JPS6257122A - 金属薄膜型磁気記録媒体 - Google Patents
金属薄膜型磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6257122A JPS6257122A JP60195189A JP19518985A JPS6257122A JP S6257122 A JPS6257122 A JP S6257122A JP 60195189 A JP60195189 A JP 60195189A JP 19518985 A JP19518985 A JP 19518985A JP S6257122 A JPS6257122 A JP S6257122A
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- Japan
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- magnetic
- particles
- thin film
- metal thin
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、耐久性の優れた金ｍ薄膜型磁気記録媒体に関
するものである。
するものである。
従来の技術
磁気記録再生装置は年々高密度化しており、短波長記録
再生特性の優れた磁気記録媒体が要望されている。現在
主に使用されている、基板上に磁性粉を塗布した塗布型
磁気記録媒体は、上記要望を満足すべく特性改善がなさ
れているが、はぼ限界に近づいている。この限界を越え
るものとして、金属薄膜型磁気記録媒体が開発されつつ
ある。金属Ｉｇｌ型磁気記録媒体は、真空蒸者法、スパ
ッタリング法、メッキ法等により作製され、優れた短波
長記録再生特性を有する。金属ＩＷ：！型磁気記録媒体
における磁性層としては、ｃｏ、 Ｃｏ−Ｎｉ 、 Ｃ
ｏ−Ｎ１−Ｐ等の面内記録用薄膜、アルイＧ；ｔＣｏ−
Ｃｒ 、 Ｃｏ−Ｖ等の垂直記録用′ｎ膜が有望である
。
再生特性の優れた磁気記録媒体が要望されている。現在
主に使用されている、基板上に磁性粉を塗布した塗布型
磁気記録媒体は、上記要望を満足すべく特性改善がなさ
れているが、はぼ限界に近づいている。この限界を越え
るものとして、金属薄膜型磁気記録媒体が開発されつつ
ある。金属Ｉｇｌ型磁気記録媒体は、真空蒸者法、スパ
ッタリング法、メッキ法等により作製され、優れた短波
長記録再生特性を有する。金属ＩＷ：！型磁気記録媒体
における磁性層としては、ｃｏ、 Ｃｏ−Ｎｉ 、 Ｃ
ｏ−Ｎ１−Ｐ等の面内記録用薄膜、アルイＧ；ｔＣｏ−
Ｃｒ 、 Ｃｏ−Ｖ等の垂直記録用′ｎ膜が有望である
。
発明が解決しようとする問題点
金属薄膜型磁気記録媒体は、優れた短波長記録再生特性
を有しているが、磁気ヘッドをこの記録媒体に接触させ
て記録再生する際に傷が入り易く、耐久性が悪いという
問題点があった。
を有しているが、磁気ヘッドをこの記録媒体に接触させ
て記録再生する際に傷が入り易く、耐久性が悪いという
問題点があった。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するため、本発明の金［１脱型磁気記
録媒体は、基板と、この基板上に形成された金Ｒｅ膜か
らなる磁性層と、この磁性層の表面にｊｌ設された磁性
層の膜厚よりも小さい平均粒子を有する非磁性粒子とを
備えた構成としたものである。
録媒体は、基板と、この基板上に形成された金Ｒｅ膜か
らなる磁性層と、この磁性層の表面にｊｌ設された磁性
層の膜厚よりも小さい平均粒子を有する非磁性粒子とを
備えた構成としたものである。
作用
上記構成によれば、非磁性粒子を磁性層に埋設したので
、短波長記録再生特性を劣化させることなく、耐久性を
大幅に向上できる。
、短波長記録再生特性を劣化させることなく、耐久性を
大幅に向上できる。
実施例
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は本発明の一実施例における金属薄膜型磁気記録
媒体（以下「媒体」と称す）の断面図で、１は基板であ
り、この基板１上に金ｌ！Ｉｉｌ膜磁性層２が形成され
、その表面に金属薄膜磁性１１２の膜厚よりも小さい平
均粒径を有する非磁性粒子３が埋め込まれている。非磁
性粒子３の材料としては、媒体の耐久性を向上させると
いう点から、金属薄膜磁性層２よりも硬度の高い、５ｉ
０２ 、 Ａ１２０３ 。
媒体（以下「媒体」と称す）の断面図で、１は基板であ
り、この基板１上に金ｌ！Ｉｉｌ膜磁性層２が形成され
、その表面に金属薄膜磁性１１２の膜厚よりも小さい平
