JPH06508908A - 固体供給システム及び流動層を供給する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 固体供給システム及び流動層を供給する方法発明の背景 本発明は、改良された流動層システム及びそのための方法に関する。

流動層プロセスは、鉱石の焙焼または精練（例えばチタン含有材料の塩素化等） 、例えば石炭等の固体炭素質材料の燃焼、炭化水素転化方法（例えば流動触媒分 解等）等に一般的に用いられる。

このような方法において、粒状材料及びガスを適当な温度及び圧力が維持された 反応器に供給する。流速を調整することにより、粒状の材料を流動化、すなわち 懸濁状態に維持し、沸騰状態を有する。

一般的な流動層プロセスの良好な例は、チタン含有材料を塩素化するために使用 される。このようなプロセスにおいて、粒状の石炭、粒状のチタン含有材料、塩 素、及び任意に酸素または空気を、適当な反応温度及び圧力で、反応器に供給す る。適当なガス流量は、床を流動に維持する。ガス状チタンテトラクロリド及び 他の金属塩化物が製造され、反応器を出る。その後、チタンテトラクロリドを分 離し得、及びこれを用いてチタンジオキシド顔料またはチタン金属を製造する。

米国特許第２，７０１，１７９号は、チタン含有材料を塩素化する一般的な流動 層プロセスを開示しており、ここで粒子は、反応生成ガスと直接接触する三とに より加熱され、集塵機内で分離され、続いて塩素を用いて気体として流動層反応 器の底部へ供給される。

しかしながら、前述の流動層プロセスにおける問題すなわち微細な粒状材料が、 流動ガス反応器から放出された熱いガス中に飛沫する傾向があることは、解決さ れない。その結果、微粒子は、反応容器中で短い滞留時間を持ち、これらが再利 用されるときでさえ、出ていって反応されない傾向がある。

このため、反応されない微粒子は、廃棄の問題だけでなく燃料の及び／または供 給材料中の金属価値の浪費を与える。

微粒子は、通常大きな供給粒子の磨滅および劣化により存在する。しかしながら 、また、このような材料は、しばしば、大きなサイズの材料よりも豊富であり、 かつ安価であるので、プロセスへの供給において微粒子材料を含むことが望まし い。

例えば、これらは、微細に破砕された砂として存在するので、現に、経済的には 製造され得ない大量の比較的安価なチタン含有鉱石がある。例えば、Ｊ、グレッ サー及びＷ、Ｌ、ロビンソンにより１９６２年９月９日にＡＩＭＥの採掘業者組 合から発刊された「ルチルの流動層塩素化」という題目の文献は塩素化チタン功 績の一般的な流動層プロセスについて延べており、ここで、流動層反応器の頭頂 に供給される鉱石は、約７０μｍより大きい粒径を有する。

固体を流動層へ流すことを制御するため、従来技術に開示された種々の手順があ る。例えば、米国特許第４，７７４゜２９９号は、触媒粉末を流動層重合反応器 へ導入するシステム及び方法を開示しており、（１）供給ライン及び遮断バルブ が設けられた粉末の貯蔵容器、（２）不活性キャリヤガスを導入するため、その 上部にチューブと遮断バルブとを有する下方に設けられた中間チャンバーに、粉 末を配送するためのメーター計測装置、及び（３）メーター計測された粉末を流 動層に搬送するために、エルボまたはベンド、水平または実質的に水平な部分、 及び迅速に開］コするバルブを有する搬送管を含む。この中間チャンバーの目的 は、触媒粉末の小型性を低減することにある。触媒粉末の固まりの平均粒径は、 １００ないし４００μｍであり得る。

米国特許第３．８５０．５８２号は、新しく製造した触媒を、製造ユニットすな わち流動触媒分解ユニットに添加する装置を開示している。この装置は、（ａ） 主の新しい触媒ホッパー、（ｂ）実質的に垂直な立て管であり、触媒の流動層を 含む触媒メーター計測ホッパー、（Ｃ）主ホッパーをメーター計測するホッパー に接続する触媒移動ライン、（ｄ）触媒をメーター計測ホッパーから移動してプ ロセスユニットに回収することを制御するためのバルブ（ｅ）メーター計測ホッ パーにおける触媒流動層にわたって特異な圧力を計測して記録し、プロセスユニ ットに対する触媒の添加率をモニターする手段を具備する。

