JPH06501112A - コンタクトレンズ洗浄システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 コンタクトレンズ洗浄システム 背景 コンタクトレンズの装着者にとって最も大きな問題の一つは、コンタクトレンズ を洗浄したり消毒しなければならないことである。汚れや微生物がレンズと共に 眼中に侵入してほしくない場合には、各コンタクトレンズの種類に応じて特定の 行程、材料及び処理計画を使用して、コンタクトレンズを洗浄したり、浸漬した り消毒したりしなければならない。あらゆる推奨にもかかわらず、レンズ装着者 はレンズの衛生状態が悪いことから眼の問題に悩んでおり、多くのレンズ装着者 は、眼に汚れや微生物を導入するコンタクトレンズからの眼の問題を避けるのに 足る信頼できる提案された手順に従っていないことがよく知られている。

コンタクトレンズの衛生状態の問題を解決するために、私の発明はコンタクトレ ンズの消毒にオゾン洗浄を応用する。そうすることに際し、廉価に製造され、使 用者にとって操作が容易で都合のよい簡便で有効なシステムに焦点を合わせた。

コンタクトレンズを洗浄する私のシステムは、簡便で信頼性のあるレンズの消毒 についての装着者の要望を容易に実現し、装着者による煩わしさが可及的に少な くてすみ、失敗の確率を最低限にする。小さくて廉価なレンズ洗浄装置を用いて 目的を達成することは複雑な問題であるが、本出願に開示されている幾つかの実 施態様により、種々の技術レベルで解決されている。これらの実施態様はレンズ を洗浄するのにオゾンを使用し、それらはオゾンを発生させ、そのオゾンを、現 存する技術のオゾン洗浄の規模をほぼ１０００　：　１に減縮させたことを示す システムにおいてレンズにオゾンを施用する。

発明の概要 私のコンタクトレンズ洗浄システムは、消毒しようとするレンズを液体中に溶解 しているか若しくはガス状態又はその双方の状態のオゾンと接触させる。レンズ はオゾンとの接触が起こる処理室中に保持されるが、その間、レンズを洗浄用液 体中に沈めるか又はレンズに洗浄用液体を噴霧する。発生装置はオゾンを発生さ せ、ガス用ポンプ、液体用ポンプまたはこれら双方を含むことのできるポンプ装 置は発生したオゾンと洗浄用液体とを混合し、一方又は双方をレンズと接触させ る。私のシステムは、洗浄のためレンズを都合のよい位置に保持でき、且つレン ズを消毒するためにオゾン発生装置とポンプ装置を自動的に操作できる機能的な 装置も包含する。適切な洗浄の時刻を定め、且つ検知することができ、そして装 置から漏れるるオゾンは無視しうるちのである。

図面 すべての図面は、私のコンタクトレンズ洗浄システムの好適な種々の実施態様の 部分路線図である。各実施態様は、オゾン発生装置、コンタクトレンズを洗浄で きるレンズ室、オゾン及び洗浄用液体を接触させるポンプ装置、漏れたオゾンの 濃度を減少させる還元装置、並びにレンズ洗浄が起こることを確実にする制御装 置を含む。図面の種々の実施態様はお互い次ぎのように異なる。

路及びガス／液分離装置を含む循環路中に洗浄用液体をポンプ送りするために配 置されたガスポンプを示す。

図２は、循環路中に洗浄用液体とオゾン含有ガスとの双方をポンプ送りをするた めに配！したポンプを示す。

図３は、ガス／液分離装置を含む循環路中のオゾン含有ガスと液体が合わされる ベンチュリー管中を通過して液体を強制送りするために配置した液体用ポンプを 示す。

図４は、オゾン発生装置中にオゾン含有ガスを通過させ、ガス状オゾンと溶解し たオゾンの双方によりレンズが接触するレンズ室に直接強制送りするために配置 したガス用ポンプを示す。

図５は、オゾン発生装置中を通過させ、且つコンタクトレンズに噴霧する洗浄用 液体とオゾンを合わせるベンチュリー噴霧ノズル中を通過してオゾン含有ガスを 強制送りするために配置したガス用ポンプを示す。

図６は、洗浄用液体とコンタクトレンズに噴霧を向けるノズル中を通過して液体 を連行するオゾン含有ガスとの混合物を強制送りするために配置した液体用ポン プを示す。

詳細な記述 上記図面の好適な実施態様は、簡便さ、信頼度、安全度、経費及び機能性などの 特徴における比較利点を有する。かかる特徴の種々の組み合わせを使用する異な る実施態様は、種々のタイプのコンタクトレンズにとって、又は種々の要望をも つ使用者にとって好適でありうる。図面の番号順にこれらの実施態様について説 明するが、これは重要度の順を暗示するものではない。また、図面中に例証した 種々の特徴の幾らかは種々の実施態様中で相互変換でき、これらの図面は組合わ すことのできる種々の特徴を例証するために整えたもので、特徴のうちの−の組 合せを他のものからの限界を定めるものではない。

