JPH0737240A

JPH0737240A - 磁気記録媒体および磁気記録媒体の記録方法

Info

Publication number: JPH0737240A
Application number: JP5201978A
Authority: JP
Inventors: Yoshiki Sasaki; 芳樹佐々木; Kotaro Danjo; 耕太郎檀上
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1993-07-23
Filing date: 1993-07-23
Publication date: 1995-02-07

Abstract

(57)【要約】【目的】偽造、変造が極めて困難であるとともに、仮
に偽造、変造を受けた場合でも、磁気情報再生時に容易
に識別できる磁気記録媒体、およびこの磁気記録媒体の
記録方法を提供する。【構成】基体上に、異なるキュリー点および保磁力を
有する２種以上の磁性材料を含む磁気記録層を設け、少
なくとも低キュリー点の磁性材料は、加熱しながらプリ
エンコード磁気データが記録されたものとする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、異なるキュリー点およ
び保磁力を有する２種以上の磁性材料を含む磁性層を備
え、偽造、変造の困難な磁気記録媒体およびこの磁気記
録媒体の記録方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】基体の片面あるいは両面の全域またはス
トライプ状に磁気記録層が形成された磁気記録媒体は、
例えば、プリペイドカード、定期券、乗車券、入場券、
車券、馬券、商品券、株券、証書、通帳、磁気タグ等の
金券、証券類や、ＩＤカード、キャッシュカード、クレ
ジットカード、会員カード等のカード類、磁気テープ、
磁気転写テープ、磁気ラベル等して幅広く使用されてい
る。従来、このような磁気記録媒体は、磁気記録層に高
い記録密度で情報を書込み、外部から簡単には記録情報
を読み出せないようにしたものである。

【０００３】しかしながら、磁気記録層の特性上、記録
された情報の書換え、消去が自在であるため、偽造、変
造が可能であり、近年、大きな社会問題としてクローズ
アップされている。特に、現在は磁気ストライプの入手
が容易であるため、類似のカードを製造することも可能
であり、さらに、現在の仕様のように、磁気記録媒体の
表面に磁気記録層が露出している場合、磁気転写技術に
より磁気記録情報を他の磁気記録層に移すことが容易に
できてしまうという問題もある。

【０００４】このような問題を解決するために、磁気ス
トライプに用いる磁性材料を保磁力の高いものとした磁
気記録媒体が開発されている。この磁気記録媒体は、磁
気ストライプを加熱して磁性材料の保磁力を低下させる
ことにより、入手容易な通常の磁気ヘッドによる記録、
再生が可能となり、常温状態では通常の磁気ヘッドによ
る記録、再生が困難であり、偽造、変造ができないもの
である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような磁気記録媒体は、通常の磁気ヘッドで記録すると
出力レベルがかなり低いながらも正規の波形が書けてし
まうという欠点を持つとともに、従来の磁気記録媒体と
比較して、記録時に加熱を必要とすることが異なるのみ
であり、この事実が一旦判明してしまえば、何らかの加
熱手段を用いて偽造、変造を行うことは容易であるとい
う問題があった。

【０００６】上記のように、磁気記録層に記録された情
報の偽造、変造を防止するための手段が種々開発されて
いるが、簡単かつ効果的な偽造、変造防止手段は未だ確
立されていない。

【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、偽造、変造が極めて困難であるととも
に、仮に偽造、変造を受けた場合でも、磁気情報再生時
に容易に識別できる磁気記録媒体、およびこの磁気記録
媒体の記録方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の磁気記録媒体は基体と、該基体上に
設けられた磁気記録層とを備え、前記磁気記録層は、異
なるキュリー点および保磁力を有する２種以上の磁性材
料を含み、かつ少なくともキュリー点の低い磁性材料は
加熱しながらプリエンコード磁気データが記録されたも
のであるような構成とした。

【０００９】また、本発明の磁気記録媒体の記録方法
は、上記の磁気記録媒体の磁気記録層のプリエンコード
磁気データを先ず読み取って磁気記録条件を設定した
後、該磁気記録条件にしたがって加熱しながら磁気記録
を行うような構成とした。

【００１０】

【作用】基体上に設けられた磁気記録層は、異なるキュ
リー点および保磁力を有する２種以上の磁性材料を含
み、キュリー点の低い磁性材料を加熱してその飽和書込
み電流値を低下させた状態でプリエンコード磁気データ
が記録されているため、偽造を目的として通常の磁気記
録装置を用いて磁気記録層に記録しても、プリエンコー
ド磁気データと不正に記録された磁気データとが混在す
ることになり、情報の読み出しが不可能となって偽造が
容易に判別され、また、プリエンコード磁気データに基
づいて磁気記録条件を設定し、この磁気記録条件にした
がって加熱しながら磁気記録を行うようにすることによ
り、偽造者がプリエンコード磁気データの解析をするこ
とは困難となり、偽造が有効に防止される。

【００１１】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。

【００１２】図１は本発明の磁気記録媒体の一例を示す
概略断面図である。図１において、本発明の磁気記録媒
体１は、基体２と、この基体２上に設けられた磁気記録
層３を備えている。上記の磁気記録層３は、基体２側に
位置する第１磁気記録層３ａと、この第１磁気記録層３
ａ上に設けられた第２磁気記録層３ｂとの２層構成を有
している。そして、第１磁気記録層３ａおよび第２磁気
記録層３ｂに含まれる磁性材料は、互いに異なるキュリ
ー点および高保磁力を有している。

【００１３】基体２は、基体として要求される耐熱性、
強度、剛性、隠蔽性、光不透過性等を考慮して、ナイロ
ン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、塩化ビニル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリエステル、ポリイミド、ポリカーボネー
ト等の樹脂、銅、アルミニウム等の金属、紙、含浸紙等
の材料の中から適宜選択した材料の単独あるいは組み合
わせた複合体により構成することができる。このような
基体２の厚さは、０．００５mm〜５mm程度とすることが
できる。

【００１４】磁気記録層３を構成する第１磁気記録層３
ａが含有する磁性材料、および第２磁気記録層３ｂが含
有する磁性材料は、一方が他方よりも高い保磁力と低い
キュリー点Ｔｃを有している。そして、第１磁気記録層
３ａと第２磁気記録層３ｂのうち、少なくとも低キュリ
ー点、高保磁力の磁気記録層にプリエンコード磁気デー
タが記録されたものである。ここで、高保磁力、低キュ
リー点を有する磁気記録層を第１磁気記録層３ａにする
か、第２磁気記録層３ｂにするかは、下記の効果を勘案
して選択することができる。

【００１５】第１磁気記録層３ａが高保磁力、低キュリ
ー点Ｔｃを有する磁気記録層であり、第２磁気記録層３
ｂが低保磁力、高キュリー点を有する磁気記録層である
場合、上層の第２磁気記録層３ｂが下層の第１磁気記録
層３ａを隠蔽する。したがって、高保磁力、低キュリー
点の磁性材料からなるとともに、後述するようなプリエ
ンコード磁気データが記録された第１磁気記録層３ａの
存在に偽造者が気づき難いことになる。また、低保磁力
の磁性材料からなる第２磁気記録層３ｂが上層にあるた
め、磁気転写によるトラブルが発生し難くなる。さら
に、第２磁気記録層３ｂを構成する磁性材料の平均粒子
径を０．１μｍ以下とすることにより、第２磁気記録層
３ｂにおける赤外線の透過性が向上し、後述するように
磁気記録の際に赤外線による加熱手段を用いたとき、第
１磁気記録層３ａが隠蔽されているにもかかわらず、第
１磁気記録層３ａのみを選択的に加熱することができる
という効果がある。

【００１６】一方、第１磁気記録層３ａが低保磁力、高
キュリー点Ｔｃを有する磁気記録層であり、第２磁気記
録層３ｂが高保磁力、低キュリー点を有する磁気記録層
である場合、第２磁気記録層３ｂが上層であるため、後
述するプリエンコード時の加熱により高保磁力層である
第２磁気記録層３ｂを直接的に加熱し易くなる。また、
加熱しながらの磁気記録時において、熱上昇分布が上層
の第２磁気記録層３ｂである高保磁力、低キュリー点を
有する磁気記録層に集中し、下層の第１磁気記録層３ａ
である低保磁力、高キュリー点を有する磁気記録層への
熱拡散が少なくてすむため、第１磁気記録層３ａのキュ
リー点を比較的低くでき、熱によるダメージも少なくす
ることができる。さらに、磁気記録時において、磁気ヘ
ッドから遠い層が、低保磁力の磁気記録層であるため、
磁場強度（書込電流値）を小さくすることができる。さ
らにまた、上層が高保磁力の磁気記録層であるため、偽
造者がその下層の第１磁気記録層３ａに気づきにくいと
いう効果がある。

