JPH06507983A - フレキソ印刷プレート - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
フレキソ印刷プレート
本発明は放射線硬化性ポリウレタンエラストマー状組成物及びこの組成物とプラ
イミング層を用いて生成したフレキソ印刷プレートの形成方法に関し、このブラ
イミング層は前記プレートの動作を改良する。プレートは無溶媒吸収処理法で現
像可能である。本発明は、水や溶媒ベースのフレキソグラフィックインクに浸漬
した場合の膨潤(swe I I i ng)に対して、対抗性がある組成物に
有用なアシリシン官能性プライマーについて開示する。この対抗性はフレキソ印
刷プレートの形成においてこれらの組成物の使用に際し重要である。
発明の背景
フレキソグラフィーとはエラストマー状又はゴム状レリーフ印刷表面を担持した
可撓性基体を使用する印刷形式に広く適用される用語である。
第1のフレキソ印刷プレートは、天然又は合成ゴム組成物を型に入れ、加熱加圧
下で化学的に硬化して生成する。これには常套のゴム硬化剤、例えばメルカプト
化合物(フレキソグラフィー ブリンシプルズ・アンドプラクティシーズ(Fl
exography:Pr1nciples andPractices)、第
3編、フレキソグラフ技術研究会、158−162頁)を使用する。最近では、
レリーフ印刷プレートの生成に有用なホトポリマーエラストマー状組成物(化学
線露光で硬化可能な組成物を含有したニジストマー)について記載されている。
例えば、米国特許第4,369.246号及び4,423.135号は、シート
支持体に次のものを有する感光性組成物の層を乾燥厚さが0.005〜0.25
0インチで適用して形成された溶媒に不溶なエラストマー状印刷レリーフプレー
トについて記載している: (1)25℃以上のガラス転移温度で平均分子量が
2000〜1oooooの少なくとも2つの熱可撓性、非エラストマー状ブロッ
クを含有する溶媒溶解性コポリマーと、これらのブロックの間にあり、10℃以
下のガラス転移温度で平均分子量が25,000〜1.Ooo、oooのエラス
トマー状ブロックコポリマーとが少なくとも30重量%;(2)少なくとも末端
にエチレン性基を有する付加重合可能な化合物が少なくとも1重量%;及び(3
)重合開始剤。可撓性ポリマーフィルム及び可撓性カバーシートを組成物層にラ
ミネートする。プレートはカバーンートを剥がし取り、フィルムを通して化学線
でこの層を潜像露光し、フィルムを除去し、層の非露光領域を溶媒洗浄すること
によって形成される。パークロロエチレン(1,1,11−リクロロエチレン)
のような溶媒を単独若しくはn−ブタノールのようなアルコールと組み合わせて
使用する。EP特許261.910号等では更に(1)アクリル酸エステルのモ
ノマー及びポリマーと、(2)ケトン光重合/光架橋剤を有し、これを支持体シ
ート上に被覆形成した水で現像可能なフレキソグラフィックレリーフ印刷プレー
トの例を記載している。潜像露光後(架橋を促進し)、プレートのレリーフ領域
を、水性現像剤で洗浄することによって形成する。洗浄後、ここに記載されてい
るフレキソグラフィックプレート形成組成物及び方法ではすべて、長時間にわた
って(1〜24時間)プレートを乾燥して入り込んだ現像溶液を除去する必要が
あり、次いで後仕上げ処理(化学的又は光化学的)を受けて、プレートの表面粘
着度を低下させた後、印刷機で使用する。前述の技術によりフレキソ印刷プレー
トを生成するために長時間必要なだけでなく (一連で多数の処理工程を要する
ため)、これらの技術は潜在的に現像工程時に有毒な副生成物の廃棄物をも生成
する。溶媒洗浄技術の場合には、溶媒と、少なくとも1つの末端エチレン性基を
含有する重合性化合物2)の両方の形で潜在的に有毒である有機溶媒廃棄物が生
じる。同様に水性洗浄プレート技術も、細胞毒効果を有する同様の重合性化合物
を含有する可能性のある汚染された排水の副生成物流動を生成する。
多くの異なったタイプのモノマーや架橋性樹脂がポリマーの分野で公知であり、
これらの特性をこの分野で考えられる方法により調整して、堅さ、柔軟性、又は
他の特性を得ることができる。特に、本発明の組成物に関して好適な材料は米国
特許第4.578.504号;4,638,040号:及び4,786.657
号に示されている。
種々のタイプの硬化性ポリウレタンエラストマー状組成物が公知である。「エラ
ストマー」及び「エラストマー状」という用語は、ゴム又はこれらのゴムと同様
の弾力性を有するポリマーを表すのに使用する。特に、ここでいうエラストマー
は十分引き伸ばすことができ、かつその後、エラストマーを引き伸ばすストレス
を解放したときにその最初の大きさに戻ることができる材料特性を示す。いかな
る場合でも、エラストマーは少なくとも10%伸張(0,5mmの厚さで)し、
かつ2秒間伸張を保持し、1分間ゆるませた後にその最初の大きさに復帰できな
ければならない。最も典型的には、エラストマーはそのエラストマー性限界を越
えることなく25%伸張できる。ある場合には、エラストマーは、引き裂けたり
その組成物のエラストマー性限界を越えることなく最初の大きさの300%以上
に伸張できる。エラストマーは典型的に、このエラストマー性をASTM 型番
D883−866内で室温で弱いストレスとストレスの解放による充分な変形の
後、素早く最初の大きさと形に復帰するマクロ分子材料として示すことと定義さ
れる。ASTM 型番D412−87はゴムの引っ張り特性を試験するのに好適
な装置でエラストマー特性評価することができる。一般に、このような組成物は
、硬化時に完成されたネットワークや構造を形成する比較的高分子量の化合物を
含有している。硬化は化学的硬化剤、触媒、及び/又は光照射の使用を通じて、
種々の方法で行ってもよい。硬化材料の最終的な物理特性は種々の要因、特に:
数及び重量平均ポリマー分子量:エラストマーの強化ドメイン(ハードセグメン
ト)の融点及び軟化点(これは例えばASTM 型番D1238−86により同
定される)、ハートセグメントドメインを有するエラストマー組成物の重量パー
セント、エラストマー組成物の堅い又はソフトセグメント(低いTg)部分の構
造:架橋強度(架橋間の平均分子量):及び添加剤、補助剤の性質及びレベル等
に作用する。「硬化された」という用語は、ここで用いるように、架橋された又
は化学的に熱硬化性(非融解)、又は比較的非溶解性な状態に転移されたことを
意味する。
米国特許第4.939.008号はアジリジン官能性層を用いてポリオレフィン
層をポリマー状基体に固定することについて記載している。このアジリジン官能
性材料はプライマーとして使用する本発明の材料と同じである。
発明の要旨
本発明は、硬化可能な組成物(放射線重合性、放射線硬化性、放射線架橋性)を
可撓性基体上の層として有するフレキソ印刷プレートに関する。このプレートを
潜像形成光照射し、光照射された領域中の組成物が硬化する。前記潜像形成光照
射された層は、40〜2oo℃の間の温度に加熱されると光照射されない組成物
を吸収することができる吸収材層と接触しており、前記組成物層を前記吸収材層
と接触している間に40〜200℃の間の温度になるように加熱する。前記温度
は、光照射されない領域の前記組成物を前記吸収材層中へと流動さすことができ
るほど充分高い。前記吸収材層と接触した光照射されない領域における前記組成
物の少な(とも75%は前記吸収材層によって吸収され、前記吸収材層を除去す
ることによって、光照射されない領域から前記少な(とも75%の組成物が前記
可撓性基体から除去される。この処理に前現像工程を使用することもでき、基体
上の「フロア」をまず現像することによって可撓性基体への光照射組成物のアン
カリングを改善することができる。イオン化放射線(例えば、e−ビーム、短波
長紫外線等)を透過する基体上の画像形成可能な組成物を、一般的にはまず、基
体を通して露光し、重合化組成物のフロアを生じさせる。このフロアは現像時に
基体から除去されず、光照射されない領域から除去される組成物の少なくとも7
5%の決定では考慮されない。光照射されない組成物を流しくその粘度を低下さ
せる、又はその軟化点を越える(例えばASTM 型番D1238−86を参照
))、吸収材層で吸収させる(層背後の気圧を減少させる必要なしに)ためには
より高温を用いる必要があるが、このとき、表面の大きさの2%以上、可撓性基
体又は硬化組成物を変形させてはならない。実際の温度は使用する基体及び組成
物の種類により変化する。好ましくは光照射されない組成物の少なくとも80%
を吸収材層に接触した加熱領域から除去する。より好ましくは少なくとも90%
又は少なくとも95%を除去する。(光照射による)処理の硬化(harden
ing or curing)工程は組成物の基体への粘着度を増加させるよう
に機能する。これは硬化組成物の基体への直接粘着(反応による化学的粘着又は
、可撓性層上の表面構造への物理的粘着)によるものでも、基体上のプライマ一
層への粘着による(通常は化学反応による)ものでもよい。本発明の実施におけ
るプライマ一層はアジリジン官能性組成物である。
本発明は特に、グラフィックアート印刷向けのフレキソ印刷プレートを生成する
のに有用な、低融点、高メルトインデックス、放射線硬化性、エラストマー状ポ
リウレタン組成物に関する。硬化エラストマー組成物は更に、フレキソ印刷処理
に使用するフレキソグラフィックインク(例えば水ベースのインク)に浸漬した
場合に、体積の膨潤又は増加が減少する傾向の特性を有する。この低い膨潤特性
は、膨潤することがレリーフ画像を拡大させるため、印刷プレートを用いて達成
された根本的な印刷品位にとって重要である。例えば2%ドツトは、プレートの
過度の膨潤により印刷インクでは、実際にはこの不要な現象により印刷頁上で1
5〜20%ドツトとして印刷されるであろう。印刷機の寿命又は印刷機でのプレ
ートの摩耗寿命(欠陥が生じるまでの印刷回数)も硬化エラストマー組成物の物
理的強度の損失で生じる膨潤により、著しく減少する可能性もある。
本発明の放射線硬化性ポリウレタンエラストマーのさらなる特徴は、化学線で露
光すると、更にビニル含有モノマー状添加剤(例えば、1分子に対して1以上の
ビニル基を有するモノマー)を必要とせずに硬化又は架橋することである。この
特徴は潜在的に細胞毒的な薬剤での地球環境(土壌、水、又は大気)の汚染に対
してその潜在性を幾分減少させる。更に、この技術を用いてフレキソ印刷プレー
トを生成及び使用する作業者の安全性も、この同じ細胞毒薬剤に人々をさらす必
要をなくすことを通じて向上する。
更に本発明の放射線硬化性ポリウレタンエラストマーの特徴は比較的低融点でか
つ高メルトインデックス(低融解粘度)であることである。本発明は特に新規な
放射線硬化性ポリウレタンエラストマー組成物から生成されたフレキソ印刷プレ
ートに関し、この印刷プレートは新規な無溶媒吸収処理法を用いて現像される。
吸収フレキソグラフィクプレート処理法はあらゆる種類の液体現像剤(水又は溶
媒)の必要性がない。この新規なプレート形成法はプレート形成工程、プレート
形成処理時間、を本質的に減少させ、プレート形成による潜在的に有毒な副生置
物廃棄流動を排除する。本発明による放射線硬化性エラストマー状ポIIレタン
組成物を他の目的で他の工業に使用してもよいことが予想されるが、これは特に
フレキソ印刷工業用に非常に好適である。
硬化前の放射線硬化性エラストマー被覆シート材料の保存安定性もまた重要であ
る。特に、保存時の冷流動に対するエラストマ一層の対抗性がめられる。エラス
トマ一層が非常な冷流動をへた場合には、得られた印刷プレートはそのような流
動の間に生じるプレート厚さの均一性の変化により使用できなくなる可能性があ
る。本発明の放射線硬化性ポリウレタンエラストマーは、対抗性及び特に光照射
により架橋又は硬化を生じさせる前の冷流動に対する高い対抗性に特徴がある。
一般に、フレキソ印刷プレートは硬化性エラストマー状ポリマー層がらなり、こ
れは可撓性支持体層又はンート(例えば、ポリマー状(フィルムベース)又は金
属性(金属ベース)でもよい)に平面隣接している。エラストマ一層の部分的硬
化後(化学線での潜像形成露光による)、未硬化部分を除去してフレキソ印刷処
理におけるプレートの印刷表面となるレリーフ構造(ヒル)を出現させる。レリ
ーフ構造(硬化領域)を、繰り返し印刷するような印刷処理の間、その場に残る
ように支持体層に物理的及び/また化学的作用により固定する。硬化エラストマ
一層の露出表面はインク受容表面となり、これはインクロール(アニロックス)
からインクを受容すると共にそれを基体に転写して印刷処理間に印刷される。フ
レキソ印刷処理は、印刷プレートとその一時的に担持したインク層が直接基体(
例えば、紙又はフィルム)に接触して印刷されるので、「直接」印刷処理である
。
種々の物質を、フレキソ印刷プレートの硬化エラストマ一層の下側の支持体層と
して使用してもよい。合成ポリマー状樹脂の可撓性基体(例えば、ポリエステル
、ポリカーボネート、又はポリイミドフィルム等)を用いてもよく、また、より
堅い基体(まだ可撓性である)(例えば、スチール、アルミニウムのコイルスド
ック)を選択してもよい。
硬化前、硬化後、及び剥離するための加熱時における放射線硬化性組成物の可撓
性基体への粘着性は、フレキソグラフィックシステムの機能に重要である。組成
物が硬化後にプレートによく粘着するだけでは充分でない。組成物は硬化前は適
