JPH06509583A

JPH06509583A - 大環式イムノモジュレーター

Info

Publication number: JPH06509583A
Application number: JP5505470A
Authority: JP
Inventors: ラリイ，ジエイ・アール; カワイ，メグミ; オア，ヤツト・サン; ウイードマン，ポール; ワグナー，ロルフ
Original assignee: アボツト・ラボラトリーズ
Priority date: 1991-09-05
Filing date: 1992-09-08
Publication date: 1994-10-27
Anticipated expiration: 2020-05-11
Also published as: EP0642516A1; DE69232630D1; KR100313657B1; AU686520B2; KR100351222B1; AU2580492A; ATE218570T1; DE69232630T2; ES2179823T3; DK0642516T3; EP0638082A1; KR100298008B1; AU6448396A; AU669337B2; BR1100412A; EP0642516A4; EP0638082A4; WO1993004680A1; AU2667392A; CA2103454A1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】大環式イムノモジュレータ一本出願は係属中の米国特許出願第０７／７５５．２０８号（１９９１年９月５日提出）の一部継続出願である。産業上の利用分野本発明は、イムノモジュレート活性を有する新規の化合物、特に大環式免疫抑制剤に関する。さらに本発明は、アスコマイシンの半合成類似化合物、その製造方法、このような化合物を含有する製剤組成物、及びこれを用いた治療方法に関する。発明の背景化合物シクロスポリン（シクロスポリン八）は臓器移植及びイムノモジュレーションの分野にそれが導入されて以来、広範な用途が見出され、移植操作の成功率の有意な増大をもたらした。しかしながらシクロスポリンに関連した意に満たない腎毒のような副作用のために効能及び安全性が改良された免疫抑制化合物の研究が続けられてきた。近年、有効なイムノモジュレート活性を有する数種類の大環式化合物が見いだされた。０ｋｕｈａｒａ等は欧州特許出願第１８４．１．６２号（１，９８６年６月１１日公布）に、ストレプトミセス　Ｓｔ　ｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ属から単離した多数の大環式化合物を開示する。Ｓ、ｔｓｕｋｕｂａｅｎｓｉｓがら単離した免疫抑制剤　ＦＫ−５０６は、下記の１ａ式で表される２３員大環式ラクトンである。他の関連の天然物質、例えばそのＣ−２１でのアルキル置換基の点でＦＫ−５０６とは異なるＦＲ−９００５２０（ｌｂ）及びＦＲ−９００５２３（ｌｃ）は１Ｓ、ｈｙｇｒｏｓｃｏｐｉｃｕｓ　ｙａｋｕｓｈｉｍｎａｅｎｓｉｓから単離された。Ｓ、ｔｓｕｋｕｂａｅｎｓｉｓから単離したさらに別の類似化合物　ＦＲ〜９００５２５は、プロリン基によるピペコリン酸部分の置換でＦＫ− ５０６と異なる。アスコマイシンとしても公知のＦＲ−９００５２０は、Ａｒａｌ等が過去に米国特許第３，２４４，５９２号（１９６６年４月５日発行）に開示されているが、この場合、本化合物は抗菌剤として記載されている。他方、Ｍｏｎａｇｈａｎ、Ｒ，Ｌ。等は欧州特許出願第３２３８６５号（１９８９年７月１２日公開）に免疫抑制剤としてのアスコマイノンの使用を記載する。ＦＫ−５０６の免疫抑制活性は臨床的に確証されているが、しかし哺乳類における毒性のためにその用途は限られている。しかしながらＦＫ−５０６の活性ゆえに優れた特性を有するＦＫタイプの化合物の新規の類似化合物発見に向けての懸命な試みがなされてきた。これらの試みとしては、新規の発酵生成物質の単離、既存化学物質の微生物的形質転換、これらの大員環の化学的修飾、及び小合成断片由来のハイブリッド種の合成が１（ａ）：　ＦＫ−５０６Ｒ＝　ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２；　ｎ＝１１（ｂ）：　ＦＲ−９００５２ＯＲ＝　ＣＨ２ＣＨ３；　ｎ＝１１（ｃ）：　ＦＲ−９００５２３Ｒ＝　ＣＨ３；　ｎ＝１１（ｄ）：ＦＲ−９００５２５Ｒ＝ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２；ｎ− ＣＦＫ型化合物の発酵生成物質としては、ＦＫ−５０６のＣ−２１−エビ誘導体、Ｆ　Ｋ−５０６の３１−デメチル化誘導体、３１−オキソ−ＦＫ−５０６、並びにＦＫ−５０６、ＦＲ−９００５２３及びＦＲ−９００５２５由来の化合物が挙げられるが、これらはヒドロキシ保護基の導入、炭素２３及び２４の間の水の脱離による二重結合の形成、炭素２４のヒドロキシ基のケトンへの酸化、並びに水素添加による炭素２１のアリル側鎖の還元を特徴吉する。他の発表法代謝物質としては、ＦＫ−５０６及びＦＲ−９００５２０由来のものが挙げられるが、この場合、ラクトン環は収縮されて２個少ない炭素を含有する大環式環を生しる。ＦＲ−９００５２０のビスデメチル化１３．３１−ジヒドロキシ環配置誘導体を生成するためのＦＲ−９００５２０の微生物的デメチル化、それぞれＦＫ−５０６及びＦＲ−９００５２０の微生物的モノデメチル化：及びＣ−３１でのＦＲ− ９００５２０の、並びにその他の多数の大環式微生物的形質転換物質の微生物的デメチル化といったような炭素１３でのＦＫ型化合物のいく１）かの微生物的形質転換が発表されている。ＦＫ型化合物の多数の化学的修飾が試みられた。これらの例と］−では、ＦＫ型誘導体の小合成断への調製：２個の炭素により大環式環を拡張するＦＫ−５０６の種々の誘導体の熱転位：並びにＣ−３２及び／又はＣ−２４でのメチルエーテル生成、Ｃ−３２アルコールのケトンへの酸化、及びＣ−９でのエポキシド生成を含めた修飾が挙げられる。これらの修飾化合物のいくつかは免疫抑制活性を示すけれども、免疫抑制療法に関連した重篤な副作用を頻繁に示さない免疫抑制活性を有する大環式化合物が依然としてめられている。したがって、本発明の１つの目的は、所望のイムノモジュレート活性は有するがしかし不都合な副作用を最小限にすることが見出され得る新規の半合成マクロライドを提供することである。本発明の別の目的は、発酵によって得た出発物質からこのような化合物を調製するための合成方法を提供することである。さらに本発明の目的は、活性成分として上記の化合物の１つを含有する製剤組成物を提供することである。さらに本発明の別の目的は、移植後組織拒否反応及び自己免疫的機能不全を含めた種々の疾病状態の治療方法を提供することである。本発明の要約本発明の一態様において、次式：を有する化合物及び製薬上許容可能なその塩、エステル、アミド及びプロドラッグを開示する。ＶＴＩ式において、ｎは０又は１てあり、Ｒ及びＲ′は、Ｒ及びＲ′の一方が水素であり他方がメチル、エチル、２−ヒドロキシエチル、プロピル、シクロプロピルメチル、２−オキソプロピル、２−エタナル、アリル、−ＣＨＣＨＱＣ（０）Ｒ１０（ここでＲ１０はアリールである）、−ＣＨＣ（０）　Ｒ１２、−Ｃ）ｉ　Ｃ（０）　Ｎ　（Ｒ１４′）（Ｃ１１２）□ＣＬＩ　（Ｒ） −Ｃ（０）　Ｒ、ＣＨ２Ｃ（０）　ＮＣＲ””）　（Ｃｔｌ　）　ＣＨ（Ｒ１６）　Ｃ（０）　Ｎ　（Ｒ”’　）ｍ１６・　１２（ＣＨ）　’　ＣＨ（Ｒ）−Ｃ（０）Ｒ及び−ＣＨ２ＣＩＮ（０）　Ｎ　（Ｒ１４）　（ＣＨ）　ＣＨ（Ｒ１６）　Ｃ（０）　Ｎ（Ｒ）（ＣＨ）　’　ＣＨ（Ｒ１６’）Ｃ（０）Ｎ（Ｒ”）１４゜ｍ択されるように選択される。これらの式中、ｍ、ｍ’　及びｍ′は独立に０〜６であり、Ｒ１６、Ｒ１６，及びＲ１６″は独立に水素、低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、カルボキシアルキル、チオ低級アルキル、チオアルコキシアルキル、グアニジノアルキル、アミノアルキル、アリールアルキル、そしてｍ、ｍ ’及びｍ″が０以外である場合にはアミノ又はアミドアルキルから選択され：Ｒは（ｉ）ヒドロキシ、（ｉ　１）−ＯＲ１３（ここでＲ１３は低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル又はアリールアルキルである）、及び（ｉ　ｉ　１）−ＮＲ”＋５　＋　１４　１４．　１４゜Ｒ（こ−でＲ，Ｒ，Ｒ及びＲ１４′は独立に水素、低級アルキル、アリールアルキル、シクロアルキル及びシクロアルキルアルキルから選択され、Ｒ１５は水素、低級アルキル、アリールアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル及びチオ低級アルキルから選択されるか、あるいはＲ１４及びＲ１５は一緒になって−（ＣＨ，、）、−（ここでｑは２〜５である）であるか；もしくはＲ及びＲ１５は一緒になってそれらが結合する窒素とともにモルホリノ及びピペリジノから選択される基１４、　１６　１４．　１６゜を形成するか；もしくはＲ＆Ｒ，ＲとＲ１並びにＲ１４″とＲ１６′の１つ以上が一緒になって−（ＣＨ２）、−（ここでｐは２〜５である）である））から選択される）からなる群から選択されるか、あるいはＲ及びＲ′の一方がＲ及びＲ３６の一方と一緒になってＣ−２１／Ｃ一２２結合を形成し、Ｒ及びＲ′の他方はＲ３５及びＲ３６の他方と一緒になって−Ｎ　（Ｒ”）ＣＨ＝ＣＨ−及び−ＱＣ（Ｒ６４）＝Ｃ１（−から選択される式を有する複素環形成基（ここでヘテロ原子は各々の場合にＣ−２２と結合し、Ｒ６３は水素、低級アルキル、アリールアルキル及びアリールから選択され、Ｒ６４は水素又は低級アルキルである。Ｖｌ１式中のＸは次式の１つを有する基である。［式中、ＲＩは（ａ）水素、（ｂ）ハロゲン、（Ｃ）トリフレート、（ｄ）メシレート、（ｅ）トシレート、（ｆ）ベンゼンスルホネート、（ｇ）アジド、（ｇ ′）シアネート、（ｈ）−ＱＣ（Ｓ）ＯＲ”　（ここでＲ１１は低級アルキル、アリールアルキル及ヒアリールカラ選択すレル）、（ｉ）−ＱＣ（０）Ｒ１９（ここでＲ１９は（１）水素、（量り低級アルキル、（ｉ目）アリールアルキル、（ｉｖ）アミノアルキル、（Ｖ）アリール及び（Ｖり任意に保護化されたアルファアミノ及び標準アルファアミノ酸の付加側鎖を有するα−炭素から選択される）、（ｊ）−ＱＣ（０）ＮＨＲ１７（ここでＲ１７は水素、低級アルキル、アリールアルキル、アリール及び−３Ｒ１４から選択されｌする）、（ｋ）−ＱＣ（０）ＯＲ、（＋）−ＯＰ　（０）（０）Ｒ’（ここでＪは１〜５である）、（ｏ）　−０（ＣＨ）、Ｃ（０）Ｎ（Ｒ”’）（ＣＨ）　ＣＩ（Ｒ１６）２　１　２　■ Ｃ（０）Ｒ、（ｐ）−０（ＣＨ）、Ｃ（０）Ｎ（Ｒ”’）１６　１４゜（ＣＨ２）、ＣＨ（Ｒ）Ｃ（０）Ｎ（Ｒ）（ＣＨ２）。１４、　１６（０）Ｎ（Ｒ）（ＣＨ２）ＭＣＩ（Ｒ）Ｃ（０）Ｎ１４、　１６゜（Ｒ）（ＣＨ）　’Ｃｌ１（Ｒ）Ｃ（０）Ｎ（Ｒ口′）２ｍ＋６．　＋２（Ｃ１ｌ　）　”ＣＩ（Ｒ）Ｃ（０）Ｒ、（ｒ）−３Ｒ１７、（ｕ）１−テトラゾリル、（ｕ’　）２−テトラゾリル、（ｖ）−Ｎｌ−（Ｃ（ＮＨ）　ＮＨ、（ｗ）−Ｃ（ＮＨ）ＮＨ、（ｘ）一〇−（ヒドロキシル保護基）、（ｘ’　）　− ０−ｔ　ｅ　ｒ　ｔ−ブチルジメチルシリル、（Ｙ）−ｔ（ＮＳＲ、（ｚ）−ＮＲ’Ｓ（０）　Ｒ、（ａａ）−ＮＲＣ（０）Ｒ１８（ここでＲ１８は＋１　１７水素、低級アルキル、アリールアルキル、アリール、−ＮＲ１４Ｒ及び−ＮＲ１４Ｒ１４である）、（ｂｂ）−ＮＲ’Ｃ（０）ＮＨＲ（ｃ　ｃ）　−ＮＲＣ（０）ＯＲ、（ｄｄ）−ＮＨＰ１８ゝ（０）　（ＯＲ）　、（ｅｅ）式：を有する基、（ｆｆ）式：（ここでＲ２０及びＲ２０′　は独立に水素、アリール、シアハ　トリフルオロメチル、−Ｃ（０）−０−低級アルキル及び−Ｃ（０）−低級アルキルからなる群から選択される）を有する基、（ｇ　ｇ）式を有する基、（ｈ　ｈ）ヒドロキシからなる群から選択され：Ｒは水素又はトリフルオロメチルカルボニルであるか、あるいはＲ２′　と−緒になってジアゾ基を形成するがもしくはＲ及びＲの一方と一緒になってＣ−３２／Ｃ−３３結合を形成し：ＩＲは水素であるか、又はＲ２と一緒になってジアゾ基を形成し；Ｒ及びＲ４は（ａ）ともにチオ低級アルキル、チオアリールオキシ又はチオアリールオキシキシである；　（ｂ）Ｒ３及びＲの一方が水素、ヒドロキシ及びＲ２とともに形成するＣ−３２／Ｃ−３３結合から選択され、Ｒ及びＲ４の他方が水素又はＲであるか；又は（ｃ）Ｒ３及びＲ４は一緒になって（ｉ）オキ゛ハ　（ｉ　１）＝ＮＲ”（ここでＲ４１１はアリールアルコキシ、ヒドロキシ、−０（ＣＨ２）、Ｃｏｏｔ（（ここでｆ＋！１〜５でＪ６）　、−ＮＨＣ（０）ＯＲ” （、：、：でＲ３９１！低級フルキルである）及び−ＮＨ８（ｏ）２Ｒ４０（ここでＲ４０はアリ−ルである）から選択される）、（ｉ　ｉ　１）＝ＮＯＲ２２２又は２２２　＋　２２２＝Ｎ　（０−）Ｒ（こ、でＲは低級アルキル、アリール、−３Ｏ−（低級アルキル）及び一５ｏ２−　（アリール）からなる群から選択される）、並びに（ｉｖ）式−５−（Ｃ）（２）、（ここでｒは２又は３である）を有するチオケタル− 形成部分から選択される基を形成するように選択され：そしてＲはホルミル及び−ＣＨＯＲ’　（Ｒ’は前記の通り）からなる群から選択される］ＶＩＴ式中のＹは次式から選択される。１式中、Ｒ３１及びＲ３２は、Ｒ３１及びＲ３２の一方が水素であり他方が輸）水素、（ｉ　ｉ）ヒドロキソ、（ｉ　ｉ　ｉ）　−Ｒ”、（ｉ　ｖ）　−Ｃ（０）　Ｒ及び（ｖ）−ＣＨ（Ｒ”）ＮＨＲ”からなる群から独立に選択される。］あるいはＲ及びＲ３２が一緒になってジアゾ基を形成するか；あるいはＲ３３及びＲ３４の一方と一緒になってＲ３１及びＲ３２の一方がＣ−２３／Ｃ−２４結合を形成し、他方が水素、アルキル、−Ｃ（０）ＮＨＲ”、−６１６１＋　６１Ｓ（Ｏ）２Ｒ及び−Ｃ（０）　ＯＲ（こ、でＲは水素、アリール又は低級アルキルである）から選択されるか；あるいはＲ及びＲ３４の一方と一緒になってＲ３１及びＲ３２の一方が式％式％（（０）ＯＲ”）を有する基を形成するか；あるいはＲ３５及びＲの一方と一緒になってＲ３１及びＲ３２の一方がＣ−２２／Ｃ一２３結合を形成し、他方が水素、アルキル、−Ｃ（０）ＮＨＲ、−３（０）　２Ｒ及び−Ｃ（０）　ＯＲから選ばれるか。あるいは上記の式１１１ａ’　に示すよっにＲ及びＲ３２が一緒、３１になってそれが結合する炭素原子Ｃ−２３とともに存在せず、Ｃ−２２／Ｃ−２４結合により置換される。Ｒ及びＲ３４の一方又は両方とそれらが結合する炭素原子とが−緒になったとき、Ｒ３１及びＲ３２の一方又は両方が（ｉ）縮合インドール基（この場合、窒素原子はＣ−２４に隣接する）、（１１）任意に不飽和でよい縮合５−員複素環式基（この場合、Ｃ−２３及びＣ−２４に隣接した２つの環員の一方は酸素、他の隣接環員は−ＣＨＲ１１−又は＝　ＣＲ１７であり、残りの環員は＝Ｎ〜又は− ＮＲ１１−である）、又は（ｉ　ｉ　ｉ）縮合ピロール（酸素原子はＣ−２２に隣接する）を形成する。さらにＲ３５及びＲ３６及びそれらが結合する炭素原子と一輔になってＲ３１及びＲ３２が（１）縮合インドール基（この場合、窒素原子はＣ−２２に隣接する）、又は（ｉｉ）縮合フラン環（この場合、酸素原子はＣ−２２に隣接する）を形成する。式１１１ａ及びＩ　Ｉ　［ａ’　中のＲ３５及びＲ３６は、ともに低級アルコキシであるか、又はＲ及びＲ３Ｇの一方が水素であり、他方がヒドロキシ、アミバーＮＨＲ１７、−ＱＣ（０）Ｒ”、−ＱＣ（０）０−　（ベンジル）及び−Ｎｌ（ＮＨ−（トシル）から選択されるか、あるいは（式１１１ａにおいて）Ｒ３１及びＲ３２の一方と一緒になってＣ−２２／Ｃ−２３結合を形成し他方は水素又はヒドロキシであるか；あるいは（式１１１ａ’　において）Ｃ−２３が存在しない場合はＲ３３及びＲ３４の一方と、Ｒ３５及びＲ３６の一方が一緒になってＣ−２２／Ｃ−２４結合を形成し、他方が水素又はヒドロキシであるか；あるいはＲ３３及びＲの一方とＲ３５及びＲ３６の一方が一緒になって式−ＯＣ（ＣＩＴ　’）　Ｏ−を有する基を形成するか；あるいはＲ３５及びＲが−緒になってオキソ基又は−ＮＲ”８（ここでＲ３８は（＋）アリールアルコキシ、（１１）ヒドロキシ、（ｉ　ｉ　ｉ）　−ＱＣＨＣＯＯＨｌ（ｉｖ）　−０ＣＨＣＨＣＨ、（ｖ）−ＮＨＣ（０）　ＯＲ及び（ｖ　１）−ＮＨ３（０）　Ｒ４０から選択される）を形成するように選択される。あるいはＲ及びＲ′とＲ及びＲ３６が一緒になって上記のようにＣ−２１／Ｃ−２２結合及び複素環形成基を形成するか；あるいはＲ及びＲ３２とＲ３５及びＲ３６が一緒になって上記のようにインドール又はフラン基を形成する。さらにあるいはＲ３３及びＲ３４のいす゛れか又は両方と、介在炭素原子Ｃ−２２、Ｃ−２３及びＣ−２４とＲ３５及びＲ３６が一緒になって（ｉ）Ｎ、Ｏ及びＳから選択されるペテロ原子を包含し、任意にＮ、Ｏ及びＳから選択される第二のへテロ原子を包含するが、但し２個のへテロ原子が存在する場合、少なくとも１個はＮであり、任意に低級アルキル、アリール、アリールアルキル、アミド、ホルミル、−Ｃ（０）ＯＲ”又は−Ｃ（０）Ｒ” 　（ここでＲＩＩは低級アルキルである）で置換される５又は６員不飽和基、並びに（ｉ　ｉ）任意に低級アルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換され、縮合されるフェニル基を有する７員環の任意に不飽和でよい基（この場合、Ｃ−２２に隣接する環員は−Ｎ−であり、Ｃ−２４に隣接する環員は０又はＳである）から選択される縮合複素環式基を形成する。式１１１ａ及びＩＩＩａ’中のＲ及びＲはい）Ｒ３３及びＲ３４の一方が水素であり、他方が水素、ヒドロキシ、アミハ−ＯＲ、−０ＮＯ２、−ＱＣ（０）ＮＨＲ、−Ｃ（０）ＩＲＩＩ、−Ｃ（Ｒ）　ＮＨＲ１７及（Ｆ−０−（ｔ：　Ｉ’ｏ＋シル保護Ｍ）から選択され；　（ｉ　ｉ）　Ｒ及びＲ３４の一方が水素であり、他方がＲ及びＲ３２の１つとともに式−ｃＴＩ（Ｒ１１）Ｎ１１ｃＨ（Ｃ（ｏ　）　ＯＲｌ　１）−を有する基を形成するか、又はＲ３５及びＲの一方とともに式−ＱＣ（ＣＨ３）２ｏ−を有する基を形成するか、あるいは（ｉ　ｉ　ｉ）　Ｒ及びＲ３４の一方がｃ−２３／Ｃ−２４を形成するか又は、Ｃ−２３が存在しない場合はＣ− ２２／Ｃ−２４結合を形成し、他方が水素、ヒドロキシ及び低級アルコキシから選択されるか；あるいは−緒になってＲ３３及びＲ３４がオキソ基を形成するか：あるいはＲ３１、Ｒ３２、Ｒ３５及びＲ３６の１つ以上、並びに介在炭素原子とＲ３３及びＲ３４の一方又は両方が一緒になって（＋）インドール（この場合、窒素原子ハＣ−２４１：隣接する）、（ｉ　ｉ　）　７　ラン（Ｃ−２４１：結合する酸素原子を有する）、又は（ｉ　ｉ　ｉ）上記のような複素環式基から選択される基を形成するように選択される）から選択される基である。Ｖｌ１式中のＺは次式（式中、Ｒ２１及びＲ２２は（ｉ）Ｒ２１及びＲ２２の一方が水素であり他方が水素、低級アルキル、アリールアルキル、アリール、ハロゲン、トリフレート、メシレート、トシレート、ベンゼンスルホネート、アジド、アミン、アセテート、−ＮＲ１７Ｒ１８，−ＱＣ（０）Ｒ、ＮＲ５（０）　Ｒ１８、−ＮＲ１７Ｃ（０）Ｒ１８、及び次式：を有する基から選択されるか、又はＲ２３とともにＣ−９／Ｃ−１０結合を形成するように選択される。あるいはＲ２１及びＲ２２の一方がヒドロキシであり、他方が水素、低級アルキル、アリールアルキル及びアリールから選択されるか、あるいはＲ２１及びＲ２２の一方が水素、低級アルキル及びアリールアルキルから選択され、他方がＲ２３及びそれが結合する炭素原子とともに縮合５員複素環式基を形成するが、この場合、Ｃ−９及びＣ−１０に隣接する２環員は酸素であり、残りの環員は−Ｃ（０）−及びＣ（Ｓ）−から選択されるか、あるいはＲ２１及びＲ２２の一方が水素、低級アルキル及びアリールアルキルから選択され、他方がＲ２３及びそれが結合する炭素原子とともに縮合５員複素環式基を形成するが、この場合、Ｃ−９及びＣ−１０に隣接する２環員は酸素であり、残りの環員は−Ｐ　（０）　（Ｒ２５）　−（ここでＲ２５は低級アルキル、アリールアルキル、低級アルコキシ、アミノ又は低級アルキルアミノである）である。あるいはＲ２１及びＲ２２は一緒になってオキ゛ハオキム及び−０−ＣＩ　から選択される基を形成するか；あるいはＲ２１及びＲ２２並びにそれらが結合する炭素が存在せず、Ｃ−８が直接Ｃ−１０と結合するように選択される。式＋１ａ中のＲ２３はヒドロキシ、ｌ＼ロゲン、アリールアルキルアミノ、アリールアルキルアミノ、低級アルコキシ及びアリールアルコキシからなる群から選択されるか、又はＲ２１及びＲ２２の一方とともにＣ−９／Ｃ−１０結合を形成するか、又はＲ２４とともにＣ−１０／Ｃ−１１結合を形成する。式Ｉｒａ中のＲは水素であるか、又はＲ２３とともにＣ−１０／（，１１結合を形成する。式Ｈａ中のＲ２６、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は（ｉ）Ｒ２８及びＲ２９の一方がヒドロキシであり他方が−ＣＯＯＨ又は−〇　（０）〇−低級アルキルであり、そして（ｔｉ）Ｒ２６及びＲ２７並びにそれらが結合する炭素原子が存在せず、Ｃ−８が直接Ｃ−１０に結合するか、あるいはＲ及びＲ２７が一緒になってオキソであり、一方Ｒ及びＲは一方がヒドロキシであり他方がＣ−２／Ｃ−１０結合を形成するが；あるいはＲ２６及びＲ２８が一緒になって結合を形成し、そしてＲ２７及びＲ２９が式−Ｕ−Ｃ（Ｒ１１）　＝Ｎ−（式中、ＵｉｉＣ−９１＝隣接Ｌ、−ｏ−１−ｓ−及び−Ｎ　Ｈ−から選択される）が；あるいはＲ２６及びＲ２８が各々ヒドロキシであり、モしてＲ及びＲが−緒になって式−ＣＨ２− Ｃ（ＣＨ２）−ＣＨ２−を有する基を形成する。あるいはＲ２６、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲはそれらが結合する炭素原子と一緒になって（１）縮合ナフタレン基（この場合、ｃ−９及びＣ−１０に隣接する原子はシアノ基に置換される）、又は（ｉ　ｉ）１ないし３個の窒素へテロ原子を有し、任意にアミノ、ハロゲン、低級アルキル及び低級アルコキシから選択される６個までの基で置換されてよい縮合６員環を含む縮合−−１ニー又は二環状複素環式芳香族基を形成するように選択される。式ＩＴｂ中のＲ及びＲは、Ｒが水素であり、Ｒ６０が（量）水素、（ｉｉ）ヒドロキシ及び（ｉ　ｉ　ｉ）　−ＱＣ（０）Ｒからなる群から選択されるか、あるいはＲ６０及びＲ６５が一緒になってオキソ基を形成するように選択される）を有する基から選択される。一般ｉｎ　ｖｉｔｒｏ生物検定を用いてイムノモジュレート活性を調べる場合、本発明の化合物は有力な免疫抑制剤であると考えられる。Ｉまたがって、本発明の化合物は免疫抑制、抗細菌、抗真菌、抗ウィルス、抗炎症及び抗増殖活性、並びに化学療法薬耐性を逆転する能力を有することが判明すると予測される。したがって、本発明の別の態様では、本発明の化合物を製薬−Ｌ許容可能な担体と組み合わせて含有する製剤組成物を開示する。好適な担体及び処方の方法も開示する。本発明のさらに別の態様では、」１記の化合物、これらのそして他のアスコマイシンのイムノモジュレータ−誘導体に有用な合成中間生成物質の製造方法、並びに治療的有効量の本発明の化合物をこのような治療が必要な患者に投与することによるイムノモジュレート治療の方法を開示する。本発明の詳細な説明ＦＲ−９００５２０（アスコマイシン）又はその同類化合物（例えばＦＫ−５０６等）の３つの一般領域の１つ又はそれ以上における修飾により本発明の化合物を生成する。したがって、本発明の代表的化合物は、存在する修飾の数によっていくつかの種類の１つに分類される。単一修飾化合物、即ち３つの一般領域の２つが親分子上で変化せずに残っているものとしては、次式の化合物及び製薬上許容可能なその塩、エステル、アミド及びプロドラッグが挙げられる（式中、各々の置換基は上記と同様である）・る。これらの中間生成物質において、Ｒ２２２は低級アルキル、アリール、−３ｏ２−　（低級アルキル）及び−３Ｏ２（アリール）の中から選択される。他方、本発明の化合物の代表であるアスコマイシンの二重修飾類似体は、次式の化合物及び製薬上許容可能なその塩、エステル、アミド及びプロドラッグが挙げられる（式中、各々の置換基は上記と同様である）：これらの二重修飾化合物は、炭素原子Ｃ−２及びＣ−１０間に直接結合が形成されるものであり、構造式：％式％ここに開示したものからの合成を注意深く選択することにより、並びに当業者に公知の他の合成方法を用いることにより、多修飾も可能であり、上記の式Ｖｌｌに含まれる代表的種類の化合物を生じる。本発明の代表的且つ好ましい化合物としては、式１１１、Ｖ、Ｖｌ、Ｖｌｌ及びＶＩＭに包含されるものが挙げられる（式中、Ｙは以下の群から選ばれる）。（式中、Ｒ、Ｒ、Ｒ、Ｒ、Ｒ及びＲ４１は上記と同様−ｃあり、Ｒは水素、アルキル、−Ｃ（０）ＮＨＲ６１、−８（０）　Ｒ及び−Ｃ（０）ＯＲ”から選択され、Ｒ８２及びＲは独立にヒドロキシ及びアミノから選択され、Ｒ８４は水素、ヒドロキシ又は低級アルコキシであり、Ｒ８５は水素又はヒドロキシであり、Ｒ８６は水素、低級アルキル、アリール、アリールアルキル、７ミド、ホルミル、 −Ｃ（０）Ｒ”及び−Ｃ（０）ＯＲから選択され、Ｒ８７は水素、ハロゲン、アルコキシ及び低級アルキルから選択され１ｖは酸素、　Ｎ（Ｒ８６）−及び−ＮＣ（０）Ｒ８６から選択され、モしてＷは酸素又はイオウである）本発明の他の代表的化合物としては、式ＩＩ、ＩＶ、Ｖｌ及びＶｒｌに包含されるものが挙げられる（式中、Ｚは以下の群から選択される）。（式中、Ｒ１１、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＵは上記と同様であり。Ｒ７０は水素、低級アルキル又はアリールアルキルであり：Ｒ７１は水素又は低級アルキルであり、Ｒ７２は酸素又はイオウであり；そしてＡ、Ｄ、Ｅ、Ｇ、Ｊ及びＬは窒素、炭素及び−Ｃ（Ｒ７３）−（ここてＲ７３はアミハハロゲン、低級アルキル又は低級アルコキンである）から選択される）本明細書中及び添付の請求の範囲で用いる場合、以下の用語は下記の意味を有する。゛アルコキシ１及び０低級アルコキシ”という用語は、本明細書中で用いる場合は、酸素原子を介して分子の残りの部分と結合する、後述のような低級アルキル基を示す。アルコキシ及び低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、５ｅｃ−−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ等が挙げられる。 “アルキノビという用語は、本明細書中で用いる場合は、１〜１２個の炭素原子を有する１価の直鎖又は分枝鎖基を示す。その例としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、５ｅｅ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等が挙げられるが、これらに限定されない。 “アルキルアミノ”及び°低級アルキルアミノ”という用語は、本明細書中で用いる場合は、構造式−ＮＨ−（低級アルキル）（ここで、低級アルキル部分は後述と同様である）を有する基を示す。アルキルアミノ及び低級アルキルアミノ基の例としては、例えばメチルアミノ、エチルアミノ、イソプロピルアミノ等が挙げられる。 °アミドアルキル”という用語は、本明細書中で用いる場合は、上記のような低級アルキル基に付加される構造式−ＮＲ１０１Ｃ（０）Ｒ１０２を有する基を示す。基Ｒ１０１及びＲ１０２は独立に水素、低級アルキル、アリール、アリールアルキル及びハロ置換アルキルから選択される。さらに、Ｒｌｏｔ及びＲ１０２は一緒になって、任意に−（ＣＨ２）、、−（ここで、ａａは整数２〜６である）であり得る。 °アミノアルキル゛という用語は、本明細書中で用いる場合は、上記のような低級アルキル基に付加される構造式、Ｒ１０３Ｒ１０４を有する基を示す。基Ｒ１０３及びＲ１０４は独立に水素、低級アルキル、アリール及びアリールアルキルから選択される。さらに、Ｒ１０３及びＲ１０４は一緒になって、任意に−（Ｃ）（２）ｂｂ−（ここで、ｂｂは整数２〜６である）であり得る。 °アリール”という用語は、本明細書中で用いる場合は、置換及び非置換カルボ環式芳香族基を示す。その例としては、ノ１０、ニトロ、ンアハＣ−Ｃｌ　２アルキル、アルコキシ及びノ１０置換アルキルから独立に選択される１、２又は３ｆｌ換基で任意に［１％される１−又は２−ナフチル、フルオレニル、（１゜２）−ジヒドロナフチル、（１，２，３，４）−テトラヒドロナフチル、インデニル、インダニル等が挙げられるが、これらに限定されない。 °アリールアルコキシ”という用語は、本明細書中で用いる場合は、酸素原子を介して親分子部分と結合する上記のようなアリールアルキル基を示す。アリールアルコキシとしてはベンジルオキシ、２−７エネチルオキシ、１−ナフチルエチルオキシ等が挙げられるが、これらに限定されない。 “アリールアルキル”という用語は、本明細書中で用いる場合は、アルキル基に付加される上記のようなアリール基を示す。その例としては、ベンジル、１−及び２−ナフチルメチル、ハロペンシル、アルコキシベンジル、ヒドロキシベンジル、アミノベンジル、ニトロベンジル、グアニジノベンジル、フルオレニルメチル、フェニルメチル（ベンジル）、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−ナフチルエチル等が挙げられるが、これらに限定されない。゛アリールアルキルアミノ”という用語は、本明細書中で用いる場合は、構造式 −ＮＨ−（アリールアルキル）（式中、アリールアルキル部分は上記と同様である）を有する基を示す。アリールアルキルアミノ基の例としては、ベンジルアミノ、１−フェニルエチルアミノ等が挙げられる。 “アリールオキシ”という用語は、本明細書中で用いる場合は、酸素原子を介して親分子部分と結合する上記のようなアリール基を示す。アリールオキシの例としては、フェノキシ、１−ナフトキシ、２−ナフトキシ等が挙げられるが、これらに限定されない。 “カルボキシアルキル′という用語は、本明細書中で用いる場合は、上記のような低級アルキル基に付加されるカルボキシル基−ＣＯ２■１を示す。 “シクロアルキル”という用語は、本明細書中で用いる場合は、３〜８個の炭素原子を有する環状基を示す。その例としてはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられるが、これらに限定されない。 ”シクロアルキルアルキル′という用語は、本明細書中で用いる場合は、低級アルキル基に付加されるシクロアルキル基を示す。その例としてはシクロヘキシルメチル及びシクロヘキシルエチルが挙げられるが、これらに限定されない。 “グアニジノアルキル”という用語は、本明細書中で用いる場合は、上記のような低級アルキル基に付加される構造式％式％Ｒ及びＲ１０７は独立に水素、低級アルキル、複素環式基、アミノアルキル及びアリールから選択される。あるいはＲ１０６及びＲが−緒になって任意に−（ＣＩ■２）ｃｃであってよい（ここで、ＣＣは２〜６の整数である）。 “ハロ”及び“ハロゲン”という用語は、本明細書中で用いる場合は、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素から選択される原子を示す。 “複素環式”という用語は、本明細書中で用いる場合は、別記しない隔りは、任意の芳香族又は非芳香族５−１６−又は７員環、あるいは酸素、イオウ及び窒素から独立に選択される１〜３個のへテロ原子を有する縮合６員環を包含する２− 又は３環状基を示すが、この場合、（＋）核５員環は０〜２個の二重結合を有し、各６員環は０〜３個の二重結合を有し；（ｉｉ）窒素及びイオウヘテロ原子は任意に酸化され；（ｉｉｉ）窒素へテロ原子は任意に第四化され；そして（１ｖ）任意の上記の複素環式環はベンゼン環と縮合し得る。代表的複素環としては、ピロリル、ピロリジニル、ピラゾリル、ピラゾリニル、ピラゾリジニル、イミダゾリル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、ピリジル、ピペリジニル、ビランニル、ピペラジニル、ピリミリニル、ピリダジニル、オキサシリル、オキサゾリジニル、イソキサゾリル、イソキサゾリルニル、モルホリニル、インドリル、キノリニル、チアゾリル、チアゾリジニル、イソチアゾリル、イソチアゾリジニル、イソキノリニル、ベンズイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンズオキサシリル、フリル、チェニル及びベンゾチェニルが挙げられるが、これらに限定されない。 “ヒドロキシアルキル“及び°ヒドロキシ低級アルキル”という用語は、本明細書中で用いる場合は、低級アルキル基に付加１−たＯ　）Ｉ基を示す。 “ヒドロキシ保護基”七は、合成操作中の望ましくない反応に対してヒドロキシル基を保護するための、そして選択的に除去可能な当業界に公知の基を示す。この例としては芳香族で買換されるメチルチオメチル、ｔｅｒｔ−ジメチルシリル、ｔｅｒｔ−−プチルジフェニルンリル、アンル等が挙げられるが、これらに限定されない。 °低級アルキノじという用語は、本明細書中で用いる場合は、１〜８個の炭素原子を有する上記のようなアルキル基を示す。 °天然アミノ酸”及び°標準アミノ酸”という用語は、本明細書中で用いる場合は、アラニン、アスパラギン、アルバラギン酸、ンスティン、グルタミン、グルタミン酸、グリシン、ヒスチジン、イソロイシン、ロイシン、リジン、メチオニン、フェニルアラニン、プロリン、セリン、トレオニン、トリプトファン、チロシン及びバリンからなる群から選択されるアミノ酸を示す。 “Ｎ−末端保護基”という用語は、本明細書中で用いる場合は、合成操作中の望ましくない反応に対してＮ−末端を保護するための、又は最終化合物に及ぼすエキソペプチダーゼの作用を防止するための、又は最終化合物の溶解度を増大するための当業界で公知の基を示す。その例としては、アンル、アセチル、ピバロイル、ｔｅｒｔ−ブチルアセチル、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル（Ｂｏｃ）、カルボベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）及びベンゾイル基が挙げられるが、これらに限定されない。他のこのような基は、Ｇｒｏｓｓ、Ｅ、及び　Ｍｅｉｅｎｈｏｆｅｒ、Ｊ、が”Ｔｈｅ　Ｐｅｐｔｉｄｅｓ”、Ｖ。ｌｕｍｅ３；Ａｃａｄｅｍｉｃ　Ｐｒｅｓｓ、１９８１に記載している。 “チオアルコキシ”及び“チオ低級アルコキシ”という用語は、本明細書中で用いる場合は、イオウ原子を介して分子の残りと結合する上記のような低級アルキルを示す。チオアルコキシ及びチオ低級アルコキシ基の例としては、チオメトキシ、チオエトキシ、チオイソプロポキシ、ｎ−チオブトキン、Ｓｅｃ　チオブトキシ、イソチオブトキシ、ｔｅｒｔ−チオブトキン等が挙げられるが、それらに限定されない。゛チオアルコキンアルキル”という用語は、本明細書中で用いる場合は、低級アルキル基に付加される上記のようなチオアルコキシ基を示す。 “千オアリールアルコキン“という用語は、本明細書中で用いる場合は、イオウ原子を介して分子の残りに結合する上記のようなアリールアルキル基を示す。 “チオアリールオキシ”という用語は、本明細書中で用いる場合は、イオウ原子を介して分子の残りに結合する上記のようなアリール基を示す。 °チオ低級アルキル”どいつ用語は、本明細書中で用いる場合は、イオウ原子を介して分子の残りに結合する上記のような低級アルキル基を示す。 ”製薬■ユ許容可能な塩、エステル、アミド及びプロドラッグという用語は、本明細書中で用いる場合は、健全な医学的判断の範囲内で、過度の毒性、刺激、アレルギー反応等を有するヒト及び下等動物の組織と接触して使用するのに適している、合理的利益／危険比に見合った、そしてそれらの意図された用途亭に有効な、並びに可能な場合には本発明化合物置イオン性形態である、本発明化合物のカルボン酸塩、アミノ酸付加塩、エステル、アミド及びプロドラッグを示す。°塩”という用語は、本発明の化合物の相当程度非毒性の、無機及び有機酸付加塩を示す。これらの塩は、化合物の最終単離及び精製中に１ｎｓｉｔｕに、あるいは遊離塩形態の精製化合物を好適な有機又は無機酸と独立に反応させ、このようにして生成した塩を単離することにより調製し得る。代表的塩としては、臭化水素酸塩、塩酸塩、硫酸塩、重硫酸塩、リン酸塩、硝酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、吉草酸塩、オレイン酸塩、パルミチン酸塩、ステアリン酸塩、ラウリン酸塩、ホウ酸塩、安息香酸塩、乳酸塩、リン酸塩、トシレート、クエン酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、コハク酸塩、酒石酸塩、ナフチレート、メシレート、グルコヘプトネート、ラフチオビオネート及びラウリルスルホン酸塩等が挙げられる。これらは、アルカリ及びアルカリ土類金属、例えばナトリウム、リチウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム等を基礎にした陽イオン、並びに非毒性アンモニウム、第四アンモニウム及びアミン陽イオンを包含する。これらの例としてはアンモニウム、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、エチルアミン等が挙げられるが、これらに限定されない（例えば、Ｓ、Ｍ、Ｂｅｒｇｅ、ｅｔａｌ　、“Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ　５ａｌｔｓ、”Ｊ、Ｐｈａｒｍ、Ｓｃｉ、、６６：１−１９　（１９７７）参照。この記載内容は参照により本明細書中に含めるものとする）。本発明の化合物の製薬上許容可能な非毒性エステルの例としては、Ｃ−０６アルキルエステル（ここでアルキル基は直鎖又は分枝鎖である）が挙げられる。許容可能なエステルとしてはさらに、０５〜Ｃ７シクロアルキル並びにアリールアルキルエステル、例えばベンジルが挙げられるが、これらに限定されない。Ｃ−Ｃ４アルキルが好ましい。本発明の化合物のニスチルは、慣用的方法により調製し得る。本発明の化合物の製薬上許容可能な非毒性アミドの例としては、アンモニア、第 −Ｃ１−０６アルキルアミン及び第二０１〜Ｃ６ジアルキルアミン（ここで、アルキル基は直鎖又は分枝鎖である）由来のアミドが挙げられる。第二アミンの場合、アミンは１個の窒素原子を含有する５又は６員複素環の形態であってもよい。アンモニア由来のアミド、ｃ　−０３アルキル第一アミド及びＣ−ｃ　ジアルキル第ニアミドが好ましい。本発明の化合物のアミドは慣用的方法により調製し得る。 “プロドラッグ２という用語は、例えば血液中で加水分解によりｉｎ　ｖｉｖｏで迅速に形質転換されて上式の親化合物を生しる化合物を示す。徹底的考察はＴ、Ｈｉｇｕｃｈｉ　ａｎｄ　Ｖ、５ｔｅｌｌａ、”Ｐｒｏｄｒｕｇｓ　ａｓ　Ｎａｖｅｌ　Ｄｅｌｉｖｅｒｙ　Ｓｙｓｔｅｍｓ”、Ｖｏｌ、１４　。ｆ　ｔｈｅ　Ａ、Ｃ，Ｓ、Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ　５ｅｒｉｅｓ。及びＢｉｏｒｅｖｅｒｓｉｂｌｅ　Ｃａｒｒｉｅｒｓ　ｉｎＤｒｕｇｓ　Ｄｅｓｉｇｎ、ｅｄ、Ｅｄｗａｒｄ　Ｂ、Ｒｏｃｈｅ、Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ　Ａｓ５ｏｃｉａｔｉｏｎ　ａｎｄ　Ｐｅｒｇａｍｏｎ　ＰｒｅｓＳ、１９８７　（これらの記載内容はは両方とも参照により本明細書中に含めるものとする）に示されている。適切な場合には、本発明の化合物の誘導体のプロドラッグは任意の好適な方法で調製し得る。プロドラッグ部分がアミノ酸又はペプチド官能基である化合物に関しては、アジド法、混合酸無水物法、ＤＣＣ（シンクロへキシルカルボシイメゾ）法、活性エステル法（ｐ−ニトロフェニルエステル法、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミドエステル法、シアノメチルエステル法等）、Ｗｏｏｄｗａｒｄ試薬に法、ＤＣＣ−ＨＯＢＴ（Ｌ−ヒドロキシ−ベンゾトリアゾール）法等のような慣用的縮合法にょリアミノ基と、アミノ酸及びペプチドとの縮合を実施し得る。アミノ酸縮合反応のための古典的方法は、“Ｐｅｐｔｉｄｅ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓ″ ５ｅｃｏｎｄ　Ｅｄｉｔｉｏｎ、Ｍ、Ｂｏｄａｒ＋Ｓｋｙ、Ｙ、Ｓ、Ｋｌａｕｓｎｅｒ　ａｎｄ　Ｍ、Ａ、０ｎｄｅ　ｔ　ｔ　ｉ　（１９７６）に記載されている。慣用的ペプチド合成におけるように、アミノ酸のアルファ及びオメガ位置の分枝鎖アミノ及びカルボキシル基は、必要な場合には保護化又は脱保護化し得る。使用し得るアミノ酸のための保護基としては、例えばベンジルオキシカルボニル（Ｚ）、０−クロロペンジルオキシ力ルボニル（（２−ＣＩ）Ｚ）　、ｐ−ニトロペンジルオキシ力ルボニル（Ｚ　（ＮＯ２）　）　、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル（Ｚ　（ＯＭｅ））　、ｔ−アミルオキシカルボニル（Ａｏｃ）、イソボルネアルオキシ力ルボニル、アダマンチルオキシカルボニル（Ａｄｏｃ）　、２−（４−ビフェニル）−２−プロピルオキシカルボニル（Ｂ　ｐ　ｏ　ｃ）、９−フルオレニル−メトキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）、メチルスルホニルエトキシカルボニル（Ｍｓｃ）、トリフルオロアセチル、フタリル、ホルミル、２ −ニトロフェニルスルホニル（Ｎｐｓ）、ジフェニルホスフィノチオイル（Ｐｐｔ）及びジメチルホルフィノチオイル（Ｍｐｔ）が挙げられる。カルボキシル基のための保護基の例としては、例えばベンジルエステル（ＯＢｚｌ）、シクロヘキシルエステル、４−ニトロベンジルエステル（ＯＢ　ｚ　Ｉ　ＮＯ２）　、ｔ−ブチルエステル（ＯｔＢｕ）、４−ピリジルメチルエステル（ＯＰｉｃ）等が挙げられる。本発明のある種の化合物の合成の途中で、分枝鎖にアミノ及びカルボキシル基以外の官能基を有する特定のアミノ酸、例えばアルギニン、システィン、セリン等を必要な場合には好適な保護基で保護し得る。例えばアルギニンのグアニジノ基（ＮＧ）はニトロ、ｐ−トルエンスルホニル（Ｔｏｓ）、ベンジルオキシカルボニル（Ｚ）、アダマンチルオキシカルボニル（Ａｄ。Ｃ）、ｐ−メトキンベンゼンスルホニル、４−メトキシ−２゜６−シメチルベンゼンスルホニル（Ｍｔｓ）等で保護するのが好ましい。システィンのチオール基は、ベンジル、ｐ−メトキシヘンシル、トリフェニルメチル、アセトミドメチル、エチルカルバミル、４−メチルベンジル（４−ＭｅＢｚ　ｌ）　、２．４゜６ −トリメチルベンジル（Ｔｍｂ）等で保護し得る。セリンのヒドロキシ基は、ベンジル（Ｂｚｌ）、ｔ−ブチル、アセチル、テトラヒドロピラニル（Ｔ　Ｉ（Ｐ　）等で保護し得る。本発明の化合物には、多数の非対象中心が存在し得る。別記しない限り、本発明は種々の立体異性体及びその混合物を意図する。したがって、波線で示した結合は、両立体配向を意図するものとする。実施例に記載のものを包含し、しかしこれらに限定されない本発明の化合物は、動物におけるイムノモジュレート活性を有する。免疫抑制剤として、本化合物は腎臓、心臓、肺、骨髄、皮膚又は角膜移植物のような移植期間又は組織の拒否反応の治療及び／′又は防止に、そして自己免疫痰中、炎症、増殖性疾像及び過増殖情疾重、例えば慢性間接リウマチ、エリテマトーデス、全身性エリテマトーデス、多発性硬化症、重症筋無力症、１型糖尿病、ブドウ膜炎、橋本甲状腺炎、ネフローゼ症候群、屹癖、アトピー性皮膚炎、接触皮膚炎、脂漏性皮膚炎、骨髄移植による移植片対宿主病、春期用結膜炎、湿疹性皮膚炎、扁平苔癖、天庖癒、水庖性類天庖瘉、表皮水庖症、尊麻疹、血管性水腫、脈管炎、紅斑、皮膚好酸球増加症、円形脱毛症等の治療及び予防に有用であると予測される。本発明の化合物はさらに、可逆性閉塞性気道疾患の治療にも使用し得ると考えられる。さらに、本発明の化合物は腸管炎症及びアレルギーにより引き起こされる病気、例えば腹腔疾患、胃腸炎、肥満細胞症、クローン病、潰瘍性結腸炎等；そして消化管から遠く離れて症状、例えば偏頭痛、鼻炎及び湿疹が現れる食物関連性アレルギー疾患の治療に必要とされる。さらに、いくつかの化合物はＦＫ−５０６拮抗特性を有すると思われる。したがって本発明の化合物は、免疫低下又は免疫低下を伴う疾患の治療に用い得る。免疫低下を伴う疾患の例としては、エイズ、ガン、老年痴呆、外傷（創傷治癒、手術及びシジックを含む）、慢性細菌感染、及びある種の中枢神経系疾徹が挙げられる。治療される免疫低下は、免疫抑制性大環式化合物、例えば１２−（２−シクロへキンルー１−メチルビニル）−１３，１９，２１，２７−テトラメチル− １１，２８−ジオキサ−４−アザトリシクロ［２２，３，１，０’°９］オクタコス−１８−エンの誘導体、例えばＦＲ−９００５０６又ハラバマイシンの過剰投与により引き起こされる。患者によるこのような薬剤の過剰投与は、規定時間に投薬するのを忘れたことに気づいた場合に非常に普通に行われ、重篤な副作用を引き起こす恐れがある。さらに本発明の化合物を用いて免疫低下を治療するのは、ワクチン接種の場合である。疾病から免疫を獲得するために体内に導入された抗原は免疫抑制剤として作用し、そこで抗体は体内で産生されず、免疫は獲得されない。本発明の化合物を体内に導入することにより（ワクチンの場合のように）、望ましくない免疫抑制が克服され、免疫が獲得される。本発明の水性液体組成物は、自己免疫病＠（例えば円錐角膜、角膜炎、　ｄ７＋ｏｐｈｉｓ　ｅｐｉｌｈｅｌｉｘ１口ＩＯＩｎｅｇｅ　ｓ白斑、モーエン潰瘍、＋ｃｌ＋マ白目及びグレープズ眼症を含む）及び角膜移植の拒否反応上いったような眼の種々の疾患の治療及び予防に特に有用である。