JPH0648521B2 - 垂直磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
垂直磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0648521B2 JPH0648521B2 JP16117485A JP16117485A JPH0648521B2 JP H0648521 B2 JPH0648521 B2 JP H0648521B2 JP 16117485 A JP16117485 A JP 16117485A JP 16117485 A JP16117485 A JP 16117485A JP H0648521 B2 JPH0648521 B2 JP H0648521B2
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- Japan
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- recording medium
- substrate
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- perpendicular magnetic
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は高分子フィルム基板上に磁性層が形成されてな
る垂直磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
る垂直磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
近年、磁気記録媒体の媒体面に垂直な方向の残留磁化を
利用して高密度な記録を行なう垂直磁気記録方式が注目
されている。
利用して高密度な記録を行なう垂直磁気記録方式が注目
されている。
この垂直磁気記録のための垂直磁気記録媒体の代表的な
ものとしては、膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有する
Co-Cr系合金層をスパッタリングにより形成して磁性層
とするものが知られている。
ものとしては、膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有する
Co-Cr系合金層をスパッタリングにより形成して磁性層
とするものが知られている。
次に垂直磁気記録媒体の１例を第２図により説明する
と、ポリイミド，ポリエチレンテレフタレート，芳香族
ポリアミド等の耐熱性高分子フィルタからなる基板(1)
と、この基板(1)の少くとも１方の表面に Co-Cr系合金
層などからなる磁性層(2)を形成し、この磁性層(2)上に
保護膜(3)及び潤滑層(4)を順に設けることにより垂直記
録媒体を完成している。この垂直記録媒体は磁気テープ
やフロッピーディスクへの使用が考えられている。
と、ポリイミド，ポリエチレンテレフタレート，芳香族
ポリアミド等の耐熱性高分子フィルタからなる基板(1)
と、この基板(1)の少くとも１方の表面に Co-Cr系合金
層などからなる磁性層(2)を形成し、この磁性層(2)上に
保護膜(3)及び潤滑層(4)を順に設けることにより垂直記
録媒体を完成している。この垂直記録媒体は磁気テープ
やフロッピーディスクへの使用が考えられている。
ところで磁性層としての Co-Cr合金層はアルゴン雰囲気
中で通常のコンベンショナル・スパッタリング法あるい
はマグネトロン・スパッタリング法で形成される。そし
て形成された Co-Cr系合金層はＣ軸に配向された柱状構
成であり、磁気特性は主として Co-Cr系合金層の組成に
よって決まる飽和磁化Msの他に膜面に垂直な磁気異方性
エネルギーKuが大きく、膜面に垂直方向の保磁力Ｈc⊥
が大きく高密度記録が可能となる条件を揃えている。
中で通常のコンベンショナル・スパッタリング法あるい
はマグネトロン・スパッタリング法で形成される。そし
て形成された Co-Cr系合金層はＣ軸に配向された柱状構
成であり、磁気特性は主として Co-Cr系合金層の組成に