度に粘着し、熱的に軟化した場合には簡単に剥離せねばならない。本発明の実施
において記載したアジリジン官能性組成物はこれら所望の特性を備えている。
発明の詳細な説明
フレキソ印刷プレートを生成するための本発明の処理は、イオン化放射線を透過
できる可撓性基体を有するレリーフ画像形成要素(前記基体はその表面上にアジ
リジン官能性組成物のプライマ一層と少なくともQ、3mmの厚さの放射線硬化
性組成物を有する)を用意する工程と、前記組成物を潜像形成光照射して光照射
領域の組成物を硬化する工程と、前記潜像形成光照射層を、40℃〜200℃に
加熱されたときに光照射されない組成物を吸収することができる吸収材層に接触
させる工程と、前記組成物層を前記吸収材層に接触させながら40℃〜200℃
の温度に加熱する工程(前記温度は光照射されない領域の前記組成物を前記吸収
材層によって(通常は前記吸収材層内に流すことによって)吸収させることがで
きるほど充分に高い)と、光照射されない領域の前記組成物(光照射されていな
い)の少なくとも75重量%を前記吸収材層に吸収させる工程と、前記吸収材層
と前記少なくとも75重量%の組成物を前記可撓性基体から除去する工程とを包
含している。この処理は更に前記組成物層をイオン化放射線で基体を通して光照
射して前記組成物層の全部ではないがいくらかを硬化し、これによって前記少な
くとも75重量%の前記組成物を前記吸収材層に吸収させる前に、前記可撓性基
体、プライマ一層と、未硬化組成物の間に硬化された層を形成する好適な工程を
包含してもよい。
要素の背面側から(即ち、基体を通して)組成物を光照射する工程は、放射線で
潜像形成露光する前に行い、組成物層の厚さを通して硬化する前にフロア又はア
ンカーゾーンを生じさせるのが好ましい。イオン化露光は、画像形成後に有効に
機能し、画像形成前の露光としては多大な効果はない。
新種の放射線硬化性ポリウレタンエラストマーは、次のポリマー形成反応がら誘
導される: (A)少な(とも1つのジイソシアネート(例えば、単一のジイソ
シアネート又はジイソシアネートの混合物); (B)分子中に少なくとも2つ
のフリーな水素を含有する基、好ましくは少なくとも2つのヒドロキシル基と少
なくとも1つのエチレン性不飽和基を含有する第1の鎖伸長剤; (C)前記第
1の鎖伸長剤と異なった、少なくとも2つのフリーな水素を含有する基、好まし
くは少な(とも2つのヒドロキシル基と11以下の炭素原子を含有する鎖伸長剤
を含有する任意の構成要素: (D)少な(とも500g/moleの分子量を
有し、分子中に少なくとも2つのフリーな水素を含有する基(例えば、少なくと
も2つのヒドロキシル基)を含有するポリオール(前記ポリオールは約9.0以
下の安定性パラメーターを本質的に有するのが好ましい)。得られたポリウレタ
ンエラストマーは数平均分子量が少なくとも10,000g/mole、融点が
約180℃以下、及び1.100gの負荷及び0.38inchの穴を有する(
ASTMNo、D1238−70による)180℃でのメルトインデックスが少
なくとも0.5g/分である。本発明のエラストマーはまた、一般にエチレン性
不飽和基を有し、付加重合を利用した放射線硬化性ポリウレタンエラストマーと
して記載されてもよく、前記エラストマーは以下のものの反応生成物を含有して
いる・(A)少な(とも1つのジイソシアネートを10〜50重量%(B)イソ
シアネート基と重合可能な少なくとも2つのフリーな水素基を有する第1の鎖伸
長剤であって、分子中に少なくとも1つのエチレン性不飽和の付加重合性基を有
する前記第1の鎖伸長剤を0.5〜20重量%(C)少な(とも500の分子量
を有し、分子中にイソシアネートと重合可能な少なくとも2つのフリーな水素を
有する基を含有する有機ポリオールを10〜70重量%。前記ポリウレタンエラ
ストマーは数平均分子量が少なくとも10,000g/mo1e、融点が約18
0℃以下、及び180℃でのメルトインデ・ソクスが少なくとも05g/分であ
る。これらのエラストマーは任意に、0.5〜20重量%(好ましくは075〜
12%)の、前記第1の鎖伸長剤と異なったイソシアネート基と重合可能な少な
くとも2つのフリーな水素基を有する第2の鎖伸長剤を含有してもよい。本発明
の放射線硬化性ポリウレタンエラストマー組成物は、セグメントコポリマー又は
複数相ポリマーとして公知の一般的な種類のポリマーに属し、この一般的な種類
は多くの文献(例えば、マルチフェイズ・ポリマーズ、(Multiphase
Polymers)、 アト/くンス・イン・ケミストリー・シリーズ(Ad
vances in ChemistrySeries)Vol、176、スタ
ート・エル クー/<−(Stuart L。
Cooper)とシエラルド・エム エステス(Gerald M、Estes
)編集、1978年、1〜83頁)に記載されている。この種のポリマーのエラ
ストマー特性は、いわゆる「ハード」セグメントドメインと「ソフト」セグメン
トドメイン間の相分離(phase segregation or phas
eseparat 1on)から得られる。ノ1−ドセグメントドメインはエラ
ストマーの使用温度以上の融点を有しく例えば印刷プレートとして使用する場合
には使用温度は約15℃〜40°Cである)、補強ドメインとして機能する。「
ソフト」セグメントドメインはエラストマー使用温度以下のガラス転移点を有し
、粘性エネルギー分散として知られた処理によりエネルギーを分散させることが
できる固化相として機能する。エラストマーのこれら2つの相は熱力学的な非両
立性によりエラストマー内で相分離して存在すると考えられる。本発明のエラス
トマーは水中で、好ましくは、2%以下、より好ましくは1%以下もつとも好ま
しくは05%以下の膨潤率を示すことができる。この特性は実際にはエラストマ
ー(例えば、1mmの厚さ)を脱イオン水中に20℃で24時間浸漬することに
よって測定される。厚さが2%以下の増加であれば、2%以下の膨潤である。
前述のポリマー形成反応により形成された新規の放射線硬化性ポリウレタンエラ
ストマーを支持体シート上に層状に被覆形成して画像形成可能なホトポリマーエ
ラストマ一層生成物を得る。潜像形成光照射してエラストマ一層を硬化し、エラ
ストマ一層の未硬化エラストマ一部分を除去した後、水ベースのフレキソ印刷イ
ンクと組み合わせたときの印刷に特に有用なフレキソ印刷プレートを得る。本発
明の放射線硬化性エラストマー状ポリウレタンの特に重要な特徴は、放射線で硬
化可能な特性が、ポリマー形成反応中にポリマー層内に放射線硬化性官能基を導
入することにより誘導されることである。この放射線硬化性基はポリマー鎖形成
時には未硬化状態を保つが、フレキソ印刷プレート形成処理の間に生じるような
化学線で露光することによって活性化される。放射線硬化性官能基はポリマー鎖
に鎖伸長種(B)によって導入される。
本発明に使用可能な鎖伸長剤(B)は、反応性の不飽和部分、好ましくは、特に
フリーラジカル反応により架橋を生じる硬化反応に対して敏感かつ有用な不飽和
部分を含む。本発明による鎖伸長剤中の好適な不飽和部分は炭素−炭素2重結合
(オレフィン又はエチレン性不飽和結合)であって、特に好適な部分は活性化炭
素−炭素2重結合である。一般に、本発明に有用な鎖伸長剤中の「活性化」炭素
−炭素2重結合には、カルボニル基との共役を通じて活性化する2重結合:種々
の他の官能基で置換することにより活性化する2重結合(この官能基はフリーラ
ジカル状態を安定化させ、2重結合のフリーラジカルへの活性を強める傾向のあ
る)がある。本発明による好適な鎖伸長剤では、「活性化」2重結合は、鎖伸長
剤をポリマー骨格、即ち、ウレタン又はカルバメートユニット間に導入したとき
に、活性化2重結合がポリマー骨格から離れた、又はポリマー骨格にペンダント
するポリマー分子部にあるように配置する。即ち、活性化2重結合はそれ自身が
ポリマー骨格部を形成するのではな(て、むしろポリマー鏡上でそこからペンダ
ントする層内に配置される。本発明による鎖伸長剤の一般的な化学的特性は、こ
れらが少なくとも1つの活性化2重結合を有するジヒドロキシ置換有機化合物で
あることである。好ましくは、僅か2つのζドロキシ基(即ち、化合物に対して
好ましくは、平均2.10以下、より好ましくは平均2.05以下のヒドロキシ
当量)しか化合物中に含有せず、鎖伸長剤がポリウレタンプレポリマーとの最初
の反応中に、実質的にネットワーク及び架橋を生じることなく伸長されたポリウ
レタンポリマー組成物(未硬化)を生成するようにする。前述した様に、これら
の鎖伸長種は2つのフリーな水素含有化合物でもよく、これにはジヒドロキシ化
合物がある。有用なフリーな水素含有化合物は、例えば−8H,−NHt、−N
HR(ここでRはアルキル基又はフェニル基である)のような基を1以上のヒド
ロキシ基の代わりに有してもよい。ヒドロキシ基は、ウレタン生成での生成物の
融点及びメルトインデックスの点で特に好ましい。他のフリーな水素反応基は高
すぎる融点又は低すぎるメルトインデックスを有するポリウレタンを生成する。
融点が155℃以下(好ましくは150℃以下)で、ASTM No、D−12
38−70で測定した場合の100℃〜180℃(好ましくは、100℃〜14
0℃)の温度範囲でのメルトインデックスが5g/10分以上であるこれらポリ
ウレタンを生成する必要がある。好ましくは、鎖伸長剤(B)の少なくとも1つ
、最も好ましくは、両方のヒドロキシ基はまず、ポリマー分子を大きくするべく
鎖を伸長するためのイソシアナト部分との反応が比較的高速になるように、他の
種類の鎖伸長剤との反応と効果的に匹敵するように機能しており、以下に記載す
るように、エラストマー状組成物における他の有効な化学的及び物理的特徴を与
えるのに利用することができる。好ましい鎖伸長剤は米国特許第4. 578.
504号及び4.638.040号に記載されており、ここでは−X及び−Y
がそれぞれヒドロキシル及び水素である(1−又は2−グリセロールアクリレー
ト又はメタクリレート)。米国特許出願第184,834号(1988年4月2
2日出11iI、代理人のドケット(Docke t)No、32888USA
6A、名前:J、A、7−テンス(Martens)ら)では、N、 N−ビス
(2−ヒドロキシエチル)、N’−(メタクリルオキシエチル)尿素:CH2=
C(CHs)C(0)OCHzCHzNHC(0)N (CHIC820H)2
のような伸長剤が記載されている。
本発明の好ましい組成物では、活性化2重結合金有鎖伸長剤をポリマー内に導入
して硬化するが、ここで平均してポリマー中に2,000〜10,000分子量
ユニットごとに約1つのペンダント、活性化、不飽和サイトがあるようにする。
フレキソ印刷プレート等の好ましい用途に使用するために、ポリマー状エラスト
マー(硬化前)中の鎖の数平均分子量は約20,000〜50.000の範囲、
重量平均分子量にして約35,000〜95,000の範囲にすべきである。更
に、ASTM No、DI238−70で測定した場合の得られた融解状態の放
射線架橋性エラストマー状組成物のメルトインデックスは、100〜180℃の
温度範囲で0.5g/分〜10、Og/分の範囲にすべきである。
ポリマーに添加された試薬に起因する2重結合の割合の示し方としては、ポリマ
ーの2重結合当量(平均分子量をポリマーにペンダントした2重結合の平均数で
割ったもの)を使用し、ポリマーとの反応混合物中に1重量%の2重結合供給試
薬を有するポリマーを考えると、分子量は生成物中に16,000の2重結合当
量を有している。2重結合供給試薬の重量を2倍にする(2%)ことによって、
2重結合当量はs、oooに半減する。例えば2−グリセロールメタクリレート
(GMA)を使用すると、同じ分子量のポリマーては、以下の関係がGMA対当
量(EW)について存在する。
%GMA EW
1% 16.000
2% s、oo。
3% 5.333
4% 4. 000
5% 3. 200
反応混合物のポリオール(D)は約9.0以下の安定性パラメーターを有してお
り、水及び水/アルコール混合物の吸収に対する対抗性等を有し、かつ少なくと
も250gr/当量のヒドロキシル当量を有する疎水性ポリオールである。ここ
で使用できる好ましいポリオールは平均ヒドロキシル官能価が約2〜3で平均ヒ
ドロキシル当量が約250〜約5000、好ましくは約500〜3000である
ポリエステルポリオール類である(これらのポリオール類の混合物を含む)。
特に使用できる好適なポリエステルポリオール類はアルキレン酸化物又はハロゲ
ン置換アルキレン酸化物又はその混合物を活性な水素含有開始剤化合物と反応さ
せることによって調製したものである。このような好適な酸化物としては例えば
、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、1.2−ブチレンオキサイド、
2.3−ブチレンオキサイド、エビクロロヒドリン、エビブロモヒドリン、及び
その混合物等がある。エチレンオキサイドを用いた場合には、これをポリオール
の10重量%以上使用してはならない。好ましい酸化物は1.2−ブチレンオキ
サイド及びエビクロロヒドリンである。このようなポリオール類はポリウレタン
化学の分野では公知であり、市販入手することができる。ポリ1.2−(ブチレ
ンオキサイド)ポリオールはダウ・ケミカル(Dow Chemica+)社の
市販品である。ポリエビクロロヒドリンポリオールは米国特許第4. 431.
