JPH0649660B2 - シクロヘキサンの精製方法 - Google Patents
シクロヘキサンの精製方法Info
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- JPH0649660B2 JPH0649660B2 JP2087461A JP8746190A JPH0649660B2 JP H0649660 B2 JPH0649660 B2 JP H0649660B2 JP 2087461 A JP2087461 A JP 2087461A JP 8746190 A JP8746190 A JP 8746190A JP H0649660 B2 JPH0649660 B2 JP H0649660B2
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- Japan
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- cyclohexane
- methylcyclopentenes
- crude
- hydrogenation
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、シクロヘキサンの精製方法に関し、さらに詳
しくは、シクロヘキサンの工業的用途において要求され
る高純度シクロヘキサンを採取するに当たり、特にメチ
ルシクロペンテン類を含有する粗シクロヘキサンを精製
する方法に関するものである。
しくは、シクロヘキサンの工業的用途において要求され
る高純度シクロヘキサンを採取するに当たり、特にメチ
ルシクロペンテン類を含有する粗シクロヘキサンを精製
する方法に関するものである。
（従来の技術） シクロヘキサンは重要な工業中間原料であり、ベンゼン
の水素化により製造されている。製品シクロヘキサンに
要求される純度は極めて高く、ベンゼンの水素化におい
て、未反応エンゼン量を低減したり、他の副反応生成
物、例えば、環状メチル化合物などを低く抑えるなどの
工夫をしているのが普通である。このようなベンゼンの
単純な水素化によるシクロヘキサンの製造方法は、工業
的完成度が高く、また、プロセスや反応が単純なため、
製品シクロヘキサンにオレフィン類が混在もしくは残存
することはほとんどない。本発明が意図する技術は、従
来の単純なシクロヘキサンの製造方法に関わるものとは
異なり、例えば、以下のごとき場合に適用される新しい
技術である。
の水素化により製造されている。製品シクロヘキサンに
要求される純度は極めて高く、ベンゼンの水素化におい
て、未反応エンゼン量を低減したり、他の副反応生成
物、例えば、環状メチル化合物などを低く抑えるなどの
工夫をしているのが普通である。このようなベンゼンの
単純な水素化によるシクロヘキサンの製造方法は、工業
的完成度が高く、また、プロセスや反応が単純なため、
製品シクロヘキサンにオレフィン類が混在もしくは残存
することはほとんどない。本発明が意図する技術は、従
来の単純なシクロヘキサンの製造方法に関わるものとは
異なり、例えば、以下のごとき場合に適用される新しい
技術である。
シクロヘキサンの工業用途は、その多くが酸化反応によ
ってシクロヘキサノン、シクロヘキサノール混合物（以
下「オロン」と略す）を得るためのものである。しか
し、最近において、オロンではなく、純水のシクロヘキ
サノールを得る方法が例えば、特開昭６３−１５６７３
６号公報、特公平１−３３４５３号公報などで検討され
ている。こられの方法は、ベンゼンを部分水素化してシ
クロヘキセンとシクロヘキサンの混合物を得、このうち
シクロヘキセンを酸触媒の存在下に水和してシクロヘキ
サノールを得ようとするものであり、従来のオロン製造
法とは技術的に全く異なるものであり、工業的価値も高
い。しかし、一方では、シクロヘキセンの酸触媒による
水和反応においては、シクロヘキサノール以外に多少な
りともシクロヘキセンの異性化物であるメチルシクロペ
ンテン類を副生することがわかっている（例えば、特公
平１−３３４５３号公報）。このメチルシクロペンテン
類は、最終的には部分水素化反応のもうひとつの生成物
であるシクロヘキサンとともに取り出すことがシクロヘ
キサノール製造プロセス上最適であることが、本発明者
