JPH06505743A - ５−スルホニル−置換ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及び安定化した組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ５−スルホニル−置換ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及び安定化した組成物 本発明は、スルホキシド又はスルホン部分によりベンゾ環の５−位が置換された ２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール化合物並びに該化 合物を含有する安定化された組成物に関する。

発明の背景 ２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールは、市販の紫外線 吸収剤の非常に重要な群であり、化学線への暴露の有害作用に対して有機基材の 多数を防護するための安定剤と広範囲に受容できることが見出されている。

この群の化合物に於ける商業的及び技術的関心が長期にわたったので、この化合 物の一般群を記載した多数の刊行物と特許がある。これらの引例の僅かが硫黄を 含有するいずれかの基で２Ｈ−ベンゾトリアゾールの置換を列挙している。

米国特許第Ｌ　２１８．３８２号は、低級アルキルスルホン基（即ち、低級アル キルスルホニル部分）によりベンゾ環の５−位上が置換されている２Ｈ−ベンゾ トリアゾールを開示している。この参考文献は、スルホンアミド、低級アルキル スルホナミド、又はアリールスルホンエステル基により同位置が置換されたベン ゾトリアゾールも記載している。そのようなスルホンアミド置換は米国特許第３ ，７６６．２０５号と３．８６２，０８７号にも教示されている。

本発明の化合物と組成物は、先行技術の化合物と識別される。これら文献のどれ も、スルホキシド又は高級アルキルスルホン部分によるベンゾ環の５−位におけ る２Ｈ−ベンゾトリアゾール化合物の置換がＵＶ吸収の顕著な増加をもたらしそ して最大吸収を、そのような５−チオ置換のないベンゾトリアゾールと比較して 約２０ｎｍ長波長側に移行することを教示していない。長波長側への最大吸収の レッドシフトを伴うそのような吸収の増加は塗膜、プラスチックと繊維のような 、より長い波長の紫外線（近紫外）に感受性の基材の防護を増強する。

本発明の目的 本発明の目的の一つは、従来技術のベンゾトリアゾールより長い波長での増大し たＵＶ吸収を持つ５−スルホニル置換２Ｈ−ベンゾトリアゾールを提供するもの である。

本発明の別の目的は、５−スルホニル置換２Ｈ−ベンゾトリアゾールの安定化有 効量を含有する安定化した組成物を提供することである。

更に別の目的は、いろいろの基材中への包含を化学結合によって可能にしかくし て該基材に関してそれらベンゾトリアゾールを非移行性にする反応性部分を持つ ５−スルホニル置換２Ｈ−ベンゾトリアゾールを提供することである。

発明の開示 本発明は式Ａ、Ｂ又はＣ： Ｒｒは水素原子、直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし２４のアルキル基、直鎖 又は分枝鎖の炭素原子数２ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２ のシクロアルキル基又は炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基を表し； Ｒ８は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし２４のアルキル基、直鎖又は分枝鎖 の炭素原子数２ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロア ルキル基、炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基、ヒドロキシル基、　 ＱＲａ　（Ｒ４は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし２４のアルキル基を表す 。）；又は１個又はより多い一０Ｈ１ＯＣＯＲｚ、−０Ｒ１、−ＮＧＯ又は−Ｎ Ｈ，基又はそれらの混合により置換された該アルキル基：又は１個又はより多い 一〇−１−ＮＨ−又は−ＮＲ，−基又はそれらの混合により中断されそして未置 換又は１個又はより多い−ＯＨ，−ＯＲ。

又は−ＮＨ，基又はそれらの混合により置換されていてよい該アルキル基又は該 アルケニル基を表すか；又はＲ８は −（ＣＨｌ）−−ＣＯ−Ｘ−（Ｚ）、−Ｙ−Ｒ，。

〔式中、Ｘは一〇−又は−Ｎ（Ｒ１１）−を表し；Ｙは一〇−又は−Ｎ（ＲＩＴ ）−を表し；２は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、１ないし３個の窒素 原子、酸素原子又はそれらの混合により中断された炭素原子数４ないし１２のア ルキレン基を表すか、又は各々がヒドロキシル基により置換された炭素原子数３ ないし１２のアルキレン基、ブテニレン基、ブテニレン基、シクロヘキシレン基 又はフェニレン基を表し； ｍは零、１又は２を表し； ｐは１を表すか、又はｐは、ＸとＹがそれぞれ−Ｎ（Ｒ１１）−又は−Ｎ（Ｒ， 、）−を表す場合は、零も表し； Ｒ１１は基：　Ｃｏ　Ｃ（Ｒｚ５）＝Ｃ（Ｈ）Ｒｚｓを表すか又は、Ｙが−Ｎ（ ＲＩＴ）−を表す場合は、ＲＩＴと一緒になって基ニーＣ０−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃｏ −を表し；式中、Ｒ１８は水素原子又はメチル基を表し；モしてＲ１１は水素原 子、メチル基又は−Ｃｏ−Ｘ−Ｒ，。を表し、 式中、Ｒ３゜は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基又は式： （式中、記号Ｒ＋　、Ｒ＊　、Ｘ、Ｚ、ｍとｐは上述の意味を有する。）の基を 表し； モしてＲ１１とＲＩＴは互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１２のア ルキル基、１ないし３個の酸素原子により中断されている炭素原子数３ないし１ ２のアルキル基を表すか；又はシクロヘキシル基又は炭素原子数７ないし１５の アラルキル基を表し； モしてＺがエチレン基を表す場合は、Ｒ，、はＲ１□と一緒になってエチレン基 も形成する。〕を表し；ｎは１又は２を表し； ｎが１を表す場合は、Ｒ，はＣ１、ＯＲ，又はＮＲｖＲｓを表し、又はＲ６は− ＰＯ（ＯＲ＋ｘ）！、−Ｏ３ｉ　（Ｒ＋＋）ｓ又は−０ＣＯＲ１□、又は−〇− １−８−又は−Ｎ　Ｒｒ　＋により中断されており、且つ未置換又は−ＯＨ又は −ＯＣＯ−Ｒ、、により置換されていてもよい直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１な いし２４のアル、キル基、未置換又は−ＯＨにより置換された炭素原子数５ない し１２のシクロアルキル基、未置換又は−ＯＨにより置換された直鎖又は分枝鎖 の炭素原子数２ないし１８のアルケニル基、炭素原子数７ないし１５のアラルキ ル基、　ＣＨｘ　ＣＨＯＨＲｒ　ｓ又はグリシジル基を表し；Ｒ１は水素原子、 未置換又は１個又はより多い０Ｈ１ＯＲ，又はＮＨ，基により置換された直鎖又 は分枝鎖の炭素原子数１ないし２４のアルキル基を表すか、又は−ＯＲ，は−（ ＯＣＨ，ＣＨｌ　）Ｗ　ＯＨ又は（ＯＣＨ！　ＣＨｔ　）、ＯＲｔ＋　（Ｗは１ ないし１２を表しモしてＲ１＋は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表す。

）を表し； Ｒ１とＲ，は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、 −〇−１−８−又は−ＮＨ目により中断されている直鎖又は分枝鎖の炭素原子数 ３ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素 原子数６ないし１４のアリール基又は炭素原子数１ないし３のヒドロキシルアル キル基を表すか； 又はＲ７とＲ１はＮ原子と一緒になってピロリジン、ピペリジン、ピペラジン又 はモルホリン環を表し；ｎが２を表す場合は、 Ｒ，は二価の基：　−０−Ｒ１−０−又はＮ　（Ｒｚｌ）　Ｒ１−Ｎ　（Ｒ＋＋ ）−の一つを表し；Ｒ１は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、炭素原子数４ ないし８のアルケニレン基、炭素原子数４のアルキニレン基、シクロヘキシレン 基、−〇−又は−ＣＨ。

−ＣＨｏＨ−ＣＨｔ−０−Ｒ，、−０−ＣＨ，−ＣＨｏＨＣＨ＊−により中断さ れている直鎖又は分枝鎖の炭素原子数４ないし１０のアルキレン基を表し；Ｒ１ ゜は、−〇−、シクロヘキシレン基、又はにより中断されていてよい直鎖又は分 枝鎖の炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表すか又はＲ１゜とＲ１１は２ 個の窒素原子と一緒になってピペラジン環を形成し；Ｒ１４は直鎖又は分枝鎖の 炭素原子数２ないし８のアルキレン基；−０−、シクロアルキレン基、アリーレ ン基又は により中断されている直鎖又は分枝鎖の炭素原子数４ないし１０のアルキレン基 を表し； 式中、Ｒ７とＲ１は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキ ル基を表すか又はＲ７とＲ。

は−緒になって炭素原子数４ないし６のアルキレン基、３−オキサペンタメチレ ン基、３−イミノペンタメチレン基又は３−メチルイミノペンタメチレン基を表 し；Ｒ１は水素原子、直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし１８のアルキル基、 炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、直鎖又は分枝鎖の炭素原子数３な いし８のアルケニル基、炭素原子数６ないし１４のアリール基又は炭素原子数７ ないし１５のアラルキル基を表し；ＲＩ！は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ない し１８のアルキル基、直鎖又は分枝鎖の炭素原子数３ないし１８のアルケニル基 、炭素原子数５ないし１０のシクロアルキル基、炭素原子数６ないし１０のアリ ール基又は炭素原子数７ないし１５のアラルキル基を表し；Ｒ１１は水素原子； 　ＰＯ（ＯＲ１り２により置換された直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし１８ のアルキル基；未置換又はＯＨ１炭素原子数７ないし１５のアラルキル基又は− ＣＨ＊　ＯＲＩｔにより置換されたフェニル基を表し； Ｒ８は炭素原子数８ないし２０のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケ ニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし１５ のフェニルアルキル基、炭素原子数６ないし１０のアリール基、炭素原子数１な いし４のアルキル基又は過弗化アルキル基部分が炭素原子数６ないし１６である １、１，２゜２−テトラヒドロパーフルオロアルキル基の１又は２個により置換 された該アリール基を表し；Ｌは一８〇−又は−３Ｏ２−を表し；そしてＴは一 ８Ｏ−１−ＳＯ，−１−３Ｏ−Ｂ−３Ｏ−又は−３Ｏ，−Ｅ−８ｏ、−（Ｂは炭 素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ レン基、炭素原子数８ないし１２のシクロヘキシレン基により中断されているか 、それを末端基としているアルキレン基を表す。）を表す。）の化合物に関する 。

好ましくは、本発明は式Ｉ、■又は■：Ｒ１は水素原子、直鎖又は分枝鎖の炭素 原子数１ないし２４のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基 又は炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基を表し； Ｒ１は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし２４のアルキル基、炭素原子数５な いし１２のシクロアルキル基又は炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基 ；１個又はより多い一０Ｈ１−ＯＲ，又は−ＮＨ，基（Ｒ，は炭素原子数１ない し１２のアルキル基を表す。）により置換された該アルキル基を表すか；又はＲ １は−ＣＨ＊　ＣＨｔ　ＣＯＲｓ　（Ｒ＊は一０Ｒ６又は−Ｎ　Ｈｚを表し；Ｒ １は水素原子又は炭素原子数１ないし２４のアルキル基を表し、又は１個又はよ り多い−ＯＨ基により置換された該アルキル基を表し；又は−０Ｒ１は−（ＯＣ Ｈ，ＣＨｚ　”）、ＯＨ又は（ＯＣＨｚ　ＣＨ２）、ＯＲ１Ｉ（ｗは工ないし１ ２を表しそしてＲ□は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表す。）を表す。

〕を表し；又は Ｒ８は−（ＣＨ５）−ＣＯ−Ｘ　−（Ｚ　）−Ｙ　−Ｒ＋　ｓ〔式中、ＸとＹは 一〇−を表し、Ｚはヒドロキシル基により置換された炭素原子数３ないし１２の アルキレン基を表し、Ｒ１，は基：　−Ｃｏ−Ｃ（Ｒ，、）＝ＣＨｔ　（式中、 ＲＩＳは水素原子又はメチル基を表す。）を表し、ｍは零、１又は２を表し、モ してｐは１を表す。〕を表し、Ｒ８は炭素原子数８ないし１８のアルキル基、炭 素原子数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ ル基、炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基、炭素原子数６ないし１０ のアリール基又は炭素原子数１ないし４のアルキル基の１又は２個により置換さ れた該アリール基を表し；ｎが１を表す場合は、Ｒ６はＣ１、−０Ｒ１又は−Ｎ Ｒ，Ｒｓ　（式中、Ｒ６は水素原子又は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし１ ２のアルキル基を表し；Ｒ７とＲ１は独立して水素原子、炭素原子数１ないし１ ８のアルキル基、・炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数６ ないし１４のアリール基又は炭素原子数１ないし３のヒドロキシアルキル基を表 すか、又は−ＯＲ，は−（ＯＣＨ＊　ＣＨｔ　）−ＯＨ（Ｗは１ないし１２を表 す。）を表す。）を表し；Ｌは、−３〇−又は−Ｓ　Ｏｘ−を表し：そしてＴは 一８Ｏ−１Ｓ　Ｏｔ−１−３Ｏ−Ｅ−３Ｏ−又は−３Ｏｔ　−Ｅ−３〇ｗ　−（ Ｅは炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数５ないし１２のシクロ アルキレン基、又は炭素原子数８ないし１２のシクロヘキシレン基により中断さ れているか、それを末端基としているアルキレン基を表す。）を表す。）化合物 に関する。

更に好ましくは、Ｒ１は水素原子、分枝した炭素原子数３ないし１２のアルキル 基、シクロヘキシル基又は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し； Ｒ１は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし１２のアルキル基、又は１個又はよ り多い一〇Ｈ基により置換された該アルキル基を表し；又はＲ２はシクロヘキシ ル基又は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し：又は Ｒ２は−（、ＣＨｔ）＋ｍ−ＣＯ−Ｘ　−（Ｚ　）、−Ｙ　−ＲＩ　８〔式中、 ＸとＹは一〇−を表し、Ｚはヒドロキシル基により置換された炭素原子数８ない し８のアルキレン基を表し、Ｒｌｍは基ニーｃｏ−ｃ　（Ｒ１，）＝ＣＨ，（式 中、Ｒ１１は水素原子又はメチル基を表す。）を表し、ｍは２を表し、モしてｐ はｌを表す。〕を表し、Ｒ１は炭素原子数１２ないし１８のアルキル基、アリル 基、シクロヘキシル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル 基又は１又は２個のメチル基により置換された該フェニル基を表し；ｎが１を表 す場合は、Ｒｓは−ＯＲ，又はＮ　Ｒ７Ｒｌ　（式中、Ｒ６は水素原子又は直鎖 又は分枝鎖の炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表し；Ｒ７とＲ，は独立し て水素原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基又は炭素原子数１ないし３のヒ ドロキシアルキル基を表すか、又は＝ＯＲ，は −（ＯＣＨ！　ＣＨｔ　）、ＯＨ（ｗは１ないし１２を表す。

