JPH0649896B2 - 溶鋼の脱ガス・脱りん方法 - Google Patents

溶鋼の脱ガス・脱りん方法

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JPH0649896B2
JPH0649896B2 JP63275481A JP27548188A JPH0649896B2 JP H0649896 B2 JPH0649896 B2 JP H0649896B2 JP 63275481 A JP63275481 A JP 63275481A JP 27548188 A JP27548188 A JP 27548188A JP H0649896 B2 JPH0649896 B2 JP H0649896B2
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molten steel
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修平 小野山
直人 堤
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Nippon Steel Corp
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Nippon Steel Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、極低りん鋼(例えば〔P〕<50ppm)を溶鋼
段階にて脱りんを行って製造する場合、或いは鋼材品質
上要求される〔P〕レベルに対して溶鋼の〔P〕レベル
が高く品質要求レベルまで溶鋼脱りんを行わざるを得な
い場合に、真空脱ガス設備において〔C〕レベルに応じ
て脱ガス槽内真空度を制御することによって溶鋼脱りん
を効率的に行う方法に関するものである。
(従来の技術) 従来の真空脱ガス槽を用いた溶鋼の脱りん方法として
は、特開昭62-205221号公報(溶鋼の脱ガス、脱燐方
法)記載の方法がある。これは、真空脱ガス槽内下部に
設けた粉体吹き込み羽口を通してフリー酸素100〜8
00ppmの溶鋼に粉体脱りん剤を吹き込む事を特徴とす
るものである。しかしながらこの方法によれば、真空脱
ガス設備の特性上、脱りん反応と同時に脱炭反応が生じ
る。すなわち、以下に示す様に脱炭反応・脱りん反応は
ともに酸化反応であるため脱ガス槽内で溶鋼中のフリー
酸素を互いに奪いあい、その結果として脱りん反応速度
が低下するという短所がある。
脱炭反応 C+O=CO 脱りん反応 4CaO+2P+50=4CaO・P2O5 (発明が解決しようとする課題) 本発明は、従来技術の有する脱炭反応と脱りん反応が同
時に起こり、互いに酸素を奪い合うことによって脱りん
速度が低下するという欠点に対して、脱りん剤吹き込み
時に脱ガス槽内の真空度を〔C〕レベルに応じて特定の
真空度範囲に制御することによって脱炭反応と脱りん反
応が互いに競合しない条件下で優先的に脱りんを行うこ
とによって克服するものである。
(課題を解決するための手段) 本発明の要旨とするところは、真空脱ガス槽内の未脱酸
溶鋼(フリー酸素>100ppm)に脱りん剤を吹き込
み、〔C〕レベルに応じて脱ガス槽内真空度を制御して
脱ガス・脱りん処理を行うに際して、〔C〕レベルに応
じた脱ガス槽内真空度を以下に示す範囲に制御すること
を特徴とする溶鋼の脱ガス・脱りん方法にある。
〔C〕<40ppmの場合 真空度>{307.7×log〔C〕(ppm)-454.5} torr 〔C〕≧40ppmの場合 真空度>{100.0×log〔C〕(ppm)-120.0} torr 即ち、本発明は以上に述べた従来技術が有する問題点
を、脱りん剤を吹き込み溶鋼の脱ガス・脱りんを行う際
に、溶鋼の〔C〕レベルに応じて脱りん剤吹き込み中の
脱ガス槽内の真空度を特定の範囲に制御し、脱炭反応と
脱りん反応の競合を避け、脱りん速度の向上を図ること
によって解決するものである。
次に第1図に基づいて、本発明の一例について詳細をの
べる。
第1図はRH真空脱ガス設備での例を示すもので、1は
真空脱ガス槽、2は排気孔、3は溶鋼、4は取鍋、5は
粉体脱りん剤吹き込み羽口、6は粉体供給配管、7は脱
りん剤供給装置、8はキャリアーガス体、9は脱ガス槽
内真空度測定装置、10は真空排気設備である。
本発明は、真空脱ガス処理中に脱りん剤供給装置7から
粉体供給配管6を経由して粉体吹き込み羽口5より溶鋼
3中へ脱りん剤を吹き込み溶鋼脱りんを行う際に、溶鋼
の〔C〕レベルに応じて真空排気設備10(エゼクター
等)をON・OFFし、吸引ガス量を加減することによ
