JPH06505207A - ベーキング前印刷平版用組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は有機強酸塩および有機弱酸塩の有効量を水に溶解して威るベーキング前 印刷平版用組成物に関する。本発明組成物は、現像が終わったあとで、かつベー キング前に平版面に適用するとき、化学作用を有する光に露出して感光した平版 印刷の平版面を保護し、それによって熱処理に起因する平版面の汚染を防止する ために有用である。本発明組成物は、現在使用されている従来技術の組成物より 広い範囲の応用例を提供することにおいて特に有意義である。

発明の背景技術 平版印刷のために適当な輻射線感受性平版はよく知られている。かかる平版は典 型的に、しぼ付処理および／または陽極酸化することができるアルミニウム、あ るいは亜鉛、マグネシウム、銅、鋼鉄または組合せ物（たとえばバイメタルまた はラミネート）のような基質、および該基質表面上に沈着させた輻射線感受性物 質層から成る。

画線部（ｉｍａｇｅ）形成のため、透明画を通して輻射線感受性平版を、化学作 用のある輻射線に露出することにより、非露出領域の溶解性に比し輻射線露出領 域の溶解性を変化させる。露出した平版を適当な現像剤で処理したとき、より可 溶性の領域は容易に除去されて下層の基質が現われ、より可溶性の低い領域で構 成される基質上に画線部像を残すことができる。現像後に現われる基質の領域は 非画線部領域を構成する。

光重合体として知られた放射線感受性タイプの物質は放射線に露出した後、溶解 性が低くなり、それ故露出において透明ネガ（ｎｅｇａｔｉｖｅ　ｔｒａｎｓｐ ａｒｅｎｃｙ）を用いる。この場合、現像後除去される輻射線非露出領域と基質 上に残存する輻射線露出領域が画線部を形成する。適当な光重合体の例は、ジア ゾ樹脂クロム感受性コロイド類、ジアゾニウムもしくはアジド感受性樹脂類、ま たはかかる樹脂類を保有するポリマーを包含する。かかる物質をベースとする輻 射線感受層を有する平版はネガ作用性平版として知られている。

オルトキノンジアジド類をベースとするような輻射線感受性物質は、輻射線に露 出した後、より可溶性となり、それ故に露出において透明ポジ（ｐｏｓｉｔｉｖ ｅ　ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｃｙ）を用いる。この場合、現像により除去された輻 射線露出領域および基質表面上に残存する輻射線非露出領域が画線部を形成する 。かかる輻射線感受層を有する平版はポジ作用性平版として知られている。

印刷平版が生産しうるコピーの数により、印刷平版の寿命は、もちろん画線部領 域の材質が適当であることを条件として、しばしば平版のベーキング（焼付け） すなわち画線部領域のバーニング（ｂｕｒｎｉｎｇ−ｉｎ、焼込み）により増大 させることができる。バーニングは輻射線感受性平版から平版印刷の平版を製造 するための確立された技術手段である（バーニングは最も一般的にポジ作用性平 版の場合に行なわれる）。バーニングにより、画線部領域を構成する物質のポリ マー構造内で広範囲に架橋結合が起こる。バーニングの温度および時間はアルミ ニウムが焼なましされて印刷平版に必要な強度を損傷するような温度および時間 以下に制限される。

英国特許第６６９，４１２号は、ナフトキノンジアジド類をベースとする画線部 のバーニングを開示している。この特許によれば、該ジアジドの層を有する輻射 線感受性平版を画線部発現のために露出し、アルカリ溶液で現像してその輻射線 ｎ出層の露出領域を選択的に除去し、次いでオーブン中に入れて輻射線に露出さ れなかった層の非露出領域により構成される画線部を加熱する。その後、平版か ら残留汚染物を除去するために再び平版をアルカリ溶液で処理して印刷に使用す る平版を得ることが必要である。

