JPH06506319A - リードレス・パッド・アレイ・チップ・キャリア - Google Patents

リードレス・パッド・アレイ・チップ・キャリア

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JPH06506319A JP4503144A JP50314492A JPH06506319A JP H06506319 A JPH06506319 A JP H06506319A JP 4503144 A JP4503144 A JP 4503144A JP 50314492 A JP50314492 A JP 50314492A JP H06506319 A JPH06506319 A JP H06506319A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 リードレス・パッド・アレイ・チップ・キャリア技術分野 本発明は、一般に電子デバイスに関し、さらに詳しくは、半導体デバイス用パッ ケージに関し、特にトランスファー成形された半導体パッケージに関する。
背景 ビン・グリッド・アレイ・パッケージはプラグイン型パッケージにおいて非常に 多くのビンを設けるので、集積回路パッケージングにおいて広く利用されている 。標準的な間隔(例えば、2中心点間で2.5mm)を有するビンのアレイはセ ラミック基板上に配置され、ビンが基板の一面から外側に延在して、主プリント 回路板上のソケットと結合するようになっている。集積回路または半導体デバイ スは、セラミック基板の上面上に装着され、集積回路のポンディング・バンドと 基板上のトレースとの間でワイヤ・ボンディングが行なわれる。集積回路、リー ドおよびワイヤ・ボンドは封入体(encapsulant)によって被覆され 、パッケージを完成する。
二種類の封入方法が利用されている。第1の方法では、グロブ・トップ(glo btop)またはチップ・オン・ボード(chip−on−board)技術の ように、集積回路チップおよび関連する相互接続がプラスチック樹脂内に封入さ れる。第2の方法では、デバイスおよびセラミック基板上に熱硬化性プラスチッ ク材料をトランスファー成形することによってアセンブリが封入される。トラン スファー成形では、封入されるアセンブリは金属モールド内に配置され、このモ ールドは形成すべき被覆の形状を定める凹部を有する。固形プラスチックが加熱 され、ゲートを介してモールドに圧入される。この熱と圧力とによって、プラス チックは液化し、集積回路を取り巻くモールド中空部に流入する。このモールド は加熱され、プラスチックを硬化させ、そして成形されたアセンブリはモールド から取り外される。トランスファー成形の基本的特性は米国特許第4,460, 537号において教示されている。
プラスチック・ビン・グリッド・アレイ・アセンブリの構造は、セラミックのそ れと同様である。セラミック基板を利用せずに、エポキシ・ガラスまたはポリエ ステル・ガラスのプリント回路板などの低コストの基板が基板として用いられる 。これらの基板の製造は、従来のプリント回路板の製造工程と同じ組立工程およ び方法で行なわれる。パッケージのビンは回路板のめっき貫通穴(plated  throughhole)に挿入され、圧力装着(press−fit)また はりフロー半田付けされる。
従来技術の第1a図および第1b図において、プラスチック成形ビン・グリッド ・アレイ10は、基板12の底面から延在するビン14の7レイを含む基板12 の周りに形成されている。プラスチック・コンパウンド16は基板の周りにトラ ンスファー成形され、完成されたパッケージを形成する。基板は、基板12のエ ツジ部をモールドの位置合わせバンプ(registration bump) に対して配置することによってモールド内で位置合わせされる。成形が完成する と、位置合わせバンブは凹部またはリブ(rib) 13として完成されたビン ・グリッド・アレイ・パッケージに現われる。
成形ビン・グリッド・アレイ・パッケージを形成する別の方法や構成では、傾斜 側壁18を用いて、成形部1品を成形プレスから取り外すのを助けている。この ようなトランスファー成形プラスチック・ビン・グリッド・アレイ・パッケージ は米国特許第4,935,581号において教示されている。
セラミック・ビン・グリッド・アレイに比較して、プラスチック・ビン・グリッ ド・アレイの利点は、低コストであり、電気性能が良好なことである。しかし、 これらの利点にもかかわらず、低密度で脆いビンはビン・グリッド・アレイ・パ ッケージにおいて主な問題として残っている。
リード付きビンを基板に取付ける必要性により、ビン・グリッド・アレイ・パッ ケージにおいて固有の密度制限がある。従来のパッケージは2.5mm間隔で配 置されたビンを利用し、より新しいパッケージでは、1.25mmセンタ・ビン の高密度化が期待されているが、コストが高い。