らの別の検討で明らかとなっている。ここに、従来にな
いメチルシクペンテンを含有する粗シクロヘキサンが得
られることになるが、前述のごとく、シクロヘキサンの
工業的な要求純度が高く、該粗シクロヘキサンを精製す
る新しい技術が必要となるのである。
ってシクロヘキサノン、シクロヘキサノール混合物（以
下「オロン」と略す）を得るためのものである。しか
し、最近において、オロンではなく、純水のシクロヘキ
サノールを得る方法が例えば、特開昭６３−１５６７３
６号公報、特公平１−３３４５３号公報などで検討され
ている。こられの方法は、ベンゼンを部分水素化してシ
クロヘキセンとシクロヘキサンの混合物を得、このうち
シクロヘキセンを酸触媒の存在下に水和してシクロヘキ
サノールを得ようとするものであり、従来のオロン製造
法とは技術的に全く異なるものであり、工業的価値も高
い。しかし、一方では、シクロヘキセンの酸触媒による
水和反応においては、シクロヘキサノール以外に多少な
りともシクロヘキセンの異性化物であるメチルシクロペ
ンテン類を副生することがわかっている（例えば、特公
平１−３３４５３号公報）。このメチルシクロペンテン
類は、最終的には部分水素化反応のもうひとつの生成物
であるシクロヘキサンとともに取り出すことがシクロヘ
キサノール製造プロセス上最適であることが、本発明者
らの別の検討で明らかとなっている。ここに、従来にな
いメチルシクペンテンを含有する粗シクロヘキサンが得
られることになるが、前述のごとく、シクロヘキサンの
工業的な要求純度が高く、該粗シクロヘキサンを精製す
る新しい技術が必要となるのである。
以上メチルシクロペンテン類を含有する粗シクロヘキサ
ンの例を示したが、本発明方法を適用できる範囲は、当
然のことながらこの例に限られるものではない。
ンの例を示したが、本発明方法を適用できる範囲は、当
然のことながらこの例に限られるものではない。
（発明が解決しようとする課題） 従来、メチルシクロペンテン類を例えば数千ppm以上含
むような粗シクロヘキサンは、従来のベンゼンの水素化
反応によって得られるものとは全く異なり、したがっ
て、その精製方法も知られていない。例えば、該粗シク
ロヘキサンからメチルシクロペンテン類を単なる蒸留操
作によって分離しようとすると、シクロヘキサンとメチ
ルシクロペンテン類との比揮発度が極めて１に近いた
め、実質的に不可能である。また、抽出蒸留による分離
も考えられるが、やはり比揮発度が小さく、また、抽出
溶媒という新たな成分を必要とするため、工業的にみて
価値のある方法とは言いがたい。
むような粗シクロヘキサンは、従来のベンゼンの水素化
反応によって得られるものとは全く異なり、したがっ
て、その精製方法も知られていない。例えば、該粗シク
ロヘキサンからメチルシクロペンテン類を単なる蒸留操
作によって分離しようとすると、シクロヘキサンとメチ
ルシクロペンテン類との比揮発度が極めて１に近いた
め、実質的に不可能である。また、抽出蒸留による分離
も考えられるが、やはり比揮発度が小さく、また、抽出
溶媒という新たな成分を必要とするため、工業的にみて
価値のある方法とは言いがたい。
すなわち、もっと簡便で有効な該粗シクロヘキサンの精
製方法が強く望まれるのである。
製方法が強く望まれるのである。
（課題を解決するための手段） 本発明者らは、かかるメチルシクロペンテン類を含有す
る粗シクロヘキサンを簡便に、かつ、確実に精製する方
法を鋭意検討した結果、メチルシクロペンテン類を水素
化してメチルシクロペンタンとし、次に蒸留によって精
製する方法が最も適した手段であるとの結論に達し、本
発明を完成するに至った。
る粗シクロヘキサンを簡便に、かつ、確実に精製する方
法を鋭意検討した結果、メチルシクロペンテン類を水素
化してメチルシクロペンタンとし、次に蒸留によって精
製する方法が最も適した手段であるとの結論に達し、本
発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、メチルシクロペンテン類を含有す
る粗シクロヘキサンから高純度のシクロヘキサンを採取
するに際し、該粗シクロヘキサンを触媒の存在下に水素
化処理をしてメチルシクロペンテン類をメチルシクロペ
ンタンとし、次に蒸留によって塔頂よりメチルシクロペ
