JPH0650732A - 面形状測定器 - Google Patents

面形状測定器

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JPH0650732A
JPH0650732A JP3118474A JP11847491A JPH0650732A JP H0650732 A JPH0650732 A JP H0650732A JP 3118474 A JP3118474 A JP 3118474A JP 11847491 A JP11847491 A JP 11847491A JP H0650732 A JPH0650732 A JP H0650732A
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test
light
reflected
prism
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Masahiko Kato
正彦 加藤
Shuri Sekiguchi
修利 関口
Hiroyuki Kurita
裕之 栗田
Takashi Kawashima
隆 川島
Kazuo Kawakami
一雄 川上
Toshifumi Uetake
敏文 植竹
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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 非球面量の大きい被検面又は曲率半径の小さ
い被検面を、凹面及び凸面の両方について高精度且つ短
時間に測定できるようにしたものである。 【構成】 可干渉性の光束が、反射プリズム16で試験
光束と参照光束とに分けられ、試験光束は直角プリズム
30,31を介して対物レンズ5により被検物7に収束
されて反射される。参照光束は参照鏡4で反射されて、
反射された試験光束と再び反射プリズム16で結合さ
れ、干渉縞計数部28,29へ入射する。試験光束の反
射光は光検知器12で検知され、直角プリズム30を移
動させて横ずれ量を是正するため、試験光束は被検物7
に垂直に入射し、同一光路に反射される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、カメラ等に用いられる
レンズ、特に非球面レンズの面形状を非接触で測定する
面形状測定器に関する。
【0002】
【従来の技術】ミラーと被検物の回転駆動を組み合わせ
て被検物の全面を走査しその形状を測定する装置として
は、例えばAppl.Opt.20 NO.19,1981 pp.3367〜3377に記
載の“Aspheric surface caliblator (非球面測定
器)”がある。
【0003】図6にその概要を示すと、光源1から放出
された光ビームlはビームエクスパンダ2により光束が
広げられ、ビームスプリッタ3により参照鏡4に向かう
光束と対物レンズ5,回転ミラー6を経て被検物7の表
面に集束する光束とに分けられる。回転ミラー6及び被
検物7は図示されていない回転駆動機構により各々矢印
のように回転せしめられ、集束された光束が被検物7の
全面を走査する。この場合、回転ミラー6と被検物7と
の距離は被検物7の表面の曲率半径とほぼ一致させてお
く。被検物7の表面で反射された光束は同じ道を逆行
し、回転ミラー6,対物レンズ5を経て平行光束に変換
され、ビームスプリッタ3において参照鏡4から反射さ
れた光束と重ね合わせられ、干渉縞計数部8に入射す
る。この干渉縞計数部8では被検物7の表面の球面から
のずれ量に応じた干渉縞の移動が計数され、被検物7の
非球面量が測定される。
【0004】ところが、この装置の場合、原理的に凸面
の測定が出来ないことや非球面量の大きなものの測定が
困難であることなどの欠点がある。
【0005】そこで、光束が被検物上に常に集光するよ
うに対物レンズをオートフォーカス方式に構成し、非球
面量の大きいものや凸面のものも計測できるように改良
された装置として、例えば第25回自動制御連合会講演
会予稿4042(P.593〜594)に記載のものが
ある。
【0006】その概要を図7に示すと、ゼーマンレーザ
ー10から放出された光束lはビームスプリッタ3によ
り参照鏡4に向かう光束とビームスプリッタ11,対物
レンズ5を経て被検物7上に集束される光束とに分けら
れる。被検物7上で反射された光は対物レンズ5で平行
光束に変換され、ビームスプリッタ11によりビームス
プリッタ3に向かう光束と光検知器12に向かう光束に
分割される。対物レンズ5は公知技術を用いることによ
り光検知器12からの信号に応じて矢印aの方向に移動
せしめられて入射光束を被検物7上に常に集光させる機
能即ちオートフォーカス機能を有している。被検物7は
矢印bで示されたように平面的(X−Y面とする)に走