845号に記載されており、3M社の市販品である。
有機ジイソシアネート又はジイソシアネート類(A)は有機芳香族又は脂肪族イ
ソノアネート類又はその混合物から選択される。使用できる好適な有機芳香族ソ
イソノアネート類としては例えば、1分子中に2以上のNGOを有するような、
例えば、2.4−トルエンジイソシアネート、2.6−トルエンジイソシアネー
ト、p、p’−ンフェニルメタンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシア
ネート、ナフタレンジイソノアネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネー
ト、1. 3. 3. 5−テトラメチル−1,6−ビス(イソシアナト)ヘキ
サン(TMXDI)及びその混合物等のあらゆるイソシアネートを含む。好適な
有機脂肪族ポリイソシアネート類としては前述の有機芳香族ポリイソシアネート
類の水素化誘導体たけでなく、1.6−へキサメチレンジイソシアネート、1.
4−シクロへキシルジイソシアネート、1.4−ビス−イソシアナトメチル−シ
クロヘキサン、イソホロンシイソノアネート、及びその混合物等を含む。好まし
いシソシアネート類は脂環族ジイソシアネート(4,4’ −ビス(イソシアナ
トシクロヘキシル)メタン、1,4−シクロへキンルジイソノアネート、及びイ
ソホロンシイソノアネートを含む)である。
使用できる好適な鎖伸長剤(C)としては、分子中に2〜3のヒドロキシル基を
含有するヒドロキシル含有脂肪族化合物がある。好適なヒドロキシル含有鎖伸長
剤としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1.4−ブ
タンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン
、グリセリン又はトリメチロールプロパンの低分子量のエチレン及び/又はプロ
ピレンオキサイド誘導体等がある。
放射線硬化性エラストマー組成物は、前述の化合物だけでな(、他の成分又は補
助剤、例えば光開始剤、着色剤、充填剤、触媒、安定化剤、抑制剤を含有しても
よ(、これらは硬化性エラストマ一層の他の特性(例えば、保存安定性、可視色
等)を改善するために必要としてもよい。このような補助剤をポリマー骨格中に
反応により導入してもよく、また、ポリマー鎖内に導入せずに単に添加剤として
組成物全体に存在してもよい。
この分野で公知であるように、エチレン性不飽和結合(本発明で用いたエラスト
マーにペンダントできるようなもの)を直接イオン化放射線(例えば、e−ビー
ムや他の高エネルギー放射線)で硬化することができる。本発明の組成物中に開
始剤が存在することは不可欠ではないが、非常に好ましい。好ましくはいかなる
公知の種類の光開始剤、特にフリーラジカル光開始剤(例えば、キノン類、ベン
ゾフェノン類、ベンゾインエーテル類、アリールケトン類、パーオキサイド類、
ビイミダゾール類、ジアリールヨードニウム類、トリアリールスルホニウム類(
及びホスホニウム類)ジアゾニウム類(特に芳香族ジアゾニウム類)等)を、本
発明の組成物中に、一般的にはエラストマーの0.1〜15重量%、好ましくは
、0.3〜10重量%、より好ましくは、0.5〜8重量%の量で使用してもよ
い。
光開始剤は異なった開始剤の混合物及び/又:本この分野で公知の増感性又は光
開始剤にスペクトル増感性の染料と組み合わせて使用してもよい。
本発明の実施に有用な好ましい組成物の別の特徴はより低分子量のポリアクリロ
イル(メタクリロイルを含む)材料を組成物中に必要としないことである。この
ようなポリアクリロイル材料(ジー、トリー、テトラ−、ペンタ−、ヘキシル−
アクリロイル又はメタクリロイル)は多(の理由で望ましくない。本発明は、全
く分子量1000以下のポリアクリロイル(メタクリロイルを含む)化合物なし
に行っても問題ない。多くの工業的観点から、このようなポリアクリロイル化合
物を2.0重量%以下有する架橋性組成物を有することが特に望ましい。好まし
くは本発明はこのような化合物(1000以下の分子量を有するポリアクリロイ
ル材料)を2.0%以下、より好ましくは、1.0%以下、更に好ましくは、領
5%以下、最も好ましくは、0%有する。
本発明の放射線硬化性ポリウレタンエラストマー状組成物は融解重合技術を用い
て生成されるのが好ましい。融解での重合はエラストマー生成物を生成するのに
有機溶媒や溶媒混合物の使用を避け、エラストマー生成物を融解状態でオーブン
で乾燥する必要なく直接支持体ソートに塗布することができる。さもなければ、
オーブンでの乾燥がフレキソ印刷プレート形成前にエラストマ一層からこのよう
な有機溶媒を除去するために必要となる。これらの組成物を生成する好ましい方
法ては、ポリマー処理をする融解押し出し装置、例えば、ツイン−スクリュー逆
回転押し出し装置や重合反応容器(例えば、米国特許第4.843,134号に
開示されているような)の使用を含む。このような押し出し装置は、反応種の混
合の間の温間制御、及び処理中の押し出し装置圧力分布(profile)の低
下の制御を行う(この処理は反応物の逆混合及び最終的な滞在時間分布に影響す
る)。押し出し装置中での放射線硬化性エラストマー形成反応が完了すると、融
解し、完全に反応した、未硬化の軌可撓性エラストマー組成物を、フィルム形成
押し出しダイ(d i e)を通して、支持体材料の可動ウェブに接触させて直
接支持体ソートに塗布することができる。また、例えば常套のシングルスクリユ
ー融解押し出し処理のような他の形態の処理を用いたフレキソ印刷プレートへの
その後の処理のために、融解した未硬化のエラストマーを粒子又は他の固体状態
(板状)で回収してもよい。
優れた耐久性(印刷機寿命)と支持体層又はシートがらのエラストマ一層の剥離
に対する対抗性を有するフレキソ印刷プレートを生成するために、一般的に硬化
エラストマ一層の支持体シートへの粘着性又は接着強度を、放射線硬化性エラス
トマ一層を適用する前にプライミング剤を用いて又は粘着促進処理をフィルム又
は金属支持体層に適用することにより、向上させるのが好ましい。このような処
理は一般に融解した硬化性エラストマ一層を適用する前に、支持体層又はシート
の表面に行う。処理(例えば、コロナ放電処理、米国特許第4. 822. 4
51号のレーザー修正、化学的なプライミング剤の使用、機械的な表面の粗面化
)は硬化性エラストマ一層の支持体への粘着性の増加に幾分効果がある。しかし
本発明の実施では未だ、これらの処理ではその技術で見込まれる最良の結果を得
ることができていない。アジリジン官能性化合物の使用がこれらのシートの機能
を改良することは見いだしている。
放射線硬化性ポリウレタンエラストマー組成物を支持体シート(フィルム又は金
属ベース)に隣接する平面隣接層に形成した後、フレキソ印刷プレートを画像形
成及び現像することによって生成することができる。これはポリウレタンエラス
トマ一層を化学線で露光して硬化することによって行う。露光はエラストマ一層
を硬化し又は架橋させて、幾分光照射領域を非融解又は不溶にする役割を果す。
化学線での露光は幾つかの方法で行うことができる。好適な方法では、硬化は2
つの露光工程でなされる。第1の露光は裏側露光と呼ばれ、化学線を支持体層の
ほうから支持体層を通してエラストマ一層へと直射して行う。ここで化学線源を
2層プレートの支持体層から離さずに隣接して配置し、露光する。この露光は、
硬化性エラストマー要部の硬化又は架橋を逐次変化させるもので、硬化は支持体
層に最も近いところで最も完全である。この裏側露光の持続時間は実験的に決定
され、放射線増感エラストマ一層内に硬化勾配が生じるように選択する。エラス
トマ一層の最高レベルの硬化(架橋)は支持体に最も近いところで生じ、硬化レ
ベルはエラストマ一層内部で支持体からの測定距離が増加するほど減少する。い
わゆる硬化勾配はこの露光工程間に起こり、勾配はエラストマ一層内の異なった
場所で有効化学線強度が低下又は減少することにより生じる。この減少は、硬化
性エラストマ一層内で測定されるように、少なくともエラストマーによる化学線
の部分的吸収により起こる。この短い露光工程(以下の潜像露光工程に比べて短
い)の後、潜像露光を、写真用ネガ型マスクを用いてこれをエラストマ一層に隣
接するように配置し、これを通して化学線を直射することにより行う。短い裏側
露光はイオン化放射線で行われるのが好ましく、一般的にエラストマ一層内のす
べてのフリーラジカル光開始剤を活性化させるような放射線又は強度では行われ
ない。実際には例えば、架橋又は種々の架橋があれば、米国特許第4.576゜
850号(ゲル・スウェル(Ge l Swe l ])測定)のような標準試
験操作により材料を試験して決定することができる。
真空フレーム露光装置が(短い露光に対抗するものとして)このような画像形成
露光にとって好ましく、これはニジストマ一層と写真用ネガとの間から空気を排
除した後に行われる。次いて潜像形成法では化学線での露光を充分な露光時間で
行い、硬化性エラストマ一層を、フレキソグラフィックプレートを使用する適当
な条件下で本質的に非融解性又は不溶性にする。硬化勾配のある放射線硬化性エ
ラストマ一層を形成する最も好ましい方法では、放射線硬化性エラストマー状平
面隣接層を電子ビーム源からのイオン化放射線で露光するが、このとき加速され
た電子を支持体層の方から支持体層を通してエラストマ一層へと硬化性エラスト
マ一層全体に浸透させるには不十分なエネルギーで直射する。好ましくは、75
%以下のイオン化放射線が硬化性エラストマ一層の50%の厚さに浸透する。
このようにして、エラストマ一層の硬化を部分的にのみ行い、硬化をエラストマ
一層と支持体層又はシートとの境目で最も完全にし、平面隣接エラストマ一層の
外側表面(支持体シートから離れた表面)で不完全にする。電子ビーム光照射源
の浸透力を調節又は制御することによって、例えば加速電子が通過するポテンシ
ャルエネルギー領域を制御することによって、支持体シートとエラストマ一層を
通る電子の通過長さを制御する。裏側からの画像形成前硬化処理工程は、基体に
強(接着する硬化エラストマー状組成物の均一で比較的薄い層を提供することが
できる。この薄い硬化層は後に生じる画像造形(feature)用の土台又は
支持体表面として機能することができる。特に小さい細部(例えば1又は22ド
ツト)に関しては、この土台は小さい造形又は細部の粘着性を物理的に強め、摩
耗又はプレートからの早期の剥離傾向を減少させる。これはフレキソグラフィッ
クプレートの詳細な印刷の寿命を増加させる。好ましい方法では、電子ビーム露
光後に、放射線硬化性エラストマ一層の潜像形成露光を行う。この露光は硬化性
エラストマ一層を写真用ネガマスクを通して化学線で露光することにより行う。
この写真用ネガマスクはエラストマ一層に隣接して配置されており、これを通し
て化学線を直射する。真空フレーム露光装置がこのような露光にとって好ましく
、露光はエラストマ一層と写真用ネガとの間から空気を排除した後に行われる。
次いで潜像形成法では化学線での露光を充分な露光時間で行い、硬化性エラスト
マ一層を本質的に非融解性又は不溶性にする。
化学線での潜像形成露光の後、レリーフ構造物の現像を、エラストマ一層の未硬
化部分を除去することによって行う。除去の好ましい方法では以下の方法のよう
に吸収材シート材料を用いる。写真用ネガマスクをエラストマ一層から除去し、
吸収材シート材料を取り付ける。吸収材材料は不織布材料、紙ストック、繊維織
物材料、連続気泡フオーム材料、多孔性シート又は他のシート材料(含有体積の
本質的に幾分かを空洞率として有する)から選択される。未硬化のエラストマ一
層を伝導、対流又は他の加熱方法によって融解するのに充分な温度に加熱する。
吸収材シート材料を(未硬化領域で融解した)融解したエラストマ一層とを幾分
密接に接触させて保持することによって、未硬化のエラストマーの平面隣接層か
ら吸収材シート材料への移動が起こる。そして加熱後、吸収材シート材料を支持
体層と隣接した硬化エラストマ一層から離してレリーフ構造物を現す。室温で冷
却後、得られたフレキソ印刷プレートを印刷プレートシリンダーに取り付け、印
刷機で印刷能を試験することができる。
エラストマ一層の未硬化部分を前記層の硬化部分から除去するのに使用する好ま
しい吸収材シート材料は、未硬化の放射線硬化性ポリウレタンエラストマー状組
成物の融点以下及びそれを僅かに越える温度で、中程度の強度及び摩耗対抗性を
有し、更に融解したエラストマー状組成物に対して高い吸収性(吸収材材料のミ
リリットルに対する吸収できるエラストマーのグラムで測定される)を有する吸
収材材料から選択される。好ましい吸収材シート材料は、現像受容シートとして
言ってもよ(、これは高温で融解するポリマー状材料例えば、ポリプロピレン、
ポリエステル、ナイロン、又は他の高温で融解する熱可撓性ポリマーから生成さ
れるブロウンマイクロファイバー(blown m1crof 1ber)不織
布材料である。使用する吸収材ソート材料の融点又は軟化点は、生成するフレキ
ソ印刷プレートの平面隣接層に使用する放射線硬化性ポリウレタンエラストマー
の融点又は軟化点より高くなければならない。更に本発明に使用することができ
る吸収材シート材料としては種々の紙形成処理で生成される吸収材ストックがあ
る。
連続気泡熱硬化性フオームのような吸収材も好適である。好ましい吸収材シート
材料はシートの加圧しない状態で測定した場合の含有体積の少なくとも50%の
空洞率を有する。最も好ましい吸収材シート材料は紡績(spun−bonde
d)ナイロン不織布(例えば、ジェームス・リバー(James River)