多くの場合、輻射線感受層に補強物質を混合することおよび／または現像後の画 線部領域に補強ラッカー型補強物質を適用することにより、加熱すべき画線部　 ・領域を補強することができる。通常使用する補強物質の例として、ノボラック 樹脂類および／またはレゾール樹脂類が挙げられる。しかし、英国特許第１．１ ５４．７４９号に開示されているように、樹脂で補強された画線部領域を硬化さ せるのに充分な温度での加熱により、現像後顕在化した基質領域が少なくとも部 分的に汚染物層で被覆される結果となり、この汚染物層が印刷インキを取り込み それ故によごれを引き起こし、印刷工程の間に基底部（ｂａｃｋｇｒｏｕｎｄ） が汚染される。

それ故この汚染物層を印刷始動前に除去しなければならず、これはこの特許に従 って平版をアルカリ水溶液で処理することにより達成される。

米国特許第４．２９４．９１０号はバーニング工程から起こる問題を避けるため 、ノリ引き（ｇｕｍｍｉｎｇ）溶液またはベーキング前（ｐｒｅ−ｂａｋｅ、焼 付は前）溶液として知られた種々の水性組成物の使用法を開示している。かかる 溶液はドデシルフェノキシベンゼンジスルホン酸ナトリウム、アルキル化ナフタ レンスルホン酸ナトリウム塩類、スルホン化アルキルジフェニルオキシド、メチ レンジナフタレンジスルホン酸などのような物質を包含する。

米国特許第４．７８６．５８１号は、バーニング工程の間に平版を保護するため のノリ引き溶液の使用法を開示しており、この水溶液は親水性ポリマー成分およ 、　び有機酸成分を含有する。有機酸成分（またはその水溶性塩）は、二数また それより大なる酸官能基を含み、ベンゼンカルボン酸、スルホン酸およびホスホ ン酸（アルカンホスホン酸を含む）を包含する。この米国特許に対比して本発明 は親水性ポリマーを使用する必要はない。米国特許第４，８８５．２３０号は、 スチレンスルホン酸、ビニルホスホン酸およびその水溶性塩のようなモノマーの 水溶性ホモポリマーおよびコポリマーの使用法を開示している。しかし、この特 許に開示された組成物は強酸官能基およびその塩を含むポリマーは包含されてい ない。

バーニング工程の結果として形成される汚染物層は、一般に裸眼では認めること ができず、確実にすべての汚染を除去することは困難である。また更に陽極酸化 されたアルミニウム平版の場合のような多孔性基質表面の場合に、現像処理から その後に残る残留物質の結果として細孔中に汚染物が存在しつる。このような汚 染は、長い印刷過程において基質表面が徐々に摩滅するに従ってよごれの原因と なる傾向さえある。バーニング処理後、汚染物層を除くために平版を再現像する 変法は、平版をオーブンから取り出した後、平版加工設備へ戻さなければならな いことから経費がかさみ、また不便である。

バーニング処理により形成される汚染物の除去に付随する困難を顧慮して、最初 の段階で起こる汚染を防止するのが望ましい。また汚染は明らかに、加熱中に画 線部領域から昇華した後、現像により顕在化した基質領域に再沈着する画線部上 のある種の物質成分の結果として引き起こされることが見い出された。それにも かかわらず、加熱中に汚染を発生しうる物質を全く含まない平版であっても、前 回使用の結果として、バーニングオーブンの内部表面に予め沈着していた汚染物 質の沈着によっても汚染される。従って、バーニング工程の成功には、ベーキン グ前の効果的ノリ引き組成物が必要である。

ベーキング前の有効なノリ引き溶液の必要条件を考えることが重要である。該溶 液の構成成分は、多孔性酸化アルミニウム表面を清浄にするかまたは表面被覆封 鎖するように作用するものでなければならない。事実、印刷平版の微細な画線部 像構造の周辺を精密に清浄化しなければならない。また他方、ベーキング前、ノ リ剤の成分は画線部領域を構成する被覆物を侵食しないものでなければならない 。かかる成分は、基底層もしくは基底層近辺への浸透が避けられるばかりでなく 、被覆物表面の重大なむら形成も避けられるものでなければならない。ベーキン グ前工程で発生した欠陥は、印刷機条件の応力下で被覆物の損傷を引き起こすこ とができる。