査される。
【0007】入射光束の主光線が被検物7の表面に垂直
に入射しない場合には、入射光束と被検物7からの反射
光束は別の光路をたどり、横ずれした平行光束となって
対物レンズ5からビームスプリッタ11に向かう。この
横ずれ量は光検知器12により計測され、対物レンズ5
を光束に対して直交する方向(矢印c方向)に移動させ
て入射光束と反射光束とが重なるようにする。尚、これ
と共に被検物7を対応する量だけ移動させる。ビームス
プリッタ3に向かった光束はこのビームスプリッタ3に
おいて参照鏡4からの反射光と重ね合わせられて干渉縞
を形成し、干渉縞計数部8により計数される。
【0008】この装置の特徴は、オートフォーカス機能
を有しているため、非球面量の大きいものや凹面だけで
なく凸面の測定が可能なことにあるが、高精度を維持す
るためには参照鏡4と被検物7との相対的振動を抑制す
る必要があり、そのため参照鏡4を被検物7と同じ振動
系に固定する必要を生じる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、振動条件とア
ッベの誤差とを同時に満足させることは困難が多く、干
渉光学系の剛性や振動系の精度に厳しいものが要求され
るので高価になると共に、振動等の機械的擾乱による影
響を軽減するための環境条件が必要になる。
【0010】又、前述のように主光線が被検物7に垂直
に入射するように対物レンズ5を矢印cの方向に横移動
させると主光線が被検物7にあたる位置もずれるため、
このずれに対応した量だけ被検物7を適当なサーボ機構
を用いて平行移動させることが必要となり、その結果被
検物7を駆動するのに高精度のサーボ機構を必要とする
と共に測定時間も長くなるという欠点があった。
【0011】又、被検物7を平面的に移動させているた
め、深いR(曲率半径が小さく且つ開き角が大きいこ
と)の凸面又は凹面については反射光束が対物レンズ5
のNAを越えることとなり、測定ができないという欠点
も有していた。
【0012】本発明は、上記問題点に鑑み、非球面量の
大きいもの或いは曲率半径の小さいものを、凹面及び凸
面の両方について高精度に且つ短時間に測定し得る面形
状測定器を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明による面形状測定
器は、可干渉性の光束を発する光源と、この光束を参照
光束と試験光束とに一旦分離した後これらを結合させる
分離結合光学系と、試験光束を光軸に垂直な方向に移動
させる傾き補正光学系と、この試験光束を被検面に集束
する集束光学系と、被検面の傾きによって生ずる光束の
横ずれを検出する光検出器と、参照光束を反射する参照
鏡と、参照光束と試験光束とを結合させて生ずる干渉縞
を計数する干渉縞計数部と、から構成されていることを
特徴とするものである。又、集束光学系の光源側に、試
験光束を相異なる2つの偏光成分に分離する複屈折素子
が設けられている。又、試験光束の経路の途中にファラ
ディローテータが設けられている。
【0014】
【作用】傾き補正光学系により光束を光軸に垂直な方向
に移動させるようにしているため、被検面が曲面である
場合でも、被検面に対する入射位置を移動させることな
く被検面に光束を垂直に入射させることができ、従っ
て、対物レンズや測定対象物を移動させる必要がないの
で、短時間に精度良く測定を行うことができる。
【0015】
【実施例】以下、図1乃至図4に示した本発明の一実施
例を、上述の従来技術と同一の部材には同一符号を付し
て説明する。図1は本実施例の基本式な構成を示してお
り、光源1は可視,赤外或いは紫外の光ビームlを発す
る光源であって、He−Neレーザーのように可干渉性
の光束を発するものが用いられる。15,16,17は
偏光プリズムで、p,s両偏光を分離又は結合する。1
8は1/2波長板で、軸のまわりに回転可能となってい
る。19,20はファラディローテータで、ガラス又は
結晶が用いられ、例えば光ビームの進行方向に磁場が印
加されていて入射するp,s両偏光の偏光面を45°だ
け回転する機能を持つ。尚、ガラスとしては保谷硝子株
式会社製のFR−5等を用いることができる。
【0016】21,22はπ/4ローテータで、入射光
ビームの偏光面を右又は左に45°回転せしめる。ビー
ムスプリッタ11は、被検物7からの反射光束を分割し
て一方を後述の干渉縞計数部の方へ送り、他方を光検知
器12に向ける。30,31は直角プリズムで、プリズ
ム30は矢印で示したように紙面内で光軸に垂直な方向
に、図示されていないプリズム移動機構により駆動でき
るように保持され、プリズム31は固定されている。2
3は複屈折プリズムで、例えばロションプリズム等が用
いられ、対物レンズ5の焦点位置に固定され、対物レン
ズ5へプリズムの楔角により定まる一定の開き角をもっ
た正常光束と異常光束を供給する。これらの光束は対物