ンタンを分離除去することを特徴とするシクロヘキサン
の精製方法である。
る粗シクロヘキサンから高純度のシクロヘキサンを採取
するに際し、該粗シクロヘキサンを触媒の存在下に水素
化処理をしてメチルシクロペンテン類をメチルシクロペ
ンタンとし、次に蒸留によって塔頂よりメチルシクロペ
ンタンを分離除去することを特徴とするシクロヘキサン
の精製方法である。
以下、本発明の具体的な実施態様を説明する。
本発明方法によって精製しようとする粗シクロヘキサン
とは、主にメチルシクロペンテン類を不純物として含有
するものである。ここでメチルシクロペンテン類とは、
１−メチルシクロペンテン、３−メチルシクロペンテン
および４−メチルシクロペンテンをいい、特に１−メチ
ルシクロペンテン、３−メチルシクロペンテンをいう。
メチルシクロペンテン類の含有量としては、該粗シクロ
ヘキサン中の重量分率として０．０１ないし数十％であ
る。また、該粗シクロヘキサン中にはメチルシクロペン
テン類以外に他の不純物、例えばベンゼンやシクロヘキ
セン、さらには炭素数１から６の炭化水素を含んでいて
もさしつかえない。ベンゼンやシクロヘキセンは、後述
する水素化処理によってシクロヘキサンとすることがで
きる一方、炭素数１から６の炭化水素は、本発明方法に
おける蒸留操作によって塔頂より容易に除去することが
できるからである。
とは、主にメチルシクロペンテン類を不純物として含有
するものである。ここでメチルシクロペンテン類とは、
１−メチルシクロペンテン、３−メチルシクロペンテン
および４−メチルシクロペンテンをいい、特に１−メチ
ルシクロペンテン、３−メチルシクロペンテンをいう。
メチルシクロペンテン類の含有量としては、該粗シクロ
ヘキサン中の重量分率として０．０１ないし数十％であ
る。また、該粗シクロヘキサン中にはメチルシクロペン
テン類以外に他の不純物、例えばベンゼンやシクロヘキ
セン、さらには炭素数１から６の炭化水素を含んでいて
もさしつかえない。ベンゼンやシクロヘキセンは、後述
する水素化処理によってシクロヘキサンとすることがで
きる一方、炭素数１から６の炭化水素は、本発明方法に
おける蒸留操作によって塔頂より容易に除去することが
できるからである。
粗シクロヘキサンの水素化処理は、触媒の存在下におい
て気相でも液相でも行うことができる。触媒としては、
通常のオレフィン水素化用触媒や芳香族炭化水素の水素
化用触媒を用いればよく、具体的にはNi触媒やPt,Pd,Ru
などの貴金属触媒が挙げられ、経済的観点からはNi触媒
が好適である。水素化処理条件としては不純物の含有量
にもよるが、通常室温ないし３００℃、好ましくは５０
ないし２００℃の温度範囲、１ないし１００気圧、好ま
しくは５ないし５０気圧の水素圧力範囲で行う。反応形
式としては特に制限はないが、固定床式のいわゆるトリ
クルベッド型の反応方法は好ましく用いることができ
る。このような水素化処理によって、粗シクロヘキサン
中のメチルシクロペンテン類のほとんどすべてをメチル
シクロペンタンに転化させることができる。
て気相でも液相でも行うことができる。触媒としては、
通常のオレフィン水素化用触媒や芳香族炭化水素の水素
化用触媒を用いればよく、具体的にはNi触媒やPt,Pd,Ru
などの貴金属触媒が挙げられ、経済的観点からはNi触媒
が好適である。水素化処理条件としては不純物の含有量
にもよるが、通常室温ないし３００℃、好ましくは５０
ないし２００℃の温度範囲、１ないし１００気圧、好ま
しくは５ないし５０気圧の水素圧力範囲で行う。反応形
式としては特に制限はないが、固定床式のいわゆるトリ
クルベッド型の反応方法は好ましく用いることができ
る。このような水素化処理によって、粗シクロヘキサン
中のメチルシクロペンテン類のほとんどすべてをメチル
シクロペンタンに転化させることができる。
メチルシクロペンタンを含むシクロヘキサンは、次に蒸
留によって高純度シクロヘキサンに精製する。蒸留操作
は常圧下においても、また、減圧下、加圧下においても
実施することができ、適宜選択すればよい。この蒸留に
よって、メチルシクロペンタンに富んだ留出液を塔頂よ
り除去し、塔底より極めて高純度のシクロヘキサンを採
取することができる。また、粗シクロヘキサン中にシク
ロヘキサン、メチルシクロペンテン類以外の炭素数１か
