体の付加物等。 上記の共重合体のガラス転移点を調節したり、硬化
膜の物性を調節したりするために、上記の化合物と、こ
の化合物と共重合可能な以下のような単量体と共重合さ
せることもできる。共重合可能な単量体としては、メチ
ルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルメタク
リレート、エチルアクリレート、プロピルメタクリレー
ト、プロピルアクリレート、ブチルメタクリレート、ブ
チルアクリレート、イソブチルメタクリレート、イソブ
チルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブ
チルアクリレート、イソアミルメタクリレート、イソア
ミルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタク
リレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が挙げら
れる。 次に、上述のようにして得られた重合体を以下に述べる
方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジカル重合性不
飽和基を導入することにより、回折格子形成樹脂あるい
はホログラム形成樹脂を得ることができる。 （イ） 水酸基を有する単量体の重合体または共重合体
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシ
ル基を有する単量体等を縮合反応させる。 （ロ） カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、上記の水酸基を有
する単量体を縮合反応させる。 （ハ） エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合
には、上記の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシ
ル基を有する単量体を付加反応させる。 （ニ） 水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有す
る単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体、ジイ
ソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単
量体の１対１モルの付加物を付加反応させる。 上記の反応を行うには、微量のハイドロキノン等の重合
抑制剤を加え、乾燥空気を送りながら行うことが好まし
い。 （２）融点が０〜２５０℃であり、ラジカル重合性不飽
和基を有する化合物。具体的には、ステアリルアクリレ
ート、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイソシ
アヌレート、シクロヘキサンジオールジアクリレート、
シクロヘキサンジオールジメタクリレート、スピログリ
コールジアクリレート、スピログリコールジメタクリレ
ート等が挙げられる。 また、本発明におけるホログラム形成樹脂としては、上
記（１）、（２）を混合して用いることもでき、さら
に、それらに対してラジカル重合性不飽和単量体を加え
ることもできる。このラジカル重合性不飽和単量体は、
電離放射線照射の際、架橋密度を向上させ、耐熱性を向
上させるものであり、上述の単量体の他に、エチレング
リコールジアクリレート、エチレングリコールジメタク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポ
リエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサンジオ
ールジアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、トリメチロール
プロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ
アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテ
ルジメタクリレート、ポリエチレングリコールジグリシ
ジルエーテルジアクリレート、ポリエチレングリコール
ジグリシジルエーテルジメタクリレート、プロピレング
リコールジグリシジルエーテルジアクリレート、プロピ
レングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルジ
アクリレート、ポリプロピレングリコールジグリシジル
エーテルジメタクリレート、ソルビトールテトラグリシ
ジルエーテルテトラアクリレート、ソルビトールテトラ
グリシジルエーテルテトラメタクリレート等を用いるこ
とができる。このような単量体は、上記の共重合体混合
物の固形分１００重量部に対して、０．１〜１００重量
部の割合で用いることが好ましい。また、上記のものは
電子線により充分に硬化することが可能であるが、紫外
線照射で硬化させる場合には、増感剤としてベンゾキノ
ン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾ
インエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン類、ビアチ
ル類等の紫外線照射によりラジカルを発生するものも用
いることができる。上述したように、本発明において図
１、図２に示されるように磁気記録層がホログラム形成
層または回折格子形成層である場合、磁気記録層はその
表面にレリーフホログラム、レリーフ回折格子のような
凹凸パターン状を形成し得るに十分な可塑性を有してい
ることが肝要であり、そのためには、磁性材料に対する
樹脂バインダーの種類や量、磁性材料の粒子径に留意す
る必要がある。具体的には、バインダーには熱可塑性樹
脂を用いるかあるいは分子量の小さい樹脂を用いるか、
あるいは架橋させる場合には架橋密度の低くなる樹脂を
用いる。あるいはまた可塑剤を添加する等の工夫が必要
である。また、層の表面を平滑化できるような材料の配
合を選択することも必要である。磁性材料に対する樹脂
バインダーの量は２０％〜５０％が好ましい。また、凹