レンズ5により平行な二つの光束となって被検物7上の
例えば60μmだけ横ずれした二点に集束せしめられ
る。
【0017】又、複屈折プリズム23は対物レンズ5と
組になって図示しない回転防止機構を具備した無摩擦の
直線案内装置に保持され、やはり図示しない直線駆動装
置により被検物7と対物レンズ5との間隔が常に対物レ
ンズ5の焦点距離に等しくなるように駆動される。光検
知器12は対物レンズ5と被検物7の間隔の対物レンズ
5の焦点距離からのずれ量(でフォーカス量)及び光ビ
ームの横ずれ量を公知の手段を用いて検出し、前述の直
線駆動機構及びプリズム移動機構へ誤差信号として送
る。
【0018】24,25,26,27は鏡である。参照
鏡4には直角プリズムを用いる。従って、p,s両偏光
成分に対応した参照光束は丁度共通の光路を逆行する形
になる。28,29は干渉縞計数部であり、例えば特公
昭51−47344号公報に開示されている偏光を利用
した可逆計数のできる光波干渉計を用いることができ
る。尚、被検物7はガラス或いはプラスチックのレンズ
又は金型等が対象となり、光軸のまわり或いは図1の矢
印方向へ回転駆動せしめられる。
【0019】本実施例による面形状測定器は上述のよう
に構成されているから、光ビームlが直線偏光であって
紙面内の偏光(p偏光)から45°傾いた偏光面をもつ
ように設定されているとすれば、光ビームlは偏光プリ
ズム15によりp偏光とs偏光成分に分離され、前者は
1/2波長板18を通り楕円偏光に変換される。この偏
光状態は1/2波長板18を回転することにより変える
ことができる。この回転角は、被検物7の反射率が低い
場合例えばガラス面での反射のように4%程度の反射率
となる場合には、偏光プリズム16に入射する光をp偏
光に近い楕円偏光とし、被検物7からの反射光と参照鏡
4からの反射光量とがなるべく同程度となるように選
ぶ。逆に、被検物7が一部の金型のように反射率の高い
ものの場合には、偏光プリズム16に対し45°の方向
に偏光面を選び、なるべく等量の光が被検物7及び参照
鏡4に向かうようにする。
【0020】次に、偏光プリズム16では、楕円偏光の
p偏光成分がファラディローテータ19に向かい、s偏
光成分は反射されて参照鏡4に向かう。最初にp偏光成
分について述べると、ファラディローテータ19により
45°だけ偏光面が回転せしめられる。この様子を図2
に示す。p偏光を図2のIで表すと、ファラディローテ
ータ19を通過することにより例えばIIの状態に変わ
り、π/4ローテータ21に左旋性のものを用いるなら
ばこれを通過することによりIのp偏光に戻り、偏光プ
リズム17を通過してプリズム30,31を経て複屈折
プリズム23に至る。
【0021】この複屈折プリズム23にロションプリズ
ムを用いた時にはp偏光は方向を変化させずに進み、対
物レンズ5により被検物7の表面に集束される。そし
て、p偏光は被検物7の形状による位相変化を受けた後
再び同じ光路を逆行し、対物レンズ5,複屈折プリズム
23,プリズム31,30,偏光プリズム17を通過す
る。更に、π/4ローテータ21を通過して図2のIか
らIIの状態に偏光面が変わり、更にファラディローテー
タ19を通過することによりIIからIIIの状態即ちs偏
光に変換され、偏光プリズム16で反射してビームスプ
リッタ11に至る。ここで、反射された光束は光検知器
12に入射するので、デフォーカス量及びビームの横ず
れ量が検知される。ビームスプリッタ11を通過した光
は干渉縞計数部28に向かう。
【0022】又、偏光プリズム16に左から入射した楕
円偏光のもう一つのs偏光成分について述べると、これ
は偏光プリズム16で反射され参照鏡4への光路を左ま
わりにたどり、再び偏光プリズム16で反射され鏡25
を経て干渉縞計数部29に入射する。
【0023】要約すれば、偏光プリズム16に左から入
射した光束のp偏光成分は被検物7の形状に関する情報
を担って干渉縞計数部28に入射し、s偏光成分は参照
光束となり、干渉縞計数部29に入射する。
【0024】以上、偏光プリズム15を通過したp偏光
成分について述べてきたが、偏光プリズム15で反射し
たs偏光成分についても全く同様の経過をたどる。s偏
光成分は、1/2波長板18により楕円偏光に変換さ
れ、鏡24,26を経て偏光プリズム16に下から入射
する。入射光束のうちp偏光成分は、偏光プリズム16
を通過して参照鏡4への光路を右まわりにたどり偏光プ
リズム16を経て干渉縞計数部28に入射する。s偏光
成分は、偏光プリズム16で反射された後ファラディロ
ーテータ20、π/4ローテータ22、鏡27、偏光プ
リズム17、プリズム30,31、複屈折プリズム23
を経てp偏光の光路に対して一定の開き角を有する異常
光の光路をとり、対物レンズ5によりp偏光の集束点に
対してシア量だけ横ずれした点に集束し、その点の形状
に対する情報を担って同じ光路を逆にたどり、対物レン