社製のセレックス(CEREX)”不織布)である。
無機の繊維布、特に多孔性の繊維を有するものを使用してもよい。
吸収という用語(現像受容シートと融解した未硬化のエラストマー組成物との物
理特性比で定義する)の使用では、吸収現象に特に限定するものではない。融解
した組成物のファイバー、繊維又は物体本体への浸透を必要としない。現像受容
体のバルクへの吸収はバルク内部の表面が濡れるだけでよい。融解したエラスト
マー状組成物が現像受容体の吸収領域へ移動するための推進力としては、表面張
力、電気的な力(例えばファン・デア・ワールスカ)、極性引力又は他の公知の
物理的な力の中の1つまたはそれ以上でよ(、材料との親和性、吸着又は吸収促
進を補助する。
要するに、本発明による硬化性ポリウレタンエラストマー状組成物は:1)有機
ジイソシアネート組成物(ジイソシアネート類の混合物を含んでもよい):2)
炭素−炭素2重結合を含有する2官能性ヒドロキシル反応物を適量含有する鎖伸
長剤組成物;及び3)少なくとも500g/moleの分子量と少なくとも2つ
のヒドロキシル基を有するポリオールの反応生成物を含有し、少なくともこれら
3つの構成要素の反応で、特に硬化した状態がフレキソ印刷プレート組成物とし
て有用な硬化性ポリウレタンエラストマー組成物を生じる。本発明は、基体に粘
着性を有する硬化ポリウレタンエラストマー組成物を含有するフレキソ印刷プレ
ート材料についても記載し、このフレキソ印刷プレート材料は、吸収材シート材
料を用いて粘着したエラストマ一層の未硬化エラストマ一部分を除去する無溶媒
吸収処理法により生成される。
ここでの開示は発明の典型であり、種々の形態及びシステムに態様してもよいと
理解される。従って、ここに開示した特定の細部はそれに特定されるものと限定
して解釈されない。むしろ、この開示は本発明を好適なシステム及び方法でさま
ざまに実施できるように当業者に教示するためのサポート又は代表的な方針と考
えられるべきである。
本発明はその範囲内に 改良された硬化性ポリウレタンエラストマー状樹脂組成
物:ある種の硬化したエラストマー状組成物:これらの硬化性エラストマー状組
成物から改良されたフレキソ印刷プレート材料を生成する方法、改良された組成
物及び改良された製造及び使用方法、及び改良されたプライマー層から生成され
た改良されたフレキソ印刷プレート材料を含む。特にプライマー組成物は支持体
層又はソートに隣接してそこに粘着させて使用するとフレキソ印刷プレートとし
ての使用に非常に好適である。
アジリジン官能性材料をプライマー層の固体重量の少なくとも10%使用する。
アジリジン官能性材料を、不活性で適合可能なポリマー状有機バインダー、カッ
プリング剤、粒子、コモノマー、他のプライミング剤等を有する固体で希釈して
もよい。アジリジンを層の固体重量の少なくとも40〜70%、より好ましくは
層の重量の少なくとも90%、最も好ましくは層の含有固体重量の100%有す
るのが好ましい。
アンリジン含有化合物は他の官能基を有していてもよい。好ましくはこれらの基
は外気条件下でアジリジン官能基と反応しない。従って例えば、アジリジン官能
性化合物は1以上のヒドロキシル基を有してもよい。
本発明に有用なアンリジン官能性化合物は次の式で表されるものでもよい。
式中、Aはn−価の有機又は無機の基で、nは少な(とも1(好ましくは2〜4
)の整数であり、R11R2、R3及びR4は同じ又、は別々でもよく、独立し
て水素及び炭素原子数が1〜8(好ましくは1〜4)の低アルキル(分岐又は直
鎖)基からなる群から選択される。
アジリジン基の窒素原子は4〜5価の原子(最も好ましくはC又はP)に結合し
ているのが好ましい。好ましくは、RISRl及びR3はそれぞれ水素で、R4
は水素及び炭素原子数が1〜4(好ましくは1〜2)のアルキル基がら選択され
る。
rAJは酸素硫黄、窒素等の原子を含んでもよい脂肪族、芳香族又は脂環族有機
基でもよい。rAJは;
のような無機の基でもよい。
が好ましく、式中R5は炭素以外の原子、例えば酸素、窒素、硫黄、を含有して
もよいm価の脂肪族、芳香族、又は脂環族基で、mは少なくとも1の整数、X及
びyは独立して0.1又は2である。
有用なアジリジン含有材料の特別な例としては次のものがある。
A、rCX−100J ;ポリビニル・ケミカル・インダストリー(Polyv
inyl Chemical Industries)から入手でき、次の式を
有すると考えられる。
(式A)
(トリメチロール−トリス[−N[メチルアジリジニル]]プロピオネート)B
、rXAMA−7J ;ffルドパ・ケミカル・カンパニー(CordovaC
hemical Company)から入手でき、次の式を有すると考えられる
。
図5(式B)
(ペンタエリトリトール−トリス−(B−(N−アジリジニル)プロピオネート
)図6(式C)
(1,1°−(1,3−〕二ニレンジカルボニル)ビス[2−メチルアジリジン
〕)(1,1’ −トリメチルアジポイルビス[2−エチルアジリジンコ)(式
E)
(1,1’ 、1”−(1,3,5−ベンゼントリルトリカルボニル)−トリス
[2−エチルアジリジン])
(2−ヒドロキシエチル−3−(2−メチルアジリジニル)−プロピオネート)
C1(コ
(式H)
(エトキンエチル−3−(2−メチルアジリジニル)−プロピオネート)M3
(式J)
(2−メチルアジリジニル−2−(2−メチルプロペノイルオキシ)エチル尿素
)アジリジン官能性層は必要であれば厚さを変化させてもよい。しかし、この層
は約1075μ以上、より好ましくは約0. 1μ以上の推定厚さを有すべきで
あることが見いだされている。層は約1μの厚さでもよいが、約0.4μ以上の
厚さでは顕著な効果を示さないことが見いだされている。好ましくはこの層は約
11〜0.4μの厚さである。
本発明に有用なポリオレフィン表面層は1以上のエチレン性不飽和モノマーと1
以上の共重合可能な他のモノマーとのポリマーを有している。好ましくは、エチ
レン性不飽和モノマーは式CyH2yの材料(式中、yは2以上(好ましくは2
〜4)の整数である)又はその不飽和誘導体を有している。表面層として有用な
ポリオレフィン類の例としては、中又は高密度のポリエチレン、プロピレン、エ
チレン/アクリル酸コポリマー等がある。
特に好ましいポリオレフィン類種は熱シール可能である。このような材料は非常
に短い露光(例えば2秒以下)後に110℃程度の低温で容易に熱シールできる
。このような材料の好ましい他の種類にはエチレン−アクリル酸(EAA)コポ
リマーがある。これらの材料は熱可撓性コポリマーである。典型的にこれらは7
5〜95℃のビーカー(Vicat)軟化点を有する。これらFAAコポリマー
は好ましくはアクリル酸濃度がポリオレフィンの少なくとも3重量%、より好ま
しくは3〜20重量%、最も好ましくは6〜10重量%である。
EAA層の厚さは本発明にとって重要ではなく、従って広い範囲にわたって変化
してもよい。従ってフィルムは2ミクロン程度の薄さのEAA層を有してもよい
。多(の用途にとって、EAA層は約5〜50μの間、より好ましくは約8〜2
0μの間が好ましい。有用なEAAコポリマーの例としては、プリマ(Pr i
ma) Cor” 3440.3150.5981.1430 (すべてダウ(
Dow)から入手可能)及びAdcoteTM 50C12及び50T4990
(モルトン・チオコール(Morton Th1okol)から入手可能)が
ある。
本発明のフィルムは容易に調製することができる。例えば、第1層表面を公知の
クリーニング技術を用いて汚れや油を取り除いて浄化してもよい。次にこの表面
をアジリジン官能性材料を含有する組成物と、種々の技術、例えばメイヤーロッ
ド塗布、ブラッシング、吹き付け、ロール塗布、カーテン塗布、ナイフ塗布等を
用いて、接触させ、次に所定時間及び温度で処理してアジリジン官能性層を得る
。
広範囲の処理温度をこの層を形成するのに使用してもよい。特に使用する温度は
処理された表面やアジリジンの官能性を低下させるほど高温であってはならない
。典型的に処理温度は15〜250℃の範囲である。好ましくは処理表面を70
〜140℃の温度で処理する。
処理組成物はアジリジン化合物単独であってもよく、アジリジンの水又は溶媒の
溶液又はアジリジンの分散体であってもよい。処理組成物は典型的に約0.02
〜15(好ましくは0.2〜1)重量パーセントのアジリジンを含有している。
水を液体媒体に使用する場合には、界面活性剤材料も処理組成物に含まれること
が好ましい。界面活性剤は処理組成物中のアジリジン成分の重量の0.06倍以
下の量含有してもよい。アニオン性、カチオン性、非イオン性、又は両性界面活
性剤材料を用いてもよい。有用な界面活性剤の例としては、オクチルフェノキシ
エタノール、アルキルアリールポリエーテルスルホネート、エトキシレート化フ
ルオロケミカルアルコール類、フルオロ脂肪族ポリエステル等がある。
本発明に使用するアジリジン官能性組成物は本質的にアジリジン化合物からなり
、他の構成要素、例えばスリップ剤、着色剤(例えば、染料及び顔料)、酸化防
止剤、紫外光安定化剤等を(組成物の50重量%以下)使用してもよい。更に、
有機樹脂を前述したように使用されるアジリジン材料の90重量%以下の量添加
してもよい。これらの構成要素は本質的に標準条件下でアジリジンと反応しない
。
反応性の構成要素を用いる場合には、これらは基体表面とアジリジン基間の相互
作用を妨げない極度の量存在しなければならない。
硬化性ポリウレタンエラストマー状組成物本発明によるポリウレタンエラストマ
ー組成物としては、鎖伸長剤がポリウレタンポリマー骨格中に組み込まれたもの
、鎖伸長剤を組成物中に含んでいるもの、好ましくはポリマー骨格にペンダント
するものがあり、光照射硬化時に不飽和サイトをポリマー架橋に利用する。典型
的には、好ましい実施態様例には、不飽和サイトは活性化炭素−炭素2重結合で
ある。
本発明に有用な好ましいポリウレタンエラストマー状組成物は以下の構成要素か
ら形成される
(a)有機/イソシアネート:
(b)本発明による好ましい鎖伸長剤(、好ましくは一体化後のポリマー鎖にペ
ンダントするようにポリマー骨格の1又は複数のスペーサー基と置き換えてその
中に不飽和サイトを組み込んでいる):(c)ジヒドロキシ官能性鎖伸長剤(好
ましくは2〜8の脂肪族性炭素原子を含有し、ポリマーの強度を向上させる補強
剤となる):(d)疎水性マクログリコール又は約500〜約5000g/mo
leの範囲の分子量を有する高分子量ポリオール(むしろハードのウレタンセグ
メント間に組み込んだときにポリマー状組成物に弾性及びエネルギー分散能を与
える)。
前記4つの構成要素は硬化性組成物中の構造及び相対量が変化して、多少、化学
的物理的機能特性に幅広い変化を有するエラストマー状組成物が生成してもよい
ことは容易に理解できる。所望の未硬化及び硬化特性を容易に得ることができ、
予想どおり首尾一貫して生じる。例えばジイソシアネート(a)及び短鎖伸長ジ
オール(b)及び(c)の硬化性組成物の総重量に対する相対量を変化させるこ
とによって、エラストマーのデュロメーター又は支持強度を変化及び制御するこ
とができる。更に鎖伸長種(b)のエラストマー組成物の総重量にたいする割合
を変化させることによって、架橋強度(架橋サイト間の平均分子量)は硬化組成
物において制御的に予想どうりに変化する。
本発明によるエラストマー状ポリウレタン組成物の形成に使用できる有機ジイソ
シアネートはいろいろなタイプのものでよい。一般的には、約160〜約450
の平均分子量を有する芳香族又は脂環族ジイソシアネート類が好ましい。これに
は例えば:
4.4゛−ン(イソシアナトフェニル)メタン4.4°−ン(イソンアナトシク
ロヘキシル)メタン2.4−トルエンジイソシアネート
2.6−トルニンンイソシアネート
p−フヱニレンシイソシアネート
1.4−ン(イソシアナト)ンクロヘキサンイソホロンシイソシアネート
がある。
エラストマー状ポリウレタン組成物の形成に使用される残りの前述の化学反応物
構成要素は一般にジオール類を含有し、それぞれ得られたポリウレタンエラスト
マーにある種の所望の化学的及び物理的特性を与える好ましい特徴を有している
。その1つは比較的低いヒドロキシル当量を有する前述した成分(C)の鎖伸長
ジオール成分てあって、これはイソシアネート部分と反応してポリウレタンポリ
マー骨格中に比較的短鎖のハードで、強固なセグメントを形成する。好ましいジ
オール成分(C)は:1.2−二チレンゲリコール:ボロピレングリコール:1
.4−ブタンンオール;ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール:及び
トリエチレングリコールである。
本発明によるポリウレタンエラストマー状組成物の調製に使用する比較的高分子
量のマクログリコール(ポリオール)成分(d)は鎖伸長ジオールで、これは反
応後、得られたポリウレタンエラストマーにおいて、ソフトで、低いTg1エネ
ルギー分散性、疎水性セグメントとして機能する。使用できる好適なマクログリ
コールは2〜3の平均ヒドロキシル官能基を有し、かつ約250〜約5000、
好ましくは約1000〜約3500の平均ヒドロキシル当量を有するポリエーテ
ルポリオール類である。使用できる好適なポリエーテルポリオールとしてはアル
キレンオキサイド又はハロゲン置換アルキレンオキサイド又はその混合物と、活
性水素含有化合物とを反応させることによって調製されるものがある。好ましい
オキサイドは1.2−ブチレンオキサイド及びニブクロロヒドリンの単独又は組
合せである。
本発明による改善は、ポリマー形成反応混合物中に更に第3の種類のジオール化
合物を取り入れることにより得ることもてきる。この任意の第3の種類のジオー