均粒径を有する非磁性粒子３が埋め込まれている。非磁
性粒子３の材料としては、媒体の耐久性を向上させると
いう点から、金属薄膜磁性層２よりも硬度の高い、５ｉ
０２ 、 Ａ１２０３ 。
ＳｉＣ等が適している。また非磁性粒子３の粒径を金属
薄膜磁性層２の膜厚よりも大きくすると、非磁性粒子３
を埋め込むことが困難になり、さらに金属薄膜磁性層２
へのダメージも大きくなるので、好ましくない。非磁性
粒子３の埋め込み量について次に説明する。まず、非磁
性粒子３が金属薄膜磁性１ｆ２の表面から、どの程度用
ていることが望ましいかについて述べる。この出ている
示を第１図のようにｇで表わすと、ρが３０〜２５０人
の範囲にあることが望ましい。２５０Ａを越えると記録
・再生時のスペースロスが大きくなってしまい、短波長
記録再生特性が優れているという、金属薄膜型磁気記録
媒体の利点が失われてしまう。３０Ａ未満になると、摩
擦係数が大きくなり、傷も入り易くなるために、Ａは３
０Å以上が必要である。次に、非磁性粒子３を金属薄膜
磁性ＷＪ２の表面から、どの程度埋め込むべきかについ
て述べる。この点については、実際に埋め込み量を変え
て媒体の耐久試験を行なった結果、非磁性粒子３の粒径
の２７５程度以上埋め込めば、充分な耐久性が得られる
ことが確認された。非磁性粒子３を金属薄ＷＡｉｎ性層
２に埋め込まずに、単に表面に塗布しただけでは、磁気
ヘッドによる記録再生の際、あるいはテープ状媒体の場
合には、ポストに沿って走行する際に、非磁性粒子３が
削り取られてしまい充分な耐久性が得られない。
薄膜磁性層２の膜厚よりも大きくすると、非磁性粒子３
を埋め込むことが困難になり、さらに金属薄膜磁性層２
へのダメージも大きくなるので、好ましくない。非磁性
粒子３の埋め込み量について次に説明する。まず、非磁
性粒子３が金属薄膜磁性１ｆ２の表面から、どの程度用
ていることが望ましいかについて述べる。この出ている
示を第１図のようにｇで表わすと、ρが３０〜２５０人
の範囲にあることが望ましい。２５０Ａを越えると記録
・再生時のスペースロスが大きくなってしまい、短波長
記録再生特性が優れているという、金属薄膜型磁気記録
媒体の利点が失われてしまう。３０Ａ未満になると、摩
擦係数が大きくなり、傷も入り易くなるために、Ａは３
０Å以上が必要である。次に、非磁性粒子３を金属薄膜
磁性ＷＪ２の表面から、どの程度埋め込むべきかについ
て述べる。この点については、実際に埋め込み量を変え
て媒体の耐久試験を行なった結果、非磁性粒子３の粒径
の２７５程度以上埋め込めば、充分な耐久性が得られる
ことが確認された。非磁性粒子３を金属薄ＷＡｉｎ性層
２に埋め込まずに、単に表面に塗布しただけでは、磁気
ヘッドによる記録再生の際、あるいはテープ状媒体の場
合には、ポストに沿って走行する際に、非磁性粒子３が
削り取られてしまい充分な耐久性が得られない。
次に上記媒体の製造方法の一例について説明する。第２
図は圧力により非磁性粒子３を金属薄膜磁性層２に埋め
込む方法を示している。製造に際しては、まず、金［９
膜磁性層２の表面に、非磁性粒子３が分散された溶剤４
を塗布する（第２図（Ａ））。この溶剤４中には非磁性
粒子３と金属薄膜磁性層２とを結合するための接着剤が
含まれていることが望ましい。溶剤４中の揮発成分が蒸
発した後に、第２図（Ｂ）に示すように、媒体に圧着ロ
ーラ５により圧力を加え、非磁性粒子３を金属ｉ１膜磁
性層２の表面に埋め込む。第２図（Ｂ）における矢印は
、媒体の移動方向及び圧着ローラ５の回転方向を示す。
図は圧力により非磁性粒子３を金属薄膜磁性層２に埋め
込む方法を示している。製造に際しては、まず、金［９
膜磁性層２の表面に、非磁性粒子３が分散された溶剤４
を塗布する（第２図（Ａ））。この溶剤４中には非磁性
粒子３と金属薄膜磁性層２とを結合するための接着剤が
含まれていることが望ましい。溶剤４中の揮発成分が蒸
発した後に、第２図（Ｂ）に示すように、媒体に圧着ロ
ーラ５により圧力を加え、非磁性粒子３を金属ｉ１膜磁
性層２の表面に埋め込む。第２図（Ｂ）における矢印は
、媒体の移動方向及び圧着ローラ５の回転方向を示す。
以上の方法により、第１図に示される様な媒体が得られ
る。
る。
第°３図は上記媒体の別の製造方法を示しており、この
方法では、非磁性粒子３をよく知られたプラズマ溶射法
あるいは爆発溶射法によって、金属薄膜磁性層２に打ち
込む。非磁性粒子３の埋め込み量は、溶射の際に非磁性
粒子３に与える運動エネルギーによって制御出来る。な
お第３図における矢印は非磁性粒子３の飛来方向を示す
。
方法では、非磁性粒子３をよく知られたプラズマ溶射法
あるいは爆発溶射法によって、金属薄膜磁性層２に打ち
