JPH0648873Y2 - マルチチップ実装構造 - Google Patents

マルチチップ実装構造

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JPH0648873Y2
JPH0648873Y2 JP3719589U JP3719589U JPH0648873Y2 JP H0648873 Y2 JPH0648873 Y2 JP H0648873Y2 JP 3719589 U JP3719589 U JP 3719589U JP 3719589 U JP3719589 U JP 3719589U JP H0648873 Y2 JPH0648873 Y2 JP H0648873Y2
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wiring
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bumps
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良一 落合
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Fujitsu Ltd
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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages

Description

【考案の詳細な説明】 〔概要〕 複数個の集積回路を集合実装させた回路モジュールでの
マルチチップ実装構造に関し、 良好な放熱特性と、接続配線の短縮化と、端子数の増加
が図れる実装構造の提供を目的とし、 片面に複数個の半導体装置或いは固体装置のチップをダ
イボンディングさせ、余白部に相互接続配線とパッドを
具え、配線上の外部接続位置にバンプを形成させた絶縁
層を設け、チップのパッドと絶縁層のパッドとをワイヤ
ボンディングさせ、他面に放熱部材を固着或いは一体に
成形させた金属基板と、片面に配線と、配線上の所定位
置にバンプを形成させ、他面の所定位置に配線に接続し
た外部接続用のリード端子を突設させた絶縁基板とから
構成され、金属基板と絶縁基板とを対向させ、バンプ同
士を一体に接合し、所定間隔に保持してなるように構成
する。
〔産業上の利用分野〕
本考案は、複数個の集積回路を集合実装させた回路モジ
ュールでのマルチチップ実装構造に関する。
電子装置の回路の大規模化や高速化に伴い、高集積度の
LSIを一つの基板に出来る目だけ多数実装することが必
要とされる。
このためには、LSIチップからの放熱と、回路モジュー
ルの接続端子の増大と、更に、消費電流の増大による供
給法等に工夫が必要である。
〔従来の技術〕
第2図(a)に従来の一例の構造断面図、同図(b)に
同底面図を示す。
従来の一例のマルチチップ実装構造は、第2図に示す如
く、複数のLSIのチップ1を搭載するセラミックの絶縁
基板85に、枠形の端子板86と、多数のフィンを一体に設
けたアルミの放熱部材65とを取付けて構成される。
絶縁基板85は、片面にチップ1をダイボンディングさ
せ、余白部に相互接続の配線25とパッド35,36を薄膜に
形成した絶縁層55が設けられ、チップ1とその周りのパ
ッド35とをワイヤボンディングにて接続し、配線25でチ
ップ1の相互接続を行うと共に、外部接続配線は、チッ
プ1の実装区域には端子が設けられないので、この中央
部を避けた基板周辺部に集められ、外部接続用パッド36
まで配線してある。尚、チップ1とワイヤボンディング
部分を保護するため保護コート87を施してある。
端子板86は、絶縁基板85の外形と同じ大きさの四角形の
枠で、2.54mm間隔二列で一周してリード端子37が植設さ
れ、他端が枠の内側面から表面接続型に引出された合成
樹脂成型品であり、絶縁基板85の所定位置に接着させれ
ば、パッド36にリード端子37の他端が重なり、リフロー
方式にて接続させる。
放熱部材65は、絶縁基板85のチップ1の搭載面の裏面に
密着固定させて、放熱し易くしてある。
〔考案が解決しようとする課題〕
しかしながら、 放熱経路が、チップ1絶縁基板85放熱部材65とな
り、金属に比べると熱伝導性が劣るセラミックをコスト
的に使用せざるを得ず、放熱性に余裕が持てない。
更に、高集積化かるに従い、絶縁基板85での多層配線
化が必要になり、基板厚が厚くなるため、益々熱抵抗が
増大し、放熱が悪化する。
リード端子37を絶縁基板85の周辺部にしか出せないた
め、入出力信号や電源供給等の外部接続端子数が不足し
たり、周辺部のリード端子37の位置まで配線25を延ばす
ため、電圧降下が大となり、電源雑音が乗り易い等で機
能特性が制約される。
等の問題点がある。
本考案は、かかる問題点に鑑みて、良好な放熱特性と、
接続配線の短縮化と、端子数の増加が図れる実装構造の
提供を目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
上記問題点は、第1図に示す如く、 片面に複数個の半導体装置或いは固体装置のチップ1を
ダイボンディングさせ、余白部に相互接続配線2とパッ
ド3を具え、配線2上の外部接続位置にバンプ4を形成
させた絶縁層5を設け、チップ1のパッドと絶縁層5の
パッド3とをワイヤボンディング9させ、他面に放熱部
材6を固着或いは一体に成形させた金属基板7と、片面
に配線21と、配線21上の所定位置にバンプ41を形成さ
せ、他面の所定位置に配線21に接続した外部接続用のリ
ード端子31を突設させた絶縁基板8とから構成され、金
属基板7と絶縁基板8とを対向させ、バンプ4,41同士を
一体に接合し、所定間隔に保持してなる、本考案のマチ
ルチップ実装構造により解決される。
〔作用〕
即ち、チップ1の放熱性では、放熱部材6を有する金属
基板7に直接固着させるので、最良の放熱取付け状態が
得られる。
又、外部接続配線は、チップ1の周りのパッド3から短
い配線2でバンプ4を設け、このバンプ4と、対向する
絶縁基板8に設けたバンプ41とを突き当て接合し、絶縁