本発明の水性組成物は、すぐれたベーキング前保護を与え、その一方法範囲の厚 さの被覆層を許容する。従来技術の組成物に比較して本発明組成物のすぐれた性 質は、平版表面への固着中並びに熱分解中（すなわちバーニング処理中）の良好 な被覆結着性から生じる。更に本発明組成物のアニオン性界面活性剤成分は、粘 度降下特性を有し、また温度と共に顕著に（すなわち、１０〜３０倍）に増大す るユニークな湿潤活性も有する。

発明の開示 本発明は、現像後、バーニング処理前の平版表面に適用する水性組成物の用途を 包含する。この組成物はバーニング処理中に起こる汚染を防止するための保護剤 として機能し、これにより未然に平版の再現像を不必要にする。本発明の特異な 改良点は、適用範囲を拡大することすなわちベーキング前ノリ用き溶液を手作業 で適用するときに起こるような被覆厚さの変異を許容することにある。

本発明の水性組成物は、（ａ）有機強酸のアンモニウム塩、ナトリウム塩、カリ ウム塩またはリチウム塩、（ｂ）有機強酸の塩および有機弱酸の塩の官能基を含 むアニオン性界面活性剤のアンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩またはリ チウム塩、および（Ｃ）有機弱酸のアンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩 またはリチウム塩の有効量から成る。なお、これら有機強酸塩、アニオン界面活 性剤および有機弱酸塩におけるカチオンは同一であるが必要はない。実験には、 該水性組成物はカリウム塩とナトリウム塩の組合せを含有することが好ましい。

有機強酸塩および有機弱酸塩はそれぞれカリウム塩型で使用することが好ましく 、一方、アニオン性界面活性剤はナトリウム塩型で使用するのが好ましい。これ はカリウム：ナトリウムのモル比が（１：１）〜（１５：１）、好ましくは（２ ：１）〜（８：ｉ）となる水性組成物をもたらす。

カリウム−ナトリウム塩の組合せは数種の理由から好ましい。第一に平版をベー キング処理したとき、著しく褐色に変色することである。この変色は、平版をベ ーキング処理されたかどうかに関する直接的指標を提供するので、印刷業者にと って助けとなる。またカリウムとナトリウム塩の組合せは、乾燥および熱分解（ すなわちベーキングまたはバーキング工程）中に、フィルム結着性を保持せしめ ることがわかった。ベーキングおよび洗浄後、滑らかで傷跡のない平版コーティ ング表面を与える結果となる。塩がナトリウム塩のみであるとき、乾燥およびベ ーキング中にフィルムに細かい割れ目が発生して、線状波表面模様を持つ領域が 生成し、このことは被覆損傷を示す。

有機強酸は、Ｃ，〜Ｃ４６の直鎖もしくは分枝状アルキル、アルカリール（ａｌ ｋａｒｙｌ）、アラルキル、アリールまたはアリールエーテル基を含有すること ができ、ｎ−デシル（スルホフェノキシ）ベンゼンスルホン酸、オキシビス（ｎ −デシルベンゼンスルホン酸）、アルキル基中に炭素原子１〜４個を有するナフ タレンスルホン酸の直鎖または分枝状モノもしくはジアルキル誘導体、メチレン ジナフタレンジスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、アルキル基が炭素原 子１〜４個を含むスルホン化アルキルジフェニルオキシド、ドデシル（スルホフ ェノキシ）ベンゼンスルホン酸、オキシビス（ドデシルベンゼンスルホン酸）、 ヘキサデシル（スルホフェノキシ）ベンゼンスルホン酸、オキシビス（ヘキサデ シルベンゼンスルホン酸）およびこれらの混合物などの酸を包含する。好ましく は有機強酸は、ｎ−デシル（スルホフェノキシ）ベンゼンスルホン酸とオキシビ ス（ｎ−デシルベンゼンスルホン酸）の混合物から成る。