凸パターンのピッチ及び深さから考慮して、磁性材料の
粒子径を０．０１〜３μｍ、好ましくは、０．１〜０．
８μｍとすることが望ましい。こうすることで凹凸パタ
ーンの形成し易い磁性層とすることかできる。但しいず
れの場合も、用いる磁性材料の分散性、磁性材料塗膜の
物性、磁気特性等を考慮して選択する必要がある。本発
明では、ホログラム形成層は平面ホログラム、体積ホロ
グラムのいずれでもよく、平面ホログラムの場合、レリ
ーフホログラムが量産性、耐久性およびコストとの面か
ら好ましく、体積ホログラムの場合、リップマンホログ
ラムが画像再現性および量産性の面から好ましい。その
他、フルネルホログラム、フラウンホーファホログラ
ム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、イメージホロ
グラム等のレーザー再生ホログラム、およびレインボー
ホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それら
の原理を利用したカラーホログラム、コンピュータホロ
グラム、ホログラムディスプレイ、マルチプレックスホ
ログラム、ホログラフィックステレオグラム、ホログラ
フィック回折格子等を用いることができる。回折格子層
は、ホログラム記録手段を利用した前記ホログラフィッ
ク回折格子により構成することもできるが、電子線描画
装置などを用いて機械的に回折格子を作成することによ
り、計算に基づいて任意の回折光が得られる回折格子を
作成することができる。干渉縞を記録するための回折格
子形成用感光材料あるいはホログラム形成用感光材料と
しては、銀塩、重クロム酸ゼラチン、サーモプラスチッ
ク、ジアゾ系感光材料、フォトレジスト、強誘電体、フ
ォトクロミックス材料、サーモクロミックス材料、カル
コゲンガラス等が使用できる。そして、ホログラム形成
層は、従来公知の方法により形成することができる。例
えば、ホログラムがレリーフホログラムである場合、干
渉縞が凹凸の形で記録されたホログラム原版をプレス型
として用い、このホログラム原版上にホログラム形成用
樹脂シートを載置し、加熱ロール等の手段により両者を
加熱圧接し、ホログラム形成用樹脂シート表面にホログ
ラム原版の凹凸模様を複製する方法によって、レリーフ
形成面を有するホログラム層４を得ることができる。ホ
ログラムが、体積ホログラムである場合、フォトポリマ
ー等を基材上にコーティング形成し、あらかじめ作成し
てあるホログラム原版と重ね合せて、スリット状のレー
ザー光を照射することにより、巻取複製することができ
る。その後、熱現像等の処理をしてもよい。いずれにし
ても、個々の記録体ができるだけ個別の再生像を保持で
きるように複製版を多く準備したり、ランダムパターン
としたり、種々工夫することができる。薄膜層３ｂ、あ
るいは薄膜層１３としては、ホログラムまたは回折格子
を反射型とする場合には、光を反射する金属薄膜が用い
られ、また、ホログラムまたは回折格子を透明型とする
場合にはホログラム形成層または回折格子形成層と組合
わせてホログラム効果または回折効果が発現する。反射
型ホログラムまたは反射型回折格子の場合に用いられる
金属薄膜としては、具体的には、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎ
ｉ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｅ、Ｉｎ、Ｂｉ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ａ
ｇ、Ｍｇ、Ｓｂ、Ｃｄ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｒｂなどの金属お
よびその酸化物、窒化物などの化合物、あるいはこれら
の金属の合金からなる。上記金属成分の内、特にＡｌ、
Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕなどが好ましく用いられ
得る。この反射層（反射層が金属薄膜の場合は、感熱破
壊印字層若しくは放電破壊印字層を兼ねてもよい）は、
真空蒸着法、スパッタ法、メッキ法などの方法によって
ホログラム形成層３ａ，１４の凹凸に追従するようにし
て形成することができる。反射層の膜厚は、１０Å〜１
μｍ、さらに好ましくは２００〜２０００Å程度であ
る。ホログラムまたは回折格子が透明型ホログラムまた
は透明型回折格子の場合、後述するような磁気記録層上
の着色層や絵柄を隠蔽しない材質であればよく、例え
ば、保護層、ホログラム形成層若しくは回折格子形成層
などの隣接する層とは屈折率の異なる透明材料、厚みが
２００Å以下の反射性金属薄膜層が挙げられる。前者の
場合、透明材料の屈折率は隣接する層よりも大きくても
小さくてもよいが、屈折率の差は０．１以上、好ましく
は０．５以上であり、屈折率の値は１．０以上であるこ
とが好ましい。このように、屈折率の異なる透明薄膜層
を設けることにより、回折あるいはホログラム効果を発
現でき、しかも、下層の着色や絵柄を隠蔽させない作用
が得られる。また、後者の場合は、反射性金属薄膜では
あるが、厚みが２００Å以下であるため、光波の透過率
が大きく、そのため回折あるいはホログラム効果の発現
作用とともに、表示部非隠蔽作用を発揮する。すなわ
ち、反射性金属薄膜中を光波が通過する場合、その振幅
は一波長当たり、ｅｘｐ（−２πＫ）で急激に減少する
ため、その膜厚が２００Åを越えると透過率はかなり小
さいものとなる。したがって、膜厚を２００Å以下とす
ることにより透過率は充分なものとなり、回折あるいは
ホログラム効果を発現させることができる。また、膜厚
を２００Å以下とすることにより、従来みられた高い輝
度の銀白色による外観上の違和感も解消する。上記のよ
うな薄膜層３ｂ，１３の形成に用いられる材料として
は、以下のような（１）〜（６）の材料が挙げられる。 （１）回折格子層またはホログラム層よりも屈折率が大
きい透明連続薄膜 これには、可視領域で透明なものと、赤外あるいは紫外
領域で透明なものとがあり、前者は表１に、後者は表２
にそれぞれ示す。表中、ｎは屈折率を示す（以下、
（２）〜（６）においても同様）。