よって決まる飽和磁化Msの他に膜面に垂直な磁気異方性
エネルギーKuが大きく、膜面に垂直方向の保磁力Ｈc⊥
が大きく高密度記録が可能となる条件を揃えている。
しかるに上述した製造法によって所望の磁気特性を有す
る Co-Cr系合金層を形成する場合、基板である高分子フ
ィルムを真空中で80℃乃至 200℃に加熱する必要があ
る。このため、より耐熱性のポリイミドフィルムや芳香
族ポリアミドフィルムの方がポリエステルフィルムより
成膜上取り扱い容易でオリゴマーの表面析出などの問題
点もない。
る Co-Cr系合金層を形成する場合、基板である高分子フ
ィルムを真空中で80℃乃至 200℃に加熱する必要があ
る。このため、より耐熱性のポリイミドフィルムや芳香
族ポリアミドフィルムの方がポリエステルフィルムより
成膜上取り扱い容易でオリゴマーの表面析出などの問題
点もない。
しかし、ポリイミドフィルムや芳香族ポリアミドフィル
ムのように流延法で成膜し、加熱処理によって容媒を除
去する工程が必要なフィルムにおいては容媒が残留する
という問題がある。
ムのように流延法で成膜し、加熱処理によって容媒を除
去する工程が必要なフィルムにおいては容媒が残留する
という問題がある。
有機容媒の具体例として、Ｎ，Ｎ′−ジメチルアセトア
ミド，ジメチルスルホキシド，ヘキサメチル，ホスホル
アミド，Ｎ−メチル−２−ピロリドン，テトラメチル尿
素，テトラメチレンスルホン，フェノール，モノハロゲ
ン化フェノール，モノハロゲン化クレゾール，クレゾー
ル，キシレン等が挙げられる。
ミド，ジメチルスルホキシド，ヘキサメチル，ホスホル
アミド，Ｎ−メチル−２−ピロリドン，テトラメチル尿
素，テトラメチレンスルホン，フェノール，モノハロゲ
ン化フェノール，モノハロゲン化クレゾール，クレゾー
ル，キシレン等が挙げられる。
このため、耐熱性の優れたポリイミドフィルムや芳香族
ポリアミドフィルムを基板として真空中で加熱し、強磁
性合金層を形成する場合、これらフィルム中に含有され
た容媒が基板表面へにじみ出し、強磁性合金層の付着強
度が低下するという問題点がある。この付着強度の低下
は、磁気ヘッドによる同一トラック上での走行試験にお
いて、強磁性合金層の基板からのはがれやすさを伴なう
ため、垂直磁気記録媒体の寿命、信頼性という観点から
致命的な問題点である。
ポリアミドフィルムを基板として真空中で加熱し、強磁
性合金層を形成する場合、これらフィルム中に含有され
た容媒が基板表面へにじみ出し、強磁性合金層の付着強
度が低下するという問題点がある。この付着強度の低下
は、磁気ヘッドによる同一トラック上での走行試験にお
いて、強磁性合金層の基板からのはがれやすさを伴なう
ため、垂直磁気記録媒体の寿命、信頼性という観点から
致命的な問題点である。
上記のような問題点は、スパッタリングや蒸着の前工程
として行なわれる加熱脱ガス処理のような通常の基板の
表面処理では解決できない。
として行なわれる加熱脱ガス処理のような通常の基板の
表面処理では解決できない。
例えば特開昭 59-129956号公報には、光磁気記録媒体の
アクリル樹脂基板を10−４Torr以下の真空下で70〜85℃
で１時間以上熱処理することにより、アクリル樹脂基板
の表面の脱ガスを行ない、基板上に形成される磁性層の
磁気特性を向上させるということが記載されている。し
かしながら、光磁気記録媒体では、ヘッドと非接触で使
用されるため、垂直磁気記録媒体のようにヘッドと接触
状態で使用させるものとは異なり、基板と磁性層との付
着強度は問題とはならない。
アクリル樹脂基板を10−４Torr以下の真空下で70〜85℃
で１時間以上熱処理することにより、アクリル樹脂基板
の表面の脱ガスを行ない、基板上に形成される磁性層の
磁気特性を向上させるということが記載されている。し
かしながら、光磁気記録媒体では、ヘッドと非接触で使
用されるため、垂直磁気記録媒体のようにヘッドと接触
状態で使用させるものとは異なり、基板と磁性層との付
着強度は問題とはならない。
これに対して、ポリイミドフィルム，芳香族ポリアミド
フィルム等の膜中に残留している溶媒が主にＮ，Ｎ′−
ジメチルアセトアミド（沸点 165℃［760mmHg］63℃［1