1.25mmセンタを実現するためには、高価なマルチレイヤ基板構造を利用し なければならない。さらに、ビンを製造し、取付けるコストは高くなる。大型ビ ン・グリッド・アレイ・パッケージは、パッケージ・リードが曲がったり傾いた りするため、主回路板に組み立てるのが困難である。
パッケージの寸法が大きくなると、これらの問題も大きくなる。高密度の1.2 5mmセンタのパッケージでは、リードの直径が小さいためリードが曲がりゃす い。
プラスチック・ビン・グリッド・アレイ・パッケージを利用する場合、大きな集 積回路チップを用いることも制限される。従来では、プラグイン・チップ・キャ リアを必要とする小さな集積回路を有する家電電子機器用としてのみこれらのパ ッケージを利用するのが常識であった。大型チップを利用する場合、基板とシリ コン・チップとの間の熱膨張差に対処するためセラミック基板が用いられる。従 来のセラミックおよびプリント回路板のビン・グリッド・アレイ・パッケージに おいて見られる密度、リードの脆性。
電気性能、コストおよび信頼性という固有の問題を克服する低コストで高密度の プラスチック・パッケージが必要なのは明らかである。
発明の概要 本発明に従って、パッド・アレイ・チップ・キャリア・パッケージが提供され、 このパッケージは、底面上に半田パッドのアレイを有し、かつ、上面に電気的か つ物理的に装着された半導体デバイスを有する樹脂性回路担体基板からなる。保 護プラスチック被覆は半導体デバイスの周りでトランスファー成形され、回路担 体基板の上面の実質的にすべてを被覆する。
本発明の別の実施例では、主回路板に容易に半田付けされるパッド・アレイ・チ ップ・キャリア・パッケージを設けるため、半田バンプが半田パッド上に形成さ れる。
本発明のさらに別の実施例では、半導体デバイスの下の回路担体基板にメタル補 強材(metal 5tiffener)がボンディングされる。半導体デバイ スは基板に電気的に接続され、被覆が半導体デバイスの周りにトランスファー成 形されて、回路担体基板の上面の実質的にすべてを被覆する。
図面の簡単な説明 第1a図は、従来のピン・グリッド・アレイ・パッケージの斜視図である。
第1b図は、従来のビン・グリッド・アレイ・パッケージの切り欠き斜視図であ る。
第2図は、本発明による樹脂成形されたパッド・アレイ・チップ・キャリアの斜 視図である。
第3は、本発明によるパッド・アレイ・チップ・キャリアの底面の平面図である 。
第4図は、第2図および第3図のの!AAから見た部分的な断面図である。
第5図は、本発明の別の実施例の同じ部分的な断面図である。
第6図は、本発明の別の実施例の同じ部分的な断面図である。
好適な実施例の詳細な説明 第2図において、リードレスのトランスファー成形されたパッド・アレイ・チッ プ・キャリア20は、集積回路チップまたは半導体デバイス24を回路担体基板 (circuitcarrying 5ubstrate) 22上に配置する ことによって形成される。回路担体基板は、エポキシ・ガラスまたはポリイミド ・ガラスなどの樹脂性プリント回路板であるが、ポリイミド、ポリエステルまた はポリエチルイミド膜からなる可視性回路板など他の材料からなってもよい。基 板22は、基板の上面にメタライゼーション・パターン25を有する。
集積回路24は基板22に接着ボンディングあるいは共晶ボンディングされ、メ タライゼーション・パターン25にワイヤ・ボンディングされる。また集積回路 24は、フリップ・チップ・ボンディングまたはTAB(tape−aurom ated−bonding)によって基板22に取付けることもできる。基板お よびチップのアセンブリは成形機に入れられる。一般に、トランスファー成形機 が用いられるが、用いる材料に応じて、射出成形や反応射出形成(RI M:r eaction 1njection molding)などの他の成形方法も 利用できる。トランスファー成形は熱硬化材料を用いるが、村山形成は熱可慾材 料を利用し、RIMは熱可塑性であるがモールド内で反応して熱硬化する材料を 利用する。
被覆26は、チップおよびすべての関連する相互接続を封入し、被覆するために チップの周りで成形される。実際には、成形コンパウンド26は基板22のエツ ジ部まで延在するが、基板がモールド内にある開基板を保持または固定する手段 を設けるため、成形コンパウンド26は基板22のエツジ部からある距離で中断 することが好ましい。基板22を成形コンパウンド26の本体以上に延在させる ことにより、(従来技術のように)成形された本体において切り欠き部やリブを 設ける必要が無くなる。
基板22の底面は、特定の構成(第3図参照)で配置された半田パッド34のア レイ35を有する。一般に半田バンドは円形であるが、他の形状でもよい。半田 パッド34は、パッド・アレイ・チップ・キャリアと主回路板(図示せず)との 間で電気的な相互接続を行なう。半田パッド34は、回路板の他の部分と同じメ タライゼーション(一般に鋼)からなり、金などの別の材料で被覆して、半田パ ッドが酸化することを防ぐことができる。パッド・アレイ・チップ・キャリアを 主プリント回路板に半田付けする場合、半田パッドは半田めっきで被覆するが、 あるいは半田ベースト、半田玉または他の方法でリフローして、半田パッド上に 半田バンプを作ることができる。