適当なアニオン性界面活性剤の例は、Ｎ−（１，２−ジカルボキシエチル）−Ｎ −オクタデシルスルホスクシンアミド数匹ナトリウム塩、Ｎ−（１，２−ジカル ボキシエチル）−Ｎ−ドデシルスルホスクシンアミド数匹ナトリウム塩、Ｎ−（ １゜２−ジカルボキシエチル）−Ｎ−ブチルスルホスクシンアミド数匹ナトリウ ム塩、Ｎ−（１，２−ジカルボキシエチル）−Ｎ−アミルオキシプロピルスルホ スクシンアミド数匹ナトリウム塩、Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（スル ホ−２，５−エンドメチレンへキサヒドロフタリラートアスパラギン酸型ナトリ ウム塩、Ｎ−メチル−Ｎ−二コイルタウリンナトリウム塩、およびこれらの混合 物を包含する。

好ましいアニオン性界面活性剤はＮ−（１，２−ジカルボキシエチル）−Ｎ−オ クタデシルスルホスクシンアミド数匹ナトリウム塩である。

典型的に有機強酸の塩は１〜１２重量％、好ましくは３〜８重量％の量、一方ア ニオン性界面活性剤の塩は１〜１０重量％、好ましくは２〜６重量％の量で存在 させる。

有機弱酸は、クエン酸（これが好ましい）、イソリンゴ酸、グリコール酸、マロ ン酸、タルトロン酸、リンゴ酸、グリセリン酸、酒石酸、トリカルバリル酸およ び１．２．３．４−ブタンテトラカルボン酸からなる群から選ぶことができる。

好ましくは有機弱酸塩はクエン酸カリウム塩を包含する。有機弱酸塩は、一般に ０゜５〜１２重量％、好ましくは１〜９重量％の量で使用する。

本発明の水性組成物中の成分は、バーニング温度で揮発しないものであって、基 質の性質、輻射線感受層および平版の使用目的によって選択されるべきである。

たとえば平版印刷の平版を製造する場合、選択される成分は物理的に有効な遮断 作用を有するばかりでなく、また画線部に有害な（たとえば平版を溶解するかま たは印刷インキを受容しないという障害）影響を及ぼさないものでなければなら ない。更にバーニング処理後、画線部領域および非画線部領域に悪影響を及ぼす ことなく容易に除去されるものでなければならない。

前記のような成分例は、バーニング処理の結果発生する汚染から平版印刷の平版 を保護するのに特に有用である。本発明の組成物は、通常の方法たとえば噴霧法 、浸漬法、ブラッシ塗布法などにより、現像した平版表面に容易に適用され、好 ましい保護シールドを提供する。バーニング終了後、水でふき取るだけでシール ドを平版から容易に除くことができる。この除去処置は平版を印刷機に設定した ままで行うことができるので、バーニング操作終了後、平版を平版製造設備に戻 す必要はない。シールドを水ですすいで除去し、たとえばアラビアゴムで不感脂 化し、そして次に必要なことは、この平版を印刷に向けて準備をすることである 。

金属基質および感光性有機化合物からなる輻射線感受性層から成る予め感光した 輻射線感受性平版を次の工程に従って、加工することができる。

（ａ）輻射線露出層の領域と輻射線非露出層の領域が存在し、これらの領域が異 なる溶解性を有し、かつ可溶性の領域を包含するように、露光前の輻射線感受性 平版を、画線部形成のために輻射線に露光し：（ｂ）可溶性の領域から露出層を 選択的に除去し、可溶性領域の下の基質を顕在化することにより、画線部を形成 する露光層を現像し；（ｃ）現像した平版を本発明の水性組成物で処理して、顕 在化した基質の上の水溶層および現像段階で除去されなかった露光済輻射線感受 層を形成させ。

（ｄ）汚れを形成する汚染物の存在下で平版をバーニング処理し；（ｅ）バーニ ング処理した平版から水溶層を水で除き、これによって顕在化した平版基質領域 から汚れを形成する汚染物を除去する。