図１のシスタム１０は、エアポンプ１１を原動力として使用し、必要なガスと液 との流れを起こしシステムの作動をっ（る。エアポンプ１１は、好ましくは、オ ゾン発生装置１５の上流に配置され、その結果、発生装置１５中を通過してエア を推し進めることができ、エアとオゾンの混合物を産生ずる。オゾン環境が取り 扱う殆どのポンプにとって、非常に腐食性で問題があるとき以外は、ポンプ１１ はオゾン発生装置の下流に配置できるであろう。

オゾン発生装置１５から排出したエア及びオゾン混合物は、レンズ室２０から洗 浄液２５も受ける室１３への入口に配置したディフューザー１２に送られる。

ディフューザー１２は多孔性であり、ガスを、好ましくは、多（の泡１４にガス 流を分割する方法でガスを通過して流さす。エアストーン（ａｆｒ　５ｔｏｎｅ ｓ）やその他の材料がディフューザー１２のために入手できるが、私は、エア及 びオゾン混合物を通過して流れさせるが液２５の流れが逆方向になるのに抵抗す る多孔性の疎水性樹脂材料が好ましい。従って、ディフューザー１２は、洗浄液 ２５を発生装置１５に逆流しないことを確実にする液体バリヤとして作用できる 。これは、発生装置１５の好適形態がコロナ放電装置であり、もし液体が侵入し た場合故障する可能性があるので重要である。

液体が発生装置１５に侵入しないことを確実にする別の方法は、発生装置１５か らの排出をシステム内で洗浄液の準位よりも高い準位にし、その結果、重力が、 液体が発生装置１５への上昇した通路中を流れるのを防ぐ。これは、上昇路が液 体２５を含有している間システムが転倒しなこと、又は、たとえシステムが転倒 しても、上昇路がシステムの液体全てを収容するに足る大きなトラップを含むこ とが必要であろう。逆止め弁を発生装置１５からの排出路に配置することもでき 、たとえシステムが倒れても、逆止め弁（ディフューザー１２に好適な多孔性疎 水性樹脂材料のような）が発生装置１５を液体２５から保護することができる。

洗浄液２５は水または食塩水であることができ、レンズ３０を洗浄し消毒するの に有益なその他の材料を含有させることも可能である。洗浄液２５にレンズ３０ を接触させるホルダー又は容器中にこれらは配置される。容器２９はレンズ室２ ０内に、好ましくは、カバー２１から容器２９を吊す部材２８により設置される 。図１の実施態様では、容器２９及びレンズ３０を、オゾンが溶解している洗浄 液２５下に沈め、その結果、オゾン洗浄技術界で通常知られているように、室２ ０中の液２５の流れがレンズ３０と接触し、微生物を殺しその他の混在物を攻撃 することにより洗浄する。

発生装置１５のための間車で好適な供給物は環境エアであるが、発生装置１５か ら水分を追い出す手助けのために、ドライヤーを通過させた乾燥エアを使用する ことも可能である。別の可能性は、発生装置１５に対する供給物として働く小容 器からの酸素を供給することであり、エア供給からよりも酸素供給の方がより多 くオゾンを生成させることができる。

排水装置２２は、システム１０にとって都合の良い特徴であり、その結果、洗浄 液２５を、所望のときはいつでも排水できる。これは、室２０から液を注ぎ出す のにシステムを傾けるべきでないように設計されている場合に特に重要である。

又、それは洗浄済み液２５をレンズ貯蔵ケースに満たすために、又はレンズホー ルドケースから外ですすぎ洗浄するために使用するのに望ましいかもしれない。

これらの目的のいずれかのために、排水装置２２はシステム１０内の液の最も低 い水準にあることが好ましく、図１の例証では、室１３の底部に排水装置２２を 設置している。

システム１０中の液２５の量は、例えば、使用者が適当な量で注ぐことにより、 好ましくは予じめ決められている。液２５について食塩水が所望の場合、これは 、システム１０内に適当な大きさの食塩の錠剤を蒸留水に加えることにより行う ことができる。システム１０の操作は、液２５を洗浄し、それと同時にレンズ３ ０を洗浄し、その結果、−団員の液２５でシステム１０に入るどんな混入物もシ ステム１０内を循環するオゾンにより洗浄できる。