上記の又は他の治療に用いる場合、治療的有効量の本発明の化合物の１つを精製形態で、あるいはこのような形態が存在する場合には製薬−１−許容可能な塩、エステル又はプロトラッグ形態で用い得る。あるいは、本化合物を１つ以上の製薬上許容可能な賦形剤と組み合わせて含有する製剤組成物として本化合物を投与し得る。”治療的有効量”の本発明の化合物とは、任意の医療に対して適用可能な合理的利益／危険比で胃腸疾患を治療するのに十分な量の化合物を意味する。しかしながら、本発明の化合物及び組成物の一日の総使用量は、健全な医学的判断の範囲内で担当医師が決定すると理解されるべきである。任意の特定患者に対する個々の治療的有効用量は、治療される疾患及び疾患の重症度、使用する個々の化合物の活性、使用する個々の化合物−機前の年齢、体重、健康状態、性別及び食事、投与時間、投与経路、及び使用する個々の化合物の排泄率；治療期間；使用する化合物との併用又は同時投与薬；医薬業界で十分公知の同様の因子を含めた種々の因子に依っている。例えば、所望の治療効果を達成するためにそして所望の効果が達成されるまで用量を漸増するために必要な量より低いレベルで化合物の用量を出発させることは、当業者には十分公知である。ヒト又は下等動物に投与する本発明の化合物の総１日用量は、約０．００１〜約３　ｍ　ｇ　／　ｋ　ｇ　／日の範囲である。経口投与のためには、より好ましい用量は約０．００５〜約１．５ｍｇ／ｋｇ／日の範囲である。所望により、有効１日用量を何回かに分けて投与し得る。その結果、１回投与組成物はこのような量又は１日分を何回かに分けた量を含有する。本発明の製剤組成物は、本発明の化合物、製薬上許容可能な担体又は賦形剤を含有し、経口的、直腸的、非経口的、槽内、膣内、腹腔内、局所的（粉末、軟膏又はドロップによる）、頬内、又は口腔又は鼻腔噴霧により投与し得る。“製薬上許容可能な担体”とは、非毒性固体、半固体又は液体充填剤、希釈剤、カプセル封入物質、又は任意の補助的処方物を意味する。“非Ｈａ”という用語は、本明細書中で用いる場合は、静脈内、筋肉内、腹腔内、胸腔内、皮下及び関節内注射及び注入を示す。非経口注入用の本発明の製剤組成物は、製薬上許容可能な滅菌水性又は非水性溶液、分散液、懸濁液又は乳濁液、並びに使用直前に滅菌注射溶液又は分散液に再構成するための滅菌粉末を含有する。好適な水性及び非水性担体、希釈剤、溶媒又はビヒクルの例としては、水、エタノール、ポリオール（例えばグリセロール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール等）、カルボキシメチルセルロース及びその好適な混合物、植物油（例えばオリーブ油）、及びオレイン酸エチルのような注射用有機エステルが挙げられる。適正な流動性は、例えばレシチンのようなコーテイング物質を用いて、分散液の場合に必要な粒子サイズを保持することにより、そして界面活性剤の使用により保持し得る。これらの組成物は、アジュバント、例えば防腐剤、湿潤剤、乳化剤及び分散剤を含有してもよい。微生物の作用を防止するには、種々の抗細菌剤及び抗真菌剤、例えばパラベン、クロロブタノール、フェノールソルビン酸等を倉入するとよい。糖、塩化ナトリウム等のような等張網を含有するのも望ましい。注射製剤形態の吸収延長は、モノステアリン酸アンモニウム及びゼラチンのような吸収を遅延させる薬剤を含有することによってもたらされる。いくつかの場合には、薬剤の作用を延長させるために、皮下又は筋肉内注射により薬剤の吸収を遅らせるのが望ましい。これは、低水溶性の結晶又は非晶質物質の懸濁液を用いて達成し得る。その場合、薬剤の吸収速度はその溶解速度に、次いで結晶の大きさ及び結晶形態に依る。あるいは、非経口投与薬形態の吸収遅延は、油ビヒクル中に薬剤を溶解又は懸濁することにより達成される。注射用デボソト形態は、ポリアクチドーボリグリコリドのような生分解性ポリマー中に薬剤のマイクロカプセル封入マトリックスを形成することにより製造し得る。薬剤対ポリマーの比率、及び使用する個々のポリマーの性實により、薬剤放出速度を制御し得る。他の生分解性ポリマーの例としては、ポリ（オルトエステル）及びポリ（無水物）が挙げられる。デボブト注射用処方物は、身体組織と相溶性であるリポソーム又はミクロエマル′）シン中に薬剤を封し込めることによっても調製し得る。注射用処方物は、例えば細菌保持フィルターを通して濾過し、又は滅菌固体組成物の形態の滅菌剤を混入することにより滅菌し、これを使用直前に滅菌水又は他の溶媒に溶解又は分散し得る。経口投与用固体投与形態としては、カプセル、錠剤、ピル、粉末及び顆粒が挙げられる。このような固体形態においては、活性化合物を少な（とも１つの不活性製薬上許容可能賦形剤又は担体、例えばクエン酸士トリウム又はリン酸二カルシウム、及び／又はａ）充填剤又は増量剤、例えばデンプン、ラクトース、スクロース、グルコース、マンニトール及び珪酸、ｂ）　１合剤、例えばカルボキシメチルセル医−ス、アルジネート、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、スクロース及びアカシアゴム、Ｃ）保湿剤、例えばグリセロール、ｄ）砕解剤、寒天、炭酸カルシウム、ジャガイモ又はタピオカデンプン、アルギン酸、ある種の珪酸塩及び炭酸ナトリウム、ｅ）溶解遅延剤、例えばパラフィン、ｆ）吸収促進剤、例えば第四アンモニウム化合物、ｇ）湿潤剤、例えばセチルアルコール及びグリセロールモノステアレート、ｈ）吸収剤、例えばカオリン及びベントナイト粘土、並びに１）滑剤、例えばタルク、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、固体ポリエチレングリコール、ラウリル硫酸ナトリウム、及びそれらの混合物と混合する。カプセル、錠剤及びピルの場合は、本投与形態は緩衝剤を包含してもよい。　同様の型の固体組成物は、ラクトース又は乳糖、並びに高分子ポリエチレングリコール等のような賦形剤を用いて軟質及び硬質充填ゼラチン中の充填剤賭して用い得る。固体投与形態の錠剤、糖衣錠、カプセル、ピル及び顆粒は、製剤処方業界で十分公知の腸溶性コーティング及び他のコーティングのようなコーティング及びシェルを用いて調製し得る。それらは不透明剤を任意に含有し得るし、任意に遅延方式で腸胃のある部分でのみ又は優先的にそれらが活性成分を放出する組成物であってもよい。使用し得る包埋組成物の例としては、高分子物質及び蝋が挙げられる。活性化合物は、適切な場合には１つ以上の上記の賦形剤を有するマイクロカプセル封入形態であり得る。経口投与用液体投与形態としては、製薬上許容可能な乳濁液、溶液、懸濁液、シロップ及びエリキシルが挙げられる。活性化合物の他に、液体投Ｉｊ形態は、当業界で普通に用いられる不活性希釈剤、例えば水又は他の溶媒、可溶化剤及び乳化剤、例えばエチルアルコール、イソプロピルアルコール、炭酸エチル、酢酸エチル、ベンンルアルコール、ベンジル安息香酸塩、プロピレングリコール、１．３−ブチレングリコール、ジメチルホルムアミド、油（特に繞実、落花生、コーン、胚芽、オリーブ、ヒマシ及びゴマ油）、グリセロール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ポリエチレングリコール及びソルビタンの脂肪酸エステル、並びにその混合物を含有し得る。不活性希釈剤の他に、経口組成物はさらにアジュバント、例えば湿潤剤、乳化及び懸濁剤、甘味剤、風味剤並びに香料を含有し得る。懸濁液は、活性化合物の他に、懸濁剤、例えばエトキシル化イソステアリルアルコール、ポリオキシエチレンソルビトール及びソルビタンエステル、微品質セルロース、アルミニウムメタヒドロキシド、ベントナイト、寒天及びトラガヵントゴム、並びにその混合物を含有し得る。局所投与としては、肺及び眼の表面を含めた皮膚又は粘膜への投与が挙げられる。局所投与用組成物は、吸入用のものを含めて、加圧又は非加圧乾燥粉末として調製し得る。非加圧粉末組成物の場合、微細分割形態の活性成分を、例えば直径１ｏ。マイクロメートルまでの大きさの粒子を含有する大型製薬上許容可能不活性担体と混合する場合に用い得る。好適な不活性担体としては、乳糖のような等が挙げられる。望ましくは、少なくとも９５重量％の活性成分の粒子が０．０１〜１０マイクロメートルの範囲の有効粒子サイズを有する。あるいは、組成物は加圧され、圧縮ガス、例えば窒素又は液化ガス噴射剤を含有し得る。液化噴射媒質及びそして実際は総組酸物は、好ましくは活性成分がある程度その中に溶解しないようなものである。加圧組成物は界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤は液体又は固体非イオン性界面活性剤であるか、又は固体陰イオン性界面活性剤である。ナトリウム塩の形態の固体陰イオン界面活性剤を用いるのが好ましい。局所投与の別の形態は、自己免疫疾患、アレルギー又は炎症症状、及び角膜移植のような眼の免疫介在症状の治療用として眼に投与する形態である。本発明の化合物は、製薬−Ｌ許容可能な眼用ビヒクル中に、例えば前眼房、後眼房、硝子体、眼房水、硝子体液、角膜、虹彩／毛様体、レンズ、脈絡膜／網膜及び強膜のような眼の角膜及び内部領域に化合物を浸透させるのに十分な時間、化合物が眼表面との接触を保持するように供給される。製薬−Ｅ許容可能な眼用ビヒクルは、例えば軟膏、植物油又はカプセル封入物質である。直腸又は膣投与用組成物は、好ましくは、本発明の化合物を好適な非刺激性賦形剤又は担体、例えばココアバター、ポリエチレングリコール又は十薬蝋と混合することにより調製し得る十薬であって、これは室温では固体であるが体温では液体で、したがって直腸又は膣腔中で溶融して活性化合物を放出する。本発明の化合物はさらに、リポソームの形態で投与し得る。当業界で公知のように、リポソームは一般にリン脂質又は他のｉｔ物質から得られる。リポソームは、水性媒質中に分散される単又は多層水和液体結晶により生成される。リポソームを生成し得る任意の非毒性生理学的許容可能及び代謝性脂質を用い得る。リポソーム形態の本発明の組成物は、本発明の化合物の他に、安定剤、防腐剤、賦形剤等を含有し得る。好ましい脂質は、天然及び合成のリン脂質及びホスファチジルコリン（レシチン）である。リポソーム生成頬は、当業界で公知である。例えば、Ｐｒｅｓｃｏｔｔ、Ｅｄ、、Ｍｅｔｈｏｄｓ　ｉｎ　Ｃｅ１ｌ　Ｂｉｏｌｏｇｙ、Ｖｏｌｕｍｅ　ＸＩＶ、ＡｃａｄｅｍｉｃＰｒｅｓｓ、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、Ｎ、Ｙ、（１９７６）＋ｐ、ａａ　ｅｔ　ｓｅｑ、を参照のこと。本発明の化合物は、下記の１つ以上の方法を用いて調製し得る。これらの方法に用いるための出発物質は、好ましくはストレプトミセス属の微生物の発酵により公知の方法に従って得られた培地から単離したマクロライドの１つであって、これは欧州特許出願第０１８４１６２号に開示されている。標本は、寄託番号ＦＥＲＭ　ＢＰ−９２７として、ブダペスト条約の規定に従って茨城県っ（ば市のＦｅｒｍｅｎｔａｔｉｏｎＲｅｓｅａｒｃｈ　Ｉｎ５ｔｉｔｕｔｅから入手し得る。この株は１９８９年４月２７日に寄託番号ＮＲＲＬ　１８４８８としてブダペスト条約の規定に従ってＡｇｒｉｃｕｌｔｕｒａｌ　Ｒｅ５ｅａｒｃｈ　Ｃｕ１ｔｕｒｅ　Ｃｏ１１ｅｃｔｉ。ｎ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｄｅｐｏｓｉｔｏｒｙ、Ｐｅｏｒｉａ、ｌ１ｌｉｎｏｉｓ　６１６０４．ＵＳＡに再寄託した。アスコマイシンとしても公知のマクロライドＦＲ−９００５２０（欧州特許出願第０１８４１６２号）は、（ｉ）Ｈ。Ｈａｔａｎａｋａ、Ｍ、Ｉｗａｍｉ、Ｔ、Ｋｉｎｏ、Ｔ、Ｇ。ｔｏ　ａｎｄ　Ｍ、０ｋｕｈａｒａ、ＦＲ−９００５２０ａｎｄ　ＦＲ−９００５２３，Ｎｏｖｅｌ　ｉｍｍｕｎｏｓｕｐｐｒｅｓｓａｎｔｓ　１ｓｏｌａｔｅｄ　ｆｒｏｍ　Ａ　ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ、Ｉ、Ｔａｘｏｎｏｍｙ　ｏｆ　ｔｈｅｐｒｏｄｕｃｉｎｇ　５ｔｒａｉｎ、Ｊ、Ａｎｔｉｂｉｏｔ、。１９８８、ＸＬＩ（１１）、１５８６−１５９１；　（ｉｉ）Ｉｌ、Ｈａｔａｎａｋａ、Ｔ、Ｋｉｎｏ、Ｓ、Ｍｉｙａｔａ、Ｎ。Ｉｎａｍｕｒａ、Ａ、Ｋｕｒｏｄａ、Ｔ、Ｇｏｔｏ、Ｈ，Ｔａｎａｋａ　ａｎｄ　Ｍ、０ｋｕｈａｒａ、ＦＲ−９００５２０ａｎｄ　ＦＲ−９００５２３，Ｎｏｖｅｌ　ｉｍｍｕｎｏｓｕｐｐｒｅＳＳａｎｔｓ　１ｓｏｌａｔｅｄ　ｆｒｏｍ　Ａｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ、Ｉｉ　Ｆｅｒｍｅｎｔａｔｉｏｎ。１ｓｏｌａｔｉｏｎ　ａｎｄ　ｐｈｙｓｉｃｏ−ｃｈｅｍｉｃａｌ　ａｎｄ　ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ　ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓ、Ｊ、Ａｎｔｉｂｉｏｔ、、１９８８．　ＸＬｒ　（１１）、１５９２−１６０１；　（ｉ　ｉ　ｉ）Ｔ、Ａｒａｉ、Ｙ、Ｋｏｙａｍａ、Ｔ、Ｓｕｅｎａｇａ　ａｎｄ　Ｈ，Ｈｏｎｄａ。Ａｓｃｏｍｙｃｉｎ、Ａｎ　Ａｎｔｉｆｕｎｇａｌ　Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃ、Ｊ、Ａｎｔｉｂｉｏｔ、、１９６２．　１５　（）２３１−２；及び（ｉｖ）米国特許第３，２４４，５９２号（Ｔ、Ａｒａｉ）の発表済方法に従って調製し得る。次いで、下記の１つ又はそれ以上の方法を用いて本発明の所望の化合物を生成し得る。このような方法は以下の工程を包含する。（ａ）対応する化合物の選択ＣＨ−ＯＲ基の選択的活性化により、ＣＩ　−ＯＲ基を含有する式１−ＶＩＩＩの化合物を生成する（ここで、−ＯＲは核性作用により容易に置換される脱離基である）。（ｂ）対応する化合物の−ＯＲ基の選択的置換により、ＣＨＮ３基を含有する式１−Ｖｌ１１の化合物を生成する。（ｃ）対応する化合物のＣＩ　−Ｎ　３基の選択的還元により、ＣＩ（−、−Ｎ　Ｈ２基を含有する弐１−Ｖｒｌ［の化合物を生成する。（ｄ）対応する化合物のＣＨ−Ｎ　Ｈ２基の選択的アシル化により、ＣＩ−（− Ｎ　ＨＣＯＲ基を含有する式１−ＶＩＭの化合物を生成する（ここで、Ｒは水素、アリール、アリールアルキル、アルキル、複素環式、複素環式アルキル、シクロアルキル及びシクロアルキルフルキルから選択される）。（ｅ）対応する化合物のＣＨ−Ｎ　Ｈ２基の選択的アルキル化ニヨリ、Ｃ１１− ＮＲ’　Ｒ２基を含有１６式１−Ｖ　Ｔ　Ｔ　ｔの化合物を生成する（ここで、Ｒ及びＲ２は水素、アリール、アリールアルキル、アルキル、複素環式、複素環式アルキル、シクロアルキル及びシクロアルキルアルキルから選択される）。（ｆ）対応する化合物のＣＨ−Ｎｌ２基からの選択的ウレア又はチオウレア生成により、Ｃ１１−ＮＩＩＣ（＝Ｘ）ＮＨ−Ｒ基を含有する式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する（ここで、Ｒは水素、アリール、アリールアルキル、アルキル、複素環式、複素環式アルキル、シクロアルキル及びシクロアルキルアルキルから選択され、Ｘは酸素又はイオウである）。（ｇ）対応する化合物のＣＨ−Ｎ　Ｈ２基の選択的スルホニル化ニヨリ、Ｃ１１ −ＮＨ５Ｏ２Ｒ基を含有する式ｒ−Ｖｌ１１（７）化合物を生成する（ここで、Ｒはアリール、アリールアルキル、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、複素環式アルキル及び複素環式から選択される）。（ｈ）対応する化合物のＣＩ　−Ｎ　Ｈ２基からの選択的カルバメート生成により、ＣＩ−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ基を含有する式１−ＶＭＩの化合物を生成する（ここで、Ｒはアリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキル、複素環式アルキル、複素環式及びアリールアルキルから選択される）。（ｉ）対応する化合物のＣＨ−Ｎ　８２基からの選択的グアニジニウム生成により、ＣＩ−ＮＨ−Ｃ（＝ＮＨ）Ｎｌ２基を含有する式１−ＶＴＩ＋の化合物を生成する。（ｊ）対応する化合物のＣＨ−Ｎ　Ｈ２基の選択的スルフェニル化ニヨリ、ＣＩ −Ｎ　Ｈ−Ｓ　Ｒ基を含有する式１−ＶＩＭの化合物を生成する（ここて、Ｒはアリール、アリールアルキル、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、複素環式アルキル、及び複素環式から選択される）。（ｋ）対応する化合物のＣＩ　−ＯＲ基の選択的ハロゲン化により、ＣＨ−Ｘ基を含有する式！−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する（ここで、Ｘは塩素、臭素、フッ素及びヨウ素から選択される）。（１）対応する化合物のＣＩ−Ｘ基の選択的ホスホン酸エステル生成により、ＣＩ−Ｐ　（０）（ＯＲ）、、基を含有する式ＩＶｌｌ＋の化合物を生成する（ここで、Ｒはアルキル、アリールアルキル及びアリールがら選択される）。（ｍ）対応する化合物のＣＩ−〇　Ｒ基の選択的リン酸化により、Ｃ１ｌ−０− Ｐ　（０）（ＯＲ）２基を含有する式１−Ｖｌ＋１の化合物を生成する（ここで、Ｒはアルキル、アリールアルキル及びアリールから選択される）。（ｎ）対応する化合物のＣＨ−ＯＨ基の選択的チオエーテル生成により、Ｃｌｌ −８−Ｒ基を含有する式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する（ここで、Ｒはシクロアルキル、シクロアルキルアルキル、複素環式、複素環式アルキル、アルキル、アリールアルキル及びアリールから選択される）。（ｏ）対応する化合物のＣＨ−０１（基の選択的アリール−又はアルキルオキシチオカルボニル化により、ＣＨ−０−Ｃ（＝Ｓ）−ＯＲ基を含有する式１−ＶＩＩ＋の化合物を生成する（ここで、Ｒはシクロアルキル、シクロアルキルアルキル、複素環式、複素環式アルキル、アルキル、アリールアルキル及びアリールから選択される）。（ｐ）対応する化合物の１つ以上のＣＩ　−ＯＲ基の選択的エーテル生成により、１つ以上のＣＨ−０−Ｒ基を含有する式■−Ｖｒｌｌの化合物を生成する（ここで、Ｒはシクロアルキル、シクロアルキルアルキル、複素環式、複素環式アルキル、アルキル、アリールアルキル、アリール、低級アルコキシカルボニルアルキル、アリールアルコキシカルボニルアルキル及びアリールアルキルカルボニルアルキルから選択される）。（ｑ）対応する化合物のＣＨ−Ｎ　Ｈ２基を用いた選択的環状イミド生成により、Ｃ１１−（ｌｉｔ換）フタルイミド基を含有する式１−Ｖｌｌｌの化合物を生成する。輸）対応する化合物のＣ）Ｉ　−Ｎ　Ｈ２基からの選択的ホスフィンアミド生成により、ＣＨ−ＮＨ−Ｐ　（＝Ｙ）Ｒ２基を含有する式１−Ｖｌｌｌの化合物を生成する（ここで、Ｒはフェニル又は置換フェニルであり、Ｙは酸素又はイオウである）。（Ｓ）対応する化合物のＣＨ−Ｎ　Ｈ２基からの選択的ホスホラミド生成により、ＣＨ−Ｎ−Ｐ　（＝Ｙ）（ＯＲ）　２基を含有する式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する（ここで、Ｒはフェニル、アリールアルキル又は置換フェニルであり、Ｙは酸素又はイオウである）。（１）対応する化合物のＣ１１−０−Ｃ（＝Ｓ）　−ＯＲ基の選択的脱酸素化により、Ｃ１１２基を含有する式１−ＶＩ目の化合物を生成する。（ｕ）対応する化合物のＣＩ　（ＯＨ）−ＣＡ１２−Ｃ（＝Ｏ）菓の選択的酸化により、Ｃ（ＯＨ）＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）又ハｃ（＝０）−Ｃ１１２−Ｃ（＝Ｏ）基を含有する式１−Ｖｌｌｌの化合物を生成する。（Ｖ）対応する化合物のＣ（０１１）＝ＣＨ−Ｃ（−〇）又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ２−Ｃ（＝０）基の選択的アルキル化により、Ｃ（＝０）−ＣＲＩＲ２−Ｃ（− 〇）基を含有する式■−ＶＩ＋１の化合物を生成する（ここで、Ｒ及びＲ２は水素、アリ−ル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキル、複素環式アルキル、複素環式及びアリールアルキルから独立に選択されるが、しかし両方が水素ではあり得ない）。（Ｗ）対応する化合物（７）　Ｃ（ＯＨ）　＝　Ｃ［１−Ｃ（＝　Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ２−Ｃ（＝０）基の選択的ハロゲン化により、Ｃ（＝Ｏ）　−ＣＲ ’　Ｒ２−Ｃ（＝Ｏ）Ｘを含有する式１−Ｖ　Ｉ＋＋の化合物を生成する（ここで、Ｒ１及びＲ２は独立にフッ素、塩素、臭素及びヨウ素から選択される）。（ｘ）対応する化合物のＣ（ＯＨ）＝ＣＩＩ−Ｃ（−〇）又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）基の選択的酸化により、Ｃ（＝Ｏ）　−ＣＨ（ＯＨ）−Ｃ（＝Ｏ）基を含有する式１−Ｖ１１■の化合物を生成する。（Ｚ）対応する化合物のＣ（ＯＨ）＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ２ −Ｃ（＝Ｏ）基の選択的ジアゾ化により、ｃ　（＝Ｏ）−Ｃ（Ｎ２）　−Ｃ（＝Ｏ）基を含有する式１−ＶＩＩ＋の化合物を生成する。（ａ　ａ）対応する化合物のＣ（ＯＨ）＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）基の選択的オレフィン化により、Ｃ（＝ＣＩ−Ｒ）−ＣＨ２− Ｃ（＝Ｏ）基を含有する式１−ＶＴＩ＋の化合物を生成する（ここで、Ｒは低級アルキル及びアリールアルキルから選択される）。（ｂ　ｂ）対応する化合物（７）Ｃ（ＯＨ）＝ＣＨ−Ｃ（＝０）又はＣ（＝Ｏ） −ＣＨ２−Ｃ（、＝０）基の選択的ｏ−アシル化により、Ｃ（ＯＣＯＲ）＝ＣＨ −Ｃ（＝Ｏ）基を含有する式■−Ｖｌｌｌの化合物を生成する（ここで、Ｒはアリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキル、複素環式アルキル複素環式及びアリールアルキルから選択される）。（ｃ　ｃ）対応する化合物のＣ（０１（）＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）− ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）基の選択的アミン化により、Ｃ（ＮＨ−Ｒ）＝Ｃ）ｉｃ　（＝Ｏ）基を含有する式１−Ｖｌｌｌの化合物を生成する（ここで、Ｒはアルキルアミン、アリールアルキルアミン、アリールアミン及びアミノ酸誘導体から選択される）。（ｄ　ｄ）対応する化合物のｃ　（ｏＯ５＝ＣＩ−Ｃ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｏ）− ＣＨ２−ＣＣ＝Ｏ）基の選択的アルキリデン生成により、Ｃ（Ｏ）　−Ｃ（冨ＣＩ−Ｒ）　−Ｃ（＝Ｏ）基を含有する弐１−ＶＩ１１の化合物を生成する（ここで、Ｒは水素、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキル、複素環式アルキル、複素環式、及びアリールアルキルから選択される）。（ｅｅ）対応する化合物からのＩＩ　Ｌの排除により、炭素−炭素り重結合を含有する式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する（ここで、■、は脱離基である）。（ｆｆ）対応する化合物の１．２−ジカルボニル又は遮蔽１゜２−ジカルボニル基と適切な芳香族ジアミンとの縮合により、キノキサリン、ベンゾキノキサリン、ピペラジノ　［２，３−ｄ］ピリダジン、ピリド［３，４−ｂ］　ピラジン又はプテリジンを含有する式１−Ｖｌｌｌの化合物を生成する。（ｇ　ｇ）対応する化合物の１つ以上のＣ−＝０基の選択的還元により、１つ以上のヒドロキシル基を含有する式１−Ｖｌｌｌの化合物を生成する。（ｈｈ）対応する化合物のアルファー、ベータ不飽和ケトンと適切な２−アミノチオフェニルとを反応させることにより、１つのジヒドロベンゾ［１，５］チアゼピンを含有する式！−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（１１）対応する化合物の１つ以上のヒドロキシル基の選択的酸化により、１つ以−ヒのカルボニル基を含有する式■−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（ｊ　ｊ）対応する化合物のカルボニル基の１つとジチオールとの選択的反応により、式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（ｋ　ｋ）対応する化合物の１つのカルボニル基とヒドロキシルアミン又は０− アルキル化ヒドロキシルアミンとの選択的反応により、オキシム基を含有する式＋−ｖｒｉｒの化合物を生成する。（１１）対応する化合物の１．３−ジカルボニル基と適切なヒドラジンとの縮合により、ピラゾール系を含有する弐１−ＶＩＩ＋の化合物を生成する。（ｍｍ）対応する化合物の１．３−ジカルボニル基と適切なアミジン、グアニジン、イソウレア、ウレア及びチオウレアとの縮合により、置換ピリミジン系を含有する式１−ＶＴ　ｒ　１の化合物を生成する。（ｎ　ｎ）対応する化合物の１，３−ジカルボニル基と適切なジアゾ酢酸エステル又はジアゾメチルケトンとの反応により、フラン系を含有する式１−Ｖｌｌｌの化合物を生成する。（ｏＯ）対応する化合物の１，３−ジカルボニル基とヒドロキシルアミンとの縮合により、イソキサゾール系を含有する式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（ｐｐ）対応する化合物の１．３−ジカルボニル基と適切なマロン酸誘導体又はシアノ酢酸誘導体との縮合により、ピリジン系を含有する式１−ＶＴ１１の化合物を生成する。（ｑ　ｑ）対応する化合物の１．３−ジカルボニル基と適切な２−アミノチオフェノール、２−アミノフェノール及び１．２−芳香族ジアミンとの縮合により、ベンゾ［１，］］チアゼピン、ベンゾ［１，５］オキサゼピン又はベンゾ［１，５］　ジアゼピン系を含有する式１−Ｖｌｌｌの化合物を生成する。（ｒ　ｒ）対応する化合物の１．３−ジカルボニル基と適切なアルデヒド及びエノールエーテルとの反応により、ケト置換フラン系を含有する式！−Ｖｌ１１の化合物を生成する。（ｓ　ｓ）対応する化合物の１．３−ジカルボニル基の適切な１−ハロー２−二トロ芳香族基によるＣ−アリール化により、置換フェニル基を含有する式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（ＵＵ）エノンへのニトリルオキシド１，３−二極性シクロ付加により、２−イソオキサゾリンを含有する式１−Ｖｆｌｌの化合物を生成する。（ｚ　ｚ）対応する２−イソキサゾリンの還元的加水分解とその後の２つの化合物の分離により、ベーターヒドロキシケトン又はアルファ、ベーターエノンを含有する式１−Ｖｒｌｌの化合物を生成する。（ｅ　ｅ　ｅ）対応するケトンによる選択的ヒドラゾン生成により、ヒドラゾンを含有する式１−Ｖｌｌｌの化合物を生成する。（ｆｆｆ）トリカルボニル部分を含有する対応する化合物の選択的求核性付加及びその後のベンジル酸型転位により、アルファーヒドロキシ、ベーターケト酸又はエステルを含有する式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（ｇｇｇ）対応する化合物から得られたベンジル酸転位生成物質の選択的酸化的開裂により、１．２−ジカルボニル系を含有する式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（ｈｈｈ）対応するエノンの選択的還元により、アリル系アルコールを含有する弐１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（ｉ　ｉ　ｉ）活性化カルボニルと交叉してジアゾメタンから生じるカルベンの選択的付加により、エポキシドを含有する式Ｉ−Ｖ■ＩＩの化合物を生成する。（ｊ　ｊｊ）対応する化合物の選択的エステル開裂により、カルボン酸を含有する式１−、、、　Ｖ　Ｉ　Ｉ　＋の化合物を生成する。（ｋ　ｋ　ｋ）対応するアミンと対応するカルボン酸との選択的縮合により、置換又は非置換カルボキサミドを含有する式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（ｌ　Ｉ　＋）天然２４Ｓ配置の選択的反転により２４Ｒ−ヒドロキシ置換基を含有する式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（ｍｍｍ）アルキルカルバゼートとケトンを有する式■−ＶＴ１１の対応する化合物との選択的縮合により、アルコキシカルボニルヒドラジンを含有する式１− Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（ｎ　ｎ　ｎ）　３２−オキソーアスコマイシン又は関連類似化合物の選択的Ｃ −アシル化により、Ｃ−３３−アルキルカルボニル又はポリハロアルキルカルボニル置換基を含有する式１−ＶＭｌの化合物を生成する。（ｏ　ｏ　ｏ）　３２−オキソーアスコマイシン又は関連類似化合物の誘導体の選択的ジアゾ化により、３３−ジアゾ部分を含有する式１−Ｖｌ１１の化合物を生成する。（ｐ　ｐ　ｐ）対応する化合物のアルファー置換カルボニル又はアルファ置換遮蔽カルボニル基と適切なチオアミド又はジチオカルバミン酸との縮合により、チアゾールを含有する式１−ＶＩＩＩの化合物を生成する（ここで、アルファ置換基りは脱離基である）。（ｑ　ｑ　ｑ）対応する化合物のアルファー置換カルボニル又はアルファ置換遮蔽カルボニル基と適切なアミジン、イソウレア又はグアニジンとの縮合により、１つのイミダゾールを含有する式［−ＶＩＴＩの化合物を生成する（ここで、置換基りは脱離基である）。（ｒ　ｒ　ｒ）対応する化合物のアルファー置換カルボニル又はアルファ置換遮蔽カルボニル基と適切なアミドとの縮合により、１つのオキサゾールを含有する式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する（ここで、置換基りは脱離基である）。（ｓ　ｓ　ｓ）グリニヤール試薬又は有機命属試薬の対応する化合物のカルボニル部分への選択的付加により、第三アルコールを含有する式■−■■■■の化合物を生成する。（ｔ　ｔ　Ｂ工程（ｓ　ｓ　ｓ）により調製した対応する化合物の適切なガンマ −アミノアルファヒドロキシカルボニル又は遮蔽ガンマ−アミノアルファヒドロキシカルボニルの環化により、１つのビロールを含有する式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（ＬＩＩＪＩＪ）対応する化合物の１．２−ジカルボニル又は遮蔽１．２−ジカルボニル基と適切な１．２−ジアミンとの酸化剤存在ドでの縮合により、１つのピラジンを含有する式１−Ｖ１１１の化合物を生成する。（ｖ　ｖ　ｖ）対応する化合物の工程（Ｓ　Ｓ　Ｓ）で調製した１゜５−ジカルボニル基とアンモニアとの縮合により、１つのピリジンを含有する式■−Ｖ　Ｉ　Ｉ　＋の化合物を生成する。（ｗ　ｗ　ｗ　）対応する化合物の工程（ｓ　ｓ　ｓ）で調製した１゜４−ジカルボニル基とヒドラジンとの縮合により、１つのピリダジンを含有する式１−Ｖｌｌｌの化合物を生成する。（Ｘ　Ｘ　Ｘ）対応する化合物の１．２−ジオールと、チオカルポニルジイミダゾー又は適切に活性化されたチオカルボネートとの反応により、１．２−チオカルボネートを含有する式夏−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（ｙ　ｙ　ｙ）対応する化合物の１．２−ジオールと、カルボニルジイミダゾール、トリホスゲン、ホスゲン又は適切に活性化されたカルボネートとの反応により、１．２−カルボネートを含有する式１−ＶＩＭの化合物を生成する。（２２２）対応する化合物の１．２−ジオールと、適切なアルコホスホニルジクロリドとの反応により、１．２−ホスホネートを含有する式ｆ−Ｖｒｌｌの化合物を生成する。（ａ　ａ　ａ　ａ）対応する化合物の工程（ＸＸＸ）により調製した１、２−チオカルボネートの還元により、オレフィンを含有する式！−ＶＩＩＴの化合物を生成する。（ｂ　ｂ　ｂ　ｂ）対応する化合物の１，２−ジカルボニル又は遮蔽１．２−ジカルボニルの選択的還元により、Ｃ１１２基を含有する式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（ｃ　ｃ　ｃ　ｃ）対応する化合物の２−（０−ニトロフェニル）−１，３−ジケトン［工程（Ｓ　Ｓ）により調製］の選択的還元及び縮合により、インドール基を含有する式ｒ−Ｖｌｌｌの化合物を生成する。（ｄ　ｄ　ｄ　ｄ）対応する化合物のＣ）（−Ｎ３基の適切なアセチレン類似化合物を用いたシクロ付加により、置換トリアゾール基を含有する式■−・Ｖｌｌｌの化合物を生成する。（ｅ　ｅ　ｅ　ｅ）対応する化合物のＣＩ　−Ｎ　Ｈ２基と適切なジカルボニル化合物との反応により、置換ピロール基を含有する式！−Ｖｒｌｌの化合物を生成する。（、ｆ　ｆ　ｆ　ｆ）アリル基の二重結合のビシナルジオールへの選択的酸化と、その後の対応する化合物のジオールの酸化的開裂により、１つのエタナリル基を含有する式１−Ｖｌ　１１の化合物を生成する。（ｇ　ｇ　ｇ　ｇ）対応する化合物のエタナリル基の選択的酸化により、１つのカルボキシメチル基を含有する式１−Ｖｌ１１の化合物を生成する。（ｈ　ｈ　ｈ　ｈ　）対応する化合物のカルボキシメチル基のエステル化により、１つのアルキルカルボキシメチル基を含有する式ＩＶＩＩ＋の化合物を生成する。（ｉ　ｊ　ｉ　ｉ）対応する化合物のアリル基の二重結合の選択的シクロプロパン化により、１つのシクロプロピルメチル基を含有する式１−ＶＭＩの化合物を生成する。（ｊｊｊｊ）Ｌ　４−ジカルボニル基と対応する化合物のアミンとの反応により、１つのピロールを含有する式１−Ｖ１１■の化合物を生成する。（ｋ　ｋ　ｋ　ｋ）対応する化合物の１．４−ジカルボニル基の環化により、１つのフランを含有する式Ｔ−Ｖ［Ｉ＋の化合物を生成する。（ｌ　Ｉ　Ｉ　１）対応する化合物のアリル基の二重結合の運休的酸化により、１つのメチルケトンを含有する式１−Ｖｌｌｌの化合物を生成する。（ｍｍｍｍ）対応する化合物のアルファーメトキシシクロヘキサノンのオキシム誘導体のベックマンのフラグメンテーシタン化により、シアノ基を含有する弐ｒ −ｖｒｚの化合物を生成する。（ｎ　ｎ　ｎ　ｎ）対応するヒドラゾンの還元により、ヒドラジド基を含有する式ｒ　−Ｖ　Ｉ　Ｉ　＋の化合物を生成する。（ＯＯＯＯ）対応するオキシムの還元により、アミンを含有する式１−Ｖｌｌ＋の化合物を生成する。（ｐ　ｐ　ｐ　ｐ）対応するアルファ、ベーター不飽和エノンの還元により、アルファ、ベーター飽和ケトンを含有する式１−ＶＭｌの化合物を生成する。（Ｑ　Ｑ　Ｑ　Ｑ）ベーターヒドロキシオキシムを脱水試薬で処理することにより、イソキサゾリンを含有する式ｒ−Ｖｌ１１の化合物を生成する。（ｒ　ｒ　ｒ　ｒ）カルボニルを別のカルボニル部分の存在下で塩基で処理することにより、ベーターヒドロキシカルボニルを含有する式１−Ｖｌｌｌの化合物を生成する。（ｓ　ｓ　ｓ　ｓ）エノン系を塩基の存在下でグリシンイミンで処理して先ずベータ炭素でのＭｉ　ｃｈａｅ　Ｉ付加をそしてその後の水処理でイミン生成を引き起こすことにより、環状イミンを含有する式ｔ−ｖｒｒｔの化合物を生成する。（１１１１）エノンを適切な触媒の存在下でグリシンイミンで処理して１．３− 二極性シクロ付加を誘発することにより、置換ピロールを含有する式１−Ｖｌ１１の化合物を生成する。（ｕ　ｕ　ｕ　ｕ）アルファージアゾケトンを光又は熱で分解することにより、ベーターケトカルボン酸、エステル又はアミドを含有する式１−ＶＩＩ＋の化合物を生成する。（ｖ　ｖ　ｖ　ｖ）加熱により、ベーターケトカルボン酸の脱カルボキシル化の生成物質であるケトンを含有する式１−ＶＩＩＴの化合物を生成する。工程（ａ）においては、アルコールの活性化に好適な試薬としては、無水酢酸、無水トリフルオロメタンスルホン酸（無水トリフリック）、塩化メタンスルホニル（塩化メシル）、塩化ｐ−）ルエンスルホニル（塩化トシル）、無水トリフルオロ酢酸、塩化トリフルオロアセチル、フッ化メトキシスルホニル（マジックメチル）、塩化０−ニトロベンゼンスルホニル、１−メチル−２−フルオロピリジニウム塩等が挙げられる。活性化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、クロロホルム又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはその混合物）中で実施する。反応は、選択する活性化法により冷却又は加熱を要する。さらに、反応は好ましくは有機又は無機塩、例えばアルカリ土類金Ｒ（例えばカルシウム等）、アルカリ金属水素化合物（例えば水素化ナトリウム等）、アルカリ金属水酸化物（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、アルカリ余興炭酸塩（例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム笠）、アルカリ金属炭酸水素塩（例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）、アルカリ金属アルコキシド（例えばナトリウムメトキンド、ナトリウムエトキンド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等）、アルカリ金属アルカノン酸（例えば酢酸ナトリウム等）、トリアルキルアミン（例えばトリエチルアミン等）、ピリジン化合物（例えばピリジン、ルチジン、ピコリン、４−Ｎ。Ｎ−ジメチルアミノピリジン等）、キノリン等の存在下で、好ましくは有機塩基、例えばトリエチルアミン又はピリジンの存在下て実施する。活性化はさらに、炭素中心で反対配置を有する出発物質を用いて実施する。この場合、エピマー性ヒドロキシル部分を有する出発物質を生成するには下記の２つの付加的工程を要する。即ち（１）アルコールをその対応するケトンに酸化し、（２）生成したケトンを選択条件下で還元する。［Ｒ］−又は［Ｓ］−配置を有するキラル中心はいずれも、選択的且つ独立に得られる。一■−稈（ｂ）では、好適なアジド試薬としては、十分既知のアルカリ金属アジド、例えばクラウンエーテル存在下又は不存在Ｆでのアジ化ナトリウム又はリチウム（Ｎ　ａ　Ｎ　３又は１−　＋　Ｎ　３　）　、より反応的なアジ化テトラアルキルアンモニウム（Ｄａｎｉｓｈｅｆｓｋｉ、Ｓ、Ｊ、；ＤｅＮｉｎｎｏ、Ｍ。Ｐ、；Ｃｈｅｎ、Ｓ、Ｈ，Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、１９８８．１１０．３９２９）、銅−補佐アシト反応（Ｙａｍａｍｏｔｏ、Ｙ、；Ａｓａｏ、Ｎ、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、１９９０．５５．５３０３）及びアジ化水素−アミン系（Ｓａｉｔｏ。Ｓ、；Ｙｏｋｏｙａｍａ、Ｈ，；　Ｉｓｈｉｋａｗａ、Ｔ、；Ｎｉｗａ、Ｎ、；Ｍｏｒ　ｉｗａｋｅ、Ｔ、Ｔｅ　ｔ　ｒａｈｅｄｒ。ｎ　Ｌｅｔｔ、１９９１．３２．６６３及び６６７）が挙げられる。アジド置換反応は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン、ジメチルスルホキシド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホラミド等、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（Ｃ）では、反応は触媒的に水素を用いて実施する。好適な触媒としては、プラチナ触媒（例えば酸化プラチナ、プラチナブラック）、パラジウム触媒（例えば酸化パラジウム、パラジウムオンチャコール、パラジウムブラック、水酸化パラジウムオンチャコール、鉛で毒性を付したパラジウムオン炭酸カルシラｌ１、キノリンを伴うパラジウムオン炭酸バリウム）、ニッケル触媒（例えば、酸化ニッケル、ラネーニッケル）、ロジウム触媒（例えばロンラムオンアルミナ）が挙げられるが、これらに隔定されない。還元は、金属還元試薬（Ｓｃｒｉｖｅｎ。Ｅ、Ｆ、Ｖ、；　Ｔｕ　ｒｎｂｕ　Ｉ　ｌ、に、Ｃｈｅｍ、Ｒｅｖ。１９８８．８８，３２１：Ｐａｔａｉ、Ｓ、、Ｅｄ、。 ”Ｔｈｅ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ａｚｉｄ。Ｇｒｏｕｐ、”Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ　Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、１９７１；５ｃｒｉｖｅｎ、Ｅ、Ｆ。Ｖ、Ｅｄ　、　”Ａｚｉｄｅｓ　ａｎｄ　Ｎ１ｔｒｅｎｅｓＲｅａｃｔｉｖｉｔｙ　ａｎｄ　Ｕｔｉｌｉｔｙ、”Ａｃａｄｅｍｉｃ　Ｐｒｅｓｓ、Ｉｎｃ、、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ。１９８４参照）、例えば相転移条件下でのホウ水素化ナトリウム、イオン交換樹脂−七に支持されたホウ化水素、水素化リチウムアルミニラ１１等、さらに１．３−プロパンジチオール−トリエチルアミン法（Ｂａｙｌｅｙ、Ｈ，；Ｓｔａｕｄｒｉｎｇ。Ｄ、Ｎ、：Ｋｎｏｗｌｅｓ、Ｊ、Ｒ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ■、ｅｔｔ、１９７８．３６３３）、トリフェニルホスフィン（Ｖａｕｌ　ｔ　ｉｅｒ、Ｍ、；Ｋｎｏｕｚｉ、Ｎ、；Ｃａｒｒｉｅ、Ｒ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ。１９８３．２４．７６３）、及び水素化ナトリウムテルリウム（Ｓｕｚｕｋｉ、Ｈ，；Ｔａｋａｏｋａ、に、Ｃｈｅｍ。Ｌｅｔｔ、Ｌ９８４．１７３３）を用いて実施する。還元は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アルコール、水、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（ｄ）では、好適なＮ−アンル化は、対称無水カルボン酸、カルボン酸ハロゲン化物、混合無水炭酸−カルボン酸、活性エステル、（ｐ−ニトロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタフルオロフェニルエステル、Ｎ− ヒドロキシスクシンイミド、シアノエチル等）、及び好適な縮合試薬、例えばＤＣＣ（Ｎ、Ｎ−ジシクロへキシルカルボジイミド及びその関連縮合剤）　、ＤＣＣ−ＨＯＢ　ｔ　（Ｎ、Ｎ−ジシクロへキシルカルボジイミド−１−ヒドロキシベンゾトリアゾール）、Ｗｏｏｄｗａｒｄ試薬に法、Ｎ、Ｎ−カルボニルジイミダゾール及びホスホニウム含有試薬（例えば、ペンゾトリアゾリルオキシトリス［ジメチルアミノコホスホニウムへキサフルオロホスフェート、Ｎ、Ｎ−ビス［２−オキソ−３−オキサゾリジニル］ホスホロジアミンツククロリド、ジエチルホスホロプロミデート、ジフェニルホスホリルアジド、ブロモトリス［ジメチルアミノコホスホニウムへキサフルオロホスフェート等）を伴うカルボン酸を用いて実施する。アミド生成のための好適な試薬としては、ホルミル誘導体、アセチルハライド（クロロアセチル、トリクロロアセチル、０−ニトロフェニルアセチル、〇−ニトロフェノキシアセチル、アセトアセチル、［Ｎ′　−ジチオベンジルオキシ力ルポニルアミノ］アセチル等）、及び置換プロピオニル誘導体（３− フェニルプロピオニル、イソブチリル、ピコリノイル等）が挙げられるが、これらに限定されない。他の基は、Ｔｈｅ　Ｐｅｐｔｉｄｅｓ　Ｇｒｏｓｓ、Ｅ、ａｎｄ　Ｍｅｉｎｈｏｆｅｒ、Ｊ、Ａｃａｄｅｍｉｃ　Ｐｒｅｓｓ。１９８１の第３巻及びＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　Ｇｒｅｅｎｅ。Ｔ、Ｗ、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　５ｏｎｓ、Ｎｅｗ　Ｙ。ｒｋ、Ｃｈａｐｔｅｒ　７．１．９８１に見出される。一般的使用カッブリング条件は、Ｇｒｏｓｓ、Ｅ、；Ｍｅｉｎｈｏｆｅｒ、　Ｊ、”Ｔｈｅ　Ｐｅｐｔｉｄｅｓ＠　ｖａｔ、３．　Ａｃａｄｅｍｉｃ　Ｐｒｅｓｓ、１９８１に記載されている。Ｎ−アシル化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル等、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（ｅ）では、Ｎ−アルキル化は、アルデヒド又はケトンを用いてその後最初に生成したイミニウムイオンの還元（還元のためには以下の試薬を用いる。シアノホウ水素化ナトリウム−ホウ素トリプルオリド、又は工程（Ｃ）で引用した還元試薬）、工程（ａ）に列挙した塩基の存在下での対応するハライド、あるいはリチウムジアルキル銅塩を用いて実施する（Ｋｉｎｇ、Ｆ、Ｅ、；Ｋｉｎｇ、Ｔ、Ｊ、；Ｍｕｉｒ、Ｉ、Ｈ，Ｍ。Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、１９４６，５；Ｙａｍａｍｏｔｏ、Ｈ。；Ｍａｒｕｏｋａ、に、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、１９８０，４５．２７３９）。Ｎ−アルキル化のための好適な試薬としては、ベンジルハライド、３．