後記実施例により本発明を更に詳述する。

以下特に記載しない限り％はすべて重量％である。実施例の前に試験法および結 果のコードを示す。水性組成物を評価するため、個々の２試験を行なった。第１ の試験は、平版上に被覆する水性組成物の厚い層の効力を研究し、また組成物が 基部を清浄−被覆封鎖（ｃｌｅａｎｉｎｇ−ｓｅａｌｉｎｇ）する効果を決定す るための試験である。第２の試験は、試験面の複合模様の周辺の清浄−被覆封鎖 の精度を研究するための試験である。すべての平版評価はポジ作用性平版で行な った。

厚層と基部の試験 １２．７Ｘ２５．４ｃｏ＋部分から成る試験平版を用い、その約２．５　Ｘ　３ ．８ｃｍを露出する。平版全体を現像し、ふき取って乾燥または乾燥に近い状態 にする。露出した領域を水性組成物数ｍｌで処理し、注意して表面をこすり、し ばらく放置後、更に軽（こすって乾燥に近い状態にする。

手作業で修正するとき現場条件を再現するように設計された方法で平版の大なる 非露出部分を処理する。しわ紙（ｗｉｐｅ）を水性組成物に浸し、余分の組成物 を絞り出す。得られた水性パッドを非露出部分の表面上にこすり置き、厚く均一 な層を形成させる。この層はこすらない。この平版を風乾する。露出後こすった 領域（すなわち薄い層）は溶液被覆物重量３〜４ｇ／ｍ”、非露出領域（すなわ ち厚い層）は溶液被覆物重量１２〜１６ｇ／＋ｅ”である。

次いで処理平版を実験室オーブン中、２６５〜２７０℃で２分間ベーキング処理 する。冷後、平版全体を水道水で洗い、次いで露出部分のみを布でインキ処理し 、次いで露出部分のみをインキ−水混合物で湿潤したパッドでインキ処理し、平 版を乾燥する。

処理平版をベーキング前および後、視覚的におよび拡大鏡と立体顕微鏡（４０Ｘ ）で検査する。最初、風乾した厚い層の被覆物の品質を試験する。ベーキング、 洗浄およびインキ処理後、露出領域のインキ吸い上げ量の不足、ならびに表面変 化および被覆物の損傷または浸透を試験する。

試験平版は２０Ｘ２Ｓｃｍ板の大きさから成る。平版の約２．５　Ｘ　５．０Ｃ １１の非露出部分とし、グレースケール、ならびに変化があり複雑な組織および ディテールを有する試験面を用いて平版の残余部分を露出する。平版を現像し、 ふき取って乾燥に近い状態にする。次いで適当量の試験溶液を適用し、注意して 表面を拭う。

この平版を軽くこすってほぼ乾燥状態にし、風乾する。この時点で使用した溶液 の被覆重量は約３．５〜４．０ｇ／ｍ”であった。

処理した平版を実験室オーブン中、約２６５〜２７０℃で２分間加熱する。冷後 、平版を洗い、インキ−水混合物で湿潤したパッドをこすり付けることによりイ ンキ処理する。次いで画線部領域のインキ処理および基底領域の非インキ処理状 態の精密度と正確度について視覚的におよび拡大して試験する。これに加えて基 底領域の清浄性を記録し、非露出部の縁バンドのインキ処理状態を観察する。