触媒ホッパーは、固体から分離されたガスを導管を介して触媒ホッパーに通すサ イクロン分離管を具備する。メータ１計１１ホッパーからバルブを制御して触媒 を回収することによる圧力の低下を補正することが、主触媒ホッパーからのベン トライン中のバルブを開閉することにより行われる。

米国特許３，１５０，７３６は、流出ガスを製造する反応器に粒状固体を供給し 、これにより、このガスが供給システムを透過することを防止する改良された方 法を提供する。この方法を特にハロゲン化金属例えばＴ　ｉＣ１４の製造に適用 し、ここで、粒状金属鉱石及び石炭をハロゲンガスを用いて流動層中で反応する 。この改良は、流動層の下に接続された一組の供給材料の流動層を確立すること を含む。この両方の流動層は、不活性ガスを用いて流動される。第１の流動層の 上面は、固体を供給するために開口され、第２の流動層の上面は、反応器と直接 連絡している。第１の流動層へ材料を供給することにより、材料が第２の流動層 へ流れ、そこから反応器へ流れる。第２の流動層のガス圧は、反応圧より上に維 持され、反応流出ガスが供給システムを透過することを防止する。

米国特許２，９０５．６３５は、流動化触媒の反応中で炭化水素を転化する方法 を開示しており、この方法は、（ａ）炭化水素と触媒を混合する工程、（ｂ）こ の混合物と移送パイプを通して流動層へ搬送する工程、（ｃ）炭化水素を反応し 、及び使用済みの触媒を反応器の下の移送パイプへ除去する工程、（ｄ）使用済 みの触媒をバルブを通して立て管の下部で除去し、ガスと共に再生器へ移動する 工程、（ｅ）使用済みの触媒をバルブを通して立て管内の濃密相の流動層内に回 収する工程、（ｆ）再生された触媒を再生型下のバルブを通して、立て管内の濃 密相の流動層へ回収する工程、（ｇ）再生された触媒を立て管の下部で、バルブ を通して除去し、（ａ）工程による炭化水素と混合する工程を具備する。

反応器及び立て管を出入りする触媒の流れは、差圧コントローラに接続されたバ ルブで制御される。差圧コントローラは、バルブ上の流動層のレベルで変化する バルブ管の圧力を計測する。

米国特許２，８９２，７７３は、濃密相において、第１の反応ガス中に懸濁され た流動固体粒子を反応容器を通してホッパーから、第１の反応ガスを固体粒子か ら分離するホッパーへ戻して、連続的に循環させる循環流動層方法及び装置を開 示する。流動固体粒子は、ホッパーと第２の反応容器の間を循環し、ここで、粒 子を第２の反応ガス内に懸濁する。粒子の循環は、差圧コントローラ及びタイマ ーを有する圧力調節バルブを使用することによって行われ、ホッパーと第２の反 応容器の間の差圧の方向を周期的に変化させる。

例えば、圧力制御バルブを有するガス出口ラインは、セパレータを介して第２の 反応容器と連絡される。゛バルブが第２の反応容器内の圧力を増加し、最後に第 １及び第２の容器間の差圧の方向を変化するようにタイマーを作動する。差圧の 変化により、タイマーは、スライドバルブを開口し、これにより粒子を第２の反 応容器から移動ラインを介して第１の反応容器へ回帰せしめる。

米国特許２，８８１．４３３は、粒状固体が、２またはそれ以上の流動層処理域 の間を循環し、異なる領域のガスの混合が許容されないことを開示する。システ ムは以下の特徴を有するもので、（ａ）圧力を提供する垂直の流動固体立て管部 、（ｂ）前記立て管の下部の鋭いベンド、（ｃ）端部が水平に対し６０°傾いた 傾斜した立ち上がり管、（ｄ）垂直の立ち上がり管を傾斜された立ち上がり管と 連絡する大きな丸みを有するベンド、及び（ｅ）直接受容容器に導くか、または 下方に傾斜する移送ラインに導いてからこの容器に入れる立ち上がり管によって 特徴づけられる。