４−ジメトキシベンジルハライド、ニトロベンンルハライド、ジ（ｐ−メトキシフェニル）メチルハライド、トリフェニルメチルハライド等が挙げられるが、これらに限定されない。他の基は、Ｔｈｅ　Ｐｅｐｔｉｄｅｓ　ＧｒｏＳｓ、Ｅ、ａｎｄ　Ｍｅｉｎｈｏｆｅｒ、Ｊ、Ａｃａｄｅｍｉｃ　Ｐｒｅｓｓ、１９８１の第３巻及びＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　Ｇｒｅｅｎｅ、Ｔ、Ｗ、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　５ｏｎｓ、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、Ｃｈａｐｔｅｒ　７，１９８１に見出される。Ｎ−アルキル化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（ｆ）では、ウレア生成は下記の反応から実施する。シリコーンテトライソシアネート又はシリコーンテトライソチオンアネートによる反応（Ｎｅｖｉ　ｌ　Ｉｅ、Ｒ，Ｇ、；ＭｃＧｅｅ、Ｊ、Ｊ、Ｃａｎ、Ｊ、Ｃｈｅｍ、１９６３，４１゜２１２３）、Ｎ、Ｎ−カルボニルジイミダゾール又はＮ、Ｎ−チオカルボニルジイミダゾール、ぞの後Ｎ−［換第−又は第二アミン又はアンモニアによる反応（Ｓｔａａｂ、）Ｌ　Ａ、；Ｗｅｎｄｅ　ｌ、に、Ｏｒｇ、５ｙｎｔｈ、１９６８．４８゜４４）、及びｔ−アミンの存在下でのホスゲン又はチオホスゲンによる、その後Ｎ−置換第一又は第二アミン又はアンモニアによる反応。ウレイド生成は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、トルエン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド等、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（ｇ）では、Ｎ−スルホニル化は好適なｔ−アミン、例えばトリアルキルアミン、ピリジン等の存在下で置換スルホニルハライドを用いて実施する（Ｒｅｍｅ　ｒ　ｓ、Ｗ、Ａ、；　Ｒ。ｔｈ、Ｒ，Ｈ，、；Ｇｉｂｓ、Ｇ、Ｊ、；Ｗｅｉｓｓ、Ｍ、Ｊ。Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、１９７１．３６．１２３２）。好適な試薬としては、ベンジルスルホニルハライド、ｐ−メトキシベンゼンスルホニルハライド、２，４．６−トリメチルベンゼンスルホニルハライド、トルエンスルホニルハライド、ベンジルスルホニルハライド、ｐ−メトキシベンジルスルホニルハライド、トリフルオロメチルスルホニルハライド、フエナシルスルホニルハライド等が挙げられるが、これらに限定されない。他のいくつかの代表的な基は、Ｔｈｅ　ＰｅｐｔｉｄｅｓＧｒｏｓｓ、Ｅ、ａｎｄ　Ｍｅｉｎｈｏｆｅｒ、Ｊ、Ａｃａｄｅｍｉｃ　ｒ’ｒｅｓｓ、１９８１の第３巻及びＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉＳ　Ｇｒｅｅｎｅ、Ｔ、Ｗ、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆５ｏｎＳ、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、Ｃｈａｐｔｅｒ　７，１９８１に見出される。Ｎ−アリール−又はアルキルスルホニル化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。　工程（１１）では、Ｎ−カルバメート生成は、アミノ基のための一般保護基、例えばメチルカルバメート（シクロプロピルメチル、９−フルオレニルメチル等）、置換エチル力ルバメー　ト（２，２，２、、−、ｌ−リクロロエチル、２−ホスホノエチル、２−メチルチオエチル等）、置換プロピル及びイソプロピルカルバメート（１，１−′）メチルプロピニル、１−メチル−１−（４−ビフェニリル）工千ル、ｔ−ブチル、フェニル、ｐ−ニトロベンジル、８−キノリル、Ｎ− ヒドロキシピペリジニル、ベンジル、ジメトキシベンジル、９−アントリルメチル、１−アダマンチル、シクロヘキシル、ｔ−アミル、シンナモイル、イソブチル、Ｎ’−ｐ−フェニルアミノチオカルボニル、Ｎ′−ピペリジニルカルボニル、ジフェニルメチル等）を用いて実施するが、これらに限定されない。Ｎ−カルバメート及び他の基の調製は、Ｔｈｅ　Ｐｅｐｔｉｄｅｓ　Ｇｒｏｓｓ、Ｅ、ａｎｄ　Ｍｅｉｎｈｏｆｅｒ、Ｊ、Ａｃａｄｅｍｉｃ　Ｐｒｅｓ！１，１９８１の第３巻及びＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　Ｇｒｅｅｎｅ、Ｔ、Ｗ、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　５ｏｎｓ、ＮｅｗＹｏｒｋ、Ｃｈａｐｔｅｒ　７．１９８１に見出される。Ｎ−アリール −又はアルキルスルホニル化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（ｉ）では、Ｎ−グアニジウム生成は、いくつかの一般試薬、例えば１−グアニル−３，５−ジメチルピラゾール（Ｓａｌｖａｄｏｒｉ、Ｓ、：５ａｒｔｏ、Ｇ、Ｐ、；Ｔｏｍａ　ｔ　ｉ　ｓ、Ｒ，Ｅｕ　ｒ、Ｊ、Ｍｅｄ、Ｃｈｅｍ。Ｃｈ　ｉｍ、Ｔｈｅ　ｒ、１９８３，１．８，４８９）　、Ｏ−メチルイソウレア（Ｖａｎ　Ｎ１５ｐｅｎ、Ｊ、Ｗ、；Ｔｅ５ｓｅｒ。Ｇ、１．　；Ｎ１ｖａｒｄ、Ｒ，Ｊ、Ｆ、Ｊ、ＰｅｐｔｉｄｅＰｒｏｔｅｉｎ　Ｒｅｓ、１９７７．９，１９３）、及びチオウレアスルホニレート（Ｍａｒｙａｎｏｆｆ、Ｃ，Ａ、；５ｔａｎｚｉｏｎｅ、Ｒ，Ｃ，；Ｐｌａｍｐｉｎ、Ｊ、Ｎ、；Ｍｉ　ｌ　ｌ　ｓ、Ｊ、Ｅ、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、１９８６，５１゜１８８２）を用いて実施する。Ｎ−グアニジウム生成は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタノ、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。を程（ｊ）では、Ｎ−スルフェンアミドはアミン及びスルフェニルハライドから調製する（Ｄａｖｉｓ、Ｆ、Ａ、；Ｎａｄｉｒ、ＩＪ、に、Ｏｒｇ、Ｐｒｅｐ、Ｐｒｏｃ、Ｉｎｔ。１９７９．１１．３３；Ｋｏｂａｙａｓｈｉ、Ｔ、；ｌ１ｎｏ。Ｋ、；Ｈｉ　ｒａｏｋａ、Ｔ、Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓａｃ。１９７７、　９９．　５５０５；Ｚｅｒｖａｓ、Ｌ、　；Ｂｏｒｏｖａｓ、Ｄ、；Ｇａｚｉｓ、Ｅ、　Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ。Ｓａｃ、１９６３，８５．３６６０）。好適な試薬としては、ベンジルスルフェニルハライド、０−ニトロベンゼンスルフェニルハライド、２．４−ジニトロスルフェニルハライド、ペンタクロロベンゼンスルフェニルハライド、２−ニトロ −４−メトキシベンゼンスルフェニルハライド、トリフェニルメチルスルフェニルハライド等が挙げられるが、これらに限定されない。他の基は、Ｔｈｅ　Ｐｅｐｔｉｄｅｓ　Ｇｒｏｓｓ、Ｅ。ａｎｄ　Ｍｅｉｎｈｏｆｅｒ、Ｊ、Ａｃａｄｅｍｉｃ　Ｐｒｅｓｓ、１９８１の第３巻及びＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　Ｇｒｅｅｎｅ、Ｔ、Ｗ、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　５ｏｎｓ、ＮｅｗＹｏｒｋ、Ｃｈａｐｔｅｒ　７，１９８１に見出される。Ｎ−スルフェニル化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（ｋ）では、好適な）Ｓロゲン化試薬としては、ハロゲンを伴うトリフェニルホスフィン（Ｖｅｒｈｅｙｄｅｎ、Ｊ、Ｐ。ｔｉ、；Ｍｏｆ　ｆａｔｔ、Ｊ、Ｇ、Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ。１９６４．８６，２０９３；Ｂｅｒｇｍａｎ、Ｒ，Ｇ、同上５１９６９．９１，７４０５；Ｈｒｕｂｉｅｃ、Ｒ，Ｔ、；Ｓｍｉ　ｔｈ、Ｍ、Ｂ、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、、１９８３゜４８．３６６７）、シアノゲンノ１ライドを伴うトリフェニルホスフィン（Ｈｏｒｎｅｒ、Ｌ、；Ｏｅｄｉｇｅｒ、Ｈ，；Ｈｏｆｆｍａｎｎ、Ｈ，Ａｎｎａｌｅｎ　Ｃｈｅｍ、１９５９゜６２６．２６）、炭素テトラハライドを伴うトリフェニルホスフィン（Ｈｏｏｚ、Ｊ、；Ｇｉ　１ａｎｉ、Ｓ、Ｓ、Ｈ，Ｃａｎ。Ｊ、Ｃｈｅｍ、１９６８．４６．８６；Ｃｈｅｍ。Ｃｏｍｍｕｎ、１９６８．１３５０）　、ＮＢＳ　（Ｎ−プロモスクノンイミド）を伴うトリフェニルホスフィン（Ｓｃｈｗｅｉｚｅｒ、Ｅ、Ｅ、；Ｃｒｅａｓｙ、Ｗ、Ｓ、；Ｌｉｇｈｔ、に、に、；５ｈａｆ　ｆｅｒ、Ｅ、Ｔ、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、１９６９゜３４．２１２）及びヘキサクロロアセトンを伴うトリフェニルホスフィン（Ｍａｇｉｄ、Ｒ，Ｍ、；５ｔａｎｌｅｙ　−Ｆｒｕｃｈｅｙ、Ｏ，；Ｊｏｈｎｓｏｎ、Ｗ、Ｌ、；Ａｌ　ｌｅｎ、Ｔ、Ｇ、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、１９７９．　４４゜３５９）が挙げられるが、これらに限定されない。ハロゲン化は、他の試薬、例えばナトリウムハライドを用いることもあるモノ−又はトリーアルキルシリルハライド（０１ａｈ、Ｇ、Ａ。；Ｈｕｓａｉｎ、Ａ、；Ｓｉｎｇｈ、Ｂ、Ｐ、；Ｍｅｈｒｏｔａ、Ａ、に、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、１９８３．４Ｂ、３６６７；Ｂｌａｍｅ、Ｇ、；Ｆｏｕｒｎｅｔ、Ｇ、；Ｇｏｒｅ、Ｊ。Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、１９８６．２７゜１９０７）、ポリマー結合トリメチルシリル誘導体（Ｃａｉｎｅｌ　ｉ、Ｇ、；Ｃｏｎｔｅｎｔｏ、Ｍ、；Ｍａｎｅｓｃａｌｃｈｉ、Ｆ、；Ｐｌｅｓｓｉ、Ｌ、；Ｐａｎｕｎｚｊｏ、Ｍ、５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　１９８３゜３０６；Ｉｍａｍｏｔｏ、Ｔ、；Ｍａｔｓｕｍｏｔｏ、Ｔ、；Ｋｕｓｕｍｏｔｏ、Ｔ、：Ｙｏｋｏｙａｍａ、Ｍ。５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　１９８３，４６０）、Ｎ、Ｎ−ジクロロホスホルアミシックジクロリド（Ｃｈｅｍ、Ｌｅ　ｔ　ｔ、１９７８．９２３）、リントリハライド−亜鉛ハライド（Ａｎｄｅｒｓｏｎ、Ｊｒ、Ａ、Ｇ、；Ｏｗｅｎ、Ｎ、Ｅ、Ｔ、；Ｆｒｅｅｎｏｒ、Ｆ、Ｊ、；Ｅｒ１ｃｋｓｏｎ、Ｄ、５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　１９７６．３９８）、ジエチルアミノイオウトリフルオリド　（Ｍｉ　ｄｄ　Ｉ　ｅ　ｔ　ｏｎ、　Ｗ、　Ｊ、　Ｊ、　Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ。１９７５．４０．５７４）、）リフエノキシホスホニウムアルキルハライド（Ｒｙｄｏｎ、Ｈ，Ｎ、Ｏｒｇ、５ｙｎｔｈ。１９７１．５１，４４：Ｖｅｒｈｅｙｄｅｎ、Ｊ、Ｐ、Ｈ，；Ｍｏ　ｆ　ｆａ　ｔ　ｔ、Ｊ、Ｇ、Ｊ、Ｏｒｇ、ＣＣ１１ｅ、１９７２゜３７、　２２８９）等によっても達成し得る。ハロゲン化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはその混合物）中で実施する。反応は周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（１）では、ホスホン酸エステル生成は、Ｍｉｃｈａｅｌ　１ｓ−Ａｒｂｕｚｏｖ反応を用いて実施する（Ｂｈａｔｔａｃｈａｒｙａ、Ａ、に、；Ｔｈｙａｇａｒａｊａｎ、Ｇ、　Ｃｈｅｍ、Ｒｅｖ、１９Ｂ１゜８１．４１５；Ｂａｕｅｒ、Ｇ、；Ｈａｅｇｅｌｅ、Ｇ。Ａｎｇｅｗ、Ｃｈｅｍ、Ｉｎｔ、Ｅｄ、Ｅｎｇｌ、１９７７゜１６、　４７７）。ホスホン酸エステル生成は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（ｍ）では、リン酸化は、２−ハロー２−オキソ−１゜３．２−ジオキサホスホラン−トリエチルアミン反応（Ｃｈａｎｄｒａｒａｋｕｍａｒ、Ｎ、Ｓ、；Ｈａｊｄｕ、Ｊ。Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、１９８３．４８，１１．９７）を用いて実施するが、これに限定されない。リン酸化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、ベンゼン、トルエン、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン又はＮ、Ｎ− ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。さらに反応は好ましくは工程（ａ）に記載されているように有機又は無機塩基の存在下で、好ましくは有機塩基、例えばトリエチルアミン、ピリジン等の存在下で実施する。周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で、さらに好ましくは０〜５０℃で実施する。工程（ｎ）では、千オニーチル生成は、好適なｔ−アミン、例えばトリアルキルアミン、ピリジン等の存在下で、アリール−又はアルキルメルカプタンを用いて実施するが、これらに限定されない。反応は金属触媒チオエーテル生成（Ｇｕｉｎｄｏｎ、Ｙ、；Ｆｒｅｎｅｔｔｅ、Ｒ，；Ｆｏｒｔｉｎ、Ｒ，；Ｒｏｋａｃｈ、Ｊ、Ｊ、Ｏｒｇ。Ｃｈｅｍ、１９８３，４８．１３５７）により、アリール−又はアルキルメルカプタンのアルカリ金属塩とＣｌｌ−０Ｒ基（ＯＲは脱離基である）を含有する式１−Ｖｌ１１の化合物とで実施する。アルカリ金属は、ナトリウム、カリウム、リチウム及びセシウムから選択する。千オニーチル生成は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は、周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（０）では、アリール−又はアルキルオキシチオカルボニル化は、アリール −又はアルキルオキシチオカルボニルクロリド又は対応するハライドを用いて、好適なし一アミン、例えばトリアルキルアミン、ピリジン等の存在下で実施する。アリール−又はアルキルオキシチオカルボニル化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は、周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（ｐ）では、エーテル生成は、ＫＹ−ゼオライト（Ｏｎａｋａ、Ｍ、；Ｋａｗａｉ、Ｍ、；　Ｉｚｕｍｉ、Ｙ。Ｃｈｅｍ、Ｌｅｔｔ、１９８３．１１０１）、高分子物質（Ｋｉｍｕｒａ、Ｙ、；Ｋｉｒｓｚｅｎｓｚｔｅｊｎ、Ｐ、；Ｒｅｇｅｎ、Ｓ、Ｌ、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、１９Ｂ３．４８゜３８５）、−ッケル触媒（Ｃａｍｐｓ、Ｆ、；Ｃｏｌ　１．Ｊ、；Ｍｏｒｅｔｏ、Ｊ、Ｍ、５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　１９Ｂ２゜１８６；Ｙａｍａｓｈｉｔａ、５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　１９７７゜８０３）、アリールアルキル−〇−ｐ−トルエンスルホネート（Ｄｅｗｉ　ｃｋ、Ｐ、Ｍ、Ｓｙｎ　ｔｈ、Ｃｏｍｍｕｎ。１９８１．１１８５３）、カリウム又はナトリウムアルコキシド　（Ｂａｔｅｓ、　Ｒ，Ｂ、　；Ｊａｎｄａ、　Ｋ、　Ｄ、　Ｊ、　Ｏｒｇ。Ｃｈｅｍ、１９８２．４７．４３７４）、ピリジン又は他の塩基（Ｃｈｅｍ、Ｌｅ　ｔ　ｔ、１９７８．５７）　、テトラアルキルアンモニウムハライド（Ｍｉ　Ｉ　ｌｅｒ、Ｊ、Ｍ、；Ｓｏ、Ｋ。Ｈ，；Ｃ１ａｒｋ、Ｊ、Ｈ，Ｃａｎ、Ｊ、Ｃｈｅｍ、１９７９゜１８８７）、水銀ベルクロレート（ＭｃＫｉ　ｌ　ｌｏｐ、Ａ、；Ｆｏｒｄ、Ｍ、Ｅ、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　１９７４．　３０゜２４６７）、又は相転移触媒（ＭｃＫｉ　ｌ　ｌｏｐ、Ａ、；Ｆｉａｕｄ、Ｊ、Ｃ，；Ｈｕｇ、Ｒｏ　Ｐ。Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　１９７４，３０．１３７９）の存在ドでアリール−、アリールアルキル−又はアルキルノ１ライドを用いて実施するが、これらに限定されない。エーテル生成はさらに、ｐ−トルエンスルホン酸の存在下でジアルキル−又はジアリールリン酸を用いて（Ｋａｓｈｍａｎ、Ｙ、Ｊ、Ｏｒｇ。Ｃｈｅｍ、１９７２，３７．９１２）、又は塩化スズ（ＩＩ）を伴うジアゾ化合物を用いて（Ｃｈｒｉｓｔｅｎｓｅｎ、Ｉ−。Ｆ、；Ｂｒｏｏｍ、Ａ、Ｄ、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、１９７２゜３７．３３９８）実施し得る。エーテル生成は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は、周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。さらに、０−アルキル化は、トリエチルアミンのような適切な塩基の存在下でブロモ酢酸誘導体、ヨード酢酸誘導体、トリフルオロメタンスルホニルオキシ酢酸誘導体等を用いて実施する。反応は、不活性溶媒、例えばＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド又はジクロロメタン中で、好ましくは一５０℃〜８０℃で実施する。あるいはアルキル化は、金属触媒、例えばＲｈ　（ＯＡｃ）２の存在下で不活性溶媒、例えばジクロロメタン中で、好ましくは一２０℃〜８０℃でアルキルジアゾアセテートを用いて実施する。工程（ｑ）では、Ｎ−環状イミド生成は、無水フタル駿（Ｓａｓａｋｉ、Ｔ、；Ｍｉｎａｍｏｔｏ、に、；　１　ｔｏｈ。Ｈ，Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、１９７８，４３．２３２０）　、トリアルキルアミンを伴う０−メトキシカルボニルベンソイルクロ　リ　ド　（Ｈｏｏｇｗａｔｅｒ、　Ｄ、　Ａ、　；Ｒｅ１ｎｈｏｕｄｔ。Ｄ、Ｎ、；Ｌｉｅ、Ｔ、Ｓ、；Ｇｕｎｎｅｗｅｇ、Ｊ、Ｊ、；Ｂｅｙｅｒｍａｎ、Ｈ，Ｃ，Ｒｅｃｔ、Ｔｒａｖ、Ｃｈｉｍ。Ｐａｙｓ−Ｂａｓ、１９７３，９２．８１９）、又はＮ−エトキシカルボニルフタルイミド（Ｎｅｆｋｅｎｓ、Ｇ、Ｈ，Ｌ、；Ｔｅ５ｓｐｒ、Ｇ、１．；Ｎ１ｖａｒｄ、Ｒ，Ｊ、Ｆ、Ｒｅｃｌ、Ｔｒａｖ、Ｃｈｉｍ、Ｐａｙｓ−Ｂａｓ、１９６０，７９゜６８８）を用いて実施する。他の基は、Ｔｈｅ　Ｐｅｐｔｉｄｅｓ　Ｇｒｏｓｓ、Ｅ、ａｎｄ　Ｍｅｉｎｈｏｆｅｒ、Ｊ、Ａｃａｄｅｍｉｃ　Ｐｒｅｓｓ＋　１９８１の第３巻及びＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　Ｇｒｅｅｎｅ、Ｔ、Ｗ、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ＆　５ｏｎｓ、Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、Ｃｈａｐｔｅｒ　７，１９８１に見出される。Ｎ−環状イミド生成は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはその混合物）中で実施する。反応は、周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（ｒ）では、Ｎ−ホスフィンアミド生成は、Ｎ−メチルモルホリンを伴うホスフィニルクロリド（Ｋｅｎｎｅｒ。Ｇ、Ｗ、；Ｍｏｏｒｅ、Ｇ、Ａ、；Ｒａｍａｇｅ、Ｒ。Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、１９７６．３６２３）を用いて実施するが、これらに限定されない。好適な試薬としては、ジフェニルホスフィニルクロリド、ジメチル−又はジフェニルチオホスフィニルクロリド、ジベンジル−又はジフェニルホスフィニルクロリドが挙げられるが、これらに限定されない。他の基は、Ｔｈｅ　Ｐｅｐｔｉｄｅｓ　Ｇｒｏｓｓ、Ｅ。ａｎｄ　Ｍｅｉｎｈｏｆｅｒ、　Ｊ、　ＡｃａｄｅｍｉｃＰｒｅｓｓ、１９８１の第３巻及びＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓＧｒｅｅｎｅ、Ｔ、Ｗ、Ｊｏｈｎ　Ｗｉ　ｌｅｙ　＆　５ｏｎｓ。Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ、Ｃｈａｐｔｅｒ　７，１９８１に見出される。Ｎ−ホスフィンアミド生成は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはその混合物）中で実施する。反応は、周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（ｓ）では、Ｎ−ホスホラミド生成は、ｔ−アミン塩基を伴うジフェニルホスホリルクロリド（Ａｄａｍｓ、Ｅ、；Ｄａｖｉｓ、Ｎ、Ｃ，；Ｓｍ１ｔｈ、Ｅ、Ｌ、　Ｊ、Ｂｉｏｌ。Ｃｈｅｍ、１９５２．１９９．８４５）、及びトリエチルベンジルアンモニウムクロリド（Ｚｗｉｅｒｚａｋ、Ａ。５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　１９７５，５０７；Ｚｗｉｅｒｚａｋ。Ａ、；Ｐｉｏｔｒｏｗｉｃｚ、Ｊ、Ｂ、Ａｎｇｅｗ、Ｃｈｅｍ。Ｉｎｔ、Ｅｄ、Ｅｎｇｌ、１９７７．１６，１０７）を用いて実施するが、これらに限定されない。好適な試薬としては、ジフェニルホスホリルクロリド、ジメチル−又はジフェニルチオホスホリルクロリド、ジベンジル−又はジフェニルホスホリルクロリドが挙げられるが、これらに限定されない。他の基は、Ｔｈｅ　Ｐｅｐｔｉｄｅｓ　Ｇｒｏｓｓ、Ｅ、ａｎｄＭｅｉｎｈｏｆｅｒ、Ｊ、Ａｃａｄｅｍｉｃ　Ｐｒｅｓｓ。１９８１の第３巻及びＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　Ｇｒｅｅｎｅ。Ｔ、Ｗ、Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　５ｏｎｓ、ＮｅｗＹｏｒｋ、Ｃｈａｐｔｅｒ　７，１９８１に見出される。Ｎ−ホスフィンアミド生成は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は、周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（１）では、除酸素化は、水素化トリブチルスズ及び２゜２−アゾビス−２ −メチルプロピオニトリル（Ａ　Ｉ　１３Ｎ）を伴うフェノキシチオカルボニル誘導体（Ｒｏｂｉｎｓ、Ｍ、Ｊ、；Ｗｉ　Ｉ　ｓｏｎ、Ｊ、Ｓ、；Ｈａｎｓｓｋｅ、Ｆ、Ｊ、Ａｍ。Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、１９８３，１０５，４０５９；Ｂａ　ｒ　ｔｏｎ、Ｄ、Ｈ，Ｒ，；ＭｃＣｏｍｂ　ｉ　ｅ、Ｓ、Ｗ。Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、Ｐｅｒｋｉｎ　Ｔｒａｎｓ、１１９７５．１５７４）、又は水素化トリブチルスズ及び′　グＡＩＢＮを伴うフェニルンチオヵルボニル誘導体（Ｈａｙａｓｈｉ、Ｔ、；　ｒｗａｏｋａ、Ｔ、；Ｔａｋｅｄａ。Ｎ、；０ｈｋｉ、Ｅ、Ｃｈｅｍ、Ｐｈａｒｍ、Ｂｕｌｌ。１９７８、　２６．　１７８６）を用いて実施するが、これらに限定されない。除酸素化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は、周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（ｕ）では、好適な酸化試薬としては活性化ジアルキルスルホキシド（例えばジメチルスルホキシド、メチルエチルスルホキシド）（Ｍａｎｃｕｓｏ、Ａ、Ｊ、；Ｓｗｅｒｎ、Ｄ。５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　１９８１．１６５）、有機クロメート［例えばピリジニウムクロロクロメート（Ｃｏ　ｒ　ｅ　ｙ、Ｅ。Ｊ、；Ｓｕｇｇｓ、Ｊ、Ｗ、ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔ、］、９７５．　２６４７；Ｃｏｒｅｙ、Ｅ、Ｊ、；Ｂｏｇｅｒ、Ｄ、Ｌ、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ。１９７８．２４６１）、ピリンニウムジクロメート（Ｃｏｒｅｙ、Ｅ、Ｊ、；Ｓｃｈｍｉｄｔ、Ｇ。Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、１９７９，５．３９９）、コリンス試薬（Ｃｏ！　ｌ　ｉｎｓ、Ｊ、Ｃ，；Ｈｅ５ｓ、Ｗ。Ｗ、；Ｆｒａｎｋ、Ｆ、Ｊ、ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅ　ｔ　ｔ、１９６８．３３６３）］、］テトラプロピルアンモニウムペルテネートＧｒ　ｉ　ｆ　ｆ　ｉ　ｔｈ、　Ｗ、Ｐ。Ａｌｄｒｉｃｈｉｍｉｃａ　Ａｃｔａ、１９９０．２３．１３）等が挙げられる。酸化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはその混合物）中で実施する。反応は、周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。 ■、程（Ｖ）では、好適なアルキル化試薬としては還元剤存在Ｆてのアルデヒド及びケトン（ｌＩ＋ｕｂｏｖｃｈｇｋ、　Ｄ、　Ｍ、　：　Ｓｍｉ　ｌｈ、　Ｆ、　ＸＴ＋ｌ＋ａｈｅｄ＋ｏｎ　Ｌｔｌｌ、１９８３．２４．４９５１　）　、アルキル−、アリール−又はアリールアルキルハライド　（５ｈｏｎｏ、　Ｔ、　＋に＆＋ｈｉｓｅ＋＊、Ｓ、　：Ｓ＊ｖ＋ｍｉ　＋１．　Ｍ、　：　Ｓｏｔ　ｉ　ｉｍ＠、　Ｔ、　１．　ＯＢ、　Ｃｈｅｗ、　１９８８．５３．９０７）が挙げられるが、これらに限定されない。有機又は無機塩基、例えばアルカリ土類金１Ｉｌ（例えばカルシウム、バリウム、マグネシウム、タリウム等）、アルカリ金属水素化合物（例えば水素化ナトリウム、水素化リチウム等）、アルカリ金属水酸化物（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、アルカリ金属炭酸塩（例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等）、アルカリ金属炭酸水素塩（例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）、アルカリ金属アルカノン酸（例えばナトリウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、タリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等）、アルカリ金属アルカノン酸（例えば酢酸ナトリウム等）、トリアルキルアミン（例えばトリエチルアミン等）、ピリジン化合物（例えばピリジン、ルチジン、ピコリン、１−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノピリジン等）、キノリン等の存在下て反応を実施する。アルキル化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は、周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。Ｊ、稈（Ｗ）では、好適なハロゲン化試薬としては、数時間照射（太陽灯）により処理されるハロゲン（）ｌｅｌｌｎｃ＋、　Ｒ，；ＳｍＩｔＢｎ。１、　Ｅ、Ｉｏａｌｌｉｅ、　Ｍ、　Ｍ、　：Ｔｅｌ＋５ｈｅｄ＋ｏｎ　Ｌｅｆｔ、　１９８７．２８．６５３９　）　、又はオキサリルクロリド（Ｅｙｘｎｓ、　Ｄ、　Ａ、　ＨＤｏｗ、　Ｒ，Ｌ、　；５ｈｉｂ、丁、Ｌ、、ＴｉｋｅｅＩ。１、　Ｍ、Ｚ＋ｈｌｔ＋、　Ｒ，１，Ａｖ、　Ｃｈｅｗ、　Ｓｏｅ、　１９９０．１１２．５２９０　）が挙げられるが、これらに限定されない。ハロゲン化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはその混合物）中で実施する。反応は、周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（ｘ）では、好適な酸化試薬としては、オキソジペルオキシモリブデナム（ピリジン）−１，３−ジメチル−３，４゜５．６−チトラヒドロー２（ＩＨ）− ピリミジノン（＾ｎｄｃ＋ｓｏｎ。１、　Ｃ，、Ｓ＋＋ｉ口、　Ｓ、　Ｃ，５ＹＮＬＥＴ７１９９Ｇ、　２．１０７　）及びオキソジペルオキシモリブデナム（ピリジン）−ヘキサメチルホスホラミド（Ｖ＋ｄ＋　ｊｌ、　Ｅ、　１．　Ａｍ、　Ｃｈ！ｍ、　Ｓｏｃ、　１９７４．９６．５９４４；Ｖｅｄｅｉ＋、　Ｅ、　；ＥＢｌｅ＋。Ｄ＾：Ｔｅｌ＋ｃｈｏｖ、　Ｉ、　Ｅ、　１．　Ｏ＋ｇ、　Ｃｈ！ｓ、　ｌＨ８，４３，１８８）が挙げられるが、これらに限定されない。酸化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は、周囲温度より高温で、周囲温間で又はそれより低温で実施する。工程（Ｚ）では、式ｔ−ｖ＋ｒｒの化合物をジアゾ化試薬で処理する。好適なジアゾ化試薬としてはアジドトリス（ジエチルアミノ）ホスホニウムプロミド（ＭｃＧａｉｎｅｓｓ、　Ｍ、５ｈｅｅｂｌ＋＋、　ＨＴｅｌ＋ｘｈｅｄ＋ｏｎ　Ｌ＋Ｉ１．ｌ９９０．３１．４９８１　）　、ｐ−カルボキシベンゼンスルホニルアジド（Ｈｅｎｄ＋１ｃｋｓｏｎ、　Ｒ，ＧｌＷｏｌ　Ｉ、　ｗ、　Ａ、　１．　Ｏ＋１．　Ｃｈｅｗ１９６８、３３．３６１０：ｆｉｌｌｉｅｓ３　Ｍ＾；Ｍｉｌｌｅｔ、Ｍｌ↑ｅｌ＋ｔｈｅｄ＋ｏｎ　Ｌｅｆｔ１９９０、３１．１８０７）　、ポリマー結合ｐ−トルエンスルホニルアジド（ＲｏＩｌ＋ｈ、Ｗ、Ｒ，；Ｆｅ１ｌｌｅ＋、　Ｄ、；Ｒｓｂｓｋ、Ｊ、Ｔｅｌ＋５ｈｅｄ＋ｏｎ　Ｌｅ目、　１９７４゜１３９１）　、ｐ　−）ルエンスルホニルアジド（ＲｅｇｉｌｔｌＭ、ＡｎｃｅｖＣｂｅｌ１９６７．７９．７８６）　、２−アゾ−３−エチルベンゾチアゾリウムテトラフルオロボレート（ＢＩｌｌｉ、ｌ（、；にｅ＋ＮｉＢ、　Ｆ、　Ｉｎ＋ｌａ＋ＬｉｅｂｉＨＡｎｎ、Ｃｈｅｌｌ、、ｌ９６１　６４７．１．ＢＩｌｌｉ、Ｈ，；Ｌｏｗ、Ｒ，Ｔｅｌ＋５ｈｅｄ＋ｏｎ　Ｌｅｆｔ。１９６６．５８２１　）　、Ｎ、Ｎ−ジメチルアジドク。ロメチレンイミニウムクロリド（にｏｋｔｌ、　Ｂ、　；Ｖｉ＋ｈｅ、　Ｈ，Ｇ、　Ａｎｅｗ、　Ｃｈｅｓ、　Ｉｎ　１．　Ｅｄ、　ＥＢ１１９８０．１９．７１６；Ｋｏｋｅｌ、Ｂ、；Ｂｏ１１＋＋ｏｌｌｉ＋＊、Ｎ、１．Ｈｅ１ｅ＋ｏｃ！ｃｌｉｅ　Ｃｈｅｗ。１９８７、２４．１４９３）　、メシルアジド（Ｄｔｎｈｅｉ＋ｅ＋、　Ｒ，Ｌ、　；Ｍｉｌｌｅ「、　Ｒ，Ｆ、　；Ｂ＋口ｂｏｉ＋、　Ｒ，Ｇ、　：ＰＭ’＋に、　Ｓ、　１．　Ｊ、　ＯＢ、　Ｃｔ＋ｓｓ、　１９９０．５５．１９５９）が挙げられるが、これらに限定されない。ジアゾ化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそ第１らの混合物）中で実権する。反応は、周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（ａ　ａ）では、好適なオレフィン化試薬としてはＷ　ｉ　ｔ　ｔ　ｉ　ｇ試薬（Ｍｔｅｃｋｅ＋、　Ｍ、、　Ｏ＋１．　Ｒｅｔｃｌ、　１９６５．１４．２７０；１ｏ１＋ｎｔｏｎ、＾ｆ、、”Ｙｉｌｄ　Ｃｈｅｓｉｔｌ＋ｙ、　＠Ａｃａｄｅｍｉｃ　Ｐ＋ｃｓｓ、ＮｅｗＹｏｔｋ、　１９Ｎ　）及びＣＨ２１２− Ｚｎ−Ｔ１Ｃｌ、［又はＴ１（ＮＥ　ｔ　２　）　４　］試薬（Ｈｉｂｉｎｏ、　１．　：０ｋｓｔｏｅ、丁１丁１１１１Ｋ。Ｎｏ！１ｉ、ｔｌ、　Ｔｅｌ＋Ｉｂｅｄ＋ｏｎ　Ｌｅｆｔ、　１９８５．２６．５５７９；Ｏｋ＊＋ｏｅ、　Ｔ、　；Ｈｉｂｉｎｏ。１、　、Ｔ１５ｉ、　Ｋ、　；Ｎｏ＋ｔｋｉ、　）１．１ｂｉｄ、　１９ｇ５．２６．５５８１）が挙げられるが、これらに限定されない。カルボニルオレフィン化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は室温で実施する。工程（ｂ＋））では、好適な０−アミノ化試薬としてはアルキル、アリール又はアリールアルキルアシルハライドＦＡ，にｈｌｅｂｎｉｃｏｖｓ．　Ｔ．　Ｓ．　；＾ｋｈ＋ｕｅ，＾Ａ．Ｓ７ｎｌｈｃｓ口１９８５．８．７８４　）が挙げられるが、これに限定されない。０−アシル化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は、周囲温度より高温で、周囲温度で又はそれより低温で実施する。工程（Ｃ　Ｃ）では、好適なアミノ化試薬としてはアミノ酸誘導体及び低級アルキル、アリール又はアリールアルキルアミンが挙げられるが、これらに限定されない（Ｗｉｎｋｌｅｒ．　１．　Ｄ．　；ｆ！ｅ＋＋ｂｂｅＢｅ＋，　Ｐ．　Ｍ．Ｓｐ＋ｉＢｅ＋．　１．　Ｐ．　Ｔｅｌ＋ｓｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｆｔ．　１９８６．　２７。５１７７）。反応は、ベンゼン、トルエン又は反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等、あるいはそれらの混合物）中で還流で実施する。反応は室温で実施する。工程（ｄ　ｄ）では、アルキリデン生成はアルデヒド及びケトンを活性メチレン化合物（　ＳｃｈｏｎｈｅＢ，＾．，Ｓｉｎｇｅ＋，　Ｅ．　Ｃｈｅｔ　Ｂｅ＋１９７０、　１０３．　３８７１；Ｃｈｇ目ｅ＋ｉｅｅ，　Ｓ．　１．　Ｃｈｅｗ，　ＳｏＣ．　Ｂ．　１９６９．　７２５）とともに用いて実施する。アルキリデン生成は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は、冷却〜加熱下で実施する。工程（ｅｅ）では、Ｌはヒドロキシ、又は良好な脱離基（例えば、ハロゲン、トシレート、メシレート又はトリフレート）である。前駆体化合物がＣ　（ＯＨ） −ＣＨ２−Ｃ＝Ｏ基を含ａする場合、ＩＩ２０の排除は反応条件下で不活性である溶媒（例えばトルエン）中で、微量の酸（例えばトルエンスルホン酸）を用いて、５０〜１００℃から選択される温度で実施する。前駆体化合物が良好な脱離基を含有する場合、その脱離は塩基（例えばトリエチルアミン又は炭酸カリウム）の存在下で０〜１００℃から選択される温度で実施する。工程（ｆ　ｆ）では、好適なジアミンとしては、好適には第三アミン（例えばＮ −メチルモルホリン）存在下で、フェニレンジアミン及び置換１，２−フェニルジアミン、２．３−ジアミノピリジン、３．４−ジアミノピリジン、４．５−ジアミノピリジンン、４，５−ジアミノピリミジン及びそれらの酸塩が挙げられる。好適な溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパツール、アセトニトリル、２−ブタノン及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドが挙げられ、反応温度は５０〜１００℃から選択される。工程（ｇｇ）では、好適な試薬としてはホウ水素化ナトリウム、酢酸に溶解した亜鉛、酢酸に溶解したナトリウムトリアセトキシボロヒドライド、テトラヒドロフランに溶解したリチウムトリアルコキシアルミニウムヒドライド、テトラヒドロフランに溶解したカリウム又はリチウムトリＳ−ブチルボロヒドライド、及びメタノール又はエタノールに溶解したボラン／１−ブチルアミン錯体が挙げられる。還元は一り０℃〜室温で実施する。工程（ｈｈ）では、好適な２−アミノチオフェノールは、好ましくはｔ−アミン（Ｎ−メチルモルホリン等）の存在下での、置換１．２−アミノチオフェノールである。好適な溶媒は、メタノール、エタノール、ｎ−プロパツール等であり、反応は５０〜１００℃で行ないつる。工程（ｉ　ｉ）では、この反応で用いる試薬としては、ジ（低級）アルキルスルホキシド（例えばジメチルスルホキシド、エチルメチルスルホキシド、プロピルメチルスルホキシド、イソブチルメチルスルホキシド、ブチルメチルスルホキシド、イソブチルメチルスルホキシド、ヘキシルメチルスルホキシド等）が挙げられる。この反応は、通常オキサリルクロリド、酸クロリド、低級無水アルカノン酸（例えば無水酢酸）の存在下で、反応に悪影響を及ぼさない溶１Ｋ（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で、その後第三アミン（例えばトリエチルアミン）を付加して実施する。反応は７０℃〜室温で実施する。１程（Ｊ」）では、ジチオールは低級アルキルジチオール（例えばエタンジチオール、プロパンジチオール又はブタンジチオール）及び１．２−アリールジチオール（例えば１．２−ベンゼンジチオール）で、Ｌｅｗｉｓ酸（例えばホウ素トリフルオリドエテレート又はランタントリクロリド）の存在下で、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、アセトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、あるいはそれらの混合物）中で実施する。反応は一り０℃〜室温で実施する。工程（ｋ　ｋ）では、好適な酸素置換アミンとしては、ヒドロキシアミノ、０− アルキルヒドロキシアミン及びＯ−アリールアルキルヒドロキシアミン、例えばＯ−ベンジルヒドロキシアミンが挙げられる。好適な溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない溶媒、例えばエタノール又はメタノールが挙げられる。反応は好ましくは１当量のヒドロキシアミンを用いて、２５〜１００℃、好ましくは溶媒の還流温度で実施する。工程（１１）では、好適なヒドラジンとしては、アルキルヒドラジン（例えばブチルヒドラジン）、アリールヒドラジン（例えばフェニルヒドラジン）、アシルヒドラジン（例えばアセチルヒドラジン）、セミカルバジド（例えばブチルオキシカルボニルヒドラジン）及びスルホニルヒドラジン（例えばトシルヒドラジン）が挙げられ、反応に悪影響を及ぼさない慣用的溶媒、例えばエタノール又はメタノール中で用いる。反応は２０〜１００℃で実施する。工程（ｍｍ）では、ピリミジン上の２置換基は、水素、アルキル、アリール、ヒドロキシル、アルコキシ、チオール、アミノ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アシルアミノ、カルバ含有化合物は、”Ｔｈｅ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ　Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ、Ｖｏｌ。１６、ｓｕｐｐｌｅｍｅｎｔ　ＩＩ、Ｃｈａｐｔｅｒ　ＩＩ。ｐｐ　２１−６０”、Ｄ、Ｊ、Ｂｒｏｗｎ、ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ　＆　５ｏｎｓ、１９８５に記載の方法により調製する。工程（ｎ　ｎ）では、フラン含有化合物は、１’ａｕｌｅｓｓｅｎ、Ｒ等がＴｅ　ｔ　ｒａｈｅｄｒｏｎＬ　ｅ　ｔ　ｔ、１９７４．６０７に記載の方法により調製する。工程（ｏ　ｏ）では、反応に悪影響を及ぼさない慣用的溶媒、例えばテトラヒドロフラン、メタノール、エタノール又はイソプロパツール中に溶解した１当量の塩酸ヒドロキシアミン及び第三アミン（例えばＮ−メチルモルホリン）を用いて化合物を調製する。反応は２０〜１００℃で実施する。工程（ｐ　ｐ）では、ピリジン含有化合物は、文献に従って調製する　Ｏ＋ｍ！ｎ、＾Ｎ、　；　ｌ＋ｍｔｉ　ｌ、　Ｍ、　Ｍ、　；Ｂ＊＋ｘｋｔｌ１Ｍ、　Ａ、　Ｒｅｖ、　Ｒｏ■、　Ｃｈｉｍ、１９８６、３１．６１５−６２４．Ｒｉｅｄ　Ｗ１Ｍｅ７ｅ＋、＾、　Ｂｅ＋、　ＤｅＩＩｌ＋ｃｈ、　Ｃｈｓｍ、　Ｇｅｔ１９５７．９０．２８４１；Ｔ＋ｏ＋ｃｈｌ＋、Ｒ１Ｔ＋ｏ＋ｃｈａ１１．１１Ｓｏｌｌｈｏｂｅ＋に＋ｅｌ＋！＋。闘＾ｔｔｈ　Ｐｈｔ＋ｍ、　１９８５．３１８．７７７−７８１０王Ｎ（ｑｑ）では、置換２−アミノチオフェノール、２−アミノフェノール又は芳香族１，２ −ジアミンを反応に悪影響を及ぼさない慣用的溶媒、例えばテトラヒドロフラン、エタノール、イソプロパツール、アセトニトリル又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド中で用いる。反応は２０〜１００℃で実施する。工程（ｒ　ｒ）では、ケト置換フラン含有化合物を文献に従って調製する：　Ｗｉｌｌｉｇａｓ、　Ｐ、　Ｈ，ｅｌ　ｔｌ、　１．　Ａｓ、　Ｃｈｅｗ、　Ｓｏｃ、　＋９６０．８２゜＋８８３；Ｅ、１．Ｃｏ＋Ｂ　ｅｌ　ｔｌ、、ｃｈｅｓ、Ｌｅｅｌ９８７．２２３゜工程（Ｓ　Ｓ）では、好適な１−ハロー２−ニトロアロマティックスは置換１−フルオロ−２−二トロベンゼン、０−フルオロ−ニトロピリジン、又は０−プロモーニトロ−ナフタレン等である。アリール化は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメトキシエタン、ジグリメ等）中で実施する。陰イオンを発生するために用いる塩基は、イソプロピルマグネシウムクロリド、リチウムジイソプロピルアミン又は水素化ナトリウムである。反応は一り０℃〜１ｏｏ℃から選択した温度で実施する。工程（ｕｕ）では、以下の参考文献に記載されているように、アルドキシチの酸化、又はニトロ化合物の脱水によりニトリルオキシドを生成する：　（１）　Ｔｏｕ＋ｅｌｌ、に、Ｇ、Ｂ＠Ｎｉｌ＋ｉｌｅ　０ｔｉｄｃｔ。Ｎ１ｔｒｏｎｅ＋　慇ｎｄ　Ｎｉｌ＋ｏｎｔｌｅ＋　ｉｎ　ＯＢｕ＋ｉｃ　５ｙｎｌｈｅｓｉ＋”　：ＶＣＨＰｗｂｌｉ＋ｈｅ＋＋：Ｎｅｗ　Ｙｏｌｋ、　１９８ｇ、　ｐ６４：　（２１Ｋ１．１．　Ｎ、　＋Ｒｙａ、　Ｅ、　ＫＳｙｎｔｈｅｔｉｃ　Ｃｏｍｅｕｎｉｅｓｌｉｏｎ＋　１９９０．２０．１３７３；ｆ３１　Ｃｈｏｖ、Ｙ、Ｌ、；Ｓｂ２゜マ　Ｌ　；Ｂｅｋｋｅ＋、Ｂ、Ｈ，；ＰｉｌｌＢ、に、Ｓ、Ｌｅｔｅ＋ｏｃ７ｅｌｅｓ　１９Ｂ９，２９，２２４５　。ニトリルオキシドをアルファー、ベータ不飽和エノンの存在下で不活性溶媒中に入れて、２−イソキサゾリンを生成する。任意の異性体をその後クロマトグラフィーで分離する。工程（２２）では、以下の文献に従って、イソキサゾリンを、湿性アセトニトリルに溶解したモリブデンヘキサカルボニルを用いて対応するベータヒドロキシケトンに転換する：Ｂｔ＋ｅｌｄｉ、Ｐ、　Ｇ１Ｂ＊＋ｃｏ、＾、　；Ｂｅｎｅｌｌｉ、　Ｓ、　；Ｍｔｎｌ＋ｅｄｉｎｉ、　Ｓ、　；５ｉｓｏｎｉ、　ＤＳ７ｎｌｈｅｓｉｓ　１９８７，２７６゜あるいは、Ｔｉ’＋を用いてＮ−０結合開裂を得る：　Ｄ目、　Ｎ、　Ｂ、　＋Ｔｏ＋＋５ｅ１１．　Ｋ、　Ｂ、　Ｇ、　Ｔｅｌ＋＊ｈｅｄ＋ｏｎ　１９８３．３９゜２２２７゜さらに、以下の文献に記載されているように、レネーニッケルもイミノ官能基を還元せずにＮ−０結合を開裂し得る：Ｔｏ＋ｓ＋ｅｌｌ、に、Ｇ、Ｂ、”Ｎｉｌ＋ｉｌｃ　Ｏ日ｄｅｓ、Ｎｉｌ＋ｏｎｅｓ　ｓｎｄ　Ｎ白＋ｏｎｓｌｓｓｉｎ　Ｏ「ｇａｎｉｃ　５７ｎｌｈｅｉｉ＋　”　１ＶＣＩＩ　Ｐｌｂｌｉ＋ｈｅｚ：Ｎｅｗ　Ｙｏ＋に、１９８ｇ。ｐ１６　ｓｎｄ　２９Ｇ。この転換の途中で、有意量の脱水が生じてアルファ　、ベータ不飽和エノンを生成するので、これをベータヒドロキンケトンから分離する。工程（ｅ　ｅ　ｅ）では、酸触媒の存在下で反応に安定な溶媒、例えばメタノール又はエタノール中で、周囲温度〜溶媒の還流温度の範囲の温度で、アリール− 又はアルキルスルホニルヒドラジドでケトンを処理して、アリール−又はアルキルスルホニルヒドラゾンを生成する。工程（ｆ　ｆ　ｆ）では、アルファーヒドロキシ酸を生成するためのベンジル酸転位は、トリカルボニル系で、最初にｏ℃〜室温でＴ　ＨＦ−水に溶解したわずかに余分量のヒドロキシル塩基による処理で開始する。反応の途中で温度を室温に挙げる。他の核性物質、例えばメタノールは、周囲温度〜還流温度でのこの種の転換のためのものである。工程（ｇ　ｇ　ｇ）では、アルファーヒドロキシ酸を不活性溶媒中で鉛四酢酸塩で処理することにより酸化的に開裂して、ケトンを生成する。工程（ｈ　ｈ　ｈ）では、アルファーベータ不飽和エノンの選択的還元によりアリルアルコールを生成する。これはセリウム（Ｉ　Ｉ　１）クロリド７水和物の存在下で好適な溶媒、例えばメタノール中で０℃近くでホウ水素化ナトリウムを用いて達成する。工程（ｉｉｉ）では、以下の文献に記載されているように、余分量のジアゾメタンによりトリカルボニル部分の中心カルボニル［−ニエポキシドを生成する：　Ｆｉｓｈｅ＋、　Ｍ、　Ｉ、Ｃｈｏｖ、　Ｋ、　；Ｖｉｌｌｇｌｏｂｏｓ、入　、Ｄｘｎ口ｈｅｌ＋ｋｙ、Ｓ、１．１．ＯＢ、Ｃｈｅｔ　１９９１．５６．２９（１０−２９０７゜工程（ｊ　ｊ　ｊ）では、エステルの酸への遊離は、好適置換エステル官能基の開裂により達成する。このような官能基は、ベンジル、２，２．２−）リクロロエチル、９−フルオレニルメチル等である。これらは、当業者に十分公知の方法により開裂する。