試験コード 各実施例で次の試験コードを使用する。

Ｈ滑らかな被覆表面 Ｓ　滑らかな被覆、わずかに不規則 Ｒいくらか不規則、縞 ■　不規則な被覆−縞、しわ、裂は目 Ｚ　すべで被覆結着性またはレイダウン（ｌａｙｄｏｗｎ）なし。集まって液滴 状塊、および乾燥してつぎはぎ状表面を呈すＮ−ＩＡ　被覆表面滑らかで不変　 処理領域と未処理領域の間の組織の差異なし ＩＡ　被覆表面に縞模様あり　領域間に組織の差異は非常にわずかＩＡ−Ｐ　被 覆表面により大なる　領域間の組織にわずかの差異あり、被縞模様有り　覆物に 小さくて軽微な浸透領域ありＩＡ−３Ｐ　白色つぎはぎ状で縞模　被暉表面粗雑 、軽微な浸透領域、被覆様を有する大なる編組　表面に個々独立に非常に細かい 裂は目縁　または裂は目様模様あり Ｃ清浄、インキアップ（ｉｎｋ−ｕｐ）なし■　非常にわずかのインキピックア ップ（ｉｎｋ　ｐｉｃｋ−ｕｐ）Ｔ　完全または部分的インキピックアップ（ト ーニング（ｔｏｎｉｎｇ））試験絵図 コード Ｋ　細部インキ処理は精密、正確インキ処理問題なしＰ　画線部の細部ピックア ップまたは過剰のインキによる障害ありＱ　画線部ピックアップ塊状インキ、画 線部領域−トーニング１画線部から離れた基底部は清浄であることができる実施 例１〜１２ 実施例１において市販の水性ベーキング前（ｐｒｅ−ｂａｋｅ）組成物を使用す る。この組成物（ｐＨ６，９）は８．８重量％の固体（その内の１．４重量には クエン酸カリウム）から成り、平衡物質（ｂａｌａｉｃｅ）はドデシル（スルホ −フェノキシ）ベンゼンスルホン酸二ナトリウム塩類とオキシビス（ドデシルベ ンゼンスルホン酸）の混合物である。ドデシルアルキル置換基は分枝鎖構造を有 すると報告された。実施例２〜８において、それぞれ異なる量の好ましいアニオ ン性界面活性剤すなわちＮ−（１，２−ジカルボキシエチル）−Ｎ−オクタデシ ルスルホスクシンアミド数匹ナトリウム塩を、市販の組成物に加える：実施例２ 〜８において、クエン酸塩の二ナトリウム塩混合物に対する比率を実質的に実施 例１と同一レベルに保持するが、市販の溶液用固体の量を漸次減少させる。実施 例９〜１２は好ましいアニオン性界面活性剤のみを使用して行なう。次に示す表 １は、アニオン性界面活性剤を加えることにより手作業の修正に使用するための 好ましい範囲を包含するベンゼン前溶液が得られることを支持するものである。

ト 実施例１３ この実施例において、分枝鎖状ドデシルスルホン酸塩を含む商業的に入手し得る 実施例１の組成物と、直鎖デシルスルホン酸塩および好ましいスルホスクシンア ミド酸塩界面活性剤を含む水性組成物を比較した。

撹拌しながら８７．１％水酸化カリウム１０．７６ｋｇを脱イオン水９２．１８ ｋｇに溶解後、クエン酸−水和物１１．３４ｋｇを加える。溶解後、ｎ−デシル （スルホフェノキシ）ベンゼンスルホン酸とオキシビス（ｎ−デシルベンゼンス ルホン酸）の混合物の４０％溶液１９．８４ｋｇを加え、溶液を脱イオン水（全 量１．３６ｋｇ）で少量づつすすぐ。溶液に実施例１〜１２と同一のアニオン性 界面活性剤の３５％溶液２４．１６ｋｇを加え、溶液を脱イオン水（全量０．４ ３ｋｇ）で少量づつすすぐ。最後に脱イオン水５０．０ｋｇを加える。温度は６ ０℃以上に上昇しない。得られた溶液は固体１６．２重量％を含有し、ｐＨ５， ８である。この溶液（実施例１３と呼称）と市販の実施例１の組成物を比較した 結果を次に示す。

表１１ 表ＩＩに示す結果は、スルホスクシンアミド酸塩界面活性剤を含む製剤が膜形成 性良好であることおよび平版被覆物表面上に損傷を受けないことの双方に関する 優越性を有することを再び証明するものである。

ｒＭ際肩香１ｓ告 １＋ｔｔ、Ｎｌａ＊＃１ＡＩｐ’ｌｅ＊ｌ１ｍＮ＆　ＰＣＴ／ＵＳ　９２１００ １４５

Claims (20)