【００１７】このような構成の磁気記録層３は、低いキ
ュリー点Ｔｃを有する磁気記録層のキュリー点Ｔｃより
も低い温度で加熱することにより、第１磁気記録層３ａ
と第２磁気記録層３ｂの飽和書込み電流値が略同一、も
しくは近づくことにより、低保磁力の磁性材料の特定の
書込み電流設定値（例えば、飽和電流値の１．５〜２．
０倍）よりも高保磁力の磁性材料の飽和電流値の方が小
さくなることを特徴とする。

【００１８】例えば、第１磁気記録層３ａが高保磁力、
低キュリー点Ｔｃを有する磁気記録層であり、第２磁気
記録層３ｂが低保磁力、高キュリー点を有する磁気記録
層である場合、キュリー点Ｔｃよりも低い温度で加熱し
て高保磁力磁気記録層である第１磁気記録層３ａの保磁
力を下げ、飽和書込み電流値を第２磁気記録層３ｂの飽
和書込み電流値と略同一か、もしくは、近づけることが
できる。これにより、低保磁力の磁性材料の特定の書込
み電流設定値（例えば、飽和電流値の１．５〜２．０
倍）よりも高保磁力の磁性材料の飽和電流値の方を小さ
くすることができる。この際、加熱温度が低すぎると、
高保磁力磁気記録層である第１磁気記録層３ａの飽和書
込み電流値が第２磁気記録層３ｂの飽和書込み電流値と
同一のレベルにならないか、もしくは低保磁力磁気記録
層に書込む時の書込み電流値において、高保磁力磁気記
録層の飽和書込みができないため、加熱条件の下限を低
キュリー点Ｔｃの１／２程度の温度に設定することが好
ましい。また、両磁気記録層３ａ，３ｂのキュリー点が
近いと低保磁力磁気記録層である第２磁気記録層３ｂの
保磁力も低下を来すことになる。このため、両磁気記録
層３ａ，３ｂのキュリー点の差を１００℃以上に設定し
て、低保磁力磁気記録層の保磁力低下を防止することが
好ましい。さらに、第１磁気記録層３ａと第２磁気記録
層３ｂへの磁気記録が互いに影響を受けないようにする
ため、両磁気記録層３ａ，３ｂの保磁力の差を２倍以上
に設定することが好ましい。

【００１９】高保磁力、低キュリー点Ｔｃを持つ磁気記
録層を構成する磁性材料としては、例えばキュリー点の
低いＣｒＯ₂ 、ＡＯ・ｎ｛（Ｆｅ_1-X-Y Ｃｒ_X Ｚｎ_Y ）
₂ Ｏ₃ ｝、ＡＯ・ｎ｛（Ｆｅ_1-X Ｃｒ_X ）₂ Ｏ₃ ｝、Ａ
Ｏ・ｎ｛（Ｆｅ_1-X Ａｌ_X ）₂ Ｏ₃ ｝、ＡＯ・ｎ｛（Ｆ
ｅ_1-X Ｇａ_X ）₂ Ｏ₃ ｝、ＡＯ・ｎ｛（Ｆｅ_1-X-Y-ZＧ
ａ_X Ｃｒ_Y Ａｌ_Z ）₂ Ｏ₃ ｝、ＡＯ・ｎ｛（Ｆｅ_1-X-Y
Ｃｒ_X Ｇａ_Y ）₂ Ｏ₃｝（上記においてＡはＳｒまたは
Ｂａのうちの１種または２種、ｎ＝５〜６）で表される
ようなＳｒフェライト、Ｂａフェライト類、Ｎｄ−Ｆｅ
−Ｂ−Ｍｎ、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ−Ｍｎ−Ａｌ、Ｎｄ−Ｆｅ
−Ｂ−Ｍｎ−Ｃｒ、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ
等のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系合金類等の磁性微粒子が挙げられ
る。そして、上記の磁性微粒子が適当な樹脂あるいはイ
ンキビヒクル中に分散されてなる分散物を、グラビア
法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従
って塗布することにより磁気記録層を形成することがで
きる。

【００２０】また、低保磁力、高キュリー点を持つ磁気
記録層を構成する磁性材料としては、例えばγ−Ｆｅ₂
Ｏ₃ 、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 、Ｆｅ₃ Ｏ₄ 、Ｆｅ、Ｆ
ｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｂａ
フェライト、Ｓｒフェライト、ＣｒＯ₂ 等の磁性微粒子
が挙げられる。そして、上記の磁性微粒子が適当な樹脂
あるいはインキビヒクル中に分散されてなる分散物を、
グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布
方法に従って塗布することにより磁気記録層を形成する
ことができる。また、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、
Ｃｏ−Ｃｒ等の金属または合金、あるいはその酸化物を
用いて、真空蒸着法、スパッタ法、メッキ法等により形
成することもできる。

【００２１】尚、上記の磁性材料の平均粒子径を０．１
μｍ以下とすることにより、磁気記録層の赤外線の透過
性が向上し、後述する磁気記録層の加熱手段が赤外線で
ある場合、照射された赤外線が加熱の不要な磁気記録層
を透過して所定の磁気記録層を加熱することが可能とな
る。

【００２２】上記の磁性微粒子が分散される樹脂あるい
はインキビヒクルとしては、ブチラール樹脂、塩化ビニ
ル／酢酸ビニル共重合体樹脂、ウレタン樹脂、ポリエス
テル樹脂、セルロース樹脂、アクリル樹脂、スチレン／
マレイン酸共重合体樹脂等が用いられ、必要に応じてニ
トリルゴム等のゴム系樹脂あるいはウレタンエラストマ
ー等が添加される。また、耐熱性を考慮して、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリエーテルサルホン等のガラス転移
温度（Ｔｇ）の高い樹脂、あるいは硬化反応によりＴｇ
が上昇する系を用いることができる。上記のような樹脂
あるいはインキビヒクル中に磁性微粒子が分散されてな
る分散物中に、必要に応じて界面活性剤、シランカップ
リング剤、可塑剤、ワックス、シリコーンオイル、ガー
ボン等の顔料を添加してもよい。

【００２３】上記のような磁性材料、樹脂あるいはイン
キビヒクルを用いて形成される第１磁気記録層３ａおよ
び第２磁気記録層３ｂの厚さは、塗布方法により形成さ
れる場合には１〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍ
程度である。また、真空蒸着法、スパッタ法、メッキ法
等により形成される場合には１００Å〜１μｍ、好まし
くは５００〜２０００Å程度である。

【００２４】ここで、上記の第１磁気記録層３ａと第２
磁気記録層３ｂのうち、少なくとも低キュリー点、高保
磁力の磁性材料を有する磁気記録層へのプリエンコード
磁気データの記録は、以下のようにして行うことができ
る。

【００２５】先ず、磁気記録層へのプリエンコード磁気
データの記録時期は、磁気記録媒体１の形成に使用する
前の磁気テープ（後述するような転写タイプの磁気テー
プまたは貼合タイプの磁気テープ）に直接記録してもよ
く、あるいは上述のような磁気記録媒体１を形成した後
であってもよい。

【００２６】磁気テープあるいは磁気記録媒体の磁気記
録層へのプリエンコード磁気データの記録は、低いキュ
リー点Ｔｃを有する磁気材料のキュリー点Ｔｃよりも低
い温度で加熱した状態で行う。

【００２７】図２は磁気記録層３へのプリエンコード磁
気データの記録の一例を示す図である。図２に示される
例では、円柱形状の加熱磁石３１を磁気記録層３上に回
転移動させ、磁気記録層３を加熱して第１磁気記録層３
ａと第２磁気記録層３ｂの飽和書込み電流値を略同一、
もしくは近づけながら、磁気記録層にプリエンコード磁
気データの記録が行われる。加熱磁石３１は、円柱形状
のヒータ３２の外周面に複数の磁石３３ａ，３３ｂ，３
３ａ，・・・が相互に接するように敷設されたものであ
る。図３は、加熱磁石３１の拡大部分端面図であり、磁
石３３ａと磁石３３ｂは、そのＮ極とＳ極の位置が逆と
なり、Ｎ極どうしＳ極どうしが接するように敷設されて
いる。このような磁石３３ａ，３３ｂとしては、耐熱性
に優れている希土類磁石、アルニコ系磁石、バリウムフ
ェライト磁石、ストロンチウムフェライト磁石、希土類
コバルト磁石等を使用することができる。例えば、半径
３００mmの円柱状ヒータ１２の外周面に、幅１０mm、厚
さ５mmの希土類磁石（５０００ガウス）を相互に接する
ように敷設して形成した加熱磁石３１を使用した場合、
約１０mmピッチのプリエンコードができる。尚、加熱磁
石３１は、直接磁気記録媒体に触れるため、表面にエポ
キシ樹脂等の耐熱性に優れた樹脂からなる保護層を設け
て磁気記録媒体を傷つけないようにすることが望まし
い。