【表１】

【表２】 （２）回折格子層またはホログラム層よりも屈折率が大
きい透明強誘電体 上記の透明強誘電体の例を表３に示す。

【表３】 （３）回折格子層またはホログラム層よりも屈折率が小
さい透明連続薄膜 上記の透明連続薄膜の例を表４に示す。

【表４】 （４）厚さ２００Å以下の反射性金属薄膜 反射性金属薄膜は、複素屈折率を有し、この複素屈折率
ｎ^＊はｎ^＊＝ｎ−ｉＫで表される。ここで、ｎは屈折
率、Ｋは吸収係数を示す。本発明に使用できる反射性金
属薄膜の材質を表５に示し、併せて上記のｎおよびＫの
値を示す。

【表５】 また、上記の表５に挙げた材質の他に、Ｓｎ，Ｉｎ，Ｔ
ｅ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｚｎ，Ｇｅ，Ｐｂ，Ｃｄ，Ｂ
ｉ，Ｓｅ，Ｇａ，Ｒｂ等の金属が使用可能である。さら
に、上記の金属の酸化物、窒化物等も使用可能であり、
また、金属、その酸化物、窒化物等は、単独で用いるこ
ともでき、あるいは、２種以上を組み合わせて用いても
よい。 （５）回折格子層またはホログラム層と屈折率の異なる
樹脂 回折格子層またはホログラム層に対して屈折率が大きい
もの、小さいもの、いずれでもよい。これらの例を表６
に示す。