）を表す。〕を表し；そして Ｌは、−８〇−又は−８Ｏ１−を表し；そしてＴは一８Ｏ−１Ｓ　Ｏｔ−１−３ Ｏ−Ｅ−３Ｏ−又は−３Ｏｚ　Ｅ　Ｓｏｗ　（Ｅは炭素原子数２ないし６のアル キレン基、炭素原子数６ないし８のシクロアルキレン基又は炭素原子数８ないし １０のシクロヘキシレン基により中断されているアルキレン基を表す。）を表す 。

最も好ましくは、Ｒ１は水素原子、分岐した炭素原子数４ないし８のアルキル基 、シクロヘキシル基、ベンジル基、α−メチルベンジル基又はα、α−ジメチル ベンジル基を表し； Ｒ１は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし８のアルキル基、１個又はより多い 一〇Ｈ基により置換された該アルキル基を表し：又はＲ３はシクロヘキシル基、 ベンジル基、α−メチルベンジル基又はα、α−ジメチルベンジル基を表し：又 は Ｒ２は−（ＣＨ＊）−ＣＯ−Ｘ　−（Ｚ　）−Ｙ　−Ｒ＋　ｓ〔式中、ＸとＹは 一〇−を表し、Ｚはヒドロキシル基により置換された炭素原子数３ないし８のア ルキレン基を表し、Ｒ４は基：　Ｃｏ　Ｃ（Ｒ＋ｓ）　＝ＣＨｔ　（式中、Ｒ１ １はメチル基を表す。）を表し、ｍは２を表し、そしてｐは１を表す。〕を表し 、 ｎが１を表す場合は、Ｒ，は−０Ｒ０又は−ＮＲ，Ｒｓ（式中、Ｒ６は水素原子 又は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数４ないし１２のアルキル基を表し；Ｒ７とＲ， は独立して水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、又は−ＯＲ ，は−（ＯＣＨ＊　ＣＨｔ　）ｗ　ｏｉ−ｉ　（ｗは４ないし１２を表す。

）を表す。）を表し；そして Ｌは、−８〇−又は−８Ｏ１−を表し；そしてＴは−３Ｏｔ−を表す。

本発明の好ましい実施態様は、式中、 Ｒ，が分枝した炭素原子数４ないし８のアルキル基を表し、 Ｒ２が直鎖又は分枝鎖の炭素原子数炭素原子数１ないし８のアルキル基又は−個 の一〇Ｈ基により置換された該アルキル基を表すか；又は Ｒ１は−（ＣＨ１）−ＣＯ−Ｘ　−（Ｚ　）−Ｙ　−Ｒｒ　ｓ（式中、ＸとＹは −Ｏ−を表し、Ｚはヒドロキシル基により置換された炭素原子数３ないし８のア ルキレン基を表し、Ｒ１１は基：　−ＣＯ−Ｃ（Ｒ１，）＝ＣＨｔ　（式中、Ｒ １８はメチル基を表す。）を表し、ｍは２を表し、モしてｐはｌを表す。）を表 し、 Ｒ８はフェニル基又は炭素原子数４ないし１４のアルキル基を表し； ｎが１を表す場合は、Ｒｓは一０Ｒ６〔式中、Ｒ１は水素原子又は直鎖又は分枝 鎖の炭素原子数４ないし１２のアルキル基を表すか； 又は−０Ｒ６は−（ＯＣＨ！　ＣＨｔ　）−ＯＨ（Ｗは４ないし１２を表す。） を表す。〕を表し；そしてＬは、−８〇−又は一５Ｏ１−を表し；そしてＴは− Ｓ　Ｏｚ−を表す。

好ましい化合物は、ＸとＹの−っが−０−であるそれらであり：そして特にＸと Ｙの両方が一〇−であるそれらである。

Ｒ＠　、Ｒ，とＲ，は−０−１−８−又は−ＮＲ，、−により中断されている下 記の炭素原子数３ないし１８のアルキル基であり得て、ＯＨにより置換されてい てもよい二メトシキエチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基、ブトキシ プロピル基、メチルチオエチル基、ＣＨｓ　ＯＣＨ！　ＣＨｔ　ＯＣＨｘ　ＣＨ ｔ−１ＣＨ，ＣＨｔ　０ＣＨｚ　ＣＨｔ　０ＣＨ２ＣＨｔ　−１Ｃ４Ｈ−０ＣＨ ２ＣＨＩ　０ＣＨｔ　ＣＨ２−、エチルチオプロピル、オクチルチオプロピル、 ドデシルオキシプロビル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、４ −−ヒドロキシブチル、６−ヒドロキシエチル、−ＣＨ，ＣＨ２−ＮＨ−Ｃ４Ｈ ｓ　−１ＣＨ２ＣＨｔ　ＣＨｌ　ＮＨＣｓ　Ｈ＋□及び−ＣＨ，ＣＨ，ＣＨ，− Ｎ　（ＣＨ，）−ＣＨ，Ｃｌ−１（Ｃｔ　Ｈｓ　）Ｃ４Ｈｓ。

Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，、Ｒ，、とＲ１□は下記の炭素原子数５ないし１２のシクロア ルキル基であり得るニジクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへブチル基 、シクロオクチル基又はシクロデシル基である。Ｒ，の場合は、その基は一〇Ｈ により置換されてもいる。

Ｒｖ、Ｒ，とＲ１１は下記のアルケニル基であり得る：アリル、メタリル、２− ｎ−へキセニル又は４−ｎ−オクテニル基。

Ｒ１がアルケニル基である場合、アルケニル基としてのＲｖ、ＲｓとＲ１１と同 じ意味を持つが、それは−ＣＨ＝：ＣＨｔ　、ｎ−ウンデセン−１０−イル基又 はｎ−オクタデセン−９−イル基であってもよく、モしてＲ１が−ＯＨにより置 換される基であることも可能である。

Ｒ７とＲ８は下記の炭素原子数７ないし１５のアラルキル基であり得る：ベンジ ル基、α−フェネチル基、２−フェネチル基又は４−ｔｅｒｔ−ブチル基。

Ｒ目、Ｒ１１又はＲ１２がアラルキル基である場合、それらは互いに独立して、 Ｒ７又はＲ１と同意味を持つ。

互いに独立して、Ｒ？、Ｒ１とＲ１１は下記の炭素原子数６ないし１４のアリー ル基であり得る：フェニル基、α−ナフチル基又はβ−ナフチル基。

Ｒ７とＲ１が炭素原子数１ないし３のヒドロキシアルキル基である場合は、それ らは下記の基であり得る：ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基又は２ −ヒドロキシプロピル基。

炭素原子数２ないし８のアルキレン基としては、Ｒ１とＲ１４は下記の基であり 得る：エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基又はオクチレン基 。

アルキレン基としては、Ｒ１６は同じ基であり得るが、それに加えて、デシレン 基又はドデシレン基のようなより高級の分子基でもあり得る。

Ｒ１が炭素原子数４ないし９のアルケニレン基である場合は、下記が適当な基の 例である：ブテニレン基。

Ｒ・とＲ１４の場合、−〇−により中断されている適当な直鎖又は分枝鎖の炭素 原子数４ないし１ｏのアルキレン基は下記の基であるニ ーＣＨ！　ＣＨ２０ＣＨ１ＣＨ２−１−ＣＨ（ＣＨ，’）−ＣＨｔ−０−ＣＨ， −ＣＨ（ＣＨ，）−−ＣＨ２ＣＨ。

０ＣＨ２ＣＨｌ　０ＣＨ２ＣＨ，−及び−ＣＨ，ＣＨ，。

ＣＨ＊　ＣＨｔ　ＯＣＨ＊　ＣＨｔ　ＯＣＨｘ　ＣＨｔ−０Ｒ１４がシクロアル キレン基である場合、下記の基が包含される＝１，３−シクロヘキシレン基及び １，４−シクロヘキシレン基。

Ｒ＋４がアリーレン基である場合、これは特に、下記の基である：１，３−フ二 二レン基又は１．４−フェニレン基。

炭素原子数２ないし１２のアルキレン基としては、Ｚは直鎖又は分枝鎖である。

それは例えば：エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン 基、オクタメチレン基、ドデカメチレン基、１，１−エチリデン基、２，２−プ ロピリデン基、２，２−アリーン基又は２−エチルへキサメチレン基である。炭 素原子数２ないし６のアルキレン基が好ましい。

Ｚが酸素原子により中断されている炭素原子数４ないし１２のアルキレン基であ る場合は、それは例えばニー　ＣＨ＊−ｃ　Ｈ１−０−ＣＨ＊−ｃ　Ｈ、−１Ｃ Ｈ＊−ＣＨｚ−０−ＣＨｔ−ＣＨ＊−ＣＨ２、ＣＨｌ−ＣＨｌ−０−ＣＨｔ−Ｃ Ｈｌ−０−ＣＨｔ−ＣＨｌ又はＣＨｚ−ＣＨｓ−０−ＣＨｌ−ＣＨｌ−０−ＣＨ ｌ−ＣＨｌ−０−ＣＨｌ−ＣＨｌ−であり、窒素原子、基：　Ｎ　（Ｒ＋ｓ）　 （Ｒｒｅは上述と同じに定義される。）により中断されているアルキレン基を意 味する場合は、例えば−ＣＨ＊−ＣＨ＊−Ｎ　Ｈ−ＣＨ＊−ＣＨ１−ＣＨ＊−ｃ 　Ｈ！、−ＣＨ！−ＣＨｔ−ＣＨ！−ＮＨ（ＣＨｚ）＊−又１ｔ　−ＣＨｔ−Ｃ Ｈ＊−ＣＨ官−Ｎ　（ＣＨｓ−ＣＨｔ−ＣＨ（Ｃ２Ｈ５）（ＣＨ２）４−である 。

ヒドロキシル基により置換されている炭素原子数３ないし１２のアルキレン基の としては、Ｚは２−ヒドロキシテトラメチレン基、２−ヒドロキシへキサメチレ ン基及び、特に、２−ヒドロキシトリメチレン基である。

シクロヘキシレン基としては、Ｚは例えば、１，４−シクロヘキシレン基及び、 特に、１，２−シクロヘキシレン基である。

フェニレン基としては、Ｚは例えばｍ−フェニレン基又はｐ−フェニレン基であ る。

ｍは零、１又は２であってよいが、それは好ましくは２である。

ｐは好ましくは１であるが、ＸとＹの両方が窒素原子を介して結合している場合 は、零でもあり得る。

炭素原子数１ないし８のアルキル基としては、Ｒ１は例えば：メチル基、エチル 基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、５ｅｅ−ブチル基、ｔｅ ｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ− へブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基又はｔｅｒｔ−オクチル基 である。ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましい。

炭素原子数１ないし１２のアルキル基としては、Ｒ１＠Ｒ１□とＲ３゜はＲ１に ついての前出のと同じ意味を持ち、そして追加して直鎖又は分枝鎖のノニル基、 デシル基、ウンデシル基、又はドデシル基である。

Ｒ１，とＲ１７が酸素原子により中断されているアルキル基である場合は、適用 できる例は前出のＺについて記載されたそれらである。

アラルキル基としてのＲＩＭとＲ１□についての例は：ベンジル基、α−メチル ベンジル基、１−フェニルエチル基、α、α−ジメチルベンジル基又は１−フェ ニルプロヒル基である。

Ｚがエチレン基である場合は、Ｒ１６とＲ１７は一緒になって同様にエチレン基 を形成し、それはピペラジン基の方法により橋渡しをするのと同格である。

Ｙが基：　Ｎ（ＲＩ７）−である場合、Ｒ４とＲ１□は一緒になって−ＣＯ−Ｃ Ｈ＝ＣＨ−Ｃｏ−を形成し、そしてかくして基：　−Ｘ−（Ｚ）、−上に置換基 ：を形成する。

しかしながら、Ｒ１，の好ましい意味は、ＣＯＣ（Ｒ＋ｓ）　＝　ＣＨＲ１４で あり、ＲＩＭとＲ１１は好ましくはメチル基及び特に水素原子である。

Ｒ１は、　ＣＨ＊　ＣＨｔ　ＣＯ−０−Ｃ（Ｇ　）　＝　ＣＨｔでありモしてＧ は水素原子又はメチル基である。

Ｒ１ないしＲ１１のいずれかがアルキル基である場合、そのような基は例えば、 メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、５ｅｃ− ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基、２−エチルヘキシル基、 ｔｅｒｔ−オクチル基、ラウリル基、ｔｅｒｔ−ドデシル基、トリデシル基、ｎ −ヘキサデシル基、ｎ−オクタデシル基及びエイコシル基であり；酸基がアルケ ニル基である場合は、そのような基は例えば、アリル基又はオレイル基であり； モして酸基がシクロアルキル基である場合、そのような基は、例えば、シクロペ ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基及びシクロ ドデシル基であり； モして酸基のいずれかがフェニルアルキル基である場合、そのような基は、例え ば、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基及びα、α−ジメチルベ ンジル基であり； モして酸基のいずれかがアリール基である場合、それらは、例えば、フェニル基 又はナフチル基であり、又はアルキル基により置換されている場合は、例えば、 トリル基とキシリル基である。

Ｒｏが１個又はより多い一〇−基により置換されているか及び／又は１個又はよ り多い一〇Ｈにより置換されているアルキル基である場合、−ＯＲ，部分は−（ ＯＣＨ、ＣＨ＊）、ｏ　Ｈ又は−（ＯＣＨ＊ＣＨｔ）−０Ｒ５ｒ（Ｗは１ないし １２を表しそしてＲｔｌは炭素原子数１ないし１２のアルキル基を例えば表す。

）であり得る。

Ｅがアルキレン基である場合、それは、例えば、エチレン基、テトラメチレン基 、ヘキサメチレン基、２−メチル−１，４−テトラメチレン基、ヘキサメチレン 基、オクタメチレン基、デカメチレン基及びドデカメチレン基であり； Ｅがシクロアルキレン基である場合、それは、例えば、シクロベンチレン基、シ クロヘキシレン基、シクロオクチレン基及びシクロドデシレン基であり；モして Ｅがシクロヘキシレン基により中断されているか又はそれを末端基としている場 合、それは、例えば、リモネンから誘導された飽和ジイル基であって、ジヒドロ リモネンジイル基であると呼ばれる基である。

本発明の別の好ましい実施態様は、式中、Ｒ１がｔｅｒｔ−ブチル基であり、ｎ が１であり、Ｒ１がフェニル基でありモしてＲ６が一０Ｒｅ　（Ｒｓは直鎖又は 置換されたオクチル基を表す。）である式■の化合物である。

しかし、本発明の別の好ましい実施態様は、式中、ｎが２を表し、Ｒ１がｔｅｒ ｔ−ブチル基を表し、Ｒ３がフェニル基を表し、そしてＲ６が−０−Ｒ，−０− （Ｒ，は−〇−により又は−ＣＨ２−ＣＨＯＨ−ＣＨ＊−０−Ｒ１４−０−ＣＨ ，−ＣＨｏＨ−ＣＨ！−により中断された炭素原子数２ないし２４のアルキレン 基である。）を表す式■の化合物である。