【００２８】上述の例では、加熱磁石によりプリエンコ
ード磁気データの記録を行ったが、赤外線等の加熱手段
を用いて磁気ヘッドによりプリエンコード磁気データの
記録を行ってもよい。例えば、スリット状に集光した赤
外線ランプを用いて磁気記録媒体１の基体２側から磁気
記録層３を加熱し、磁気記録層３上に磁気ヘッドを用い
て所定のプリエンコード磁気データを記録することがで
きる。

【００２９】このようなプリエンコード磁気データの記
録がなされた磁気記録媒体１に対して、市販の磁気ヘッ
ドを用いて信号を記録した場合、低保磁力磁気記録層の
書き換えは可能であっても、高保磁力磁気記録層におい
ては不正に記録されたデータと上記のプリエンコード磁
気データとが混在することになる。したがって、再生し
た際、上記の加熱磁石３１を用いた場合では約１０mmピ
ッチでドロップアウト、ドロップイン等の異常信号が発
生し、また、磁気ヘッドによるプリエンコード磁気デー
タの記録を行った場合では波形が乱れて不正に記録され
たデータの再生は不可能となり、偽造が防止される。

【００３０】本発明においては、磁気記録層の少なくと
も１か所にプリエンコード磁気データの記録がなされて
いればよく、磁気記録層に記録されるプリエンコード磁
気データは特に制限はなく、例えば、磁気記録媒体の製
造ロット番号、製造年月日、納入先等、あるいは磁気記
録媒体への記録時の加熱条件等のデータとすることがで
きる。

【００３１】また、本発明では、プリエンコード磁気デ
ータの記録は、磁気テープあるいは磁気記録層の通常の
磁気情報の記録・再生方向に対して９０°以下の角度を
なして行ってもよい。この場合、プリエンコード磁気デ
ータの記録は、磁気ヘッドを通常の磁気情報の記録・再
生方向に対して予め所定の角度に設定することにより行
うことができる。このようなプリエンコード磁気データ
の記録がなされた磁気記録媒体１を、通常の磁気情報の
記録・再生方向に対して予め所定の角度に設定された再
生ヘッドを用いて再生することにより、プリエンコード
磁気データを独立して再生でき、磁気記録媒体の真偽を
容易に判定することができる。

【００３２】上述の例では、磁気記録層３は第１磁気記
録層３ａおよび第２磁気記録層３ｂの２層構成である
が、３層以上の積層構造であってもよい。また、磁気記
録層３は、保磁力およびキュリー点の異なる３種以上の
磁性材料により構成されていてもよい。３層構造の磁気
記録層としては、例えば（高保磁力・低キュリー点）／
（低保磁力・高キュリー点）／（高保磁力・低キュリー
点）とすることにより、高保磁力層と低保磁力層の書込
み波形をより同一のものとすることができる。また、保
磁力を３段階として中間保磁力層に更に別の磁気データ
を書込んだり、キュリー点を３段階として加熱温度を２
段階に設定したりすることにより、より高度な記録・再
生システムとすることができる。

【００３３】さらに、磁気記録層３は積層構造ではな
く、単一の層で構成され、保磁力およびキュリー点の異
なる２種以上の磁性材料を混合して含有するものでもよ
い。この場合も、多層構造の場合と同じ効果が得られ、
さらに、構成層が少ないため、磁気記録層の最下部と磁
気ヘッドとの距離を小さくできるという利点がある。

【００３４】尚、上記の本発明の磁気記録媒体では、磁
気記録層が基体の一方の面の全面に形成されていてもよ
く、また、図４に示されるように、基体２の一部にスト
ライプ状に磁気記録層３を形成したものであってもよ
い。

【００３５】図５は本発明の磁気記録媒体の他の例を示
す概略断面図である。図５において、本発明の磁気記録
媒体１１は、基体１２と、この基体１２上に設けられた
磁気記録層１３、回折格子および／またはホログラム層
１４とを備えている。上記の磁気記録層１３は、基体１
２側に位置する第１磁気記録層１３ａと、この第１磁気
記録層１３ａ上に設けられた第２磁気記録層１３ｂとの
２層構成を有している。そして、第１磁気記録層１３ａ
および第２磁気記録層１３ｂに含まれる磁性材料は、互
いに異なるキュリー点および保磁力を有している。

【００３６】基体１２および磁気記録層１３は、上述の
磁気記録媒体１の基体２および磁気記録層３と同様の構
成とすることでき、ここでの説明は省略する。

【００３７】本発明の磁気記録媒体１１に用いられる回
折格子および／またはホログラム層１４は、一般に樹脂
から構成され、単一構造あるいは多層構造のいずれでも
よい。多層構造の場合は、例えば基材フィルム上に回折
格子やホログラムを形成するための樹脂を設けたもの、
あるいは、回折格子やホログラムを形成するための樹脂
自体が積層構造となっていてもよい。さらに、全域が回
折格子層であってもホログラム層であってもよく、また
回折格子層とホログラム層とが混在していてもよい。

【００３８】ホログラム層は、平面ホログラム、体積ホ
ログラムのいずれでもよく、平面ホログラムの場合、レ
リーフホログラムが量産性、耐久性およびコストとの面
から好ましく、体積ホログラムの場合、リップマンホロ
グラムが画像再現性および量産性の面から好ましい。

【００３９】その他、フルネルホログラム、フラウンホ
ーファホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラ
ム、イメージホログラム等のレーザー再生ホログラム、
およびレインボーホログラム等の白色光再生ホログラ
ム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラ
ム、コンピュータホログラム、ホログラムディスプレ
イ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィックス
テレオグラム、ホログラフィック回折格子等を用いるこ
とができる。

【００４０】回折格子層は、ホログラム記録手段を利用
した前記ホログラフィック回折格子により構成すること
もできるが、電子線描画装置等を用いて機械的に回折格
子を作成することにより、計算に基づいて任意の回折光
が得られる回折格子を作成することができる。干渉縞を
記録するための回折格子形成用感光材料あるいはホログ
ラム形成用感光材料としては、銀塩、重クロム酸ゼラチ
ン、サーモプラスチック、ジアゾ系感光材料、フォトレ
ジスト、強誘電体、フォトクロミックス材料、サーモク
ロミックス材料、カルコゲンガラス等が使用できる。

【００４１】本発明においては、回折格子層やホログラ
ム層の形成材料として、ポリ塩化ビニル、メチルメタア
クリレートのようなアクリル、ポリスチレン、ポリカー
ボネート等の熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラ
ミン、エポキシ、ポリエステル（メタ）アクリレート、
ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アク
リレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオ
ール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレ
ート、トリアジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂を硬
化させたもの、あるいは上記の熱可塑性樹脂と熱硬化性
樹脂との混合物を使用することができる。

【００４２】さらに、回折格子層やホログラム層の形成
材料として、ラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性
物質が使用可能であり、これには下記の２種のものがあ
る。（１）ガラス転移点が０〜２５０℃のポリマー中にラジ
カル重合性不飽和基を有するもの。より具体的には、下
記の〜に示される化合物を重合もしくは共重合させ
たポリマーに対して、後述する方法（イ）〜（ニ）によ
りラジカル重合性不飽和基を導入したものを挙げること
ができる。

【００４３】水酸基を有する単量体：Ｎ−メチロー
ルアクリルアミド、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２
−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−ヒドロキシ−
３−フェノキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキ
シ−３−フェノキシプロピルアクリレート等。

【００４４】カルボキシル基を有する単量体：アク
リル酸、メタクリル酸、アクリロイルオキシエチルモノ
サクシネート等。

【００４５】エポキシ基を有する単量体：グリシジ
ルメタクリレート等。

【００４６】アジリジニル基を有する単量体：２−
アジリジニルエチルメタクリレート、２−アジリジニル
プロピオン酸アリル等。

【００４７】アミド基を有する単量体：アクリルア
ミド、メタクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミ
ド、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルア
ミノエチルメタクリレート等。

【００４８】スルフォン基を有する単量体：２−ア
クリルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸等。

【００４９】イソシアネート基を有する単量体：
２，４−トルエンジイソシアネートと２−ヒドロキシエ
チルアクリレートの１モル対１モル付加物等のジイソシ
アネートと、活性水素を有するラジカル重合単量体の付
加物等。