2mmHg］）の場合、10−４Torrよりもよい真空下で 100
℃、１時間程度の脱ガス処理を行なってもフィルム全体
の残存溶媒量はほとんど変らない。そのため、強磁性合
金層の付着強度も改善されず、フィルム中の残存溶媒に
よると考えられている磁気ヘッド走行経過に伴なう基板
フィルムと磁性層との間の球状部分はくりの数も軽減さ
れない。この原因は、残存溶媒とポリマー分子が相互作
用していて溶媒がフィルムから蒸発しにくなっているた
めである。実際に上記溶媒の場合、大気中での熱天秤装
置評価結果では、 260℃以上でないと試料フィルムの重
量変化は観測されない。
フィルム等の膜中に残留している溶媒が主にＮ，Ｎ′−
ジメチルアセトアミド（沸点 165℃［760mmHg］63℃［1
2mmHg］）の場合、10−４Torrよりもよい真空下で 100
℃、１時間程度の脱ガス処理を行なってもフィルム全体
の残存溶媒量はほとんど変らない。そのため、強磁性合
金層の付着強度も改善されず、フィルム中の残存溶媒に
よると考えられている磁気ヘッド走行経過に伴なう基板
フィルムと磁性層との間の球状部分はくりの数も軽減さ
れない。この原因は、残存溶媒とポリマー分子が相互作
用していて溶媒がフィルムから蒸発しにくなっているた
めである。実際に上記溶媒の場合、大気中での熱天秤装
置評価結果では、 260℃以上でないと試料フィルムの重
量変化は観測されない。
また、表面だけでなくフィルム全体の残存溶媒量の減少
は、上記磁気ヘッド走行による球状部分はくりに加え
て、強磁性合金層及び保護膜形成時の温度上昇に伴なう
残存溶媒のフィルム内部からフィルムと強磁性合金層と
の界面への熱拡散による付着強度の低下等から重要であ
る。
は、上記磁気ヘッド走行による球状部分はくりに加え
て、強磁性合金層及び保護膜形成時の温度上昇に伴なう
残存溶媒のフィルム内部からフィルムと強磁性合金層と
の界面への熱拡散による付着強度の低下等から重要であ
る。
本発明は、上述の諸問題点に鑑みてなされたものであ
り、長寿命、かつ高信頼性の垂直磁気記録媒体を得る製
造方法を提供するものである。
り、長寿命、かつ高信頼性の垂直磁気記録媒体を得る製
造方法を提供するものである。
本発明は、高分子フィルム基板中に残存する溶媒量を0.
7 重量％以下とするように基板を加熱する工程と、この
工程の後、基板上に膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有
する磁性層を形成する工程とを有する垂直磁気記録媒体
の製造方法である。
7 重量％以下とするように基板を加熱する工程と、この
工程の後、基板上に膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有
する磁性層を形成する工程とを有する垂直磁気記録媒体
の製造方法である。
以下本発明を完成するに至った実験について説明する。
即ち、まず残存溶媒量の異なるポリイミドフィルムの基
板上に強磁性合金層として Co-Cr膜をアルゴン雰囲気中
でスパッタリング法で5000Å形成し、 Co-Cr膜の基板へ
の付着強度を評価した。
板上に強磁性合金層として Co-Cr膜をアルゴン雰囲気中
でスパッタリング法で5000Å形成し、 Co-Cr膜の基板へ
の付着強度を評価した。
このフィルム中の残存溶媒量の測定方法としては、ガス
クロマトグラフィ法、溶媒抽出法、熱天秤法等があるが
一番簡便である熱天秤法によって残存溶媒分の蒸発に伴
なう重量変化から求めた。
クロマトグラフィ法、溶媒抽出法、熱天秤法等があるが
一番簡便である熱天秤法によって残存溶媒分の蒸発に伴
なう重量変化から求めた。
この場合、 Co-Cr膜の形成は条件を一定とし、かつポリ
イミドフィルムは厚さおよび表面性などの同一なものを
用い、残存溶媒だけを変化したものを使用した。この条
件により作製した垂直磁気記録媒体については、まず C
o-Cr膜とポリイミドフィルムとの間の付着強度を次のよ
うな方法で評価した。即ち、格子状に切り目をいれた C
o-Cr膜に付着力が６kg／cm2の接着テープを Co-Cr膜の
表面に均一に接着し、一定速度、一定方向へ引きはが
し、ポリイミドフィルム上に残存している Co-Cr膜の面