発生装置１５からのエア及びオゾン混合物を、室２０からの洗浄用液２５と合わ し、接触する室１３から、泡立ち路１６がガス及び液分離装置３５まで延びてい る。泡路１６中を上昇する泡１４は、室１３から分離装置３５まで泡と共に洗浄 用液２５の流れを作る。泡路１６は、このようにして、エアポンプ１１の原動力 のもとで、洗浄用液２５のための循環ポンプとして働（。次いで、泡路１６は、 液２５を室２０から室１３に吸い込み、そして、分離装置３５にまで引き上げ、 そこから、室２０に液を返流する。室１３、泡路１６、そして分離装置３５を通 過する際に、液２５は、室２０に入るオゾンを幾らか溶解し、レンズ３０に接触 して洗浄する。

エア並びに室１３、泡路１６及び分離装置３５内で液２５に溶解しないオゾンは 、弁３４よりオゾン還元波ｒＩ１４０に向けられる。オゾン還元装置［４０は分 離装置３５から漏れるガス中のオゾンの濃度を非常に減少させる。還元装置４０ は、オゾンを酸素に還元させるのに利用できる数種の材料のうち少なくとも一種 を含み、その結果、原料オゾンが大気中に漏れない。たとえ原料オゾンが弁３４ より漏れたとしても、しかし、システム１０を操作するのに使用される少量では 健康に害を与えることはない。

還元装置４０が使用され、オゾンを酸素に還元する触媒又はその他の材料で充填 されるとき、還元装置４０内のその材料に洗浄用液２５が届かないようにするこ とが重要である。液がその作用を減じるだろうからである。これに対する作働は 、泡１４が分離装置３５に入りそこの液表面ではじけ、弁３４に入る可能性のあ るしぶいた水滴を作るという事実である。バッフルはこれらのしぶいた水滴を還 元装置４０からそらせるための一つの可能性であるが、しかし、バッフルは、シ ステム１０が転倒した場合、液の流れを阻止しえないであろう。従って、私が好 適だとするものは、還元装置４０にガスは通過させるが液体は通過させない多孔 性疎水性樹脂部材３３である。

図１０のシステムは、スイッチ４９とタイマー４８を含む制御装置５０により好 適に操作される。使用者は、スイッチ４９を操作することにより洗浄サイクルを 好適に開始し、洗浄処理の期間、タイマー４８により制御される。システム１０ の作動はエアポンプ１１と発生装置１５の始動を含み、これらはレンズ３０を洗 浄するのに足る長い間隔で運転すべきである。システム１０がレンズ３０を適切 に洗浄するのに必要なよりも長（なく、且つ操作期間を幾つかの方法で制御でき るのが望ましい。簡単で好適な方法は予じめ決めておいた間隔にタイマー４８を セットすることであり、その結果、一旦スイッチ４９が始動したなら、ポンプ１ １と発生装置１５とが決められた間隔時間操作し、停止する。この間隔は、液２ ５が洗浄され、レンズ３０が適当にオゾンと接触しこれらの洗浄を確実にするこ とを確信するように確立されるべきである。発生装置１５のオゾン発生速度に依 存して、２〜１０分で充分である。

レンズ室２０内又はその他の位置に、溶解したオゾンを含有する液２５と接触状 態で、センサー４５を配置でき、このセンサー４５は制御ユニツト５０と連絡さ せて配置する。センサー４５は洗浄用液２５中のオゾン濃度を検知でき、制御装 置５０は、センサー４５からのオゾン濃度情報に応答的に作動すように作ること ができる。オゾン洗浄は、オゾン濃度とそのオゾン濃度でのレンズ３０の接触時 間の双方に関連する。オゾン濃度が薄いほど、洗浄に要する時間がより長くなり 、オゾン濃度が濃いほど、洗浄に要する時間がより短くなる。制御装置５０に簡 単なマイクロプロセッサ−を加えることにより、センサー４５により検知された 、室２０内の液２５中のオゾン濃度に適切な間隔の間、システム１０を操作でき 、レンズ３０は、洗浄サイクルが終了すると適切に消毒されているということを 確実にする。

センサー４５は、オゾン発生装置１５が操作しておりレンズ室２０中の液２５に オゾンを配送していることを単に示すのみのためのより簡単な配置で使用するこ ともできる。このために、センサー４５は液２５中のオゾンを検知しない場合に は、レンズ３０が洗浄されていないことを操作者に知らせるために警告灯又は指 示灯を点灯できるであろう。

図２のシステム１７は、ガス抜き、ポンプ作動、並びに液及びガス流が起こる方 法が主にシステム１０と異なる。ガス抜きは、ガス及び液分離装置からではなく て、レンズ室２０のカバー２１を通してからであるが、しかし、その他の点では ガス抜きは、好ましくは、弁３４、多孔性疎水性部材３３、及び大気に逃げるオ ゾンの濃度を減じる還元装置４０を含む。