ル化合物を用いて、更に得られたポリウレタンエラストマー組成物に特徴を与え
てもよい。特に、第3の種類の成分はヒドロキシル基に非官能性で、一般に得ら
れたポリマー鎖にペンダントする不飽和部分も有する比較的低分子量鎖伸長剤を
含有している。驚くべき特徴として、特にその構造的特徴に関してこの種を慎重
に選択することによって、この不飽和ジオールは、放射線硬化を与える硬化性部
分となるだけでなく、エラストマー状組成物の融点を約85℃程度の低温に低下
させるという重要な2つの機能を有する。更にこれらの特徴は、エラストマー組
成物の硬化を生じせしめる光照射で生成され、次いで未架橋エラストマ一部分を
未硬化のエラストマー状組成物の融点以上の温度(この温度は印刷プレート中の
硬化エラストマ一層の下の支持体層の熱歪曲温度より充分低い)で吸収材材料に
吸収させることによって除去されるフレキソ印刷プレートの生成を可能にする。
好ましくは不飽和ジオールは活性化炭素−炭素の2重結合の不飽和サイトを有し
ている。従って活性化2重結合を利用して容易に、特に化学線での露光時の架橋
反応用として反応する。
「活性化」 (またはその変形)という用語は、本発明では薬剤の不飽和部分と
結び付けて使用する場合には、そこで形成されたフリーラジカルが分子内の他の
基によって安定化し、よってフリーラジカル反応を促進するような活性化された
不飽和サイトの基本的タイプを示す。このような活性化2重結合には、例えば、
アルファーーベータ不飽和カルボニル化合物(例えば、アクリレート類、メタク
リレート類、及びアクリルアミド類)の炭素−炭素2重結合がある。
好ましい活性化不飽和部分含有鎖伸長ジオールには:1−1又は2−グリセロー
ルアクリレート又はメタクリレート類ニトリメチロールエタンモノアクリレート
又はメタクリレート:及びN、 N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−N’−(
メタクリルオキ/エチル)尿素がある。
本発明による硬化性エラストマー状組成物は一般に少な(とも1つの活性化不飽
和部分をエラストマーポリウレタンの約1500〜15,000、好ましくは、
2.000〜10.000分子量ユニット毎に導入するべきである。これは容易
に制御及び再現可能であり、ポリウレタンを形成するのに使用する反応物の反応
性及び/又は量の関数である。実際には不飽和部分が多いほど比較的架橋度の高
い、従って壊れ易い硬化組成物となる。このような組成物は、典型的に弾性フレ
キソ印刷プレートを含む用途以外の、多(の用途に使用してもよい。実際に不飽
和部分の導入が少ないほど、一般的には前記エラストマー融点での流動(この流
動は印刷プレート表面に永久的に不要の歪曲を与えてそれにより所望どおりに生
成されない印刷物を与える。)に対して所望の対抗性を示すようなエラストマー
の不充分な架橋又は硬化が得られる。
硬化性エラストマー組成物の形成
硬化性エラストマー組成物は、いかなる多くの公知の溶媒に基づく技術又は融解
重合技術により生成してもよい。融解重合技術、例えばワイショット、ハンドキ
ャスティング(hand casting)を有するプレポリマー、鋳型注入反
応又は反応性押し出し技術が好ましい。なぜなら、これらの方法は溶媒及び溶媒
の乾燥を排除することができるからである。
特に好ましい技術には複数のスクリュー押し出し装置、例えば逆回転ツインスク
リュー押し出し装置を用いた反応性押し出しがある。
硬化エラストマー組成物を種々の液体中に浸漬した場合の重量変化の割合を以下
の手順により決定する
12.7mmx25.4mmx0.4mmの大きさの硬化エラストマーストリッ
プを計量したところ、近似値で0.0001g (Sl)の重さであった。この
ストリップを次に充分な量の液体中に入れて完全に浸漬させ、24時間で平衡に
した。注意深(ピンセットを用いて取り出した後、過剰の液体を吸収タオルを用
いてテストストリップから除去し、このストリップを再計量したところ、平均0
゜0001g (S2)の重さであった。膨潤率(%Swell)を以下の式に
より計算した
エラストマー組成物硬化後のゲル(%Ge1)の割合を以下の手順で決定する1
2.7mmx102mmx0.4mmの大きさのテストストリップを計量したと
ころ、近似値で0.0001g (Gl)の重さであった。このストリップを5
0gのテトラヒドロフラン中に入れて、24時間浸漬した。膨潤したストリ・ツ
ブを注xi<ピンセットを用いて溶媒から取り出し、過剰の溶媒を吸収材料を用
いてストリップから除去し、このストリップを予め計量したアルミニウム皿中に
置いた。ストリップを8時間空気乾燥し、8時間真空オーブン中で80℃、29
インチの水銀圧に保持して乾燥した。このスト9717皿を再計量し、その差か
らゲル重量(G2)を決定した。%ゲルを以下の式により計算した:エラストマ
ー状組成物の貯蔵弾性率E゛、損失弾性率E”、及び損失タンジェントδを市販
入手可能な測定装置、ここではレオビブロン・アナライザー(Rheovibr
on Analyzer)(日本、東京のトーヨーーバルドウィン(Toyo−
Ba Idwin)社製)を用いて以下の手順で決定した。
はぼ3.8mmx70mmx0.4mmのテストストリップをレオビブロン装置
のシャムクランプ間に配置した。サンプルを僅かに引っ張り、次いで一50℃に
冷却した。この温度からサンプルの温度を+3℃/分の速度で上昇させながら正
弦的な引っ張りを装置の駆動側から11He r zの周波数で行った。サンプ
ルを通じて他方の支持アームに施された張力と駆動張力からの相のシフト度合を
測定し、これを用いてE” 、E”、Tanδ(角度δのタンジェント)を計算
した。
融解した未硬化エラストマー組成物のメルトインデックスをASTM No。
Dl、238−70により次のように決定した。5gのエラストマーの粉末をチ
ニウスーオルセン・エクストルージョン・ブラストメーター(Tinjus−0
1sen Extrusion Plastometer)の加熱チャンバー内
に装着し、このチャンバーを153+/−0,5℃の温度に平衡させた。110
0g重の負荷をチャンバー内の融解エラストマーに施した。この負荷は融解エラ
ストマー組成物をプラストメーターチャンバーの底部の小さいオリフィスから押
し出すように作用する。5分後、(その間ポリマー流動は平衡方向に向かう)押
し出されたエラストマーのサンプルを20秒間にわたって回収し計量してMlと
した。メルトインデクスを次に、以下の式を用いて計算した:メルトインデック
ス=M1x30 (g/10分)実施例IA
放射線硬化性ポリウレタンエラストマー状組成物をツイン−スクリュー押し出し
反応容器内で次のように調製した:
■、ポリオール混合物を、以下の成分を均一になるまで充分に混合することによ
って調製した
A、286.1部(0,2861mole)の分子量1000のポリ1.2−(
ブチレンオキサイド)ジオール(ダウ・ケミカル社製):B、32. 8部(0
゜3644mo l e)の1.4−ブタンンオール(ガフ−ケミカル(GAF
Chemical)社製)。
C,10,7部(0,0669mo l e)の2−グリセロールメタクリレー
ト(3M社製)。
D、10. 6部のシェドキンアセトフェノン(イルガキュア(lrgacur
e)−651、チバーガイギ(Ci b a−Ge i gy)社製)E、01
部のメチレンブルー:
F、0. 06部の塩化第二鉄;
G、0.26部のジブチル錫ジラウレート;Il、精密な流動測定システムを用
いて、37.53重量部の4.4° −ビス(イソンアナトノクロヘキシル)メ
タン(デスモダ−(Desmodur)WTMモーベイ・ケミカル(Mobay
Chemical)社製)に対して62.47重量部のポリオール流動の割合
で前記ポリオール流動を、64mmのツイン−スクリュー逆回転押し出し装置(
レイストリッツ(Leistritz))社製)の入り口部分に入れた。この重
量比では、フィード流動中のイソシアネートがヒドロキシル部に比べて僅かに過
剰当量であった。重合物質の反応温度を150〜170℃の範囲に保持し、重合
が押し出し装置中で起こるようにした。押し出し装置から取り出すときには、完
全に反応した硬化性エラストマー組成物を、直径約0.3cmの粒子中に単離し
てこれを更に処理するために回収した。重合反応の完結は硬化性エラストマー生
成物のキャストフィルムの赤外線スペクトルをモニターし、−NGO吸収バンド
(2250cm−’)の−CH2−吸収バンド(2950cm”)に対する吸収
比を同定することによって決定することができる。
その比が02以下であれば僅かに過剰の−NCO基が残っているだけで反応は完
結していることを示している。硬化性エラストマー組成物のメルトインデックス
を153℃の温度でエクストルージョン・プラストメーターの加熱チャンバー+
=1100gの負荷をかけてモニターしたところ、10分間で10〜20gの範
囲であることが見いだされた。
充分に反応した硬化性ポリウレタンエラストマー状組成物IAは次のモル比の構
成要素からなるものであった:
構成要素 二次
4.4゛−ビス(イソノアナトンクロヘキシル)メタン 2. 7301.4ブ
タンジオール 1. 274
2−グリセロールメタクリレート 0. 234ポリ1.2(ブチレンオキサイ
ド)ジオール 1. 000実施例IAに記載した放射線硬化性ポリウレタンエ
ラストマー状組成物IAを、硬化性フレキソ印刷プレート構造物へと125mm
のシングルスクリユー押し出し装置を用いて次のように再押し出しした。組成物
IAの硬化性エラストマー粒子を押し出しのフィードホッパー内に充填した。押
し出し装置の加熱ゾーンの温度を実験中130〜160℃に保持した。フィルム
押し出しダイを押し出し装置の出口に用い、0.18mmの厚さのポリエチレン
テレフタレートフィルムベース上に押し出した物のキャスティングをし、フレキ
ソ印刷プレートの平面隣接硬化性エラストマ一層を形成した。押し出し工程を始
める前に、フィルムベースの主要部分を、トリス−アンリジン化合物(EPO公
開 0 206 669号に開示されているような)を含有するプライマリング
組成物で被覆し、押し出し層の粘着性を向上させた。押し出した物を20〜25
℃に保持された2つの冷却ロールからなる制御オリフィス間に導入した。別の0
.08mmの厚さのポリエチレンテレフチレートの表面フィルムもこの間隔に導
入して硬化性エラストマ一層上に保護フィルムとして与えた後、放射線で硬化さ
せることによってフレキソ印刷プレートを形成した。押し出した物の一部を別の
0.18mmフィルムベースに、硬化後のゲル率(%Ge ])及び膨潤率(%
Swe] 1)及び物理特性(室温での引っ張り強度及び係数、及び動的熱化学
特性)を測定するために塗布した。
このように厚さQ、4mm程度の組成物IAの硬化性エラストマ一層を厚さ0゜
18mmのポリエチレンテレフタレートフィルムの支持体シートと厚さ0.08
mmの剥離可能な表面フィルムとに組み合わせた厚さ0.66mmの複数層生成
物の連続ロールを生成した。
別のフィルムベースに塗布した押し出し硬化性エラストマー状組成物の一部を、
10分間、11.200μJ/cm2の紫外線強度で(スベクトロニクス・コー
ポレーション(Spectronics Corporation)製のモデル
DMXラジオメーターを用いて測定した)真空フレーム紫外光露光ユニット(ケ
レイ(Kellejgh)モデル#210フレキソグラフィックプレート露光ユ
ニット)を用いて、化学線露光することにより硬化した。硬化前後の物理特性を
7’lisTM D 1708によってクロスヘッドスピード30cm/分で引
っ張り強度試験をすることにより評価した。結果を表Iに示す。動的熱化学試験
を、貯蔵弾性率E゛、損失弾性率E”、及びTanδを決定するために前述した
様にして行った。結果を図1に図示する。%Gelを放射線硬化により生じた非
溶解性の度合を測定することによって決定し、これを表IIに示す。硬化エラス
トマー状組成物の水及び水/アルコール混合物に24時間浸漬した後の%Swe
I Iを種々の水ベースのインク配合中での膨潤に対する組成物の対抗性の測
定として決定した。結果を表IIIに示す。
表I
未硬化及び硬化フィルムの
物理特性
引っ張り 弾性
強度 係数 係数
実施例 kg/cm” kg/cm2 kg/cm” %伸張率1B=未硬化
280.4 208.5 43.7 510.01B−硬化 267.7 10
5.7 59.9 343. 02B−未硬化 201.5 199.4 42
.0 500.02B−硬化 208.5 210.7 71.9 276.4
3B−未硬化
3B−硬化
このデータは未硬化及び硬化エラストマー状組成物の弾性特性を示している。
表II
%Ge1(24時間THF中に抽出)
実施例 紫外線硬化露光後
1B=未硬化 −〇−
1B−硬化 79.2
2B−未硬化 −〇−
2B−硬化 92.1
3B−未硬化 −〇−
3B−硬化
このデータは放射線露光による未硬化エラストマー状組成物の比較的不溶な硬化
組成物(70%以上のゲル濃度を有する)への変化を示している。
%Swe l I
(24時間98/2 H20/ 9515 H20/ 87.5%H20/に浸
漬)!塵141 100%■1□q グリセリ>B−プロパツール イソプロパ
ツールIB=硬化 0.78 0.83 1.78 1.82B−硬化
3B−硬化
*pHはアンモニア(a q)で92に調整した。
このデータは、水ベースフレキソグラフィックインク配合の代表としての種々の
水及び水/アルコール混合物中ての、本発明の硬化エラストマー状組成物の膨潤
にたいする優れた対抗性を示している。
先の2つのパラグラフで記載した複数層生成物の1メートルの長さの断片を、エ