工程（ｋ　ｋ　ｋ）では、アミンと酸との縮合を、上記の酸の混合又は対称無水物、又は好ましくは活性化した酸のエステル、例えばヒドロキシベンゾトリアゾール由来のエステル、又は上記の酸の対応するアンルアシト、アシルイミダゾール、又はアンルアシトを用いて実施する。工ｆｌ（ＩＩ＋）では、３２−ヒドロキシ部分の選択的保護化は、種々のトリアルキルシリル基の１つを用いて達成する。次にこれを選択的反転するためにＣ− ２４に孤立第二アルコールを暴露させた。これはメンレート、トシレート等のような２４−ヒドロキシの活性化とその後の好適な核性物質、例えば水、安１香酸、蟻酸等を用いた反転により達成する。他方、不活性２４−ヒドロキシ基の反転は、十分説明されているＭ　ｉ　ｔ　５ｕｎｏｂｕ条件を用いて達成する。シリル得てる及び反転Ｃ−２４アシル化ヒドロキシの遊離は（カルボン酸酸を核性物質として用いる場合）、当業者に十分公知の方法を用いて達成する。あるいは、反転は、アスコマイシンＦＫ−５０６又は同様の化合物を不活性溶媒、例えば塩化メチレン中でジエチルアミノイオウトリフルオリド（Ｄ　Ａ　Ｓ　Ｔ）で処理する場合は３２−ヒドロキシ基の保護化を用いずに達成し得る。工程（ｍｍｍ）では、アルキルオキシ又は置換アルキルオキシカルボニルヒドラジンとアスコマイシンＦＫ−５０６、同様の化合物又はカルボニルを含めた（これに限定されない）その好適な誘導体との縮合（この場合、Ｃ−２２は反応中心として利用できる）は、不活性溶媒、例えばメタノール、エタノール、２−プロパツール等中で、酸、例えば蟻酸、ｐ−ｔ−ルエンスルホン酸又はカンフオールスルホン酸のような触媒の存在下で実施する。工程（ｎ　ｎ　ｎ）では、以下の文献に記載の方法により（しかしこれに限定されない）、３２−オキソーアスコマイシン又は好適なその誘導体のＣ−３３でのアシル化を実施する：ＤｓＲｈｔ口ｅ＋、　Ｒ，Ｌ、　：Ｍｉｌｌｅ＋、　Ｒ，Ｆ、　＋８＋口１＋ｏ口、　Ｒ，Ｇ、　：Ｐ＠＋に、　Ｓ、　２．１．０＋ｇ。Ｃｋｅｓ、１９９Ｇ、５５．１９５９−１９６４゜工程（０００）では、以下の文献に記載の方法により（しかしこれに限定されない）、３２−オキソーアスコマイノン又は好適なその誘導体のＣ−３３でのジアゾ化を実施する：Ｄｘｎｈｅロｅ＋、　Ｒ，Ｌ、　：Ｍｉｌｌｅ＋、　Ｒ，Ｆ、　１Ｂ＋口ｂｏ目、Ｒ９Ｇ、　；？＋に、　Ｓ、　１．１．　Ｏ＋ｇ。Ｃｈｓ愕、　１９９Ｇ、　５５．１９５９−１９６４゜−［程（＋）ｌ’ｌｐ）では、■、はヒドロキシ基又は良好な脱離基（例えばハロゲン、トシレート、ニトロベンゼンスルホネート、メンレート又はトリフレート）であってよい。縮合は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばイソプロパツール、アセトニトリル、ジオキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン等）中で実施する。反応は、塩基（例えばトリエチルアミン、４−メチルモルホリン又は炭酸マグネシウム等）の存在下で、０〜１００℃から選択する温度で実施する。適切なチアゾール含有化合物を、以下の文献に従って調製するｌＩ＊ｎｔ＋＋ｃｈ’　ｓ　ｔ７ｎｌｈ＋＋ｉ＋：Ｌｌ＋１ｌｘｋ７．　Ａ、　Ｒ，；Ｒｅｅ＋。Ｃ，Ｗ、　”Ｃｏｍｐ＋ｔｈｅｎ＋ｉｗｅ　Ｈｅ１ｅ＋ｏｃ７ｃｌｉｃ　Ｃｈｅｍｉ＋ｌＢ”　；ＰｅＢ＊ｍｏｎＰ＋ｅ＋ｓ：０ｘｆｏ「ｄ、　１９８４．　Ｖｏｌ、　６．　Ｐｌ自１８．　ｐ、　２９４−２９９゜工程（ｑ　ｑ　ｑ）では、Ｌはヒドロキシ基又は良好な脱離基（例えばハロゲン、トンレート、ニトロベンゼンスルホネート、メンレート又はトリフレート）である。縮合は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばイソプロパツール、ｔ−ブタノール、アセトニトリル、ジオキサン、Ｎ。Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン等）中で実施する。反応は、塩基（例えばトリエチルアミン、４−メチルモルホリン又は炭酸マグネシウム等）の存在下で、０〜１ｏｏ℃から選択する温度で実施する。好適なアミジンとしては、ホルムアミジン、アルキルアミジン、アリールアミジン及びアルキルイソウレアが挙げられる。好適なグアニジンとしては、Ｎ−アリールグアニジン、Ｎ−アリルグアニジン及びＮ−スルホニル化グアニジンが挙げられる。工程（ｒ　ｒ　ｒ）では、■、はヒドロキシ基又は良好な脱離基（例えばハロゲン、トシレート、ニトロベンゼンスルホネート、メシレート又はトリフレート）である。縮合は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばイソプロパツール、ｔ−ブタノール、アセトニトリル、ジオキサン、Ｎ。Ｎ−）メチルホルムアミド、テトラヒドロフラン等）中で実施する。反応は、塩基（例えばトリエチルアミン、４−メチルモルホリン又は炭酸マグネシウム等）の存在下で、０〜１００℃から選択する温度で実施する。アミドは第一アミド、例えばホルムアミド、アルキルアンルアミド及びアリールアシルアミドである。工程（ｓ　ｓ　ｓ）では、有機金属試薬はグリニヤール試薬、アルキルリチウム又はアリールリチウム試薬である。選択的付加は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば、ヘキサン、エーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、又は２−メトキシエチルエーテル）中で実施する。反応はセリウム（Ｉ　Ｔ　Ｔ）の存在下で、−１００℃〜０℃から選択する温度で実施する。工程（ｔ　ｊ　ｔ）では、工程（Ｓｓ　ｓ）で調製した対応する化合物のガンマアミノアルファヒドロキシカルボニル又は遮蔽ガンマアミノアルファヒドロキシカルボニルは、アルファ及び／又はベータ位置に置換基（例えばアルキル、アリール基等）を有する。縮合は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばイソプロパツール、ｔ−ブタノール、アセトニトリル、ジオキサン、Ｎ。Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン等）中で実施する。反応は、塩基（例えばトリエチルアミン、４−メチルモルホリン、炭酸カリウム又は炭酸マグネシウム等）の存在下で、０〜１００℃から選択する温度で実施する。工程（Ｕ　Ｕ　Ｕ）では、反応は一般に２工程で実施する。つまり、先ず、アルファジケトン又は遮蔽アルファジケトンと１゜２−ジアミノアルカンとの縮合によりジヒドロピラジンを生成する。ジヒドロピラジンが一旦調製されると、それを、Ｐｄ／Ｃ，ＰｔＯ２存在下で空気で酸化する。金属酸化物（例えばＭ　ｎ　０２又はＣｕｂ）を用いて芳香族化する。縮合は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばイソプロパツール、アセトニトリル、ジオキサン、ベンゼン、トルエン等）中で実施する。反応は、乾燥剤、例えば硫酸マグネシウム又は分子篩いの存在下で、０〜１ｏｏ℃から選択する温度で実施する。工程（ｖ　ｖ　ｖ）では、工程（ｓ　ｓ　ｓ）で調製した１、５−ジカルボニル基又は遮蔽１．５−ジカルボニル基はアルファ及び／又はベータ位置に置換基（例えばアルキル、アリール基等）を有する。縮合は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば液体アンモニア、イソプロパツール、アセトニトリル、ジオキサン、ベンゼン、トルエン等）中で実施する。反応は、−４０〜１００℃から選択する温度で実施する。 −Ｌ程（ｗｗｗ）では、工程（ｓ　ｓ　ｓ）で調製した１、４−ジカルボニル基又は遮蔽１．４−ジカルボニル基はアルファ位置に置換基（例えばアルキル、アリール基等）を有する。縮合は、無水ヒドラジンを用いて、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばイソプロパツール、アセトニトリル、ジオキサン、ベンゼン、トルエン等）中で実施する。反応は、乾燥剤、例えば硫酸マグネシウム又は分子篩いの存在下で、０〜１００℃から選択する温度で実施する。工程（Ｘ　Ｘ　Ｘ）では、チオカルボネート生成は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばトルエン、アセトン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン又はピリジン等）中で実施する。反応は、塩基、例えばトリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン及び炭酸ナトリウムの存在下で、０〜１００℃から選択する温度で実施する。チオカルボニル化試薬は、１，１′−チオカルポニルンイミダゾール、１．１’　−チオカルボニルビス（２−ピリドン）、チオホスゲン、又は０−フェニルチオクロロホルメートである。工程（ｙ　ｙ　ｙ）では、カルボネート生成は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばトルエン、アセトン、ブタノン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン又はピリジン等）中で実施する。反応は塩基、例えばトリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン及び炭酸ナトリウムの存在下で、０〜１００℃から選択する温度で実施する。カルボニル化試薬は、１，１′−カルボニルジイミダゾール、１．１′　−カルボニルビス（２−ピリドン）、ホスゲン、トリホスゲン、エチルクロロホルメート、エチルトリクロロアセテート又はＯ−フェニルクロロホルメートである。工程（ｚ　Ｚ　Ｚ）では、環状ホスホネート生成は、先ず選定化合物からのジオールと三塩化リンとを反応させ、その後適切なアルコール及びアミンを付加して実施する。使用するアルコールは、アルキルアルコール又はアリールアルコールである。使用するアミンは第−又は第二アミンである。あるいは、環状ホスホネート生成は、対応する化合物からのジオールを適切なアルコキシホスホリルジクロリドと直接反応させて実施する。ホスホネート生成は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、トルエン、テトラヒドロフラン等）中で実施する。反応は塩基、例えばトリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン及び炭酸ナトリウムの存在Ｆて、０〜１００℃から選択する温度で実施する。工程（ａ　ａ　ａ　ａ）では、チオカルボネートの還元は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばトルエン又はテトラヒドロフラン）中で、０〜１００℃から選択する温度で実施する。使用する還元剤は、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリアルキルホスファイト又は水素化トリーｎ−ブチルスズである。工′Ｎｃｂｂｂｂ）では、対応する化合物の１．２−ジカルボニル基の還元は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばメタノール、エタノール、ピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド〕中で実施する。使用する還元剤は、エタノールに溶解した塩化水素を伴うスズアマルガム、アルミニウムアマルガムであるか、又はピリジン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解した硫化水素である。工程（ｃ　ｃ　ｃ　ｃ）では、対応する化合物の２−（ｏ−ニトロフェニル）− １，３−ジケトンの還元及び縮合は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばエタノール、テトラヒドロフラン、酢酸エチル又はベンゼン）中で実施する。使用する還元剤は、塩化アンモニウム、亜鉛ダストを伴うＰｄ／Ｃ又はＰｔ／Ｃ，上の水素ガス、亜鉛ダストで、塩酸を用いて、０〜１００℃から選択する温度で反応を実施する。工程（ｄ　ｄ　ｄ　ｄ）では、トリアゾール生成は、好適なアセチレン類似化合物とともにアジド誘導体を用いて実施する。その例としては、ジエチルアセチレンジカルボキシレート、ジメチルアセチレンジカルボキシレート、メチルンアノアセチレンカルボキシレート等が挙げられるが、これらに限定されない。反応は周囲温度より以上で又はそれ以下で、さらに好ましくは０〜５０℃で実施する。工程（ｅ　ｅ　ｅ　ｅ）では、ピロール生成は、１．４−ジカルボニル類似化合物とともにアミン化合物を用いて実施する。その例としては、アセトニルアセトン等が挙げられるが、これらに限定されない。好適な溶媒としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパツール、イソプロパツール、アセトニトリル及びＮ。Ｎ−ジメチルホルムアミドが挙げられる。反応は周囲温度より以上で又はそれ以下で、さらに好ましくは５０〜１００℃で実施する。工ｉｌｌ　（ｆ　ｆ　ｆ　ｆ）では、ビシナルヒドロキシル化のための好適な試薬としては、四酸化オスミウム、過マンガン酸カリウム及び酢酸銀と共に用いるヨウ素が挙げられる。四酸化オスミウムは、好ましくは再生剤、例えば過酸化水素、アルカリ性１−ブチルヒドロペルオキシド又はＮ−メチルモルホリン−Ｎ− オ午ン魔、及び反応に悪影響を及ぼさない溶媒、例えばジエチルエーテル又はテトラヒドロフランとともに用いる。過マンガン酸カリウムは、好ましくは積やかな条件で、例えばアルカリ性水性溶液又は！濁液中で用いる。補助溶媒、例えばｔ−ブチル又は酢酸を用いてもよい。°湿性′条件Ｆのヨウ素−酢酸銀は、ｃｉ −ジオールを生成する。好ましくはヨウ素は酢酸水溶液中で、酢酸銀存在下で使用する。゛乾燥゛条件下のヨウ素−酢酸銀は、トランス−ジオールを生しる。ここで、初期反応は、水の非存在下で実施し、最終加水分解はジオールを生成する。各々の場合、酸化は好ましくは０〜１００℃の温度で実施する。ビンナルジオールの酸化的開裂に好適な試薬としては、四酢酸船、フェニルヨードソアセテート、過ヨード酸又はナトリウムメタペリオデートが挙げられる。最初の２つの試薬に好適な溶媒としては、ベンゼン及び氷酢酸が挙げられる。第二の２つの試薬は好ましくは水性溶液中で使用する。反応は好ましくは０〜１００ ℃の温度で実施する。工程（ｇ　ｇ　ｇ　ｇ）では、対応する化合物のアルデヒドの酸化に好適な試薬としては、酸化銀、クロム酸、及び過マンガン酸カリウムが挙げられる。種々の触媒の存在下で、酸素を用いてアルデヒドを対応する化合物のカルボン酸に変換する。触媒は、パラジウム又はプラチナの酸化物である。空気酸化を、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばエタノール、水、アセトニトリル、水性アセトン又はピリジン）中で、０〜１００℃で実施する。工程（ｈ　ｈ　ｈ　ｈ）では、対応するカルボン酸のエステルを、中性条件下で室温で、カルボン酸とアルコールとをモル量の活性化剤、例えばトリフェニルホスフィン及びジエチルアゾジカルポキンレート、カルボジイミド、Ｎ、Ｎ’　− 力ルボニルジイミダゾール及び１−メチル−２−へロピリジニウムヨーダイトの存在下で反応させて調製する。エステルは、対応するカルボン酸をジアゾアルカンと、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばエーテル、塩化メチレン又はテトラヒドロフラン）中で、０〜１００℃で反応させてもよい。玉梓（ｉ　ｉ　ｉ　ｉ）では、対応する化合物のアリル基のシクロプロパン化を、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばエーテル、塩化メチレン又はテトラヒドロフラン）中で、パラジウム（■１）アセテートのような触媒の存在下で実施する。反応温度は一１５〜５℃である。工程（ｊ　ｊ　ｊ　ｊ）では、ピロール環は、対応する化合物の１゜４−ジカルボニル基をアンモニア又は置換アミン、例えばベンジルアミン又は２−アミノエタノールと反応させて生成する。好適な溶媒は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば塩化メチレン、テトラヒドロフラン又はジオキサン）である。反応は好ましくは０〜１００℃で実施する。工程（ｋ　ｋ　ｋ　ｋ）では、対応する化合物の１，４−ジカルボニル基の環化は、触媒量の酸（例えば酢酸又はアリールスルホン酸）の存在下で実施する。反応は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えば塩化メチレン、エーテル、ベンゼン又はトルエン）中で実施する。反応は好ましくは０〜６０℃で実施する。工程（Ｉ　Ｉ　Ｉ　＋）では、好適な試薬は、パラジウム（ＩＩ）ハライド（例えば塩化パラジウム（Ｉ　＋）　）で、第一銅ハライド（例えば塩化銅（■））とともに用いる。好適な溶媒は、反応に悪影響を及ぼさないもの（例えばＤＭＦ及び水）である。反応は好ましくは０〜１００℃で実施する。工程（ｍｍｍｍ）では、対応する化合物中のアルファメトキンシクロヘキサノンのケトンを、ヒドロキシルアミンを用いて先ずそのオキシム誘導体に変換する。誘導は、好ましくは反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばエタノール、イソプロパツール又はテトラヒドロフラン）中で、０〜１００℃で実施する。次にオキシムのヒドロキシル基（＝　Ｎ　−ＯＨ）を、アルキルスルホニルクロリド（例えばメタンスルホニルクロリド又はトリフルオロメタンスルホニルクロリド）、アリールスルホニルクロリド（例えばベンゼンスルホニルクロリド、トルエンスルホニルクロリド）、カルボン酸無水物）（例えば無水トリフルオロ酢酸）、５塩化リン、塩化チオニル又はヨウ化Ｎ−メチル２−フルオロピリジンとの反応により、良好な脱離基（＝Ｎ−ＯＬ）に変換する。オキシムの活性化は、好ましくは反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばテトラヒドロフラン又は塩化メチレン）中で、−２０〜５０℃で実施する。次に対応する化合物の活性化オキシムをプロトン溶媒、例えばエタノール又は低級アルキルアルコール中で０〜１００℃で断片化する。あるいは、工程（ｍｍｍｍ）では、アルファーメトキシシクロヘキサノンをＯ− アルキルスルホニルヒドロキシルアミン又は０−アリールスルホニルヒドロキシルアミンと直接反応させて、Ｂｅｃｋｍａｎｎフラグメンテーションを実施する。反応は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばエタノール、プロパツール又はベンジルアルコール）中で、０〜１００℃で実施する。工程（ｎ　ｎ　ｎ　ｎ）では、好適な試薬としては、触媒、例えば注下で使用するンアノボロヒドライド、水素化アルミニウムリチウム、ボラン−ピリジン又は水素が挙げられるが、これらに限定されない。酸性環境はいくつかの場合には還元を促進するので、このために、酸、例えば塩酸又はｐ−１−ルエンスルホン酸を加えてよい。還元は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばエタノール、酢酸エチル）中で実施する。工程（ｏ　ｏ　ｏ　ｏ）では、好適な触媒、例えばパラジウムオンカーボンを用いて反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばエタノール）中で、０〜１００℃で水素添加して、オキシムの対応するアミンへの還元を達成する。工程（＋）　［）　ｐ　ｐ）では、好適な触媒、例えばパラジウムオンカーボン又はロジウムオンアルミナを用いて反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばメタノール、エタノール、イソプロパツール、酢酸エチル）中で、−７８〜１００℃ で水素添加して、エノンの対応する飽和ケトンへの還元を達成する。工程（ｑ　ｑ　ｑ　ｑ）では、イソキサゾリン生成は、以下の反応条件でベータヒドロキシオキシムを用いて達成するが、これに限定されない。１つの有望な方法は、はぼ室温で、反応に悪影響を及ぼさない溶媒、例えば塩化メチレン中で、ベータヒドロキシオキシムをＭａｒｔｉｎのスルフラン脱水試薬で処理することである。あるいは、ベータヒドロキシオキシムをピリジンのような溶媒中で０〜１００℃でｐ−トルエンスルホニルクロリドで処理する。工程（ｒ　ｒ　ｒ　ｒ）では、分子内アルドール反応は、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばテトラヒドロフラン又はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド）中で、−７８〜１５０℃で、塩基、例えば水素化カリウム又はナトリウムでカルボニルを処理して、エノンの対応する飽和ケトンへの還元を達成するが、これらに限定されない。工程（ｓ　ｓ　ｓ　ｓ）では、テトラヒドロフランのような溶媒中で、−７８〜１００℃で、アルファ、ベーター不飽和エノンをグリシンエステルイミンのナトリウムエルレートで処理して、環状イミンを生成する。水性環境中でイミンを加水分解すると自然に環化し、環状イミンが生じる。工程（１１１１）では、好適な触媒、例えば臭化リチウム及びトリエチルアミンの存在下で、反応に悪影響を及ぼさない溶媒（例えばテトラヒドロフラン）中で、はぼ室温でアルファ。ベータ不飽和エノンとグリシンエステルイミン間に１．３−２極性ンクロ付加して、置換ピロールを生成する。工程（ｕ　ｕ　ｕ　ｕ）では、ＵＶ線に暴露するか又は加熱して、アルファノアジケトンを分解する。水を含有する溶媒混合中で反応させるとＷｏｌｆｆ転位によりしばしば確実にベーターケトカルボン酸を生じ、アルコールを含有する溶媒中ではベーターケトエステルが、アンモニア、第−又は第二アミンを含有する溶媒中ではベーターケトアミドが生しる。さらに、ベータケトカルボン酸を生成する場合は、脱カルボキシル化が自然に又は加熱すると起きる。本発明の化合物、方法及び使用を、以下の実施例でさらに詳細に説明するが、これらは本発明を限定するものではない。本明細書中の引用文献は、参照に本発明に含めるものとする。実施例１ａ及び１ｂ　式１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；Ｒ１＝トリフルオロメチルスルホニル（Ｒ体）及び式Ｔ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ　＝　１　；　Ｒ’　＝Ｎ３　（Ｓ体）実施例１ａ・アスコマイシン（４，７４８ｇ、６ｍｍｏ　ｌ）を０℃で塩化メチレン６０ｍＬに溶かした。ピリジン（４，８５ｍＬ、６０ｍｍｏ　Ｉ）次に無水トリフルオロメタンスルホン酸（１，５１４ｍＬ、９ｍｍｏ　ｌ）を反応混合物に注意深く加えた。０℃で１０分間撹拌し、室温まで温めた。２時間撹拌した後、冷たい１０％Ｎ　ａ　ＩＩ　ＣＯ３水溶液を冷やした反応混合物に注意深く加えた。酢酸エチル（５０ｍＬｘ３）を加えて、化合物を抽出した。有機相を合わせ、塩水、１０％Ｎ　ａ　ＨＣＯ３、塩水、１０％Ｋｌ（ＳＯ２、塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を除去した後、Ｃ３２−トリフレートが定量可能な量得られた。実施例１ｂ・式１：Ｒ＝、１チル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｎ３　（Ｓ体）。実施例１ａの生成物をクロロホルム４０ｍＬに溶かし、アジ化ｎ−テトラブチルアンモニウム（１４ｍｍｏｌ）を含むクロロホルム溶液（Ｈｅｎ＋ｌ＋１ｅｋｓｏｎ、　１．　Ｂ、　；Ｉａｄｅｌ＠ｏｎ、　Ｄ、＾、。ＣｈＩｎｃｅｌｌｏ＋、Ｔ、５７ｎｔｈｅｓｉ＋　１９１１４．３２１　）を混合物に加え、室温で３０分間撹拌した。溶媒を除去し、未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、０５％メタノールクロロホルム溶液で溶出して精製すると、標記化合物が２．０４３ｇ得られた。少量（１，００ｍ　ｇ　）を再結晶（ｎ−ヘキサンＢｍＬ中エーテル３　ｍ　Ｌ、　）させ、さらに精製すると６１．８ｍｇが得られ、これを特性化に使用した。融点１５：３−１５４ ℃。ＭＳ　ｆＦＡＢｌ■／寡＝１に＝８５５　；　ＩＲ（ＫＢ＋ｌ　３４９０−３４２０　、２９６０．２９４Ｇ。２Ｈ０，２８３０，２０９０，１７４０，１７２０，１７００，＋６５０．　１４５５．　１３８０゜１３６Ｇ、　＋３５０．　Ｎ２５．　１２８５．　１２７０．　１２００．　１１７４．　１１６０．　１１４５゜１１０５、　１０９０．　１０４０．　ｌ０ＩＯｃＩＩ−’。実施例２：式Ｉ：Ｒ＝ｘチル；Ｒ’　＝１１；ｎ＝１　；Ｒ’　＝ＮＨ２（Ｓ体）実施例１ｂの生成物（１，６３２ｇ、２ｍｍｏｌ）をメタノール　酢酸エチル（１：１）４０ｍＬに溶かした。リンドラ−触媒（鉛で被毒した炭酸カルシウム担持パラジウム）（８１６ｍｇ）を加えた。水素１気圧で４日間水素添加した。触媒を濾過して除き、さらにリンドラ−触媒（８１６ｍｇ）を加え、もう１目水素添加Ｉ−だ。この時点でＴ　Ｌ　Ｃ分析は反応が完了したことを示した。触媒を珪藻上で濾過し、次に濾液を蒸発乾固させると、標記化合物が１．５６０ｇ得られた。生成物（２００ｍｇ）をｆｉ−ヘキサン（１ｍＬ）及びエーテル（７ｍＬ）中の酢酸エチル（０，７５ｍＬ）から再結晶し、特性化に使用した。収量　１３８．４ｍｇ、融点１４１−１４３℃。ＭＳ（ＦＡＢｌ＋＋／ｌ：　Ｍ［＝８２９　；　ＩＲ（ＫＢ＋）　３４４０．　２９６Ｇ、　２９４０．　２８８０゜２８３０、１７４Ｌ　＋７０５．１６４５．１５００．１４５５．１４５０．　＋３８０．１３５０゜１３２５、　１２８０．　１２４５．　１２００．１１７０．１１４０．１１００．　１０４０．１０１５０１−’。実施例３：式１．Ｒ−エチル；　Ｒ’　＝）Ｉ　；　ｎ＝１　：Ｒ’　＝ＣＨ３Ｃ（０）Ｓ　（Ｓ体）実施例１ａの生成物（９２３ｍｇ、１ｍｍｏ　Ｉ）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）３ｍＬに溶解し、チオ酢酸カリウム（５７１ｍｇ、５ｍｍｏｌ）を加え、反応液を室温で５時間撹拌した。酢酸エチル（３０ｍＬ）を反応混合物に加え、有機相を塩水、１０％Ｎ　ａ　ＨＣＯ３、塩水、１０％ＫＨ８Ｏ４及び塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると未精製生成物８３７ｍｇが得られた。これを２回、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、０．５％メタノールクロロホルム溶液で溶出して精製した。収量・１６５ｍｇ。ＭＳ　（ＦＡＢＩ密／＋：Ｍ＋に＝８８８　；　ＩＲ（ＫＢ＋ｌ　３４４０．２９６０．２９３０．２８８０゜２８２０、　１７４０．　１６９０．　１６４５．　１４５５．　１４５０．　１３８０．　１３５５．　１３２５゜＋２８０．　１２４５．　１１９５．　１１７０．　１１６０．　１１４０．　１１０５．　１０３５．　＋０２０゜１０１０（２１−’。実施例４　式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝ＣＨ３Ｃ（０）ＮＨ（Ｓ体）０℃のピリジンａ　ｍ　Ｌ中の、実施例２で得られた生成物（２５０ｍｇ、０．３２ｍｍｏ　Ｉ）を塩化アセチル（２７ｍＬ。０．３８ｍｍｏｌ）で処理し、混合物を０℃で３０分間、室温で一晩撹拌した。酢酸エチル（２５ｍＬ）を加え、有機相を１０％ＫＩＳＯ，塩水、１０％Ｎａ■ ＩＣＯ３、塩水で洗い、次に硫酸マグネシウムで脱水した。得られた未精製生成物（２３４ｍｇ）をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、クロロホルム中の０．５％−１，５ｏｇのメタノールで溶出して精製した。収量＋５３．７ｍｇ０Ｎ５　（ＦＡ８１市／＋　＋　１４に＝８７１　；　ＩＲ（にＢＴ）　３４３０．２９６０．２９４０．２８７０゜２８２０、　１７３５．　１７０５．　１６４５．　１５２０．１４５０．　１３７５．１３５０．　１３２０゜１００、＋２６０．　１２４５．　１１９５．　１１７０．　１１６０．　１１３５．　１１００．１０８５゜１０３５、　１０２００１−’。実施例５：式１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｃ６Ｈ５Ｃ（０）ＮＨ（Ｓ体）実施例２で得た生成物（２５０ｍｇ、０．３２ｍｍｏｌ）を実施例４に記載のものと同様の方法で処理した。但し、塩化アセチルの代わりに塩化ベンゾイル（４４，１ｍＬ、０．３０ｍｍｏｌ）を使用した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけると白色の結晶が得られた。収量＋４６．０ｍｇ。ＭＳ　（ＦＡＢＩ　ｍｉｓ　：　Ｍ十に＝９３３　；　ＩＲ（ＫＢ＋１３４４０．２９Ｇ０．２９４０．２８８０゜２８３＋１．１７４０．１７２０．１７０５．１６４５．１５７５．１５１５．１４８０．１４５０゜＋４４５．１３７５．１３６０．１３４５．１３２０．１２８０．１２６０．１２４５．１１９５゜１１７０、　１１６０．　１１４０．　１１００．　１０９Ｇ、１０３５．　１０２０．　１０１０１０ａ’実施例６：式１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｃ６）（ｓ　Ｓ　（０）　２　Ｎ　Ｈ（Ｓ体）実施例２で得た生成物（２５０ｍｇ、０．３２ｍｍｏ　ｌ）を実施例４に記載のものと同様の方法で処理したが、塩化アセチルの代わりに塩化ペンセンスルホニル（４８，５ｍＬ。０．３０ｍｍｏｌ）を使用した。収量：８４．６ｍｇ。ＭＮＦＡ８１ｍ＃：　Ｍ＋に＝９６９　；　１ＲｆＫＢ＋）　３４４０．２９６０．２９４０．２８７０゜２８２０、　１７４０．　１７００．　１６４５．１４５０．１４４５．１３７５．　＋３３５．　Ｎ２５゜ＮＯ５，１２９０，１２６０，１２４５，１１９５，１１６０，１１４０，１１００，１０９０゜１０ｇ０．　１０３５．　１０２０．　ｌ００５ａｓ−’。実施例７：式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ−１；　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ３２＝Ｈ；　Ｒ３３＝ＯＨ：　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ３５及ヒＲ３６！ｔｌ：ｔキシム、＝ＮＲ３８（Ｒ３８＝ヒドロキシル）を形成するアスコマイシン（１，１８７ｇ、１．５ｍｍｏｌ）をエタノール３０ｍｒ、に溶解した。ピリジン（１，２１５ｍＬ、１５ｍｍｏｌ）及び塩酸ヒドロキシルアミン（１，０４３ｇ、１５ｍｍｏｌ）を反応混合物に加えた後、４時間緩和に還流した。エタノールを蒸発させて除去し、クロロホルム５０ｍＬを残渣に加えた。クロロホルム相を水、１０％ＫＩＩｓ０４、水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した。蒸発乾固させると標記化合物１．１７５ｇが得られた。これを酢酸エチル（８ｍＬ）−ヘキサン（２５ｍＬ）から再結晶させると８８９ｍｇが得られた。ＭＳｆＦＡＢＩ１１／＋：　Ｍ＋に＝８４５　；　ＩＲ（ＫＢＴｌ　３４４０．２９５０．２９２０．２８７０゜２Ｎ０．　１７４０．１７０５．１６４５．　＋４５０．１３７５．　Ｈ５０，＋３３０．１２８０゜１２６Ｇ、１２３０．１１９５．１１７０．１１６０．１１００．１０９０．　＋０４５．　＋０３５゜＋０１Ｑｃｎ−’。実施例８ａ及び８ｂ：式１：Ｒ＝ｘチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；Ｒ１＝第三ブチルジメチルシリルオキシ（Ｒ体）及び式ＶＯＲ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝第三ブチルジメチルシリルオキシ；Ｒ３１＝Ｈ１Ｒ３２＝１１；Ｒ３３とＲ３４はともにオキソ基を形成する：Ｒ３５及びＲ３６は共にオキソ基を形成する実施例８ａ：アスコマイシン（１，５８２ｇ、２ｍｍｏ　ｌ）を塩化メチレン３０ｍＬ及び塩化第三ブチルジメチルシリル（３６２ｍｇ、２．４ｍｍｏｌ）に溶解し、イミダゾール（２７２ｍｇ、４ｍｍｏ　Ｉ）を加えた。次に、室温で４日間撹拌した。塩化アンモニウム飽和水溶液（２０ｍＬ）を加え、生成物を酢酸エチル（２５ｍＬＸ３）で抽出した。酢酸エチル相を合わせ、塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水し、濾過し、蒸発乾固させると、標記化合物２．１１ｇが得られた。実施例８ｂ・−７８℃の塩化メチレン５ｍＬ中の塩化オキサリル（９６ｍ　Ｔ− 、１、１ｍ　ｍ　ｏ　ｌ　）の溶液に塩化メチレンＪｍＬ中のジメチルスルホキシド（１５６ｍＬ、２．２ｍｍｏ　Ｉ）の溶液を加え、混合物を一７８℃で撹拌した。３０分後、塩化メチレン５ｍＬ中の実施例８ａの生成物（４５３ｍｇＳ０．５ｍｍｏｌ）の溶液を加えた。撹拌しながら、反応を一７８℃で１時間半行い、次にトリエチルアミン（６９６，９ｍＬ、５ｍｍｏｌ）を加えた。−７８℃で５分間撹拌した後、混合物を室温に３０分間おいた。反応混合物を酢酸エチル４０ｍＬと１０９６　Ｋ　ＨＳ　Ｏ４溶液１．０　ｍ　Ｌに分配した。分離した有機相を１０？６ＫＨ３Ｏ４（３Ｘ）、塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると未精製の標記化合物４３８ｍｇが得られた。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、２．５４’６酢酸エチルのクロロホルム溶液で溶出して精製した。収量　２２５．８ｍｇ０ＭＳ（ＦＡＢ１ｍ／＋：　Ｍ＋に＝９４２　；　ＩＲ（ＫＢＴｌ　３５００．３４４０．２９５０．２９３５゜２８１１０、２８６Ｇ、　２８２０．１７４０．１７２０．　＋６５０．１６３０．１５８０．　＋４６０゜１４４５、　Ｈ８０，＋３６０．１３２５．１２８０．１２５０．１２２０．１１９５．１１７０゜１１３５、　１１０５．　＋０９０．　１０４０．　１０３０．　１００５国− １０実施例９一式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｅ−ド　（Ｓ　体　）アスコマイシン（３，１６４ｇ、４ｍｍｏ　Ｉ）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２０ｍＬに溶解し、ヨウ化メチルトリフェノキンホスホニウム（２，７１３ｇ、６ｍｍｏｌ）を加えた。反応を窒素雰囲気下、室温で４日間実施した。約１００ｍ１の酢酸エチルを反応液に加え、有機混合物を塩水、水、塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した。濾過後、濾液を蒸発乾固させ、得られた未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、１０％酢酸エチルクロロホルム溶液で溶出して精製した。収量：ｔ、ｓｅｇ０ＭＳｉＦＡＢ１ｍ／＋　：　Ｍ＋に＝９４０　；　ＩＲ（ＫＢＴｌ　３５００．２９６０．２９４０．２８７０゜２８２０、１７４０．　１７２０．１６９０．１６７０．１６５０．１６２０．１５００．１４９０゜１１５０、１４４０．１４０５．１３８５．１３６０．１３５０．１３２０．１２８０．１２５０゜１２＋１５．１１９５．　１１７０．１１５５．１１４０．１１００．１０９０．１０７０．１０３５゜ＩＧＯＯａｉ−’。実施例１０　式Ｖｌｌ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’＝ヨード：Ｒ２１とＲ２２は共にオキソ基を形成する；Ｒ２３−ヨード、　Ｒ２４＝、、　、　Ｒ３＋とＲ３３は共に結合を形成する。Ｒ３２＝Ｈ。Ｒ３４＝、（、Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する標記化合物は実施例９に記載の反応から副産物として単離された。収量・１６６ｍｇ０Ｍ５ＦＦＡＢＩ１１／！：　Ｍ＋ｌ１＝１０３０．　Ｍ−ｌ□８６６　；　ＩＲ（ＫＢＴｌ　３４２０．２９８０．２９３０゜２８７ｆｔ、　２１１２０．　１７４Ｇ、＋６９０．１６４５．　＋６２５．１５９０．１４８５．１４５０゜Ｎ８０．　＋３６０．　１３４５．１３２０．１２８０．１２６０．１２４５．　１２１０．１１９０゜ｌｌ７Ｇ、１１４０．　ＩＩＱｏ、１０９０．　１０７５．　１０２０．　ｌ０ＩＯｃ１１−’０実１１１：式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝ｌ　；Ｒ’　＝ｃ６Ｈ５ｏｃ　（Ｓ）Ｏ（Ｒ体）アスコマイシン（９８８，８ｍｇ、１．２５ｍｍｏ　ｌ）を水浴中で塩化メチレン１０ｍＬに溶解した。ピリジン（４０４ＩＩ　［１，５ｍｍｏ　Ｉ）次に塩化フェノキシチオカルボニル（Ｌ９０ｕＬ、１．３７５ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を０℃で５分間撹拌し、室温で２４時間撹拌した。さらにピリジン（４０４ｕ　Ｌ、５ｍｍｏｌ）及び塩化フェノキシチオカルボニル（１９０ｕｌ４．１．３７５ｍｍｏｌ）を加え、４時間撹拌を続けた。溶媒を蒸発させ、酢酸エチル４０ｍＬを残渣に加えた。酢酸エチル層を１０％Ｋ）（Ｓｏ、（３Ｘ）、塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると、未精製生成物１．４００ｇが得られ、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、５％酢酸エチルクロロホルム溶液で溶出して精製した。標記化合物（７３０ｍｇ）が得られた。慧Ｓ　（ＦＡＢＩ謹／＋：　Ｍ＋に＝９６６　；　ＩＲ（ＫＢ＋ｌ　３４２Ｇ、２９Ｂ０．　２９３０．　２８７０゜２８２５、１７１０．　１７０５．　＋６４５．　１６３０．１５９０．　１４９０．１４５０．１３７５゜１３６５、１１２０．　１２芭Ｌ　１２６Ｌ　１２３１１．１２Ｎ、　１１７５．１１４０．１１０＋１゜１０９Ｌ　１Ｇ８Ｇ、１０３５．　１０２０．　１００５国−１゜実施例１２゜式１１１：Ｒ＝エチル：　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ”＝Ｈ、Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３３とＲ３４は共にオキソ基を形成する；Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成するアセトニトリル（５ｍＬ）と４８％弗化水素酸（１００ｕＬ）の溶液に、アセトニトリル（７ｍＬ）中の実施例８ｂの生成物（５３０ｍｇ、０．５８６ｍｍｏｌ）を滴加し、混合物を室温で３５分間撹拌した。酢酸エチル（６０ｍＬ）を反応混合物に加え、有機層を塩水、１０％ＮａＨＣＯ３、塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると未精製標記化合物５１５ｍｇが得られ、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、１％メタノールクロロホルム溶液で溶出して精製すると、純粋な化合物が３０４．８ｍｇ得られた：ＭＳＩＦＡＩＩ）ｍ／＋　：　Ｍ＋に＝８２８　；　ＩＲｆＫＢ【）３４２０．２９６０．２９３０．２８７Ｇ。２！１２０．１７４０．１７２０．１６４５．　＋６２０．１５８０．　＋４５０．１３８０．　＋３４５゜１３２５、１２１１０．１２６０．１２４５．１２２０．１１９５．１１７０．１１４０．１１１５゜１１００、１０９０．１０５０．１０３５．　ｌＮＯａｍ−’。実施例１３：式Ｖ　Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝ＣＨＱＣ（Ｓ）Ｏ；Ｒ３１＝ｆ（；Ｒ３２＝Ｈ；Ｒ３３＝Ｃ６ＨｓＱＣ（Ｓ）Ｏ、Ｒ”＝Ｈ、Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成す実施例１１に記載の反応液から標記化合物（４６０ｍｇ）を少量成分として単離した。ＭＳ　（ＦＡ［ｌ１ｍ／＋　：　Ｍ＋に＝ＩＩｆ１３　；　ＩＲ＋にＢ＋）　３４２０．２９８０．２９３０．２８７０゜２８２０、１７４１１．　１７１０．　１６４５．　１６２０．　１５９０．　１４９０．　１４５０．　＋３８０゜１３６５、Ｎ２Ｇ、１２８０．　１２６０．　１２１０．　１２ＧＯ，１１４Ｇ、１１００．　ＩＱＴＧ。１０３５、　１０１５．　１０００■−１実施例１４ａ及び１４ｂ　式Ｖ：Ｒ＝エチル；Ｒ’＝Ｉ（；ｎ＝１　＋　Ｒ２＝Ｈ；　Ｒ２′＝ｌｒ　、　Ｒ３とＲ４は共にオキソ基を形成する。　Ｒ”＝ＩＩ　、　Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３３とＲ３４は共にオキソ基を形成する：Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する実施例１４ａ−塩化メチレン（７ｍＬ）中の塩化オキサリル（２４０ｕＬ、２．７５ｍｍｏｌ）の溶液にジメチ／ｌ／　ス／ｌ／　＊　キンド（３９０ｕ　Ｌ、５．５ｍｍｏ　りを一７８℃で５分間かけて加えた。反応混合物を一７８℃で３０分間熟成させた。塩化メチレン（８ｍ　Ｌ　）中のアスコマイシン（９８８，８ｍｇ。１．２５ｍｍｏｌ）を滴加し、−７８℃で１時間半撹拌した。トリエチルアミン（１，７４ｍＬ、１２．５ｍｍｏ　ｌ）を注意深く加え、混合物を一７８℃でさらに５分間撹拌した。次に、室温に３０分間温めた。酢酸エチル（８０ｍＬ）を反応混合物に加え、有機相を塩水、１０％ＫＨ８Ｏ４、塩水、１０％Ｎ　ａ　ＨＣ０，３、塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると未精製生成物９２０ｍｇが得られた。これをンリカゲルカラムクロマトグラフイーにかけ、７％酢酸エチルクロロホルム溶液で溶出して精製した。純粋な標記化合物６４８ｍｇが得られた。ＭＳ　（ＦＡＢ１ｍ／ｒ　：　Ｍ十に：８２６　、ｆ１＋）ｌ＝？ｌ１８　、　Ｍ＋トＩＩ２０＝１７０　；　ＩＲ（ＫＢ＋）３４２０、　２９６０．　２９３０．　２８７０．　２８２Ｇ、＋７２５．　１６４５．　１６２５．　１４５０゜１３８ｔ１．　１３４ｔｌ、１３２５．　１２１１０．　１００．　１２４５．　１２２０．　１１９５．　１１７０゜１１３０、１１１５．　ＩＩＨ，１０９Ｇ、　１０４０ｃ２１−’０実施例１４ｂ　式１．Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝ＴＩ；ｎ＝、Ｌ　；Ｒ２＝Ｈ、Ｒ２＝Ｈ、Ｒ３とＲ４は共にオキソ基を形成する（１４６ｍｇ）も上記反応の少量成分として単離した。ＭＳｆＦＡＢ１ｍ＃：　Ｍ＋に＝！ＩＮ　；　ＩＲ（ＫＢ＋ｌ　３４２Ｌ　２９６Ｑ、　２９３０．０８Ｇ。２８２０、１７２５．１７１０．１６４５．１４５０．１３７５．　Ｈ４０，１３２５，１２８０゜１２６Ｑ、　１２４５．１２２５．１１’１５．　ｌｌ’ｔｏ、　１Ｈｔｌ、　１１００．１０９１１．１０３５゜この化合物は実施例４８に記載の方法でも製造した。実施例１５：式ＶＩ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；Ｒ”とＲ２２は共にオキシム＝ＮＲ３８（Ｒ３８＝ヒドロキシル）を形成する。　Ｒ２３＝Ｏ１（、Ｒ”＝Ｈ、Ｒ”＝Ｈ、Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３３＝ＯＨ。Ｒ３４＝１１．Ｒ３５とＲ３６は共にオキシム＝ＮＲ３ｇ（Ｒ３１１＝ヒドロキシル）を形成するエタノール（７０ｍＬ）中のアスコマイシン４．７４８ｇ。６ｍｍｏ　ｌの溶液に塩酸ヒドロキシルアミン（４，１７２ｇ。６０ｍｍｏ１）及びピリジン（４，８６ｍＬ、６０ｍｍｏｌ）を加えた。次に、混合物を緩和に４時間還流し、撹拌しながら一晩室温においた。混合物を実施例７に記載のように処理した後、得られた未精製物質（４，８５ｇ）をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、１．５％〜４％メタノールクロロホルム溶液で溶出して精製した。純粋な標記化合物１８４ｍｇが得られた。ＭＳｉＦＡＢｌｓ＃：ｉｌ＋に＝８６０．　Ｍ＋Ｈ＝８２２：ＩＲ（ＫＢ＋１３４２０　、　２９６０．　２９３０゜２８７０、　２８２０．　１７４５．　１６４０．　１４５０．１３９０．　Ｎ７５．　＋３５０．　１３２５゜＋２８０．　１２６５．　１２２０．　１１９５．　１＋７［１，１１６０，１１４０，１１００，１０９０゜１０５０、　１０４Ｇ、１ｏｌｓｔ■−１゜実施例１６　式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｈ標記化合物を一般的な文献にある手法（Ｔ＞７ｔｏ＋、　Ｅ、　Ｃ，；Ｌｗｋｓ。Ｉｌｌ、　Ｇ、　Ｈ，：ＭｅＫｉｌｌｏｐ、＾１．　ＡＩｌ、　Ｃｈｅｌｌ、　Ｓｏｃ、　１９６８．９０．２４２１；Ｃｏ＋Ｂ。Ｅ、　１．Ｓ暑ｃｈｄｅｗ、Ｈ，Ｓ、　１．　Ａｓ、　Ｃｂｔ−３ｏｅ、　１９７３．９５．８４１１３　）に従って製造する。無水テトラヒドロフラン中の実施例８ｂの生成物（１ｍｍｏ　りの溶液に第一タリウムエトキシドを０℃で撹拌しながら加える。混合物を室温で３０分間撹拌し、溶媒を除去すると粉末が得られ、これをベンゼンに溶解し、臭化ベンジル（１ｍｍｏｌ）を加える。混合物を撹拌しながら数時間（Ｔ　Ｌ　Ｃ分析で反応が完了したと判断されるまで）加熱還流し、冷却し、濾過する。