システム１７中の流れの原動力はポンプ２３であり、洗浄用液２５及びオゾンを 含有するガス混合物の双方をポンプ作動させるために配置されている。このオゾ ンは発生装置１５から流れ、Ｔ点２４で液２５と合わされる。ポンプ２３は、好 ましくは、ギヤポンプのような容量形ポンプであり、オゾン混合物と洗浄用液と の混合と接触に役立つ。ポンプ２３へのこれらの材料の連絡形成の寸法は、所望 の速度でオゾンと液を合わせるため、及びレンズ室２０を通過して適切な循環流 を与え、レンズ３０が洗浄用液２５中に溶解したオゾンにより接触されることを 確実にするために、各法れを釣り合わせるように決める。循環流は、レンズ３０ から汚れの粒子を除去するのに適切な速度でレンズ３０の表面上に液流を向ける ための配置もでき、かくて、オゾンによる洗浄及び液との撹拌的接触の組合せ効 果により洗浄できる。

濾過装置２６をレンズ室２０と接続点２４との間の通路中に配置できるが、濾過 装置２６はなくてもよい。オゾンの接触は、システムに導入される時のその純度 に依存して、洗浄用液２５からいくらかの物質が沈澱してくるかもしれない、そ して、レンズ３０上を流れるオゾンと洗浄用液２５との撹拌作用から、レンズ３ ０から不純物が除去され得る。濾過装置２６によりいずれかの不純物を捕捉する ことができる。更に、システム１７にとって望ましい排水装置２２は、液２５を 、濾過が必要でなくできるように足るようしばしば変換させることができる。

逆止め弁２７がオゾン発生装置１５とＴ接続点２４との間の通路に示されており 、液２５が発生装置１５に入らないことを確実にしている。前で説明したように 、その他の態様は発生装置１５からの排出路を液２５より上の準位まで上昇させ るか、又は液の逆流を防ぐために多孔性の疎水性部材を使用することを含ませる ことができる。

スタチックミキサー３１がポンプ２３の下流に示されており、液とガスとがレン ズ室２０に到達する前にこれらの完全な混合を確実にする。ポンプ２３自身が適 当な混合を与えるならいつでもスタチックミキサー３１を排除できる。追加の液 ・ガス混合が望ましい場合、その他の態様でガスと液との接触領域の下流１ニス タチツクミキサー３１を配置することもできる。

システム１７の制御は、システム１０について記載した制御と同様であることが できる。また、室カバー２１を通過してガスを抜くのではなくて、分離装置３５ が、そのオゾン還元装置４０と共に、システム１７に組み入れることができる。

図３のシステム１８は、ポンプ作動及び液とガスとを合わせる作用以外はシステ ム１ｏと同様である。液層ポンプ３６は液をレンズ室２０からベンチュリー管３ ７を通過してポンプ送りをし、発生装置１５からのエアとオゾンとの混合物が流 液と同伴させる。洗浄用液２５は、所望なら、ポンプ３６への途中で、濾過装置 ２６を通過して流れることができ、そして、液の逆流に対抗する逆止め弁２７又 はその他の制限条件をオゾン発生装置１５からの排出路に配置できる。ベンチュ リー管３７の寸法は、ポンプ３６からの排出液流に適切である流速でオ゛／ンガ ス混合物を同伴させる大きさにする。また、ベンチュリー管３７１ま液相とガス 相とを共に接触させ、これら二種の混合を助け、液内にオゾンを溶解させるのを 容易にする。図２のシステム１７に示されているようなスタチ・ツクミキサー３ １を、必要なら、ベンチュリー管３７の下流に配置でき、ガスと液との適切な混 合を確実にする。

システム１８は、システム１０及び１７において前述したよ−５＋＝同様な制御 装置５０、ガス・液分離装置３５、オゾン還元装置４０、レンズ容器２９、及び 排水装置２２を使用できる。ガス・液分離装置３５に示されている液準位は、シ ステム１０について説明したように、重力により、流路を適切な寸法にすること により制御でき、又は、分離装置３５中の液の準位を制御するためにフロート弁 を配置することもできる。事実、フロート弁による液位制御は、システム１０中 の分離装置３５についても、その他の例証する実施態様中の液位制御目的につい ても可能である。

図４の実施態様１９は、環状に液流のバイパスを形成するレンズ室２０の代わり に、レンズ室２０内の洗浄用液２５中に発生装置１５からエアとオゾンとの混合 物を直接泡立てる。これは、泡が室２０内の液２５中を上昇する時に、ホルダー ２９中のレンズ３０を幾らかのガス状オゾンと直接接触できる。レンズ３０は、 この操作が満足にいくために、オゾンとの直接接触に耐えることができなければ ならない。