積量を求めることによって相当付着強度を評価した。
イミドフィルムは厚さおよび表面性などの同一なものを
用い、残存溶媒だけを変化したものを使用した。この条
件により作製した垂直磁気記録媒体については、まず C
o-Cr膜とポリイミドフィルムとの間の付着強度を次のよ
うな方法で評価した。即ち、格子状に切り目をいれた C
o-Cr膜に付着力が６kg／cm2の接着テープを Co-Cr膜の
表面に均一に接着し、一定速度、一定方向へ引きはが
し、ポリイミドフィルム上に残存している Co-Cr膜の面
積量を求めることによって相当付着強度を評価した。
その結果、残存溶媒量 0.7wt％以下のポリイミドフィル
ムでは Co-Cr膜のはがれが起きなかったが、 1.0重量％
以上のポリイミドフィルムでは30乃至80％程度のはがれ
が生じた。この結果から Co-Cr膜の相対付着強度が残存
溶楳量 0.7重量％を越すと著しく低下することがわかっ
た。
ムでは Co-Cr膜のはがれが起きなかったが、 1.0重量％
以上のポリイミドフィルムでは30乃至80％程度のはがれ
が生じた。この結果から Co-Cr膜の相対付着強度が残存
溶楳量 0.7重量％を越すと著しく低下することがわかっ
た。
次に、 Co-Cr膜とポリイミドフィルムとの付着強度と関
連があると思われる耐久性寿命の変化を調べた。この評
価は Co-Cr膜上に Al2O3 保護膜を 200Å程度形成し、
更にフロロカーボンを潤滑層として塗布した垂直磁気記
録媒体を磁気ヘッドを用いて同一トラック上を走行さ
せ、寿命にいいたるまでの走行回数を測定することによ
って行なった。第１図ポリイミドフィルムの残存溶媒量
と走行回数の結果、得られた曲線(11)を示す。この測定
結果はサンプル数をそれぞれ10個とした時の平均値であ
る。この曲線(11)は付着強度試験とよく対応している。
連があると思われる耐久性寿命の変化を調べた。この評
価は Co-Cr膜上に Al2O3 保護膜を 200Å程度形成し、
更にフロロカーボンを潤滑層として塗布した垂直磁気記
録媒体を磁気ヘッドを用いて同一トラック上を走行さ
せ、寿命にいいたるまでの走行回数を測定することによ
って行なった。第１図ポリイミドフィルムの残存溶媒量
と走行回数の結果、得られた曲線(11)を示す。この測定
結果はサンプル数をそれぞれ10個とした時の平均値であ
る。この曲線(11)は付着強度試験とよく対応している。
この場合、残存溶楳量の多いポリイミドフィルム上に形
成した Co-Cr膜の方が局部的なはがれが起き易いため
か、ドロップアウトの増加速度が非常に速くなるという
傾向にある。
成した Co-Cr膜の方が局部的なはがれが起き易いため
か、ドロップアウトの増加速度が非常に速くなるという
傾向にある。
また、フィルム基板の内部から Co-Cr膜との界面への溶
楳の熱拡散による付着強度低下の調査した。結果を第３
図に示す。これは保護膜形成時の温度上昇に伴なう溶媒
の熱拡散によるフィルムと Co-Cr膜の付着強度への影響
を調べる上で重要である。基板温度が高い方が媒体のカ
ール、保護膜の膜質等の観点から望ましい。第３図は
0.3重量％と 1.26 重量％の残存溶媒量のポリイミドフ
ィルムに Co-Cr膜を形成し、各温度である時間加熱した
のち相対付着強度低下率を示したものである。ここで、
相対付着強度の低下率とは、加熱処理する前の相対付着
強度を 100％とした場合の相対付着強度を示している。
残存溶媒量が 0.3重量％のものでは 200℃、２時間の加
熱処理後も相対付着強度に変化はみられない。しかしな
がら 1.26重量％のものでは、 150℃の温度では50分以
上、 175℃では10分以上、200℃では７分以上で相対付
着強度の著しい低下がおきる。このことは、フィルムと
Co-Cr膜との界面まで拡散してきた溶媒が薄い層を形成
し、付着強度をさらに下げるものと考えられる。
楳の熱拡散による付着強度低下の調査した。結果を第３
図に示す。これは保護膜形成時の温度上昇に伴なう溶媒
の熱拡散によるフィルムと Co-Cr膜の付着強度への影響
を調べる上で重要である。基板温度が高い方が媒体のカ
ール、保護膜の膜質等の観点から望ましい。第３図は