（ａ）、（ｂ）、（Ｃ）のような垂直の立て管と、鋭いベンドと、傾斜した立ち 上がり管との組み合わせは、しばしばＪ−ベンドと呼ばれる。いくつかの点にお いて不活性ガスを添加することによって、Ｊ−ベンド中の流動が維持される。

発明の概要 本発明の目的は、微粒子が飛沫すること、固体の輸送に過剰の不活性ガスが使用 されること、及び／または不規則な形状及び／または大きさの粒子を処理するた めの粒径の調節ができないことなどの従来の問題点を改善する方法を提供するこ とにある。

本発明は、流動層反応器に粒状固体を連続的に供給する改良されたシステム及び 方法である。本発明の方法によれば、本発明は、（ａ）サイクロンに導入され、 そこでガス及び固体を出口ガス流れと固体の重力流れとの２つの流れに分離する ライン中で、高圧で、不活性ガス流れ中に固体を飛沫する工程、（ｂ）前記固体 の重力流れを実質的に垂直の立て管に配送し、出ロガスストリームを排出ライン に配送する工程、（ｃ）圧力を制御し、前記立ち管内の固体カラムの有効静水ヘ ッドを制御するために、排出ライン内にバルブ手段を設ける工程、（ｄ）前記立 ち管の１つまたはそれ以上の位置にガス流れを導入することにより立ち管内の固 体を流動化せしめる工程、及び（ｅ）バルブ手段がなく、粒状固体がとどまるよ りも大きな角度のベンドを有する供給導管により、立て管から直接流動層反応器 に固体を供給する工程を具備する。

装置の見地によれば、本発明は、高圧で、不活性ガスを用いて固体を移送する固 体移送装置、（ｂ）ガスと固体を分離するサイクロンに前記固体移送装置を接続 し、不活性ガスと飛沫された固体とを搬送する移送ライン、（Ｃ）除去ガスに接 続された導管手段、（ｄ）固体を実質的に垂直な縦管に通すためにサイクロンに 接続された固体放出手段、及び流動固体に対し、１またはそれ以上の位置で立て 管中に導入するために立て管中に設けられる入口手段、（ｅ）立て管内の固体カ ラムの有効静水ヘッドを制御し、除去ガスのためのガス導管手段内の圧力を制御 するバルブ手段、及び（ｆ）移送される粒状固体がとどまるよりも大きい角度の ベンドを有し、濃密相中で反応器に直接固体を供給するための流動層反応器に縦 管を接続するバルブ手段のない供給導管を具備する。

他の見地によれば、本発明は、ハロゲン化チタンに生成ガスとして反応器から除 去する粒状コークス及びチタン含有鉱石の流動層を有する反応器内にハロゲンガ スを導入することを含むハロゲン化チタンを得る方法を示し、その改良は、本発 明の方法に従って、粒状コークス及びチタン含有鉱石を反応器内に供給すること を含む。

本発明のさらなる見地によれば、本発明のプロセスに従った反応管にに固体を供 給することを含み、少なくとも９０重量％までの流動層反応管に固体を運ぶため に用いられる不活性ガスの量を低減する方法を含む。

発明の詳細な説明 本発明の概念は、どのような流動層プロセスにも使用し得るもので、特に流動層 からでるガス中に、微粒子材料を飛沫させやすいようなものに使用し得る。本発 明の概念に利用し得る流動層プロセスの例は、炭素質材料の燃焼（例えば石炭、 木、ビート等）、炭化水素転化（例えば流動接触分解）、鉱石の焙焼または抽出 （例えばチタン含有材料の塩素化、及び亜鉛、銅、鉄のようなものを含む金属鉱 石の加工）等を含む。

本発明は、反応器に供給材料を運ぶために通常使用される大量の不活性ガスの多 くを排除する加圧された流動層反応器に、混合物を含む、粒状固体を供給するた めのシステムに関する。主要量の不活性ガスを注入することは、ガス速度もしく は圧力低下の限定の結果として、大きな設備を必要とするか、または現存する設 備の許容量を限定する。