【表６】 また、上記の表６に挙げた樹脂の他に、一般的な合成樹
脂が使用可能であるが、特に回折格子層またはホログラ
ム層との屈折率の差が大きい樹脂が好ましい。 （６）上記の（１）〜（５）に示される材質を適宜組み
合わせてなる積層体 上記の（１）〜（５）の材質の組み合わせは任意であ
り、また層構成における各層の上下位置関係も任意に選
択できる。上記の（１）〜（６）の薄膜層のうち、
（４）の薄膜層の厚さは２００Å以下が好ましく、
（１）〜（３）および（５）、（６）の薄膜層の厚さ
は、薄膜層が透明性を維持できる範囲であればよく、使
用する材質により適宜設定することができ、一般的には
１０〜１００００Å程度、好ましくは１００〜５０００
Å程度である。上記の（１）〜（４）に示されるような
材質を用いて薄膜層を形成する方法としては、真空蒸着
法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法、電気メッキ法等の一般的薄膜形成
手段を用いることができる。また、上記の（５）に示さ
れるような材質を用いて薄膜層を形成する場合は、一般
的なコーティング方法等を用いることができる。さら
に、上記の（６）に示されるような材質を用いて薄膜層
を形成する場合は、上記の各手段、方法等を適宜組み合
わせて用いることができる。尚、上記の（５）に示され
るような材質を用いる場合、透明材料である限り薄膜で
なくてもよく、０．５μｍ以上、好ましくは１．０〜
３．０μｍの厚みを有する樹脂層を形成してもよい。特
に、透明型とすることで、磁気記録層との積層であるこ
とが一目で判別できるようにする。本発明の場合、一般
的にはホログラム形成層の厚さは１００〜８００Åが望
ましい。１００Å以下であると、反射効果が乏しく、８
００Å以上であるとエンボス性が著しく低下する。保護
層４，１５は、記録媒体の物理特性、耐久性を確保する
ために、記録層の保護を目的として形成されるものであ
る。保護層４，１５の形成は、合成樹脂フィルムをラミ
ネートするか、エクストルージョンコート法によるか、
あるいは合成樹脂塗料を塗布することにより行うことが
できる。保護層を構成する樹脂としては、耐久性、耐熱
性あるいは他の層との密着性等を考慮して、上述の着色
層を形成するに際して用いられる合成樹脂類と同様のも
のでもよく、また、物理的特性の高い紫外線・電子線硬
化型の樹脂がより好ましい。保護層形成用の電離放射線
硬化性樹脂としては、分子中に重量性不飽和結合または
エポキシ基を有するプレポリマ−、オリゴマー、および
／または単量体等による混合樹脂組成物が利用される。
尚、上記のプレポリマ−やオリゴマーの具体例は、不飽
和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等による不
飽和ポリエステル類をはじめ、ポリエステルメタクリレ
ート、ポリエーテルメタクリレート、ポリオールメタク
リレート、メラミンメタクリレート等のメタクリレート
類、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレー
ト、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等
のアクリレート類等が挙げられる。さらに、単量体の具
体例は、スチレン、α・メチルスチレン等によるスチレ
ン系単量体、アクリル酸メチル、アクリル酸−２−エチ
ルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ブ
トキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メトキシ
ブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステル
類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタク
リル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル等のメタ
クリル酸エステル類、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアミノ）エチル、メタクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノ）エチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジ
ベンジルアミノ）エチル、メタクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノ）メチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ
−ジエチルアミノ）プロピル等の不飽和酸の置換アミノ
アルコールエステル類、アクリルアミド、メタクリルア
ミド等の不飽和カルボン酸アミド、エチレングリコール
ジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−
ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレングリコー
ルジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ート等のジアクリレート化合物、ジプロピレングリコー
ルジアクリレート、エチレングリコールアクリレート、
プロピレングリコールジメタクリレート、ジエチレング
リコールジメタクリレート等の多官能性化合物、トリメ
チロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロー
ルプロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトー
ルテトラチオグリコール等の分子中に２個以上のチオー
ル基を有するポリチオール化合物等が利用される。保護
層を上記のような電離放射線硬化型樹脂により形成する
場合、電離放射線硬化型樹脂によるコーティング剤の塗
工適性を考慮して、通常、上述のプレポリマーまたはオ
リゴマーの５〜９５重量％と、単量体および／またはポ
リチオール化合物の９５〜５重量％との混合組成物が利
用される。また、電離放射線硬化型樹脂によるコーティ
ング剤中には、このコーティング剤が紫外線の照射によ
り硬化される場合、例えば、アセトフェノン類、ベンゾ
フェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α・ア
ミロキシムエステル、テトラメチルメウラムモノサルフ
ァイド、チオキサントン類等による光重合開始剤と、必