【特許請求の範囲】
1. １．（ａ）有機強酸のアンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩またはリチウ ム塩、（ｂ）有機強酸塩および有機弱酸塩の官能基を含有するアニオン性界面活 性剤のアンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩またはリチウム塩、および（ ｃ）有機弱酸のアンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩またはリチウム塩の 有効量を含有することから成る、化学作用を有する光に露出して感光した平版印 刷の平版の加熱処理による表面汚染を防止するため、平版を現像した後、加熱す る前、顕在化した平版基質表面上に適用するとき、該平版を保護するのに有用な 水性組成物。
2. ２．有機強酸がｎ−デシル（スルホフェノキシ）ベンゼンスルホン酸、オキシビ ス（ｎ−デシルベンゼンスルホン酸）、アルキル基中に１〜４個の炭素原子を有 するナフタレンスルホン酸の直鎖または分枝状モノもしくはジアルキル誘導体、 メチレンジナフタレンジスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、アルキル基 が１〜４個の炭素原子を含むスルホン化アルキルジフェニルオキシド、ドデシル （スルホフェノキシ）ベンゼンスルホン酸、オキシビス（ドデシルベンゼンスル ホン酸）、ヘキサデシル（スルホフェノキシ）ベンゼンスルホン酸、オキシビス （ヘキサデシルベンゼンスルホン酸）およびその混合物から選ばれる請求の範囲 １記載の水性組成物。
3. ３．有機強酸がｎ−デシル（スルホフェノキシ）ベンゼンスルホン酸とオキシビ ス（ｎ−デシルベンゼンスルホン酸）の混合物から成る請求の範囲２記載の水性 組成物。
4. ４．有機強酸塩が１〜１２重量％の量で存在する請求の範囲１記載の水性組成物 。
5. ５．界面活性剤がＮ−（１，２−ジカルボキシエチル）−Ｎ−オクタデシルスル ホスクシンアミド酸四ナトリウム塩、Ｎ−（１，２−ジカルボキシエチル）−Ｎ −ドデシルスルホスクシンアミド酸四ナトリウム塩、Ｎ−（１，２−ジカルボキ シエチル）−Ｎ−ブチルスルホスクシンアミド酸四ナトリウム塩、Ｎ−（１，２ −ジカルボキシエチル）−Ｎ−アミルオキシプロピルスルホスクシンアミド酸四 ナトリウム塩、Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（スルホ−２，５−エンド ヘキサヒドロフタリラート）アスパラギン酸四ナトリウム塩、Ｎ−メチル−Ｎ− ココイルタウリン・ナトリウム塩およびこれらの混合物から選ばれる請求の範囲 １記載の水性組成物。
6. ６．界面活性剤がＮ−（１，２−ジカルボキシエチル）−Ｎ−オクタデシルスル ホスクシンアミド酸四ナトリウム塩である請求の範囲５記載の水性組成物。
7. ７．界面活性剤の塩が１〜１０重量％の量で存在する請求の範囲１記載の水性組 成物。
8. ８．有機弱酸がクエン酸、イソリンゴ酸、グリコール酸、マロン酸、タルトロン 酸、リンゴ酸、グリセリン酸、酒石酸、トリカルバリル酸、１，２，３，４−ブ タンテトラカルボン酸およびこれらの混合物から選ばれる請求の範囲１記載の水 性組成物。
9. ９．有機弱酸塩がクエン酸カリウムである請求の範囲１記載の水性組成物。
10. １０．有機弱酸塩が０．５〜１２重量％の量で存在する請求の範囲１記載の水性 組成物。