込む。非磁性粒子３の埋め込み量は、溶射の際に非磁性
粒子３に与える運動エネルギーによって制御出来る。な
お第３図における矢印は非磁性粒子３の飛来方向を示す
。
次に具体実施例について説明する。
［具体実施例１１
基板１としての膜厚５Ｇμｌのポリイミドフィルム上に
、真空蒸着法で金属ｗＪＷｉ型磁性層２しての膜厚０．
２μｍのｃｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜を形成し、この上
に非磁性粒子３としての５ｉ０２粒子が分散された溶剤
４を塗布した。８１０２粒子の平均粒径は２００人、Ｃ
ｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜上の５ｉ０２粒子の密度は約
３０個／μゴとした。また溶剤４中には接着剤を含有さ
せた。溶剤４中の揮発成分を蒸発させた後に、第２図（
Ｂ）に示される様に、圧着ローラ５により、５ｉ０２粒
子をＣｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜の表面に埋め込ませた
。この状態で、表面荒らさ計により、媒体表面荒らさを
測定すると約７０人であった。したがって、５ｉ０２粒
子の粒径の半分以上に当たる・１３０人程度が、Ｃｏ−
Ｃｒ垂直磁気異方性膜中に埋め込まれたものと考えられ
る。以上の様に５ｉ０２粒子の埋め込まれたＣｏ−Ｃｒ
垂直磁気異方性膜上に、潤ＷＩ層としての約８０へのフ
ッ素系樹脂を塗布した。かくして得られた媒体を、フロ
ッピーディスクドライブにて、ｏｎ−ｚｎｎフチイトの
リングヘッドで記録・再生を行なったところ、１ｏｏｏ
万パス以上の耐久性を示した。これに対し、５ｉ０２粒
子を埋め込まずに、Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜の上に
単にフッ素系樹脂を塗・布しただけの媒体は、上記と同
じ評価方法で、１万パスを越えると表面に傷が入り、使
用不可能となった。 −［具体実施例２］ 基板１としての膜厚１２μＩのポリイミドフィルム上に
、真空蒸着法で膜厚０．０３μＩＩ膜を形成し、さらに
この上に金属薄膜磁性層２としての膜厚０．１５μＩの
Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜を形成した。
、真空蒸着法で金属ｗＪＷｉ型磁性層２しての膜厚０．
２μｍのｃｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜を形成し、この上
に非磁性粒子３としての５ｉ０２粒子が分散された溶剤
４を塗布した。８１０２粒子の平均粒径は２００人、Ｃ
ｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜上の５ｉ０２粒子の密度は約
３０個／μゴとした。また溶剤４中には接着剤を含有さ
せた。溶剤４中の揮発成分を蒸発させた後に、第２図（
Ｂ）に示される様に、圧着ローラ５により、５ｉ０２粒
子をＣｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜の表面に埋め込ませた
。この状態で、表面荒らさ計により、媒体表面荒らさを
測定すると約７０人であった。したがって、５ｉ０２粒
子の粒径の半分以上に当たる・１３０人程度が、Ｃｏ−
Ｃｒ垂直磁気異方性膜中に埋め込まれたものと考えられ
る。以上の様に５ｉ０２粒子の埋め込まれたＣｏ−Ｃｒ
垂直磁気異方性膜上に、潤ＷＩ層としての約８０へのフ
ッ素系樹脂を塗布した。かくして得られた媒体を、フロ
ッピーディスクドライブにて、ｏｎ−ｚｎｎフチイトの
リングヘッドで記録・再生を行なったところ、１ｏｏｏ
万パス以上の耐久性を示した。これに対し、５ｉ０２粒
子を埋め込まずに、Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜の上に
単にフッ素系樹脂を塗・布しただけの媒体は、上記と同
じ評価方法で、１万パスを越えると表面に傷が入り、使
用不可能となった。 −［具体実施例２］ 基板１としての膜厚１２μＩのポリイミドフィルム上に
、真空蒸着法で膜厚０．０３μＩＩ膜を形成し、さらに
この上に金属薄膜磁性層２としての膜厚０．１５μＩの
Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜を形成した。
この上に具体実施例１と同様にして、平均粒径１５０人
の５ｉ０２粒子を約３０１１／μゴの密度で埋め込んだ
。なお表面荒らさ計によると、表面荒らさは約４０八で
あった。以上の様に５ｉ０２粒子の埋め込まれたＣｏ−
Ｃｒ垂直磁気異方性膜上に、プラズマ重合法により、膜