ら６の炭化水素が含まれていても、この蒸留操作によっ
て、メチルシクロペンタンとともに容易に塔頂から除去
することができる。
留によって高純度シクロヘキサンに精製する。蒸留操作
は常圧下においても、また、減圧下、加圧下においても
実施することができ、適宜選択すればよい。この蒸留に
よって、メチルシクロペンタンに富んだ留出液を塔頂よ
り除去し、塔底より極めて高純度のシクロヘキサンを採
取することができる。また、粗シクロヘキサン中にシク
ロヘキサン、メチルシクロペンテン類以外の炭素数１か
ら６の炭化水素が含まれていても、この蒸留操作によっ
て、メチルシクロペンタンとともに容易に塔頂から除去
することができる。
以上のごとき本発明方法によって得られるシクロヘキサ
ンの純度は、工業的に要求される純度として充分以上で
あり、具体的には９９％以上、または９９．５％以上、
さらには９９．９％以上のシクロヘキサンを取得するこ
とができる。
ンの純度は、工業的に要求される純度として充分以上で
あり、具体的には９９％以上、または９９．５％以上、
さらには９９．９％以上のシクロヘキサンを取得するこ
とができる。
（発明の効果） 本発明方法によってメチルシクロペンテン類を含有する
粗シクロヘキサンを精製して、極めて高純度のシクロヘ
キサンを取得することができ、その工業的価値は高い。
粗シクロヘキサンを精製して、極めて高純度のシクロヘ
キサンを取得することができ、その工業的価値は高い。
（実施例） 以下、実施例をもって本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明は、これらの例によってなんら限定されるも
のではない。
が、本発明は、これらの例によってなんら限定されるも
のではない。
実施例 ＜粗シクロヘキサンの水素化処理＞ シクロヘキサン９３．０重量％、メチルシクロペンテン
類４．５重量％、その他の不純物としてシクロヘキセン
２．０重量％、炭素数４から６の飽和炭化水素０．５重
量％を含有する粗シクロヘキサンを、水素化処理装置に
１．０kg/Hrで供給し、粗シクロヘキサンの水素化処理
を連続的に行った。水素化処理装置には水素化触媒とし
てNi触媒（日産ガードラー社製Ｇ−３３）５００ｇを充
填し、入口温度を１２０℃に制御しつつ、５０気圧の水
素圧下で行った。処理後の液を連続的に取り出し、その
組成を分析したところ、シクロヘキサン９４．９重量
％、メチルシクロペンタン４．６重量％、炭素数４から
６の飽和炭化水素０．５重量％であり、メチルシクロペ
ンテン類、シクロヘキセンは０．０１重量％以下であ
り、ほとんど検出されなかった。
類４．５重量％、その他の不純物としてシクロヘキセン
２．０重量％、炭素数４から６の飽和炭化水素０．５重
量％を含有する粗シクロヘキサンを、水素化処理装置に
１．０kg/Hrで供給し、粗シクロヘキサンの水素化処理
を連続的に行った。水素化処理装置には水素化触媒とし
てNi触媒（日産ガードラー社製Ｇ−３３）５００ｇを充
填し、入口温度を１２０℃に制御しつつ、５０気圧の水
素圧下で行った。処理後の液を連続的に取り出し、その
組成を分析したところ、シクロヘキサン９４．９重量
％、メチルシクロペンタン４．６重量％、炭素数４から
６の飽和炭化水素０．５重量％であり、メチルシクロペ
ンテン類、シクロヘキセンは０．０１重量％以下であ
り、ほとんど検出されなかった。
＜蒸留による高純度シクロヘキサンの取得＞ 上記の水素化処理を経た液を、濃縮部２０段、回収部２
０段を有する蒸留塔に１．０kg/Hrで連続的に供給し、
シクロヘキサンの精製を行った。還流比は４０で行い、
塔頂から約０．０９kg/Hrで留出液を連続的に抜き出
し、その組成を分析したところ、シクロヘキサン４４．
７重量％、メチルシクロペンタン４９．９重量％、炭素
数４から６の飽和炭化水素５．４重量％であった。この
とき塔底から連続的に採取される液の組成は、シクロヘ
キサン９９．９７重量％、メチルシクロペンタン０．０
３重量％であり、極めて高純度のシクロヘキサンを取得
することができた。
０段を有する蒸留塔に１．０kg/Hrで連続的に供給し、
シクロヘキサンの精製を行った。還流比は４０で行い、
塔頂から約０．０９kg/Hrで留出液を連続的に抜き出
し、その組成を分析したところ、シクロヘキサン４４．