11. １１．（ａ）輻射線露出層の領域と輻射線非露出層の領域が存在し、これらの領 域が異なる溶解性を有し、かつ可溶性の領域を包含するように、露光前の輻射線 感受性平版を、画線部形成のために露光し；（ｂ）可溶性の領域から露光層を選 択的に除去し、可溶性領域の下の基質を顕在化することにより、画線部を形成す る露光層を現像し；（ｃ）現像した平版を水性組成物で処理して、顕在化した基 質の上の水溶層および現像段階で除去されなかった露光済輻射線感受層を形成さ せ、（ｄ）汚れを形成する汚染物の存在下で平版をバーニング処理し；（ｅ）バ ーニング処理した平版から水溶層を水で除去し、これによって顕在化した平版基 質領域から汚れを形成する汚染物を除去し、前記水性組成物が（ｉ）有機強酸の アンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩またはリチウム塩、（ｉｉ）有機強 酸塩および有機弱酸塩の官能基を含有するアニオン性界面活性剤のアンモニウム 塩、ナトリウム塩、カリウム塩またはリチウム塩、および（ｉｉｉ）有機弱酸の アンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩またはリチウム塩の有効量を含有す ることから成ることを特徴とする、金属基質、および有機感光性化合物からなる 輻射線感受性層から成る予め感光した輻射線感受性平版の加工方法。
12. １２．有機強酸がｎ−デシル（スルホフェノキシ）ベンゼンスルホン酸、オキシ ビス（ｎ−デシルベンゼンスルホン酸）、アルキル基中に１〜４個の炭素原子を 有するナフタレンスルホン酸の直鎖もしくは分枝状モノまたはジアルキル誘導体 、メチレンジナフタレンジスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、アルキル 基が１〜４個の炭素原子を含むスルホン化アルキルジフェニルオキシド、ドデシ ル（スルホフェノキシ）ベンゼンスルホン酸、オキシビス（ドデシルベンゼンス ルホン酸）、ヘキサデシル（スルホフェノキシ）ベンゼンスルホン酸、オキシビ ス（ヘキサデシルベンゼンスルホン酸）、およびこれらの混合物から選ばれる請 求の範囲１１記載の方法。
13. １３．有機強酸がｎ−デシル（スルホフェノキシ）ベンゼンスルホン酸とオキシ ビス（ｎ−デシルベンゼンスルホン酸）の混合物である請求の範囲１２記載の方 法。
14. １４．水性組成物中の有機強酸が１〜１２重量％の量で存在する請求の範囲１１ 記載の方法。
15. １５．界面活性剤がＮ−（１，２−ジカルボキシエチル）−Ｎ−オクタデシルス ルホスクシンアミド酸四ナトリウム塩、Ｎ−（１，２−ジカルボキシエチル）− Ｎ−ドデシルスルホスクシンアミド酸四ナトリウム塩、Ｎ−（１，２−ジカルボ キシエチル−Ｎ−ブチルスルホスクシンアミド酸）四ナトリウム塩、Ｎ−（１， ２−ジカルボキシエチル）−Ｎ−アミルオキシプロピルスルホスクシンアミド酸 四ナトリウム塩、Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（スルホ−２，５−エン ドメチレンヘキサヒドロナフタリラート）アスパラギン酸四ナトリウム塩、Ｎ− メチル−Ｎ−ココイルタウリン・ナトリウム塩およびこれらの混合物から選ばれ る請求の範囲１１記載の方法。
16. １６．界面活性剤がＮ−（１，２−ジカルボキシエチル）−Ｎ−オクタデシル− スルホスクシンアミド酸四ナトリウム塩である請求の範囲１５記載の方法。
17. １７．水性組成物中のアニオン性界面活性剤が１〜１０重量％の量で存在する請 求の範囲１１記載の方法。
18. １８．有機弱酸がクエン酸、イソリンゴ酸、グリコール酸、マロン酸、タルトロ ン酸、リンゴ酸、グリセリン酸、酒石酸、トリカルバリル酸、１，２，３，４− ブタンテトラカルボン酸およびこれらの混合物から選ばれる請求の範囲１１記載 の方法。
19. １９．有機弱酸塩がクエン酸カリウム塩である請求の範囲１８記載の方法。
20. ２０．水性組成物中の有機弱酸塩が０．５〜１２重量％の量で存在する請求の範 囲１１記載の方法。