って槽内真空度測定装置9にて測定される真空度を制御
するものである。この際、フリー酸素レベルは100〜
800ppmにするのが反応効率上、又、耐火物溶損防止
の観点から望ましい。
第2図は〔C〕レベルと槽内真空度の最適制御範囲を示
すもので、その制御範囲は〔C〕<40ppmの場合は 真空度>{307.7×log〔C〕ppm-454.5}torr〔C〕≧4
0ppmの場合は 真空度>{100.0×log〔C〕ppm-120.0}torrに制御す
るものである。即ち、〔C〕<40ppmの極低炭素レベ
ルにおいては、高真空状態でも脱炭反応が停滞するた
め、脱りん反応は高真空状態でも効率的に起こる。しか
し、40ppm≦〔C〕の範囲では低真空状態でも脱炭反
応が起こるため脱りん反応を効率的に行うためには真空
度を低く制御する必要がある。ここで、高〔C〕材(例
えば〔C〕=0.15%)に関しては、真空度を制御しても
脱炭反応を皆無にすることは不可能であり、脱りん剤吹
き込み終了後に加炭剤によって加炭せざるを得ない。こ
の際、加炭剤を脱りん剤吹き込み中に添加すると溶鋼中
のフリー酸素レベルを低下させることになるため、脱り
ん速度は低下する。
従って、高〔C〕材については脱りん中の真空度は低け
れば低い程好ましい。一方では粉体吹き込み羽口は溶鋼
に浸漬していなければ吹き込んだ粉体が溶鋼表面に浮遊
したり、真空排気設備に吸引されて脱りん反応に寄与し
ないため、脱りん効率が悪化する。従って、脱ガス槽の
下方部に配置した粉体吹き込み羽口が、該脱ガス槽内を
真空排気したことによって取鍋内の溶鋼が浸漬管を介し
て上昇して脱ガス槽内に至り、上記羽口が浸漬された状
態の溶鋼深さとなる時の真空度が最低真空度となる。従
って、該羽口の設置位置によって若干相違が生じるが、
設置位置を下方とすることにより真空度制御範囲が拡大
される。
(実施例) 下記条件において、従来技術と本発明方法の脱りん速度
を比較した例を第3図に示す。本実施例は品質要求
〔C〕レベル50ppmの250tの溶鋼(フリー酸素=
450ppm)に対し、脱りん剤(65%CaO・35%Ca
F2)を100Nm3/hのArガスにて100kg/minの速度で
4kg/t吹き込んだ場合の脱りん挙動を真空度を1torrに
制御した場合と本発明に基づき80torrに制御した場合
とを各々2回ずつ行い比較したものである。
第3図に示す様に、本発明を適用し真空度制御を実施す
ることによって、大幅な脱りん速度向上効果を得ること
ができる。これによって、従来よりも初期〔P〕が高い
状態でも安定して脱りんすることが可能となり又同一脱
りん効果を得るために必要となる脱りん剤原単位が少な
くなると同時に脱りん剤による溶鋼の温度下がりも少な
くなる上、脱りん剤吹き込み時間も短くてすむためRH
処理時間も短縮でき、溶鋼脱りんコストを大幅に削減す
ることが可能となる。
(発明の効果) 本発明によれば、真空脱ガス装置において溶鋼脱りんを
行う際に、従来方法と比較して少ない脱りん剤で効率的
に脱りんを行うことができるため、脱りん剤原単位削減
およびこれに伴う溶鋼温度低下代の低減・RH処理時間
の短縮が可能となり、脱りん処理コストの大幅な削減が
可能となる。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明を適用した装置例を示す図、第2図は本
発明の限定範囲を具体的に示す図、第3図は本発明の効
果を従来方法と比較したものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】真空脱ガス槽内の未脱酸溶鋼(フリー酸素
    >100ppm)に脱りん剤を吹き込み、〔C〕レベルに
    応じて脱ガス槽内真空度を制御して脱ガス・脱りん処理
    を行うに際して、〔C〕レベルに応じた脱ガス槽内真空
    度を以下に示す範囲に制御することを特徴とする溶鋼の
    脱ガス・脱りん方法。 〔C〕<40ppmの場合 真空度>{307.7×log〔C〕(ppm)-454.5}torr 〔C〕≧40ppmの場合 真空度>{100.0×log〔C〕(ppm)-120.0}torr
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JPS53106603A (en) * 1977-03-02 1978-09-16 Nippon Steel Corp Treating apparatus for rh degassing
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