また、バフル４７はレンズ３０の付近を上昇するオゾンの泡をわきへそらすこと ができ、その結果、レンズ３０がオゾン泡と直接接触しない。どちらにしても、 上昇する泡のうちの幾らかのオゾンは洗浄用液２５中でも溶解し、液２５中に溶 解したオゾンも洗浄目的のためレンズ３０と接触する。更に、オゾンの上昇する 泡は室２０中で液２５の循環流を起こすことができ、その結果、動いている液が 溶解したオゾンを運びレンズ３０と接触する。この目的のため、オゾンの泡は、 たとえレンズ３０との接触をバフルで邪魔されても、レンズ３０の近くで上昇す るのが好ましい。オゾンの泡は、レンズ上の汚れ粒子を取り除くために、レンズ ３０の表面において撹拌ももたらすことができ、レンズの回りのこの挙動はオゾ ンとの直接接触に耐えることができ、バフル４７はオゾンの泡をレンズ３０の表 面に対抗して流れるように向けるために配置でき、オゾン洗浄と共に撹拌洗浄を 達成できる。

オゾン発生装置１５からレンズ室２０に導く出力通路は、好ましくは、室２０中 の液２５の準位を超えて高くし、その結果、液２５は、システム１９が直立して いる限りは、オゾン発生装置１５に室２０から逆流することはできない。室２０ へのガス入り口に配置したディフューザ３２はガス流を泡に分割し、泡は洗浄用 液２５の中を上昇し当該洗浄用液に溶解し、ホルダー２９中のレンズ３ｏと接触 する。ディフューザ３２は、好ましくは、多孔性の疎水性樹脂材料から形成され 、ガス混合物が洗浄用液２５中を自由に通過できるばかりでな（、たとえシステ ムが転倒しても、発生装置１５の方向へ液２５が逆流するのを防ぐ役割を果たす 。

好ましくは、室２０からの弁３４は、前述したようにオゾン還元装置４ｏを有す る。実施態様１９に要求される唯一のポンプはエアポンプ１１であり、エア又は 酸素を発生装置１５中を通過して強制送りし、発生装［１５から排出したオゾン 混合物をディフューザ３２を経て室２ｏに強制送りをする。制御装置５ｏは、前 述した方法のいずれかのように配！できる。

室２０はオゾン発生装置１５から取り外しできる。好ましくは、オゾン発生装置 １５からの通過がそのガス状排比流をディフューザー３２へ送る速脱着するジャ ンクション５２により取り外す。これは、室２ｏをレンズ３ｏ用の携帯ボルダ− として役立て、洗浄用レンズ３ｏにとって望ましいときはいつでもシステム１９ のレストに栓をするようにして戻すことができる。

室２０がシステム１９のレストから取り外されている間、ディフューザー３２の 好適な疎水性はガス入口より液２５が室２ｏから漏出するのを防ぐことができ、 オゾン還元装置４０中の好適な疎水性部材３３がオゾン還元装置４ｏより液２５ が室２０から漏出するのを防ぐことができる。室２０（オゾン還元装置を備えて いるもの又は備えていないもの）は、好ましくは携帯のために機能的に作られ、 そして、連結装置５２に樽栓をすることにより、蘭単にシステム１９のレストと 協働するようにも好ましくは作られる。センサー４５が室２ｏに配置される場合 、室２０がシステム１９に戻って栓をされたときはいつでも、これは、好ましく は、制御装置５０と自動的に再連結される。室２ｏが取り外しでき、その結果、 携帯できるようにすることは、その他の例証した実施態様にも応用でき、必要な 取り外し可能な連結装置を備えることができる。

図５の実施態様３９は、洗浄用液２５及びオゾンを含むガス混合物の、レンズ室 ２０内のホルダー中のレンズ３ｏに対する噴霧に向けられている。これは、エア ポンプ１１がエアを発生装置１５中に送り込み、エアとオゾンの排出混合ガスを ベンチュリー管４１中に送り込み、それが洗浄用液２５を吸い上げ且つ飛沫同伴 する。ベンチュリー管からの出力はレンズ３０に対して向けられた液及びガスの 噴霧である。

液２５は溶解したオゾンを含むが°、しかし、幾らかの溶解していないオゾンも レンズ３０に接触する。レンズ３０はこれに耐えることができなければならない 。

レンズ３０に接触しそれを通過する噴霧液滴は、レンズ室２０の底部に溜まる液 ２５のリザバーに落下する。液の噴霧もレンズ３０の表面に対する液滴の激しい 撹拌接触を与え、汚れ粒子を押しのけ取り除く。

レンズホルダー２９が自由に回転できるように軸受け３８を配置できる。その結 果、ベンチュリー管４１からの噴霧がホルダー２９を回転させてレンズ３０のあ らゆる露出面に対して噴霧を向けることができる。これを達成するために、ベン チュリー管４１からの噴霧が軸受け３８によりホルダー２９に与えられた支持の 軸から外して向けられる。これは、レンズ３０の表面が噴霧液滴で衝撃を与えら れている間にレンズ３０がそのホルダー内で回転するようにセットでき、汚れ粒 子に衝撃を与えてバラバラにして当該粒子を除去しながら、オゾンでレンズを洗 浄する。前述したように、オゾン還元装置４０を通過して室２ｏからのガス抜き を設定するのが好ましく、システム３９を制御装置５０により操作できる。