要に応じてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ
−ｎ−ブチルホスフィン等の光増感剤とを添加してもよ
いことは勿論である。保護層を形成する際のコーティン
グ剤の塗工方法は、ロールコート、カーテンフローコー
ト、ワイヤーバーコート、リバースコート、グラビアコ
ート、グラビアリバースコート、エアナイフコート、キ
スコート、ブレードコート、スムーズコート、コンマコ
ート等の公知の方法を用いることができる。また、電離
放射線硬化型樹脂による保護層形成における硬化には、
超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアー
ク、ブラックライトランプ、メタルハライドランプ等の
光源からの紫外線照射、あるいは、コックロフトワルト
ン型、ハンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器
型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子
線加速器による１００〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１
００〜３００ｋｅＶのエネルギーの電子線照射が用いら
れる。尚、保護層には、耐久性、耐熱性を向上させるた
めに、テフロンパウダー等の粉体、好ましくは軟化点が
１００℃以上であり透明性が高い粒径が数μｍ、さには
サブミクロン程度の微粉体が含有されてもよい。また、
保護層中にシリコーン、ポリエチレンワックス等を添加
して表面に剥離性を与えてもよい。尚、本発明では磁気
記録媒体の磁気記録層上に、あるいは図４〜図６に示さ
れるように、隠蔽・装飾効果をもたせるための着色層や
絵柄を設けてもよい。図４に示される磁気記録媒体は、
レリーフホログラムの方式により記録されたホログラム
形成層１４と、ホログラム形成層１４を構成する材料の
屈折率と異なる屈折率を有する上述の透明材料からなる
薄膜層１３とからなる透明型ホログラムを有している。
そして、磁気記録層１２と薄膜層１３との間に接着剤層
１６が存在するとともに、絵柄１７が形成されている。
絵柄１７は図のように、磁気記録層１２に接していて
も、薄膜層１３に接していてもよく、さらに、接着剤層
１６中にあってもよい。このように、絵柄１７を薄膜層
１３の下に設けると、ホログラムの照明光と観察者に対
する角度依存性により、ホログラム再生像が見える角度
から磁気記録媒体を観察すれば、絵柄１７がホログラム
再生像に隠蔽され、また、前記角度と異なる角度から観
察すれば、ホログラム再生像に隠蔽されずに絵柄１７を
観察することができる。図５に示される例では、磁気記
録媒体は、体積ホログラムであるリップマンホログラム
の方式により記録されたホログラム形成層１４と磁気記
録層１２との間に、着色層１８が形成されている。リッ
プマンホログラムからなるホログラム形成層１４は実質
的に透明であり、ホログラム再生像の見やすさの点およ
び磁気記録層を隠蔽するという点から、暗色の着色塗料
によって着色層１８を構成することが好ましい。また、
リップマンホログラムは反射再生光の波長選択性を有し
ているため、反射再生光の波長と異なる反射波長を持つ
着色塗料で着色層１８を構成したり、あるいは反射再生
光によるホログラム再生像の色と補色の関係にある着色
塗料を用いることが、装飾性を考慮すると好ましい。な
お、接着剤に着色塗料を混入して着色接着剤としても同
様の効果が得られる。図６に示される例では、磁気記録
媒体は、電子線描画装置により機械的に描画することに
より回折格子が記録された回折格子層１４上に、または
回折格子層１４と反射性金属からなる薄膜層１３との間
に絵柄１７が形成されている。このように薄膜層１３の
上に絵柄層１７を形成すると、薄膜層１３で反射された
光を背景として、絵柄１７を常時観察できる。また、回
折格子層１４上に絵柄１７を形成する場合には、書込・
読取時における磁気ヘッドの走査等のこすれにより絵柄
１７が消失することを防ぐために、上述したような保護
層１５を設けることが好ましい。着色層や絵柄はエチル
セルロース、硝酸セルロース、エチルヒドロキシエチル
セルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢
酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリスチレン、ポ
リ−α−メチルスチレン等のスチレン樹脂、あるいはス
チレン共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタ
クリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル
酸ブチル等のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の単独
あるいは共重合樹脂、ロジン、ロジン変性マレイン酸樹
脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合ロジン等のロジン
エステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ビ
ニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂等のバインダー
に、着色すべき色に応じて各種の顔料を添加し、さらに
必要に応じて、可塑剤、安定剤、ワックス、グリース、
乾燥剤、乾燥補助剤、硬化剤、増粘剤、分散剤を添加し
た後、溶剤あるいは希釈剤で充分に混練してなる着色塗
料あるいはインキを用いて、通常のグラビア法、ロール
法、ナイフエッジ法、オフセット法等の塗布方法あるい
は印刷方法により、所望部分に形成できる。上記態様の
本発明においては、前記磁気記録層に磁気記録情報を記
録するとともに、この層に形成されたホログラムに、あ
るいはホログラム形成層として積層されている層にホロ
グラフィー技術を用いた可視情報を重ねて記録すること
が可能である。このように本発明においては２種類の記
録手段の異なる情報を複合的に記録することができるの
で、単一記録媒体中において、磁気情報とホログラムま
たは回折格子パターンの形成が可能であり、したがって
偽造・変造を防止する上においても効果的である。すな
わち、本発明においてはホログラム層または回折格子層
と磁気記録層とが同一媒体内に形成されているので、ホ
ログラムまたは回折格子の意匠性、セキュリティ性とと
もに、さらには磁気記録による書き替え可能な非視覚的
情報のそれぞれ特徴のある２種類の異なる情報を同一媒
体中に記録することができる。