0.3重量％と 1.26 重量％の残存溶媒量のポリイミドフ
ィルムに Co-Cr膜を形成し、各温度である時間加熱した
のち相対付着強度低下率を示したものである。ここで、
相対付着強度の低下率とは、加熱処理する前の相対付着
強度を 100％とした場合の相対付着強度を示している。
残存溶媒量が 0.3重量％のものでは 200℃、２時間の加
熱処理後も相対付着強度に変化はみられない。しかしな
がら 1.26重量％のものでは、 150℃の温度では50分以
上、 175℃では10分以上、200℃では７分以上で相対付
着強度の著しい低下がおきる。このことは、フィルムと
Co-Cr膜との界面まで拡散してきた溶媒が薄い層を形成
し、付着強度をさらに下げるものと考えられる。
以上の結果から Co-Crなどの強磁性合金層をスパッタリ
ング法などで高分子フィルム基板上に形成して磁気媒体
を作成する場合、高分子フィルム基板中の残存溶媒量が
0.7重量％以下のものを用いることが必要であり、そう
することによって垂直磁気記録媒体の耐久性寿命が飛躍
的に改善される。
ング法などで高分子フィルム基板上に形成して磁気媒体
を作成する場合、高分子フィルム基板中の残存溶媒量が
0.7重量％以下のものを用いることが必要であり、そう
することによって垂直磁気記録媒体の耐久性寿命が飛躍
的に改善される。
また以上の理由により使用する高分子フィルム基板中の
残存溶媒量を 0.7重量％以下にしなければならない。も
し、最初から残存溶媒の少ないフィルムの入手が難しい
場合は、大気中または真空中で加熱前処理をして 0.7重
量％以下にしてから、強磁性合金層を形成しなければな
らない。
残存溶媒量を 0.7重量％以下にしなければならない。も
し、最初から残存溶媒の少ないフィルムの入手が難しい
場合は、大気中または真空中で加熱前処理をして 0.7重
量％以下にしてから、強磁性合金層を形成しなければな
らない。
以下に高分子フィルム基板中の残存溶媒量を減少させる
加熱処理条件の例について説明する。加熱処理条件の決
定には、特に大気中処理の場合において、熱天秤装置に
よる溶媒蒸発に伴なう重量変化測定が有効である。当然
残存している溶媒の種類によって処理温度を変える必要
がある。そこで処理温度は熱天秤測定結果の重量変化が
始まる温度以上に設定し、処理時間に伴なって残存溶媒
量を調べ処理時間を決定するとよい。ただし、真空装置
内で行なう場合は温度は上記よりも当然低くてもよい。
例えばＮ，Ｎ′−ジメチルアセトアミドが主にポリイミ
ドフィルム中に残存している場合、熱天秤の測定結果に
よると毎分15℃の昇温速度で 260℃程度から重量変化が
はじまり、 360℃程度で終了する。この結果に基づいて
種々の条件の実験を行ない処理法を決定した。
加熱処理条件の例について説明する。加熱処理条件の決
定には、特に大気中処理の場合において、熱天秤装置に
よる溶媒蒸発に伴なう重量変化測定が有効である。当然
残存している溶媒の種類によって処理温度を変える必要
がある。そこで処理温度は熱天秤測定結果の重量変化が
始まる温度以上に設定し、処理時間に伴なって残存溶媒
量を調べ処理時間を決定するとよい。ただし、真空装置
内で行なう場合は温度は上記よりも当然低くてもよい。
例えばＮ，Ｎ′−ジメチルアセトアミドが主にポリイミ
ドフィルム中に残存している場合、熱天秤の測定結果に
よると毎分15℃の昇温速度で 260℃程度から重量変化が
はじまり、 360℃程度で終了する。この結果に基づいて
種々の条件の実験を行ない処理法を決定した。
従って、ポリイミドフィルムを例にとれば、大気中では
260℃以上に加熱するとが好ましい。また真空度10−５
Torrでは 220℃以上に加熱することが好ましい。なお、
加熱温度の上限は、高分子フィルムの分解温度によって
制限される。一般的に高分子フィルム基板中の残存溶媒
量を減少させる加熱する処理は、大気中で行なうのが、
処理整備を容易に構成でき実用的である。
260℃以上に加熱するとが好ましい。また真空度10−５
Torrでは 220℃以上に加熱することが好ましい。なお、
加熱温度の上限は、高分子フィルムの分解温度によって
制限される。一般的に高分子フィルム基板中の残存溶媒