図５のシステム３９に類似の図６のシステム４４も、レンズ３０とホルダー２９ に対して洗浄用液と混合したエア及びオゾンの噴霧に向けられている。ホルダー は同様に軸受け３８により自由に回転するのが好ましい。噴霧用ノズルに作用す るエアポンプの代わりに、成用ポンプ４３がバイパス回路からの洗浄用液２５に 作用する。バイパス回路は濾過装置２６を含むことができ、またＴ点４２を含み 、そこで、発生装置１５からのオゾンガス混合物が液２５の流れに連行される。

ガスと液との混合物はポンプ４３により排出されて噴霧ノズル４６中に入り、レ ンズ３０に対して洗浄用噴霧を向ける。ポンプ４３からの排出液は激しい噴霧を 生じさせる事ができ、この噴霧は撹拌によりレンズ３０から汚れを除去できると 同時に噴霧液滴がそれが含有するオゾンで洗浄もできる。Ｔ点４２を、発生装置 １５からの排出通過の破線で延長した終点の、ポンプ４３の下流４２′位置に移 動できる。

オゾンは洗浄用液２５中に溶解状態となり、レンズ室２０の底部のリザバー中に 集まる。好ましくは、室２０からガス抜きしたガスはオゾン還元装置４０を通過 し、前述したように制御装置５０がこのシステムを操作する。図１及び３の実施 態様中で例証したようなガス・液分離装置３５をシステム４４中のＴ点４２若し くは４２′　とノズル４６との間に配置でき、その結果、レンズ３０は溶解した オゾンを含有する液でのみで噴霧され、未溶解のオゾンガスで直接噴霧されるこ とはない。

ｗｃｎ 補正書の翻訳文提出書 （特許法第１８４条の８） 平成　５年　３月　１日−

Claims (56)