濾液をフロリジルの短いカラムに通して、臭化タリウム（１）の痕跡を除去し、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、所望の化合物が得られる。実施例１７：式Ｖ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；Ｒ’　＝第三ブチルジメチルシリルオキシ；Ｒ３１＝ブロモ；Ｒ３２＝ブロモ；ソ基を形成する標記化合物は文献（Ｈｅｌｌｎｅ＋、　Ｒ，；Ｓ＊Ｉ＊＋７ｎ、　１．　Ｅ、　；ｊｏａｌｉｅ、　Ｍ、　Ｍ。Ｔｅｌ＋ｘｈｅｄ＋ｏｎ　Ｌｅｌｌ、＋９８７．２８．６５３９　）に記載の一般的方法を使用して製造する。ジオキサン中の臭素の溶液をジオキサン中の実施例８ｂ生成物の溶液に太陽光ランプ（１５０ワツト、１２０−　ｌ　２５　Ｙｅｌｌ　［１ｗ＋ｏ　Ｌｉｆｅ）照射下で滴加する。２時間照射した後、酢酸エチルを反応混合物に加える。酢酸エチル層を塩水で洗い、脱水し、蒸発させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると純粋な標記化合物が得られる。実施例１８　式Ｖ　：　Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝ｊＴ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝第三ブチルジメチルシリルオキシ１Ｒ３１とＲ３２の一方はＯＨである。Ｒ３３とＲ３４は共にオキソ基を形成する。Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する標記化合物は文献（＾ｎｄｅ＋＋ｏｎ、　１．　Ｃ，１５ｍ１ｌｈ、　Ｓ、　Ｃ，５ＹＮＬＥＴＴ　１９９Ｇ。２．１０７）に記載の一般的な方法で製造する。窒素雰囲気下、−７８℃で、無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中のりチオジイソプロピルアミドの溶液をＴ　ＨＦ中の実施例８ｂの生成物の溶液に加える。混合物を一７８℃で３０分間撹拌し、次にオキソジペルオキシモリブデナム（ピリジン）−１，３−ジメチル−３，４，５，６−チトラヒドロー２（ＩＦＩ）−ピリミジノンを一度に加える。混合物をさらに３０分間、−７８℃で撹拌し、１０９６塩化アンモニウムで中和し、酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル−を塩水で洗い、脱水し、蒸発させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると純粋な標記化合物が得られる。実施例１９：式１１：Ｒ＝ｘチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ”とＲ２２は共にオキソ基を形成する；Ｒ２３＝クロロ：Ｒ２４＝Ｈ氷浴中のジエチルエーテル２　ＯｍＬ中の塩化チオニル（２６０ｕＬ、３．５２ｍｍｏｌ）及びピリジン（４００ｕ　Ｌ。４．９ｍｍｏ　ｌ）の懸濁液にジエチルエーテル５０ｍＬ中の実施例５４　（２，Ｏｌｌ、９６ｍｍｏｌ）を１０−１５分かけて加えた。０℃で３０分間撹拌し、蒸発乾固させた。酢酸エチル（５０ｍＬ）を反応混合物に加え、有機層を塩水（３０ｍＬｘ３）で洗った。次に無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると未精製生成物２．１４ｇが得られ、これをアセトニトリル６０ｍＬに溶解し、４８％フッ化水素水溶液（３００ｕＬ）を加えた。次に、室温で３０分間撹拌した。反応物を酢酸エチル（６０ｍＬ）と１０％重炭酸ナトリウム（２０ｍＬ）に分配し、水層を酢酸エチル（３０ｍＬ）で洗った。有機層を合わせ、塩水（３０ｍ　Ｌ　ｘ　３　）で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると未精製生成物１゜７０ｇが得られ、シリカゲル（１００ｇ）カラムクロマトグラフィーにかけ、先ず１５％アセトンヘキサン溶液で、次に３０％アセトンヘキサン溶液で溶出して精製すると、純粋な標記化合物２９０ｍｇが得られた。ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋に＝８４８゜融点１１９−１２０℃。実施例２０：式Ｖ　Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１；Ｒ３とＲ４は共にオキソ基を形成する。Ｒ２＝Ｈ、Ｒ２′＝Ｈ、Ｒ”と３２　、３３　３４Ｒは共にジアゾ基を形成する。ＲとＲは共にオキソ基を形成する：Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する標記化合物は、Ｒ，Ｌ、　Ｄｔｎｈｅｉｓｅ＋、　Ｒ，Ｆ、　Ｍｉｌｌｅｔ、　Ｒ，Ｇ、　Ｂ＋口ｂｏｉ３Ｓ、　１．　？＋に、　Ｉ、　ＯｒＭ、　Ｃｈｅｌｌ、　１９９０．５５．１９５９−１９６４に記載の方法で製造した。従って、水（１８ｕＬ）、トリエチルアミン（０，２１ｍＬ、１．５ｍｍｏ　ｌ）及びアジ化メタンスルボニル（０，２８ｍＬ、３．０ｍｍｏｌ）を含むアセトニトリル（２０ｍ　Ｌ　）中の実施例１４ａ　（１，０ｍｍｏｌ）を室温で６時間撹拌し、ここで揮発物質を真空下で蒸発させた。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにがけ、ヘキサンとアセトン（４１）の混合物で溶出して精製すると、７５％の収率で所望の生成物（６１０ｍｇ）が得られた。ＭＳ　（ＦＡＩ３）ｍ／ｚ　＋Ｍ４−に−Ｎ２＝８２４゜ｒＲ（ＣＤＣｌ２）２１１５ｃｍ　０実施例２１：式Ｖ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝第三ブチルジメチルシリルオキシ、Ｒ３１とＲ３２は共にメチレン基を形成する；Ｒ３３とＲ３４は共にオキソ基を形成する；Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する標記化合物は文献に記載の方法で製造する。無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中の亜船の撹拌懸濁液に、２５℃、アルゴン雰囲気下で、ニョウ化メチレンを加える。３０分後、Ｔｉ（ＯｉＰＯｒ）４のＴＨＦ溶液を加える。得られた混合物を２５℃で３０分間撹拌する。次にＴ　ＨＦ中の実施例８ｂの溶液を加える。３時間撹拌した後、混合物を酢酸エチルで希釈し、酸性化し、酢酸エチルで溶出する。有機抽出物を塩水で洗い、脱水し、濃縮する。次に、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると純粋な標記化合物が得られる。実施例２２・式Ｖ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝第三ブチルジメチルンリルオキシ、ＲとＲの一方とＲ３３とＲ３４の一方は共に結合を形成する；Ｒ３ＩとＲ３２の一方は■１である；Ｒ３３とＲ３４の一方はＣＨ３Ｃ（０）Ｏである：Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する標記化合物は文献（Ｌｅｋｈｙｉｅｈ、　Ｆ＾；Ｋｈｌｅｂｎｉｃｏｙ＊、　Ｔ、　Ｓ、　；＾ｋｈ＋＋ＩＮ、＾＾５７ｎｔｈｓ＋ｉ＋　１９８５゜７８４．　Ａｋｈ＋ｅｍ、＾＾、　；Ｌｓｋｈｗｉｃｋ、　Ｆ、　Ａ、　；Ｂｗ＋１ｇｉ、　Ｓ、　Ｉ、にｈｌ＋ｂｎｉｃｏｔｔ、　Ｔ、　Ｓ、　；？ｌ＋ａｓｅｗｉｃｈ、　Ｉ、　ｌ、　５７ｎｌｈｅ＋１ｓ１９７８、９２５）に記載の一般法で製造する。実施例８ｂの生成物と少し過剰の塩化アセチルを無水塩化メチレン及びピリジンに溶解し、次に混合物を室温で３〜５時間撹拌する。溶媒を除去すると残渣が得られ、これを酢酸エチルに溶解し、次に１０９６炭酸水素ナトリウム、１０９６硫酸水素カリウム、塩水で洗い、脱水する。得られた未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると、純粋な標記化合物が得られる。実施例２３・式■・Ｒ−エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝第三ブチルジメチルシリルオキシ；Ｒ３１とＲ３２の一方とＲ３３とＲの一方は共に結合を形成する：Ｒ３１とＲ３２の一方はＨである：Ｒ３３とＲ３４の一方はＣ６）１．、ＣＨ２Ｎ）Ｉである：Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する標記化合物は文献（Ｗｉｎｋｌ＋＋、　Ｉ、　Ｄ１ＨｅｔｒｈｂｅＢｃ＋、　Ｐ、　Ｍ、　；Ｓｐ＋ｉｎＢ＋、　１．　Ｐ、　Ｔｅｌ＋５ｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅ口、　＋９１１６．２７．５１７７）に記載の一般法で製造する。実施例８ｂの生成物とやや過剰のベンジルアミンをベンゼンに溶解し、３−５時間緩和に還流する。溶媒を除去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すると純粋な標記化合物が得られる。実施例２４：式Ｖ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝第三ブチルジメチルシリルオキシ、Ｒ３１とＲ３２の一方とＲ３３とＲ３４の一方は共に結合を形成する；Ｒ３１とＲ３２の一方はＨである：Ｒ３３とＲ３４の一方はＣＨＣＨＮＨである；Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する臭化ベンジルとトリエチルアミンを実施例２の生成物のアセトニトリル溶液に加える。反応混合物を一晩３５〜４５℃に温める。溶媒を除去し、残渣を酢酸エチルに溶解する。酢酸エチル層を１０９６炭酸水素ナトリウム、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水し、蒸発させる。未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する。実施例２５：式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝ＮＨ，，Ｃ（０）ＮＨ（Ｓ体）標記化合物は文献（Ｎｅｖｉｌｌｅ、　Ｒ，Ｇ、　；ＭｄＧｅｅ、　１．１．　Ｃｓｎ、　１．　Ｃｈｅｓ。１９６３、４１．２１２３）に記載の一般法で製造する。水浴中のテトライソシアン酸シリコンのベンゼン溶液に実施例２の生成物の無水ベンゼン溶液を滴加する。添加終了後、混合物を１５分間還流し、真空下で濃縮する。イソプロピルアルコール水溶液（ｉ　−プロパツール　水＝９１）を残渣に加え、混合物を１５分間還流する。混合物を粗い焼結ガラスロートで濾過し、アセトンで洗う。溶媒を除去し、残渣を酢酸エチルに溶解する。酢酸エチル層を１０％炭酸水素ナトリウム、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水する。溶媒を除去した後、未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する。実施例２６・式■・Ｒ−エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｃ６１１５ＣＨ２０ＣＯＮＩＩ　（Ｓ体）無水塩化メチレン中の実施例２の生成物の溶液に塩化ペンジルオキシカルボニル及びトリエチルアミンを加える。反応混合物を１時間撹拌する。溶媒を除去し、残渣を酢酸エチルに溶解する。酢酸エチル層を１０％炭酸水素ナトリウム、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水する。溶媒を除去した後、未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する。実施例２７・式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝ｌＩ　；　ｎ＝１　；Ｒ’　＝ＮＨ２Ｃ（ＮＨ）ＮＨ（Ｓ体）標記化合物は文献（Ｖａｎ　Ｎｉ＋ｐ＋ａ、　１．　Ｗ、Ｔ＋＋ｓｅ＋、　Ｇ、　Ｉ、Ｎ１ｗｔ＋ｄ。Ｒ，１，Ｆ、　ｌｎ１．１．　Ｐｅｐｔｉｄｅ　Ｐ「ｏｌｒｉｎ　Ｒ＋＋、　１９７７、９．１９３）に記載の一般法で製造する。実施例２の生成物を新しく調製したＯ−メチルイソ尿素のメタノール溶液に加える。溶液を０℃に１日おき、濃縮し、冷却する。水をゆっくりと残渣に加え、生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を１０％炭酸水素ナトリウム、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水する。溶媒を除去した後、未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する。実施例２８０式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｃ，Ｈ５Ｓ　（０）ＮＨ（Ｓ体）標記化合物は文献（Ｋｏｂ１７Ｉｓｈｉ、　Ｔ、　；１ｉｎｏ、に、　；ｌＩｉ目ｏｋ１．　Ｔ、　Ｉ、＾■Ｃｈｉｓ、　Ｓｏｃ、　１９７？、９９．５５０５　）に記載の一般法で製造する。０℃で、塩化メチレン中の実施例２の生成物及びトリエチルアミンの溶液に塩化ベンゼンスルフェニルを滴加する。溶液を０℃ で１時間、室温で１日撹拌し、濃縮し、酢酸エチルに再溶解する。酢酸エチル層を１０％炭酸水素ナトリウム、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水する。溶媒を除去した後、未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する。実施例２９：式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝（ＣＨ３ＣＨ２０）２Ｐ（０）標記化合物は文献（Ｂ＋ｎｅ＋、　Ｇ、Ｈｔｇｅｌｅ、Ｇ、　Ａｎｇｅｖ、　ＣＣｌ１ｅ、　ｌｎ１．　ＥｄＦＢｌ、　１９７？、　１６．４７７）に記載の一般法を使用して製造する。実施例９の生成物を窒素下で無水ジエチルエーテルに溶解し、亜燐酸トリエチルを滴加して処理する。発熱反応がおさまったら、反応混合物を１時間緩和に還流加熱する。溶媒を除去し、残渣を酢酸エチルに溶解する。酢酸エチル層を１０９６炭酸水素ナトリウム、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水する。溶媒を除去した後、未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する。実施例３０・式１・Ｒ−エチル；Ｒ’　＝ＴＴ；ｎ＝ｌ　；Ｒ’　＝（Ｃ６Ｈ５０）　２Ｐ　（０）０アスコマイノン（１００ｍｇ、０．１２６ｍｍｏ　ｌ）を水浴中でベンゼン１．　ｍ　Ｌに溶解し、トリエチルアミン（３ｕ　Ｌ。０　、　２５２　ｍ　ｍ　ｏ　ｌ　）次にベンゼン（１ｍＬ）中のジフェニルクロロホスフェート（５３１ＪＬ、０．２５２ｍｍｏ　Ｉ）を滴加した。４　ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（１０ｍｇ。０．０８ｍｍｏｌ）を加え、次に室温で２時間撹拌した。１００６重硫酸ナトリウムを冷却した反応混合物に加えた。さらにベンゼン（１０ｍＬ）を加えた後、有機層を１０％Ｎ　ａ　ＨＣＯ３（×３）、塩水（×５）で洗い、次に無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると未精製生成物が得られ、これをフラッシュシリカゲル（２５ｇ）カラムクロマトグラフィーにかけ、１５％アセトンへキサン溶液で溶出して精製した。純粋な標記化合物７３ｍｇが単離された。ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋に＝１０６２゜実施例３１：式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｃ６Ｈ５Ｓ標記化合物は文献（Ｇｏｉｎｄｏｎ、　Ｙ、　；Ｆ＋ｅｎｅｌｌｅ、　Ｒ，；Ｆｏ＋ｊｉｎ、　Ｒ，；Ｒｏｋａｃｈ、　１．　ＯＢ、　Ｃｈｅｌｌ、　１９８３．４８．１３５７）に記載の一般法で製造する。無水ヨウ化亜鉛を無水ジクロロエタン中のアスコマイシン溶液に加える。懸濁液にチオフェノールを加え、反応混合物を１時間撹拌する。水を加えて反応を止め、溶媒を除去し、残渣を酢酸エチルに溶解する。酢酸エチル層を１０９６炭酸水素ナトリウム、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水する。溶媒を除去した後、未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する。実施例３２・式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｃ６Ｈ５ＣＨ２０標記化合物は文献（Ｏｎ＊に＊、　Ｍ、　Ｊｒｖｔｉ、　Ｍ、　；ｌ＋ｕｓｉ、　Ｙ、　Ｃｈａｔ　ＬｅｆｔＮＨ，ｌｌ０Ｉ　）に記載の一般法で製造する。テトラヒドロフラン中のアスコマイノンの溶液に塩化ベンジルと粉末のゼオライトを加える。反応混合物を５時間緩和に還流しながら激しく撹拌し、次に水を加え、不溶性物質を濾過する。濾液を蒸発乾固させ、残渣を酢酸エチルに溶解する。酢酸エチル層を１０％炭酸水素ナトリウム、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水する。溶媒を除去した後、未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する。実施例３３：式しＲ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’　＝７タルイミド（Ｓ体）標記化合物は文献（Ｎｅ１ｋ＊ｎ＋、　Ｇ、　Ｈ，Ｌ、　；Ｔｃ＋ｔｅ＋、　Ｇ、　１．　、Ｎ１ｙｔ＋ｄ。Ｒ，１，Ｆ、　Ｒｃｃ、　Ｔｒｏｔ、　Ｃｈｉ＠、　１９６０．７９．６８８　）に記載の一般法で製造する。実施例２の生成物と炭酸ナトリウムをテトラヒドロ７ラン：水（１・１）の混合溶媒に懸濁し、水浴で冷却する。粉末にしたＮ− カルボエトキシフタルイミドを反応混合物に加え、混合物を次に０℃で５分間、室温で３０分間撹拌する。不溶性物質を濾過し、濾液を１０％硫酸水素カリウムで酸性化し、生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を１０％炭酸水素ナトリウム、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水する。溶媒を除去した後、未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する。実施例３４：式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝ＴＴ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝（Ｃ６Ｈ５）２　Ｐ　（０）ＮＨ（Ｓ体）標記化合物は文献（にｅｎｎ＋＋、　Ｇ、　Ｗ、　；Ｍｏｏｓｅ、　Ｇ、＾；ＲＩｍＢｅ、　Ｒ。Ｔ！１ｚｈｅｄ＋ｏｎ　Ｌｅｌｌ、　１９７６、３６２３）に記載の一般法で製造する。実施例２の生成物及び塩化ジフェニルホスフィニルを無水テトラヒドロフランに溶解し、水浴で冷却する。Ｎ−メチルモルホリンを反応混合物に加え、０℃で５分間、室温で５時間撹拌する。不溶性物質を濾過し、濾液を蒸発乾固させ、生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を１０％炭酸水素ナトリウム、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水する。溶媒を除去した後、未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する。実施例３５・式１：Ｒ＝ｘチル；Ｒ’　＝ｔｌ　；　ｎ＝１　；Ｒ’　＝（Ｃ６Ｈ５０）２Ｐ　（０）ＮＨ（Ｓ体）標記化合物は文献（ＷｏＮ＋ｏｍ、　Ｍ、　Ｌ、　；Ｃｏｎ１ｇ１目＋ｏ、　Ｐ、　１．　；５ｏｌｌｅＩ。Ｅ、　１．　］、　Ｏｒ１．　Ｃｈｅｗ、　１９Ｇ？、　３２．６５３）に記載の一般法で製造する。実施例２の生成物及び塩化ジフェニルホスホリルをテトラヒドロフランに溶解し、水浴で冷却する。トリエチルアミンを反応混合物に加え、０℃で５分間、室温で５時間撹拌する。不溶性物質を濾過し、濾液を蒸発乾固させ、生成物を酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル層を１０％炭酸水素ナトリウム、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水する。溶媒を除去した後、未精製生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する。実施例３６、式１１Ｔ：Ｒ＝ｚチル；Ｒ’　＝＋Ｉ；ｎ＝ｌ　；Ｒ”とＲ３３は共に結合を形成する。　Ｒ３２，＝Ｒ３４＝、Ｉ、　Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する標記化合物は、Ｆｉ＋ｏｎ＋の欧州特許出願Ｎｏ、８９１．９２６６８号、ｐ２６、実施例１１に記載の方法で製造した。融点１２４〜１２５℃。ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋Ｎ［ｒ４＝７９１゜実施例３７一式目１：Ｒ＝エチル；Ｒ’ 　＝ＩＩ；ｎ＝１　；Ｒ”＝＋１　、　Ｒ３２＝ＴＩ　、　Ｒ３３＝ＯＩＩ　、　Ｒ”＝１１　、　Ｒ”とＲ３６は共に＝Ｎ−ＯＣＩＩ２Ｃ６■Ｉ５を形成する無水エタノール（１０ｍＬ）中のアスコマイシン（０，７９１ｇ）、塩化水素Ｏ −ベンジルヒドロキシルアミン（０，３２０ｇ）及びジメチルアミノピリジン（０，２６ｇ）の溶液を窒素下で一晩還流した。溶媒を蒸発させた後、固体残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、エーテルで溶出して精製した。収量：ｏ、ｅｇｏ融点９２−９８℃、ＭＳ（Ｆ　Ａ　Ｂ）　ｍ／　ｚ　：　Ｍ＋１１＝　８９７、Ｍ＋ＮＨ４＝９１４゜実施例３８：式ＶＩ：Ｒ＝ｘチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝ｌ；Ｒ”、Ｒ、Ｒ及びＲ２９は結合した炭素原子と共に複素環系の２′及び３′に（るＣ−９及びＣ−１０のキノキサリンを形成する：Ｒ３１とＲ３３は共に結合を形成する。　Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ”＝Ｈ、Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する；Ｒ６０＝ｏ■■（Ｒ体）：Ｒ６５＝　Ｈ無水エタノール中の実施例３６の生成物（０，３３８ｇ）、０−フ二二レンジアミン（０，０５ｇ）及びＮ−メチルモルポリン（０，０４ｇ）の溶液を窒素下で一晩還流した。溶媒を真空下で除去し、生成物をシリカゲル（Ｌｏｇ）カラムクロマトグラフィーにかけ、塩化メチレン／アセトニトリル（５：２、ｖ／′ｖ）、次にエーテルで溶出して精製した。収量：０．３ｇ０Ｍ　Ｓ　（Ｆ　Ａ　Ｂ　）　ｍ　／　ｚ　：　Ｍ　＋　Ｈ＝　８　４　６　、　Ｍ＋Ｎｔ（４＝８６３　。実施例３９・式１１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ２６，Ｒ、Ｒ及びＲ２９は結合した炭素原子と共に複素環系の２′及び３′にくるＣ−９及びＣ４Ｏのキノキサリンを形成する；Ｒ６（ｌ＝Ｏ１１（Ｒ体）、Ｒ６５＝Ｈ無水エタノール（３ｍ　１．　）中のアスコマイノン（０，／１１ｇ）、ｏ−フェニレンジアミン（０，１０８ｇ）及びＮ−メチルモルホリン（０，０７２ｇ）の溶液を窒素下で一晩還流した。溶媒を真空下で除去し、生成物をシリカゲル（Ｌｏｇ）カラムクロマトグラフィーにかけ、塩化メチレン／アセトニトリル（５・２、ｖ　ｙ’　Ｖ　）　、次に４０％アセトンヘキサン溶液で溶出して精製した。収量　０．　３９６　ｇｏ融点１１０−１２０℃；Ｍ　Ｓ　（Ｆ　Ａ　Ｂ　）　ｍ　／　ｚ　：　Ｍ　＋　Ｎ　Ｈ４＝　８８１゜実施例４０・式１１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝）Ｔ；ｎ−１；Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合した炭素原子と共に複素環系の２′及び３′にくるＣ−９及びＣ−１０の６’、７’　−ジクロロキノキサリンを形成する。Ｒ６０＝ＯＲ（Ｒ体＞　、　Ｒ６５＝　Ｈ標記化合物はＯ−）１二レンジアミンを４．５−ジクロロフェニル−１，２−ジアミンに代えて、実施例３９に従って製造し、精製した。融点１０７−１１０℃；ＭＳ　（ＦＡ［３）ｍ／ｚ　：Ｍ　＋、　ＩＩ　＝　９３２、Ｍ、４−Ｎ１１．＝９４９゜実施例４１　式１１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　−Ｈ；　ｎ−１；　Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合した炭素原子と共に複素環系の２′及び３′に（るＣ　、、−９及びＣ −１０の６’　、７’−ジメチルキノキサリンを形成する。Ｒ２３＝ＯＨ（Ｒ体）、Ｒ６５＝ＩＩ標記化合物はＯ−フェニレンジアミンを４．５−ジメチルフェニル−１，２−ジアミンに代えて、実施例３９に従って製造し、精製した。融点１１２−１１５℃；ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋Ｈ＝８９２、Ｍ　＋　Ｎ　Ｈ４＝９０９゜実施例４２ａ及び４２ｂ　式１１：Ｒ−エチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ− １，Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合した炭素原子と共に複素理系の２ ′及び３′にくるＣ−９及びＣ−１０の６′−メトキンキノキサリンを形成する。Ｒ”＝ＯＨＣＲ体）：Ｒ６５＝Ｈ及び式ロ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｉ（；ｎ＝１　；Ｒ”、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合した炭素原子と共に複素環系の２ ′及び３′にくるＣ−９及びＣ−１０の７′−メトキシキノキサリンを形成する；Ｒ”＝ＯＨ（Ｒ体）、Ｒ６５＝ｌＩ標記化合物は０−フェニレンジアミンを４ −メトキシ−フェニル−１，２−ジアミンに代えて、実施例３９に従って製造し、精製した。融点１１７−１２６℃；ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋Ｈ＝８９４、Ｍ＋ＮＨ４＝９３２゜実施例４３：式１１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝ｌＩ；ｎ＝１　；Ｒ２６、Ｒ、Ｒ及びＲ２９は結合した炭素原子と共に複素環系の２′及び３′にくるＣ−９及びＣ−１０のベンゾ［ｇ］キノキサリンを形成する；Ｒ６，＝ＯＨ（Ｒ体）；Ｒ，＝ｔ＋標記化合物は０−７二二レンジアミンを２．３− ナフタレンジアミンに代えて、実施例３９に従って製造し、精製した。融点１１５−１２０℃；ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋−）１＝９１４、Ｍ　＋−ＮＨ，＝９３　ｔ。実権例４４　式＋１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ２’、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合した炭素原子と共に複素環系の２′及び３′にくるＣ−９及びＣ−１０の６’、７’　−メチレン−ジオキシ−キノキサリンを形成する；Ｒ６０＝Ｏ［（（Ｒ体）；Ｒ６５＝Ｈ標記化合物はＯ−フェニレンジアミンを４．５−メチレンジオキシ−フェニル− １，２−ジアミンに代えて、実施例３９に従って製造し、精製した。融点１９０ −１９３℃、ＭＳ（ＦＡＩ’３）ｍ／ｚ　：Ｍ＋Ｈ＝９０８、Ｍ＋Ｎ１１４＝９４６゜実施例４５・式１１　：　Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝＋Ｉ　；　ｎ−１；Ｒ’ 、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合した炭素原子と共に複素環系の２′及び３′ にくるＣ　９及びＣ−１０の（ｉ’、７’　−ジフルオロキノキサリンを形成する。Ｒ”＝ＯＨ（Ｒ体）；Ｒ６５＝Ｈ標記化合物は０−フェニレンジアミンを４，５−ジフルオロフェニル−１，２ジアミンに代えて、実施例３９に従って製造し、精製した。融点１１２−１１６℃；ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋に＝９３８゜実施例４６：式１１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ”とＲ２２の一方はＨであり、他方はＯＨである；　Ｒ２３＝ＯＨ；　Ｒ”窒素下、室温で、氷酢酸（５０ｍ　Ｌ　）中のアスコマイシン（５，４ｇ）の撹拌溶液に亜鉛粉末（５，４ｇ）を少しずつ加えた。反応混合物を、ＴＬＣ分析（４０％アセトンヘキサン溶液）がアスコマイシンの完全消失を示すまで、室温で５時間激しく撹拌した。次に、固体を濾別し、塩化メチレンで粉砕した。溶媒を真空下で除去し、残留した固体を塩化メチレンに再度溶解し、シリカゲルで濾過し、５０％アセトンへキサン溶液で溶出し、真空下で濃縮した。固体をエーテル−ヘキサンから再結晶させた。収量４．９ｇ、融点１３８−１４０℃、ＭＳ（Ｆ　Ａ　Ｂ　）　ｍ　／　ｚ　：　Ｍ　＋　Ｎ　Ｈ４＝　８１１゜実施例４７・式Ｔｌｌ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝ＩＴ　；　ｎ−１；　Ｒ”−Ｉ−（、Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ”＝ＦＩ；Ｒ３４＝　Ｓ　；　Ｒ３５とＲ３６は共にＮとなり、ＳとＮがフェニル環により架橋してベンゾチアゼピンを形成する無水エタノール（３ｍ　Ｌ　）中の実施例３６の生成物（０，２６ｇ）及び２− アミノチオフェノール（０，０５ｇ）及びＮ−メチルモルホリン（０，０７ｇ）の溶液を窒素下で一晩還流した。溶媒を真空下で除去し、生成物をシリカゲルにかけ、エーテルで溶出して精製した。収量：　０．２３　ｇ０融点１３３−１．３８℃；ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋ＩＩ＝８８１゜実施例４８・式１：Ｒ＝ｘチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ２＝２　、Ｒ＝Ｈ，Ｒ３とＲ４は共にオキソ基を形成する塩化メチレン（４ｍＬ）中のジメチルスルホキシド（０，４４ｇ）の撹拌溶液に塩化オキサリル（０，３２ｇ）を加え、　７０℃で３０分間撹拌することにより、硫化メチル−塩素複合体を製造した。−７０℃で、塩化メチレン（５ｍＬ）中のアスコマイノン（１，６ｇ）の撹拌溶液に複合体の溶液をゆっくりと滴加した。０．２５時間撹拌した後、トリエチルアミン（１，，４ｇ）を−７０℃で加えた。−７０℃で３０分間、次に室温で１時間撹拌を続けた。反応混合物をエーテル（１００ｍＬ）で希釈し、ＩＮ（ＤＨＣＩ水溶液（２Ｘ３０ｍＬ）、飽和塩水（３０ｍＬ）で洗い、硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を除去した。生成物をシリカゲル（７０ｇ）にかけ、エーテルで溶出して精製した。収量：　０．９５ｇｏＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：　Ｍ＋Ｈ＝７９０゜実施例４９：式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ２＝Ｒ”＝Ｈ，Ｒ３とＲ４は共に１．３−エチレンチオヶタール基を形成する０℃で、無水塩化メチレン（１ｍＬ）中のエタンジチオール（０，０１ｍＬ）と実施例４８の生成物（０，０５ｇ）の撹拌溶液にテトラフルオロホウ酸トリエチルオキソニウム（０，１ｍＬ−ＣＨＣ１２中ＬＭ）を加えた。０℃及び室温で１時間撹拌した後、炭酸カリウムを加え、生成物を分取用ＴＬＣ（４０％アセトンヘキサン溶液）で精製した。収量・０．０２ｇ　；ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋Ｈ＝８６６、Ｍ＋Ｎａ＝８８８、Ｍ＋に＝９０４゜実施例５０・式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝ｌ　；Ｒ２＝Ｒ”＝Ｈ，Ｒ３とＲ４は共に＝　Ｎ　−ＯＨを形成する無水エタノール中の実施例４８の生成物（０，２５ｇ）、塩酸ヒドロキシルアミン（０，０３ｇ）及びＮ−メチルモルホリン（０，０３５ｇ）の溶液を窒素下で１時間半還流した。溶媒を真空下で除去し、生成物をシリカゲルにかけ、エーテルで溶出して精製した。収量：　０．２ｇ　；ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ−１−）１フ８０５゜実施例５１・式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝ＩＩ；ｎ＝１　；Ｒ２＝Ｒ＝Ｒ”＝１１　；　Ｒ’　＝ＯＨ一７０℃、窒素下で、無水ＴＩＩＦ（１ｍＬ）中の実施例４８の生成物（０，０５６ｇ）の攪拌溶液に水素化トリーｔ−ブトキンアルミニウムリチウム（０、２ｍ　Ｌ　、　Ｔ　ＨＦ中ＬＭ）をゆつくりと加えた。−７０℃で３時間撹拌した後、エーテル（５０ｍ　ｌ　）とＩＮのＩＩＣＩ（１０ｍＬ）に分配した。有機層を硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を除去し、生成物を分取用ＴＩ、Ｃ（３５９６アセトンヘキサン溶液）で精製した。収量：０．０２５ｇ　；ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋に＝８３０゜実施例５２：式１１１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝ｌＩ　；　ｎ＝１　；　Ｒ”＝Ｈ，Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５及びＲ３６は結合した炭素原子と共にピラゾールを形成する室温で、無水ＴＨＦ（１０ｍｌ−）中の実施例１２の生成物（０，２４ｇ）の撹拌溶液にヒドラジン（０，０１４ｇ、無水ＴＨＦ　２ｍＬ中）を加えた。室温で３０分間撹拌した後、反応混合物を２時間還流した。溶媒を除去した後、生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル、５０ｇ）にかけ、５０％アセトンへキサン溶液で溶出して精製した。固体を分取用ＴＬＣ（塩化メチレン中５％メタノール）でさらに精製した。収量０．１３ｇ　；ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋Ｈ＝７８６゜実施例５３：式１１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ、ｎ＝１　、　Ｒ２６，２７２ｇ　２９ＲＳＲ及びＲは結合する炭素原子と共に複素環系の２′及び３′にくるＣ−９及びＣ−１０のキノキサリンを形成し、２つのキノキサリンは各複素環系の６′または７′のいずれかの間に炭素−炭素結合を形成する。Ｒ”＝ＯＨ（Ｒ体）、Ｒ６５無水エタノール中のアスコマイシン（０，６ｇ）　、Ｎ−メチルモルホリン（０，１５３ｇ）及び３．３′−ジアミノベンジジンテトラヒドロクロリド（０，１ｇ）の溶液を一晩還流した。生成物を実施例３９に記載のように精製した。収量：ｏ、ａｉｇ：融点１２８− １３２℃；ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋Ｈ＝１７２５゜実施例５４・式Ｖ：Ｒ＝ｘチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；Ｒ’＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ（Ｒ体）；Ｒ”＝Ｈ。Ｒ３２＝Ｈ；　Ｒ３３＝　ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、Ｒ”＝Ｈ。Ｒ３５さＲ３６は共にオキソ基を形成するアスコマイシン（１５ｇ）を無水Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（２００ｍＬ）中のイミダゾール（３，７５ｇ）の溶液に博解し、第三ブチルジメチルクロロシラン（１８，３ｇ）を少しずつ加え、室温で９０時間撹拌した。Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド及び過剰の第三ブチルジメチルクロロシランを留去した（３０℃ の浴、０．８トール）。固体残渣を無水エーテル（４Ｘ５０ｍＬ）で抽出した。エーテルを真空下で除去し、固体残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、５％アセトンヘキサン溶液で溶出して精製すると、標記化合物（１７ｇ）が得られた。Ｍ　Ｓ　（Ｆ　Ａ　Ｂ　）　ｍ　／　ｚ　：　Ｍ　＋　Ｈ＝　１０２２゜実施例５５　式Ｖｌｌ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ（Ｒ体）；Ｒ２１とＲ２２の一方はＨであり、他方はＯｌ（である；　Ｒ”’＝０）１　；　Ｒ２４＝）ｉ　。Ｒ３１＝Ｒ３２＝■１．Ｒ３３＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ。Ｒ３４−１■、Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する氷酢酸（２５ｍ　Ｌ　）中の実施例５４の生成物（５ｇ）の撹拌溶液に亜鉛粉末（５ｇ）を加え、室温で５時間撹拌した。反応混合物を塩化メチレン（１５０ｍＬ）で希釈し、固体を濾別し、別の塩化メチレン（３Ｘ５０ｍＬ）で抽出した。溶媒を真空下で除去し、残留した固体を塩化メチレンに再度溶解し、シリカゲル（２０ｇ）で濾過し、エーテルで溶出した。収量５ｇ；Ｍ　Ｓ　（Ｆ　Ａ　Ｂ　）　ｍ　／　ｚ　：　Ｍ　＋　Ｈ＝　１０２４　。実施例５６：式ＶＩＴ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝１− ブチルジメチルシリルオキシ（Ｒ体）：Ｒ２１とＲ２２の一方は１１であり、他方はＯＡｃである：　Ｒ２３＝ＯＨ、Ｒ２４＝Ｈ。Ｒ３１＝Ｒ３２−■Ｉ：Ｒ３３＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ；Ｒ３４＝Ｈ：Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する無水ピリジン（５ｍＬ）中の実施例５５の生成物（１ｇ）と４−ジメチルアミノピリジン（０，１ｇ）の撹拌溶液に無水酢酸（１ｍＬ）を加える。反応混合物を室温で１時間撹拌する。溶媒及び過剰の無水酢酸を真空下（０，１，）−ル）で除去し、固体残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、塩化メチレン中の２％エタノールで溶出して精製する。実施例５７　式Ｖ　：　Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝）（；ｎ＝ｌ　；Ｒ’　＝トリイソプロピルシリルオキシ（Ｒ体）、Ｒ３１＝Ｒ３２＝Ｈ１Ｒ３３＝トリイソプロピルシリルオキシ；Ｒ３４＝■１；Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する０℃で、無水塩化メチレン（２５ｍ　Ｌ　）中のトリフルオロメタンスルホン酸トリイソプロピルシリル（１０ｇ）を、無水塩化メチレン（１００ｍ　Ｌ　）中のアスコマイシン（７，８ｇ）とＮ−メチルモルホリン（４ｇ）の撹拌溶液に加え、０℃で３時間攪拌した。メタノール（３ｍＬ）を加え、さらに１時間撹拌を続けた。溶媒を真空下で除去し、残渣をエーテルとＩＮ塩酸で仕上げた。有機相を硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を真空Ｆで除去した。シリカゲルクロマトグラフィーにかけ、１０％エーテルヘキサン溶液で溶出して精製すると、標記化合物（９ｇ）が得られた。ＭＳ　（ＦＡＲ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋Ｎａ＝１１２８゜実施例５８・式Ｖｌｌ：Ｒ＝ｘチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’−トリイソプロピルシリルオキシ（Ｒ体）：Ｒ２１とＲ２２の一方は１１であり、他方はＯＨである。　Ｒ”’＝ＯＩ（、Ｒ２４＝Ｈ、Ｒ”’＝Ｒ３２＝１１　、　Ｒ３３＝　トリイソプロピルシリルオキシ、Ｒ”＝Ｈ。Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する氷酢酸（２５ｍＬ）中の実施例５７の生成物（５ｇ）の撹拌溶液に亜鉛粉末（５ｇ）を加え、室温で５時間撹拌した。反応混合物を塩化メチレン（１５０ｍＬ）で希釈し、固体を濾別し、塩化メチレン（３Ｘ５０ｍＬ）で抽出した。得られた溶液をシリカゲル（２０ｇ）で濾過し、エーテルで溶出した。収量５ｇ；ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋Ｎａ＝１１３０゜実施例５９：式Ｖｌｌ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１；Ｒ’＝トリイソプロピルシリルオキシ（Ｒ体）、Ｒ２＋とＲ２２の一方はｉｔであり、他方はＯＡｃである。　Ｒ２３＝ＯＨ；　Ｒ２４＝Ｈ。Ｒ３１＝Ｒ３２＝１■：Ｒ３３＝トリイソプロピルシリルオキシ；Ｒ３４＝Ｈ，Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する無水ピリジン（５ｍＬ）中の実施例５８の生成物（１ｇ）と４−ジメチルアミノピリジン（０，１ｇ）の撹拌溶液に無水酢酸（１ｍＬ）を加えた。反応混合物を室温で１時間撹拌した。溶媒と過剰の無水酢酸を真空（０，１トール）下で除去し、固体残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、塩化メチレン中２９６のエタノールで溶出して精製した。収量＋１ｇｏＭＳ（ＦＡＢ）ｍｚ　＋Ｍ＋Ｎａ＝１１７２゜実施例６０：式ＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ”とＲ２２の一方は【Ｉであり、他方はＯＡｃである。Ｒ２３＝ＯＨ。Ｒ２４＝Ｈ０℃で、アセトニトリル（１０ｍ　Ｌ　）中の実施例５９の生成物（ｌ　Ｉｇ）の溶液に４０％のフッ化水素酸水溶液（０，５ｍ１１、アセトニトリル５ｍｌ中）を滴加する。反応混合物を室温で２時間撹拌する。反応混合物を水（５０ｍＬ）で希釈し、酢酸エチル（３Ｘ５０ｍｌ）で抽出し、硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を真空下で除去する。未精製生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、溶出液として塩化メチレン中の５％メタノールを使用して精製した。実施例６１・式１１：Ｒ＝ｘチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ２６、Ｒ、Ｒ及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の５′及び４′にくるＣ−９及びＣ− １０の２′　−メチルチアゾールを形成する；Ｒ２３＝ＯＨＣＲ体）；Ｒ”＝ＩＩイソプロパツール（５ｍＬ）中の実施例６０の生成物（０，８３ｇ）、チオアセトアミド（０，１５ｇ）及びトリエチルアミン（０，２ｇ）の溶液を窒素下で１６時間還流する。溶媒を真空ドで除去し、固体残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、先ず塩化メチレン中の２０％アセトニトリル、次に塩化メチレン中の７％メタノールで溶出して精製する。実施例６２・式ＩＩ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１；Ｒ”、７２ＢＲ、Ｒ及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の５′及び４′にくるｃ− ｇ及びＣ−１０の２′−アミノチアゾールを形成する。　Ｒ６０＝ＯＨ（Ｒ体）　；　Ｒ６５＝　１−（アセトニトリル（１ｍＬ）中の実施例６０の生成物（０，１ｇ）、チオ尿素（０，０１５ｇ）及びトリエチルアミン（０，２ｇ）の溶液を窒素下で１６時間還流する。溶媒を真空下で除去し、固体残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、先ず塩化メチレン中の２０％アセトニトリル、次に塩化メチレン中の７％メタノールで溶出して精製する。