Ｅがアルキレン基を表す場合は、それは例えば、エチレン基、テトラメチレン基 、ヘキサメチレン基、２−メチル−１，４−テトラメチレン基、ヘキサメチレン 基、オクタメチレン基、デカメチレン基及びドデカメチレン基であり； Ｅがシクロアルキレン基である場合、それは例えば、シクロベンチレン基、シク ロヘキシレン基、シクロアルキレン基、シクロオクチレン基及びシクロドデシレ ン基であり； モしてＥがシクロヘキシレン基により中断されているか又はそれを末端基として いる場合は、それは例えば、それは例えば、リモネンから誘導された飽和ジイル 基であって、ジヒドロリモネンジイル基であると呼ばれる基である。

本発明の化合物が遊離のカルボキシル基部分を含有する場合、Ｒ１が−ＣＨ２Ｃ Ｈ，Ｃ０ＯＲ，（Ｒ，ｉ＊水素原子、アルカリ金属又は該当する酸のアミン塩で ある。）であり、そのカルボキシル基部分は、そのような本発明化合物の水溶性 を増大したことに由来して、そのような紫外線吸収剤を水系に使用することを可 能にする本発明の一部分であると考慮される。

本発明は、安定化した組成物にも関していて、それは（ａ）化学線の有害作用へ の暴露による分解を受ける有機材料、及び （ｂ）請求項１記載の式Ａ、Ｂ又はＣの化合物の安定化有効量 からなる。

有機材料は好ましくは合成ポリマーである。そのようなポリマーは特に芳香族部 分を含有するそれらであって例えば、ポリスチレン、ＡＢＳのようなスチレンの グラフトコポリマー、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンスルフィド、ポ リウレタン、ポリイソシアナート、芳香族ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポ リ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホ ン、ポリエーテルケト・ン、アルキド樹脂、アミノブラスト樹脂及びエポキシ樹 脂のようなものである。

最も好ましい合成樹脂はエポキシ樹脂である。

特に興味のある組成物は、 （ａ）無機及び／又は有機顔料を含有する樹脂の下層、及び樹脂の透明上層から なる塗装系である有機材料であって、化学線の有害作用への暴露による分解を受 ける有機材料、及び ら）上層樹脂又は下層樹脂のいずれかに又は両方の樹脂層にある式Ａ、Ｂ又はＣ の化合物の安定化有効量からなるそれらである。

上述の組成物中で特に興味のある式Ａ、Ｂ又はＣの化合物は、５−ベンゼンスル ホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２ Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−ベンゼンスルホニル−２−［２−ヒドロキシ−３ −ｔｅｒｔ−ブチル−５−（β−オクチルオキシ力ルポニルエチル）フェニル］ 　−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−ベンゼンスルホニル−２−（２−ヒドロキ シ−３ｔｅｒｔ−ブチル−５−［２−（ω−ヒドロキシ−オクタ（エチレンオキ シ）−カルポニルエチルコフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ω−ヒドロ キシ−ポリ（エチレンオキシ）　３−（５−ベンゼンスルホニル−ベンゾトリア ゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメー ト、又はポリ（エチレンオキシ）　ビス［３−（５−ベンゼンスルホニル−ベン ゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシ ンナメート］である。

特に興味のある化合物は、５−ベンゼンスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３ −ｔｅｒｔ−ブチル−５−［２−（ω−ヒドロキシ〜オクタ（エチレンオキシ） −カルボニルエチル］フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールである。

特に興味のある別の組成物は、上層又は下層の樹脂層中又は両方の層のいずれか に存在するベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、シアノアクリル酸誘導体、ヒ ドロキシアリール−５−）リアジン、有機ニッケル化合物及びオキサニリドから なる群から選ばれた紫外線吸収剤を追加して含有するそれらである。

好ましい紫外線吸収剤は、　２−［２−ヒドロキシ−３，５−ジー（α、α−ジ メチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−　（２−ヒドロ キシ−３，５−ジーｔｅｒｔ−アミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、 ２−［２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（ω−ヒドロキシ−オクタ （エチレンオキシ）カルボニル）エチルフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール 、２−［２−ヒドロキシ−８−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２−オクチルカルボニ ルエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、４，４′−ジオクチルオキ シオキサニリド、２，２′−ジオクチルオキシ−５゜５′−ジーｔｅｒｔ−ブチ ルオキサニリド、２．２’−ジドデシルオキシ−５，５′−ジーｔｅｒｔ−ブチ ルオキサニリド、２−エトキシ−２′エチルオキサニリド、２．６−ビス（２， ４−ジメチルフェニル）　、４−　（２−ヒドロキシ−４−才クチルオキシフェ ニル−５−）リアジン、２，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−４−（２ ，４−ジヒドロキシフェニル）−Ｓ−）リアジン、２．４−ビス　（２，４−ジ ヒドロキシフェニル）−６−（４−クロロフェニル）〜ｓ−）リアジン、２゜６ −ビス（２，４−ジメチルフェニル）−４−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒド ロキシ−３−ドデシルオキシプロパノキシ）フェニル］−５−）リアジン、及び ２゜２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノンからなる群から 選択される。

興味のある追加の組成物は、上層又は下層の樹脂層又は両方の層のいずれかに、 フェノール性抗酸化剤の安定化有効量を追加して含有するそれら；ヒンダードア ミンを追加して含有するそれら、又はホスフィツト又はホスホナイトの安定化有 効量を追加して含有するそれらを包含する。

特に興味のある組成物は、有機材料が工業用仕上塗料に使用される高固形分のエ ナメルであり：有機材料をコイル塗料として使用し；有機材料を木材浸透仕上剤 として使用し又は有機材料を木材フィルム形成仕上剤として使用する場合のそれ らである。

本発明の化合物が、反応性官能基も含有する場合は、該化合物はポリマー基材に 縮合又は遊離基重合のいずれかにより化学的に結合できる。これは非移行性、非 揮発性の紫外線吸収安定剤を提供する。そのような反応性の基は、ヒドロキシ基 、アミノ基、アミド基、カルボキシ基及びエチレン不飽和性部分を包含する。

本発明で有用ないろいろの有機材料並びに本発明の化合物と共用すると非常に有 益であることが頻繁に見出されるいろいろの共添加剤は、更に詳細に後述する。

本発明の化合物は、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等々 のような非プロトン性の溶媒の存在下、３０と２００℃の間の温度で、アルカリ 金属又はアルカリ土類金属の酸化物、炭酸塩又は水酸化物のような酸受容体の存 在下、５−ハロ置換２Ｈ−ベンゾトリアゾールを脂肪族又は芳香族メルカプタン と反応させることにより得られる。ジチオールを使用する場合は式Ｂのビス型化 合物が製造される。この反応は、共溶媒としての上述の極性溶媒と共の、キシレ ン又はメシチレンのような非極性溶媒中で；又は相間移動の条件下で炭化水素溶 媒だけの中でも実施できる。

本発明化合物を製造するための別の方法は、不飽和分子の１又はより多い二重結 合と交錯する５−メルカプト置換２Ｈ−ベンゾトリアゾールの付加を包含する。

実施例１２に見られる通り、アルコキシカルボニル置換メルカプタンと共に５− ハロ置換２Ｈ−ベンゾトリアゾールを使用する方法では、期待したチオエーテル 化合物が単離されない。逆ミカエル反応が起きる代わりに、単離される化合物は 、式Ｂ又は■中でＴ＝−３−であるビス−スルフィドである。

本発明のスルホキシドとスルホンは、過酸化水素、ｍ−クロロ過安息香酸等のよ うな常用の酸化剤を使用する酸化により、該当するチオエーテルから製造される 。

安定化できる一般のポリマーには下記のポリマーが包含される； １、モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えば（所望により架橋結 合できる）ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１ 、ポリメチルペンテン−１、ポリイソプレン又はポリブタジェン、並びにシクロ オレフィン例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー。

２、　１．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチ レンとの混合物。

３、モノオレフィンとジオレフィン相互又は他のビニルモノマーとのコポリマー 、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、プロピレン／ブテン−１、プロピレ ン／イソブチレン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタジェン、イソブチ レン／イソプレン、エチレン／アルキルアクリレート、エチレン／アルキルメタ クリレート、エチレン／ビニルアセテート又はエチレン／アクリル酸コポリマー 及びそれらの塩類（アイオノマー）、及びエチレンとプロピレンとジエン例えば ヘキサジエン、ジシクロペンタジェン又はエチリデン−ノルボルネンのようなも のとのターポリマー。

４、ポリスチレン、ポリ＝（α−メチルスチレン）。

５、スチレン又はα−メチルスチレンとジエン又はアシル誘導体とのコポリマー 、例えばスチレン／ブタジェン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチ ルメタクリレート、スチレン／ブタジェン／エチルアクリレート、スチレン／ア クリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマーと別のポリマー、例 えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン／プロピレン／ジェンター ポリマーのようなものからの高耐衝撃性混合物；及びスチレンのブロックコポリ マー例えばスチレン／ブタジェン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン 、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチレン／プロピレ ン／スチレンのようなの。

６、スチレン又はαメチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジェ ンにスチレン、ポリブタジェン−スチレン又はポリブタジェン−アクリロニトリ ルにスチレンのようなもの；ポリブタジェンにスチレンとアルキルアクリレート 又はメタクリレート、エチレン／プロピレン／ジェンターポリマーにスチレン及 びアクリロニトリル、ポリアクリレート又はポリメタクリレートにスチレン及び アクリロニトリル、アクリレート／ブタジェンコポリマーにスチレン及びアクリ ロニトリル、並びにこれらと５．に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢ Ｓ−１ＭＢＳ−１ＡＳＡ−又はＡＥＳ−ポリマーとして知られているコポリマー 混合物。

７、ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、塩素化又は クロロスルホン化ポリエチレン、エビクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、ハ ロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ リデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、 例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニル、塩化ビニリデン ／酢酸ビニルコポリマー、又はフッ化ビニル／ビニルエーテルポリマー。

８、α、β−不飽和酸及びその誘導体から誘導されたポリマー、例えばポリアク リレート及びポリメタアクリレート、ポリアクリルアミド及びポリアクリロニト リル。

９、前項８．に挙げたモノマー相互の又は他の不飽和モノマーとのコポリマー、 例えばアクリロニトリル／ブタジェン、アクリロニトリル／アルキルアクリレー ト、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロニトリル ／ハロゲン化ビニルコポリマー又はアクリロニトリル／アルキルメタアクリレー ト／ブタジェンターポリマー。

１０、不飽和アルコール及びアミン又はそれらのアシル誘導体又はそれらのアセ タールから誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル 、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、 ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン。

１１、環状エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例えばポリアルキレングリ コール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はこれらとビス−グ リシジルエーテルとのコポリマー。

１２、ポリアセタール、例えばポリオキシメチレン及びエチレンオキシドをコモ ノマーとして含むポリオキシメチレン。

１３、ポリフェニレンオキシド及びスルフィド並びにポリフェニレンオキシドと ポリスチレンとの混合物。

１４、一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステル又 はポリブタジェンと他方の成分として脂肪族又は芳香族ポリイソシアネートとか ら誘導されたポリウレタン並びにその前駆物質（ポリイソシアネート、ポリオー ル又はプレポリマー）。

１５、ジアミン及びジカルボン酸及び／又はアミノカルボン酸又は相当するラク タムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリア ミド６／６、ポリアミド６／１０．ポリアミド１１、ポリアミド１２、ポリ−２ ，４，４−トリメチルへキサメチレンテレフタルアミド、ポリ−ｐ−フェニレン テレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド、並びに、これら とポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又 はポリテトラメチレングリコールとのコポリマー。

１６、ポリ尿素、ポリイミド及びポリアミド−イミド。

１７、ジカルボン酸及びジオール及び／又はヒドロキシカルボン酸又は相当する ラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポ リブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロール−シクロヘキサンテレ フタレート、ポリ−［２，２−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン］テレフ タレート及びポリヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基を含有するポ リエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル。

１８、ポリカーボネート。

１９、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。

２０、一方の成分としてアルデヒド及び他方の成分としてフェノール、尿素及び メラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹 脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。

２１、乾性及び不乾性アルキド樹脂。

２２、飽和及び不飽和ジカルボン酸と多価アルコール及び架橋剤としてのビニル 化合物とのコポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂並びに燃焼性 の低いそれらのハロゲン含有変性物。

２３、置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレート、ウレタン−アク リレート又はポリエステル−アクリレートのようなものから誘導された熱硬化性 アクリル樹脂。

２４、架橋剤としてのメラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネート又はエポキ シ樹脂と混合しであるアルキド樹脂、ポリエステル樹脂又はアクリレート樹脂。

２５、ポリエポキシド、例えばとスーブリシジルエーテル、又は脂環式ジエボキ シドから誘導された架橋エポキシ樹脂。

２６、天然ポリマー、例えばセルロース、ゴム、ゼラチン及びこれらの重合同族 体方法で化学的に変性させた誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セル ロース及び酪酸セルロースのようなもの、又はセルロースエーテル、例えばメチ ルセルロースのようなもの；ロジン及びそれらの誘導体。

２７、前記したポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポ リアミド６／ＥＰＤＭ又はＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ ＭＢＳ。

ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＢ／ＡＢＳ。

２８、純単量体化合物又はその化合物からなる天然及び合成有機材料、例えば鉱 油、動物及び植物脂肪、オイル及びワックス又は合成エステル（例えばフタレー ト、アジペート、ホスフェート又はトリメリテート）をベースとした上記オイル 、脂肪及びワックス、並びに合成エステルのどんな重量比でも混合された鉱油と の混合物で、その材料はポリマーのための繊維紡績油として並びにこのような材 料の水性エマルジョンとして使用され得る。

２９、天然又は合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天然ラテックス又はカルボ キシル化スチレン／ブタジェンコポリマーのラテックス。

３０、例えば、米国特許第４．２５９，４８７号に記述されている軟質、親水性 のポリシロキサン類、および、例えば、米国特許第４，３５５，１４７号に記述 されている硬質のポリオルガノシロキサン類。

３１、不飽和アクリルポリアセトアセテート樹脂と、または不飽和アクリル樹脂 と組み合わせたポリケチミン類。

その不飽和アクリル樹脂は、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート 、側基の不飽和基を持つビニルまたはアクリルコポリマーおよびアクリル化した メラミン類。ポリケチミン類は、酸触媒の存在下、ポリアミンとケトンから製造 される。

３２、エチレン不飽和性のモノマーまたはオリゴマーおよび多不飽和脂肪族オリ ゴマーを含有する放射線硬化性組成物。

３３、　ＬＳＥ−４１０３（モンサンド）のようなエポキシ官能性のコニ−チル 化したハイソリッドメラミンにより架橋した光安定性エポキシ樹脂のようなエポ キシ官能性　ン。

概して、本発明の化合物は、安定化した組成物の約０．０１ないし約５重量％で 使用されるが、これは個々の基材と使用法によって変化するだろう。有利な範囲 は、約０．０５ないし約２％、そして特に０．１ないし約１％である。