【発明の効果】本発明における情報記録媒体において
は、磁気記録層とホログラム層または回折格子層とが同
一の層を構成しているので、下記のような効果を奏す
る。 （１）磁気記録情報とホログラムまたは回折格子情報の
２種類の情報を複合的に記録することができる。 （２）偽造・変造の防止において効果的であり、セキュ
リティ性にすぐれている。 （３）層構成を簡略化できるので、記録媒体の厚さを薄
く構成することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による情報記録媒体の基本的構成を示す
断面図である。

【図２】本発明による情報記録媒体の具体的構成の一例
を示す断面図である。

【図３】本発明による情報記録媒体の具体的構成の他の
例を示す断面図である。

【図４】本発明による情報記録媒体の具体的構成の他の
例を示す断面図である。

【図５】本発明による情報記録媒体の具体的構成の他の
例を示す断面図である。

【図６】本発明による情報記録媒体の具体的構成の他の
例を示す断面図である。

【符号の説明】

１，１１…基材 ２…磁気記録層（ホログラム層若しくは回折格子層） ３ａ，１４…ホログラム形成層または回折格子形成層 ３ｂ，１３…薄膜層 ４，１５…保護層 １２…磁気記録層

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０６Ｋ 19/08 Ｇ１１Ｂ 5/80 7303−5Ｄ 8623−5Ｌ Ｇ０６Ｋ 19/00 Ｆ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁気記録層を有してなる情報記録媒体で
   あって、前記磁気記録層がホログラムまたは回折格子層
   からなるか、あるいは前記磁気記録層上にホログラム形
   成層または回折格子形成層を備えることを特徴とする情
   報記録媒体。
2. 【請求項２】 磁気記録層の表面が、レリーフホログラ
   ム、レリーフ回折格子のような凹凸パターン状に形成さ
   れてホログラム形成層または回折格子形成層とされ、さ
   らにその凹凸面に薄膜層が形成されてなることを特徴と
   する請求項１に記載の情報記録媒体。