実施例６３：式１１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素理系の５′及び４′にくるＣ −９及びＣ−１０の２′−フェニルイミダゾールを形成する；　Ｒ６０＝ＯＩＩ　ＣＲ体）；Ｒ”＝Ｈイソプロピルアルコール（５ｍ　Ｌ　）中の実施例６０の生成物（０，８３ｇ）、塩酸ベンズアミジン水和物（０，３ｇ）及びトリエチルアミン（０，２ｇ）の溶液を窒素下で２４時間還流する。溶媒を真空下で除去し、固体残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、塩化メチレン中の１０％メタノールで溶出して精製する。実施例６４・式ＩＴ：Ｒ＝ｊ−チル；Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の５′及び４′にくるＣ −９及びＣ−１０の２′−フェニルオキサゾールを形成する；　Ｒ６０＝ＯＨ（Ｒ体）、Ｒ６５＝Ｈアセトニトリル（５ｍＬ）中の実施例６０の生成物（０，８３ｇ）、ベンズアミド（０，，２５ｇ）及びトリエチルアミン（０，２ｇ）の溶液を窒素下で２４時間還流する。溶媒を真空下で除去し、固体残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、塩化メチレン中の１０％メタノールで溶出して精製する。実施例６５　式Ｖｌｌ：Ｒ＝ｊ−チル；Ｒ’　＝ＩＩ：ｎ＝１　；Ｒ’＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ（Ｒ体）、Ｒ２＋とＲ２２の一方は［１−（２’　、２’　、５’　、５’−テトラメチル−２′。５′　−ジンラー１′　−アジリジニル）］−］２−エチであり、他方はＯＨである。　Ｒ”’＝ＯＨ、Ｒ２’＝Ｉ（、Ｒ３１＝Ｒ３２＝Ｈ。Ｒ３３＝、−ブチルジメチルシリルオキシ；　Ｒ”４＝Ｈ、Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する無水テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）中の実施例５４の生成物（１ｇ）の溶液に、撹拌しながら、０℃で、臭化マグネシウム１−（２−エチル）−２，２，５，５，−テトラメチル−２゜５−ジシラー１−アザシクロペンタン（Ｔ　ＨＦ中ＬＭ、１．５ｍ　Ｌ　）を加える。反応混合物を室温にし、４時間撹拌する。反応混合物を飽和塩化アンモニウム（５０ｍＬ）で仕上げ、酢酸エチル（３Ｘ５０ｍＬ）で抽出する。、有機相を合わせ、水、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水する。生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、塩化メチレン中の３％メタノールで溶出して精製する。実施例６６：式ＩＴ：Ｒ＝ｘチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ”、Ｒ、Ｒ及びＲ２９は炭素原子と共に複素環系の２′及び３′にくるｃ−ｇ及びＣ−１０のピロールを形成する。Ｒ６０＝ＯＨ（Ｒ体）；Ｒ６５＝Ｈ０℃で、アセトニトリル（１０ｍＬ）中の実施例６５の生成物（１，１ｇ）の溶液に４０％のフッ化水素酸水溶液（１ｍＬ）を滴加する。反応混合物を室温で２時間撹拌する。反応混合物を水（５０ｍＬ）で希釈し、酢酸エチル（３Ｘ５０ｍＬ）で抽出し、硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を真空下で除去する。未精製生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、溶出液として塩化メチレン中の５％メタノールを使用して精製する。実施例６７、式ＶＴＩ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ（Ｒ体）、Ｒ２Ｇ、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の２′及び３′にくるＣ−９及びＣ−１０のピラジンを形成する。Ｒ３３，＝ｔ−プチルジメチルンリルオキシ；Ｒ３１−Ｈ；Ｒ３２＝Ｈ１Ｒ３４＝Ｈ；Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する：　Ｒ”＝ＯＨ（Ｒ体）、Ｒ６５＝Ｈ活性化した二酸化マンガン（１，，１ｇ）を無水ベンゼン中の実施例５４の生成物（１，１ｇ）及びエチレンジアミン（０，１ｇ）の溶液に加え、懸濁液を５０ ℃で２４時間撹拌する。固体を濾別し、溶媒を真空下で除去する。生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、塩化メチレン中の３％メタノールで溶出して精製する。実施例６８：式１１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の２′及びａ’ｌ：＜６Ｃ−９及びＣ−１０のピラジンを形成する；Ｒ”＝ＯＨ（Ｒ体）：Ｒ６５−Ｈ実施例６７の生成物を脱保護して標記化合物を得て、実施例６０の手法に従って精製する。実施例６９：式Ｖｌｌ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ（Ｒ体）、Ｒ２＋とＲ２２の一方は［２−（１，３−ジオキソランル）］−］２−エチであり、他方はＯＨである：Ｒ２３＝Ｏ１１；Ｒ２４＝１１；Ｒ３１＝Ｒ３２＝Ｈ；Ｒ３３＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、　Ｒ３４＝Ｈ，Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する無水テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）中の実施例５４の生成物（１ｇ）の溶液に、撹拌しながら、０℃で、臭化マグネシウム２−（２−エチル）−１，３−ジオキソラン（ＴＨＦ中ＬＭ。１．５＝ｔ）を加える。反応混合物を室温にし、４時間撹拌する。反応混合物を飽和塩化アンモニウム（５０ｍＬ）で仕上げ、酢酸エチル（３Ｘ５０ｍＬ）で抽出する。有機相を合わせ、水、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水する。生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、塩化メチレン中の３％メタノールで溶出して精製する。実施例７０：式Ｖｌｌ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；Ｒ’＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ（Ｒ体）：Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の３′及び２′にくるＣ−９及びＣ−１０のピリジンを形成する。Ｒ３３＝ｔ　−ブチルジメチルシリルオキシ、　Ｒ”＝−Ｈ、Ｒ３２＝Ｈ。Ｒ３４＝ｌＩ、Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する。Ｒ６０＝ＯＨ（Ｒ体）：Ｒ”＝ＴＩ湿った塩化メチレン（、５ｍ　Ｌ　）中の実施例６９の生成物（１ｇ）、蓚酸（０，２ｇ）及びアセトアルデヒド（０，５＝ｔ）の溶液を窒素下で一晩撹拌する。溶媒を真空下で除去し、未精製反応産物を酢酸エチルと重炭酸ナトリウム水溶液に分配する。溶液を硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を真空下で除去する。残渣をイソプロピルアルコール（５＝ｔ）に再溶解し、水酸化アンモニウム（０，５＝ｔ）を加える。反応混合物を室温で一晩撹拌する。真空下で溶媒を除去した後、生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、４０％アセトンヘキサン溶液で溶出して精製する。実施例７１　式１１　：　Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ”、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の３′及び２′にくるＣ−９及びＣ−１０のピリジンを形成する；Ｒ６０＝ＯＨ（Ｒ体）、Ｒ６５＝Ｈ実施例７０の生成物を脱保護し、実施例６０の手法で精製すると標記化合物が得られる。実施例７２：式１１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ”、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の４′及び３′にくる（、９及びＣ−１０のピリダジンを形成する；Ｒ６０＝ＯＨ（Ｒ体）；Ｒ６５＝Ｈ湿った塩化メチレン中の実施例６９の生成物（１ｇ）、蓚酸（０，２ｇ）及びアセトアルデヒド（０，５＝ｔ）の溶液を窒素下で一晩撹拌する。溶媒を除去し、反応混合物を酢酸エチルと重炭酸ナトリウム水溶液に分配する。溶媒を除去した後、残渣をイソプロピルアルコール（５＝ｔ）に再溶解し、ヒドラジン（０，０３５ｇ）を加える。反応混合物を室温で一晩撹拌する。溶媒除去後、ビス−シリル化した生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、実施例６０に記載の手順で脱保護する。実施例７３：式ＴＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ”、Ｒ、Ｒ及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の２′及び３′にくるＣ−９及びＣ−１０のピラジノ［２，３−ｄｌピリダジンを形成する；　Ｒ”＝ＯＨＣＲ体）、Ｒ”＝Ｈイソプロピルアルコール（５ｍＬ）中のアスコマイシン（０，８ｇ）　、４．５−ジアミノピリダジン（０，２ｇ）及びＮ−メチルモルホリン（０，２ｇ）の溶液を８０−９０℃に１２時間加熱する。溶媒を除去し、生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、４０％アセトンヘキサン溶液で溶出して精製する。実施例７４ａ及び７４ｂ：式１１：Ｒ＝エチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１．Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の２′及び３′にくるＣ−９及びＣ−１０のピリド［３゜４−ｂ］ピラジンを形成する。Ｒ６０＝ＯＨ（Ｒ体＞　；Ｒ６５＝　Ｈ及び式１１：Ｒ＝１チル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の３′及び２′にくるＣ−９及びＣ− １０のピリド［３，４−ｂｌ　ピラジンを形成する；Ｒ”＝０１（（Ｒ体）、　Ｒ６５＝　Ｈイソプロピルアルコール（５ｍＬ）中のアスコマイシン（０，８ｇ）　、４．５−ジアミノピリジン（０，２ｇ）及びＮ−メチルモルホリン（０，２ｇ）の溶液を８０−９０℃に１２時間加熱する。溶媒を除去し、精製物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、４０％アセトンヘキサン溶液で溶出して精製する。実施例７５ａ及び７５ｂ：式１１：Ｒ＝エチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１：Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の２′及び３′にくるＣ−９及びＣ−１０のピリド［２゜３−ｂ］ピラジンを形成する。Ｒ”＝ＯＨ（Ｒ体）；Ｒ６５＝Ｈ及び式１１　：　Ｒ＝４チル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の３′及び２′にくる（、９及びＣ− １０のピリド［２，３−ｂｌ　ピラジンを形成する。Ｒ３３＝ＯＨ、Ｒ”＝Ｈ、Ｒ”＝ＯＨ（Ｒ体）；Ｒ６５＝Ｈイソプロピルアルコール（５ｍＬ）中のアスコマイシン（０，８ｇ）、２．３−ジアミノピリジン（０，２ｇ）及びＮ−メチルモルホリン（０，２ｇ）の溶液を８０−９０℃に１２時間加熱する。溶媒を除去し、生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、４０％アセトンヘキサン溶液で溶出して精製する。実施例７６ａ及び７６ｂ　：式１１　：　Ｒ＝ｚチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝　ｔ　、　Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の７′ 及び６′にくるＣ−９及びＣ−１０のプテリジンを形成する。Ｒ”＝ＯＨ（Ｒ体＞　、　Ｒ６５＝　Ｈ及び式Ｉ　Ｉ　：　Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝＋（；　ｎ＝１　；　Ｒ２６、Ｒ２７，２２ｇ及びＲ２９は結合する炭素原子と共に複素環系の６′及び７′にくるＣ−９及びＣ−１０のプテリジンを形成する。Ｒ６０＝ＯＨ（Ｒ体）、Ｒ６５＝Ｈイソプロピルアルコール（５ｍＬ）中のアスコマイシン（０，８ｇ）　、４．５ −ジアミノピリミジン（０，２ｇ）及びＮ−メチルモルホリン（０，２ｇ）の溶液を８０−９０℃に１２時間加熱する。溶媒を除去し、精製物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、塩化メチレン中の２０％メタノールで溶出して精製する。実施例７７：弐Ｖ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｈ；Ｒ３１＝Ｒ３２＝ＦＩ：Ｒ３３＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ；Ｒ３４＝、１．Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する無水Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（２００ｍＬ）中の実施例２５９の生成物（１５ｇ）とイミダゾール（３，７５ｇ）の溶液に、第三ブチルジメチルクロロシランを少しづつ加え、室温で９０時間撹拌する。Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドと過剰の第三ブチルジメチルクロロシランを蒸留（３０℃、０．８トールの浴）で除去する。固体残渣を無水エーテル（４Ｘ　５０ｍＬ）で抽出する。エーテルを真空下で除去し、固体残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、５％アセトンヘキサン溶液で溶出して精製する。実施例７８：式Ｖｌｌ：Ｒ＝エチルｉ　Ｒ’　＝　Ｈ；　ｎ　＝　１　；　Ｒ’ ＝Ｈ：Ｒ２１とＲ２２の一方はｎ−ブチルであり、他方はＯＨである；　Ｒ２３＝ＯＨｉ　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｒ３２＝Ｈ；　Ｒ３３＝　ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ；　Ｒ”＝Ｈ，Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する無水テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に実施例７７の生成物（０，５ｇ）を溶解し、−７８℃に冷却する。ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中１．６Ｍ、０．５ｍＬ）をゆっくりと滴加する。反応混合物を一７８℃で２時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム及びエーテルで仕上げる。生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、エーテルで溶出して精製する。実施例７９：式Ｉ　Ｖ　：　Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｈ；Ｒ２１とＲ２２の一方はｎ−ブチルであり、他方はＯＨである：Ｒ２３＝ＯＴ（、Ｒ’＝Ｈ実施例７８の生成物を脱保護し、実施例６０の手順で精製すると標記化合物が得られる。実施例８００式ＶＩｌ：Ｒ＝１チル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１；Ｒ’＝Ｈ，Ｒ２＋とＲ２２の一方はベンジルであり、他方はＯＨである；Ｒ＝ＯＨ；　Ｒ２４＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｒ３２＝Ｈ；　Ｒ３３＝　ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、　Ｒ３４，＝、　、　Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する実施例７７の生成物（０，５ｇ）を無水テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解し、−７８℃に冷却する。塩化ベンジルマグネシウム（テトラヒドロフラン中２Ｍ、０．５ｍＬ）をゆっくりと滴加する。反応混合物を一７８℃で１時間、０℃ で４時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム及びエーテルで仕上げる。生成物をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、エーテルで溶出して精製する。実施例８１　式ＩＶ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１；Ｒ’　＝Ｈ，Ｒ２１とＲ２２の一方はベンジルであり、他方はＯＨである；Ｒ＝ＯＨ，Ｒ”＝Ｈ実施例６０の手順で、実施例８０の生成物を脱保護し、精製すると標記化合物が得られる。実施例８２：式Ｖｌｌ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝Ｈ；Ｒ２１とＲ２２の一方は水素であり、他方はＯＨである：Ｒ＝ＯＨ；　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｒ３２＝ＩＩ　；　Ｒ３３＝　ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ；Ｒ３４＝Ｈ；Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する実施例８２の生成物は実施例７７の生成物から製造し、実施例５８の手順で精製する。実施例８３：式Ｖｌｌ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’、２＋２２＝Ｈ，ＲとＲの一方は水素であり、他方はＯであり、Ｒ２３；Ｏと一緒になると、両方の酸素はチオカルボニル架橋で結合する。　Ｒ”＝Ｈ、Ｒ”＝Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３３＝　ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、　Ｒ３４＝、１．　Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する無水アセトニトリル（５ｍＬ）中の実施例８２の生成物（０，３ｇ）と４−ジメチルアミノピリジン（０，３ｇ）の撹拌混合物にクロロチオギ酸０−フェニル（０，０７ｇ）を加える。室温で１時間撹拌後、溶液をエーテル（３０ｍＬ）で希釈し、塩水で洗う。有機相を硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を真空下で除去する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、２０％アセトンヘキサン溶液で溶出して精製する。実施例８４：式Ｔ　Ｖ　：　Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｈ，Ｒ”とＲ２２の一方は水素であり、他方はＯＨであり、Ｒ２３＝０と一緒になると、両方の酸素はチオカルボニル架橋で結合する。Ｒ”＝Ｈ実施例６０の手順で、実施例８３の生成物を脱保護し、精製すると標記化合物が得られる。実施例８５：式ＶＴＴ：Ｒ＝ｘチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’＝Ｈ，Ｒ”とＲ２２の一方は水素であり、他方はＯであり、Ｒ２３＝０と一緒になると、両方の酸素はカルボニル架橋で結合する：Ｒ”＝Ｈ，Ｒ”＝Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３３＝　ｔ−プチルジメチルシｌ　）レオキシ、　Ｒ３４＝、　、　Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する実施例８２の生成物（１ｇ）を１．２−ジクロロエタン（１５ｍＬ）に溶解し、混合物にＮ、Ｎ−カルボニルジイミダゾール（０，１８８ｇ）を撹拌しながら少量ずつ加える。室温で２６時間撹拌した後、溶媒を真空下で除去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、１０％アセトンヘキサン溶液で溶出して精製する。実施例８６０式ＩＶ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝ＩＩ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｈ、ＲとＲの一方は水素であり、他方はＯＨであり、Ｒ２３＝０と一緒になると、両方の酸素はカルボニル架橋で結合する；Ｒ”＝Ｈ実施例６０の手順で、標記化合物は実施例８５の生成物から製造する。実施例８７：式ＶＭ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ−１；　Ｒ１，２＋２２＝Ｈ，ＲとＲの一方は水素であり、他方は０であり、Ｒ２３＝０と一緒になると、両方の酸素はＰ　（０）（ＯＣＨ３）で結合する：Ｒ２４＝Ｈ；Ｒ３１＝Ｒ３２＝Ｈ；Ｒ３３＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ；Ｒ３４＝■（；Ｒ３５とＲ３Ｇは共にオキソ基を形成する無水塩化メチレン（１５ｍＬ）中の実施例８２の生成物（１ｇ）と４−ジメチルアミノピリジン（０，５ｇ）の撹拌混合物に塩化メチレン（１０ｍＬ）中のジクロロ燐酸メチル（０，１５ｇ）を加える。室温で２７時間撹拌した後、溶媒を真空下で除去する。残渣をエチルエーテル（１００ｍＬ）で希釈し、塩水で洗い、硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を真空下で除去する。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにかけ、２０％アセトンへキサン溶液で溶出して精製する。実施例８８：式Ｉ　Ｖ　：　Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｈ，Ｒ”とＲ２２の一方は水素であり、他方はＯであり、Ｒ２３＝０と一緒になると、両方の酸素はＰ　（０）（ＯＣＨ３）で結合する；Ｒ２４＝Ｈ実施例６０の手順で、標記化合物は実施例８７の生成物から製造する。実施例８９：式Ｉ　Ｖ　：　Ｒ＝１チル；Ｒ’　＝ＩＩ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｈ；Ｒ２１とＲ２２の一方はｎ−ブチルであり、他方はＯＨであり、Ｒ２３＝０と一緒になると、両方の酸素はチオカルボニル架橋で結合する；Ｒ２４−Ｈ実施例８４の手順で、標記化合物は実施例７８の生成物から製造する。実施例９０、式ＩＶ：Ｒ＝ｘチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｈ；Ｒ２１はローブチルである；Ｒ２２とＲ２３は共に結合を形成する。Ｒ２４＝ＩＩ無水トルエン（１０ｍＬ）中の実施例８９の生成物（０，５ｇ）と２．２′　− アゾビスイソブチロニトリル（触媒量）の混合物に３０分間かけて、水素化トリーｎ−ブチルすず（１ｍＬ）を加える。溶媒を真空下で除去し、残渣をンリカゲルクロマトグラフィーにかけ、１０％アセトンヘキサン溶液で溶出して精製する。実施例９１・式ＴＶ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝ｌ　；Ｒ’　＝Ｈ、Ｒ２１＝Ｈ、Ｒ２２とＲ２３は共に結合を形成する。Ｒ２４＝Ｈ実施例９０の手順で、標記化合物は実施例８４の生成物から製造する。実施例９２：式Ｉ　Ｖ　：　Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｈ、Ｒ”＝Ｒ２２＝Ｈ、Ｒ２３＝ＯＨ、Ｒ”＝Ｈ氷酢酸（５ｍＬ）中の実施例８６の生成物（０，５ｇ）の撹拌溶液に亜鉛粉末（１ｇ）を加え、室温で３５時間撹拌する。反応混合物を塩化メチレン（１５０ｍＬ）で希釈し、固体を濾別し、塩化メチレン（３Ｘ５０ｍＬ）で粉砕する。溶媒を真空下で除去し、残留物をシリカゲル（１０ｇ）クロマトグラフィーにかけ、エーテルで溶出して精製する。実施例９３：式Ｉ　Ｖ　：　Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｈ，Ｒ”とＲ２２の一方はｎ−ブチルであり、他方はＯであり、Ｒ２３＝０と一緒になったときには、両方の酸素はカルボニル架橋で結合する：Ｒ２４＝Ｈ実施例８６に使用の手順で、標記化合物は実施例７８の生成物から製造する。実施例９４１式Ｔ　Ｖ　：　Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝）Ｉ；ｎ＝１；Ｒ’　＝１１、Ｒ”とＲ２２の一方はｎ−ブチルであり、他方はＨである。Ｒ＝ＯＨ，Ｒ２４＝Ｈ実施例９２に使用の手順で、標記化合物は実施例９３の生成物から製造する。実施例９６ａ及び９６ｂ：式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル、Ｒ’＝Ｈ。ｎ−１，Ｒ３＋＝Ｒ３４−１，；Ｒ３２とＲ３３は結合する炭素原子と共に、複素環系の４′及び５′位に各々くるＣ−２３及びＣ−２４の３−フェニル−２− インキサシリンを形成する；Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する；及び式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ　＝　１　；　Ｒ”＝Ｒ３４＝Ｈ；　Ｒ３２とＲ３３は結合する炭素原子と共に、複素環系の５′及び４′位に各々くるＣ−２３及びＣ−２４の３−フェニル−２−イソキサゾリンを形成する；Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成するＮ−りｏロスクシンイミド（２，６７ｇ、２ ’Ｏｍｍｏ　ｌ）をピリジン（０，１ｍＬ）を含むクロロホルム（２０ｍＬ）に懸濁した。ベンズアルデヒドオキシム（２，４２ｇ、２０ｍｍｏりを懸濁液に加えた。２０分後、Ｎ−クロロスクシンイミドを溶解し、得られた溶液を窒素下で保存した。実施例３６の生成物（１，００６ｇ、１．２９ｍｍｏ　Ｉ）を無水クロロホルムに溶解した。上記のように調製したヒドロキサム酸塩化物溶液（０，４ｍＬ）を導入し、トリエチルアミン（０，４ｍＬ）をゆっくりと加えながら混合物を４８℃に加熱した。２５時間後、反応混合物を冷却し、揮発性物質を減圧下で除去した。未精製物質をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：アセトン３：２で溶出）で精製すると、標記化合物が得られた。実施例９６ａ：ＩＲ（ＣＤＣＩ、　）　ｃｍ−’３４２０．２９５Ｇ、　１７８０．１７５０．１？２０．　Ｈ４０，１１６０；’ＨＮＭＲｆＣＤＣＩ３．５００１ＬＨ＋ｌδ ７．７Ｇ−７１５（ｓ、５Ｈ１、５，３８（＊、ＩＨｌ　６５、　Ｉｓ　（ｄ、　Ｉ＝７．　’ＬＨｔ、　ＩＨ，４，７３ｆｄｄ、Ｉ＝６．１ＯＨ！、ＩＨｌ　＆　４．６４　（不鮮明なカップリング）　、　４．１６（ｄ、Ｉ・７Ｈｔ、　！８）　＆　４．　Ｎ　（ｄ、　Ｉ＝７Ｈ＋、　ＩＨ）　；１５　（Ｆ＾［１１ｓ／ｒ：Ｍ＋に＝９３１　。実施例９６ｂ：ＩＲ（ＣＤＣＩ３）　ｃｍ−’２９３０．１７５０．１？２０，１７００，１６５０，１４５０．１０９０；’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ　３．５…■π）δ　５．３？　（ｄ、Ｊ・７Ｈｘ、ＩＩｌ　■、２３（ｄ、Ｉ・３１１冨。１８１　、　５．ＩＮｂ＋ｓ、ｌＨｌ　＆　４．８９（ｄ、Ｊニア、７ｇｇ、Ｉｌｌ　、４．３０（ｍ、ＩＨｌ　＆４、０５　（＠、　ｌ旧；ＭＳ　ＣＦＡｌｌｌ−バー÷に＝９３１　。実施例９７ａ及び９７ｃ：式１１１：Ｒ＝、１チル、Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝　ｌ　；　Ｒ３１＝Ｈ；　Ｒ３２＝　−Ｃ（０）　Ｐｈ　；　Ｒ３３＝ヒドロキシ；Ｒ３４＝Ｈ；Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する；及び式１目：Ｒ＝エチル；Ｒ ’　＝Ｈ；ｎ＝１．；Ｒ”とＲ３３Ｉよ共尋コ結合を形成する；　Ｒ３２＝　− Ｃ（０）　Ｐ　ｈ　、　Ｒ”＝Ｈ、Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する実施例９７ａ、実施例９６Ｈの生成物（５１，７ｍｇ。０．０５８ｍｍｏｌ）を水１％含有アセトニドＷノル（５ｍＬ）に溶解し、モリブデンヘキサカルボニル（７，６ｍｇ。０．０２９ｍｍｏ＋）を加える。混合物を数時間加熱還流し、このとき濃青色となる。反応混合物を冷却し、少量のシ＋Ｊカゲルを加えてから、溶媒を減圧下で除去する。残渣をシ１ツカゲルカラムにかけ、標記生成物であるβ−ヒドロキシケトンを脱水産物実施例９７ｃと共にエーテルで溶出する。実施例９７ｂ９式＋１１：Ｒ＝エチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１；Ｒ”＝　Ｈ；　Ｒ３２＝ヒドロキシ；　Ｒ３３＝−Ｃ（０）Ｐｈ　、Ｒ”＝）（；Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する実施例９６ｂの生成物を水の存在下で、上記方法で還元すると標記化合物が得られる。実施例１０２：式１１１：Ｒ＝１チル；ｎ＝１；Ｒ’＝Ｈ；Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ”＝ＯＨ、Ｒ３４＝Ｈ、Ｒ３５とＲ２Ｏは−Ｋｉｔ：なって＝ＮＲ３８（Ｒ３８＝　ＯＣＨＣ００Ｈ）でＪ５６エタノール１０ｍＬ中のアスコマイシン（３００ｍｇ。０．４ｍｍｏ　＋）　、カルボキシメトキシルアミンヘミ塩酸塩（２５０ｍｇ、１．２ｍｍｏ　り及びピリジ：／（１００μＬ。１．２ｍｍｏｌ）を４時間還流した。溶媒を蒸発させ、残渣をＥｔＯＡｃに取り、１１２０、希酸（０，２Ｍの８３ＰＯ４）及び塩水で順次洗い、Ｎ　ａ　２　Ｓ　Ｏ４で脱水した。真空下で濃縮すると未精製生成物４３０ｍｇが得られ、これを逆相−ＨＰＬＣ（２１，４ｍｍｘ２５ｃｍ、ｃｉｓ、８μｍシリカ、ＤＹＮＡＭＡＸ分取用ＨＰ　Ｌ　Ｃ（Ｒ烏１ｎｉｎ）　）で精製した。５５：４５（０，１？（Ｔ　Ｆ　Ａ含有Ｈ０−ＣＨ５ＣＮ）から１０　＋　９０の直線勾配で３０分かけて溶出（１５ｍＬ／分）した。選択した両分を合わせ、ＣＩ、ＣＮを蒸発させ、凍結乾燥させると、標記化合物１２４ｍｇが得られた。ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋に＝９０３゜実施例１０３ａ　：式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｈ；Ｒ”＝Ｈ、Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３３＝ＯＨ、Ｒ”＝Ｈ、Ｒ３５＝ＯＨ（３体）・Ｒ３６＝Ｉ（ＣＨＣＮ（ＬｍＬ）中の４８％ＨＦ水溶液（１６ｕ　Ｌ）にＣＨＣＮ（ＬｍＬ）中の下記の実施例１０３Ｃの生成物（Ｓ異性体、７０ｍｇ）を加えた。混合物を３０分間撹拌した。溶媒を除去し、未精製物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、２％Ｍ　ｅ　ＯＨ／　ＣＨ２Ｃｌ　２で溶出して精製すると、標記化合物４８ｍｇが得られた。ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋に８１４゜実施例ＩＱ３ｂ：式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；ｎ＝１；Ｒ’　＝Ｈ、Ｒ”＝）Ｔ　、　Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３３＝ＯＨ、Ｒ”＝Ｈ、Ｒ３５＝）Ｔ・Ｒ’＝ＯＨ（Ｒ体）標記化合物は実施例１０３ａと同様の方法で、下記の実施例１０３ｄの生成物から製造した。実施例１０３Ｃ及び１０３ｄ　：式Ｖ　：　Ｒ＝１チル；ｎ＝１；Ｒ’＝Ｈ：Ｒ ’＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ；Ｒ３１＝Ｈ；Ｒ”＝Ｈ、Ｒ３３＝ＯＨ、Ｒ”＝Ｈ、Ｒ３５＝Ｏ）ｌ　（３体）、Ｒ３６＝Ｈ及び式Ｖ：Ｒ＝エチル；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｈ；Ｒ’　＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、　Ｒ”＝Ｈ、Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３３＝ＯＨ。Ｒ”＝ｌＴ　；　Ｒ３５＝Ｈ：　Ｒ３６＝ＯＨ（Ｒ体）ＣＨ３ＣＮ　（１ｍ　Ｌ　）中の実施例８ａの生成物（１００ｍｇ。０．１ｍｍｏ　＋）と水素化ホウ素トリアセトキシナトリウム（２５，７ｍｇ、０．ｌｌｍｍｏｌ）の溶液に０℃でゆっくりと酢酸（２４ｕ　Ｌ、０．３３ｍｍｏｌ）を加えた。０℃で２時間撹拌した後、反応混合物の反応を水で止め、さらに３０分間撹拌した。溶液をＥｔＯＡｃで抽出し、有機相を１１２０、塩水で洗い、Ｎａ２Ｎ０４で脱水した。溶媒を蒸発させると、未精製生成物９４ｍｇが得られ、これを溶出液として２０％ＥｔＯＡｃ／ＣＨＣｌ３を使用したシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけた。未反応の出発物質（１０ｍｇ）、実施例１０３ｄの生成物１８　ｍ　ｇ　ｓシリル化された少量の異性体（Ｒ）及び実施例１０３Ｃの生成物５２ｍｇ、シリル化された多量の異性体（Ｓ）が集められた。実施例１０４ａ　：式Ｖ：Ｒ＝エチル；ｎ＝ｌ　；Ｒ’　＝Ｈ；Ｒ’＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、Ｒ３１雰Ｈ、Ｒ３２＝Ｈ。Ｒ３３＝Ｏ）Ｉ　；　Ｒ３４＝Ｈ；　Ｒ３５＝Ｏ３ｉ　（Ｍｅ　２）　−ｔ−Ｂｕ（３体）、Ｒ３６＝ＨＣＨ２ＣＩ　２　（２０ｍ　Ｌ　）中の下記実施例１０３Ｃの生成物（１，０ｇ、１．１ｍｍｏｌ）の溶液に、塩化ｔ−ブチルジメチルシリル（７３０ｍｇ、４．８４ｍｍｏ　ｌ）及びイミダゾール（６６０ｍｇ、９．６８ｍｍｏ　ｌ）を加えた。これを室温で５時間半撹拌した。反応混合物に飽和ＮＨ４Ｃｌを加えて反応を止め、ＥｔＯＡｃで希釈した。有機相を飽和ＮＨ４Ｃｌ、飽和ＮａＨＣＯ、塩水で洗い、Ｎ　ａ　Ｓ　０４で脱水した。溶媒を蒸発させ、未精製物質１．３２ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけると、ジシリル化された生成物８６８ｍｇと回収された出発物質１４０ｍｇが得られた。実施例１０４ｂ　：式Ｖ：Ｒ＝１チル；ｎ＝１　；Ｒ’　＝Ｈ；Ｒ’＝Ｏ３ｉ　（Ｍｅ２）−ｔ−Ｂｕ　；Ｒ”＝Ｈ；Ｒ３２＝Ｈ；Ｒ３３とＲ３４は共にオキソ基を形成する；Ｒ３５＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ（Ｓ体）：Ｒ３Ｇ＝Ｈ塩化メチレン１ｍＬ中の塩化オキサリル（４０ｕ　Ｌ。０．４４ｍｍｏｌ）の−７８℃の溶液に、塩化メチレン１ｍＬ中のジメチルスルホキシド（６０ｕｌ、０．８８ｍｍｏ＋）の溶液を加え、混合物を一７８℃で３０分間熟成させた。塩化メチレン（Ｌ　ｍ　Ｌ　）中の実施例１０４ａのジシリル化した生成物（１７０ｍｇ、０．２ｍｍｏ　Ｉ）の溶液を加えた。撹拌しながら一７８℃で３時間反応させ、トリエチルアミン（２７０ｕ　Ｌ。２、Ｑｍｍｏ　ｌ）を加えた。−７８℃で２０分間撹拌した後、室温に３０分間静置した。反応混合物を酢酸エチル４０＝Ｈと１０％Ｎ　ａ　ＨＳ　Ｏ４溶液１０＝Ｈに分配した。有機相を１ｏ％Ｎ　ａ　ＨＳ　Ｏ４、水（Ｘ３）、塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると未精製物質１６０ｍｇが得られた。実施例１０４ｃ：式１１１：Ｒ＝エチル；ｎ＝１　、Ｒ’　＝Ｈ。Ｒ３１＝Ｈ：Ｒ３２＝Ｈ：Ｒ３３とＲ３４は共にオキソ基を形成する；Ｒ３５＝ＯＨ（Ｓ体）；Ｒ３６＝Ｈ実施例１０４ｂで得られた生成物をＨＦ水溶液で開裂し、次にシリカゲルカラムで精製すると、標記化合物８５ｍｇが得られた。ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋に＝８３０゜実施例１０５ａ　：式ｒｌ：Ｒ＝アリル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝ｌ　；Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９は結合した炭素原子と共に、複素環の２′及び３′位にくるＣ−９及びＣ−１０のキノキサリンを形成する。Ｒ６０＝ＯＨ（Ｒ体）；Ｒ６５＝Ｈ無水エタノール（３＝Ｈ）中のＦＫ−５０６（０，４１ｇ）、０−フ二二レンジアミン（０，１０８ｇ）及びＮ−メチルモルホリン（０，０７２ｇ）の溶液を窒素下で、−晩還流する。溶媒を真空下で除去し、生成物をシリカゲル（１０ｇ）で精製し、塩化メチレン／アセトニトリル（５：　２、ｖ／ｖ）　、次に４０％アセトンヘキサン溶液で溶出すると、所望の生成物が得られる。実施例１０５ｂ：式１［：Ｒ＝プロピル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１；Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９は結合した炭素原子と共に、複素環の２′及び３′位にくるＣ− ９及びＣ−１０のキノキサリンを形成する。Ｒ”＝ＯＨ（Ｒ体）；Ｒ６５＝Ｈ酢酸エチル（６＝Ｈ）中の実施例１０５ａの生成物（１５０ｍｇ）と１０％Ｐｄ／Ｃ（３０ｍｇ）を室温、１気圧で２０分間水素添加する。触媒を濾過し、溶媒を濃縮し、得られた未精製物質をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、溶媒（クロロホルム／アセトン５：１）で溶出して精製すると、標記化合物が得られる。実施例１０６ａ及び１０６ｂ　：式１：Ｒ＝ｘチル。Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１；Ｒ’＝ＯＣＯＣＨＣＨＨＮ−ＦＭＯＣ及び式Ｖ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝ｌ　；Ｒ＝ＯＣＯＣＨＣＨＨＮ−ＦＭＯＣ，Ｒ”＝Ｈ，Ｒ３２＝Ｒ３５とＲ３６は共にオキソ基を形成する無水ジクロロメタン（１，８＝Ｈ）中のアスコマイシン（１４２，５ｍｇ、０．１８０ｍｍｏｌ）及びＦＭＯＣ− β−アラニン（５６，０ｍｇ、０．１８０ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に、１−（３− ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（３８，０ｍｇ、０．１．９８ｍｍｏ　ｌ）及びＤＭＡＰ　（２，２ｍｇ、０．０１８ｍｍｏ　Ｉ）を加エタ。２．５日後、さらにＦＭＯＣ−β−アラニン（４２，０ｍｇ）及びＤＭＡＰ　（１，５ｍｇ）を加えた。６時間後、混合物を蒸発させ、残渣を、溶出液としてエーテル／ジクロロメタン（１／２）を使用するシリカゲルクロマトグラフィーにかけた。選択した両分を合わせると、極性の弱いビスアシル化された生成物、実施例１０６ｂ　： ’ＨＮＭＲ（５００Ｍ）ＩＩ、　ＣＤＣｌ３１　δ２．５５（ｂ＋、４！（ｌ　、３．３２　（ｓ、　３旧、４３７（ｂ＋　ｄ、２Ｈ１、４，４２（ｂ＋　ｄ、２Ｈ１、７，３２（１，４Ｈ１，？、３９（１，４Ｈ）　。？、５９（ｄ、ＨＩ　）　、　７．６１（ｍ、２Ｈ）、　７．７６ｆｄ、４Ｈ１；及びモノアシル化された生成物、実施例１０６＠ｆ７６ａｇ）　’ＨＮＭＲ（ＳＯＯＭＨｔ、ＣＤＣ１ｌ　６２、５５　（ｂ＋１．　３．３２　Ｉｓ、　３旧、４．４２（ｂ＋　ｄｌ、５．４９（−、ＩＩ、７．３２　（＋、　２Ｈ）。？、３９（１，ＨＩ）、７．５９（ｄ、２Ｈ１，７，７６（ｄ、２旧が得られた。実施例１０７：式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝ＯＣＯＣＨＣＨ２ＮＨ２無水Ｔ　ＨＦ　（０、８ｍ　Ｌ　）中の実施例１０６ａの生成物（９，０ｍｇ、０．００８２ｍｍｏ　ｌ）　の撹拌溶液に、ピヘリジン（４，ＯｕＬ、０．０４１ｍｍｏｌ）を加えた。Ｔ　Ｌ　Ｃ’１１’１００終了が判った後、溶媒を除去し、固体残渣をエーテル／ヘキサン（１／２）で３回粉砕すると、白色の固体として所望の生成物が得られた。収量５．５ｍｇ６Ｍ５　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：Ｍ＋に＝９０１゜実施例１０８：式ＩＶ：Ｒ＝プロピル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１；Ｒ１＝ベンジルオキシ；Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９は結合した炭素原子と共に、複素環の２′ 及び３′位にくるＣ−９及びＣ−１０のキノキサリンを形成する；　Ｒ６０＝ＯＨ（Ｒ体）、Ｒ６５＝無水ＴＨＦ（２００ｕＬ）中の実施例１０５ｂで得られた生成物（３２ｍｇ）の０℃の撹拌溶液に、塩化ベンゾイル（２０ｕｌ、）とピリジン（５０ｕ　Ｌ）を加える。ＴＩ、Ｃが実施例１０５ｂで得た化合物の消失を示した後、溶媒を蒸発させ、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにかける。選択した両分を合わせるとモノアシル化された生成物、実施例１０８が得られる。実施例１０９：式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；Ｒ’　＝−ＯＣＨＣ（０）ＱＣ２Ｈ５（Ｒ体）ジクロロメタン（１ｍＬ）中のジアゾ酢酸エチル（６６ｕ　Ｌ。０．６３ｍｍｏ＋）を滴加しながら、酢酸ロジウム（ＩＩ）二量体（３ｍｇ）を含むジクロロメタン（１０ｍＬ）中のアスコマイシン（０，５ｇ、０．６３ｍｍｏ　ｌ）の溶液を還流した。添加終了後、反応液を３０分間還流し、さらにジクロロメタン（１，５ｍＬ）中のジアゾ酢酸エチル（１３２ｕＬ、１．２６ｍｍｏｌ）を滴加し、添加完了後３０分間還流を続けた。溶媒を真空下で除去し、残渣をシリカゲルのＨＰＬＣにかけ、ヘキサン・アセトン（３：　１）で溶出して精製した。所望の生成物を含む両分を集め、濃縮し、ＣＣｌ４に溶解し、高真空下で一定の重量まで濃縮すると所望の生成物（２７４ｍｇ）が５０％の収率で油として得られた。 −１，１３ＩＲ（ＣＤＣＩ　）３５００　、２９３０．１７４２．１７００．１６４５．１４５２ｃｍ　、ＣＮＭＲ（１２５ＭＨ＋）δ９．４　、１＋、７．１４．１．　＋４．２．１５．１１．１６．２．２１１．５゜２＋、１．２４．２．２４．６．２６．３．２７．６．３Ｇ、３．３Ｇ、８．３２、？、　３２．９゜３３．６．３４．６．３６．４．３９．２．３９．７．４３．１．４８７．５４．７．５６．３゜５６．６．　５６．９．　５７．２．　６０．６．　６８．５．　７Ｇ、１．　７２．９．　７３．７．　７５．２゜？７．２．　８２．８．　８３．６．　９７．０．　１２３．１　、　１２９．６　、　１３２．４　、　１３８．７　。＋６４．７　、　１６９．０　、　１７１．１　、　１９６．１　、　２１３．５：ＭＨＦＡＢＩ■／！　：Ｍ＋に＝９１６；Ｃ）（Ｎｏ　・１．０ｃｃｌ、についての計算値：Ｃ１５４，７０；　Ｈ，？、３３；　Ｎ、　１．３６：測定値：　Ｃ，５４，４２；　ＩＩ、　７．２２゜＋１．１．２６゜実施例１１０　式１：Ｒ＝ｘチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝−ＯＣＨＣ（０）ＱＣ）（２Ｃ６Ｈ５（Ｒ体）ジアゾ酢酸エチルの代わりにジアゾ酢酸ベンジルを使用するように前記の手順を変更した。アスコマイシン（０，５ｇ）から標記化合物（０，Ｉｇ）が２０％の収率で得られた。融点６５〜７２℃。 −１，１３ＩＲ（ＣＤＣＩ　）３５１０　、　２９３０．　１７４０．　１６９５．　１６４２．　１４５０ｃｍ　、　ＣＮＭＲ（１２５Ｍ１１りδ９．１　、１１．７．　＋４．１．　＋５．８．１６．２．２Ｇ、４．２＋、１゜２４．１．２４．５．２６．３．２７．６．３Ｇ、３．３Ｇ、ｇ、　３２．７．３２．８．