【特許請求の範囲】
1. １．液中に沈められているコンタクトレンズを入れる室を使用するコンタクトレ ンズ洗浄システムであって、当該洗浄システムは：ａ．オゾン含有ガスを生じさ せるために配置された発生装置；ｂ．前記室から接点に前記液を導くために配置 された液循環通路：ｃ．前記発生装置から前記接点に前記オゾン含有ガスを導く 排出ガス用通路； ｄ．ここで、前記液循環通路が前記接点から前記室に戻る前記液を導くために配 置されており； ｅ．前記液を前記液循環通路中に流れを起こさせるため、且つ前記接点の下流領 域において前記液中にオゾンを溶解させるために、前記オゾン含有ガスを前記接 点において前記液と接触を起こさせるために配置されたポンプ装置；そして ｆ．前記液及びガスの通路並びにポンプ装置が前記液と前記オゾン含有ガスとの 流れを決定するために規模が定められるからなる前記システム。
2. ２．前記ポンプ装置は前記接点の下流に配置されるポンプを含み、その結果、前 記ポンプは前記オゾン含有ガスと前記液とを混合する、請求の範囲第１項に記載 の洗浄システム。
3. ３．前記接点は前記液通路中のポンプから下流に配置されたべンチュリー管を含 み、その結果、前記ベンチュリー管中にポンプ送りされた液が前記オゾン含有ガ スを前記発生装置から前記ガス通路を通過させ前記ベンチュリー管内に吸い込む 、請求の範囲第１項に記載の洗浄システム。
4. ４．前記ポンプ装置は前記オゾン含有ガスを前記接点にポンプ送りをするために 配置されたガス用ポンプを含み、そして泡路が前記液及び前記オゾン含有ガスを ポンプ送りするために前記接点から上方に延びる、請求の範囲第１項に記載の洗 浄システム。
5. ５．前記接点の前記液循環通路下流中に接触室を含み、そこで、前記オゾン含有 ガスを前記液中に泡立てる、請求の範囲第１項に記載の洗浄システム。
6. ６．前記オゾン含有ガスを前記液と接触する泡に分割するために前記接点におい て前記ガス通路中に配置された多孔性のデイフユーザーを含有する、請求の範囲 第１項に記載の洗浄システム。
7. ７．前記ガス通路中に配置された多孔性疎水性部材を含有し、前記液が前記発生 装置に侵入するのを防止する逆止め弁として作用する、請求の範囲第１項に記載 の洗浄システム。
8. ８．前記液の前記発生装置への侵入を防止するための手段を含む、請求の範囲第 １項に記載の洗浄システム。
9. ９．前記接触後に前記オゾン含有ガスから前記液を分離するための手段を含む、 請求の範囲第１項に記載の洗浄システム。
10. １０．オゾンの大気中への漏れを減少させるための手段を含む、請求の範囲第１ 項に記載の洗浄システム。
11. １１．前記液の前記漏れ減少手段への侵入を防止するための手段を含む、請求の 範囲１０項に記載の洗浄システム。
12. １２．前記漏れ減少手段が、ガス抜きされるガスのオゾン濃度を減少させる材料 中にのみ通過してオゾン含有ガスをガス抜きするために配置されたベントを含む 、請求の範囲第１０項に記載の洗浄システム。
13. １３．前記液通路中に配置された濾過装置を含む、請求の範囲第１項に記載の洗 浄システム。
14. １４．前記システムの各操作についての期間を決定するために配置されたタイマ ーを含む、請求の範囲第１項に記載の洗浄システム。
15. １５．前記液中のオゾンの濃度を検知するために配置されたセンサーを含む、請 求の範囲第１項に記載の洗浄システム。
16. １６．前記液通路が、前記液と前記オゾン含有ガスとの接触を増すために、前記 接点の下流に配置されたスタチックミキサーを含む、請求の範囲第１項に記載の 洗浄システム。
17. １７．前記システムから前記液を排出させるために配置された排水装置を含む、 請求の範囲第１項に記載の洗浄システム。
18. １８．前記ポンプ装置が、前記コンタクトレンズの汚れを除去するためにコンタ クトレンズを越えて前記液を流すために配置される、請求の範囲第１項に記載の 洗浄システム。
19. １９．液中に沈められているコンタクトレンズを入れる室を使用するコンタクト レンズ洗浄システムであって、当該洗浄システムは：ａ．オゾン含有ガスを生じ させるために配置された発生装置；ｂ．前記オゾン含有ガスを前記発生装置から 前記室中の前記液にポンプ送りをするために設定されたポンプ；及びｃ．前記室 中の前記液の表面より下に配置され、前記室内に前記オゾン含有ガスが流れるた めの入り囗を覆う多孔性疎水性ディフューザー、その結果、前記オゾン含有ガス が当該デイフユーザーを通過し前記室中の前記液に入り、前記室中の液は前記発 生装置に向けてディフューザーを通過できないようになっている： を含む、前記システム。
20. ２０．オゾンの大気中への漏れを減少させるための手段を含む、請求の範囲第１ ９項に記載の洗浄システム。
21. ２１．液の前記漏れ減少手段への侵入を防止するための手段を含む、請求の範囲 第２０項に記載の洗浄システム。
22. ２２．前記漏れ減少手段が前記室のためのクロージャー及びガス抜きしたガス中 のオゾンの濃度を減少させる材料にのみ通過するオゾン含有ガスをガス抜きする ために配置されたベントを含有する、請求の範囲第２０項に記載の洗浄システム 。
23. ２３．前記液防止手段が前記液と前記漏れ減少手段との間に配置された多孔性疎 水性部材を含有する、請求の範囲第２１項に記載の洗浄システム。
24. ２４．前記システムの各操作についての期間を決定するために配置されたタイマ ーを含む、請求の範囲第１９項に記載の洗浄システム。
25. ２５．前記室中の前記液のオゾンの濃度を検知するために配置されたオゾンセン サーを含む、請求の範囲第１９項に記載の洗浄システム。
26. ２６．前記室から前記液を排出するために配置された排水装置を含む、請求の範 囲第１９項に記載の洗浄システム。