本発明の安定剤は、通常の方法により有機ポリマー中へ混和されてよく、その混 和はそれから製造される造形製品の製造前の如何なる便利な段階であってもよい 。例えば、安定剤は乾燥した粉末状でポリマーと混合してよく、または安定剤の けん濁液または乳濁液をポリマーの溶液、けん濁液または乳濁液と混合してよい 。本発明の得られた安定化したポリマー組成物は、他の安定剤、下記した安定剤 の例またはそれらの混合物も、約０．０１ないし約５重量％、好ましくは約０． ０２５ないし約２重量％、そして特に０．１ないし約１重量％含有してい一ジー ｔｅｒｔ−ブチルー４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−シ スチルフエノール、２゜６−シーｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２ ．６−シーｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−シーｔｅｒ ｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−シシクロペンチルー４−メチ ルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−シスチルフエノー ル、２，６−シオクタデシルー４−メチルフェノール、２，４．６−トリシクロ ヘキシルフエノール、２，６−シーｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェ ノール。

１．２．アルキルチオメチルフェノール類、例えば、２．４−ジオクチルチオメ チル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６− メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２ ，６−ジ−ドテシルチオメチルー４−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−メトキシフェ ノール、２．５−ジーｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジーｔｅｒｔ −アミルハイドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノ ール。

４−メチルフェノール）、２．２’−チオビス−（４−オクチルフェノール）、 ４．４’−チオビス−（６−１ｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４． ４’−チオビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノ２′−メチレンビ ス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２．２’−メチレンビ ス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２．２’−メチレンビ ス−［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２．２’ 　−メチレンビス−（４−メチル−６−シクロヘキジルフエノール）、２゜２′ −メチレンビス−（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２．２’−メチレン −ビス−［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２．２’　 −メチレンビス［６−（α、α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］ 、２．２’−メチレンビス−（４゜６−シーｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２ ．２’−エチリデンビス−（４，６−シーｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２． ２’　−エチリデンビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール ）、４．４’−メチレンビス−（２，６−シーｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、 ４．４’−メチレンビス−（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、 １．１−ビス−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル ）ブタン、２，６−ジー（（−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ ベンジル）−４−メチルフェノール、１，１．３−トリス−（５−ｔｅｒｔ−ブ チル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−ブタン、１゜１−ビス−（５− ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシル メルカプトブタン、エチレングリコール　ビス［３，３−ビス−（３’−ｔｅｒ ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ジー（３−ｔｅｒｔ− ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジェン、ジー　 ［２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル） −６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニルコテレフタレート。

１．５．ベンジル化合物、例えば、１，３．５−トリー（Ｌ５−ジーｔｅｒｔ− ブチルー４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ビス（ ３゜５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、３，５ −ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシベンジル−メルカプト酢酸イソオクチ ルエステル、ジチオテレフタル酸ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ −２，６−シスチルペンシル）、１，３．５−トリス−（３，５−ジーｔｅｒｔ −ブチルー４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，８．５−トリス− （４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−シスチルベンジル）イソシ アヌレート、３．５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシベンジル−リン酸 −ジオクタデシルエステル、３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシベ ンジル−リン酸−モツメチルエステルのカルシウム塩。

１．６．アシルアミノフェノール類、例えば、ラウリン酸４−ヒドロキシアニリ ド、ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、２，４−ビス−オクチルメルカプト −６−（３，５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−８−トリアジ ン、オクチル　Ｎ−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル ）−カルバメート。

価アルコールとのエステル類、 アルコールの例：メタノール、オクタデカノール、１゜６−ヘキサンジオール、 ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、 トリエチレングリコール、ペンタエリスリット、トリス−ヒドロキシエチル＝イ ソシアヌレート、ジーヒドロキシエチル＝蓚酸ジアミド。

１．８．β−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ−３−メチルフ ェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル類、アル コールの例：メタノール、オクタデカノール、１゜６−ヘキサンジオール、ネオ ペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ エチレングリコール、ペンタエリスリット、トリス−ヒドロキシエチル＝イソシ アヌレート、ジーヒドロキシエチル＝蓚酸ジアミド。

１．９．　−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル）プロ ピオン酸のアミド類、例えばＮ、Ｎ’−ジー（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー ４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−へキサメチレンジアミン、Ｎ、Ｎ’− ジー（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニルプロピオニル） −トリメチレンジアミン、Ｎ、Ｎ’−ビス（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４ −ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヒドラジン。

１．１０ジアリールアミン、例えばジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフ チルアミン、Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、 ４．４’−ジーｔｅｒｔ−オクチルージフェニルアミン、Ｎ−フェニルベンジル アミンと２．４．４−トリメチルペンテンの反応生成物、ジフェニルアミンと２ ．４．４−トリメチルペンテンとの反応生成物、Ｎ−フェニル−１−ナフチルア ミンと２．４．４−トリメチルペンテンとの反応生成物。

５′−メチル、３’、５’−ジーｔｅｒｔ−ブチル−１５’−ｔｅｒｔ−ブチル −１５’　−（１，１，Ｌ　３−テトラメチルブチル）−１５−クロロ−３’、 ５’−ジーｔｅｒｔ−ブチルー１５−クロロ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５′− メチル−１３’　−８ｅｃ−ブチル−５′−ｔｅｒｔ−ブチル、４′−オクトキ シ−，８’、５’−ジーｔｅｒｔ−アミル、３’、５’−ビス（α、α−ジメチ ルベンジル）−１３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（２−（オメガ−ヒドロキシ −オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル−エチル）−１３′−ドデシル−５′ −メチル、及び３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’　−（２−オクチルオキシカルボ ニル）エチル−１及びドデシル化−５′−メチル誘導体。

２．２．２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン類、例えば４−ヒドロキシ−１４−メ トキシ−１４−オクトキシ−，４−デシルオキシ−１４−ドデシルオキシ−１４ −ベンジルオキシ−１４，２’、４’−トリヒドロキシ−および２′−ヒドロキ シ−４，４′−ジメトキシ誘導体。

２．３．所望により置換された安息香酸のエステル類、例えば、サリチル酸フェ ニル、サリチル酸４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、サリチル酸オクチルフェニル 、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レゾル シノール、ベンゾイルレゾルシノール、３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒ ドロキシ安息香酸２，４−ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニルエステル及び３，５− ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル。

２．４．アクリレート類１、例えば α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリル酸エチルエステル又はイソオクチルエ ステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル −ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエステル又はブチルエステル、α−カルボメトキシ −ｐ−メトキシ桂皮酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノ ビニル）−２−２，２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブ チル）−フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって 、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキ シル−ジ−エタノールアミンのような他の配位子を伴うもの；ニッケルジブチル ジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−８，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルベンジル ホスホン酸モノアルキルエステル、例えばメチル、エチル若しくはブチルエステ ルのニッケル塩、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシム のようなケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒド ロキシピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うもの。

２．６．立体障害性アミン、例えば セバシン酸ビス（２，２，６，６−チトラメチルピペリジル）、セバシン酸ビス （１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）、ｎ−ブチル−３，５−ジー ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシベンジルマロン酸＝ビス−（１，２，２，６ ，６−ペンタメチルピペリジル）、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テ トラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ、Ｎ’　 −（２，２，６，６−チトラメチルビベリジル）へキサメチレンジアミンと４− ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮 合生成物、ニトリロトリ酢酸トリス−（２，２，８，６−テトラメチル−４−ピ ペリジル）、１，２．Ｌ　４−ブタンテトラカルボン酸テトラキス−（２，２， ６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、１．１’　（１，２−エタンジイル ）−ビス−（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）。

２．７．シュウ酸ジアミド類１、例えば、４，４′−ジ−オクチル−オキシオキ サニリド、２，２′〜ジ−オクチルオキシ−５，５′−ジーｔｅｒｔ−ブチルオ キサニリド、２，２′−ジ−ドデシルオキシ−５，５′−ジーｔｅｒｔ−ブチル オキサニリド、２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、Ｎ、Ｎ’−ビス（３ −ジメチルアミノプロピル）オキサラミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチ ル−２′−エチルオキサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル− ５，４′−ジーｔｅｒｔ−ブチルーオキサニリドとの混合物、および。−および ｐ−メトキシー二置換オキサニリドの混合物、および０−およびｐ−エトキシー 二置換オキサニリドの混合物。

２．８．ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン類、例えば、 ２．６−ビス（２，４−ジメチルフェニル’）　−４−（２−ヒドロキシ−４− オクチルオキシフェニル）−Ｓ−トリアジン；２，６−ビス（２，４−ジメチル フェニル）−４−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−ｓ−）リアジン；２，４ −ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（４−クロロフェニル）−ｓ− トリアジン；２゜４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ） フェニル］−６−（４−クロロフェニル）−Ｓ−トリアジン；２，４−ビス［２ −ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニルコー６−（２，４−ジ メチルフェニル）−Ｓ−トリアジン；２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２ −ヒドロキシエトキシ）フェニル］　−６−（４−ブロモフェニル）−ｓ−）リ アジン；２．４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−アセトキシエトキシ）フェ ニル］　−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−）リアジン；２，４−ビス（２， ４−ジヒドロキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−８−Ｎ、Ｎ ’−ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラルーＮ′−サリチロイルヒドラ ジン、Ｎ、Ｎ’　−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ、Ｎ’−ビス（３，５ −’）−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン 、３−サリチロイルアミノ−１゜２．４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン） オキサロジヒドラジッド　［ｂｉｓ（ｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅ）ｏｘａｌｉｃ　 ａｃｉｄ　ｄｉｈｙｄｒａｚｉｄｅｌ。

４、　亜リン酸エステル類およびホスホナイト類、例えば亜リン酸トリフェニル 、亜すン酸ジフェニル＝アルキル、亜すン酸フェニル＝ジアルキル、亜リン酸ト リー（ノニルフェニル）、亜リン酸トリラウリル、亜リン酸トリオクタデシル、 ジステアリル＝ペンタエリトリトール＝ジホスフィット、亜リン酸トリス（２， ４−ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニル）、ジイソデシル＝ペンタエリトリトール＝ ジホスフィット、ジー（２，４−ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリス リットニジホスフィツト、トリステアリル＝ソルビトール＝トリホスフィツト、 テトラキス−（２，４−ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４．４’−ジフェニレ ンジホスホナイト。

５、　過酸化物スカベンジャー、例えばβ−チオジプロピオン酸のエステル、例 えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプト ベンズイミダゾール、または２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブ チルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト ール＝テトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピＮ、Ｎ−ジベンジルヒドロ キシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジオクチルヒド ロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジオクタデ シルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ −ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒ ドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、 水素化獣脂アミンから誘導したＮ、Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。

７、ニトロン類、例えばＮ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α −メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−へブチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α− ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサ デシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−才クタデシル−α−ヘプタデシルニト ロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α− ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−才 クタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水素化した獣脂から誘導したＮ。

Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニドヨウ化物および／または リン化合物と組合せた銅塩、および二価マンガンの塩。

９、　塩基性補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート 、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂 肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウ ム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リ シノール酸ナトリウムおよびパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモ ン、またはピロカテコール酸亜鉛。

アジピン酸およびジフェニル酢酸。

１１．充填剤および強化剤、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、雲母 、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラックおよびグラファ イト。

１２、　その他の添加剤、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難 燃剤、静電防止剤、発泡剤及びチオジプロピオン酸ジラウリル又はチオジプロピ オン酸ジステアリル。

フェノール性の抗酸化剤で特に興味のあるものは、下記のフェノール類を包含す るものから選択される：３゜５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシヒドロ 桂皮酸ｎ−オクタデシル、テトラキス（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒ ドロキシヒドロ桂皮酸）ネオペンタンテトライル、３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチ ルー４−ヒドロキシ−ベンジルホスホン酸ジ−ｎ−オクタデシル、１．３．５− トリス（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌ レート、ビス（３゜５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシヒドロ桂皮酸） チオジエチレン、１，３．５−トリメチル−２，４゜６−トリス（３，５−ジー ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ビス（３−メチル−５ −ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロ桂皮酸）３，６−シオキサオクタメ チレン、２，６−シーｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２．２’　−エチリ デン−ビス（４，６−シーｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、１，３゜５−トリス （２，６−シメチルー４−ｔｅｒｔ−ブチル−８−ヒドロキシベンジル）イソシ アヌレート、１，１゜３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ −ブチルフェニル）ブタン、１．！３．５−トリス［２−（３，５−ジーｔｅｒ ｔ−ブチルー４−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ）エチル］イソシアヌレ ート、８．５−ジ（８，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシベンジル］ メジトール、ビス（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシヒドロ桂皮 酸）へキサメチレン、１−（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシア ニリノ）−Ｌ５−ジ（オクチルチオ）　−Ｓ−トリアジン、Ｎ、Ｎ’　−へキサ メチレン−ビス　（３゜５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシヒドロシン ナムアミド）、ビス（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシベンジル ホスホン酸エチルエステル）カルシウム、ビス［３，３−ジ（３−ｔｅｒｔ−ブ チル−４−ヒドロキシフェニル）酪酸］エチレン、３，５−ジーｔ　ｅｒ　ｔ− ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプト酢酸オクチル、ビス（３，５−ジー ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシヒドロシンナモイル）ヒドラジド、Ｎ。

Ｎ′−ビス［２−（Ｌ５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシヒドロシンナ モイルオキシ）−エチル］オキサミド。

最も好ましいフェノール性の抗酸化剤は、テトラキス（３，５−ジーｔｅｒｔ− ブチルー４−ヒドロキシヒドロ桂皮酸）ネオペンタンテトライル、３，５−ジー ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシヒドロ桂皮酸ｎ−オクタデシル、１，３．５ −トリメチル−２，４，６−）リス（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒド ロキシベンジル）ベンゼン、１，３．５−トリス（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチ ルー４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，６−シーｔｅｒｔ−ブチ ル−ｐ−クレゾール又は２，２′−エチリデン−ビス（４，６−シーｔｅｒｔ− ブチルフェノール）。