第4図において、基板22はチップ・ボンディング・メタライゼーション・パッ ド43を含み、このパッド43に対して導電性接着剤を用いてチップ24が取付 けられる。
共晶ボンディングなどの他の取付は手段も利用できる。このチップは、一般に金 またはアルミニウムのメタル細線49によってメタライゼーション・パターン2 5に電気的にワイヤ・ボンディングされる。メタライゼーション・パターン25 から半田パッド34への電気接続は、めっき貫通穴42によって行なわれる。プ リント回路板の上面のメタライゼーション・パターン25は、めっき貫通穴42 において環状リングとして中断する。プリント回路板の底面上の電気接続は、め っき貫通穴42を別の環状リンクに接続し、メタライゼーション・パターンを半 田パッド3−4まで延在させることによって行なわれる。一般に、半田マスク4 1がメタライゼーション・パターンおよびめっき貫通穴42上に配置されるが、 必要に応じて省いても、あるいは部分的に用いてもよい。チップを装着し、電気 接続を行なった後、熱可田または熱硬化成形フンバウンド(好ましくは熱硬化エ ポキシ)を用いてアセンブリはトランスファー成形される。成形コンパウンド2 6はチップ24およびワイヤ・ボンディング49を封止し、プリント回路板22 の上面のほとんどすべてを被覆する。プリント回路板の上面は成形コンパウンド によって完全には被覆されておらず、モールドにアセンブリを固定し、かつ組立 工程におけるその後の取り扱いを簡単に−するために成形コンパウンドの周辺部 の小さな部分が露出されたままになっていることがわかる。チップ・キャリアの 周辺部においてプリント回路板の上面の一部を露出することにより、成形しやす くするために被覆内にリブまたは凹部を設ける必要が無くなる。所望の構成に応 じて、回路板の露出部は被覆の1つの面、2つの面、3つの面またはすべての面 上にあってもよい。
本発明の別の実施例(第5図)は、バンプを有する半田パッドを形成するため半 田パッド54上に半田バンプ52を利用している。半田バンプを利用することに より、パッド・アレイ・チップ・キャリアは主回路板(図示せず)上の半田パッ ドに容易に半田付けすることができる。半田バンプの高さは、表面装着相互接続 ができる十分な高さで、一般に約3ミルないし約30ミルで、半田パッド54と ほぼ同じ直径でなければならない。
本発明の別の実施例(第6図)は、スチール、ニッケル。
鋼クラッド・アンバ(copper clad 1nvar)、合金42などの 材料、もしくは約13,000メガパスカル(megapascal)以上の弾 性係数を有する材料の薄板からなるメタル部材または補強部材(stiffen er) 60を用いている。補強材の厚さは、使用する材料の種類に応じて約0 ゜08ないし0.25mmである。この補強材は、接着材料68を用いてプリン ト回路板62のパッド63に接着ボンディングされる。次にチップ64は、前例 のように導電性接着剤67を用いて補強材60に取付けられる。このメタル補強 材は、プリント回路板とシリコン・チップの熱膨張係数の差によって生じる機械 的応力を低減する働きをする。
この応力を低減することにより、プラスチック・パッド・アレイ・チップ・キャ リア・パッケージにおいてより大きな集積回路チップを用いることができる。前 の実施例と同じようにして、ワイヤ・ボンディング69によってチップと回路板 62との間で電気接続を行なう。被覆66は前例と同様に成形され、集積回路6 4.ワイヤ・ボンディング69、補強材60およびプリント回路板62の上面を 封入する。
マルチレイヤ回路板構造およびめくら穴(blind via)を利用すること によって、さらに高密度化を実現することができる。ビンの必要を省くことによ り、センタ間でわずか20ミルの相互接続間隔を有するチップ・キャリアを実現 することができる。より大きな集積回路を装着し、封入して、低コストのパッケ ージを容易に製造することができる。
本明細書において説明したパッド・アレイ・チップ・キャリアのさまざまな変更 や修正は当業者に想起され、このような変更や修正が添付の請求の範囲に含まれ る範囲で、これらの変更や修正は本発明の一部であると理解される。
N (D い− あ 国際調査報告 +s+atm−^−””” −PCT10391108787フロントページの 続き (72)発明者 フレイマン、ブルース・ジエイアメリカ合衆国フロリダ州プラ ンテーション、ノース・パイン・アイランド・ロード・ナンバー114・721