ズ5、複屈折プリズム23、プリズム31,30を経て
偏光プリズム17で反射され、鏡27、π/4ローテー
タ22、ファラディローテータ20を経てp偏光に変換
され、偏光プリズム16を通過して鏡25を経て干渉縞
計数部29に入射する。
【0025】以上のことから、干渉縞計数部28では、
偏光プリズム15を透過した成分のうちのp成分がファ
ラディローテータ19を往復二回通過することによりs
偏光に変換されて被検物7の一場所の形状の情報を担っ
た信号光として入射し、偏光プリズム15で反射した成
分のうちのp成分が参照光として入射する。同様に、干
渉縞計数部29では、偏光プリズム15で反射した成分
のうちs偏光がファラディローテータ20を往復二回通
過することによりp偏光に変換されて被検物7のシア量
だけ横ずれした場所の形状情報を担った信号光として入
射し、偏光プリズム15を透過した成分のうちのs偏光
成分が参照光として入射する。いいかえると、被検物7
のシア量だけ離れた二点に対して偏光の異なる独立の干
渉計が二つあることになる。そして、両方の参照光路及
び信号光路は共通光路に近い配置をとっているため、振
動或いは空気の流動等の機械的擾乱や被検物7の回転駆
動系の精度の影響を受けにくい構成となっている。
【0026】更に図3を用いて詳しく説明すれば、図3
は縦軸に非球面量Lを、横軸に回転角θを夫々とったも
のであり、図1に於いて被検物7をその近似曲率中心を
中心として回転させた時の回転角θと非球面量Lとの関
係を示したものである。被検物7の形状情報をシア量だ
け横ずれした偏光の異なる二つの光束を用いて取得して
いるため、同じ形状を二重に測定している。例えば、p
偏光の光束が図3のOからPまで測定したとすれば、s
偏光は同じ形状をOからPを経てシア量だけずれたQま
で測定することになる。測定の途中で振動等の機械的擾
乱や回転駆動系の不完全性等により被検物7が移動した
とすれば、例えばp偏光の測定値には図中矢印で示した
実線の擾乱が入るが、これとほぼ同じ擾乱(図中点線図
示)がs偏光の測定値にも入る。従って、測定から得ら
れた非球面曲線OPと横軸θの間の面積と非球面曲線O
PQと横軸θとの間の面積の差を求めると、擾乱等によ
るノイズ成分は打ち消されて非球面曲線PQと横軸θと
の間のノイズを含まない真の面積が求められ、これをシ
ア量で除することによりPQの中間点での非球面量の真
の値が求められる。
【0027】即ち、この面形状測定器は、p,s両偏光
について共通の参照鏡4を有していると共に各々独立の
干渉計を有しているので、被検物7の非球面量Lを各回
転角に対し誤差の積算なしに求めることができることに
特徴があり、この点が従来技術と異なるところである。
従って、振動や空気の流動等の機械的擾乱や被検物7の
回転駆動機構の精度に影響されることが少なく高精度の
測定が可能である。又、オートフォーカス機構を有して
いるので、非球面量の大きいものや凹面だけでなく凸面
の測定も可能であると共に、被検物7を回転駆動する構
成となっているので深いRのものも測定し得る。
【0028】次に、光束を被検物に垂直に入射させる作
用について説明する。図4に示すように入射光束lに対
し被検物7がβだけ傾いている場合には、反射光束は2
βだけ振られて実線で示す反射光路をとり、対物レンズ
5を通過した後では入射光束に対して平行に横ずれした
光束となって干渉計の方へ戻ってゆく。この光束の横ず
れ量は光検知器12により検知され、直角プリズム30
が光検知器12からの誤差信号が零となるように光束の
横ずれ量の半分だけ平行移動され、図4の点線で示した
光路をとり対物レンズ5により被検物7に垂直に入射す
る。従って、反射光は入射と同じ光路を逆にたどる。
【0029】本実施例に示された傾き角補正光学系の、
従来の図7に示された対物レンズ5を移動させる方式に
対する利点は、図4に示されたように、入射光束lと被
検物7との交点が入射光束lを点線のように平行移動さ
せても対物レンズ5の球面収差を除いて全く同じ位置に
あるので、図7に示されたように被検物7を移動させる
必要がなく、サーボ機構が簡単になり且つ測定時間が短
縮されることにある。
【0030】図5は干渉計の構成をより簡略化した第二
実施例を示す。図中、32は光アイソレータであり、3
3は1/4波長板である。光アイソレータ32は光源1
と干渉計との間の干渉を遮断するもので公知のものであ
る。第一の実施例のファラディローテータ19,20及
びπ/4ローテータ21,22の代わりに本実施例では
1/4波長板33が挿入してある。偏光プリズム16を
通過したp偏光は1/4波長板33により円偏光に変換
され、偏光プリズム17により円偏光のうちのp偏光成
分が透過し、s偏光成分は系の外に向かう。偏光プリズ
ム17を通過したp偏光は、ビームスプリッタ11、複
屈折プリズム23、対物レンズ5を経て被検物7に収束