固体の回分添加は、本発明の利用により可能であるが、連続する固体の添加は、 走査の好ましいモードである。

本発明において、例えばスクリュー装置のように、通常圧力を上げ、固体を移送 するために用いられる設備は、稀薄相（例えば１０容量％未満の固体、好ましく は約１容量％）で、空気もしくは窒素等の不活性キャリヤガスを用いて固体を移 送するラインに、粒状供給固体を運ぶために使用される。使用される装置は、固 体を運搬ガスと一緒にできる通常のどのような固体ポンプでもよい。

固体と運搬ガスは、ガスと固体を分離するサイクロンに移送される。固体は、サ イクロンから立て管に通され、ここで、この固体は、少量の不活性ガスの流れに よって、好ましくは２か所において、流動化される。

立て管の下端は、固体流れを制限するために作用するｒＬＪベンド、ｒＪＪベン ド、またはｒＵＪベンド等の配管中でベンドをとおって反応管と接続する。「Ｌ 」ベンドは垂直から９０°のベンドまたは実質的に９０″のベンドである。ｒＪ Ｊベンドは垂直から９０°ないし１８０°のベンドであり、ｒＵＪベンドは１８ ０’または実質的に１８９’のベンドである。また、ベンドは９０°以下であり 得るが、粒状材料がとどまる角度より大きい。これらの装置は、通常流動化され た固体の供給に用いられ、反応器の過剰な圧力により生ずる粒状材料の逆流を最 低限にする傾向がある。ベンドは、単に流れ方向を変化することにより固体流れ を制限するもので、流れ通路の断面積を調整することにより、流れを規定するバ ルブ手段を組み入れない。

固体は、一般的に濃密な相（例えば、固体金有料が１０容量％以上、好ましくは １０−５０容量％）において、ベンドを通って流れる。サイクロン中に残留する ガスは、立て管が設備の見地から過剰の思われる名目上の固体レベルで操作され る圧力を達成するようにバルブによって制御される。背圧コントロールバルブは 、反応器の少し上に設けられ加工材料の立て管への逆流を防止する立て管内の圧 力を維持するこのコントロールバルブの上流の直接の位置における圧力と、反応 器圧力との差は、例えば約１−１０ｐｓｉ好ましくは２−５ｐｓｉ特に約３．５ ｐｓｉである。背圧コントロールバルブは、反応器及びコントロールバルブの上 流の範囲内の圧力センサに接続された差圧コントローラによって制御される。

米国特許３．８５０５８２は、主触媒ホッパーの排出ライン内でコントロールバ ルブを用いて、再生器に触媒計測ホッパーを接続するライン中のサイクル時間ス ライドバルブにわたる圧力低下を調整することを開示する。バルブの圧力定価は 、計測ホッパーから再生器への均一方向に流れを提供する。

本発明は、立て管の固体カラム上の領域から再生器への全体にわたる圧力低下を 調節するために背圧コントロールバルブを用いる。バルブ手段（例えば断面流れ 面積を調整する装置）を本発明では立て管と反応器の間に用いない。回分操作は 可能であるが、本発明は、好ましくは断続流れよりもむしろ立て管及びベントを 通した固体連続流れで操作する。

立て管における固体レベルは、ベンドから反応器への配管における摩擦損失と同 様にベンドにおける摩擦損失を克服することが高く要求される。これらの摩擦損 失は変化し得るが、できるだけ低く維持されることが好ましい。好ましくは、こ れらの摩擦損失は、合計的２−３ｐｓｉである。このため、この固体レベルは、 好ましくは２−３ｐｓｉの摩擦損失を克服するに十分である。固体レベルは、材 料の密度にともなって変化するが、好ましくは約４−１０ｆｔの範囲特に好まし くは４−６ｆｔである。