ヒンダードアミンで特に興味のあるものは、下記のヒンダードアミン類を包含す るものから選択される：セノ（シン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペ リジン−４−イル）、セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ベンタメチルビベ リジンー４−イル）、（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシベンジ ル）ブチルマロン酸ジ（１，２，２，６，８−ペンタメチルピペリジン−４−イ ル）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステア リルオキシ−２，２゜６．６−テトラメチルピペリジン、３−ｎ−オクチル−７ ，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザ−スピロ［４，５］デカン −２，４−ジオン、ニトリロトリ酢酸トリス（２，２，６，６−チトラメチルー ビペリジルー４−イル）、１．２−ビス（２，２，８，６−テトラメチル−３− オキソビペラジン−４−イル）エタン、２，２，４．４−テトラメチル−７−オ キサ−３゜２０−ジアザ−２１−オキソジスピロ［５，１，１１゜２］ヘンエイ コサン、２，４−ジクロロ−６−ｔｅｒｔ−才クチルアミノ−１Ｓ−トリアジン および４，４′−へキサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメチル ピペリジン）の重縮合生成物、１−（２−ヒドロキシエチル’）−２，２，６， ６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との重縮合生成物、４ ゜４′−へキサメチレンビス（アミノ−２，２，６，８−テトラメチルピペリジ ン）と１，２−ジブロモエタンとの重縮合生成物、１，２，８．４−ブタンテト ラカルボン酸テトラキス（２，，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イ ル）、１，２，３．４−ブタンテトラカルボン酸テトラキス（１，２，２，８， ８−ペンタメチルピペリジン−４−イル）、２，４−ジクロロ−６−モルホリノ −５−１リアジンと４，４′−へキサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６− テトラメチルピペリジン）との重縮合生成物、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’、Ｎ”−テトラキ ス［（４，６−ビス（ブチル−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４ −イル）アミノ−５−）リアジン−２−イル］−１，１０−ジアミノ−４，７− ジアザデカン、混合した１、２，３．４−ブタンテトラカルボン酸［２，２，８ ，６−テトラメチルピペリジン−４−イル／β、β、β′、β′−テトラメチル ー３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］　−ウンデカン ）ジエチル］、混合した１、２，３．４−ブタンテトラカルボン酸［１，２，２ ，６，６−ベンタメチルビペリジンー４−イル／β、β、β′、β′−テトラメ チル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］　−ウンデ カン）ジエチルコ、ビス（２゜２．６．８−テトラメチルピペリジン−４−カル ボン酸）オクタメチレン、４，４′−エチレンビス（２，２，６゜６−テトラメ チルビペラジン−３−オン）、Ｎ−２，２゜６．６−テトラメチルピペリジン− ４−イル−ｎ−ドデシルコハク酸イミド、Ｎ−１，２，２，６，６−ベンタメチ ルビベリジンー４−イル−ｎ−ドデシルコハク酸イミド、Ｎ−１−アセチル−２ ，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イルｎ−ドデシルコハク酸イミド 、１−アセチル３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−ト リアザスピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン、セバシン酸ジー（１−オクチ ルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルビベリジン−４−イル）、コハク酸ジ ー（１−シクロへキシルオキシ−２，２，６゜６−テトラメチルピペリジン−４ −イル）、１−才クチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキ シ−ピペリジン、ポリ−（［６−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−５−）リアジン− ２，４−ジイルコ　［２−（１−シクロへキシルオキシ−２，２，６，６−テト ラメチルピペリジン−４−イル）イミノ−へキサメチレン−［４−（１−シクロ へキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）イミノ ］、及び２゜４．６−トリス［Ｎ−（１−シクロへキシルオキシ−２゜２．６． ６−チトラメチルピベリジンー４−イル）　−ｎ−ブチルアミノ］−５−）リア ジン。

最も好ましいヒンダードアミン化合物は、セバシン酸ビス（２，２，６，６−テ トラメチルビベリジン−４−イル）、セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ベ ンタメチルビベリンー４−イル）、（３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒド ロキシペンシル）ブチルマロン酸ジ（１，２，２，６，６−ベンタメチルピペリ ジンー４−イル）、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６゜６−テトラメ チル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との重縮合物、２，４−ジクロロ− ５−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−８−トリアジンと４，４′−へキサメチレンビ ス（アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）の重縮合物、Ｎ、Ｎ’ 　、Ｎ′、Ｎ″−テトラキス［（４，６−ビス（ブチル−（２，２，６，６−テ トラメチル−ピペリジン−４−イル）アミノ）−Ｓ−トリアジン−２−イル］− １，１０−ジアミノ−４，７−ジアザデカン、セバシン酸ジー（１−オクチルオ キシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）、コハク酸ジー（ １−シクロへキシルオキシ−２，２，６゜６−テトラメチルピペリジン−４−イ ル）、１−才クチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシ− ピペリジン、ポリ−（［６−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−８−トリアジン−２， ４−ジイル］［２−（１−シクロへキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ ルピペリジン−４−イル）イミノ−へキサメチレン−［４−（１−シクロへキシ ルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）イミノ］、又 は２．４．６−）リス［Ｎ−（１−シクロへキシルオキシ−２，２，６，６−テ トラメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ブチルアミノ］　−Ｓ−トリアジンで ある。

下記の実施例は本発明を説明するだけの目的のためであって、いかなる方法でも っても本発明の本質と範囲を限定するために構成されているものではない。

なお、実施例１〜１３．１７．１９．２１．２３及び２５は、本発明の化合物の 出発物質の製造を説明する。

実施例１ ５−ｎ−ドデシルチオ−２−（２−ヒドロキシ−８，５−シーｔｅｒｔ−ブチル フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール 攪拌機、温度計、窒素導入口及び蒸留装置を備えた３リツトルの３頚フラスコに 、５７．８ｇ（１モル）の５−クロロ−（２−ヒドロキシ−３，５−ジーｔｅｒ ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール〔チヌヴイン（ＴＩＮＵＶＩ Ｎ）（登録商標）３２７として、チバーガイギー社から購入できる。）、２１６ ．８ｇ　（１゜０５モル）のドデシルメルカプタン及び６００ｍＬのＮ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を仕込む。次いで、７３．９ｇ　（０，５ ４モル）の炭酸カリウムと２ｇの沃化カリウムを添加し、その混合物を窒素気流 下、１５０℃で２０時間にわたり加熱する。塔頂の温度が１３２℃に到達するま で、反応の結果生じた水の全てを共沸成分として除く。１５０℃で２０時間後に 出発の２Ｈ−ベンゾトリアゾールは全て消費される。８０−１００℃で減圧にし ながら、大部分のＤＭＦを留去する。得られた油状物に８０°ＣでＩＬのトルエ ンと５００ｍＬの水を添加する。水相を排出する。トルエン溶液を１ｍＬの酢酸 を含有する５　００ｍＬの水で更に２回洗浄する。有機溶液から、透明な溶液が 得られるまで、共沸により残留水を除く。減圧下、７０℃の殆どのトルエン約１ ００ｍＬを留去する。残留分を６０℃で２Ｌのイソブパノールで希釈し、若干の 生成物の種を添加する。生成物が次第に結晶化しそしてその混合物をゆっ（りと １０℃まで冷却する。生成物をろ過してとり、３００ｍＬのイソプロパツールで 洗浄し４９０．４ｇ（理論収量の９３．６％）の表題の化合物を得る。ｍｐ、６ ２−６４℃。

実施例２ ５−フェニルチオ−２−（ヒドロキシ−３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニル ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール 攪拌機、温度計、蒸留装置及び窒素導入口を備えた２リツトルの３頚フラスコに 、２６８．４ｇ　（０，７５モル）の５−クロロ−（２−ヒドロキシ−３，５− ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、９３．７ｇ（０ ，８２５モル）のチオフェノール及び４００ｍＬのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ ド（ＤＭＦ）を仕込む。　反応器を真空にして、窒素で３回充填して不活性の雰 囲気にする。そのスラリーに６６．０ｇ（０゜８２５モル）の５０％水性水酸化 ナトリウム溶液を添加し、混合物を加熱して還流する。この時点で、塔頂の温度 が１３２℃にそして反応温度が１５０℃に到達するまで水を共沸分として除く。

１８時間後には、出発のベンゾトリアゾール化合物の残像は観察されない（ＴＬ Ｃ）。

減圧下、ＤＭＦの大部分を８０℃で留去する。次いで、残留分に５００ｍＬのト ルエンと２００ｍＬの水を添加する。８０℃で数分間にわたり攪拌した後、下層 の水相を除（。２００ｍＬの水の添加を更に２回繰り返し、２回目の添加では１ ｍＬの酢酸を添加する。残留する水分を透明な溶液が得られるまで共沸して除く 。９０℃で減圧下約３００ｍＬのトルエンを留去し、その濃縮物に８００ｍＬの イソプロパツールを添加すると、結晶化が素早く起こる。反応混合物を２０℃に 冷却しそしてろ過する。淡黄色の結晶を２５０ｍＬのイソプロパツールで洗浄し 、乾燥して、３１７ｇ（理論収量の９７．９％）の表題化合物を得る；ｍｐ、１ ３２−１３４℃。

別法として、表題の化合物を下記のようにしても合成する： 磁気攪拌機、窒素導入口及び凝縮装置を備えた２５０ｍ１の丸底フラスコに、８ ．０ｇ（０，００８４モル）の５−クロロ−（２−ヒドロキシ−３，５−ジーｔ ｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、１゜１ｇ（０，０２０ モル）の粉砕した水酸化カリウム、１゜６ｍｌ　（０，０１８モル）のチオフェ ノール、０．１３５ｇ（０，４９モル）の１８−クラウン−６、及び９ｍｌのメ シチレンを入れる。その混合物を４時間にわたり攪拌しながら還流し次いで室温 までに放冷する。酢酸エチルと２Ｎの塩酸を添加する。層を分離し、有機層を水 で１回次いで食塩水で１回洗浄し、最後に無水硫酸マグネシウム上で乾燥する。

ｎｍｒ　（ＣＤＣ１ｍ　）による粗製物の分析は、所望の表題の化合物への変換 率が約１５％であることを示している。

実施例３−１３ 実施例１と２の一般法を利用して、下記の化合物を同様にして得る、収率は典型 的には９０％以上である。

実施例　ＲＩ　Ｒｘ　Ｒ，”　Ｍ、Ｐ、（’Ｃ）３　Ｈメチル　フェニル　１０ ９−１１１４　ｔ−ブチル　メチル　ベンジｈ　１３９−１４１５　ｔ−ブチル 　メチル　フェニル　１３１−１３３６　ｔ−ブチル　ｔ−ブチル　ｎ−オクチ ル　７９−８１７　ｔ−ブチル　ｔ−ブチル　トリデシル　樹脂状８　ｔ−ブチ ル　ｔ−ブチル　ヘ牛すメチレン（ビス）　１２７−１３０９　ｔ−ブチル　ｔ −ブチル　リモネンジイル（ビス）樹脂状１０　ｔ−オクチル　ｔ−オクチｈ　 フェニル　８４−８６１１　α−クミル　α−クミル　フェニル　１１８−１２ ０１２　ｔ−ブチル　−ＣＨＩＣＨＩＣＯＯＨフエニ＃　１５６−１５７９実施 例８と９については、これは式Ｉ中のＥである。

実施例１４ ５−ベンゼンスルフィニル−２−（２−ヒドロキシ−３゜５−ジーｔｅｒｔ−ブ チルーブチルフェニル’）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール ８０ｍＬの塩化メチレンに溶解した１０．８ｇ（０゜０２５モル）の５−フェニ ルチオ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルーフェニル）− ２Ｈ−ベンゾトリアゾール（実施例２で製造した。）の溶液を３−５℃に冷却す る。３−５℃で、３０分の時間にわたり、８０ｍＬの塩化メチレン中の５．１ｇ （０，０２５モル）の８５％のｍ−クロロ過安息香酸（ＭＣＰＢＡ）を添加する 。攪拌しながら、０−５℃で２時間にわたりｍ−クロロ安息香酸の沈澱を伴いな がら、反応する。出発物質がないことが示される。溶媒を留去した後、残留分を ２００ｍＬのトルエンに溶解し、ｍ−クロロ安息香酸をろ過により除き、次いで １０％の水性炭酸ナトリウム溶液と水で洗浄する。トルエン溶液を無水硫酸マグ ネシウム上で乾燥し、ろ過しそして溶媒を留去する。得られた無定型の残留分を ８０ｍＬの石油エーテルに溶解し、結晶化する。その結晶を冷石油エーテルでろ 過し、そして洗浄して、９．８ｇ（収率：８７．６％）の表題の化合物を１５２ −１５４℃で融解する固体として得る。

実施例１５ ５−ベンゼンスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３゜５−ジーｔｅｒｔ−ブチ ルフェニル）−２Ｈ−ペンゾトリアゾール ８０ｍＬの塩化メチレンに溶解した１０．８ｇ（０゜０２５モル）の５−フェニ ルチオ−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルーフェニル）− ２Ｈ−ベンゾトリアゾール（実施例２で製造した。）の溶液を１０℃に冷却する 。１０−１５°Ｃで、２０分の時間にわたり、１００ｍＬの塩化メチレン中の１ １．２ｇ（０゜０５５モル）の８５％のｍ−クロロ過安息香酸（ＭＣＰＢＡ）を 添加する。次いで、反応混合物を室温で３時間にわたり攪拌し、次いでろ過して ｍ−クロロ安息香酸を除く。次いで、溶媒を留去した後、残留分を２００ｍＬの トルエンに溶解する。溶液を１０％の水性炭酸ナトリウム溶液、次いで水で洗浄 する。トルエン溶液の無水硫酸マグネシウム上での乾燥とろ過の後、溶液を濃縮 する。

結晶化の最初の徴候の時点で、濃縮物を１５０ｍＬのエタノールで希釈しそして 結晶化する。結晶をろ過し、メタノールで洗浄し、乾燥して９．９ｇ（収率：８ ５．４％）の表題化合物を得る、ｍｐ、１７０−１７２℃。

実施例１６ ５−ｎ−ドデシルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジーｔｅｒｔ− ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール 実施例１５に記載した一般法に従って、実施例１のチオエーテルを酸化して、９ ３−９５℃で融解する固体として８７％の収率で表題の化合物を得る。

実施例１７ ５．５′−チオビス［２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルフ ェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールコ ロ、４ｇ　（０，０６モル）の３−メルカプトプロピオン酸を、２．７６ｇのナ トリウムと８０ｍＬのエタノールの溶液に溶解する。溶媒を留去し、次いで１１ ０ｍＬのＮ、Ｎ−ジメチルアセタミドと１７．９ｇ（０，０５モル）の５−クロ ロ−２−（２−ヒドロキシ−８，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ− ベンゾトリアゾールを添加する。混合物を４８時間にわたり、窒素雰囲気下１６ ０−１６５℃で加熱する。ＴＬＣは若干量の未反応の出発物質のベンゾトリアゾ ールの存在を示す。

冷却した混合物を１５０ｍＬのトルエンを含有する水中に注ぎそして塩酸で中和 する。トルエン溶液を分離し、水で洗浄し、留去マグネシウム上で乾燥しそして ろ過する。溶液を濃縮し、エタノールで希釈する。得られた固体をろ過により単 離し、アセトンで洗浄して未反応のベンゾトリアゾールを抽出する。ろ過ケーキ を２５ｍＬのトルエンに７０℃で溶解し、８５ｍＬのアセトンを添加して生成物 を沈澱せしめる。得られた結晶をろ過して取り、アセトンで洗浄して表題化合物 ６．６ｇを得る：ｍｐ、２４５−２４８℃。

実施例１８ ５．５′−スルホニル−ビス−［２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジーｔｅｒｔ −ブチルフェニル）−２Ｈ−ペンゾトリアゾールコ ５０ｍＬの塩化メチレンに溶解した６、９ｇ　（０，０２２モル）のｍ−過安息 香酸の溶液を、１５０ｍＬの塩化メチレンに溶解した５、５′−チオビス［２− （２−ヒドロキシ−３，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾト リアゾール］　（実施例１７で製造した。）の溶液に２５−２７℃で１５分間に わたり添加する。発熱は水冷で調節する。即座に生成物とｍ−安息香酸が沈澱す る。反応物を３時間攪拌した後、４％水溶液として１．２ｇ　（０，０３モル） の水酸化ナトリウムを添加して、ｍ−クロロ安息香酸を溶解する。減圧下、反応 混合物から塩化メチレンを留去し、次いで７５ｍＬのメタノールで希釈する。生 成物をろ過し、ろ過ケーキを水とメタノールで充分に洗浄し、６．５ｇの表題化 合物を得る：ｍｐ、＞３００℃。