レクトロンカーテ>(Electroncurtain)”電子ビー放射線装置
(エネルギー・サイエンス(Energy 5ciences)社製)からのイ
オン化放射線を用いて次のように光照射した。ユニットに内在する電子の加速ポ
テンシャルを240キロエレクトロンボルトに予め設定した。生成物断片を電子
ビームエネルギーで、このビームエネルギーがQ、4mmのポリエステルフィル
ム支持体側から生成物へと直射するように、1方向から露光した。この方法では
先のポリエステルフィルムベースに隣接した硬化性エラストマ一層部分が最大の
放射線エネルギーを受ける。このエネルギー量を制御して、ビームが生成物表面
に達した場所で測定した時に、生成物が5メガラツド(megarad)の吸収
量を受けるようにする。この露光工程を、硬化性エラストマ一層のポリエステル
支持体ベースに直接隣接する部分が部分的に硬化、又は非融解性、及び不溶性に
なるように生成物領域全体にわたって行った。
次に平面隣接エラストマ一層の潜像形成露光を次のように行った。ポリエステル
表面フィルム(0,08mm)を硬化性エラストマ一層のエラストマ一層から除
去した。直径約20ミクロンの二酸化ケイ素の小さいビーズを含有した水分散ウ
レタン樹脂の薄膜を硬化性エラストマ一層の露光表面に塗布し、数分間空気乾燥
した。道化師の35mmの写真スライドから得られたマゼンダ分離状態(この分
離はフィルムスキャナー(ヘル・コーポレーション(HellCorporat
1on)製)を用いて52.4ラインスクリ一ン/インチの鮮明度で生成した
)の画像情報を有する(写真産業の分野で標準的に使用されているタイプの)ハ
ロゲン化銀写真露光ネガを、硬化性エラストマ一層のウレタン樹脂/二酸化ケイ
素被覆側に隣接する位置に配置した。この複数層の「サンドイッチ」を、ケレイ
フレキソ印刷プレート処理装ff(モデル#210)内の真空露光フレーム中に
配置した。露光フレームに取り付けた表面フィルムを「サンドイッチj全体にわ
たって引っ張り、真空与えて、空気を露光ネガと硬化性エラストマー表面との間
から除去した。次に写真ネガを通してプレートの紫外光露光を6分間行い、その
後真空排気をやめ、露光ネガを取り除いた。可視画像がエラストマ一層の紫外線
露光領域に現れ(光漂白が生じて露光領域が透明で明るい黄色になり)、一方非
露光領域は明るい青色のままであった。次にエラストマ一層の非露光未硬化領域
の除去を(フレキソ印刷プレートの製造を完成するために)次のようにして行っ
た。基本重量66g/m2の紡績ナイロンの多孔性不織布(ジェームス・リバー
社製のセレックス1紡績ナイロン)の断片を、処理したプレート領域に合うよう
に裁断した。不織布層を露光プレートのエラストマ一層に接触するように配置し
た。このラミネートを135℃に平衡した加熱プラテン上にプレートのポリエス
テルフィルム表面がプラテンと隣接するように配置した。2つの加熱ゴム製カバ
ーニップロールを直接このプラテンに隣接させた。このニップロールは30cm
/分の直線速度で逆回転しかつ、不織布/プレートのラミネートをニップロール
の間に導入したときに僅かに圧縮するように間隔を取っである。数秒間プラテン
加熱後、ラミネートを静かにニップロール間に挿入した。「サンドイッチ」は加
熱二ツブに内にあるので、セレックスTM不織布を静かに加熱エラストマー表面
から相当の強度で持ち上げた。プレートのエラストマ一層の未硬化領域を、エラ
ストマーの熱可撓性未硬化部分を不織布中に吸収させることにより除去されてい
ることを確認した。52.4ライン/ c mの道化師のハーフートーン画像が
プレートの硬化エラストマ一層中に現れた。更に2回、新しいセレックスτ0不
織布断片とラミネートした硬化生成物を加熱ニップに通すことが、プレートの未
硬化領域の除去を完結するために必要であった。同様にして、スライドの他の写
真ネガ色分離(ブランク、シアン、イエロー)をカラー印刷用のフレキソ印刷プ
レートへと処理した。印刷は、5ステーシヨンウエブトロン(Webt ron
)”モデル525フレキソ印刷機と水ベースフレキソ印刷インク(ルイス・ウェ
ルネック(Louis Werneke)社製)を使用して、使用されたタグや
ラベル印刷ベースを用いて行った。印刷は従来のフレキソ印刷の実施に使用され
る標準条件下で行った。このようにして道化師画像の優れた翻訳が再現された。
更に電子ビーム露光及びその硬化工程の有用性及び価値を示すために、以下の実
験を行った。先のポリエステルフィルムベースに塗布した押し出し硬化性エラス
トマー組成物の断片をエレクトロカーテンT1″電子ビーム露光装置からのイオ
ン化放射線で前述のように露光した。生成物に対するビームの方向を再度変更し
て、放射線イオン化ビームが0.4mmフィルム支持体側からこれを通して生成
物に到達する様にした。しかしこの場合には、電子の加速電圧を240KeV〜
28Q K e Vの範囲にわたって10KeVごとに変更し、この間その量を
5メガラツドに保持した。イオン化放射線での露光後、前述した道化師の色分離
を含むフレキソ印刷プレートの生成と同様にして、エラストマ一層の未硬化部分
をセレックス1ナイロン不織布中に吸収させることによって除去した。未硬化エ
ラストマーを除去した後、残った硬化エラストマーとそれの粘着したポリエステ
ルフィルムベースの厚さをデジタルミクロメーターを用いて測定することにより
決定した。
それぞれのサンプルの4つの測定値の全体からこの方法におけるエラーの同定と
なした。このデータを図2に示す。図中の厚さの測定値はプレートのフロア厚さ
を示しており、フレキソグラフィックプレートの潜像露光後の未硬化のエラスト
マーの除去が成功すれば厚さは低下するであろうことを示している。印刷プレー
トの総厚さを押し出し工程によって制御し、潜像形成露光によって設定する。プ
レートの印刷領域のレリーフ深さを総プレート厚さとプレートのフロア厚さとの
差を計算することによって決定した。例えば、22m1+の総プレート厚さと1
6m1lの前形成されたフロア(240KeVの浸透力を有するビームを用いて
電子ビーム放射線露光して得られる)に対しては、6m1lのレリーフが最終フ
レキソ印刷プレート中に得られる。従ってイオン化電子ビーム放射線露光を用い
ることによって、製造者は計画的にフレキソグラフィックプレートのフロアの厚
さを制御することができる。更に電子ビーム露光工程の予想外の効果を次の実施
例で示す。
実施例2
7m1 I (0,175mm)の3M社製熱安定ポリエチレンテレフタレート
(PET)フィルムのロールを空気中でコロナ処理した。コロナ処理装置は11
m/分の速度で動作させた。そこからフィルムロールをパイロットプラントコー
ター上に配置した。フィルムに、イソプロピルアルコール中に領 2%固体のア
ンリジン官能性化合物を入れた溶液を塗布した。ウェブを15m/分で動作させ
、94〜106℃で乾燥させた。溶液を2つの異なった厚さに塗布した。これら
は1、 6mg/sq、f t、及び2.8mg/sq、ft、であった。約6
0メートルの材料にそれぞれの被膜重量で塗布した。
フィルムをまず、実施例1のホトポリマーを先のPETフィルムに熱ラミネート
することによって評価した。これは、別のPET上に押し出しされた1片のホト
ポリマーを取り、その表面上に1片の先のフィルムを置き、熱ラミネーター(1
50℃)を通じてこれをラミネートすることによって行った。このフィルムを一
晩放置した。前記別のフィルムをを除去し、180度剥離強度試験をのらみらサ
ンプルにたいして行った。180度剥離強度試験に使用したASTMはASTM
D903であった。2つの異なった被膜重量に対する剥離強度値は、1.6m
g/sq、f t、=9.51b/in2.8mg/sq、ft、=9.51b
/inであった。
次にフィルムをアジリジン官能性材料で処理し、そのうえにホトポリマーを押し
出した。最初は、PETに対するホトポリマーの粘着性は僅かしかなかった。
フィルムを24時間放置後、粘着性は太き(増加した。180度剥離強度値は1
.6mg/sq、ft、=8.61b/in2.8mg/sq、f t、=7.
81b/inてあった。
手製サンプルを180度剥離強度試験用のASTM標準 D903を用いて評価
した。実施例1のホトポリマーをそれぞれ小さい実験サンプル上に溶液塗布又は
熱ラミネートした。
溶液塗布:
ホトポリマー粒子をテトラヒドロフラン(THF)に溶解した。溶液は約20%
固体であった。この溶液を次に処理されたPETサンプル上にナイフ塗布した。
これを少なくとも16時間空気乾燥して大部分の溶媒を蒸発させた。次に、これ
を少なくとも30分間、180°F(66℃)でオーブン乾燥した。サンプルを
一晩放置し、この剥離強度試験を行った。サンプルは非常に良好な粘着値を示し
た。
ラミネート
いくつかの実験サンプルを既に押し出しされたホトポリマーを用いて評価したこ
れは別のPETベース上に押し出されたものである。この押し出しホトポリマー
を直接処理実験サンプル上に置いた。この「サントイ・ソチ」を熱ラミネーター
を通じて配置した。ラミネーターの温度は150℃であった。サンプルを一晩放
置した後、180度剥離試験で評価した。前記別のPETベースは容易に除去さ
れた。サンプルはここでも良好な粘着値を示した。実施例2及び3で使用する活
性なアジリジン化合物は前記した式(A)を有する。
実施例2A
N、 N−ビス(2−ヒドロキシル−エチレン)、N’−(メタクリルオキシエ
チル)尿素不飽和ジオール及びポリ1.2−(ブチレノキサイド)ジオールから
の硬化性エラストマー組成物
不飽和ジオールの調製。
10ガロンのカラス製ファウドラ−(Pfaudler)化学反応容器を反応に
使用した。以下の材料を用いた。
成分 Kg、臘±弁
、八、ノエタノールアミン(ダウ・ケミカフ1社) 7.220.0687B
ポリ1.2−(ブチレンオキサイド)ジオール(ダウ) 9.090.009I
C,2−イソンアナトエチルメタクリレート10.960.07(真空下で蒸留
−ダウ・ケミカル社)
D、フェノチアジン 82g −
成分A及びBを真空下の容器に充填し20℃に撹拌しながら冷却した。反応容器
ジャケットを冷水で冷却しながら成分Cをゆっくりと反応容器に添加した後、窒
素ガスブランケットを容器内に形成しながら成分りを添加した。添加速度を制御
して、反応温度を40℃以下に保持した。成分Cの添加は1時間の添加時間後に
完了した。15分間反応させた後、少量の反応混合物のサンプルを回収し、イソ
シアネート残渣部分の存在を赤外線スペクトルで実験した。2250cm”に非
常に僅かな吸収バンドを確認し、これは反応混合物中に所望の僅かに過剰な−N
GOを示している。反応容器の内容物をラインパイルに入れ、更に以下に記載す
るように使用した。得られたN、N−ビス(2−ヒドロキシエチル) −N’
−(メタクリルオキシエチル)尿素不飽和ジオール生成物を更にIH及び13C
NMRで同定し、その構造と純度を確認した。
放射線硬化性ポリウレタンエラストマー状組成物を前述の不飽和ジオールから次
のように調製した。
■、ポリオール混合物を、以下の成分をフィードタンク内で均一になるまで充分
に混合することによって調製した。
A 分子量1000のポリ1.2−(ブチレンオキサイド)ジオール(ダウ・ケ
ミカル社)を260部(0,26mole):81.4−ブタンジオール(ガフ
・ケミカル社)を29.7部(0,33mole);
C0領 0606moleのN、 N−ビス(2−ヒドロキシエチル) −N’
−(メタクリルオキシエチル)尿素とO,OO07moleのポリ1.2−(
ブチレンオキサイド)ポリオールとを含有する前記反応生成物を22.97部:
D、ジェトキシアセトフェノン(イルガキュア(I rgacurea)−65
1、チバーガイギ社)を5.0部;
E、メチレンブルーを0.1部:
F 塩化第二鉄を0.06部:
G、ジブチル錫ジラウレートを0.25部。
+1.正確な流動測定システムを用いて前記ポリオール流動を64mmのツイン
−スクリュー逆回転押出装置(レイストリッツ(Leistritz)社)の入
り層部分に、4.4−ビス(イソンアナトシクロヘキシル)メタン(デスモダ−
(Desmodur) TM、W−モーベイ・ケミカル(MobayChemi
cal)36.83重量部に対してポリオール流動を63.17重量部の比で入
れた。この重量比では、僅かに過剰当量のイソシアネート部分がヒドロキシル成
分に関する種の流動中に存在した。重合物質の反応温度を150〜170℃の範
囲に保持し、押出装置内で反応を行った。押出装置から取り出した時、完全に反
応した硬化性エラストマー組成物を直径約0.3cmの粒子に分離し、これを更
に処理するために回収した。重合反応の完了は硬化性エラストマー生成物のキャ
ストフィルムの赤外線スペクトルをモニターL、−CH2−吸収バンド(295
0cm−’)に対する一NCO吸収バンド(2250cm−’)の吸収比を同定
することによって決定した。即ち、この比が02以下を与えれば僅かに過剰の−
NCO基しか残さずに反応が完了したことを示している。硬化性エラストマー組
成物のメルトインデックスを、153℃で1100gの負荷をエクヌトルー/ヨ
ン・ブラストメーター(Extrusion Plastometer)の加熱
チャンバーに用いてモニターし、メルトインデックスが1部分間で5〜10gの
範囲であることを見いだした。
完全に反応した硬化性ポリウレタンエラストマー組成物2Aは以下のモル比の構
成要素からなっていた。
成分 Mo1e
4.4′−ビス(インクアナトンクロヘキシル)メタン 2. 7301.4−
ブタンジオール 1. 266N、 N−ビス(2−ヒドロキシエチル)、 0
. 233N′−(メタクリルオキシエチル)尿素ポリ1.2−(ブチレンオキ