背圧コントロールバルブは、立て管中の固体の物性の変化を補正するために使用 し得る。このようにして固体カラムの有効静水ヘッドを制御する。この固体は、 正確に制御することができないとき、コントロールバルブを閉じることができ、 流動層の表面下のある位置で、全ての固体を通常の方法で反応器内へ送ることが できる。固体を、流動層の基点で、またはその周りで、反応器に導入する。背圧 コントロールバルブと、固体カラムの組み合わせは、特に、高圧例えば２２０− ３０ｐｓｉで操作する流動層反応器に固体を供給するために適する。

不活性または反応ガスは、立て管内の固体を流動化するために用いられる。この ように、例えば空気、窒素、塩素等のガスを十分な量を立て管内の粒状材料に注 入し、この材料を流動化し、粒子の結合を少なくする。このようなガスは、これ により粒状材料の流量の制限を助けることができる。通常このようなガスは、粒 状材料の重量部に対し、約０．００１−〇、１好ましくは０．００５−０．２重 量部存在し、約０゜１−１０、好ましくは０．５−５及び最も好ましくは０，７ ５−３フィート／秒の表面ガス速度を有する。このようなガスの量及び速度は、 粒子の大きさ、密度及び形状、及びガスの密度に依存し、試験により容易に計測 し得る。このようなガスが潤滑剤として作用するか、もしくは「Ｌ」バルブまた はベントを有する管と組み合わせて用いられると、このようなガスは、ベンドで またはベンドの近傍で注入される。

本発明は、固体を流動層反応器に供給するために通常使用される運搬ガスの量を 低減することに関する。例えば、本発明は、反応器内への流れ運搬ガスを、通常 のプロセスに使用される運搬ガスの量の５０容量％未満、特に好ましくは１容量 ％未満まで低減するために使用され得る。

本発明に従って運搬され得る材料の粒径は、非常に広い。

例えば約１ミクロン−１０ｍｍの粒径を有する。本発明は、特に約１０重量％の 材料が３０ミクロン以下であり、残りは１００ミクロン−８ｍｍである。

反応器中に飛沫する傾向のある粒状材料の粒径は、その終端沈降速度及び流動層 中のガスの表面速度に依存して変化する。一般的に、粒子の終端沈降速度が、流 動層内のガス表面速度よりも小さいとき、粒子は通常ガス中に飛沫され得る。

鉱石の焙焼または精練（チタン含有鉱石の塩素化を含む）のためには、通常飛沫 される粒状材料は、７０ミクロン未満の粒径を有する。。例えば石炭等の炭素質 材料の燃焼のためには、また、通常飛沫される粒状材料は、約７０ミクロン未満 の粒径を有する。

飛沫され易い材料は、流動層の材料中の分解または磨耗によって発生し得るもの で、約７０ミクロンを越える粒径を有する。このような場合において、そのよう に発生する材料は、一般的に流動層に出ていくガス中に飛沫され、サイクロンま たは他の分離管により、そこから除去され、流動層に再循環される。また、もち ろん、約７０ミクロン未満の粒径を有する流動層へ供給される材料は、飛沫する 傾向がある。

チタン含有材料の流動層塩素化の通常の状態は以下のとおりである。反応温度　 約９００−１３００℃、圧力　約１゜５５−３ａｔ、基部に多重塩素噴射器を有 する反応器の大きさ　直径約６−２５フイート、反応器表面速度　約０．５−１ ．５フィート／秒、および沈降層深さ約６−２５フイート。

通常、初めに供給されるチタン含有材料は、約７０−８００ミクロンの粒径を有 し、初めに供給されたコークスは、約３００約３００−３０００ミクロンの粒径 を有する。

チタン含有材料は、ルチル、チタン鉄鋼、または鋭錐石鉱石を含むチタン含有鉱 石、それらに有益なもの、チタン含有副生成物またはスラグ、及びその混合物等 のどのようなチタン支持源材料でもよい。

チタン含有材料の塩素化のための流動層プロセスに好適に使用されるコークスは 、コークス化プロセスに供されたどのような炭素質材料でもよい。好ましくは、 石油または石炭から誘導されたコークスまたは焼成コークス、もしくはこれらの コークスの混合物である。