実施例１９ ５−フェニルチオ−２−［２−ヒドロキシ−８−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（３− ヒドロキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール 磁気攪拌機を備えた２リツトルのエルシンマイヤーフラスコ中に入れた。５００ ｍＬの無水ジエチルエーテル中のリチウムアルミニウムハイドライド（６，０ｇ 、０゜１６モル）のけん濁液に、５００ｍ１の無水ジエチルエーテル中の５−ク ロロ−２−［２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２−メトキシカル ボニルエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール　３０．１ｇ（０，０７ ８モル）の溶液を滴下する。混合物を室温で更に１．５時間攪拌し、過剰の水素 化物を酢酸エチルで失活する。ゲルが形成するまで水を添加し、その混合物を無 水硫酸マグネシウム上で乾燥し、ろ過し、そして溶媒を減圧下留去して、２８． ７ｇ（収率：１００％）の黄色の中間体化合物を得る； ｍｐ　１０５−１０６℃。

磁気攪拌機、凝縮器を備えそして窒素雰囲気にしである１リツトルの丸底フラス コに、２４０ｍ１のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドに入れた２７．７ｇ　（０， ０７７モル）の上で合成した中間体化合物、１０．６ｇ（０゜０７７モル）の炭 酸カリウム、１．２ｇの沃化カリウム、及び８．４８ｇ　（０，０７７モル）の チオフェノールを入れる。予熱した油浴（１６５℃）にフラスコを入れ、混合物 をこの温度で４．５時間攪拌する。室温に冷却した後、攪拌を更に１８時間続け る。次いで、反応混合物を５００ｍＬの水に注ぐ。水層を濃塩酸で中和し、次い で酢酸エチルで抽出する。合わせた有機層をＩＮ塩酸で２回、食塩水で１回洗浄 し、次いで無水硫酸マグネシウム上で乾燥する。溶媒を減圧下留去して、３０． １ｇの黄橙色の固体を得る。粗製の物質をヘプタンから再結晶して２６．３ｇ（ 収率ニア９％）の表題化合物を黄色粉末として得る。

分析：理論式Ｃ□Ｈ２ｖＮｔ　Ｏｘ　Ｓ計算値：　Ｃ，６９，３；　Ｈ，６，３ ，Ｎ、９．７゜実測値：　Ｃ，６８，９；　Ｈ，６，０，Ｎ、９．７゜実施例２ ０ ５−ベンゼンスルホニル−２−［２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５− （３−ヒドロキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール 磁気攪拌機を備え、窒素雰囲気にした１リツトルの丸底フラスコに、４００ｍＬ の塩化メチレンに溶解した１３．１ｇ　（０，０３０モル）の５−フェニルチオ −２−［２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（３−ヒドロキシプロピ ル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリア　′ゾールの溶液を仕込む。溶液を水浴中 で冷却し、２０゜７ｇ（０，０６０モル）の（５０−６０％）のｍ−クロロ安息 香酸を少量宛素早く添加する。反応混合物を２時間にわたり低温で攪拌する。生 成した沈澱をろ過して除き、溶媒を減圧下留去する。残留物を酢酸エチルに取り 、１０％の亜硫酸ナトリウムで１回、飽和重炭酸ナトリウム溶液で５回及び食塩 水で１回洗浄する。無水硫酸マグネシウム上の乾燥後、溶媒を減圧下留去して１ １．７ｇの黄色固体を得る。粗製品を１／１の酢酸エチル／ヘプタンから再結晶 して、黄色粉末として１０．１　ｇ　（収率７２％）の表題の化合物を得る＋ｍ ｐ、１５９−１６１℃。

分析：理論式Ｃ，ＳＨ，，Ｎ、Ｏ，Ｓ 計算値：　Ｃ，６４，５，Ｈ，５，８，Ｎ、９．０゜実測値：　Ｃ，６３，５； 　Ｈ，５，２，Ｎ、８．８゜実施例２１ ３−（５−フェニルチオ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒ ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロケイ皮酸 機械攪拌機を備え、窒素雰囲気にした１リツトルの４頚丸底フラスコに、１００ ．０ｇ（０，２５８モル）のメチル＝３−　（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリア ゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメー ト、３．．５０ｍＬのＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド及び６１．９ｇ（０，７７ ３モル）の５０％水性水酸化ナトリウム溶液を入れる。その混合物を７５−８０ ℃で３時間にわたり加熱すると、エステル加水分解は完了する。触媒量の沃化カ リウム（５，０ｇ）を添加する。次いで、チオフェノール（３２，２ｇ、０．２ ５８モル）を２０分間にわたり添加し、その間温度は７５−８０℃である。チオ フェノールの添加の間に攪拌を容易にするために、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ ドの追加分（２００ｍＬ）を添加する。２５ｍＬの水／メタノール分を除去し、 溶液を４８時間にわたり還流する。反応混合物を冷却し、次いで１．ＯＬのＩＮ 塩酸と１．ＯＬの酢酸エチルの間で分配する。相を分離し、有機相を無水硫酸マ グネシウム上で乾燥し、次いで溶媒を、全体積が５００ｍＬになるまで減圧下留 去する。これに２００ｍＬのへブタンを゛添加し、そして溶液を一夜静置する。

生成した結晶を吸引ろ過により集め、９：１のへブタン：酢酸エチルで洗浄し、 ８３．５ｇ（収率ニア２％）の表題化合物を得る：ｍｐ　１５４−１５６℃。

実施例２２ ３−（５−ベンゼンスルホニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５− ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロケイ皮酸 実施例１５の一般法に従い、実施例２１で合成した化合物を出発物質として使用 すると、表題の化合物を得る。

実施例２３ ３−（５−フェニルチオ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒ ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロケイ皮酸アミド 磁気攪拌機、凝縮器及び窒素導入口を備えた乾燥した５　００ｍＬの丸底フラス コに、３．０ｇ（０，００６７モル）の３−（５−フェニルチオ−２Ｈ−ベンゾ トリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロケイ 皮酸、８ｍＬのオキザリルクロライド及び均一の溶液を形成するのに充分な量（ 約４ｍＬ）のクロロホルムを添加する。溶液を１時間還流し、次いで室温で一夜 攪拌する。オキザリルクロライドを減圧下留去して約３．５ｇの黄色液体を得る 。固体のＩＲスペクトル（クロロホルムからの薄層）は、酸クロライド（１７９ ５Ｇ！ｌ−’）中間体の完全な形成を表している。

磁気攪拌機を備えた５　００ｍＬの丸底フラスコに、２５０ｍＬの無水エタノー ルを入れる。−５℃に冷却した後、アンモニアを約１ｇ（０，０６モル）が吸収 されるまで溶媒中にバブルして通過させる。前述の酸クロライドをアンモニア溶 液に少し宛、素早く添加すると赤色溶液を生成する。その混合物を室温まで暖め て、−夜攪拌する。エタノールを減圧下留去し、残留分を酢酸エチルにとる。そ の溶液を水（１回）、飽和炭酸ナトリウム（１回）次いで食塩水（１回）で洗浄 する。合わせた水層を酢酸エチルで２回抽出し、そして合わせた有機層を無水硫 酸マグネシウム上で乾燥する。溶媒を留去して、３．１ｇの褐色固体を得る。粗 生成物を、エタノール／水から再結晶して、褐色固体として１．８５ｇ（収率： ６２％）の純粋なアミドを得る； ｍｐ　１２８−１３０℃。

分析：理論式ＣｚｓＨ＊＠Ｎ　４０　ｚｓ計算値：　Ｃ，６７，２；　Ｈ，５， ９，Ｎ、１２．５゜実測値：　Ｃ，６６，７，Ｈ＋５−７；　Ｎ、１２．３実施 例２４ ３−（５−ベンゼンスルホニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５− ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロケイ皮酸アミド 磁気攪拌機を備えた１　００ｍＬの丸底フラスコに、１０ｍＬの塩化メチレンに 溶解したＯ−４６ｇ（１，０ミリモル）の３−（５−フェニルチオ−２Ｈ−ベン ゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロケ イ皮酸アミドの溶液を入れる。溶液を水浴中攪拌して冷却し、約０．７０ｇの５ ０−６０％のｍ−クロロ安息香酸、ＭＣＰＢＡ、（２ｅｑ）を少しずつ素早（添 加する。溶液を室温まで暖めて、更に１５分間攪拌する。溶媒を減圧下留去して 、残留分を酢酸エチルに再溶解する。この溶液を水で１回、飽和重炭酸ナトリウ ムで５回、そして食塩水で１回洗浄する。無水の硫酸マグネシウム上乾燥した後 、溶媒を留去して０．５３ｇの黄色固体を得る。粗生成物を溶離液として８０％ 酢酸エチル／ヘプタンを使用する中圧のシリカゲルカラムにかける。純品のフラ クションを合わせて、黄色結晶として０．３０ｇ（収率：６３％）の表題化合物 を得る：ｍｐ　１４４−１４５℃。

分析：理論式Ｃ２８Ｈ２１Ｎ　４０４Ｓ　：計算値：　Ｃ，６２，７，Ｈ，５， ５；　Ｎ、１１．７゜実測値：　Ｃ，６１，８，Ｈ，５，４，Ｎ、１１．１゜実 施例２５ ３−　［３−（５−フェニルチオ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５ −ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシナモイルオキシコ−２−ヒドロキ シプロピル＝メタクリレート及び２−　［３−（５−フェニルチオ−２Ｈ−ベン ゾトリアゾール−２−イル）　−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロ シナモイルオキシ］−３−ヒドロキシプロピル＝メタクリレートの異性体混合物 磁気攪拌機を備えた２　５０ｍＬの丸底フラスコに、２０．０ｇ（０，０４４７ モル）の３−（５−フェニルチオ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５ −ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロケイ皮酸、０．　２０ｇの４−メト キシフェノール、１．５０ｇのテトラブチルアンモニウムプロミド、６．６０ｇ （０，０４６０モル）のグリシジルメタクリレート及び１５０ｍＬのトルエンを 入れる。攪拌した混合物を６時間にわたり還流する。室温に放冷した後、その混 合物を水（１回）で洗浄し、溶媒を減圧下留去して淡黄色粘稠油として２７゜３ ｇ（収率：１００％）の表題化合物を得る。ｎ　ｍ　ｒによる分析は、生成物が ＡとＢの異性体混合物（Ａ　：　Ｂ。

７８：２２）であることを表している。

分析：理論式Ｃ１Ｈ＊ｓＮ　−ＯｓＳ　：計算値：　Ｃ，６５，２；　Ｈ，６， ０；　Ｎ、７．１゜実測値：　Ｃ，６６，９；　Ｈ，６，６；　Ｎ、６．５゜実 施例２６ ３−　［３−（５−ベンゼンスルホニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル ）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ］−２− ヒドロキシプロピル＝メタクリレート及び２−　［３−（５−ベンゼンスルホニ ル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロ キシヒドロシンモイルオキシコ−３−ヒドロキシプロとル＝メタクリレートの異 性体混合物 グリシジルメタクリレートを、実施例２５の方法に従って、実施例２２で合成し た置換ヒドロケイ皮酸に添加すると、表題の混合物が得られる。

実施例２７ ５−ベンゼンスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ　ｅｒ　ｔ−ブチル− ５−［２−（ω−ヒドロキシ−オクタ（エチレンオキシ）−カルボニルエチルコ フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール 磁気攪拌機を備えた２５０ｍＬの丸底フラスコに、４０ｍＬの塩化メチレン中の ３．８３ｇ（０，００５７モル）の５−フェニルチオ−２−（２−ヒドロキシ− ３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−［２−（ω−ヒドロキシ−オクタ（エチレンオキシ ）カルボニルエチル〕フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを入れる。その攪 拌している溶液に、３．９ｇ　（０，０１２モル）のｍ−りロワ安息香酸（５０ −６０％）を少し宛素早く添加する。混合物を３０分間にわたり攪拌し、次いで ろ過しそして溶媒を留去する。残留分を酢酸エチルに取る。溶液を飽和水性炭酸 ナトリウムで２回、飽和水性重炭酸ナトリウムで３回そして食塩水で１回洗浄す る。無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、溶媒を減圧下留去して粘稠性黄色油 として２．４３ｇ（収率：６４％）の表題化合物を得る。

ｎｍｒ　（ＣＤＣＩｓ　）による分析は、所望の構造と一致５−ベンゼンスルホ ニルー２−［２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（β−オクチルオキ シカルボニルエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール磁気攪拌機を備え 、窒素雰囲気にした５　００ｍＬの丸底フラスコに、２５０ｍＬの塩化メチレン に溶解した１４．８ｇＣ０，０２６モル）の５−チオフェニル−２−［２−ヒド ロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（β−オクチルオキシカルボニルエチル） フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの溶液を入れる。その溶液を水浴中で冷 却し次いで１４．７ｇＣ０，０５２モル）のｍ−クロロ安息香酸（５０−６０％ ）を少しずつ素早（添加する。反応混合物を室温になるまでにして、ろ過する。

溶媒を減圧下留去して、残留分を酢酸エチルに取る。この溶液を飽和重炭酸ナト リウム（５回）、次いで食塩水で１回洗浄し、そして最後に無水硫酸マグネシウ ム上で乾燥する。溶媒を留去した後、中圧クロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘ プタン）で精製して、黄色の固体として１１．５ｇ（収率ニア５％）の純粋な表 題の化合物を得る；ｍｐ６２−６３℃。

分析：理論式Ｃ、、Ｈ、、Ｎ　、０　、Ｓ　：計算値：　Ｃ，６７，０，Ｈ，７ ，０，Ｎ、７，１゜実測値：　Ｃ，６６，８；　Ｈ，６，９；　Ｎ、７．１゜実 施例２９ 置換・５−スルホニルベンゾトリアゾール紫外線−吸収剤のスペクトル的特性 下記の表は、幾つかの２Ｈ−ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤の最大吸収、分子 及び比吸光係数を示す。技術状態の市販のベンゾトリアゾール紫外線吸収剤、２ −［２−ヒドロキシ−３，５−ジー（α、α−ジメチルベンジル）フェニル］− ２Ｈ−ベンゾトリアゾール、及び本発明の５−スルホキシド及び５−スルホン置 換化合物の若干数を試験する。

各々の試料の濃度は同一、即ちｚｏｍｇ／Ｌである。

３５６ないし３６５ｎｍにおけるスルホキシドとスルホン化合物の最大吸収はレ ッドシフト、換言すれば、３４２ｎｍ（ε１５，５００）で最大吸収を持つ市販 の対照と比較して可視方向に少な（とも１２ｎｍシフトしている。

呻 碕 実施例３０ 本発明の紫外線吸収剤は、比較的長波長の紫外線に対して感受性のある基材の保 護に特に効果的である。これは多（の芳香族系を包含する。自動車と他の産業利 用で重要なプライマーであるエポキシ樹脂は重要なその例である。光線は自動車 の透明な塗膜と下塗に透過できそしてプライマー／下塗の界面におけるプライマ ーを破壊する。これは次に、トップコートそのものが依然として優れた状態にあ るとしても、トップコートの粘着性の喪失を伴う。高湿度への暴露はこの離層現 象を容易にする。