量を減少させる加熱する処理は、大気中で行なうのが、
処理整備を容易に構成でき実用的である。
実施例１ 残存溶媒量が 1.3重量％、厚さ75μｍのポリイミドフィ
ルムを、大気中で320℃、１時間加熱処理を施した。こ
の結果、残存溶媒量は 0.3重量％であった。第２図に示
すように、このポリイミドフィルムを基体(1)として、
両面に磁性層(2)として Co-Cr合金層を直流マグネトロ
ンスパタリングにより厚さ 0.5μｍ、保護層(3)として
Al2O3 をスパッタリングにより厚さ 200Å、また潤滑層
(4)としてフロロカーボンを 200Å以下の厚さにスピン
塗布して垂直磁気記録媒体を作成した。
ルムを、大気中で320℃、１時間加熱処理を施した。こ
の結果、残存溶媒量は 0.3重量％であった。第２図に示
すように、このポリイミドフィルムを基体(1)として、
両面に磁性層(2)として Co-Cr合金層を直流マグネトロ
ンスパタリングにより厚さ 0.5μｍ、保護層(3)として
Al2O3 をスパッタリングにより厚さ 200Å、また潤滑層
(4)としてフロロカーボンを 200Å以下の厚さにスピン
塗布して垂直磁気記録媒体を作成した。
この垂直磁気記録媒体は寿命試験を行なったところ、10
00万パス以上の寿命特性が得られた。
00万パス以上の寿命特性が得られた。
実施例２ 残存溶媒量が 1.3重量％、厚さ75μｍのポリイミドフィ
ルムを、真空度10−５Torr、 250℃、30分間熱処理を施
した。この結果、残存溶媒量は、上述実施例と同様に
0.3重量％であった。以上上述の実施例と同様にして垂
直磁気記録媒体を作成した。この垂直磁気記録媒体は、
1000万パス以上の寿命特性が得られた。
ルムを、真空度10−５Torr、 250℃、30分間熱処理を施
した。この結果、残存溶媒量は、上述実施例と同様に
0.3重量％であった。以上上述の実施例と同様にして垂
直磁気記録媒体を作成した。この垂直磁気記録媒体は、
1000万パス以上の寿命特性が得られた。
実施例３ 残存溶媒量が２重量％、厚さ50μｍ芳香族ポリアミドフ
ィルムを、大気中 300℃、20分間熱処理を施した。この
残存溶媒量は 0.5重量％であった。以下上述の実施例と
同様にして垂直磁気記録媒体を作成した。この垂直磁気
記録媒体も、1000万パス以上の寿命特性が得られた。
ィルムを、大気中 300℃、20分間熱処理を施した。この
残存溶媒量は 0.5重量％であった。以下上述の実施例と
同様にして垂直磁気記録媒体を作成した。この垂直磁気
記録媒体も、1000万パス以上の寿命特性が得られた。
また実施例では強磁性合金層が Co-Cr膜単層の場合につ
いて述べたが、これに限定されるものではなく Co-Cr膜
下に Fe-Ni合金を基とするパーマロイ等の軟磁性層を裏
打ちした場合にも本発明が適用されるのは勿論である。
また、 Co-Cr合金のみでなく、Coを基とする他の強磁性
合金層などをスパッタリング或は蒸着法によって磁性層
を形成する場合にもそのまま適用できる。
いて述べたが、これに限定されるものではなく Co-Cr膜
下に Fe-Ni合金を基とするパーマロイ等の軟磁性層を裏
打ちした場合にも本発明が適用されるのは勿論である。
また、 Co-Cr合金のみでなく、Coを基とする他の強磁性
合金層などをスパッタリング或は蒸着法によって磁性層
を形成する場合にもそのまま適用できる。
〔発明の効果〕 上述のように本発明によれば高分子フィルムの残存溶媒
量を 0.7重量％以下にすることにより磁性層の付着強度
を上げることにより高寿命、高信頼性の垂直磁気記録媒
体を提供することができる。
量を 0.7重量％以下にすることにより磁性層の付着強度
を上げることにより高寿命、高信頼性の垂直磁気記録媒
体を提供することができる。
第１図は本発明の垂直磁気記録媒体のフィルムの残存溶
媒量と走行回数の関係を示す図、第２図は垂直磁気記録
媒体の断面図、第３図は加熱処理による Co-Cr膜の相対
付着強度低下率を示す図である。 １……基体、２……磁性層 ３……保護膜、４……潤滑層
媒量と走行回数の関係を示す図、第２図は垂直磁気記録
媒体の断面図、第３図は加熱処理による Co-Cr膜の相対