好ましくは本発明に用いられるコークス及び／またはチタン含有材料の少なくと も１部は例えば約７０ミクロン未満さらに好ましくは６０ミクロン未満、特に好 ましくは５０ミクロン未満の微細な粒径を有する。これらの微粒子コークス及び ／または材料は、約７０ミクロン以上の粒子の分解または磨耗により生ずること が理解される。

図１は、本発明の一実施態様を示す概略図である。

図面の簡単な説明 流動層への固体供給システムを図１に示すように操作し、ここでフラー−キニジ ン（Ｆｕｌ　１ｅｒ−Ｋｉｎｙｏｎ）圧力供給ポンプ（１）は、ガスと固体を立 て管（４）をとおして出口ガス流れと固体重力流れとの２つの流れに分離するサ イクロン（３）に、チタン−支持鉱石及びコークスを、ライン（２）をとおして 移送するために使用される。

背圧コントロールバルブ（５）を出口ガスの圧力及び立て管内における固体カラ ムのヘッドを制御するために用いる。

立て管内の固体を位置（６）で挿入される窒素を用いて流動化する。立て管から の固体をｒＬＪバルブまたは９０″のベンドを有するパイプをとおして流動層反 応器（７）に供給し、固体流れを効果的にするために位置（８）で、その水平の 脚に、さらに窒素を（例えば１００１ｂ／時間）添加する。

操作の第１工程は、位置（６）及び（８）で、各々５０１ｂ／時間、１００１ｂ ／時間の窒素流れが確立されることである。その後、固体を移送するためにバル ブ（９）を開いて２００１ｂ／時間で窒素を供給し、バルブ（１０）、（１１） を連続的に開き、自動背圧コントロールバルブ（５）は、閉じたままにする。操 作におけるこの始動段階では、全ての窒素がどのような固体も供給せずに流動層 （７）に流れる。

次に、チタン支持−鉱石及びコークスを含む固体供給物を、７７．５００１ｂ／ 時間になるまでゆっくりと添加する。窒素及び固体の合計の流れをそのとき反応 器に移送する。固体レベル（例えば約９．８ｆｔ）が立て管内で見られ、かつ背 圧コントロールバルブ（５）の入り口での圧力が、反応器（５）の入り口での圧 力よりも高い約３．５１ｂになるまで、背圧コントロールバルブ（５）を、次第 に開く。この正の圧力は、反応器からの背圧を最低限にし、立て管における固体 の約４０ｆｔ追加したものと同量である。

ポ 国際調査報告

Claims (26)