【００５０】上記の共重合体のガラス転移点を調節
したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の
化合物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量
体と共重合させることもできる。共重合可能な単量体と
しては、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、
エチルメタクリレート、エチルアクリレート、プロピル
メタクリレート、プロピルアクリレート、ブチルメタク
リレート、ブチルアクリレート、イソブチルメタクリレ
ート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレ
ート、ｔ−ブチルアクリレート、イソアミルメタクリレ
ート、イソアミルアクリレート、シクロヘキシルメタク
リレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルヘ
キシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレー
ト等が挙げられる。

【００５１】次に、上述のようにして得られた重合体を
以下に述べる方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジ
カル重合性不飽和基を導入することにより、回折格子形
成樹脂あるいはホログラム形成樹脂を得ることができ
る。

【００５２】（イ）水酸基を有する単量体の重合体ま
たは共重合体の場合には、アクリル酸、メタクリル酸等
のカルボキシル基を有する単量体等を縮合反応させる。

【００５３】（ロ）カルボキシル基、スルフォン基を
有する単量体の重合体または共重合体の場合には、上記
の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。

【００５４】（ハ）エポキシ基、イソシアネート基あ
るいはアジリジニル基を有する単量体の重合体または共
重合体の場合には、上記の水酸基を有する単量体もしく
はカルボキシル基を有する単量体を付加反応させる。

【００５５】（ニ）水酸基あるいはカルボキシル基を
有する単量体の重合体または共重合体の場合には、エポ
キシ基を有する単量体あるいはアジリジニル基を有する
単量体、ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル
酸エステル単量体の１対１モルの付加物を付加反応させ
る。

【００５６】上記の反応を行うには、微量のハイドロキ
ノン等の重合抑制剤を加え、乾燥空気を送りながら行う
ことが好ましい。

【００５７】（２）融点が０〜２５０℃であり、ラジカ
ル重合性不飽和基を有する化合物。具体的には、ステア
リルアクリレート、ステアリルメタクリレート、トリア
クリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジオールジア
クリレート、シクロヘキサンジオールジメタクリレー
ト、スピログリコールジアクリレート、スピログリコー
ルジメタクリレート等が挙げられる。

【００５８】また、本発明における回折格子形成樹脂あ
るいはホログラム形成樹脂としては、上記（１）、
（２）を混合して用いることもでき、さらに、それらに
対してラジカル重合性不飽和単量体を加えることもでき
る。このラジカル重合性不飽和単量体は、電離放射線照
射の際、架橋密度を向上させ、耐熱性を向上させるもの
であり、上述の単量体の他に、エチレングリコールジア
クリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポ
リエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレング
リコールジメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリ
レート、ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロ
パントリメタクリレート、トリメチロールプロパンジア
クリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、
エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、エチレングリコールジグリシジルエーテルジメタク
リレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジ
ルエーテルジメタクリレート、プロピレングリコールジ
グリシジルエーテルジアクリレート、プロピレングリコ
ールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルジ
メタクリレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテ
ルテトラアクリレート、ソルビトールテトラグリシジル
エーテルテトラメタクリレート等を用いることができ
る。このような単量体は、上記の共重合体混合物の固形
分１００重量部に対して、０．１〜１００重量部の割合
で用いることが好ましい。また、上記のものは電子線に
より充分に硬化することが可能であるが、紫外線照射で
硬化させる場合には、増感剤としてベンゾキノン、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインエー
テル類、ハロゲン化アセトフェノン類、ビアチル類等の
紫外線照射によりラジカルを発生するものも用いること
ができる。

【００５９】また、後述する磁気記録層の加熱を効率よ
く行うために、回折格子層１４あるいはホログラム層１
４を熱伝導性の高いものとすることが好ましい。ここ
で、回折格子層１４あるいはホログラム層１４を構成す
る上記の樹脂の熱伝導率κは、０．１〜０．３（ Joule
／ｍ・sec ・ｋ）と低いものである。このため、熱伝導
率κが１０（ Joule／ｍ・sec ・ｋ）以上の添加剤、例
えばエチレングリコール、グリセリン、ジオクチルフタ
レート等の可塑剤（κは数百（ Joule／ｍ・sec・
ｋ））、ＴｉＯ₂ 、ＢｅＯ、ＳｉＯ₂ 等の酸化剤（κは
数十〜数百（ Joule／ｍ・sec ・ｋ））等を回折格子層
１４あるいはホログラム層１４に含有させることが好ま
しい。

【００６０】回折格子層１４あるいはホログラム層１４
は、従来公知の方法により形成することができる。例え
ば、ホログラムがレリーフホログラムである場合、干渉
縞が凹凸の形で記録されたホログラム原版をプレス型と
して用い、このホログラム原版上にホログラム形成用樹
脂シートを載置し、加熱ロール等の手段により両者を加
熱圧接し、ホログラム形成用樹脂シート表面にホログラ
ム原版の凹凸模様を複製する方法によって、レリーフ形
成面を有するホログラム層１４を得ることができる。ホ
ログラムが、体積ホログラムである場合、フォトポリマ
ー等を基材上にコーティング形成し、予め作成してある
ホログラム原板と重ね合わせて、スリット状のレーザー
光を照射することにより、巻取複製することができる。
その後、熱現像等の処理をしてもよい。いずれにして
も、個々の記録体ができるだけ個別の再生像を保持でき
るように複製版を多く準備したり、ランダムパターンと
したり、種々工夫することができる。

【００６１】本発明の磁気記録媒体は、図６に示される
ように、上述のような回折格子層１４あるいはホログラ
ム層１４と、磁気記録層１３との間に薄膜層１５を備え
ていてもよい。薄膜層１５は回折あるいはホログラム効
果をより効果的に発現するものであればよく、通常、一
般的な反射性金属薄膜が使用される。また、ホログラム
が透明型ホログラムの場合、後述するような磁気記録層
１３上の着色層や絵柄を隠蔽しない材質であればよく、
例えば回折格子層１４あるいはホログラム層１４とは屈
折率の異なる透明材料、厚みが２００Å以下の反射性金
属薄膜層が挙げられる。

【００６２】前者の場合、透明材料の屈折率は回折格子
層１４あるいはホログラム層１４よりも大きくても小さ
くてもよいが、屈折率の差は０．１以上、好ましくは
０．５以上であり、屈折率の値は１．０以上であること
が好ましい。このように、屈折率の異なる透明薄膜層を
設けることにより、回折あるいはホログラム効果を発現
でき、しかも、下層の着色や絵柄を隠蔽させない作用が
得られる。

【００６３】また、後者の場合は、反射性金属薄膜では
あるが、厚みが２００Å以下であるため、光波の透過率
が大きく、そのため回折あるいはホログラム効果の発現
作用とともに、表示部非隠蔽作用を発揮する。すなわ
ち、反射性金属薄膜中を光波が通過する場合、その振幅
は一波長当たり、ｅｘｐ（−２πＫ）で急激に減少する
ため、その膜厚が２００Åを越えると透過率はかなり小
さいものとなる。したがって、膜厚を２００Å以下とす
ることにより透過率は充分なものとなり、回折あるいは
ホログラム効果を発現させることができる。また、膜厚
を２００Å以下とすることにより、従来みられた高い輝
度の銀白色による外観上の違和感も解消する。

【００６４】上記のような薄膜層１５の形成に用いられ
る材料としては、以下のような（１）〜（６）の材料が
挙げられる。（１）回折格子層またはホログラム層よりも屈折率が大
きい透明連続薄膜これには、可視領域で透明なものと、赤外あるいは紫外
領域で透明なものとがあり、前者は表１に、後者は表２
にそれぞれ示す。表中、ｎは屈折率を示す（以下、
（２）〜（６）においても同様）。

【００６５】

【表１】

【００６６】

【表２】（２）回折格子層またはホログラム層よりも屈折率が大
きい透明強誘電体上記の透明強誘電体の例を表３に示す。

【００６７】

【表３】（３）回折格子層またはホログラム層よりも屈折率が小
さい透明連続薄膜上記の透明連続薄膜の例を表４に示す。

【００６８】

【表４】（４）厚さ２００Å以下の反射性金属薄膜反射性金属薄膜は、複素屈折率を有し、この複素屈折率
ｎ＊はｎ＊＝ｎ−ｉＫで表される。ここで、ｎは屈折
率、Ｋは吸収係数を示す。