７重量％、メチルシクロペンタン４９．９重量％、炭素
数４から６の飽和炭化水素５．４重量％であった。この
とき塔底から連続的に採取される液の組成は、シクロヘ
キサン９９．９７重量％、メチルシクロペンタン０．０
３重量％であり、極めて高純度のシクロヘキサンを取得
することができた。
比較例 水素化処理を行わず、実施例と同じ粗シクロヘキサンを
実施例と同様にして蒸留操作を行った。塔底から連続的
に採取されるシクロヘキサンの純度は粗シクロヘキサン
並であり、炭素数４から６の飽和炭化水素は塔頂に除去
されるものの、メチルシクロペンテン類はほとんど減少
せず、粗シクロヘキサンの精製はできなかった。
実施例と同様にして蒸留操作を行った。塔底から連続的
に採取されるシクロヘキサンの純度は粗シクロヘキサン
並であり、炭素数４から６の飽和炭化水素は塔頂に除去
されるものの、メチルシクロペンテン類はほとんど減少
せず、粗シクロヘキサンの精製はできなかった。
Claims (1)
- 【請求項１】メチルシクロペンテン類を含有する粗シク
ロヘキサンから高純度のシクロヘキサンを採取するに際
し、該粗シクロヘキサンを触媒の存在下に水素化処理を
してメチルシクロペンテン類をメチルシクロペンタンと
し、次に蒸留によって塔頂よりメチルシクロペンタンを
分離除去することを特徴とするシクロヘキサンの精製方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2087461A JPH0649660B2 (ja) | 1990-04-03 | 1990-04-03 | シクロヘキサンの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2087461A JPH0649660B2 (ja) | 1990-04-03 | 1990-04-03 | シクロヘキサンの精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03287548A JPH03287548A (ja) | 1991-12-18 |
| JPH0649660B2 true JPH0649660B2 (ja) | 1994-06-29 |
Family
ID=13915521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2087461A Expired - Lifetime JPH0649660B2 (ja) | 1990-04-03 | 1990-04-03 | シクロヘキサンの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0649660B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4687849B2 (ja) * | 2001-04-05 | 2011-05-25 | Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 | 高純度ジイソプロピルエーテルおよびその製法 |
| EA032895B1 (ru) * | 2014-04-22 | 2019-07-31 | Басф Се | Способ получения циклогексана из бензола и метилциклопентана с предварительным гидрированием бензола |
| CN106397088B (zh) * | 2016-09-13 | 2019-05-14 | 中国天辰工程有限公司 | 一种环己烯法制环己酮副产环己烷高效精制的方法 |
| CN113248341B (zh) * | 2021-05-21 | 2023-11-24 | 重庆华峰化工有限公司 | 一种环己烯制备甲基环戊烷的装置及工艺 |
-
1990
- 1990-04-03 JP JP2087461A patent/JPH0649660B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03287548A (ja) | 1991-12-18 |
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