サイド)ジオール 1. 000計算により、組成物2Aは5.167分子量ユ
ニット毎に1つの不飽和架橋サイトを有している。
実施例2B
実施例2人の組成物2Aからの硬化性及び硬化エラストマーフィルム、及びフレ
キソ印刷プレート
実施例2Aに記載した放射線硬化性ポリウレタンエラストマー組成物2Aを、硬
化性フレキソ印刷プレート構造物へと125mmのソングルスクリュー押出装置
を用いて次のようにして再押し出しした。組成物2Aの硬化性エラストマー粒子
を押出装置のフィードホッパー内に充填した。押出装置の加熱ゾーンの温度を実
験中130℃〜160℃に保持した。フィルム押し出しダイを押出装置の出口に
使用して、厚さ0.18mmのポリエチレンテレフタレートフィルムベース上に
、フレキソ印刷プレートの平面隣接硬化性エラストマ一層を形成するために、注
型した。押し出し工程を始める前にフィルムベースの主要部分にブライミング組
成物を被覆形成し、押し出し層の粘着性を同上させた。押し出した物を20〜2
5℃に保持された2つの回転冷却ロールからなる制御されたオリフィス間に導入
した。厚さ0.08mmの別のポリエチレンテレフタレートの表面フィルムもこ
の間隔に導入して硬化性エラストマ一層上の保護フィルムとしてから、光照射に
より硬化させることによってフレキソ印刷プレートを形成した。押し出した物の
一部を、硬化後の%Gel及び%Swe ] ]、物理特性(室温での引っ張り
強度及び係数、及び動的熱化学的特性)を測定するために、別の0.18mmフ
ィルムベースに塗布した。
厚さ0.66mmの複数層生成物の連続ロールはこのように、厚さ0.4mm程
度の組成物IAの硬化性エラストマ一層を、厚さ0.18mmのポリエチレンテ
レフタレートフィルムの支持体ソート及び厚さ0.08mmの剥離可能な表面フ
ィルムとを組み合わせて形成した。
別のフィルムベースに塗布した押し出し硬化性エラストマー状組成物の一部を1
0分間、真空フレーム紫外光露光ユニット(ケレイ(Kelleigh)モデル
# 2 J−0フレキソ印刷プレート露光ユニツト)を用いて化学線で露光する
ことによって硬化した。硬化前後の物理特性をASTM D1708によりクロ
スヘッド速度は30cm/分て引っ張り強度試験により評価した。結果を表Iに
示す。
貯蔵弾性率E゛、損失弾性率E“、及びTanσを決定するための動的熱化学的
試験を、レオヒブロン(Rhevibron)TM分析器で行った。これを以下
に示す。パーセント(%)Gelを、放射線硬化により生成された不溶性の程度
を測定することにより決定した。これを表IIに示す。水及び水/アルコール混
合物中に24時間浸漬した後の硬化エラストマー状組成物の%Swellを種々
の水ベースのインク配合における膨潤にたいするその組成物の対抗性の測定と決
定した。その結果を表IIIに示す。
前記2つのパラグラフで記載した複数層生成物の1メートルの長さの断片をエレ
クトロカーテン(Electrocurtain)↑−電子ビーム光照射装置(
エネルギー・サイエンス社製)からのイオン化放射線で次のように光照射した。
ユニットに内在する電子の加速ポテンシャルを240キロエレクトロンボルトに
予め設定した。生成物断片を電子ビームエネルギーで、電子ビームエネルギーが
生成物の0.4mmのポリエステルフィルム支持体側から生成物へと直射するよ
う1;1方向から露光した。この方法では、先のポリエステルフィルムベースに
隣接する硬化性エラストマ一層部分が最大の光照射エネルギーを受ける。エネル
ギー量を制御して、ビームが生成物表面に到達した時点で測定したときに、生成
物が5メガラツドの吸収量を受けるようにした。この露光工程は生成物全体に行
い、硬化性エラストマ一層の直接ポリエステル支持体ベースに隣接した部分を部
分的に硬化、又は非融解性で不溶性にした。
次に平面隣接エラストマ一層の潜像露光を以下のようにして行った。ポリエステ
ル表面フィルム(0,08mm)を硬化性エラストマ一層のエラストマ一層から
除去した。直径約20ミクロンの二酸化ケイ素の小さいビーズを含有しこ水分散
ウレタン樹脂の薄膜を硬化性エラストマ一層の露光表面に塗布し、数分間空気乾
燥した。2%〜95%のドツト濃度で65〜150ラインスクリーンのハーフト
ーンドツトを有する(写真産業の分野で標準的に使用されるタイプの)写真用テ
ストパターンを備えたハロゲン化銀写真用露光ネガを硬化性エラストマ一層のウ
レタン樹脂/二酸化ケイ素被膜側に隣接するように配置した。この複数層「サン
ドイッチ」をケレイフレキソ印刷プレート装置(モデル#210)内の真空露光
フレーム内に配置した。露光フレームに取り付けた表面フィルムを「サンドイッ
チ」全体にわたって引っ張り、真空を印加して、露光ネガと硬化性エラストマー
表面との間の空気を除去した。写真用ネガを通してプレートの紫外線露光を6分
間行い、その後真空排気をやめ、露光ネガを除去した。可視画像がエラストマ一
層の紫外線露光領域に現れ(光漂白が生じて露光領域が透明で明るい黄色になる
)、一方非露光領域は明るい青色のままであった。エラストマ一層の非露光で未
硬化領域除去を(フレキソ印刷プレートの製造を完了するために)次のようにし
て行った。基本重量66 g/m2の紡績ナイロン多孔性不織布の断片(ジェー
ムス・リバー社製のセレックス(CEREX)”紡績ナイロン)を、処理するプ
レートの領域に合わせて裁断した。不織布層を露光プレートのエラストマ一層に
接触するように配置した。ラミネートを135℃に平衡した加熱プラテン上に、
プレートのポリエステルフィルム表面がプラテンに隣接するように配置した。直
接プラテンに2つの加熱ゴムカバーニップロールを隣接させ、このニップロール
を30cm/分の直線速度で逆回転させた。このときニップロールは不織布/プ
レートのラミネートを僅かに加圧するように間隔をあけ、これをニップロールの
間隔に導入するようにした。プラテン上を数秒間加熱した後、ラミネートを静か
にニップロール間隔に挿入した。「サンドイッチ」は加熱ニップ間にあるので、
セレックス(CEREX) fM不織布を加熱エラストマー表面から相当の強度
で静かに持ち上げた。プレートのエラストマ一層の未硬化領域はエラストマーの
未硬化熱可撓性部分の不織布への吸収により除去されていることを確認した。生
成されたフレキソ印刷プレートはハーフトーンレリーフ画像を有し、これは露光
ネガパターンと対応していた。硬化生成物を新たな不織布断片とラミネートして
加熱ニップを通過さす更に2回の追加工程がプレートの未露光領域の除去を完了
するために必要であった。
印刷は0.4m幅のカルス・コムコ(GALLUS Comco)フレキソ印刷
機、水ベースフレキソ印刷インク(ルイス・ウェルネック(LouisWern
eke)社)、及び圧力感応性粘着性背面タッグ及びラベル印刷基体を用いて行
った。最初のテストネ力の優れた色調の再生が印刷サンプル中に現れた。
フロア、又は基体と光照射されないエラストマーとの間の硬化エラストマーゾー
ンを生成するのに用いたイオン化放射線はフロア又はアンカリングゾーンの厚さ
を効果的に調節することができる。イオン化放射線はそのエネルギーに直接比例
して組成物内で弱まる。このゾーンの厚さはほぼ直線的に(与えられた一定の露
光時間で)使用される放射線強度で変化する。例えば、この実施例で200に■
の露光は8mi I (0,250mm)70アを、210Kvの露光は10m
1l(1254mm)フロアを、240Kvの露光は14mjl(0,332m
m)フロアを生成する。
硬化性組成物
放射線硬化性ポリウレタンエラストマー状組成物をツイン−スクリュー押し出し
反応容器内で次のように調製した:
■、ポリオール混合物を以下の成分をフィードタンク内で均一になるまで充分に
混合することによって調製した。
A0分子量1000のポリ1.2−(ブチレンオキサイド)ジオール(ダウ・ケ
ミカル社)を36.9部(0,0369mole);B、1. 4−ブタンジオ
ール(ガフ・ケミカル社)を7.8部(0,0867mole);
C,2,97部(0,0115mole)のN、N−ビス(2−ヒドロキシエチ
ル) −N’ −(メタクリルオキシエチル)尿素不飽和ジオールと1.43部
(0,0014mo l e)のAと同じポリオール(ポリ1.2−(ブチレン
オキサイド)ポリオール)、との混合物を4.4部:D、α、αンエトキシアセ
トフエノン(イルガキュア(Irgacurea)=651、チバーガイギ社)
を5.0部。
E、メチレンブルーを0.15部:
F、塩化第二鉄を0.01部;
G ジブチル錫ジラウレートを0.04部。
II 正確な流動測定システムを用いて前記ポリオール流動を34mmのツイン
−スクリュー逆回転押出装置(レイストリッツ(Leistritz)社)の入
り口部骨に、4.4−ビス(イソシアナトシクロへキシル)メタン(デスモダ−
(Desmodur) T1′、W−モーベイ・ケミカル(Mo b a yC
hemical)42.87重量部に対してポリオール流動を57.13重量部
の比で入れた。この重量比では、僅かに過剰当量のイソシアネート部分がヒドロ
キシル成分に関する種の流動中に存在した。重合物質の反応温度を150〜15
0℃の範囲に保持し、押出装置内で反応を行った。押出装置から取り出した時、
完全に反応した硬化性エラストマー組成物を直径約0.3cmの粒子に分離し、
これを更に処理するために回収した。重合反応の完了は硬化性エラストマー生成
物のキャストフィルムの赤外線スペクトルをモニターL、−CH2−吸収バンド
(2950cm−1)に対する一NCO吸収バンド(2250cm−’)の吸収
比を同定することによって決定した。即ち、この比が0.2以下を与えれば僅か
に過剰の−NCO基しか残さずに反応が完了したことを示している。硬化性エラ
ストマー組成物のメルトインデックスを、160℃で1100gの負荷をエクス
トルージョン・プラストメーター(Extrusion Plastomete
r)の加熱チャンバーに用いてモニターし、メルトインデックスが10分間で1
0〜20gの範囲であることを見いだした。
完全に反応した硬化性ポリウレタンエラストマー組成物3Aは以下のモル比の構
成要素からなっていた。
成分 Mo I e
4.4゛ −ビス(イソンアナトンクロヘキシル)メタン 3. 7031.4
−ブタンジオール 2. 262N、 N−ビス(2−ヒドロキシエチル)、
領 299N゛−(メタクリルオキシエチル)尿素ポリ1.2−(ブチレンオキ
サイド)ジオール 1. 000計算により、組成物3Aは7.530分子量ユ
ニット毎に1つの不飽和架橋サイトを有し、556重量%のハートセグメントユ
ニットを有している。
ポリ−(エビクロリドリン(epichloridrin))−ジオールからの
硬化性組成物
放射線硬化性ポリウレタンエラストマー状組成物をツイン−スクリュー押し出し
反応容器内で次のように調製した:
■ ポリオール混合物を以下の成分を以下の成分をフィードタンク内で均一にな
るまで充分に混合することによって調製した。
八 分子量1000のポリ1.2−(ブチレンオキサイド)ジオール(ダウ・ケ
ミカル社)を13.0部(領 0130mole):B 分子量2200のポリ
−(エビクロロヒドリン−ジオール)(3M社)を13.0部(90,0059
mol e);C,1,4−ブタンジオール(ガフ・ケミカル社)を6.4部(
0,0711mole);
D、2. 13部(0,008mo l e)のN、N−ビス(2−ヒドロキシ
エチル)、N’−(メタクリルオキシエチル)尿素不飽和ジオールと1.01部
(0゜0010mole)のAと同じポリオール(ポリ1.2−(ブチレンオキ
サイド)ポリオール)、との混合物を3.14部:E、α、αンエトキンアセト
フェノン(イルガキュア(Irgacurea)−651、チバーカイキ社)を
領 5部。
F、メチレンブルーを0.01部:
G、塩化第二鉄を0.007部:
H,ジブチル錫ジラウレートを0.03部。
Il、正確な流動測定システムを用いて前記ポリオール流動を34mmのツイン
−スクリュー逆回転押出装置(レイストリッツ(Leistrjtz)社)の入
り口部骨に、4.4−ビス(イソシアナトシクロへキシル)メタン(デスモダ−
(Desmodur) T1′、W−モーベイ・ケミカル(Mobay Che
mical)42.24重量部に対してポリオール流動を57.76重量部の比
で入れた。この重量比では、僅かに過剰当量のイソシアネート部分がヒドロキシ
ル成分に関する種の流動中に存在した。重合物質の反応温度を150〜170℃
の範囲に保持し、押出装置内で反応を行った。押出装置から取り出した時、完全
に反応した硬化性エラストマー組成物を直径約0.3cmの粒子に分離し、これ
を更に処理するために回収した。重合反応の完了は硬化性エラストマー生成物の
キャストフィルムの赤外線スペクトルをモニターL、−CHl−吸収バンド(2
950cm”)に対する一NGO吸収バンド(2250am−’)の吸収比を同
定することによって決定した。即ち、この比が0. 2以下を与えれば僅かに過
剰の−NCO基しか残さずに反応が完了したことを示している。硬化性エラスト
マー組成物のメルトインデックスを、160℃で1100gの負荷をエクストル
ージョン・ブラストメーター(Extrusion Plastometer)
の加熱チャンバーに用いてモニターし、メルトインデックスが10分間で25〜
35gの範囲であることを見いだした。
完全に反応した硬化性ポリウレタンエラストマー組成物4Aは以下のモル比の構
成要素からなっていた。
成分 M23C
6,4°−ビス(イソシアナトシクロヘキシル)メタン 5.2461.4−ブ
タンジオール 3. 76ON、 N−ビス(2−ヒドロキシエチル)、 0.