【００６９】本発明に使用できる反射性金属薄膜の材質
を表５に示し、併せて上記のｎおよびＫの値を示す。

【００７０】

【表５】また、上記の表５に挙げた材質の他に、Ｓｎ，Ｉｎ，Ｔ
ｅ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｚｎ，Ｇｅ，Ｐｂ，Ｃｄ，Ｂ
ｉ，Ｓｅ，Ｇａ，Ｒｂ等の金属が使用可能である。さら
に、上記の金属の酸化物、窒化物等も使用可能であり、
また、金属、その酸化物、窒化物等は、単独で用いるこ
ともでき、あるいは、２種以上を組み合わせて用いても
よい。（５）回折格子層またはホログラム層と屈折率の異なる
樹脂回折格子層またはホログラム層に対して屈折率が大きい
もの、小さいもの、いずれでもよい。これらの例を表６
に示す。

【００７１】

【表６】また、上記の表６に挙げた樹脂の他に、一般的な合成樹
脂が使用可能であるが、特に回折格子層またはホログラ
ム層との屈折率の差が大きい樹脂が好ましい。（６）上記の（１）〜（５）に示される材質を適宜組み
合わせてなる積層体上記の（１）〜（５）の材質の組み合わせは任意であ
り、また層構成における各層の上下位置関係も任意に選
択できる。

【００７２】上記の（１）〜（６）の薄膜層のうち、
（４）の薄膜層の厚さは２００Å以下が好ましく、
（１）〜（３）および（５）、（６）の薄膜層の厚さ
は、薄膜層が透明性を維持できる範囲であればよく、使
用する材質により適宜設定することができ、一般的には
１０〜１００００Å程度、好ましくは１００〜５０００
Å程度である。

【００７３】上記の（１）〜（４）に示されるような材
質を用いて薄膜層を形成する方法としては、真空蒸着
法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法、電気メッキ法等の一般的薄膜形成
手段を用いることができる。また、上記の（５）に示さ
れるような材質を用いて薄膜層を形成する場合は、一般
的なコーティング方法等を用いることができる。さら
に、上記の（６）に示されるような材質を用いて薄膜層
を形成する場合は、上記の各手段、方法等を適宜組み合
わせて用いることができる。

【００７４】尚、上記の（５）に示されるような材質を
用いる場合、透明材料である限り薄膜でなくてもよく、
０．５μｍ以上、好ましくは１．０〜３．０μｍの厚み
を有する樹脂層を形成してもよい。特に、透明型とする
ことで、磁気記録層、絵柄層との積層であることが一目
で判別できるようにする。また、光学的加熱の際は、光
が直接磁気記録層へ届くため、より効果的である。

【００７５】上述のように、本発明の磁気記録媒体１１
では磁気記録層１３上に回折格子層１４またはホログラ
ム層１４が存在することにより、磁気記録層が露出する
のが防止され、磁気記録層に書き込まれている情報を直
接別のカードの磁気ストライプに移す磁気転写が困難と
なる。そして、回折格子層１４またはホログラム層１４
は、外観上美しく、それ自体の製造が容易ではなく、類
似品の作製は困難であり、本発明の磁気記録媒体は、偽
造、変造の困難な磁気記録媒体である。

【００７６】また、本発明の磁気記録媒体は、回折格子
層１４またはホログラム層１４上に保護層を備えるもの
でもよい。回折格子層１４またはホログラム層１４上へ
の保護層の形成は、合成樹脂フィルムをラミネートする
か、エクストルージョンコート法によるか、あるいは合
成樹脂塗料を塗布することにより行うことができる。保
護層を構成する樹脂としては、耐久性、耐熱性あるいは
他の層との密着性等を考慮して、上述の着色層を形成す
るに際して用いられる合成樹脂類と同様のものでもよ
く、また、物理的特性の高い紫外線・電子線硬化型の樹
脂がより好ましい。

【００７７】保護層形成用の電離放射線硬化性樹脂とし
ては、分子中に重量性不飽和結合またはエポキシ基を有
するプレポリマ−、オリゴマー、および／または単量体
等による混合樹脂組成物が利用される。尚、上記のプレ
ポリマ−やオリゴマーの具体例は、不飽和ジカルボン酸
と多価アルコールとの縮合物等による不飽和ポリエステ
ル類をはじめ、ポリエステルメタクリレート、ポリエー
テルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラ
ミンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステ
ルアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアク
リレート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアク
リレート、メラミンアクリレート等のアクリレート類等
が挙げられる。さらに、単量体の具体例は、スチレン、
α・メチルスチレン等によるスチレン系単量体、アクリ
ル酸メチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリ
ル酸メトキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸メトキシブチル、アクリル酸
フェニル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタ
クリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシメチ
ル、メタクリル酸フェニル等のメタクリル酸エステル
類、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチ
ル、メタクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エ
チル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）
エチル、メタクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノ）メチル、アクリル酸−２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノ）プロピル等の不飽和酸の置換アミノアルコールエス
テル類、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和
カルボン酸アミド、エチレングリコールジアクリレー
ト、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート等のジアク
リレート化合物、ジプロピレングリコールジアクリレー
ト、エチレングリコールアクリレート、プロピレングリ
コールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタ
クリレート等の多官能性化合物、トリメチロールプロパ
ントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリ
チオプロピレート、ペンタエリスリトールテトラチオグ
リコール等の分子中に２個以上のチオール基を有するポ
リチオール化合物等が利用される。保護層を上記のよう
な電離放射線硬化型樹脂により形成する場合、電離放射
線硬化型樹脂によるコーティング剤の塗工適性を考慮し
て、通常、上述のプレポリマーまたはオリゴマーの５〜
９５重量％と、単量体および／またはポリチオール化合
物の９５〜５重量％との混合組成物が利用される。ま
た、電離放射線硬化型樹脂によるコーティング剤中に
は、このコーティング剤が紫外線の照射により硬化され
る場合、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン
類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α・アミロキシ
ムエステル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、
チオキサントン類等による光重合開始剤と、必要に応じ
てｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブ
チルホスフィン等の光増感剤とを添加してもよいことは
勿論である。

【００７８】保護層を形成する際のコーティング剤の塗
工方法は、ロールコート、カーテンフローコート、ワイ
ヤーバーコート、リバースコート、グラビアコート、グ
ラビアリバースコート、エアナイフコート、キスコー
ト、ブレードコート、スムーズコート、コンマコート等
の公知の方法を用いることができる。

【００７９】また、電離放射線硬化型樹脂による保護層
形成における硬化には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低
圧水銀灯、カーボンアーク、ブラックライトランプ、メ
タルハライドランプ等の光源からの紫外線照射、あるい
は、コックロフトワルトン型、ハンデグラフ型、共振変
圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン
型、高周波型等の各種電子線加速器による１００〜１０
００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネル
ギーの電子線照射が用いられる。

【００８０】尚、保護層には、耐久性、耐熱性を向上さ
せるために、テフロンパウダー等の粉体、好ましくは軟
化点が１００℃以上であり透明性が高い粒径が数μｍ、
さらにはサブミクロン程度の微粉体が含有されてもよ
い。また、保護層中にシリコーン、ポリエチレンワック
ス等を添加して表面に剥離性を与えてもよい。

【００８１】尚、このような保護層と、回折格子層１４
あるいはホログラム層１４との間に、両層の接着性を高
め、かつ回折格子層１４あるいはホログラム層１４の耐
久性を高めるために、硬化型アクリル系樹脂、セルロー
ス系樹脂、ビニル系樹脂等からなるオーバプリント層を
設けてもよい。また、上記の薄膜層１５と磁気記録層１
３との間には、両層の接着性を高めるために、塩化ビニ
ル／酢酸ビニル共重合体、アクリル系樹脂、ウレタン系
樹脂等からなるアンカー層を設けてもよい。

【００８２】また、本発明の磁気記録媒体は、各層間に
必要に応じて接着層を備えていてもよい。この場合の接
着層は、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体、エチレン／
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル／プロピオン酸共重合
体、ゴム系樹脂、シアノアクリレート樹脂、セルロース
系樹脂、アイオノマー樹脂、ポリオレフィン系共重合体
等のバインダーに、必要に応じて可塑剤、安定剤、硬化
剤等を添加した後、溶剤あるいは希釈剤で充分に混練し
てなる接着層用塗料を用いて塗布することにより形成す
ることができる。接着層用塗料の塗布は、グラビア法、
ロール法、ナイフエッジ法等の塗布方法により行うこと
ができる。特に、磁気記録層上に接着層を設ける場合、
磁気記録層の再溶解を防止するため、熱可塑性樹脂をエ
マルジョン化して塗布し、乾燥してヒートシール型の接
着層とすることが好ましい。