付着強度低下率を示す図である。 １……基体、２……磁性層 ３……保護膜、４……潤滑層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大内 義昭 神奈川県川崎市幸区堀川町72 株式会社東 芝堀川町工場内 (56)参考文献 特開 昭60−121532（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】残存溶媒を含有する高分子フィルムからな
る基板を加熱して前記基板中に残存する前記溶媒を0.7
重量％以下にする第１の工程と、この工程の後前記基板
上に膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有する磁性層を形
成する第２の工程とを有することを特徴とする垂直磁気
記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】前記高分子フィルムがポリイミドフィルム
でなり、且つ前記第１の工程は大気中で前記基板を260
℃以上に加熱する工程を含むことを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16117485A JPH0648521B2 (ja) | 1985-07-23 | 1985-07-23 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| KR1019850008243A KR890004258B1 (ko) | 1984-11-14 | 1985-11-05 | 수직자기기록 매체 및 그 제조방법 |
| EP19850114473 EP0182287B1 (en) | 1984-11-14 | 1985-11-14 | Perpendicular magnetic recording medium and method for preparing the same |
| DE8585114473T DE3573852D1 (en) | 1984-11-14 | 1985-11-14 | Perpendicular magnetic recording medium and method for preparing the same |
| US07/245,945 US4923763A (en) | 1984-11-14 | 1988-09-19 | Perpendicular magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16117485A JPH0648521B2 (ja) | 1985-07-23 | 1985-07-23 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6222242A JPS6222242A (ja) | 1987-01-30 |
| JPH0648521B2 true JPH0648521B2 (ja) | 1994-06-22 |
Family
ID=15729990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16117485A Expired - Lifetime JPH0648521B2 (ja) | 1984-11-14 | 1985-07-23 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0648521B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2616711B2 (ja) * | 1994-09-14 | 1997-06-04 | 東レ株式会社 | 磁気記録媒体 |
-
1985
- 1985-07-23 JP JP16117485A patent/JPH0648521B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6222242A (ja) | 1987-01-30 |
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