432N°−(メタクリルオキシエチル)尿素ポリ1.2−(ブチレンオキサ
イド)ジオール 0.6875ポリ(エビクロロヒドリン)ジオール 0.31
25計算により、組成物4Aは7.401分子量ユニット毎に1つの不飽和架橋
サイトを有し、57重量%のハードセグメントユニットを有している。
本発明の実施に使用する新規の放射線硬化性ポリウレタンエラストマーは、前記
で与えた化学的特徴だけでなく多くの方法で記載してもよい。エラストマーは異
なった物理特性の2つのセグメントを有している。それにはジイソシアネートと
短鎖の2つのフリーな水素のある鎖伸長剤から形成されたハードセグメントがあ
る。のこりのセグメントはのこりの反応物により生成される。エラストマーのハ
ードセグメントの好適な範囲は幅広くはエラストマーの総重量の25〜60%で
あることが見いだされた。より好ましいハードセグメントの割合はエラストマー
の総重量の30〜50%である。これらの範囲としてはそれぞれの成分を次のよ
うな割合で含むのが効果的である:
A)少な(とも1つのジイソシアネートを10〜40重量%、B)1分子に少な
くとも1つのエチレン性不飽和基を含有する(好ましくはペンダント基として)
前記第1の2つのフリーな水素含有鎖伸長剤を0.5〜20(好ましくは0.7
5〜12)重量冗、C)前記第2の2つのフリーな水素含有鎖伸長基(フリーの
重合性エチレン不飽和基でもよい)を0.5〜20(好ましくは0.75〜12
)重量%、及びD)前記ポリオールを10〜60重量%。
前述の所望の物理特性(例えば、分子量、融点、メルトインデックス)を有する
本発明の好適なエラストマーは以下の割合の反応物から誘導されたユミットから
構成される(これはほぼ、これらの反応物から誘導されたポリマーユニットの重
量比である)
A)ジイソシアネートを15〜35重量%、B)前記第1の鎖伸長剤を1〜10
重量%、C)前記第2の鎖伸長剤1〜15重量%、及びD)前記ポリオールを2
0〜60重量%。
フレキソ印刷プレート中にフロアを発生させる処理におけるイオン化放射線の使
用は、より長い波長の紫外線を使用する一般的な処理に比べて機能的により有効
である。使用される紫外線の波長はイオン化放射線はど急峻に減衰せず、かつイ
オン化放射線はど急峻に堆積されない。紫外線では特定の厚さの材料は特定の割
合の放射線を吸収する。e−ビームのようなイオン化放射線では、特定の厚さは
電磁波、粒子または電子のエネルギーを減少させる。特定の厚さに達すると、電
子からの運動エネルギーはすべて排除され、電子は堆積する。このカットオフは
比較的急峻である。非イオン化紫外線のカットオフに比べれば、このカットオフ
は非常に急峻である。異なった放射線の効果はフレキソ印刷プレート組成物中に
容易に現れる。非イオン化紫外線は、基体から組成物の表面へと硬化が比較的連
続的に減少するような硬化組成物の逐次変化を形成する。イオン化放射線は、硬
化において硬化ゾーンの大部分の厚さで比較的穏やかな差しかないが、硬化ゾー
ン、即ちフロアで比較的急峻な端部を有する材料の硬化ゾーンを生成する。この
急峻なカットオフゾーンには、非イオン化放射線で生成されたフロアを有するプ
レートに比べて明確で明瞭にプレートの機能強化性があることを見いだした。
国際調査報告
フロントページの続き
(72)発明者 キャンティー、ジョージアメリカ合衆国 55133−342
7、ミネソタ州、セント・ボール、ポスト・オフィス・ボックス33427番(
番地の表示なし)
Claims (15)
- 1.可撓性基体の少なくとも一方表面上に式:▲数式、化学式、表等があります ▼ (式中、Aはn−価の有機又は無機の基で、nは整数であり、R1、R2、R3 及びR4は独立して水素及びアルキル基から選択される)のアジリジン官能性化 合物を少なくとも10重量%含有するプライマー層と、前記プライマー層上の少 なくとも0.3mmの厚さの放射線硬化性組成物とを有するレリーフ画像形成エ レメントを提供する工程と、 前記組成物を潜像形成露光して光照射領域の組成物を硬化する工程と、前記潜像 形成光照射層を、40℃〜200℃に加熱されたときに光照射されない組成物を 吸収することができる吸収材層に接触させる工程と、前記組成物層を前記吸収材 層に接触させながら40℃〜200℃の温度に加熱する工程(前記温度は光照射 されない領域の前記組成物を前記吸収材層内に流すことができるほど充分に高い )と、 前記吸収材層に接触する光照射されない領域の前記組成物の少なくとも75%を 前記吸収材層に吸収させる工程と、 前記吸収材層と光照射されない領域からの前記少なくとも75%の組成物を前記 可撓性基体から除去する工程と、 を包含するフレキソ印刷プレートの生成方法。
- 2.前記方法が更に前記硬化性組成物層をイオン化放射線で前記基体を通して光 照射して、前記硬化性組成物層の全部ではないが前記可撓性基体に隣接する少な くともいくらかの硬化性組成物を硬化する工程を包含する請求項1記載の方法。
- 3.前記イオン化放射線露光を前記潜像形成光照射の前に行う請求項2記載の方 法。
- 4.前記硬化性組成物が付加重合に利用可能なエチレン性不飽和基を有する放射 線硬化性ポリウレタンエラストマーを含有し、前記エラストマーは、(A)少な くとも1つのジイソシアネート、(B)分子中にイソシアネート基と重合可能な 少なくとも2つのフリーな水素基を含有する基を有する第1の鎖伸長剤であって 、少なくとも1つのエチレン性不飽和付加重合性基を含有する前記第1の鎖伸長 剤、と(C)少なくとも500の分子量を有し、分子中にイソシアネートと重合 可能な少なくとも2つのフリーな水素を含有する基を有する有機ポリオール、の 反応生成物を含有し、 前記ポリウレタンエラストマーは少なくとも10,000g/moleの数平均 分子量と、180℃以下の融点、及び180℃で少なくとも0.5g/分のメル トインデックスを有する請求項3記載の方法。
- 5.24時間、20℃の脱イオン水中で2%以下の膨潤(swell)を示し、 更に0.5〜10重量%のフリーラジカル光開始剤を含有する請求項3記載の方 法。
- 6.前記エラストマーが24時間、20℃の脱イオン水中で2%以下の膨潤を示 し、更に前記エラストマーの1〜8重量%のフリーラジカル光開始剤を含有する 請求項4記載の方法。
- 7.前記硬化性組成物が付加重合に利用可能なエチレン性不飽和基を有する放射 線硬化性ポリウレタンエラストマーを含有し、前記エラストマーは、(A)少な くとも1つのジイソシアネートを10〜50重量%、(B)分子中にイソシアネ ート基と重合可能な少なくとも2つのフリーな水素基を含有する基を有する第1 の鎖伸長剤であって、少なくとも1つのエチレン性不飽和付加重合性基を含有す る前記第1の鎖伸長剤を0.5〜20重量%と、(C)少なくとも500の分子 量を有し、分子中にイソシアネートと重合可能な少なくとも2つのフリーな水素 を含有する基を有する有機ポリオールを20〜70重量%、 の反応生成物を含有し、 前記ポリウレタンエラストマーは少なくとも10,000g/moleの数平均 分子量と、180℃以下の融点、及び180℃で数0.5g/分のメルトインデ ックスを有し、かつ前記エラストマーは24時間、20℃の脱イオン水中で2% 以下の膨潤を示し、更に0.5〜10重量%のフリーラジカル光開始剤を含有す る請求項1記載の方法。
- 8.更に前記第1の鎖伸長剤と異なった、イソシアネート基と重合可能な少なく とも2つのフリーな水素基を含有する第2の鎖伸長剤を0.5〜20重量%含有 する請求項7記載の方法。
- 9.前記硬化性組成物が付加重合に利用可能なエチレン性不飽和基を有する放射 線硬化性ポリウレタンエラストマーを含有し、前記エラストマーは、(A)少な くとも1つのジイソシアネートを10〜40重量%、(B)分子中にイソシアネ ート基と重合可能な少なくとも2つのフリーな水素基を含有する基を有する第1 の鎖伸長剤であって、少なくとも1つのエチレン性不飽和付加重合性基を含有す る前記第1の鎖伸長剤を0.5〜20重量%と、(C)少なくとも500の分子 量を有し、分子中にイソシアネートと重合可能な少なくとも2つのフリーな水素 を含有する基を有する有機ポリオールを20〜70重量%、 の反応生成物を含有し、 前記ウレタンエラストマーは成分(A)及び(B)及び/又は(C)の反応によ り形成されたハードセグメントと成分(A)及び(C)の反応により形成された ソフトセグメントの両方を有し、ソフトセグメントはエラストマーの25〜70 重量%を含有し、前記エラストマーは更に前記第1の鎖伸長剤と異なった、イソ シアネート基と重合可能な少なくとも2つのフリーな水素基含有する第2の鎖伸 長剤を含有し、かつ前記エラストマーは24時間、20℃の脱イオン水中で2% 以下の膨潤を示し、更に前記エラストマーの1〜8重量%のフリーラジカル光開 始剤を含有する請求項3記載の方法。
- 10.可撓性基体と、 該可撓性基体の少なくとも一方表面上に式:▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aはn−価の有機又は無機の基で、nは整数であり、R1、R2、R3 及びR4は独立して水素又はアルキル基から選択される)のアジリジン官能性化 合物を少なくとも10重量%含有するプライマー層と、付加重合に利用可能なエ チレン性不飽和基を有する放射線硬化性ポリエチレンエラストマー(前記エラス トマーは、 (A)少なくとも1つのジイソシアネート、(B)分子中にイソシアネート基と 重合可能な少なくとも2つのフリーな水素基を含有する基を有する第1の鎖伸長 剤と、少なくとも1つのエチレン性不飽和付加重合性基を含有する前記第1の鎖 伸長剤、と(C)少なくとも500の分子量を有し、分子中にイソシアネートと 重合可能な少なくとも2つのフリーな水素を含有する基を有する有機ポリオール 、の反応生成物を含有し、 前記ポリウレタンエラストマーは少なくとも10,000g/moleの数平均 分子量と、180℃以下の融点、及び180℃で数0.5g/分のメルトインデ ックスを有し、かつ前記エラストマーは24時間、20℃の脱イオン水中で2% 以下の膨潤を示す) を含有する少なくとも0.3mmの厚さの層と、を備えたフレキソグラフィック レリーフ放射線増感印刷プレート。
- 11.nが1、2、3、4及び5から選択され、R1、R2、R3、及びR4は 独立して水素及び炭素原子数1〜8のアルキルから選択される請求項20記載の プレート。
- 12.nが1〜4から選択され、R1、R2、R3、及びR4は独立して水素及 び炭素原子数1〜4のアルキルから選択される請求項20記載のプレート。
- 13.可撓性基体と、 該可撓性基体の少なくとも一方表面上に式:▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aはn−価の有機又は無機の基で、nは整数であり、R1、R2、R3 及びR4は独立して水素及びアルキル基から選択される)のアジリジン官能性化 合物を少なくとも10重量%含有するプライマー層と、付加重合に利用可能なエ チレン性不飽和基を有する放射線硬化性ポリエチレンエラストマー(前記エラス トマーは、 (A)少なくとも1つのジイソシアネート、(B)分子中にイソシアネート基と 重合可能な少なくとも2つのフリーな水素基を含有する基を有する第1の鎖伸長 剤と、少なくとも1つのエチレン性不飽和付加重合性基を含有する前記第1の鎖 伸長剤、と(C)少なくとも500の分子量を有し、分子中にイソシアネートと 重合可能な少なくとも2つのフリーな水素を含有する基を有する有機ポリオール 、の反応生成物を含有し、 前記ウレタンエラストマーは成分(A)及び(B)及び/又は(C)の反応によ り形成されたハードセグメントと成分(A)及び(C)の反応により形成された ソフトセグメントの両方を有し、ソフトセグメントはエラストマーの20〜70 重量%を含有)し、前記プレートは更に前記第1の鎖伸長剤と異なった、イソシ アネート基と重合可能な少なくとも2つのフリーな水素基を含有する第2の鎖伸 長剤を0.5〜20重量%含有し、かつ前記エラストマーは24時間、20℃の 脱イオン水中で2%以下の膨潤を示し、更に0.1〜10重量%のフリーラジカ ル光開始剤を含有する) を含有する少なくとも0.3mmの厚さの層と、を備えたフレキソグラフィック レリーフ放射線増感印刷プレート。
- 14.nが1、2、3、4及び5から選択され、R1、R2、R3、及びR4は 独立して水素及び炭素原子数1〜8のアルキルから選択される請求項13記載の プレート。
- 15.nが1〜4から選択され、R1、R2、R3、及びR4は独立して水素及 び炭素原子数1〜4のアルキルから選択される請求項13記載のプレート。
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