27. ２７．前記発生装置から前記室及び前記ディフューザーを取り外すための手段を 含む、請求の範囲第１９項に記載の洗浄システム。
28. ２８．前記オゾン含有ガスを前記レンズの表面と撹拌接触するようにし、前記レ ンズから汚れを除去するための手段を含む、請求の範囲第１９項に記載の洗浄シ ステム。
29. ２９．液中に沈められているコンタクトレンズを入れる室を使用するコンタクト レンズ洗浄システムであって、当該洗浄システムは：ａ．オゾン含有ガスを生じ させるために配置された発生装置；ｂ．前記オゾン含有ガスを前記発生装置から 前記室中の前記液にポンプ送りをするために配置されたポンプ； ｃ．液の前記発生装置への侵入を防止するための手段；及びｄ．大気中にオゾン が漏れるのを防止するための手段を含む、前記洗浄システム。
30. ３０．液の前記発生装置への侵入を防止するための手段として、前記オゾン含有 ガスのための通路中の前記発生装置と前記室との間に配置された多孔性疎水性材 料を含む、請求の範囲第２９項に記載の洗浄システム。
31. ３１．前記大気中へのオゾンの漏れを減少させるための手段が前記室のためのク ロージャー及びガス抜きしたガス中のオゾンの濃度を減少させる材料にのみ通過 するオゾン含有ガスをガス抜きするために配置されたベントを含有する、請求の 範囲第２９項に記載の洗浄システム。
32. ３２．液の前記漏れ減少手段への侵入を防止するための手段を含む、請求の範囲 第２９項に記載の洗浄システム。
33. ３３．前記液防止手段が多孔性疎水性部材を含有する、請求の範囲第３２項に記 載の洗浄システム。
34. ３４．前記オゾン含有ガスを前記液と接触する泡に分割するために配置されたデ ィフューザーを含む、請求の範囲第２９項に記載の洗浄システム。
35. ３５．前記ディフューザーが前記液を前記コンタクトレンズを越して流させるた めに前記泡を向けるために配置されている、請求の範囲第３４項に記載の洗浄シ ステム。
36. ３６．前記システムの各操作についての期間を決定するために配置されたタイマ ーを含む、請求の範囲第２９項に記載の洗浄システム。
37. ３７．前記液のオゾンの濃度を検知するために配置されたオゾンセンサーを含む 、請求の範囲第２９項に記載の洗浄システム。
38. ３８．前記発生装置から前記室を取り外すための手段を含む、請求の範囲第２９ 項に記載の洗浄システム。
39. ３９．前記液が前紀室から前記取り外し手段を通過して漏れるのを防止するため の手段を含む、請求の範囲第３８項に記載の洗浄システム。
40. ４０．前記液漏れ防止手段が多孔性疎水性材料である、請求の範囲第３９項に記 載の洗浄システム。
41. ４１．コンタクトレンズを入れる室を使用するコンタクトレンズ洗浄システムで あって、当該洗浄システムは： ａ．オゾン含有ガスを生じさせるために配置された発生装置；ｂ．液を含有する リザバー；及び ｃ．前記オゾン含有ガスを前記液と接触し前記液中にオゾンを溶解させるため、 且っ前記液と前記溶解したオゾンが前記コンタクトレンズ上に噴霧されるように 配置されたポンプ装置 を含む、前記システム。
42. ４２．前記ポンプ装置が前記オゾン含有ガスを流すためのガス用ポンプ、及び前 記液と前記溶解したオゾンを前記コンタクトレンズ上に噴霧するための液用ポン プを含む、請求の範囲第４１項に記載の洗浄システム。
43. ４３．前記ポンプ装置が、前記液と前記オゾン含有ガスとの双方を、前記コンタ クトレンズに噴霧する前に接触状態である間に、流すために配置されたポンプを 含有する、請求の範囲第４１項に記載の洗浄システム。
44. ４４．前記ポンプ装置が、前記オゾン含有ガスを前記発生装置からベンチュリー 管中に流すためのガス用ポンプを含有し、当該ベンチユリー管は前記リザバーか ら液を吸い込み、前記液と前記オゾン含有ガスとを前記コンタクトレンズに噴霧 する前に接触させる、請求の範囲第４１項に記載の洗浄システム。
45. ４５．前記液を前記室から前記液リザバーに排出するための手段を含み、その結 果、前記液が前記ポンプ装置中に再循環される、請求の範囲第４１項に記載の洗 浄システム。
46. ４６．前記室の砥部が前記液リザバーとして働き、そる結果、前記液が前記ポン プ中を再循環される、請求の範囲第４１項に記載の洗浄システム。
47. ４７．オゾンの大気への漏れを減少させるための手段を含む、請求の範囲第４１ 項に記載の洗浄システム。
48. ４８．オゾンの大気への漏れを減少させる前記手段に液の侵入を防止するための 手段を含む、請求の範囲第４７項に記載の洗浄システム。
49. ４９．前記液防止手段に多孔性疎水性部材を包含する、請求の範囲第４９項に記 載の洗浄システム。
50. ５０．前記漏れ減少手段が前記システムを囲み且つガス抜きしたガス中のオゾン 濃度を減少させる材料中でのみオゾン含有ガスをガス抜きすることを含む、請求 の範囲第４７項に記載の洗浄システム。
51. ５１．前記液用の通路中に配置された濾過装置を含む、請求の範囲第４１項に記 載の洗浄システム。
52. ５２．液の前記発生装置への侵入を防止するための手段を含む、請求の範囲第４ １項に記載の洗浄システム。
53. ５３．前記システムの各操作についての期間を決定するためのタイマーを含む、 請求の範囲第４１項に記載の洗浄システム。
54. ５４．前記液中のオゾンの濃度を検知するために配置されたオゾンセンサーを含 む、請求の範囲第４１項に記載の洗浄システム。
55. ５５．前記レンズが前記液及び前記溶解したオゾンの噴霧の範囲内にある間に、 前記レンズを動かすための手段を含む、請求の範囲第４１項に記載の洗浄システ ム。
56. ５６．前記レンズが前記噴霧が前記ホルダーを回転させるように設置したホルダ ー中に配置される、請求の範囲第５５項に記載の洗浄システム。