基板8の配線21を経てリード端子31に導出される。
従って、絶縁基板8にはリード端子31と配線21とバンプ
41とが存るのみで、リード端子31を基板面の実装格子上
に配設する以外には何も制約がなく、端子配置を全面積
に拡張出来るので、配線の短縮化と数の増大が可能とな
る。
金属基板7の絶縁層5は、例えば、ポリイミド等で容易
に作成出来、その上に薄膜、厚膜或いは鍍金で配線2と
パッド3を形成させ、更に、配線2上の所定位置に、例
えば、金、半田、銅等のバンプ4を設けるもので、何れ
も公知の技術で行える。
又、絶縁基板8も同様に、例えば、セラミック基板を用
い、リード端子31用のスルーホールを設け、片面に薄膜
で配線21を作成して、端部にバンプ41を形成させてか
ら、スルーホールにリード端子31を挿入固着させたもの
である。
この金属基板7と絶縁基板8とを対向させ、バンプ4,41
同士を突き当て、例えば、金バンプなら熱圧着、半田バ
ンプならリフロー方式で容易に接合出来、基板の周辺部
で所定間隔に保持させればよい。
チップ1及びワイヤボンディング9の部分は、全面が対
向する絶縁基板8にて保護されるので、保護コートは不
要となるが、密封が必要であれば、所定間隔の保持機構
を考慮することにより、容易に適えることが可能であ
る。
かくして、良好な放熱特性と、接続配線の短縮化と、端
子数の増加が図れる実装構造の提供が可能となり、回路
モジュールのより高集積化に対処出来る。
〔実施例〕
以下図面に示す実施例によって本考案を具体的に説明す
る。
第1図(a)に本考案の一実施例の構造断面図、同図
(b)に同底面図を示す。
金属基板7は、アルミ板で、片面に9個のLSIの半導体
装置のチップ1を接着にてダイボンディングさせ、チッ
プ1を囲んで接続用のパッド3と、相互接続のための配
線2(多層配線も在る)を薄膜で形成させ、配線2上の
外部接続位置に金のバンプ4を形成させた、ポリイミド
樹脂の絶縁層5を余白部に設けてある。
金属基板7は、アルミ基板で、片面に9個のLSIの半導
体装置のチップ1を固着し、余白部表面にポリイミド樹
脂の絶縁層5を作成し、その上に相互接続用の多層の配
線2とパッド3を形成しており、他面には、全面に多数
の放熱フィン61を基板62に一体に垂設した放熱部材6が
密着接着してある。
チップ1は所定位置に接着にてダイボンディングし、チ
ップ1の周りに設けたパッド3と短くワイヤボンディン
グ9する。
チップ1間の接続は、パッド3相互を配線2で接続して
行う。
外部接続の入出力信号回路及び電源回路は、パッド3か
ら短い配線2で所定位置に金のバンプ4を設けてある。
この金属基板7に対向して取付けられる絶縁板8は、多
層構造のセラミック板で、片面に、金属基板7のバンプ
4と対向した位置に金のバンプ41が配線21の上に設けら
れ、配線21は多層構造により反対面側まで導出され、2,
54mmピッチの実装格子の身近な任意位置にリード端子31
の設置用のパッド32を形成している。
一端部がヘッディングにより平らで端面積が拡大された
座を有するリード端子31は、その端面を前記パッド32に
突き当てて圧接接着して設ける。
かくして、チップ1を取付けた金属基板7と、リード端
子31を設けた絶縁基板8とを、バンプ4,41同士が突き当
たる状態に対向させ、所定対向間隔に、一体に熱圧着接
合を行い、終りに、基板の縁部の間隙に枠形の銀蝋のシ
ール部材81を挟み、リフロー方式にて封止し、チップ1
と接続、接合部分を密封して高信頼性を図っている。
上記実施例は一例を示し、各部の材料、寸法、個数、配
線2,21の層数及び絶縁基板8での配線21とリード端子31
の構成方法、密封方法は上記のものに限定するものでは
ない。
〔考案の効果〕
以上の如く、本考案の実装構造により、LSIのチップか
らの放熱特性を大幅に改善出来ると共に、モジュールか
らの入出力端子を2倍〜10倍と大幅に増加が可能であ
り、更に、配線の引き回しに自由度を得たことにより、
短縮化や相互の誘導を防止させることが可能となり、回
路モジュールのより高集積化に対処出来、の実用的効果
は大なるものがある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例、 第2図は従来の一例の構造図である。 図において、 1はチップ、2,21,25は配線、 3,32,35,36はパッド、4,41はバンプ、 5,55は絶縁層、6,65は放熱部材、 7は金属基板、8,85は絶縁基板、 9はワイヤボンディング、 31,37はリード端子、61はフィン、 62は基板、81はシール部材、 86は端子板、87は保護コートである。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】片面に複数個の半導体装置或いは固体装置
    のチップ(1)をダイボンディングさせ、余白部に相互
    接続配線(2)とパッド(3)を具え、該配線(2)上
    の外部接続位置にバンプ(4)を形成させた絶縁層
    (5)を設け、該チップ(1)のパッドと該絶縁層
    (5)のパッド(3)とをワイヤボンディング(9)さ
    せ、他面に放熱部材(6)を固着或いは一体に成形させ
    た金属基板(7)と、 片面に配線(21)と、該配線(21)上の所定位置にバン
    プ(41)を形成させ、他面の所定位置に該配線(21)に
    接続した外部接続用のリード端子(31)を突設させた絶
    縁基板(8)とから構成され、 該金属基板(7)と該絶縁基板(8)とを対向させ、該
    バンプ(4)(41)同士を一体に接合し、所定間隔に保
    持してなることを特徴とするマルチチップ実装構造。
JP3719589U 1989-03-30 1989-03-30 マルチチップ実装構造 Expired - Lifetime JPH0648873Y2 (ja)

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JPH02127040U JPH02127040U (ja) 1990-10-19
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