市販のエポキシプライマーを含み、陰極電着により付着しである鋼鉄製試験パネ ルは、アドバンス・コーティング・テクノロジー、インコーポレーション（Ａｄ ｖａｎｃｅＣｏａｔｉｎｇ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、Ｉｎｃ、）から取得した４ ’Ｘ１２’（１０，１６ｃｍＸ３０．４８ｃｍ）の二ニブライム（ＵＮｔＰＲＩ ＭＥりパネル上に、１．８−２．０ミル（ｍｉｌ）（０，０４６−０，０５１ｍ ｍ）厚の市販のハイソリッド熱硬化性のアクリル・メラミンの透明塗膜フィルム を直接塗布することにより製造する。次いで、塗布したパネルを２５０’Ｆ（１ ２１℃）で３０分間焼き付ける。

空調室に１週間貯蔵した後、塗布したパネルを、フロリダ州で、ＳＡＥ　Ｊ１９ ７６に従った５°サウス・ブラック・ボックス（５ｄｅｇｒｅｅｓ　５ｏｕｔｈ 　ｂｌａｃｋ　ｂｏｘ）で５５日間にわたり暴露する。パネルは５６ＭＪ／ｍ’ の紫外線照射を受ける。安定化してないパネルは戸外の暴露の間に離層するので 、それ以上の試験に供しない。次いで、残りのパネルを相対湿度１００％と１０ ０℃でのＱＣＴ湿潤箱中に置き（Ｑ−パネル社）、ふくれと離層を日毎にチェッ クする。その結果を下記の表に示す。

つ 第４日の湿度暴露の後、ＡＳＴＭ　Ｄ−３３５９に従って、実施例１５の化合物 により安定化されたパネルを粘着性について試験する。そしてその度合いは３− ４Ｂである（５Ｂは粘着性の損失がなく、そしてＯＢは粘着性の損失が６５％以 上である。）。

これらの結果は、近可視領域において増大した吸収をする本発明のベンゾトリア ゾールは、日光と高湿度条件に対する長期間の暴露後の離層から自動車の塗膜を 保護するのに特に効果的である。

実施例３１ 電着塗膜プライマー上に直接塗布した、紫外線吸収剤を含有するハイソリッド熱 硬化性透明塗膜の離層抵抗性市販のエポキシプライマーを含み、陰極電着により 付着しである鋼鉄製試験パネルは、アドバンス・コーティング・テクノロジー、 インコーポレーション（ＡｄｖａｎｃｅＣｏａｔｉｎｇ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ 、Ｉｎｃ、）から取得した４’Ｘ１２’（１０，１６ｃｍｘ３０．４８　ｃｍ） の二ニブライム（ＵＮＩＰＲＩＭＥ）パネル上に、１．８−２．０ミル（ｍｉｌ ）（０，０４６−０，０５１ｍｍ）厚の市販のハイソリッド熱硬化性のアクリル ・メラミンであって、試験の紫外線吸収剤を掲示した量含有するそれの透明塗膜 フィルムを直接塗布することにより製造する。次いで、塗布したパネルを２５０ ’　Ｆ　（１２１℃）で３０分間焼き付ける。

空調室に１週間貯蔵した後、塗布したパネルを、フロリダ州で、ＳＡＥ　Ｊ−１ ９７６に従った５°サウス・ブラック・ボックス（５ｄｅｇｒｅｅｓ　５ｏｕｔ ｈ　ｂｌａｃｋ　ｂｏｘ）で暴露する。パネルを離層について７日毎に評価し、 ノくネルの少な（とも１０％上で離層が明白である場合は、そのパネルは不良で あると見做す。このフロリダ暴露の結果を下表に示す。

３−　［３−（５−ベンゼンスルホニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル ）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシナモイルオキシ］−２−ヒ ドロキシプロピル＝メタクリレート及び２−［３−（５−ベンゼンスルホニル− ２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキ シヒドロシナモイルオキシ］−３−ヒドロキシプロピル＝メタクＩＪレートの異 性体混合物のコポリマー 実施例２６で製造したメタクリレートモノマーの異性体混合物を２，２′−アゾ ビス（イソブチロニトリル）の存在下トルエンに溶解しそして８０℃に加熱する と、表題の該当するメタクリレートコポリマーが得られる。

化学線の有害作用に対する暴露による分解を受ける有機材料中にこのコポリマー の安定化に有効な量を混和すると安定化された組成物が得られる。

実施例３３ アクリル酸ブチル　２８．５％、メタクリル酸ブチル２７％、アクリル酸２−ヒ ドロキシエチル　３０％、スチレン　１５％、アクリル酸　３％及び実施例３１ で製造した異性体のメタクリレートモノマー　１．５％及びｔｅｒｔ−アミル　 パーオキシ−〇−（２−エチルヘキシル）モノパーオキシカーボネート開始剤　 ０．４ｐｈｒを含有するモノマー組成物を、還流するキシレン中で重合して中程 度の分子量の安定化したアクリルポリオールコポリマーを製造する。

実施例３４ 実施例３２で製造したアクリルポリオールコポリマーを、標準のアクリル−メラ ミン製剤に添加すると、化学線による分解に対して優れた抵抗性を持ち、２０° の光沢度の保持性が優れている安定化した熱硬化アクリル系エナメルが得られる 。

実施例３５ 実施例３２で製造したアクリルポリオールコポリマーを、標準の２成分アクリル ウレタン仕上げ塗料に添加すると、２０°の光沢度の保持性が優れている仕上げ 品が得られる。

実施例３６ 実施例３２で製造したアクリルポリオールコポリマーを、シルバーメタリック・ アクリルアルキド樹脂に添加すると、６０°の光沢度の保持性が優れているエナ メルが得られる。

平成５年８月１１日

Claims (27)