【００８３】本発明では、磁気記録媒体１の磁気記録層
３上に、あるいは磁気記録媒体１１の磁気記録層１３上
に、あるいは、図７〜図９に示されるように、隠蔽・装
飾効果をもたせるための着色層や絵柄を設けてもよい。

【００８４】図７に示される磁気記録媒体１１は、レリ
ーフホログラムの方式により記録されたホログラム層１
４と、ホログラム層１４を構成する材料の屈折率と異な
る屈折率を有する上述の透明材料からなる薄膜層１５と
からなる透明型ホログラムを有している。そして、磁気
記録層１３と薄膜層１５との間に接着剤層１７が存在す
るとともに、絵柄１６が形成されている。絵柄１６は図
のように、磁気記録層１３に接していても、薄膜層１５
に接していてもよく、さらに、接着剤層１７中にあって
もよい。このように、絵柄１６を薄膜層１５の下に設け
ると、ホログラムの照明光と観察者に対する角度依存性
により、ホログラム再生像が見える角度から磁気記録媒
体１１を観察すれば、絵柄１６がホログラム再生像に隠
蔽され、また、上記の角度と異なる角度から観察すれ
ば、ホログラム再生像に隠蔽されずに絵柄１６を観察す
ることができる。

【００８５】図８に示される例では、磁気記録媒体１１
は、体積ホログラムであるリップマンホログラムの方式
により記録されたホログラム層１４と磁気記録層１３と
の間に、着色層１８が形成されている。リップマンホロ
グラムからなるホログラム層１４は実質的に透明であ
り、ホログラム再生像の見やすさの点および磁気記録層
を隠蔽するという点から、暗色の着色塗料によって着色
層１８を構成することが好ましい。また、リップマンホ
ログラムは反射再生光の波長選択性を有しているため、
反射再生光の波長と異なる反射波長をもつ着色塗料で着
色層１８を構成したり、あるいは反射再生光によるホロ
グラム再生像の色と補色の関係にある着色塗料を用いる
ことが、装飾性を考慮すると好ましい。尚、接着剤に着
色塗料を混入して着色接着剤としても同様の効果が得ら
れる。

【００８６】図９に示される例では、磁気記録媒体１１
は、電子線描画装置により機械的に描画することにより
回折格子が記録された回折格子層１４上に、または回折
格子層１４と反射性金属からなる薄膜層１５との間に絵
柄１６が形成されている。このように、薄膜層１５の上
に絵柄層１６を形成すると、薄膜層１５で反射された光
を背景として、絵柄１６を常時観察することができる。
また、回折格子層１４上に絵柄１６を形成する場合に
は、記録・再生時における磁気ヘッドの走査等のこすれ
により絵柄１６が消失することを防ぐために、上述した
ような保護層１９を設けることが好ましい。

【００８７】着色層や絵柄はエチルセルロース、硝酸セ
ルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、セルロ
ースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース等のセ
ルロース誘導体、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチ
レン等のスチレン樹脂、あるいはスチレン共重合樹脂、
ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポ
リアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリ
ル樹脂またはメタクリル樹脂の単独あるいは共重合樹
脂、ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フ
ェノール樹脂、重合ロジン等のロジンエステル樹脂、ポ
リ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ビニルトルエン樹
脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂、ブチラール樹脂等のバインダーに、着色すべき色
に応じて各種の顔料を添加し、さらに必要に応じて、可
塑剤、安定剤、ワックス、グリース、乾燥剤、乾燥補助
剤、硬化剤、増粘剤、分散剤を添加した後、溶剤あるい
は希釈剤で充分に混練してなる着色塗料あるいはインキ
を用いて、通常のグラビア法、ロール法、ナイフエッジ
法、オフセット法等の塗布方法あるいは印刷方法によ
り、所望部分に形成できる。

【００８８】尚、上述の本発明の磁気記録媒体は、基体
の全面に磁気記録層を設けたものであるが、図４に示さ
れるように、基体の一部にストライプ状に磁気記録層を
設けてもよい。

【００８９】上記の磁気記録層１３および回折格子層１
４および／またはホログラム層１４を基体１２上に設け
る方法としては、磁気転写シートを作製し、従来公知の
方法に従って接着剤層、第１磁気記録層、第２磁気記録
層、薄膜層および回折格子および／またはホログラムを
基体１２上に転写することが簡便である。

【００９０】図１０は、本発明の磁気記録媒体の製造に
用いることのできる磁気転写シートの一例を示す概略断
面図である。図１０において磁気転写シート２１は、基
材２２上に剥離層２３を介して回折格子および／または
ホログラムとなる樹脂層を形成し、レリーフ母型への熱
圧接等の上述の方法により回折格子あるいはホログラム
レリーフパターンを形成して回折格子層および／または
ホログラム層２４とする。次に、反応性蒸着、スパッタ
リング等の方法を用いて回折格子層および／またはホロ
グラム層２４上に薄膜層２５を形成し、この薄膜層２５
上に第２磁気記録層２６ｂおよび第１磁気記録層２６ａ
からなる磁気記録層２６を印刷法、コーティング法等に
より形成する。そして、最後に第１磁気記録層２６ａ上
に接着剤層２７を形成する。この場合、回折格子層およ
び／またはホログラム層２４から接着剤層２７までが転
写層となる。

【００９１】このように作製した磁気転写シート２１
を、接着剤層２７が基体１２上に当接するように熱圧着
（例えば、１５０℃、１０分間、１００kg/cm² のよう
な条件）し、その後、剥離層２３によりベース基材２２
を剥離することによって、基体１２上に接着剤層、第１
磁気記録層、第２磁気記録層、薄膜層および回折格子層
および／またはホログラム層を設けることができる。

【００９２】磁気転写シート２１を構成する回折格子層
および／またはホログラム層２４、薄膜層２５、磁気記
録層２６は、上述の磁気記録媒体を構成する磁気記録層
１３、回折格子層および／またはホログラム層１４、薄
膜層１５の形成と同様にして形成することができる。ま
た、上記の接着剤層２７は、アクリル系樹脂、ビニル系
樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系
樹脂、エポキシ系樹脂、ゴム系樹脂、アイオノマー系樹
脂等の公知の接着剤を用いて形成することができる。こ
の接着剤層２２の厚さは、０．１〜５０μｍ、好ましく
は１〜１０μｍ程度とすることができる。勿論、剥離層
とホログラム層との間に上述の保護層を形成してもよ
い。

【００９３】次に、本発明の磁気記録媒体の記録方法に
ついて説明する。

【００９４】本発明の磁気記録媒体の記録方法は、上述
のような磁気記録媒体の磁気記録層のプリエンコード磁
気データを先ず読み取って磁気記録条件を設定した後、
この磁気記録条件にしたがって加熱しながら磁気記録を
行うことを特徴とする。すなわち、読み取ったプリエン
コード磁気データに基づいて磁気記録層の加熱温度、磁
気記録媒体の搬送速度、磁気記録層への印加磁界、記録
密度等を制御しながら磁気記録層を加熱することによ
り、磁気記録層を構成する高保磁力の磁性材料の飽和書
込み電流値を低保磁力の磁性材料の飽和書込み電流値と
略同一、もしくは近づけて、磁気記録層を構成している
すべての磁性材料に同時に書込みを行うものである。そ
して、加熱または記録条件は、２種類の設定でもよく、
また、各々の磁気記録媒体に固有の条件（磁気記録媒体
１つ１つで異なる条件）としてもよく、このように２種
以上の条件を設定することにより、偽造、変造すること
がより困難となる。

【００９５】より具体的には、例えば１１０℃と８０℃
の２種の加熱条件をプリエンコード磁気データとして磁
気記録媒体の磁気記録層に記録しておき、このプリエン
コード磁気データに基づいて磁気記録媒体の加熱を１１
０℃にするか８０℃にするか選択することにより、偽造
防止機能を高めることができる。

【００９６】尚、上記のような磁気記録層の加熱におい
て温度分布を設けることにより、磁気記録領域の周辺の
基体の温度上昇を有効に防ぐことができる。

【００９７】上記のような加熱を行うための加熱手段と
しては、加熱ローラ、遠赤外線ランプ、レーザー加熱、
磁気ヘッドによる加熱等が用いられる。

【００９８】加熱ローラは、回折格子層あるいはホログ
ラム層の表面を傷付けないように、シリコンラバーのよ
うな軟質部材により周面を覆われたものが好ましい。ま
た、ローラ径は一周で加熱領域をすべて加熱できるよう
な大きさとし、一周目の表面温度と二周目の表面温度の
差に起因した加熱ムラを防止することが好ましい。例え
ば、長さ８５mmのカードの全長に亘って加熱する場合
は、直径を２５mm以上に設定した１個の加熱ローラを用
いることができ、あるいは直径が５mm以下のローラを回
転方向に複数配列した加熱ローラを用いることもでき
る。このような加熱ローラの表面温度は５０〜３００℃
の範囲で適宜設定し、加熱ローラの速度は１０〜２００
mm／sec.とすることが好ましい。