３４．４゜３４５．３６３．３９．２．３９．６．４３．１．４８．６．５３．４．５４．６．５６．３゜５６．６．５７．１．６６．３．６８．５．７Ｇ、１．７２．８．７３．６．７５．１．７６．８゜８２．７．８３．６．９６．９．１２３．０　、　＋２８．３　、１２８．４　、１２８．５　、　＋２９．５　。＋３２３．１３５．６　、１３８．７　、　＋６４．７　、１６８．９　、１７１．＋１　、１９６．２　。２Ｎ、　４；ＭＳ　（ＦＡＢＩ　ｍ／！　＋Ｍ＋１Ｉ−Ｈ２０：９９２．　Ｍ＋に；９７８゜Ｃ５２Ｈ７７ＣＯＩ４についての計算値：　Ｃ，６Ｇ、４３　、　Ｈ，１１，２６，Ｎ、　Ｉ、４９計測値：Ｃ９６６、＋２　；　Ｈ，８，１４；　Ｎ、１．４１゜実施例１１１：式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ ’　＝−ＯＣＨ２Ｃ（０）ＯＨ実施例１１０で得られた生成物（２５ｍｇ、０．０３ｍ　ｍ　ｏ　＋　）と１０％Ｐｄ／Ｃ（３ｍｇ）をフラスコにいれ、容器に１０分間窒素を吹き込んだ。メタノール（２５０ｕ　Ｌ）をシリンジを介して加え、反応液を水素雰囲気下（ｌａｔｍ）で４５分間撹拌した。混合物を濾過し、触媒を別のメタノール（１ｍＬ）で洗い、溶媒を真空下で除去した。得られた残渣を酢酸エチル（５ｍＬ）と水（５ｍＬ）に分配し、有機相をＭｇＳＯ４で脱水し、濾過し、一定重量まで濃縮すると、標記化合物（２３ｍｇ）が白色の粉末として得られた。実施例１１２：式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１；Ｒ’　＝−ＯＣＨＣ（０）Ｒ１２（Ｒ体）；Ｒ１２＝ＮＲ１４Ｒ１５；Ｒ１４＝Ｈ，Ｒ１５＝ベンジルＤＭＦ（３ｍＬ）中の実施例１１１の生成物（８４９ｍｇ）をＮ、Ｎ’　−力ルボニルジイミダゾール（１６２ｍｇ）で室温で５分間処理し、ここで、ベンジルアミン（１０７ｍ　ｇ　）を−度に加えた。３時間後、混合物をＥｔＯＡｃ　（２０ｍＬ）と水（２０ｍＬ）に分配し、もう一度ＥｔＯＡｃ　（１０ｍＬ）で抽出した。有機相を合わせ、０．５ＮのＨＣＩ　（２０ｍＬ）、塩水（２Ｘ２０ｍＬ）で洗い、ＭｇＳＯ４で脱水し、濾過し、濃縮乾固させた。シリカゲルクロマトグラフィーにかけ、ヘキサン、アセトン（３・１）で溶出して精製すると、標記化合物（５６８ｍｇ）が得られた。ＭＳ　（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　（Ｍ＋Ｋ）＝９３８゜実施例１１３：式ｒ：Ｒ＝エチル；Ｒ’　＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’　＝−ＯＣＨＣ（０）Ｒ１２（Ｒ体）；Ｒ１２＝ＮＲ１４Ｒ１５；Ｒ１４＝実施例１１１の生成物を実施例１１２と同様に活性化し、次に、ベンジルアミンの代わりにＮ、Ｎ− メチルベンジルアミンで処理すると標記化合物が得られる。実施例１１４：式■　Ｒ−エチル；Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ＝１　；Ｒ’　＝−ＯＣＨＣ（０）Ｒ１２（Ｒ体）、　Ｒ１２＝ＮＲ１４Ｒ１５，Ｒ１４＝Ｒ１５＝Ｈ実施例１１１の生成物を実施例１１２と同様に活性化し、次に、ベンジルアミンの代わりに気体アンモニアで処理すると標記化合物が得られる。実施例１１５：式Ｉ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝−ＯＣＴｏＣ（０）Ｒ”（Ｒ配Ｗ）；　Ｒ１２＝ＮＲ１４Ｒ１５；　Ｒ＋４＝Ｈ；　Ｒ’ ’＝Ｃ１（３゜実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いで、ベンジルアミンの代わりにメチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１１６　：式Ｉ：Ｒ＝！チル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝一実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いで、ベンジルアミンの代わりにジメチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如（活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにエチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。Ｒ＋ｓ＝エチル。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにＮ、Ｎ−メチル、エチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにプロピルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いで、ベンジルアミンの代わりにＮ、Ｎ−メチル、プロピルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いで、ベンジルアミンの代わりに２−アミノプロパンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いで、ベンジルアミンの代わりにＮ、Ｎ−メチル、１−メチルエチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにシクロプロピルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにｎ−ブチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１２５　式１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　：　Ｒ’＝−ＯＣＲｆＣ（０）　ＲＩ（Ｒ配置）：Ｒｎ＝　Ｎ　Ｒ１４ＲＩＩｓ　、　Ｒｎ＝ＣＨ３゜ＲＩ　３　＝　−ＣＪＩ、ＣＢ、ＣＯ，ＣＢ、。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにＮ、Ｎ−メチルブチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにイソブチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにＮ、Ｎ−メチル、イソブチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１２８　：式Ｉ：Ｒ−４チル：　Ｒ’＝Ｈ：　ｎ＝　１　；　Ｒ’＝−ＯＣＲ２Ｃ（０）Ｒ’　２（Ｒ配ｆｉ）　：　Ｒ１１＝ＮＲ１４ＲＩ５　；　Ｒ１４＝Ｈ；　Ｒ１６＝シクロブチル。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにシクロブチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１２９：式■：Ｒ＝エチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’＝−ＯＣＦＩ２Ｃ（０）　ＲＩ（Ｒ配置）：Ｒｎ＝　Ｎ　Ｒ１４ＲＩｓ　、　Ｒ１４＝　）（、Ｒ ”　＝−ＣＨｚＣＨｚＣＨｚＣＦＩｚＣＨｓ。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如（活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにペンチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１３００式１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　１　；　Ｒ’＝−ＯＣＲ，Ｃ（０）　Ｒ夏２（Ｒ配置ｊ）　、Ｒ１２＝　Ｎ　Ｒ１４Ｒｌｆｉ　：、　Ｒ１４＝　側、　：Ｒ”＝　−ＣＨ２Ｃ１（２ＣＨ，ＣＩｌ、ＣＩ、。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如（活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにＮ、Ｎ−メチル、ペンチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いでベンジルアミンの代わりに３−メチルブチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１３２・式１：Ｒ＝４チル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝−ＯＣＦ１２Ｃ（０）Ｒｌ２（Ｒ配置）；　Ｒ”＝ＮＲ１４Ｒ１５；　Ｒ１’＝ＣＨ，；Ｒｎ＝　−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２（ＣＨ３）２゜実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにＮ、Ｎ−メチル、３−メチルブチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１３計式１：Ｒ＝エチル：　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　１　；　Ｒ’＝−ＯＣＩ（２Ｃ（０）　ＲＩ　２（Ｒ配ｆｉｔ）、Ｒ”＝ＮＲ宜４ＲＩｓ　、Ｒ１４＝　）（、ＲＩ５＝シクロペンチル。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにシクロペンチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１３４：式Ｉ：Ｒ＝４チル：　Ｒ’＝Ｈ：　ｎ＝１　；　Ｒ’＝−ＯＣＨ２Ｃ（０）　Ｒ’　”（Ｒ配置）　、　Ｒ１１＝ＮＲ１４ＲＩ５　、　Ｒ１４＝Ｈ、Ｒ”　”　−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＩ’！２ＣＨ３゜実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如（活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにｎ−ヘキシルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１３５：式１：Ｒ＝！チル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　１　；　Ｒ’＝−ＯＣ［］２Ｃ（０）Ｒ”（Ｒ配置）　；　ＲＩ”＝ＮＲＩ４ＲＩ５　；　ＲＩ４＝ＣＨ３；Ｒ”　＝　−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ［２ＣＢ２ＣＨ２ＣＨｓ。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにＮ、Ｎ−メチル、ヘキシルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１３６：式Ｉ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝−ｏｃＬＣ（０）Ｒ’　”（Ｒ配置）；　Ｒ１２＝ＮＲ１４ＲＩ８．ＲＩ４＝Ｈ、Ｒ１５＝シクロヘキシル。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにシクロヘキシルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載の如く活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにモルフォリンで処理すると、表記化合物が得られた。ｏｃＨｔｃ（０）Ｒ”（Ｒ配ｆｌ）　；　Ｒ”＝ＮＲ１４Ｒ”　；　Ｒ”＝Ｈ、ＲＤＭＦ（４＋＊Ｌ）中の実施例１１１の生成物（１，０２ｇ）をＮ、　Ｎ’− カルボニルジイミダゾール（１９４謹ｇ）で室温で５分処理し、２−ヒドロキソエチルアミン（１４７ｍｇ）を一度に全部添加した。６時間後、混合物をＥｔＯ＾ｃ（５０ｍＬ）と水（３ＴｏＬ）の間で分配し、ＥｔＯ＾Ｃ（１０＋＋Ｌ）チ一度抽出した。有機層を集め、０．５Ｎ　ＨＣＩ（３０＋＊Ｌ）及び塩水（２Ｘ　３０＋ｉＬ）で洗浄し、脱水０１ｇ５Ｏ４）　Ｌ／、濾過し、濃縮転層させた。クロマトグラフィーで精製すると、表記化合物が得られた。実施例１３８に記載の如〈実施例１１１の生成物を活性化し、次いで２−ヒドロキシエチルアミンの代わりに３−ヒドロキシプロピルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１４０：式１：Ｒ＝４チル：　Ｒ’＝Ｈ：　ｎ＝１　；　Ｒ’＝−ＯＣＩ（２Ｃ（０）　Ｒ”　（Ｒ配置）：　Ｒ”＝ＮＲＩ’Ｒ”、ＲＩ’＝Ｈ、Ｒ”　＝　−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ１１２０Ｈ。実施例１３８に記載の如〈実施例１１１の生成物を活性化し、次いで２−ヒドロキシエチルアミンの代わりに４−ヒドロキシブチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１３８に記載の如〈実施例１１１の生成物を活性化し、次いで２−ヒドロキシエチルアミンの代わりに５−ヒドロキシペンチルアミンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１４２：式！＋Ｒ＝ｊ−チル：　Ｒ’＝Ｈ：　ｎ＝１　；　Ｒ’＝−ｏｃＨｚＣ（０）Ｒ”（Ｒ配置）　、　Ｒ１２＝ＮＲ１４Ｒ＋５　、　ＲＩ４＝Ｈ、Ｒ”　＝−ＣＨｚＣＬＮＬ。実施例１３８に記載の如〈実施例１１１の生成物を活性化し、次いで１．２−ヒドロキシエチルアミンの代わりに１．２−ジアミノエタンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１４３：式Ｉ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ−１；　Ｒ’＝−ｏｃＬＣ（０）Ｒ”（Ｒ配ｆｌ）　；　ＲＩ２＝ＮＲ”ＲＩＳ　；　Ｒ１４＝Ｈ；　Ｒ’ 　””　−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨＪＨ２゜実施例１３８に記載の如〈実施例１１１の生成物を活性化し、次いで１．２−ヒドロキシエチルアミンの代わりに１．３− ジアミノプロパンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１４４：式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’＝Ｈ：ｎ＝１　；Ｒ’＝−ＯＣＲ２Ｃ（０）Ｒｌ２（Ｒ配置）、　Ｒ１＝ＮＲ１４Ｒ１６，ＲＩ４＝Ｈ、Ｒ＋　５　＝　 −ＣＨ２Ｃｌ（２ＣＨ２ＣＩＩ２Ｎｉ＋□。実施例１３８に記載の如〈実施例１１１の生成物を活性化し、次いで１．２−ヒドロキシエチルアミンの代わりに１．４−ジアミノブタンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１４５：式１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝−ＯＣＩ ’１２Ｃ（０）Ｒ１２（Ｒ配置）；　ＲＩ２＝ＮＲ”Ｒ”；　ＲＩ４＝Ｈ、Ｒ” 　＝　−ＣＨ２Ｃ１１ｚＣＪＣＨ２ＣＪＮＨ２゜実施例１３８に記載の如〈実施例１１１の生成物を活性化し、次いで１．２−ヒドロキシエチルアミンの代わりに１．５−ジアミノペンタンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１４６：式１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝−ＯＣＦ１２Ｃ（０）Ｒ１２（Ｒ配置）；　Ｒ１２＝ＮＲ１４Ｒ＋５．Ｒ”＝Ｈ；Ｒ１３＝　−ＣＨ２ＣＨ２■。実施例１３８に記載の如〈実施例１１１の生成物を活性化し、次いで１．２−ヒドロキシエチルアミンの代わりにグリシンで処理すると、表記化合物が得られた。４乳町工ヱ入に通二ソンし」ニリ辷」ビ」二重と竺ｏｃＬＣ（０）Ｒ１２（Ｒ配置）；　Ｒ”＝ＮＲ”Ｒ”；　ＲＩ４＝Ｈ、Ｒ”　＝　−ＣＨ２Ｃ）１２Ｃｏ、Ｈ。実施例１３８に記載の如〈実施例１１１の生成物を活性化し、次いで２−ヒドロキシエチルアミンの代わりに３−アミノプロパン酸で処理すると、表記化合物が得られた。実施例１４８：式Ｅ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝−ＯＣＲ２Ｃ（０）　Ｒｌ　”（Ｒ配置）　、　Ｒ１２＝ＮＲ１４Ｒ＋５　、　Ｒ＋４＝Ｈ、Ｒ”＝−ＣＨ（Ｒ１６）Ｃｏ２Ｈ：　Ｒ”＝Ｃ１１３（Ｒ配置）。実施例１３８に記載の如（実施例１１１の生成物を活性化し、次いで２−ヒドロキシエチルアミンの代わりに（Ｒ）−２−アミノプロパン酸で処理すると、表記化合物が得られた。実施例１４９：式１：Ｒ＝エチル：Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’＝−ＯＣＥＩ２Ｃ（０）Ｒ”（Ｒ配置１Ｆ）　；　Ｒ”＝ＮＲ”Ｒ”；　Ｒ１４＝Ｈ、Ｒ菫５＝− ＣＨ（Ｒ１６）Ｃｏ２Ｈ，Ｒ”＝ＣＨ５（Ｓ配置）。実施例１３８に記載の如〈実施例１１１の生成物を活性化し、次いで２−ヒドロキシエチルアミンの代わりに（Ｓ）−２−アミノプロパン酸で処理すると、表記化合物が得られた。実施例１５０：式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ”＝Ｒ”’＝Ｒ ”＝Ｈ；　Ｒ”＝ＯＨ；　Ｒ３”及びＲ”Ｉｔ−緒ｉｆオキソ基を形成する。シクロロメタン（１３，３ｍＬ）中のアスコマイシン（２ｇ、　２．５３＋ｍｏｌ）の溶液に一７８℃で、ジエチルアミノスルフルトリフルオリド（３，４ｉＬ、　２５．：３ｖｏｌ）を添加し、反応混合物を２０分撹拌した。反応混合物を氷水（〜７５ｍＬ）に滴下添加し、酢酸エチル（２ｘ　１００ｍＬ）で抽出し、脱水（Ｎａ＊５Ｏ４）　Ｌ、濾過して真空上濃縮すると、黄色い泡（２，２１ｇ）が生成した。混合物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製すると、表記化合物（０゜２３ｇ）が得られた。融点１００〜１０５℃、　ＩＲ（ＣＤＣ１３）３５９０．３４７０゜２９３０．１７４５．　１７２０．　１６９０．　１６４５．　１４５０ｃ＋＋−’；ロＣ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ）δ９．３．１１．８．１４．３．１５．８．１６．３．２０．７．２１．０．２４．２．２４゜４、２７．６．２７．６．３０．７．３１．２．３２．９．３２，９．３４．１．３４．７．３５．１．３９．１．３９．２．４１．８．４８．６．５５．７．５６．３．５６．３．５６．４．５６．９．６９．４．７３．６．７４．１．７４．３．７５．２．７５．３．８４．２．９６．９゜１２３．４．　１２８．０．１３１．５．１４０．４．１６５．６．１６９．４．１９６．６．２１３゜３：　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：　Ｍ＋Ｈ＝７９２．Ｍ＋に＝８３０゜ＣａｓＨｅｓＮ　Ｏｌ□・０６ヘキサンの元素分析：計算値　Ｃ１６６゜３４；　Ｈ，９，２５；　Ｎ、　１．６６゜実測値　Ｃ，６６，７４；　Ｈ，８，８８；　Ｎ、　１．６７゜メタノール（１００＋ｉＬ）中のアスコマイシン（５，０ｇ）、メチルヒドラジノカルボキンレート（１，１ｇ）及びり−トルエンスルホン酸−水塩（１，２ｇ）を周囲温度で１６時間撹拌し、濃縮乾個させた。混合物をシリカゲルのクロマトグラフィーでヘキサン／アセトン混合物で溶離すると、純粋な表記化合物（３，６ｇ）が得られた。分析サンプルを塩化メチレンとジエチルエーテルから再結晶した。融点１５９〜１６４℃、ＩＲ（ＣＤＣＩｓ）３６００．３５００、３３００．２９５０．１７４５．１７２５．１７００．１６４２．１４５０ｃｍ −’　；　’３Ｃ−ＮＭＲ（１２５闘Ｈｚ）δ　１０．２．　１２．０．　１４．７．　１５．４．　１５．７．　２０．９゜２１．２．２４．２．２６．９．２７．１．２８．０．３０．６．３１．１．３１．２．３２．１゜３３．５．３４．６．３４．８．３４．９．３８．９．４１．１．４９．０．４９．１．５２．５゜５６．２．５６．６．５６．８．７３゜１．７３．５．７３．８．７３．９．７５．８．７６．０゜７７．２．８４．１．９７．６．１２６．３．１２９．１．１３２．６．１３８．５．１５５．７゜１５９．７．　１６５．０．１６８．９．　１９６．５；ＭＳ（ＦＡＢ）！ｌ／Ｚ：　Ｍ十Ｈ＝８６４゜Ｍ　十Ｋ　＝　９０２゜Ｃ４５ＨｔｓＮ　３０１３・２．０Ｈ２０の元素分析：計算値：　Ｃ，６０，０５：　Ｈ，８，６２，Ｎ、　４．６７゜実測値：　Ｃ，６０，１７，Ｈ，８，２４，Ｎ、　４．５５゜実施例１５２漫式ＩＩＩ：Ｒ＝ｘチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ−１；Ｒ”ＮＲ３８を形４すル；　Ｒ３’＝　−ＮＨＣ（０）ＱＣ！’Ｉ□ＣＨ３゜アスコマイノンを使用し、メチルヒドラジノカルボキシレートの代わりにエチルヒドラジノカルボキンレートを使用して実施例１５１を繰り返すと、表記化合物が得られた。実施例１５３：式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ−１；　Ｒ”＝Ｒ３’ ＝Ｒ３４＝Ｈ、Ｒ３３＝ＯＨ、Ｒ”及ヒＲ３８１；！−緒に＝ＮＲ３８を形成す６　：　Ｒ”＝　−Ｎ）ＩＣ（０）ＯＣＲ２Ｃ６Ｌ。アスコマイシンを使用し、メチルヒドラジノカルボキシレートの代わりにベンジルヒドラジノカルボキシレートを使用して実施例１５１を繰り返すと、表記化合物が得られた。実施例１５４：式Ｔ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ　＝　１　：　Ｒ’＝−ＯＣＦ１２Ｃ（０）Ｒｌ　２（Ｒ配ｌ１ｌ）：　Ｒ１２＝ＮＲＩ’ＲＩ５；　Ｒ目＝Ｈ，Ｒ”　＝　−（Ｊｌ（Ｒ”　）ＣＯＮＨＣＨ（Ｒ’　”　）ＣＯＮＨＣＨ（Ｒ１６”）ＣＯ２Ｈ；　Ｒ”’　＝Ｒ１６”＝ＣＨ８（Ｒ配ｆｆ１）。実施例１１１の生成物を実施例１３８に記載の如く活性化し、２−ヒドロキシエチルアミンの代わりにＤ−アラニル−Ｄ−アラニル−Ｄ−アラニンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例１５５：式Ｖ：Ｒ＝エチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１　：Ｒ３及びＲ４は一緒にオキソ基を形成す６　、　Ｒ２＝−Ｃ（０）ＣＦ３．　Ｒ”＝　Ｒ３２＝　Ｒ３４＝　）（：Ｒ３３＝　ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ；Ｒ３５及びＲ３６は一緒にオキソ基を形成する。Ｒｚ°＝Ｈ。乾ｆｉＤＭＦ（５ｉＬ）中（１）　実施例１４ｂｃ７）生成物（０，８ｇ、　１．０ｗ＋５ｏｌ）を、出発物質が消費されるまでイミダゾール（０，１ｇ）及びｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（０，１８ｇ）で処理した。次いで混合物を水（２０■Ｌ）とＥｔＯＡｃ（２０■Ｌ）の間で分配した。有機層を塩水（２０ ■Ｌ）　テ洗浄した。水性層をＥｔＯＡｃ（２Ｘ１０＋ｉＬ）で洗浄し、有機層を集め、脱水（ＭｇＳＯ４）シて濃縮乾個させた。この残渣をＴＨＦ（４ｉＬ）中に溶解し、−７８℃でＴ［ＩＦ（５＋＋＋Ｌ）中のリチウムへキサメチルジンラジド（２，２ｍｍｏｌ）溶液に滴下添加し、混合物を３０分撹拌し、２．２．２−１−リフルオロエチルトリフルオロアセテート（０，１７■Ｌ、　１．３ｍｍｏｌ）を一度にすぐに添加した。５分後に反応混合物を５％■ｃ１水溶液（１５■Ｌ）とＥｈＯ（１５■Ｌ）の間で分配した。水性部分をＥｔ２０でもう一回抽出し、次いで有機層を塩水（２Ｘ１０ｉＬ）で洗浄し、脱水（ＮａｔＳＯ４）　Ｌ、固体をデカンテーションして濃縮すると、表記化合物が得られ、これをすぐに次の反応に使用した。Ｄａｎｈｅｉｓｅｒ、　Ｒ，Ｌ、Ｊｉｌｌｅｒ、Ｒ，Ｆ、；Ｂｒ１ｓｂｏｉｓ、　Ｒ，Ｇ、；Ｐａｒｋ　Ｓ、　Ｚ、　Ｊ、　Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｗ、　１９９０、５５．　１９５９−１９６４参照。実施例１５６９式Ｖ：Ｒ＝エチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ３及びＲ４は一緒にオキソ基を形成するＩＲ２及びＲ２°は一緒に＝ｊ’Ｊｔを形成する。　Ｒ３１＝　Ｒ８２＝　Ｒ３４＝　Ｈ、Ｒ３３＝　ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、Ｒ３Ｓ及びＲ３６は一緒にオキソ基を形成する。（実施例１５５に記載の文献を参照）実施例１５５で単離した生成物をアセトニトリル（４＋ａＬ）に溶解し、これに水（１８μＬ）、トリエチルアミン（０，２１■Ｌ、　１．５ｍｍｏｌ）及びメタンスルホニルアジド（０，２８１１＋Ｌ、　３．　Ｏｍｍｏｌ）を添加した。周囲温度で４時間撹拌後、混合物を濃縮転層させた。残渣をＥｔＯＡｃ（２０■Ｌ）と水（２０■Ｌ）の間で分配した。水性層をＥｔＯＡｃ（２０■Ｌ）で再び抽出し、有機層を塩水（２ｘｌＯｍＬ）で洗浄し、脱水（Ｎａ２ＳＯ４）　シて濃縮転層させた。残渣をシリカゲルのクロマトグラフィーにかけると、表記化合物が生成した。イでノブロバノール中の実施例１２の生成物（Ｉｇ）、ヒドロキシルアミン塩酸塩（０，１ｇ）及びＮ−メチルモルフォリン（α。１４ｇ）の溶液を室温で一晩撹拌し、次いで６時間還流した。溶媒を除去し、シリカゲルのクロマトグラフィーで塩化メチレン中５％メタノールで溶離して生成物を精製した。収量：　０．７ｇ　：　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：　Ｍ　十Ｋ　＝　８２５゜実施例１５８：式１１：Ｒ＝ｘチル；　Ｒ’＝Ｈ −ｎ＝１　；結合し雫ている炭素原子と一緒にＲ２１１，Ｒ１？、　Ｒ！１１及びＲ”ｌが、複素環系の２゛及び３゛位となるＣ−９及びｃ−ｉｏと６°、９−ジアザーベンゾ［ｇ］キノキサリンを形成する；　Ｒ’０＝ｏｎ（Ｒ配置ｆ）、Ｒ５５＝Ｈ１無水エタノール（１１＋Ｌ）中のアスコマイシン（０，５ｇ）、■、２゜４．５ −テトラアミノベンゼン四塩酸塩（０，９ｇ）及びＮ−メチルモルフォリン（１，４＝ｌ）の溶液を一晩還流した。溶媒を除去し、中間体生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。ＩＩｓ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　；　Ｍ　＋　Ｋ　＝　９３２．無水エタノール（５＝ｌ）中の中間体生成物（０，１８ｇ）及びグリオキサール（水中４０％、　０．０６ｇ）を５０℃で５時間加熱した。溶媒除去後、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで塩化メチレン中１０％イソプロパツールで溶離した。収率：　０．０７５ｇ　；　ＭＳ（ＦＡＢ）ｌ／Ｚ　：　Ｍ　＋ＮＨ４＝９３３゜実施例１５９　ａ　、　１５９　ｂ及び１５９ｃ　：式Ｖ：Ｒ＝アリル、Ｒ１＝Ｈ；　ｎ　＝　１．；　Ｒ２＝Ｒ”＝Ｒ３２＝Ｒ２°＝Ｈ、Ｒ３及びＲ４は一緒にオキソ基を形成する　Ｒ３３及びＲ３４は一緒にオキソ基を形成する；Ｒ３５及びＲ３６は一緒にオキソ基を形成する・式１；Ｒ＝アリル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　：　Ｒ２＝Ｒ”＝Ｈ；Ｒ３及びＲ４は一緒にオキソ基を形成する：及び式ＩＩＩ：Ｒ＝アリル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　１　；　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ３３及びＲ”は−緒にオキソ基を形成する；Ｒ３５及びＲ３６は一緒にオキソ基を形成する。ＰＫ−５０６（２ｇ　）を実施例４８に記載の方法に従って酸化した。生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーでヘキサン中５％アセトンで溶離して精製した。収量・実施例１５９ａ、　０．３ｇ；ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ　＋　Ｋ　＝　８３８　；実施例１５９　ｂ　、　０．９ｇ　：　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ＋に＝８４０；実施例１５９ｃ、　０．１ｇ；ＭＳ（ＦＡＢ）＋ｏ／ｚ：　Ｍ＋に＝：Ｒ２１及びＲ２２の一方はＨであり、他方はＯＨである；Ｒ表記化合物を、実施例４６に記載の方法に従って実施例４８の生成物から製造した。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ　＋　Ｈ＝　７９２．　Ｍ　十に＝　８３０゜実施例１６１：式ＶＩＩ：Ｒ＝エチル：Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ２＝Ｈ，Ｒ３及びＲ４は一緒にオキソ基を形成する：Ｒ２Ｉ及びＲ２２の一方はＨであり、他方はＯＨである。Ｒ”＄＝ＯＨ、Ｒ２４＝）（、Ｒ３１＝ｌ（、Ｒ３２＝Ｈ，Ｒ３３及びＲｓ＜は−緒にオキソ基を形成する。Ｒ３５及びＲ３１１は一緒にオキソ基を形成する。Ｒ”＝Ｈ。表記化合物を、実施例４６に記載の方法に従って実施例１４ａの生成物から製造した。ＭＳ（ＦＡＢ）ｉ／ｚ　；　Ｍ　＋　Ｋ　＝　８２８゜実施例１６９：式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ：　ｎ＝１　；　Ｒ”表記化合物は、実施例５２に記載の方法に従って実施例１６の生成物とヒドラジンから製造した。無水エタノール（１０＋ａＬ）中の実施例１２の生成物（０，５ｇ）及びメチルヒドラジン（０，０４４ｇ）の溶液を窒素下で４時間還流した。溶媒を真空下除去し、生成物（０，３ｇ）をシリカゲルのクロマトグラフィーでジクロロメタン中の２％メタノールで溶離して精製した。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：　Ｍ　＋　Ｈ＝　８００、無水エタノール（１０ａＬ）中の実施例１２の生成物、エチルヒドラジンオキサレート（０，１４４ｇ）及びＮ−メチルモルフォリン（０，１２８ｇ）を窒素下還流した。溶媒を真空下除去し、生成物（０，３２５ｇ）をシリカゲルのクロマトグラフィーでジクロロメタン中の２％メタノールで溶離して精製した。）Ｉｓ（ＦＡＢ）＋ａ／ｚ　：Ｍ　十Ｈ＝　８１４゜無水エタノール（１０＋ｎＬ）中の実施例１２の生成物（０，５ｇ）及びヒドロキシエチルヒドラジン（０，０７２３ｇ）の溶液を窒素下で還流した。溶媒を真空下除去し、生成物（０，２２９ｇ）をシリカゲル−のクロマトグラフィーでジクロロメタン中３％メタノールで溶離して精製した。ＭＳ（ＦＡＢ）＋ｍ／ｚ　 ’＋　Ｍ　十Ｈ＝　８３０゜実施例１７３：式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル：　Ｒ’＝＝ｌ（；　ｎ＝ｌ　；　Ｒ”＝Ｈ：結合している炭素原子と一緒にＲ３２，Ｒ３１，Ｒ口。Ｒ３１１及びＲ３６はＮ−フェニルピラゾール環を形成する。無水エタノール（ｌｈＬ）中の実施例１２の生成物（０，５ｇ）及びフェニルヒドラジン（０，１０３ｇ）の溶液を窒素下還流した。溶媒を真空下除去し、生成物（０，３１ｇ　）をシリカゲルのクロマトグラフィーでジクロロメタン中３％メタノールで溶離して精製した。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ　＋　Ｈ＝　８６２゜実施例１７４：式ＩＩＩ：Ｒ−エチル；　Ｒ’＝Ｈ：　ｎ＝１　；　Ｒ’＝ＯＨ：　Ｒ２３＝ＯＨ、Ｒ”＝Ｈ：　Ｒ３１＝Ｈ、結合している炭素原子と一緒にＲ３２，Ｒ３３，Ｒ３４，Ｒ３Ｂ及びＲ３６はＮ−ベンジルピラゾール環を形成する。無水エタノール（１０ａＬ）中の実施例１２の生成物（０，５ｇ）、ベンジルヒドラジン塩酸塩（０，２３ｇ）及びＮ−メチルモルフォリン（０，１４ｇ）の溶液を窒素下４時間還流した。溶媒を真空下除去し、生成物（０，２８ｇ）をシリカゲルのクロマトグラフィーでジクロロメタン中の３％メタノールで溶離して精製した。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ　＋Ｈ＝　８７６゜実施例１７５　式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝ＩＩ　；　ｎ＝１　；　Ｒ”無水エタノール（１０ａＬ）中の実施例１２の生成物（０，５ｇ）、２−フェニルエチルヒドラジンサルフェート（０，２３４ｇ）及びＮ−メチルモルフォリン（０，１４ｇ）の溶液を窒素下４時間還流した。溶媒を真空下除去し、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーでジクロロメタン中３％メタノールで溶離して精製した。収量　０．２８ｇ、　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：　Ｍ　＋　Ｈ＝　８９０゜表記化合物を、実施例５２の方法に従って実施例１２の生成物とアセチルヒドラジンから製造した。）（、Ｒ３ｓ及びＲ３６ハーＮ　１．：　ｔ　キｔ／基を形成すル；　Ｒ”＝０無水エタノール（７ｍＬ）中の、実施例５４と同様の方法で誘導したビス−トリエチルシリル化化合物（１，０ｇ）及び。−フェニレノンアミン（０，３２ｇ）の溶液を４時間還流した。溶媒を真空下除去し、生成物（１，０ｇ）をシリカゲルのクロマトグラフィーでヘキサン中の１５％アセトンで溶離して精製した。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：　Ｍ　＋　Ｋ　＝　１１３０゜実施例１７９：式■ｖ：Ｒ＝エチル：　Ｒ”＝Ｈ；　ｎ＝　１　：　Ｒ２＝ｌＴ、Ｒ３及びＲ４は一緒にオキソ基を形成する：結合している炭素原子と一緒にＲ２６，Ｒ２７，Ｒ２８及びＲ２９は、複素環−７０℃の乾燥塩化メチレン（２ｍＬ）中の塩化オキサリル（０゜０４６５ｇ）溶液に、ジメチルスルホキシド（０，０４３ｇ）を添加した。 −７０℃で０．５時間撹拌後、塩化メチレン（２ｍＬ）中の実施例１７８の生成物（０，２ｇ）の溶液を添加し、混合物をさらに１．５時間撹拌した。トリエチルアミン（０，１５ｇ）を添加し、冷却浴を除去した。室温で０５時間撹拌後、反応混合物をエーテル（３０■Ｌ）と水（１０ｅＬ）の間で分配し、有機相をＩＮ　ＨＣＩ（３Ｘ３ａ＋Ｌ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を真空下除去した。粗な中間体を実施例１６７に記載の方法に従って脱保護すると、生成物（０，１５ｇ）が得られた。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ　＋Ｎ　Ｈ４＝　８７７゜実施例１８０：式ＶＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ：　ｎ＝　１　；　Ｒ’＝ｔ −ブチルジメチルシリルオキシ（Ｒ配置）：結合している棋」１厚エヂ七緒にＲ ”、Ｒ”、Ｒ”及びＲ”は、複素環系の２゛及び３゛位となるＣ−９及びｃ−ｉｏと一緒にキノキサリー中−−−■−１−−内−−鯛■Ｈ−トーー窮−□”“１１１１１□１“□“１１１”７”１□１“６１１１１１１１１と１脱炙工空土足二二其−且ｙ二其二且μ二」ニブ１遷２メチルシリルオキシ、　Ｒ３４＝Ｈ、Ｒ３５及びＲ”は−緒にオキソ基を形成する；　Ｒ”＝ＯＨ（Ｒ配置）、Ｒ６’＝Ｈ。無水エタノール（１５■Ｌ）中の実施例５４の生成物（２，０ｇ）及び０−フェニレンジアミン（０，６２８ｇ）の溶液を６時間還流した。溶媒を真空下除去し、生成物（１，８ｇ）シリカゲルのクロマトグラフィーでヘキサン中の１５％アセトンで溶離して精製した。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ；Ｍ　＋　Ｋ　＝　１１３０゜実施例１８１゜式ＶＩＩ−Ｒ＝−ｒ−チル：　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　１　；　Ｒ’＝−−→□□→−−→ニー→□ ｔ−プチルジメチルンリルオキシ；結合している炭素原子−□−呵−−□←→□ 轡甲□□−←→−一□−ト＾−□吻□□□１１２２□□□□８１“１□１１”１１１□□７”１１２□□古−緒に町Ｍ工凡μ−」２８及びＲ２９□叫ニー視」１！１配ｐ二４−翠び３＋位となるＣ−９及びＣ−１０と一緒にキノキサリンを形成する。　Ｒ１＋＝Ｈ、Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３３＝　ｔ−ブチルジメチル表記化合物を、実施例１７９に記載の方法を使用して実施例１８０の生成物から製造した。ＭＳ（ＦＡＢ）ａ／ｚ：Ｍ　＋　Ｈ＝　１０９０；Ｍ　＋　Ｋ　＝　１１２８゜実施例１８２：式ＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；結合している炭素原子と一緒にＲ２６，Ｒ２？、　Ｒ２１１及びＲ２９は、複素環系の２′及び３゛位となるＣ−９及びＣ−１０と一緒にキノキサリンを形成する：　Ｒ６Ｇ＝ＯＡｃ（Ｒ配置）　、　Ｒ６５＝　）（。触媒量のジメチルアミノピリジン（１５ｍｇ）を含む乾燥ピリジン（８ｍＬ）中の実施例１８０の生成物（０，５ｇ）の撹拌溶液に、無水酢酸（１，１ｍＬ）を添加した。室温で４０分撹拌後、反応混合物をエーテルと水の間で分配した。有機相を０．５Ｎ　ＨＣＩ及び塩水で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を真空下除去すると、白色泡状のアセテート（０，５１ｇ）が得られた。アセトニトリル中の４０％ＨＦ水溶液（０，０８７ｍＬ）を、アセトニトリル（８ｍＬ）中のこの泡状物質の撹拌溶液に１分で添加した。室温で０．５時間後、反応混合物を水で希釈し、エーテル抽出した。有機相を飽和炭酸水素ナトリウムで一回洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を真空下除去した。生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで塩化メチレン中２０％アセトンで溶離して精製した。収量＋０．３３ｇ；ＭＳ（ＦＡＢ）＋ｏ／ｚ；Ｍ　＋　Ｈ＝　９０６．　Ｍ　＋　Ｋ　＝　９４４゜実施例２１１　式ＶＩ：Ｒ＝エチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１；結合している炭素原子と一緒にＲ２６，Ｒ２７，Ｒ２ｇ及びＲ２９は、複素環系の２′及び３゛位となるＣ−９及びＣ−１０と一緒にキノキサリンを形成する。Ｒ”＝Ｈ；結合している炭素原子と一緒にＲ３当−□吃３３．□」ヨソ妻Ｓ万男ヨＶ聾り六うニＡニノヒ）」Σ惑で１ゑ；Ｒ”＝ＯＨ（Ｒ配置＞　、　Ｒ６Ｓ＝　）（。無水エタノール中の実施例５２の生成物（０，７８５ｇ）及びＯ−フェニレンジアミン（０，２ｇ）の溶液を窒素下で一晩還流した。溶媒を除去後、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。４１町川二密Ｌ１鯵」１上二壓二且土工＝１コ■↓ｆ逐Ｉ４瀝工ζ→卦Ｊニーｒと」μ盈Ｕ　Ｒ”ｌ秋１素環系の２゛及び３゛位となるＣ−９及びＣ−１０と一緒１こキノ□□□−−−−噛■−―□□□雫−□□□□□□−□１−■■■１■ ■□□■■■■−■Ｒ−−Ｒ□□□□□仇１］じ」１工ｌ二町とすし上μ二世ヨビぴ勤玉３４は一唯凡７Ｊｊロ１覧工足土ツ匹りぐ１明二茸±Ｊ１１艷穀グ工２個の窒素はフェニル環を介して橋かけしてペンゾジアゼ無水エタノール（ｌｏｍＬ）中の実施例１２の生成物（０，８ｇ）及び０−フェニレンジアミン（０，４ｇ）の溶液を窒素下で一晩還流した。溶媒除去後、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ　＝　１　；　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ”。Ｒ”、Ｒ”、Ｒ”及び結合している炭素原子と共に、α−位て結合しているカルボエトキシと一緒にフランを形成するようにＲ３３＝Ｑ。表記化合物を、文献［Ｐａｕｌｉｓｓｅｎ、　Ｒ，ら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、　、　１９７４．６０７］に記載の方法に従って、実施例１２の生成物、エチルジアゾアセテートと酢酸ロジウムから製造した。実施例２１４ａ及び２１４ｂ　：式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１：Ｒ３Ｉ及びＲ３３は一緒に結合をなす；結合している炭素原子と一緒にＲ３４＝　Ｑ及びＲ３２は、α−位でヒドロキシメチル基で置換されたフランを形成する。Ｒ３Ｓ及びＲ３６は一緒にオキソ基を形成する・及び式ＩＩ１．Ｒ＝エチル；Ｒ゛＝＝　Ｈ；　ｎ　＝＝　ｌ　、　Ｒ３１及びＲｓｉは一緒に結合をなす：結合している炭素原子と共にＲ５５＝０及びＲｓｔと一緒に、α−位で結合しているヒドロキシメチル基で置換されたフランを形成する。Ｒ３３及びＲ３４は一緒にオキソ基を形成する。表記化合物は、文献［Ｗｉｌｌｉａｍｓ、　Ｐ、　Ｈ，ら、Ｊ、＾ｔ　Ｃｈｅ＋＊、　Ｓ。ｃ、　１９６０．８２．４８８３］に記載の方法に従って実施例１２の生成物及びエポキシアクロレインから製造した。イソプロパツール（１０＋ｎＬ）中の実施例１２の生成物（０，８ｇ）、ベンズアミジン塩酸塩（０，４ｇ）及びＮ−メチルモルフォリン（０゜５ｇ）の溶液を２時間還流した。溶媒を除去後、生成物を酢酸エチルと水の間で分配した。有機相を塩水で一回洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を真空上除去した。生成物を／す力ゲルのクロマトグラフィーで精製した。実施１Ｎ２１６：式ＩＩＩ：Ｒ−エチル：　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝ｌ　；　Ｒ”及びＲ３４は一緒にオキソ基を形成する。　Ｒ３１＝　Ｈ、Ｒ３２＝０−ニトロフェニル；Ｒ３５及びＲ３６は一緒にオキソ基を形成する。表記化合物を実施例１６に記載の方法に従って、実施例１２の生成物と１−フルオロ−２−二トロベンゼンがら製造した。実施例２１７ａ及び２１７ｂ　：式ＩＩＩ：Ｒ＝ｘチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１；Ｒｓｔ及びＲ３３は一緒に結合をなず；結合している炭素原子と一緒にＲ３４＝ＮＨ及びＲ３２はインドールを形成する；Ｒ３５及びＲ３６は一緒にオキソ基を形成する；及び式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ”及びＲ３５は一緒に結合をなす；結合している炭素原子と一緒にＲ３６＝ＮＨ及びＲ３２はインドールを形成する：Ｒ３３及びＲ”は−緒にオキソ基を形成する。エタノール中の実施例２１６の生成物及び触媒量の５％Ｐｄ／Ｃを水素１気圧下で撹拌した。次いで反応をＴＬＣ分析にかけた。次いで触媒を濾過し、溶媒除去し、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。？Ｎ、Ｒ３３及びＲ３４は結合している炭素原子と一緒に２゛表記化合物を、文献［Ｔｒｏｓｈｕｔｚ、　Ｒ；Ｔｒｏｓｈｕｔｚ、　Ｊ、：５ｏｌｌｈｕｂｅｒｋｒｅｔｚｅｒ、　Ｍ、　Ａｒｃｈ、　Ｐｈｒａｆｉｅ、　１９８５．７７７− ７８１］に記載の方法に従って実施例１２の生成物から製造した。塩化メチルマグネシウム（０，３ｍＬ、　ＴＨＦ中３Ｍ）を、−７０℃で軟燥ＴＨＦ（１００ｍｌ、）中の実施例１２の生成物（０，８ｇ）の撹拌溶液に添加し、た。−７０℃で８時間撹拌後、反応混合物をエーテルとＩＮ　ＩＩｃＩの間で分配した。有機相を塩水で一度洗浄し、溶媒を除去した。生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。びＲ２は一緒に結合をなす；Ｒ３＝メチル、Ｒ２′＝Ｈ。塩化メチレン中、実施例２１９ａ及び２１９ｂの生成物及びシリカゲルの溶液を周囲温度で一晩撹拌した。シリカゲルを濾過し、溶媒を除去し、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。アスコマイシン（１，００ｇ、　１．２６ｍｍｏｌ）をエタノール（１２５ｍｌ）中に溶解し、ｐ−トルエンスルホニルヒドラジド（２３５ｍｇ、　１．２６１１ＩＩＩＯ１）及びｐ−トルエンスルホン酸−水和物（２４０ｍｇ、　１．２６１１１ｍ。１）と室温で一晩処理した。溶媒を減圧下除去し、粗な物質を７リカゲルのフラッシュクロマトグラフィーでヘキサン中の４０％アセトンで溶離して精製した。表記化合物が無色固体（４３１ｍｇ）で得られた。融点１９３−１９４°Ｃ；　ＩＲ（ＣＤＣｌ２）ｃｓ−’３５００、２９４０．１７４５．１７２０．１６５０．１４５５．１１７０．１０９０．　ＩＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．５００Ｍ）Ｉｚ）δ（選択ピーク）９．２１＆　９．１８（ｂｒ　ｓ、　ＩＨトータル）、　７．８３（ｍ、　２）１）、　７．３０（ｍ、　２Ｈ）、　３．４４（ｓ、　３１１）、　３．