【特許請求の範囲】
1. １．式Ａ，Ｂ又はＣ： ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｂ） （式中、 Ｒ１は水素原子，直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし２４のアルキル基、直鎖 又は分枝鎖の炭素原子数２ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２ のシクロアルキル基又は炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基を表し； Ｒ２は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし２４のアルキル基、直鎖又は分枝鎖 の炭素原子数２ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロア ルキル基、炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基、ヒドロキシル基、− ＯＲ４（Ｒ４は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし２４のアルキル基を表す。 ）；又は１個又はより多い−ＯＨ、−ＯＣＯ−Ｒ１１、−ＯＲ４、−ＮＣＯ又は −ＮＨ２基又はそれらの混合により置換された該アルキル基；又は１個又はより 多い−Ｏ−、−ＮＨ−又は−ＮＲ４−基又はそれらの混合により中断されそして 未置換又は１個又はより多い−ＯＨ、−ＯＲ４又は−ＮＨ２基又はそれらの混合 により置換されていてよい該アルキル基又は該アルケニル基を表すか；又はＲ２ は −（ＣＨ２）ｍ−ＣＯ−Ｘ−（Ｚ）ｐ−Ｙ−Ｒ１５〔式中、 Ｘは−Ｏ−又は−Ｎ（Ｒ１６）−を表し；Ｙは−Ｏ−又は−Ｎ（Ｒ１７）−を表 し；Ｚは炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、１ないし３個の窒素原子、酸 素原子又はそれらの混合により中断された炭素原子数４ないし１２のアルキレン 基を表すか、又は各々がヒドロキシル基により置換された炭素原子数３ないし１ ２のアルキレン基、ブテニレン基、ブテニレン基、シクロヘキシレン基又はフェ ニレン基を表し； ｍは零、１又は２を表し； ｐは１を表すか、又はｐは、ＸとＹがそれぞれ−Ｎ（Ｒ１６）−又は−Ｎ（Ｒ１ ７）−を表す場合は、零も表し； Ｒ１５は基：−ＣＯ−Ｃ（Ｒ１８）＝Ｃ（Ｈ）Ｒ１９を表すか又は、Ｙが−Ｎ（ Ｒ１７）−を表す場合は、Ｒ１７と一緒になって基：−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ −を表し；式中、Ｒ１８は水素原子又はメチル基を表し；そしてＲ１９は水素原 子、メチル基又は−ＣＯ−Ｘ−Ｒ２０を表し、 式中、Ｒ２０は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基又は式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、記号Ｒ１、Ｒ■、Ｘ、Ｚ、ｍとｐは上述の意味を有する。）の基を表し ； そしてＲ１６とＲ１７は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１２のア ルキル基、１ないし３個の酸素原子により中断されている炭素原子数３ないし１ ２のアルキル基を表すか；又はシクロヘキシル基又は炭素原子数７ないし１５の アラルキル基を表し； そしてＺがエチレン基を表す場合は、Ｒ１６はＲ１７と一緒になってエチレン基 も形成する。〕を表し；ｎは１又は２を表し； ｎが１を表す場合は、Ｒ６はＣ１、ＯＲ６又はＮＲ７Ｒ８を表し、又はＲ５は− ＰＯ（ＯＲ１２）２、−ＯＳｉ（Ｒ１１）３又は−ＯＣＯ−Ｒ１１、又は−Ｏ− 、−Ｓ−又は−ＮＲ１１により中断されており、且つ未置換又は−ＯＨ又は−Ｏ ＣＯ−Ｒ１１により置換されていてもよい直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし ２４のアルキル基、未置換又は−ＯＨにより置換された炭素原子数５ないし１２ のシクロアルキル基、未置換又は−ＯＨにより置換された直鎖又は分枝鎖の炭素 原子数２ないし１８のアルケニル基、炭素原子数７ないし１５のアラルキル基、 −ＣＨ２−ＣＨＯＨ−Ｒ１８又はグリシジル基を表し；Ｒ６は水素原子、未置換 又は１個又はより多いＯＨ、ＯＲ４又はＮＨ２基により置換された直鎖又は分枝 鎖の炭素原子数１ないし２４のアルキル基を表すか、又は−ＯＲ６は−（ＯＣＨ ２ＣＨ２）ｗＯＨ又は−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｗＯＲ２１（Ｗは１ないし１２を表 しそしてＲ２１は炭素原子数１ないし１２のアルキル基を表す。）を表し； Ｒ７とＲ８は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、 −Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ１１により中断されている直鎖又は分枝鎖の炭素原子 数３ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭 素原子数６ないし１４のアリール基又は炭素原子数１ないし３のヒドロキシルア ルキル基を表すか； 又はＲ７とＲ８はＮ原子と一緒になってピロリジン、ピペリジン、ピペラジン又 はモルホリン環を表し；ｎが２を表す場合は、 Ｒ５は二価の基：−Ｏ−Ｒ８−Ｏ−又は−Ｎ（Ｒ１１）−Ｒ１０−Ｎ（Ｒ１１） −の一つを表し；Ｒ９は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、炭素原子数４な いし８のアルケニレン基、炭素原子数４のアルキニレン基、シクロヘキシレン基 、−Ｏ−又は−ＣＨ２−ＣＨＯＨ−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１４−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨＯＨ −ＣＨ２−により中断されている直鎖又は分枝鎖の炭素原子数４ないし１０のア ルキレン基を表し； Ｒ１０は、−Ｏ−、シクロヘキシレン基、又は▲数式、化学式、表等があります ▼又は▲数式、化学式、表等があります▼ により中断されていてよい直鎖又は分枝鎖の炭素原子数２ないし１２のアルキレ ン基を表すか又はＲ１０とＲ１１は２個の窒素原子と一緒になってピペラジン環 を形成し；Ｒ１４は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数２ないし８のアルキレン基；− Ｏ−、シクロアルキレン基、アリーレン基又は ▲数式、化学式、表等があります▼ 又は ▲数式、化学式、表等があります▼ により中断されている直鎖又は分枝鎖の炭素原子数４ないし１０のアルキレン基 を表し； 式中、Ｒ７とＲ８は互いに独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキ ル基を表すか又はＲ７とＲ８は一緒になって炭素原子数４ないし６のアルキレン 基、３−オキサペンタメチレン基、３−イミノペンタメチレン基又は３−メチル イミノペンタメチレン基を表し；Ｒ１１は水素原子、直鎖又は分枝鎖の炭素原子 数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、直 鎖又は分枝鎖の炭素原子数３ないし８のアルケニル基、炭素原子数６ないし１４ のアリール基又は炭素原子数７ないし１５のアラルキル基を表し；Ｒ１２は直鎖 又は分枝鎖の炭素原子数１ないし１８のアルキル基、直鎖又は分枝鎖の炭素原子 数３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１０のシクロアルキル基、 炭素原子数６ないし１０のアリール基又は炭素原子数７ないし１５のアラルキル 基を表し；Ｒ１３は水素原子；−ＰＯ（ＯＲ１２）２により置換された直鎖又は 分枝鎖の炭素原子数１ないし１８のアルキル基；未置換又はＯＨ、炭素原子数７ ないし１５のアラルキル基又は−ＣＨ２ＯＲ１２により置換されたフェニル基を 表し； Ｒ３は炭素原子数８ないし２０のアルキル基、炭素原子数３ないし１８のアルケ ニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし１５ のフェニルアルキル基、炭素原子数６ないし１０のアリール基、炭素原子数１な いし４のアルキル基又は過弗化アルキル基部分が炭素原子数６ないし１６である １，１，２，２−テトラヒドロパーフルオロアルキル基の１文は２個により置換 された該アリール基を表し；Ｌは−ＳＯ−又は−ＳＯ２−を表し；そしてＴは− ＳＯ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ−Ｅ−ＳＯ−又は−ＳＯ２−Ｅ−ＳＯ２−（Ｅは炭 素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ レン基、炭素原子数８ないし１２のシクロヘキシレン基により中断されているか 、それを末端基としているアルキレン基を表す。）を表す。｝の化合物。
2. ２．式Ｉ，ＩＩ又はＩＩＩ： ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｉ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （ＩＩ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （ＩＩＩ） （式中、 Ｒ１は水素原子，直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし２４のアルキル基、炭素 原子数５ないし１２のシクロアルキル基又は炭素原子数７ないし１５のフェニル アルキル基を表し； Ｒ２は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし２４のアルキル基、炭素原子数５な いし１２のシクロアルキル基又は炭素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基 ；１個又はより多い−ＯＨ、−ＯＲ４又は−ＮＨ２基（Ｒ４は炭素原子数１ない し１２のアルキル基を表す。）により置換された該アルキル基を表すか；又はＲ ２は−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＲ５〔Ｒ５は−ＯＲ６又は−ＮＨ２を表し；Ｒ６は水素 原子又は炭素原子数１ないし２４のアルキル基を表し、又は１個又はより多い− ＯＨ基により置換された該アルキル基を表し；又は−ＯＲ６は−（ＯＣＨ２ＣＨ ２）ｗＯＨ又は−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｗＯＲ２１（ｗは１ないし１２を表しそし てＲ２１は炭素原子数１ないし１２のアルキ基を表す。）を表す。〕を表し；又 は Ｒ２は−（ＣＨ２）ｍ−ＣＯ−Ｘ−（Ｚ）ｐ−Ｙ−Ｒ１５〔式中、ＸとＹは−Ｏ −を表し、Ｚはヒドロキシル基により置換された炭素原子数３ないし１２のアル キレン基を表し、Ｒ１５は基：−ＣＯ−Ｃ（Ｒ１８）＝ＣＨ２（式中、Ｒ１８は 水素原子又はメチル基を表す。）を表し、ｍは零、１又は２を表し、そしてｐは １を表す。〕を表し、Ｒ３は炭素原子数８ないし１８のアルキル基、炭素原子数 ３ないし１８のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭 素原子数７ないし１５のフェニルアルキル基、炭素原子数６ないし１０のアリー ル基又は炭素原子数１ないし４のアルキル基の１又は２個により置換された該ア リール基を表し；ｎが１を表す場合は、Ｒ５はＣ１、−ＯＲ６又は−ＮＲ７Ｒ８ 〔式中、Ｒ６は水素原子又は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし１２のアルキ ル基を表し；Ｒ７とＲ６は独立して水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキ ル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子数６ないし１４の アリール基又は炭素原子数１ないし３のヒドロキシアルキル基を表すか、又は− ＯＲ６は−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｗＯＨ（Ｗは１ないし１２を表す。）を表す。〕 を表し；Ｌは、−ＳＯ−又は−ＳＯ２−を表し；そしてＴは−ＳＯ−、−ＳＯ２ −、−ＳＯ−Ｅ−ＳＯ−又は−ＳＯ２−Ｅ−ＳＯ２−（Ｅは炭素原子数２ないし １２のアルキレン基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキレン基、又は炭素 原子数８ないし１２のシクロヘキシレン基により中断されているか、それを末端 基としているアルキレン基を表す。）を表す。｝の請求項１記載の化合物。
3. ３．式中、Ｒ１は水素原子、分枝した炭素原子数３ないし１２のアルキル基、シ クロヘキシル基又は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し；Ｒ２は 直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし１２のアルキル基、又は１個又はより多い −ＯＨ基により置換された該アルキル基を表し；又はＲ２はシクロヘキシル基又 は炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し；又は Ｒ２は−（ＣＨ２）ｍ−ＣＯ−Ｘ−（Ｚ）ｐ−Ｙ−Ｒ１５〔式中、ＸとＹは−Ｏ −を表し、Ｚはヒドロキシル基により置換された炭素原子数３ないし８のアルキ レン基を表し、Ｒ１６基：−ＣＯ−Ｃ（Ｒ１６）＝ＣＨ２（式中、Ｒ１６は水素 原子又はメチル基を表す。）を表し、ｍは２を表し、そしてｐは１を表す。〕を 表し、Ｒ２は炭素原子数１２ないし１８のアルキル基、アリル基、シクロヘキシ ル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、フェニル基又は１又は２個 のメチル基により置換された該フェニル基を表し；ｎが１を表す場合は、Ｒ５は −ＯＲ６又は−ＮＲ７Ｒ８〔式中、Ｒ６は水素原子又は直鎖又は分枝鎖の炭素原 子数１ないし１２のアルキル基を表し；Ｒ７とＲ８は独立して水素原子、炭素原 子数１ないし８のアルキル基又は炭素原子数１ないし３のヒドロキシアルキル基 を表すか、又は−ＯＲ６は −（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｗＯＨ（Ｗは１ないし１２を表す。）を表す。〕を表し； そして Ｌは、−ＳＯ−又は−ＳＯ２−を表し；そしてＴは−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｓ Ｏ−Ｅ−ＳＯ−又は−ＳＯ２−Ｅ−ＳＯ２−（Ｅは炭素原子数２ないし６のアル キレン基、炭素原子数６ないし８のシクロアルキレン基又は炭素原子数８ないし １０のシクロヘキシレン基により中断されているアルキレン基を表す。）を表す 請求項２記載の化合物。
4. ４．式中、Ｒ１は水素原子、分枝した炭素原子数４ないし８のアルキル基、シク ロヘキシル基、ベンジル基、α−メチルベンジル基又はα，α−ジメチルベンジ ル基を表し； Ｒ２は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし８のアルキル基、１個又はより多い −ＯＨ基により置換された該アルキル基を表し；又はＲ２はシクロヘキシル基、 ベンジル基、α−メチルベンジル基又はα，α−ジメチルベンジル基を表し；又 は Ｒ２は−（ＣＨ２）ｍ−ＣＯ−Ｘ−（Ｚ）ｐ−Ｙ−Ｒ１５〔式中、ＸとＹは−Ｏ −を表し、Ｚはヒドロキシル基により置換された炭素原子数３ないし８のアルキ レン基を表し、Ｒ１５は基：−ＣＯ−Ｃ（Ｒ１８）＝ＣＨ２（式中、Ｒ１８はメ チル基を表す。）を表し、ｍは２を表し、そしてｐは１を表す。〕を表し、 Ｒ２はフェニル基又は炭素原子数４ないし１２のアルキル基を表し； ｎが１を表す場合は、Ｒ５は−ＯＲ６又は−ＮＲ７Ｒ８〔式中、Ｒ６は水素原子 又は直鎖又は分枝鎖の炭素原子数４ないし１２のアルキル基を表し；Ｒ７とＲ８ は独立して水素原子又は炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、又は−ＯＲ ６は−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｗＯＨ（Ｗは４ないし１２を表す。）を表す。〕を表 し；そして Ｌは、−ＳＯ−又は−ＳＯ２−を表し；そしてＴは−ＳＯ−又は−ＳＯ２−を表 す請求項２記載の化合物。
5. ５．（ａ）５−ｎ−ドデシルスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ− ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール； （ｂ）５−ベンゼンスルフィニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒ ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール： （ｃ）５−ベンゼンスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ −ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール； （ｄ）５，５′−スルホニル−ビス［２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅ ｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール； （ｅ）５−ベンゼンスルホニル−２−［２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル −５−（２−オクチルオキシカルボニル）エチルフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリ アゾール；（ｆ）５−ベンゼンスルホニル−２−［２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒ ｔ−ブチル−５−（３−ヒドロキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリア ゾール；（９，３−（５−ベンゼンスルホニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２ −イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロケイ皮酸； （ｈ）３−（５−ベンゼンスルホニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル） −５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロケイ皮酸アミド； （ｉ）３−［３−（５−ベンゼンスルホニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２− イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ］− ２−ヒドロキシプロピルメタクリレート及び２−［３−（５−ベンゼンスルホニ ル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒド ロキシヒドロシンナモイルオキシ］−３−ヒドロキシプロピルメタクリレートの 異性体混合物； （ｊ）５−ベンゼンスルホニル−２−｛２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル −５−［２−（ω−ヒドロキシオクタ（エチレンオキシ）−カルボニルエチル］ フェニル｝−２Ｈ−ベンゾトリアゾール；及び （ｋ）５−ベンゼンスルホニル−２−［２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル −５−（β−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリ アゾールである請求項１記載の化合物。
6. ６．（ａ）化学線の有害作用への暴露による分解を受ける有機材料、及び （ｂ）請求項１記載の式Ａ、Ｂ又はＣの化合物の安定化有効量 からなる安定化した組成物。
7. ７．有機材料が合成ポリマーである請求項６記載の組成物。
8. ８．合成ポリマーが、ポリスチレン、スチレンのグラフトコポリマー、ポリフェ ニレンオキシド、ポリフェニレンスルフィド、ポリウレタン、ポリイソシアナー ト、芳香族ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミ ド−イミド、ポリスルホン、ポリエ−テルスルホン、ポリエーテルケトン、アル キド樹脂、アミノブラスト樹脂及びエポキシ樹脂からなる群から選択されている 請求項７記載の組成物。
9. ９．合成樹脂がエポキシ樹脂である請求項８記載の組成物。
10. １０．成分（ｂ）の化合物が、５−ベンゼンスルホニル−２−（２−ヒドロキシ −３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールである 請求項６記載の組成物。
11. １１．成分（ｂ）の化合物が、５−ベンゼンスルホニル−２−（２−ヒドロキシ −３，５−ジ−ｔｃｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５− ベンゼンスルホニル−２−［２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（β −オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、 ５−ベンゼンスルホニル−２−｛２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５− ［２−（ω−ヒドロキシ−オクタ（エチレンオキシ）−カルボニルエチル］フェ ニル｝−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ω−ヒドロキシ−ポリ（エチレンオキシ） ３−（５−ベンゼンスルホニル−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒ ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート又はポリ（エチレンオキシ）ビ ス［３−（５−ベンゼンスルホニル−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ ｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート］である請求項６記載の組 成物。
12. １２．有機材料が、 無機又は有機顔料又はそれらの混合物を含有する樹脂の下層、及び樹脂の透明上 層、及び （ｂ）上層樹脂又は下層樹脂のいずれかに又は両方の樹脂層にある式Ａ、Ｂ又は Ｃの化合物の安定化有効量からなる塗装系である請求項６記載の組成物。
13. １３．成分（ｂ）が、５−ベンゼンスルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５ −ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−ベンゼン スルホニル−２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−β−オクチル オキシカルボニルエチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−ベンゼン スルホニル−２−｛２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒトブチル−５−［２−（ω−ヒ ドロキシ−オクタ（エチレンオキシ）−カルボニルエチル］フェニル｝−２Ｈ− ベンゾトリアゾール、ω−ヒドロキシ−ポリ（エチレンオキシ）３−（５−ベン ゼンスルホニル−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４ −ヒドロキシヒドロシンナメート、又はポリ（エチレンオキシ）ビス［３−（５ −ベンゼンスルホニル−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチ ル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート］である請求項１２記載の組成物。
14. １４．成分（ｂ）が５−ベンゼンスルホニル−２−｛２−ヒドロキシ−３−ｔｃ ｒｔ−ブチル−５−［２−（ω−ヒドロキシ−オクタ（エチレンオキシ）−カル ボニルエチル］フェニル｝−２Ｈ−ベンゾトリアゾールである請求項１２記載の 組成物。
15. １５．上下樹脂層のいずれか又は両方に存在するベンゾフェノン、ベンゾトリア ゾール、シアノアクリル酸誘導体、ヒドロキシアリール−Ｓ−トリアジン、有機 ニッケル化合物及びオキサニリドからなる群から選ばれた紫外線吸収剤をさらに 含有する請求項１２記載の組成物。
16. １６．上下樹脂層のいずれか又は両方に存在するフェノール性抗酸化剤の安定化 有効量をさらに含有する請求項１２記載の組成物。
17. １７．上下樹脂層のいずれか又は両方にヒンダードアミンの安定化有効量をさら に含有する請求項１２記載の組成物。
18. １８．上下樹脂層のいずれか又は両方にホスフィット又はホスホナイトの安定化 有効量をさらに含有する請求項１２記載の組成物。
19. １９．有機材料が、工業用仕上塗料に使用される高固形分のエナメルである請求 項６記載の組成物。
20. ２０．有機材料がコイル塗料として使用される請求項６記載の組成物。
21. ２１．有機材料が木材浸透仕上剤として使用される請求項６記載の組成物。
22. ２２．有機材料が木材フィルム形成仕上剤として使用される請求項６記載の組成 物。
23. ２３．２−［２−ヒドロキシ−３，５−ジ−（α，α−ジメチルベンジル）フェ ニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅ ｒｔ−アミルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドｄキシ− ３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（ω−ヒドロキシ−オクタ（エチレンオキシ）カル ボニル）エチルフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ −３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２−オクチルカルボニルエチル）フェニル］− ２Ｈ−ベンゾトリアゾール、４，４′−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２ ′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルオキサニリド、２，２ ′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルオキサニリド、２−エ トキシ−２′エチルオキサニリド、２，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル） −４−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル−ｓ−トリアジン、２， ６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−４−（２，４−ジヒドロキシフェニル ）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）−６−（ ４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、２，６−ビス（２，４−ジメチルフェ ニル）−４−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプ ロパノキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、及び２，２′−ジヒドロキシ−４， ４′−ジメトキシベンゾフエノンからなる群から選択された紫外線吸収剤をさら に含有する請求項１５記載の組成物。
24. ２４．セパシン酸ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル） 、セバシン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリン−４−イル）、 （３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンシル）ブチルマロン酸ジ （１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）、１−（２−ヒド ロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンと コハク酸との重縮合物、２，４−ジクロロ−６−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−ｓ −トリアジンと４，４′−ヘキサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テト ラメチルピペリジン）の重縮合物、Ｎ，Ｎ′，Ｎ′′，Ｎ′′−テトラキス［（ ４，６−ビス（ブチル−（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イ ル）アミノ）−ｓ−トリアジン−２−イル］−１，１０−ジアミノ−４，７−ジ アザデカン．セバシン酸ジ−（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメ チルピペリジン−４−イル）、コハク酸ジ−（１−シクロヘキシルオキシ−２， ２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）、１−オクチルオキシ−２， ２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシ−ピペリジン、ポリ−｛［６−ｔｅ ｒｔ−オクチルアミノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル］〔２−（１−シクロ ヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）イミノ ーヘキサメチレン−［４−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テト ラメチルピペリジン−４−イル）イミノ］、又は２，４，６−トリス［Ｎ−（１ −シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル ）−ｎ−ブチルアミノ］−ｓ−トリアジンからなる群から選択されたヒンダード アミンをさらに含有する請求項１７記載の組成物。
25. ２５．３−［３−（５−ベンゼンスルホニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２− イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ］− ２−ヒドロキシプロピルメタクリレート及び２−［３−（５−ベンゼンスルホニ ル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒド ロキシヒドロシンナモイルオキシ］−３−ヒドロキシプロピルメタクリレートの 異性体混合物の付加重合により得られるメタクリレートコポリマー。
26. ２６．（ａ）化学線の有害作用への暴露による分解を受ける有機材料、及び （ｂ）請求項２５記載のコポリマーの安定化有効量からなる安定化した組成物。
27. ２７．式中、Ｒ１が分枝した炭素原子数４ないし８のアルキル基を表し； Ｒ２が直鎖又は分枝鎖の炭素原子数１ないし８のアルキル基又は１個の−ＯＨ基 により置換された該アルキル基を表すか；又は Ｒ２が−（ＣＨ２）ｍ−ＣＯ−Ｘ−（Ｚ）ｐ−Ｙ−Ｒ１５〔式中、ＸとＹは−Ｏ −を表し、Ｚはヒドロキシル基により置換された炭素原子数３ないし８のアルキ レン基を表し、Ｒ１５は基−ＣＯ−Ｃ（Ｒ１８）＝ＣＨ２（式中、Ｒ１５は水素 原子又はメチル基を表す。）を表し、ｍは２を表し、そしてｐは１を表す。〕を 表し、Ｒ３はフェニル基又は炭素原子数４ないし１４のアルキル基を表し； ｎが１を表す場合は、Ｒ５は−ＯＲ６（式中、Ｒ６は水素原子又は直鎖又は分枝 鎖の炭素原子数４ないし１２のアルキル基を表すか； 又は−ＯＲ６は−（ＯＣＨ２ＣＨ２）ｗＯＨ（Ｗは４ないし１２を表す。）を表 す。〕を表し；Ｌは、−ＳＯ−又は−ＳＯ２−を表し；そしてＴは−ＳＯ２−を 表す請求項２記載の化合物。