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.相対する第1および第2平面を有する、リードレス回路を搭載した絶縁基板 ; 前記回路担体基板の前記第1面上に電気的かつ物理的に装着された半導体デバイ ス; 表面装着半田パッドの実質的に同一平面のアレイを有する前記基板の第2面であ って、前記アレイの一部は前記半導体デバイスの下に設けられている前記基板の 第2面;前記リードレス回路担体基板を貫通する穴によって前記表面装着半田パ ッドに電気的に接続された前記半導体デバイス; 前記半導体デバイスの周りでトランスファー成形され、かつ、前記リードレス回 路担体基板の一部を被覆して、リードレス・パッド・アレイ・チップ・キャリア を形成する樹脂製の保護被覆; によって構成されることを特徴とするリードレス・パッド・アレイ・チップ・キ ャリア・パッケージ。
  2. 2.前記保護被覆は前記リードレス回路担体基板よりも小さく、そのため前記保 護プラスチック被覆の周辺部において前記リードレス回路担体基板の前記第1面 の一部を露出することを特徴とする請求項1記載のリードレス・パッドアレイ・ チップ・キャリア・パッケージ。
  3. 3.前記半導体デバイスは前記リードレス回路担体基板にワイヤ・ボンディング されることを特徴とする請求項1記載のリードレス・パッド・アレイ・チップ・ キャリア・パッケージ。
  4. 4.前記半導体デバイスは、リードレス回路担体基板に直接取付けられることを 特徴とする請求項1記載のリードレス・パッド・アレイ・チップ・キャリア・パ ッケージ。
  5. 5.前記半田パッド上に半田バンプをさらに含んで構成されることを特徴とする 請求項1記載のリードレス・パッド・アレイ・チップ・キャリア・パッケージ。
  6. 6.相対する第1および第2平面を有するプリント回路板であって、該第1平面 はメタライゼーション・パターンと、半導体デバイスの装着領域とを有するプリ ント回路板;行と列とに配置され、かつ、前記プリント回路板の前記第2平面に 対して実質的に同一平面上にある半田パッドのアレイであって、該アレイの一部 は前記装着領域の下に設けられている半田パッドのアレイ; 半田パッドの前記アレイを前記メタライゼーション・パターンに電気接続する、 前記プリント回路板における導電穴; 前記プリント回路板の第1平面に物理的に装着され、かつ、前記プリント回路板 のメタライゼーション・パターンに電気的にワイヤ・ボンディングされた前記半 導体デバイス;および 前記半導体デバイスおよび前記ワイヤ・ボンディングの周りでトランスファー成 形され、かつ、前記プリント回路板の前記第1平面の実質的にすべてを被覆して 、リードレス・パッド・アレイ・チップ・キャリアを形成する熱硬化樹脂被覆; によって構成されることを特徴とするリードレス・パッド・アレイ・チップ・キ ャリア・パッケージ。
  7. 7.前記被覆は前記プリント回路板よりも小さく、そのため前記被覆の周辺部に おいて前記プリント回路板の前記第1平面の一部を露出することを特徴とする請 求項6記載のリードレス・パッド・アレイ・チップ・キャリア・パッケージ。
  8. 8.前記プリント回路板に対して中央でボンディングされ、前記半導体デバイス の装着領域を設けるメタル部材をさらに含んで構成されることを特徴とする請求 項6記載のリードレス・パッド・アレイ・チップ・キャリア・パッケージ。
  9. 9.相対する第1および第2平面を有するプリント回路板であって、該第1平面 はメタライゼーション・パターンを有するプリント回路板; 前記メタライゼーション・パターンに物理的に取付けられた少なくとも一つの半 導体デバイス;前記半導体デバイスを前記メタライゼーション・パターンに電気 的に接続するワイヤ・ボンディング;前記プリント回路板の第2面上にあり、か つ、実質的に同一平面の半田パッドの行列であって、該行列の一部は前記半導体 デバイスの下にある半田パッドの行列;半田パッドの前記行列を前記メタライゼ ーション・パターンに電気的に接続する、前記プリント回路板における導電穴; 前記半田パッド上の半田バンプ;および前記少なくとも一つの半導体デバイスお よび前記ワイヤ・ボンディングの周りにトランスファー成形され、かつ、前記プ リント回路板の第1面を実質的に被覆する熱硬化プラスチック樹脂からなる被覆 であって、該被覆は前記プリント回路板よりも小さく、そのため前記被覆の周辺 において前記プリント回路板の第1面の一部を露出して、リードレス・パッド・ アレイ・チップ・キャリアを形成する被覆;によって構成されることを特徴とす るリードレス・パッド・アレイ・チップ・キャリア・パッケージ。
  10. 10.表面装着半田パッドの前記アレイは、市松模様状に配置され、前記プリン ト回路板の第2面を実質的に被覆することを特徴とする請求項1記載のリードレ ス・パッド・アレイ・チップ・キャリア・パッケージ。
  11. 11.前記アレイは、2つ以上の行と2つ以上の列の半田パッドからなることを 特徴とする請求項1記載のリードレス・パッド・アレイ・チップ・キャリア・パ ッケージ。
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