【００９９】遠赤外線ランプによる加熱は、例えば１５
０Ｗハロゲンランプを所定の磁気記録幅に集光して照射
し、書込み領域の磁気記録層を５０〜３００℃の範囲で
任意に加熱することにより行える。この遠赤外線ランプ
による加熱によれば、回折格子層あるいはホログラム層
に熱ダメージを与えることなく磁気記録層のみを加熱す
ることができる。さらに、集光時に焦点を磁気記録層近
傍に設定することにより、より効率的に磁気記録層を加
熱することができる。

【０１００】レーザー加熱は、気体レーザー装置、固体
レーザー装置、半導体レーザー装置等を使用して行うこ
とができる。この中でも、特にヘリウム−ネオンレーザ
ー、アルゴンガスレーザー、炭酸ガスレーザー等の気体
レーザー、ＹＡＧレーザー等の固体レーザーが好まし
く、レーザーパワーは１０〜１０００Ｗ程度とする。ま
た、後述するように、加熱と同時に回折格子あるいはホ
ログラムの再生を行う場合にも、同様のレーザーを使用
することができる。尚、受光素子への熱ダメージを防止
するために、光減衰フィルターあるいはビームスリッタ
ーを受光素子の直前に配設することが好ましい。また、
回折格子あるいはホログラムの再生専用としては、レー
ザーパワーが１〜５０ｍＷ程度のヘリウム−ネオンレー
ザー、半導体レーザーが好ましい。

【０１０１】磁気ヘッドによる加熱は、磁気ヘッドを５
０〜１２０℃程度まで加熱して行うことができる。磁気
ヘッドの加熱には、例えば磁気ヘッドを構成するリング
ヘッドに巻着したニクロム線に通電するか、あるいは赤
外線ランプを用いて磁気ヘッドを加熱する等の方法があ
る。

【０１０２】次に、実験例を示して本発明の磁気記録媒
体を更に詳細に説明する。（実験例１）厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレー
トフィルムの片面に、下記の組成の剥離層形成用の塗工
液をグラビアコート法により塗布し、その後、溶剤を除
去して剥離層（厚さ１μｍ）を形成した。さらに、この
剥離層上に、下記の組成を有する各塗工液をグラビアコ
ート法により塗布して、第２磁気記録層（厚さ１０μ
ｍ）、第１磁気記録層（厚さ１０μｍ）および接着剤層
（厚さ５μｍ）を順次形成して転写シートを作製した。

【０１０３】（剥離層形成用の塗工液）・酢酸セルロース樹脂 … ５重量部・メタノール … ２５重量部・メチルエチルケトン … ４５重量部・トルエン … ２５重量部・メチロール化メラミン樹脂 … ０．５重量部・パラトルエンスルフォン酸 …０．０５重量部（第２磁気記録層形成用の塗工液）・γ−Ｆｅ2 Ｏ3 （保磁力＝300 Ｏe 、キュリー点＝575 ℃） … ３６重量部・ウレタン樹脂 … １２重量部・トルエン … ２０重量部・メチルエチルケトン … １５重量部・メチルイソブチルケトン … １５重量部・イソシアネート系硬化剤２重量部（第１磁気記録層形成用の塗工液）・Ｓｒフェライト（保磁力＝6000 Ｏe 、キュリー点＝140 ℃）… ３６重量部・ウレタン樹脂 … １２重量部・トルエン … ２０重量部・メチルエチルケトン … １５重量部・メチルイソブチルケトン … １５重量部・イソシアネート系硬化剤２重量部（接着剤層形成用の塗工液）・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 … ２０重量部・アクリル樹脂 … １０重量部・酢酸エチル … ２０重量部・トルエン … ５０重量部上記のように作製した転写シートを１２．７mm幅にスリ
ットして転写テープとし、この磁気転写テープをポリ塩
化ビニル（大平化学（株）製厚さ１００μｍ）上に、
接着層が当接するように重ね合わせ、転写テープ側から
１５０℃、２ｍ／分の条件で加熱して仮転写した。その
後、転写テープのポリエステルフィルムを剥離して接着
剤層、第１磁気記録層、第２磁気記録層が、この順に積
層されたストライプを設けた。

【０１０４】次に、予めオフセット印刷により文字、絵
柄を印刷した厚さ５６０μｍの硬質塩化ビニルコアを、
上記のようにストライプを設けたポリ塩化ビニルフィル
ムと、ストライプを設けていない同じポリ塩化ビニルフ
ィルムとで挟んだ状態で熱圧着（１５０℃、１００kg／
cm² 、１０分間）して一体化し、８６mm×５４mmの大き
さのカード状に打ち抜いて磁気記録媒体とした。

【０１０５】一方、半径３００mmの円柱状ヒータの外周
面に、幅１０mm、厚さ５mmの希土類磁石（５０００ガウ
ス）を相互に接するように敷設して、図２、図３に示さ
れるような加熱磁石を作成した。

【０１０６】そして、上記の加熱磁石を１３０℃に保っ
た状態で、上記のようにして作成した磁気記録媒体の磁
気記録層上を回転移動させることによりプリエンコード
を行って本発明の磁気記録媒体を得た。

【０１０７】次に、この磁気記録媒体の磁気ストライプ
部を記録方向全長に亘ってヒートロール方式により１３
０℃まで加熱して、第１磁気記録層、第２磁気記録層の
飽和書込み電流値を約６０ｍＡとした状態で、書込み電
流８０ｍＡで２００ＦＲＰＩの信号を記録した。そし
て、磁気記録媒体を冷却した後に読取りを行ったとこ
ろ、約５００ｍＶの出力で信号を良好に読み取ることが
できた。

【０１０８】しかし、上記のプリエンコードがなされた
本発明の磁気記録媒体に、室温において書込み電流８０
ｍＡで２００ＦＲＰＩの信号を記録し、その後、読取り
を行ったところ、１０mmピッチでドロップアウト、ドロ
ップイン等の信号異常が発生した。（実験例２）実験例１と同様にして８６mm×５４mmの大
きさのカード状の磁気記録媒体を得た。

【０１０９】次に、この磁気記録媒体の表面側から、ス
リット状に集光した赤外線ランプを用いて磁気記録層を
１３０℃の加熱し、この状態で磁気記録層上に磁気ヘッ
ドを走査させて４２０ＦＲＰＩの信号を記録することに
よりプリエンコードを行って本発明の磁気記録媒体を得
た。

【０１１０】次に、実験例１と同様に、磁気記録媒体の
磁気ストライプ部を記録方向全長に亘ってヒートロール
方式により１３０℃まで加熱して、第１磁気記録層、第
２磁気記録層の飽和書込み電流値を約６０ｍＡとした状
態で、書込み電流８０ｍＡで４２０ＦＲＰＩの別の信号
を記録した。そして、磁気記録媒体を冷却した後に読取
りを行ったところ、約５００ｍＶの出力で信号を良好に
読み取ることができた。

【０１１１】しかし、上記のプリエンコードがなされた
本発明の磁気記録媒体に、室温において書込み電流８０
ｍＡで４２０ＦＲＰＩの別の信号を記録し、その後、読
取りを行ったところ、波形が乱れて、後から記録した４
２０ＦＲＰＩの信号は読み取ることができなかった。（実験例３）先ず、厚さ２５μｍのポリエチレンテレフ
タレートフィルムの片面に、実験例１にて使用したのと
同様の剥離層形成用の塗工液、第２磁気記録層用の塗工
液、第１磁気記録層用の塗工液を用いて、実験例１と同
様にして剥離層、第２磁気記録層、第１磁気記録層を形
成した。

【０１１２】次に、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム側から、スリット状に集光した赤外線ランプを用いて
磁気記録層を１３０℃の加熱し、この状態で第１磁気記
録層上に磁気ヘッドを走査させて４２０ＦＲＰＩの信号
を記録した。次に、実験例１にて使用したのと同様の接
着剤層形成用の塗工液を用いて、実験例１と同様にして
第１磁気記録層上に接着剤層（厚さ５μｍ）を形成し
て、プリエンコードがなされた転写シートを作製した。