され、反射された後入射の光路を逆にたどり対物レンズ
5等を経て1/4波長板33に入射する。
【0031】ここでp偏光は円偏光に変換され、そのう
ちのs偏光成分は信号光として偏光プリズム16により
反射され干渉縞計数部28に至る。又、円偏光のうちの
p偏光成分は、偏光プリズム16、1/2波長板18を
経て偏光プリズム15に入射し、光束の一部は偏光プリ
ズム15により反射され系の外に向かい、残りの光束は
これを通過して光アイソレータ32に入射し遮断され
る。1/4波長板33に左から入射するs偏光の光束も
同様にして一部は信号光として干渉縞計数部29に入射
し、残りは系外に或いは光アイソレータ32により遮断
され失われる。以上述べたことから、本実施例は、光量
の損失を除けば図1に示された第一の実施例と全く同じ
作用を示すことがわかる。
【0032】尚、この実施例ではビームを横ずれさせる
光学系は省略してあるが、第一の実施例と同様に2つの
直角プリズムをビームスプリッタ11と複屈折プリズム
23との間に設ければよい。
【0033】又、以上述べた各実施例では、偏光プリズ
ム15として偏光ビームスプリッタを用いているが、普
通のビームスプリッタを用いることも可能である。又、
4或いは30として直角プリズムを用いているが、キャ
ッツアイを用いることもできる。又、被検物7の駆動機
構として回転駆動機構を用いた場合を示したが、平面駆
動機構を用いることができることはもちろんである。
又、対物レンズ5の代わりにホログラムレンズ等の他の
光収束部材を使用することもできる。
【0034】
【発明の効果】上述の如く、本発明による面形状測定器
は、非球面量の大きいもの、或いは深いRのものを凹面
及び凸面の両方について高精度に且つ短時間に測定し得
るという実用上重要な利点を有している。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一実施例による面形状測定器の光学
系を示す図である。
【図2】上記実施例における偏光面の回転を説明する図
である。
【図3】上記実施例の非球面量算出の原理図である。
【図4】上記実施例の傾き角補正光学系の作用を説明す
る図である。
【図5】第二の実施例の光学系を示す図である。
【図6】従来の面形状測定器の光学系を示す図である。
【図7】従来の別の面形状測定器の光学系を示す図であ
る。
【符号の説明】
1 光源 4 参照鏡 5 対物レンズ 7 被検物 11 ビームスプリッタ 12 光検知器 15,16,17 偏光プリズム 18 1/2波長板 19,20 ファラディローテータ 21,22 π/4ローテータ 23 複屈折プリズム 28,29 干渉縞計数部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川島 隆 東京都渋谷区幡ケ谷2丁目43番2号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 川上 一雄 東京都渋谷区幡ケ谷2丁目43番2号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 植竹 敏文 東京都渋谷区幡ケ谷2丁目43番2号 オリ ンパス光学工業株式会社内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 可干渉性の光束を発する光源と、該光束
    を参照光束と試験光束とに一旦分離した後これらを結合
    させる分離結合光学系と、前記試験光束を光軸に垂直な
    方向に移動させる傾き補正光学系と、該試験光束を被検
    面に集束する集束光学系と、該被検面の傾きによって生
    ずる光束の横ずれを検出する光検出器と、前記参照光束
    を反射する参照鏡と、前記参照光束と試験光束とを結合
    させて生ずる干渉縞を計数する干渉縞計数部と、から構
    成された面形状測定器。
  2. 【請求項2】 前記集束光学系の光源側に、試験光束を
    相異なる2つの偏光成分に分離する複屈折素子を設けた
    ことを特徴とする、請求項1に記載の面形状測定器。
  3. 【請求項3】 前記試験光束の経路の途中にファラディ
    ローテータを設けたことを特徴とする、請求項2に記載
    の面形状測定器。
JP3118474A 1991-05-23 1991-05-23 面形状測定器 Expired - Lifetime JPH0678894B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE10138656B4 (de) * 2000-08-08 2012-06-21 Mitutoyo Corp. Oberflächenprofilmesseinrichtung

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