【特許請求の範囲】
1. １．（ａ）高圧で不活性ガスを用いて固体を移送する固体移送装置、 （ｂ）前記固体移送装置を、ガスと固体を分離するサイクロンに接続し、かつ不 活性ガス及び飛沫された固体を運搬する移送ライン、 （ｃ）ガスを除去するために前期サイクロンに接続されたガス導管手段、 （ｄ）固体を実質的に垂直の立て管に通すために、前記サイクロンに接続された 固体放出手段、及び流動されたガスの１またはそれ以上の位置で、不活性ガスを 立て管に導入するために前記立て管に設けられた入り口手段、（ｅ）ガスを除去 することより、前記立て管内の固体カラムの有効静水ヘッドを制御するための前 記導管手段中の圧力を制御するバルブ手段、及び（ｆ）移送される粒状固体がと どまる角度より大きいベンドを有し、かつ濃密相内の固体を、前記反応器に直接 供給するために前記立て管を流動層反応器に接続するバルブ手段のない供給導管 を具備する粒状固体を流動層反応器に供給するシステム。
2. ２．（ｇ）前記バルブ手段の上流の直接の圧力及び前記反応器中の圧力を計測す る圧力センサ、及び（ｈ）前記圧力センサに接続され、前記バルブ手段を制御す る差圧コントローラをさらに具備する請求項１に記載のシステム。
3. ３．前記ベンドは、Ｌベンド、Ｊベンド、またはＵベンドである請求項１に記載 のシステム。
4. ４．前記ベンドは、Ｌベンド、Ｊベンド、またはＵベンドである請求項２に記載 のシステム。
5. ５．前記ベンドは、Ｌベンドである請求項３に記載のシステム。
6. ６．前記ベンドは、Ｌベンドである請求項４に記載のシステム。
7. ７．前記立て管は約１０ｆｔの固体カラムを保持しうる高さを有する請求項１に 記載のシステム。
8. ８．（ａ）ガス及び固体を出口ガス流れ及び固体の重力流れに分離するサイクロ ンに導入するラインにおける不活性ガスの流れに、前記固体を飛沫する工程、（ ｂ）前記固体の重力流れを実質的に垂直の立て管に運搬し、前記出口ガス流れを 排出ラインに運搬する工程、（ｃ）圧力を制御し、立て管内の固体カラムの有効 静水ヘッドを制御するために前記排出ラインの中にバルブ手段を提供する工程、 （ｄ）前記立て管内の１またはそれ以上の位置で不活性流れを導入することによ り、前記立て管中に固体を流動化する工程、及び （ｅ）バルブ手段がなく、粒状固体がとどまるよりも大きい角度を有する供給導 管により、濃密相で、前記立て管から直接流動層反応器へ固体を供給する工程を 具備する粒状固体を流動層反応器に連続的に供給する方法。
9. ９．前記ベンドは、Ｌベンド、Ｊベンド、またはＵベンドである請求項８に記載 の方法。
10. １０．前記ベンドは、Ｌベンドである請求項９に記載の方法。
11. １１．前記固体は、前記反応器に連続的に供給される請求項８に記載の方法。
12. １２．（ａ）工程で飛沫される前記粒状固体の少なくともいくつかは、約７０ミ クロン未満の粒径を有する請求項８に記載の方法。
13. １３．７０ミクロン未満の粒径を有する前記固体の少なくとも一部を前記反応器 中に形成し、（ａ）工程に再循環する請求項１２に記載の方法。
14. １４．前記粒状固体の少なくとも幾つかは、チタン含有材料、コークス、または その両方の混合物である請求項８に記載の方法。
15. １５．前記チタン含有材料は、チタン−含有鉱石、チタンー含有鉱石に有益なも の、チタン−含有副生成物、チタン−含有スラグ、またはその混合物である請求 項１４に記載の方法。
16. １６．前記粒状材料は、炭素質材料または鉱石を含む請求項８に記載の方法。
17. １７．前記粒状固体は、石炭を含む請求項１に記載の方法。
18. １８．前記鉱石は、鉄、亜鉛、銅、またはその混合物である請求項１６に記載の 方法。
19. １９．粒状材料の重量部に対し、その量は０．００１−０．１重量部であり、か つ表面ガス速度は０．１−１０フィート／秒であるガスを、前記立て管内に導入 し、固体を前記立て管内に流動化させ、前記固体の結合を少なくする請求項８に 記載の方法。
20. ２０．十分な量のガスを前記立て管内に導入し、前記粒状固体を前記立て管内に 流動化し、前記固体の結合を減らす請求項１３に記載の方法。
21. ２１．前記バルブ手段の上流の直接の圧力と前記反応器中の圧力との差が約１− １０ｐｓｉであり、固体カラムの高さが約４−１０フィートである請求項８に記 載の方法。
22. ２２．ハロゲン化チタンを反応器から生成ガスとして除去する粒状コークスとチ タン含有鉱石との流動層を有する反応器に、ハロゲンガスを導入する工程を含む ハロゲン化チタンを得る方法において、その改良は、粒状コークスとチタン含有 鉱石とを請求項８にかかる反応器に供給することを含む方法。
23. ２３．前記（ｄ）工程で導入されるガスは、窒素である請求項２２に記載の方法 。
24. ２４．前記（ｄ）工程で導入されるガスは、塩素である請求項２２に記載の方法 。
25. ２５．（ａ）工程で飛沫される前記粒状固体の少なくともいくつかは約７０ミク ロン未満の粒径を有する請求項２２に記載の方法。
26. ２６．請求項８の方法にかかる前記反応器に粒状固体を供給する工程を含む、流 動層に固体を移送するために使用される不活性ガスの量を低減する方法。