【０１１３】この転写シートを用いて、実験例１と同様
にして８６mm×５４mmの大きさのカード状のプリエンコ
ードがなされた本発明の磁気記録媒体を得た。

【０１１４】次に、実験例１と同様に、磁気記録媒体の
磁気ストライプ部を記録方向全長に亘ってヒートロール
方式により１３０℃まで加熱して、第１磁気記録層、第
２磁気記録層の飽和書込み電流値を約６０ｍＡとした状
態で、書込み電流８０ｍＡで４２０ＦＲＰＩの別の信号
を記録した。そして、磁気記録媒体を冷却した後に読取
りを行ったところ、約５００ｍＶの出力で信号を良好に
読み取ることができた。

【０１１５】しかし、上記のプリエンコードがなされた
本発明の磁気記録媒体に、室温において書込み電流８０
ｍＡで４２０ＦＲＰＩの別の信号を記録し、その後、読
取りを行ったところ、波形が乱れて、後から記録した４
２０ＦＲＰＩの信号は読み取ることができなかった。（実験例４）厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの片面に、実験例１にて使用したのと同様
の第１磁気記録層用の塗工液、第２磁気記録層用の塗工
液をグラビアコート法により塗布して、第１磁気記録
層、第２磁気記録層を形成した。

【０１１６】次に、干渉縞が凹凸の形で形成されたホロ
グラム原版を、その凹凸面と上記の磁気記録層面とが当
接するように重ね合わせ、加熱加圧ロール間に両者を送
り込んで加熱加圧し、その後、ホログラム原版を剥離し
て磁気記録層面上に凹凸面を形成した。

【０１１７】さらに、この凹凸面上に下記の組成を有す
る塗工液を塗布してホログラム層（厚さ１μｍ）を形成
した。

【０１１８】（ホログラム層形成用の塗工液）・アクリル樹脂 … ４０重量部・メラミン樹脂 … １０重量部・シクロヘキサノン … ５０重量部・メチルエチルケトン … ５０重量部以上のようにして形成したシートを８６mm×５４mmの大
きさのカード状に打ち抜いて磁気記録媒体とした。

【０１１９】次に、この磁気記録媒体のホログラム層側
から、スリット状に集光した赤外線ランプを用いて磁気
記録層を１３０℃の加熱し、この状態で磁気記録層上に
磁気ヘッドを走査させて４２０ＦＲＰＩの信号を記録す
ることによりプリエンコードを行って本発明の磁気記録
媒体を得た。

【０１２０】次に、実験例１と同様に、磁気記録媒体の
磁気ストライプ部を記録方向全長に亘ってヒートロール
方式により１３０℃まで加熱して、第１磁気記録層、第
２磁気記録層の飽和書込み電流値を約６０ｍＡとした状
態で、書込み電流９０ｍＡで４２０ＦＲＰＩの別の信号
を記録した。そして、磁気記録媒体を冷却した後に読取
りを行ったところ、約４００ｍＶの出力で信号を良好に
読み取ることができた。

【０１２１】しかし、上記のプリエンコードがなされた
本発明の磁気記録媒体に、室温において書込み電流８０
ｍＡで４２０ＦＲＰＩの別の信号を記録し、その後、読
取りを行ったところ、波形が乱れて、後から記録した４
２０ＦＲＰＩの信号は読み取ることができなかった。

【０１２２】また、作成した本発明の磁気記録媒体は、
磁気記録層の表面のホログラム効果が十分であり、外観
上、一目で認識できたとともに、上記のような加熱が施
された後も、ホログラム効果の劣化はまったく見られな
かった。また、磁気記録層にレリーフを形成し、保護層
とホログラム層とを同一層としたため、スペーシングロ
スの少ない磁気記録媒体を得ることができた。（実験例５）第１磁気記録層のＳｒフェライトをキュリ
ー点が９０℃のものとした他は、実験例１と同様にして
８６mm×５４mmの大きさのカード状の磁気記録媒体を得
た。

【０１２３】次に、この磁気記録媒体の基体側から、ス
リット状に集光した赤外線ランプを用いて磁気記録層を
８０℃の加熱し、第１磁気記録層、第２磁気記録層の飽
和書込み電流値を約６０ｍＡとした状態で、磁気記録層
上に磁気ヘッドを走査させて書込み電流８０ｍＡで、加
熱書き込み条件である加熱温度が８０℃であり搬送速度
が１００mm／秒であること、からなる内容の磁気データ
を記録することによりプリエンコードを行って本発明の
磁気記録媒体を得た。

【０１２４】次に、この磁気記録媒体の磁気ストライプ
の読取りを行ったところ、約５００ｍＶの出力で上記の
内容の磁気データを良好に読み取ることができた。そし
て、読み取った磁気データに基づいて、磁気記録媒体の
磁気ストライプ部を記録方向全長に亘ってヒートロール
方式により８０℃まで加熱して、第１磁気記録層、第２
磁気記録層の飽和書込み電流値を約６０ｍＡとした状態
で、書込み電流８０ｍＡで別の磁気データを記録した。
そして、磁気記録媒体を冷却した後に読取りを行ったと
ころ、約５００ｍＶの出力で信号を良好に読み取ること
ができた。

【０１２５】しかし、上記のプリエンコードがなされた
本発明の磁気記録媒体に、室温において書込み電流８０
ｍＡで別の磁気データを記録し、その後、読取りを行っ
たところ、波形が乱れて、後から記録した磁気データは
読み取ることができなかった。また、１３０℃に加熱し
て磁気データを記録したが、やはり後から磁気データを
読み取ることはできなかった。

【０１２６】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば磁
気記録層を構成する異なるキュリー点および保磁力を有
する２種以上の磁性材料のうち、少なくとも低キュリー
点の磁性材料にプリエンコード磁気データが加熱状態で
記録されており、これにより通常の磁気記録装置により
加熱を行わないで磁気記録層の磁気データを書換えるこ
とは困難であり、さらに、上記のプリエンコード磁気デ
ータとして記録時の加熱条件等のデータを記録してお
き、記録時に先ずプリエンコード磁気データを読み取
り、このデータの基づいて加熱しながら記録を行うよう
にすれば、加熱条件と飽和書込み電流値を見出すことが
困難であり、偽造防止機能が大幅に向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の一例を示す概略断面図
である。

【図２】磁気記録層へのプリエンコード磁気データの記
録の一例を示す図である。

【図３】加熱磁石の拡大部分側面図である。

【図４】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面
図である。

【図５】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面
図である。

【図６】本発明の磁気記録媒体の一例を示す概略断面図
である。

【図７】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面
図である。

【図８】本発明の磁気記録媒体の他の例を示す概略断面
図である。

【図９】本発明の磁気記録媒体の一例を示す概略断面図
である。

【図１０】本発明の磁気記録媒体の製造に用いることの
できる磁気転写シートの一例を示す概略断面図である。

【符号の説明】

１，１１…磁気記録媒体２，１２…基体３，１３…磁気記録層１３ａ…第１磁気記録層１３ｂ…第２磁気記録層１４…回折格子および／またはホログラム層１５…薄膜層２１…磁気転写シート２２…基材２３…剥離層２４…回折格子および／またはホログラム層２５…薄膜層２６…磁気記録層２６ａ…第１磁気記録層２６ｂ…第２磁気記録層２７…接着剤層３１…加熱磁石

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基体と、該基体上に設けられた磁気記録
層とを備え、前記磁気記録層は、異なるキュリー点およ
び保磁力を有する２種以上の磁性材料を含み、かつ少な
くともキュリー点の低い磁性材料は加熱しながらプリエ
ンコード磁気データが記録されたものであることを特徴
とする磁気記録媒体。
【請求項２】前記磁性材料は、低キュリー点かつ高保
磁力の磁性材料と、高キュリー点かつ低保磁力の磁性材
料の組み合わせであることを特徴とする請求項１記載の
磁気記録媒体。
【請求項３】１種の磁性材料のキュリー点と他の種の
磁性材料のキュリー点の差が１００℃以上であることを
特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】１種の磁性材料の保磁力は、他の種の磁
性材料の保磁力の２倍以上であることを特徴とする請求
項１乃至３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【請求項５】前記磁気記録層は、２種以上の磁性材料
が混合して含まれる１つの層で構成されていることを特
徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の磁気記録媒
体。
【請求項６】前記磁気記録層は、互いに異なった磁性
材料を含む複数の層が積層され構成されていることを特
徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の磁気記録媒
体。
【請求項７】前記磁気記録層上の少なくとも一部に回
折格子および／またはホログラムを備えることを特徴と
する請求項１乃至６のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【請求項８】請求項１乃至７のいずれかに記載の磁気
記録媒体の磁気記録層のプリエンコード磁気データを先
ず読み取って磁気記録条件を設定した後、該磁気記録条
件にしたがって加熱しながら磁気記録を行うことを特徴
とする磁気記録媒体の記録方法。