厚７０人のカーボン膜を形成した。
の５ｉ０２粒子を約３０１１／μゴの密度で埋め込んだ
。なお表面荒らさ計によると、表面荒らさは約４０八で
あった。以上の様に５ｉ０２粒子の埋め込まれたＣｏ−
Ｃｒ垂直磁気異方性膜上に、プラズマ重合法により、膜
厚７０人のカーボン膜を形成した。
かくして得られた媒体を８Ｉｌ＃Ｉビデオデツキにかけ
てスチル再生を行なったところ、３０分以上経過しても
再生出力はほとんど変化しなかった。これに対し、５ｉ
０２粒子を埋め込まずに、Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜
の上に単にカーボンのプラズマ重合膜を形成しただけの
媒体は、上記と同じ評価方法で、２０〜３０秒で表面に
傷が入り、再生出力が出なくなった。
てスチル再生を行なったところ、３０分以上経過しても
再生出力はほとんど変化しなかった。これに対し、５ｉ
０２粒子を埋め込まずに、Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜
の上に単にカーボンのプラズマ重合膜を形成しただけの
媒体は、上記と同じ評価方法で、２０〜３０秒で表面に
傷が入り、再生出力が出なくなった。
発明の効果
以上述べたごとく本発明によれば、短波長記録再生特性
を劣化させることなく、耐久性を大幅に向上させること
ができる。
を劣化させることなく、耐久性を大幅に向上させること
ができる。
第１図は本発明の一実施例における金属薄膜型磁気記録
媒体の断面図、第２図及び第３図は各々同金！ａ薄模型
磁気記録媒体の製造方法を説明する断面図である。 １・・・基板、２・・・金属薄膜磁性層、３・・・非磁
性粒子
媒体の断面図、第２図及び第３図は各々同金！ａ薄模型
磁気記録媒体の製造方法を説明する断面図である。 １・・・基板、２・・・金属薄膜磁性層、３・・・非磁
性粒子
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基板と、この基板上に形成された金属薄膜からなる
磁性層と、この磁性層の表面に埋設された磁性層の膜厚
よりも小さい平均粒子を有する非磁性粒子とを備えた金
属薄膜型磁気記録媒体。 ２、非磁性粒子は配化物である特許請求の範囲第１項記
載の金属薄膜型磁気記録媒体。 ３、非磁性粒子は炭化物である特許請求の範囲第１項記
載の金属薄膜型磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60195189A JPS6257122A (ja) | 1985-09-04 | 1985-09-04 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60195189A JPS6257122A (ja) | 1985-09-04 | 1985-09-04 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6257122A true JPS6257122A (ja) | 1987-03-12 |
Family
ID=16336931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60195189A Pending JPS6257122A (ja) | 1985-09-04 | 1985-09-04 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6257122A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5525942A (en) * | 1993-08-09 | 1996-06-11 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | LC-type dielectric filter and duplexer |
-
1985
- 1985-09-04 JP JP60195189A patent/JPS6257122A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5525942A (en) * | 1993-08-09 | 1996-06-11 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | LC-type dielectric filter and duplexer |
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