３６（ｓ、　３■）、　３゜２７（ｓ、　３Ｈ）　：ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：Ｍ　＋　Ｋ　＝　９９９゜実施例２２２１式ＩＶ：Ｒ＝エチル：　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝−ＮＲＩ７Ｃ（０）Ｒ”（Ｓ配置）但Ｌ、Ｒ ”　＝　Ｈ及Ｕ　Ｒ’　”　＝　７　エニル；Ｒ２６，Ｒ２’及びこれが結合している炭素はない：Ｒ２８及びＲ２１９の一方はヒドロキシであり、他方は−ＣＯＯＨである：Ｃ−８はＣ−１０に直接結合している。Ｒ”＝ヒドロキシ（Ｒ配置）；Ｒ”＝Ｈ実施例５の生成物（５３８ｍｇ、　０．６００ｍｍｏｌ）をＴＨＦ−ＨｚＯ（１５＋ａＬ、　５：Ｉ）に溶解させ、水酸化リチウム−水和物（２６ｍｇ、　０．６１８ａｕａｏｌ）で０℃で２時間処理した。反応を周囲温度に暖め、完了するまでＴＬＣ（ヘキサン中４０％アセトン）でモニターした。次いで、反応混合物をＩＮ　ＨＣＩ（６２５μＬ）で停止した。これを追加の水で希釈し、ＣＨ２Ｃｌ２で抽出した。混和した有機相を洗浄し、脱水し、溶媒を除去すると、表記化合物が得られた。実施例２２３・式ＩＶ：Ｒ＝エチル：　Ｒ’−１（；　ｎ　＝　１　：　Ｒ’＝ −Ｎ　ＲＩ’Ｃ（０）Ｒ１８（Ｓ配置）但し、ＲＩ　７　＝　）（及びＲ目＝フエニ実施例２２２て得られた物質（４９０ｍｇ、　０．５７６ｍｍｏｌ）をベンゼンに溶解し、これに四酢酸鉛（２５８ｍｇ、　０．５８２ｍｍｏｌ）を添加した。２時浦後、混合物をＮａＨＣＯ３（水溶液）で停止し、ＣＨ２Ｃｌ２で抽出した。集めた有機相を水で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し、真空上濃縮した。粗な物質を溶離液としてアセトン−ヘキサンのフラッシュクロマトグラフィーで精製した。実施例２２４ａ及び２２４ｂ：式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１；Ｒ３１及びＲ３８は一緒に結合をなす、　Ｒ３ｎ＝Ｈ、Ｒ３４＝Ｈ；　Ｒ３５＝Ｈ及びＲ３’＝ＯＨ，及び式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ−１；　Ｒ ”及びＲ３３は一緒に結合をなす；Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３４＝Ｈ；　Ｒ”＝ＯＨ及びＲ３６＝Ｈ。実施例３６の生成物（８６１ｍｇ、　１．　ｌｌｍｍｏｌ）をメタノール（７５ｍＬ）に溶解し、これにＣｅＣｅＣ１５４Ｈ２０（４５６，１，２２ｍｍｏｌ）を添加した。得られた混合物を０℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム（４６ｆｆ１ｇ、　１．２２＋ｍｏｌ）を少しずつ添加した。１時間後、反応混合物を水７５ｍＬに注いで反応を停止した。この混合物をエーテル（２ｘ　５０＋ａＬ）で抽出した。集めた有機抽出物を硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を除去した。異性のアリルアルコールを精製し、溶離液としてヘキサン中２５％アセトンを使用するシリカゲルのクロマトグラフィーで分離した。純粋な高Ｒｆ値及び低Ｒｆ値のアルコールを含むこれらの両分を各々集め、より極性の低いアリルアルコール（０，１２ｇ）及びより極性の高いアリルアルコール（０，２３ｇ）を供給した。実施例２２４ａ　：　’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．５００ＭＨ２）δ（選択ピーク）５．６５（ｄｄｄ、　Ｊ＝８．７５．１６．６７、５Ｈｚ、　ＬＨ）、　３．４３（ｓ、　３Ｈ）、　３．３８（ｓ、　３１１）、　３．３２（ｓ、　３Ｈ）、　］、　６７（ｓ、　３１１）、　１．６３（ｓ、　３Ｈ）、　１．０６（ｄ、　Ｊ＝７．５１１ｚ、　３Ｈ）、　０．８S （ｔ、　Ｊ＝７．５Ｈｚ、　３Ｈ）実施例２２４ｂ：　ＩＲ（ＣＤＣｌ２）ｃＩｌｌ−’３４４０．２９３０．１７４０．　＋６５０．１４５０、　１０９０　：　’ｆ（ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，５００ＭＨ２）δ（選択ピーク）５．４５（ｄｄｄ。Ｊ６．５．　＋７．５．４２．５１（ｚ、　ＩＩ（）、　１．６６（ｓ、　３Ｈ）、　１．６４（ｓ、　３Ｈ）、　１．０４（ｄ、　Ｊ＝７、５Ｈｚ、　３Ｈ）、　０．９９（ｄ、　Ｊ＝７．５Ｈｚ、　３１（）、　０．８７（ｄ、　Ｊ＝７．５Ｈｚ、　３１１）、　０．８３（ｔ、　Ｊ＝７．５Ｈｚ、　３Ｈ）　；　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：Ｍ　＋　Ｋ　＝　８］４ノリルオキシ、Ｒ３１＝Ｒ３２− Ｒ３４−Ｈ：Ｒ３５及びＲ３６は一緒にオキソ基を形成する。表記化合物は、欧州特許出願第０４０２９３１号Ａ　ｌ　（Ｓａｎｄｏｚ）実施例１に記載の方法に従って製造した。シリルオキシ、　Ｒ３１＝　Ｒ３２＝　Ｒ３４＝　）（、Ｒ３５及びＲ口は一緒にオキソ基を形成する。表記化合物は、欧州特許出願第０４０２９３１号Ａ　ｌ　（Ｓａｎｄｏｚ）実施例２に記載の方法に従って製造した。実施例２２７・式ＶＩＩ：Ｒ＝エチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ（Ｒ配置）、Ｒ２ｚ＝Ｈ。Ｒ”＝Ｎ、、Ｒ２３＝０１４　、Ｒ”＝Ｈ、Ｒ３３＝　ｔ−プチルジメチルンリルオキシ、　Ｒ３１＝　Ｒ３２＝Ｒ３４＝）（、Ｒ３！及びＲ３６は一緒にオキソ基を形成する。乾燥テトラヒドロフラン（ＴｔｌＦ、　２ｍＬ）中のトリフェニルホスフィン（０，１３１ｇ）及びジエチルアゾジカルボキシレート（０゜０９ｇ）の溶液を、ＴＨＦ（１０ｍＬ）中の実施例２２５の生成物（０，４５ｇ）の撹拌溶液に加え、次いでジフェニルホスホリルアジド（０゜１４ｇ、　ＴＨＦ１ｍＬ中）の溶液を添加した。反応混合物を４５℃で撹拌し、経過をＴＬＣ分析でモニターした。反応を水で停止し、酢酸エチルで抽出した。溶媒を除去し、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。ＨＥＲ２３＝ｔ−ブチルジメチルンリルオキシ、　Ｒ３１＝　Ｒ３２塩化メチレン（１１ａＬ）中の０−ニトロベンゼンスルホニルクロリド（０，１１５ｇ）を、室温で、塩化メチレン（５ａＬ）中の実施例２２５の生成物（０，５ｇ）及びトリエチルアミン（０，１ｇ）の撹拌溶液に添加した。室温で一晩撹拌後、溶媒除去し、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。アン化ナトリウム（０，１ｇ）を室温で、乾燥ＤＭＦ（ｌＩＩｌｌ、）中の実施例２２８の生成物（０，１２ｇ）の撹拌溶液に添加し、６０℃で５時間加鴫した。反応混合物をエーテルと水の間で分配した。有機相を塩水で一度洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒除去した。生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。２＝Ｎｓ：　Ｒ２３＝ＯＨ；　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ３３＝　ｔ−プチルジメチ表記化合物は、実施例２２５の生成物を実施例２２６の生成物と置き換えた以外には、実施例２２７または２２９に記載の方法に従って製造し得る。アセトニトリル（５ａＬ）中の４０％ＨＦ水溶液（０，１＋ａＬ）を、室温で、アセトニトリル（８ａＬ）中の実施例２２７の生成物（０，４ｇ）の撹拌溶液に添加した。室温で２時間撹拌後、反応混合物を水で希釈し、エーテル抽出した。有機相を塩水で一回洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を除去した。生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。実施例２３２０式ＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　ｌ　；　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ２２＝Ｎ３：　Ｒ２３二ＯＨ、Ｒ２’＝見ユ表記化合物は、実施例２２７の生成物を実施例２３０の生成物と置き換えた以外には、実施例２３１に記載の方法に従って製造し得る。実施例２３３：式ＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ　＝　１　；　Ｒ２２＝Ｈ：　Ｒ”＝ＮＨ２；　Ｒ２３＝ＯＨ；　Ｒ２４＝Ｈ。湿潤トルエン（１０ｍＬ）中の実施例２３１の生成物（０，２５ｇ）及びトリフェニルホスフィン（０，０９ｇ）の溶液を７０℃で８時間撹拌した。溶媒を除去し、生成物をシリカ上の分取ＴＬＣで精表記化合物は、実施例２３１の生成物を実施例２３２の生成物と置き換えた以外には、実施例２３３に記載の方法に従って製造し得る。無水酢酸（乾燥塩化メチレン１ｍＬ中０．１５ｇ）を、塩化メチレン（５ｍ　Ｌ　）中にトリエチルアミン（０，１５ｇ）を含む実施例２３３の生成物（０，４ｇ）の撹拌溶液に添加し、混合物を室温で１時間撹拌した。反応混合物をエーテルとＩＮ　ＨＣＩの間で分配した。有機相を塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒除去した。生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。実施例２３６・式ＩＩ：Ｒ＝−ｒ−チル；Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　：Ｒ２東＝１（；　Ｒ２２＝＝ＮＨＡｃ；　Ｒ２３＝ＯＨ；　Ｒ”＝＝Ｈ。表記生成物は、実施例２３３の生成物を実施例２３４の生成物と置き換えた以外には、実施例２３５に記載の方法に従って製造し得る。表記化合物は、無水酢酸を１−アダマンクンカルボニルクロリドと置き換えて、実施例２３５に記載の方法に従って製造し得る。表記化合物は、無水酢酸を１−アダマンクンカルボニルクロリドと置き換えて、実施例２３６に記載の方法に従って製造し得る。表記化合物は、無水酢酸を塩化ベンゾイルと置き換えて、実施例２３５に記載の方法に従って製造し得る。実施例２４０・式ＩＩ：Ｒ＝エチル：　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ−１；　Ｒ”＝Ｈ、Ｒ２２＝ベンゾイルアミド、Ｒ”５＝ＯＨ、Ｒ１４＝Ｈ。表記化合物は、無水酢酸を塩化ベンゾイルと置き換えて、実施例２３６に記載の方法に従って製造し得る。実施例２４１：式ＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　ｌ　；　Ｒ”＝Ｈ、Ｒ”＝Ｎ−ベンジルアミノ；　Ｒ”＝ＯＨ、Ｒ”＝Ｈ。臭化ベンジル（０，１ｇ）を、アセトニトリル（５■Ｌ）中の実施例２３３の生成物（０，４ｇ）の撹拌溶液に０℃で添加した。０℃で一晩貯蔵後、反応混合物をさらに１時間還流した。生成物を７リカゲルのクロマトグラフィーで精製した。実施例２４２　：　Ｋ　ＩＩ　：　Ｒ＝　エチル：Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ”＝Ｈ，Ｒ”＝Ｎ−ベンジルアミノ：　Ｒ”３＝ＯＨ、Ｒ”＝Ｈ。表記化合物は、実施例２３３の生成物と実施例２３４の生成物を置き換えた以外には、実施例２４１に記載の方法に従って臭化ベンジルから製造した。実施例２４３・式ＩＩ　Ｒ−エチル：　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ”＝Ｎ−［（４’、５’−ビスカルボエトキシ）−トリアゾール］、ＲＩ！＝Ｈ；　Ｒ”＝ＯＨ：　Ｒ２４＝Ｈ実施例２３１（０，４ｇ）の生成物とジエチルアセチレンジカルボキルレート（＋＋ｎ１．）の混合物を室温で一晩撹拌した。トリアゾケルをシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。実施例２４４：式ＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ”＝Ｈ、Ｒｚ２＝噌−［（４’　、　５−ビスカルボエトキシ）−トリアゾール］、Ｒ”３＝ＯＨ、Ｒ１４＝Ｈ。表記化合物は、実施例２３１の生成物と実施例２３２の生成物を置き換えた以外には、実施例２４３に記載の方法にしたがって製造した。実施例２４５：式ＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　１　；　Ｒ”＝Ｎ− ［（２’、５’−シメチ／１ｚ）−ヒ０−ｋ］　；　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ”＝ＯＨ、Ｒ２４＝Ｈ６無水エタノール（５ｏＬ）中のアセトニルアセトン（０，５ｇ）及び実施例２３３の生成物（０，５ｇ）の溶液を６時間還流した。溶媒除去後、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。実施例２４６：式ＩＩ：Ｒ＝ｘチル：　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ−１；　Ｒ”＝Ｈ：　Ｒ ”＝　Ｎ−［（２°、５°−’）メチル）−ヒロ−／ｌ／］　；　Ｒ”＝ＯＨ、Ｒ２４＝）（。表記化合物は、実施例２３３の生成物を実施例２３４の生成物と置き換えた以外には、実施例２４５に記載の方法にしたがってアセトニルアセトンから製造した。実施例２４７：式ＶＩＩ：Ｒ＝−１−チル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　１　；　Ｒ’ ＝ヨウ化カリウム（０，１ｇ）を室温で、乾燥ＤＭＦ（１■Ｌ）中の実施例２２８の生成物（０，１３ｇ）の撹拌溶液に添加し、７０℃で４時間加熱した。反応混合物をエーテルと水の間で分配した。有機相を塩水で一度洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒除去した。生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。実施例２４８：式ＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ”＝Ｈ；　ｎ＝　１　；　Ｒ”＝ヨード：　Ｒ”＝Ｈ：　Ｒ２３＝ＯＨ；　Ｒ”４＝Ｈ。実施例２４７の生成物は、実施例２３１に記載の方法により脱保護すると、表記化合物を製造し得る。実施例２４９：式ＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ：　ｎ＝１　；　Ｒ”＝Ｈ；Ｒ２２＝ヨード；　Ｒ”＝ＯＨ、Ｒ”４＝Ｈ。表記化合物は、実施例２２５の生成物と実施例２２６の生成物を置き換えた以外には、実施例２２８．２４７及び２４８に記載の方法に従って製造し得る。実施例２５０：式ＩＩ：Ｒ＝ｘチル：　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ　＝　ｌ　；　Ｒ”＝表記化合物は、ヨウ化カリウムを臭化カリウムと置き換えた以外には、実施例２４７及び２４８に記載の方法に従って製造し得る。表記化合物は、ヨウ化カリウムを臭化カリウムと置き換えた以外には、実施例２４９に記載の方法に従って製造し得る。ナトリウムチオメトキシド（０，１ｇ）を、乾燥ＤＭＦ（１■Ｌ）中の実施例２２８の生成物（０，１２ｇ）の撹拌溶液に室温で５時間で添加した。反応混合物をエーテルと水の間で分配した。有機相を塩水で一回洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し、次いで溶媒除去した。生成物をシリカゲルのクロマトグラフイ−で精製した。実施例２５２の生成物を実施例２３１に記載の方法に従って脱保護すると、表記化合物が得られた。実施例２５４：式ＩＩ＋Ｒ＝エチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝ｌ　；Ｒ”＝Ｈ、Ｒ２！＝チオメトキシ：　Ｒ１＄＝ＯＨ、Ｒ２４＝Ｈ１表記化合物は、実施例２２５の生成物を実施例２２６の生成物と置き換えた以外には、実施例２２８．２５２及び２５３に記載の方法に従って製造し得る。実施例２５５：式ＶＩＩ：Ｒ＝１チル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝＝ｌ　：Ｒ’＝ｔ−ブチルノメチルンリルオキシ（Ｒ配置）、Ｒ２＋とＲ２ｍは一緒にオキソ基を形成する：Ｒ２３及びＲ２４は一緒に結合をなす、　ｆ＜９１＝Ｈ，Ｒ３２＝ｌ（、Ｒ３３＝ｊ−ブチルジメチル実施例５４の生成物（４０７，８ｍｇ、　０．４ｍａ＋ｏＬ）を０℃でピリジン（４＝ｌ）に溶解し、塩化チオニル（４６，３μｔ、、　ｏ、　６１１１ｍｏｌ）を添加した。次いで、０℃で１５分、次いで室温で７２時間撹拌した。酢酸エチル（４０■Ｌ）を反応混合物に添加し、有機層を塩水、１０％−ＫＨＳＯ４、塩水の順で洗浄し、次いで無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると、粗な生成物（３６４■ｇ）が得られ、これをシリカゲル（５０ｇ）のカラムクロマトグラフィーでクロロホルム中２．５％酢酸エチルで溶離して精製した。収量・表記化合物（１６８，７ｍｇ）を単離した。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ　＋　Ｋ　＝　１０４０゜実施例２５５の生成物（１２０■ｇ、　０．１２ａｕ＋ｏｌ）をアセトニトリル（２，５＝ｌ）に溶解し、４８％弗化水素酸（１００μＬ）を添加した。これを次いで室温で１時間撹拌した。酢酸エチル（３０■Ｌ）を反応混合物に添加し、有機層を塩水、１０％−ＮａｌｌＣＯ，、塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると、粗な生成物（９８，２ｍｇ）が得られ、これをシリカゲル（２５ｇ）のカラムクロマトグラフィーでクロロホルム中の１゜５％−メタノールで溶離して精製した。純粋な表記化合物（６３゜４ｇ）を単離した。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：　Ｍ　＋　Ｋ　＝　８１２゜実施例２５７：式１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　１　；　Ｒ’＝（Ｃアスコマイシン（５００ｍｇ、　０．６３２ｍｏｌ）を水浴中でベンゼン（６ＩＩＩＬ）中に溶解し、トリエチルアミン（２６４μＬ、　１．９ｇ＋ｍｏｌ）、次いでベンゼン（５＝ｌ）中のジフェニルクロロホスフェート（３９３μｍ１．１．９ｍｍｏｌ）を滴下添加した。４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（１０ｈｇ、　０．８２ｍｍｏｌ）を添加後、これを室温で１時間撹拌した。１０１重硫酸ナトリウム（５＝ｌ）を冷却反応混合物に添加した。さらにベンゼン（２０ｏ＋Ｌ）を添加後、分離した有機層を１０％−ＮａＨＣＯ８（４０■ＬＸ　３）、塩水（×５）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると、粗な生成物（８６０ｍｇ）が得られ、これをシリカゲル（１２０ｇ）のフラッシュカラムクロマトグラフィーでヘキサン中２５％−アセトンで溶離して精製した。純粋な表記化合物（６５６ｍｇ）を単離した。ＭＳ（ＦＡＢ）＋ｓ／ｚ　：　Ｍ　＋　Ｋ　＝　１２９４゜表記化合物は、ベンゼン（１ａＬ）及びベンジルアルコール（１＝ｌ）中の実施例１９の生成物（８５ｍｇ、　０．１ｍｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸銀（２８，３ａｇ、　０．１１ｍ＋ｗｏｌ）及びリン酸水素二ナトリウム（１４，２ｍｇ、　０．１ｍｍｏｌ）から製造した。２時間後、混合物を１０％−ＮａＨＣＯ３で停止し、酢酸エチルで抽出した。集めた有機層を塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し、真空上濃縮した。粗な物質をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーで２０％アセトン−ヘキサンで溶離して精製した。実施例１１の生成物（４４７ｍｇ、　０．４８ｍｍｏｌ）をトルエン（６１１Ｌ）に溶解し、窒素で１０分脱酸素した。２．２−アゾ−ビス（２−メチルプロパニトリル）（１５，８ｍｇ、　０．０９６ｉｍｏｌ）及び水素化トリブチル錫（１９６μＬ、　０．７２ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を７５℃で３時間、撹拌しながら温めた。酢酸エチル（４０＋ｍＬ）を反応混合物に添加し、有機層を塩水、１０％−ＫＨＳＯ３、塩水、１０％−ＮａＨＣＯ８、塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると、粗な生成物（４２１ｍｇ）が得られた。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーで、クロロホルム中の１０％−酢酸エチルで溶離すると、純粋な表記化合物（２８ｍｇ）が単離した。ＭＳ（ＦＡＢ）世／ｚ：Ｍ　＋　Ｋ　＝　８１４゜ＩＲ（ＫＢｒ）　：　３５００．３４６０．２９５０．２９２０．２８６０．２８４０．　：ｌ’８２０．１？４０．１７１５．１６９０．１６４５．１４６０．１４５０．１４４０．１４１０．１３７５．１３５０、１３４０．１３１０．１２ｇ０．１２６０．１２４５．１１９０．１１７０．１１５０゜１１４０、１１００．１０９０．１０７０．１０４０．１０２０．１０１０゜実施例２６０：式１：Ｒ＝４チル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝−ＯＣＨ，Ｃ（０）　Ｒ＋　２（Ｒ配置）　、　Ｒ１２＝　Ｎ　Ｒ＋４ＲＩ５　、但し、Ｒ”及ヒＲ”Ｉ；！　１ｉｔ＝　ＣＩ’１ｔＣ）ｌｚｃＨｚｃＦＩｚ−テアリ、結合する窒素を含んで五員環を形成する。実施例１１１の生成物を実施例１１２に記載のごとく活性化し、次いでベンジルアミンの代わりにピロリジンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例２６１：式Ｉ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝−ＯＣＨ２Ｃ（０）Ｒ１２（Ｒ配！Ｉ）　：　Ｒ’！＝　Ｎ　Ｒ＋４Ｒ”　、但し、ＲＩ４及びＲ”は−緒に−ＣＨｚＣＨｓＣＨｚＣＨｔＣＨｚ−であり、結合している窒素を含む六員環を形成する。実施例１１１の生成物を実施例１１２の記載の如く活性化し、ベンジルアミンの代わりにピペリジンで処理すると、表記化合物が得られた。実施例２６２１式ＩＶ式１：Ｒ＝４チル’＝Ｈ；　ｎ　＝　１　；　Ｒ’＝Ｃ４匹（９）Ｎ）ｌ（Ｓ配置）　、　Ｒ２１，ｌ’（！２及び結合している炭素はエポキシドのジアステレオマ一対を形成する。Ｒ２３＝ＯＨ、Ｒ２４＝Ｈ。実施例５の生成物（１，１３ｇ、　１．２６ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１００ ■Ｌ）で溶解し、周囲温度でジアゾメタン（８，４ｓ＋Ｌ、　２．５ｖｓｏｌ、　Ｅｔ、０中〜０．３１１）で処理した。ＴＬＣ分析（アセトン／ヘキサン、２：３−）を使用して反応の経過をモニターした。さらに等量のジアゾメタンを、反応が完了したと判断するまで数時間ごとに添加した。反応混合物から窒素流を緩やかに吹き込みながら過剰の薬剤を除去し、次いで揮発成分を減圧下に除去した。生成物を分離し、フラッシュクロマトグラフィー（酢酸エチル、　３００ｇシリカ）で精製すると、主副２種類のジアステレオマーが得られた。表記化合物は、アスコマイシンの代わりにＦＫ−５０６を使用して実施例１１及び２５９に記載の方法に従って製造し得る。四酸化オスミウム（水中の４％溶液の１■Ｌ）の溶液を、室温で、ＴＨＦ（２５ｍＬ）及び水（１５＋Ｌ）中の実施例２６３の表記化合物（１゜４ｇ）及び４− メチルモルフォリンＮ−オキシド（１，４ｇ）の撹拌溶液に添加した。反応混合物を室温でさらに４時間撹拌した。メタ重亜硫酸ナトリウムを添加後、反応混合物を水と酢酸エチルの間で分配した。有機相を塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒を除去した。残渣をベンゼン（４０ＩＩｌｌ、）中に再溶解し、四酢酸鉛（１，４ｇ）を添加した。室温で４分撹拌後、反応混合物をエーテルで希釈し、沈殿を濾別した。溶液をエーテル希釈液と一緒にシリカゲル（５ｇ）を通して濾過した。溶媒を除去後、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。実施例２６５・式１：Ｒ＝カルボキシメチル；　Ｒ’＝Ｈ：　ｎ＝１；ＲＩ＝Ｈ。エタノール（５ｆｆｌＬ）中の実施例２６４の生成物（０，８ｇ）の溶液を、エタノール（ＩＯＩＩＩＬ）中の１０％Ｐｄ／Ｃ（０，１ｇ）の懸濁液に添加した。反応混合物を撹拌しながら空気を９６時間吹き込み、固体を濾別除去した。溶媒除去後、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。実施例２６６　式■・Ｒ＝メチルカルボキシメチル、ＲＩ＝Ｈ：ｎ＝１；Ｒ重＝Ｈ。エーテル中のジアゾメタンの溶液を、塩化メチレン（５ａＬ）中の実施例２６５の生成物（０，５ｇ）の撹拌溶液に、出発物質が無くなるまで添加した。氷酢酸数滴を添加し、反応混合物を０５時間撹拌した。溶媒を除去し、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。実施例２６７：式１：Ｒ＝Ｎ−モルフォリン−アミドメチル：Ｒ’＝Ｈ；　ｎ　＝　１　；　Ｒ’＝Ｈ。乾燥塩化メチレン（４ｎ＋Ｌ）中の実施例２６５の生成物（０，２ｇ）、モルフォリン（０，０６ｇ）、■−エチルー３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（０，０６ｇ）及び４−ジメチルアミノピリジン（０，０６ｇ）を室温で一晩撹拌した。反応混合物を水と塩化メチレンの間で分配した。溶媒を除去後、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。実施例２６８：式Ｉ：Ｒ＝Ｎ−β−ヒドロキシエチルアミドメチル：　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ　＝　１　；　Ｒ’＝Ｈ。表記化合物は、実施例２６７に記載の方法に従って実施例２６５の生成物とエタノールアミンから製造し得る。表記化合物は、実施例２６７に記載の方法に従って実施例２６５の生成物とグリシンメチルエステルから製造し得る。表記化合物は、実施例２６７に記載の方法に従って実施例２６５ノ生成物及びピペリジンから製造し得る。実施例２７１１式■・Ｒ＝Ｎ−ベンジルアミドメチル、Ｒ’＝Ｈ、ｎ＝１　、Ｒ ’＝Ｈ。表記化合物は、実施例２６７に記載の方法に従って実施例２６５の生成物及びベンジルアミンから製造し得る。実施例２７２・式Ｉ　Ｒ＝Ｎ−ｎ−ブチルアミドメチル；Ｒ′＝□−一□−−− −−−−−−−□−二−−−−−−一−−−−−−−−１（：　ｎ＝　１　；　Ｒ’＝Ｈ。表記化合物は、実施例２６７に記載の方法に従って実施例２６５の生成物及びｎ −ブチルアミンから製造し得る。割奥−ＰＩ　２７３　：　ｉｔ　Ｉ−下ニュ五ミ贋岐り艮シ１１互二壓上Ｈ；　ｎ＝　１　；　Ｒ’＝Ｈ表記化合物は、実施例２６７に記載の方法に従って実施例２６５の生成物及び過剰のフェノールから製造し得る。ＤｌｌＦ（１０ｍＬ）及び水（２ｏ＋Ｌ）中の塩化、（ラジウム（ＩＩ）（０，０５ｇ）及び塩化銅（１）（０，１ｇ）の混合物を、混合物に空気を０，５時間吹き込んで酸化した。ＤＭＦ（２ｍＬ）中の実施例２６３の生成物（０，２ｇ）の溶液を添加し、得られた反応混合物を室温で３時間空気を吹き込んだ。反応混合物をエーテルと水の間で分配し力。有機相を希塩酸、塩酸で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を除去後、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。ジアゾメタン（２０ｍｌ、エーテル中ＩＭ）を、−５℃でエーテル（５ｍＬ）中の実施例２６３の生成物（０，２ｇ）及び酢酸パラジウム（工Ｉ）（０，０２ｇ）の溶液に滴下添加した。−５℃で１時間撹拌後、沈殿を濾別し、溶媒を真空上除去した。生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。実施例２７６：式Ｖ　：　ｎ　＝　１　；　Ｒ’＝Ｉ（；　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｈ：　Ｒ３３＝ＯＨ：　Ｒ３４＝Ｈ、Ｒ３５，Ｒ３６，Ｒ及びＲｏは、結合している炭素原子と一緒に、複素環系の２′及び３°位となるＣ−２２及びＣ−２１と一緒にピロールを形成する。塩化メチレン（１０ｍＬ）中の実施例２６４の生成物（０，５ｇ）の溶液をアンモニア（０，８８Ｍ、水溶液、０．４ｍＬ）で処理した。室温で０．２５時間撹拌後、反応混合物を酢酸エチルと水の間で分配した。有機相を塩水で一回洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒除去した。生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。実施例２７７、式Ｖ　：　ｎ−１；　Ｒ’＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｈ：　Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３３＝ＯＨ、Ｒ３４＝Ｈ、Ｒ３’、　Ｒ”、　Ｒ及びＲｏは、結合している炭素原子と一緒に、複素環系の２°及び３°位となるＣ−２２及びＣ−２１と一緒にＮ−（β−ヒドロキシエチル）−ビロールを形成する。表記化合物は、実施例２７６に記載の方法に従って実施例２６４の生成物と２− アミノエタノールから製造し得る。実施例２７８：式Ｖ　：　ｎ　＝　１　：　Ｒ’＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｈ：　Ｒ”＝ＯＨ：　Ｒ３４＝Ｈ；　Ｒ”’、　Ｒ”、　Ｒ及びＲｏは結合している炭素原子と一緒に、複素環系の２′及び３°位となるＣ−２２及びＣ−２１と一緒にＮ−ベンジルピロールを形成する。表記化合物は、実施例２７６に記載の方法に従って実施例２６４ノ生成物及びベンジルアミンから製造し得る。実施例２７９　式Ｖ　：　ｎ　＝　１　；　Ｒ’＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ３３＝Ｏ１（、Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ”、　Ｒ”、　Ｒ及びＲｏは結合している炭素原子と一緒に、複素環系の２′及び３°位となるＣ−２２及びＣ−２１と一緒にＮ−フェニルピロールを形成する。表記化合物は、実施例２７６に記載の方法に従って実施例２６４の生成物及びアニリンから製造し得る。実施例２８０：式Ｖ　：　ｎ　＝　１　；　Ｒ’＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｈ：　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ３３＝Ｏ１’１．Ｒ３４＝Ｈ、Ｒ”、Ｒ”、Ｒ及びＲｏは結合している炭素原子と一緒に、複素環系の２′及び３°位となるＣ−２２及びＣ−２１と一緒にＮ−メチルピロールを形成する。表記化合物は、実施例２７６に記載の方法に従って実施例２６４の生成物とメチルアミンから製造し得る。実施例２８１・式Ｖ　：　ｎ−１；　Ｒ’＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３３＝ＯＨ：　Ｒ３４＝Ｈ、Ｒ３３，Ｒ８６，Ｒ及びＲ’は結合している炭素原子と一緒に、複素環系の２′及び３°位となるＣ−２２及びＣ−２１と一緒にフランを形成する。乾燥塩化メチレン中の実施例２６４の生成物（０，２ｇ）及びｐ−トルエンスルホン酸（０，００５ｇ）を窒素下で１時間還流した。溶媒を除去後、生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで精製した。実施例２８２　式Ｉ１１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ”＝Ｈ：　Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３３＝　ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、　Ｒ３４＝　ｌ（、Ｒ３５及びＲ３６は一緒にオキソ基を形成する。アセトニトリル（１０ｍＬ）中の実施例５４の生成物（１，０ｇ）の溶液を、アセトニトリル（１０ｍＬ）中のＨＦ（０，ｉｎ＋Ｌ、　４０％水溶液）の撹拌溶液に添加し、室温で１０分撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム（０，５ｍＬ、水溶液）を添加し、２０分撹拌した。溶媒を真空下除去した。エーテル（５０ｗＬ）を残渣に添加し、混合物を硫酸マグネシウムで脱水した。固体を濾別し、溶媒を真空下除去した。生成物をシリカゲル（２０ｇ）でヘキサン中の２０％（Ｖ／Ｖ）アセトンで溶離して精製した。収量：　０．６７ｇ　；　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　；　Ｍ　＋　Ｋ　＝　９４４゜表記化合物は、実施例４８に記載の方法に従って実施例２８２の生成物から製造した。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ　＋　Ｋ　＝　９４２゜Ｎ−メチルモルフォリン（０，１ｍＬ）を、無水エタノール（３ＩＩＩＬ）中の実施例２８３の生成物（０，５２ｇ）及びヒドロキシルアミン塩酸塩（０，０５ｇ）の攪拌溶液に添加し、室温で１時間撹拌した。反応１合物を１時間還流し、溶媒除去した。生成物をシリガゲル（２０ｇ）でヘキサン中２０％アセトンで溶離して精製した。収量：０．５ｇ：ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　：　Ｍ　＋　Ｋ　＝　９５７゜実施例３１４：式１：Ｒ＝ｘチル：　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　１　；　Ｒ’＝ベンゼンスルホニルオキシ。アスコマイシン（７９１ｍｇ、　ｌｌｌ１ｉａｔ）を水浴中ピリジン（６ｍＬ）に溶解し、塩化ベンゼンスルホニル（１５３，１ｕ　Ｌ、　１．２ｍｍｏｌ）を添加した。これを０℃で１５分、次いで室温で２４時間撹拌した。酢酸エチル（４０ｍＬ）を反応混合物に添加し、有機層を塩水、１０％−ＫＨＳＯ３、塩水の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると、生成物（９６１ｍｇ）が得られた。ｌ！Ｓ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ　十Ｋ　＝　９７０゜実施例３１５：式Ｖ：Ｒ＝ｚチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　：　Ｒ’ ＝Ｎ−フェニルカルバメート；　Ｒ３１＝Ｈ；　Ｒ３２＝Ｈ；　Ｒ”＝　ｔ　− ブチルジメチルシリルオキシ、Ｒ３４＝Ｈ、Ｒ３Ｂ及びＲ”は−緒にオキソ基を形成する。ＴＨＦ中の実施例２８２の生成物の溶液を、ＴＨＦ中のフェニルイソシアネートの溶液に添加した。次いでこれを、出発物質が全く消えるまで緩やかに還流した。必要により、触媒量のＴＥＡを使用した。溶媒を除去し、シリカゲルのカラムクロマトグラフィーにより精製すると、表記化合物が得られた。実施例３１５の生成物（２００ｍｇ）をアセトニトリル（２，５ｍＬ）に溶解し、４８％弗化水素酸（１００μＬ）を添加した。次いでこれを室温で４時間撹拌した。酢酸エチル（３０ｍＬ）を反応混合物に添加し、有機層を塩水、１０％− ＮａＨＣＯ３、塩水で洗浄し、次いて無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を蒸発させると、粗な生成物が得られ、これをシリカゲル（２５ｇ）のカラムクロマトグラフィーでクロロホルム中１．５％−メタノールで溶離して精製した。実施例３１７　式■・Ｒ−エチル＋Ｒ’＝Ｈ：ｎ＝１　；Ｒ’＝フェニルチオ。塩化メチレン中の実施例２８２の生成物の溶液を、実施例１ａに記載の方法に従って、塩化メチレン中の無水トリフリックの溶液に添加した。塩化メチレン中の得られた生成物の溶液に、ＤＭＦ中のナトリウムフェニルメルカプタンを添加した。次いでこれを出発物質が完全に消えるまで緩やかに温めた。溶媒を除去し、シリカゲルのカラムクロマトグラフィーにより精製すると、表記化合物が得られた。Ｃ−２４−ｔ−ブチルジメチルシリルを実施例３１６に記載の方法に従って除去すると、表記化合物が得られた。表記化合物は、実施例３１７に記載の方法に従って、実施例２８２の生成物及びナトリウムベンジルメルカプチドから製造し得る。実施例３１８の生成物を無水液体アンモニアに注意深く添加した。金属ナトリウムを反応が終了するまで添加した。溶媒を除去し、残渣を脱気した水に溶解させ、高性能液体クロマトグラフィーにより精製すると、表記化合物が得ら実施例３１９の生成物を脱気した水（または、必要により混合溶媒）に注意深く溶解した。水素化リチウムチオシアネート及び塩化亜鉛（Ｉｌ）を注意深く添加した。出発物質が完全に消失後、エタンチオールを添加し、室温で５時間撹拌した。溶媒を除去し、残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製すると、表記化合物が得られた。無水エタノール（３ＷＬ）中の”１７−ニビーＦＫ−５０６”（欧州特許出願第０３５６３９９号に記載）（０，４１ｇ）、０−フェニレンジアミン（０，１０８ｇ）及ＵＮ−）　＋　ル％　／ｌ／　７　ｔ　’）　ン（０，０７２ｇ）ノ溶液を窒素下で一晩還流した。溶媒を真空上除去し、生成物をシリカゲル（１０ｇ）で塩化メチレン／アセトニトリル（５：２．　ｖ／ｖ）の溶離液、次いでヘキサン中４０％７七トンで精製すると、所望の化合物が得られた。アスコマイシン（Ｉｍｍｏｌ）を、環形成の公知方法（Ｂｕｌｌ、　Ｓ。Ｃ，Ｃｈｉｆｆｉ、Ｆｒ、１９４６．１０６：　Ｊ、ＡｔＣｈｅｍ、Ｓｏｃ、１９５１，７３，４３６）に従って１．２−フェニレンジアセトニトリル及びピペリジンと反応させた。溶媒を真空上除去後、生成物をシリカゲル上で生成すると、所望の化合物が得られた。実施例３２３：式ＩＩ：Ｒ＝一−−−−−−−−−−−−−−−」とシニ生ニーに二２二けじ−ｎ＝１；結合しコｊ遣見通茅二引述！艮喝駅且Ｃすｊ焦臘式ある；Ｒ２７及びＲ２９は一緒１：　−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨｚ）−ＣＨ−基を形成す２−一一一一−−−− ４Ｌ尺門二旦且（ＲｆＥｆｆｉｆ）二退μ二上−アスコマイシン（Ｉｍｍｏｌ）を、環形成の公知方法（Ｊ、　Ａｍ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓａｃ、　１９８６．１０８．４６８３）に記載の方法により、ｉｌ−リメチルンリルー２−ヨードメチル −プロブ−２−エン及びＳｎＦ２と反応させた。溶媒を真空上除去し、生成物をシリカゲルで精製すると、所望の化合物が得られた。実施例３２４：式ｖ：Ｒ＝一一一一一−−ヨリフタ」（二旦二ｐニュユＸ＝ｉＫ　Ｉ　ａ　二Ｒ’＝ＴＢＳＯ−（Ｒ配ｆｆ１ｆ）；Ｙ＝亜式ＩＩＩａ　；　Ｒ”及ＵＲ３２は一緒にジアゾを形成する；Ｒ３３及びＲ３４は一緒にオ□□−□□□□□□□□―□□□□□ □□□□−□キソを形成する：Ｒ３５及びＲ２Ｈは一緒にオキソを形成する。 □□２□□□□□□−□−岬←□−→早−嘲一一←吻、ヤ□□□□□、□−□□ □−−−−−−−閥喘Φ水（０，３４ＷＬ、　１８．７ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（３，９ＷＬ、　２８．　Ｉｍｍｏｌ、　１．５当量）を含むＣＨ３ＣＮ中の実施例８ｂの生成物（１６，９ｇ。１８、７ｍｍｏｌ）を、室温でアジ化メタンスルホニル（４，５ＷＬ、　５６．２ｍｍｏｌ）の一部で処理した（７時間）。混合物を真空下濃縮し、シリカゲル（３００ｍＬ、　７０〜２３０メツシユ）のプラグを介してヘキサンＥｔＯＡｃ（１！、、　２：１）で溶離して濾過した。生成物を含む画分をプールし、濃縮した。さらにシリカゲルのＨＰＬＣ（５０１１１１Ｘ５００ｍｍ、　２３０−４００メソシユ）により、ヘキサン：ＥｔＯＡｃ（６Ｌ、　５：１）で溶出して精製した。好適な両分を集め、濃縮すると、黄色い泡状の生成物（１３，８ｇ、　１４．８ｍｍｏｌ）が収率７９％で得られた。ＩＲ（ＣＤＣ１３）２１３０．１７４３．１６４５ｃｍ−’ＪＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　９６８（Ｍ＋Ｋ）、９４０（Ｍ＋に−８２）。実施例３２５１式Ｖ　：　Ｒ＝４チル；　Ｒ’＝Ｒ３５＝Ｒ”＝Ｈ；　ｎ＝１：Ｘ＝亜式１　ａ　：　Ｒ’＝ＴＢＳＯ−（Ｒ配置）；Ｙ＝亜式ＩＩＩａ’；Ｒ” 及びＲｓａは一緒にオキソを形成する。水（９６ＷＬ）を含むＮ−メチルピロリドン（６００ｍＬ）中の実施例３２４の生成物（１３，８ｇ、　１４．８ｍｍｏｌ）を、気体の放出が開始後、１１０℃ で８０分加熱した。混合物を冷却し、ＥｔＯＡｃ（ＩＬ）と水（ＩＬ）の間で分配した。水性層を追加のＥｔＯＡｃ（ＩＬ）で抽出した。有機層を順に水（ＩＬ）及び塩水（５００ｍＬ）で洗浄し、混和して脱水（ＮａＳＯ４）した。溶媒を真空上除去し、残渣をシリカゲルカラム（３００ｍ１．７０−２３０メツシユ）で、ヘキサン：ＥｔＯＡｃ（２：Ｉ。２１、）の混合物で溶離して通過させた。生成物を含む画分を集め、濃縮すると黄色いオイル（１０ｇ）が得られた。これをさらにシリカゲルのＨＰＬＣ（ＩＬ、　２３０−４００メツシユ）でヘキサン：ＥｔＯＡｃ（５：　１）で溶離して精製した。これにより純粋な生成物（５，３ｇ、　６．１１Ｉ１ｍｏｌ）カ収率４１％Ｔｌ　ラｔＬｆ、−０ＩＲ（ＣＤＣＩｓ）１７５０．１７２２、１７０５（ｓｈ）、　１６４５ｃｒ’　：ＭＳ（ＦＡＲ）ｍ／ｚ　９１４（Ｍ＋Ｋ）。Ｃ４８Ｈ＠ＩＮ　Ｏｚ　Ｓ　ｉノ元素分析：計算値Ｉ　Ｃ，６５，７９；　Ｈ，９，３２；　Ｎ、　１．６０゜実測値：　Ｃ，６５，５７：正９．０８；　Ｎ、　１．５６゜実施例３２６：式Ｖ　：　Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｒ２＝Ｒ”＝Ｈ− ｎψ 二に及二見匹士互土λｎ灯υぜ遅ユ緒にオキソを形成する；Ｙ＝亜式１１１ａ　；　Ｒ”及びＲ３２は一緒にジアゾを形成する。Ｒ３３及びＲ３４は一緒にオキソを形成する・Ｒ３５及びＲ３６は一緒にオキソを形成する水（８２μＬ、　４．５ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（０，９５＋ａＬ、　６．８ｍｍｏ１．１．５当量）を含むアセトニトリル（８９ＷＬ）中の実施例１４ａの生成物（３，５６ｇ、　４．５ｍｍｏｌ）を７’）化メタン７、　ル、ｔ　＝　ル（１，０９＋Ｌ。２３、６ｍｍｏｌ　３当量）で６時間処理した。揮発成分をすぐに真空上除去し、残渣を２３０−４００メツシユ５ｔｏ２（２，５４ｃｍｘ　４５ｃｍ）のＭＰＬＣにより、ヘキサン、アセトン（４：１）で溶離して精製し、全部でｌｏＯｍＬの両分を収集した。これがら純粋な生成物（２゜７３ｇ、　３．３５ａｖｏ１）が収率７５％で得られた。ＩＲ（フィルム）２９３０．２１１５．１７２５．１６４５．１４５５．１２００ｃｍ−’　：ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ（輩十に＋チオグリセロール）　＝　９３２．　（Ｍ＋Ｋ）　＝　８５２．　（トに−Ｎｔ）　＝　８２４゜Ｎ−メチルピロリドン（５ｈＬ）及び水（８ｍＬ）中の実施例３２６の生成物（１，０ｇ、　１．２３ｍｍｏｌ）を１１０℃に加熱した（４５分）。反応混合物を冷却し、水（５００岱Ｌ）とＥｔＯＡｃ（３００ａ＋Ｌ）の間で分配した。水性層を追加のＥｔＯＡｃ（３００岱Ｌ）で抽出した。有機層をさらに水（５００岱Ｌ）及び塩水（５００岱Ｌ）で洗浄し、混和し、脱水（Ｎａ、５Ｏ４）シた。抽出物を乾燥剤からデカンテーションし、濃縮すると無色の泡（１，０４ｇ）が得られた。これをシリカゲルのクロマトグラフィー（７０−２３０メツシユ、　３００岱Ｌ）でヘキサン：アセトン（４：　］、　２．５Ｌ）で溶離して精製した。好適な画分をプールし、濃縮すると純粋な生成物（０，５５ｇ、　０．７２ｍｍｏｌ）が収率５９％で得られた。ＩＲ（ＣＤＣ１３）＋７４３．　１７２１．　１６４３ＣＩ１１−’　；　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　７９ｇ（Ｍ＋Ｋ）。Ｃ４２０６５Ｎ　Ｏ＋　＋の元素分析：計算値・Ｃ，６６，３８＋　Ｈ，８，６２；　Ｎ、　１．８４゜実測ｉ　：　Ｃ，６６，７４；　ｉ−ｉ、８．２９；　Ｎ、２．２５゜ＴＨＦ（８，２ｍＬ、　８．２ｍｍｏｌ）中のＬＬＡＩＨ（Ｏｔ −Ｂｕ）ｓの１．０１溶液を一７８℃ｔｌ’ＴＨＦ（８，０ｍＬ）中の実施例３２５（Ｄ生成物（１，８ｇ、　２．０５ｍｍｏｌ）に滴下添加し、１時間撹拌し、−４０℃に温め、その温度で２４時間撹拌した。追加のアセトン（１，１ｍＬ）を添加して反応を停止し、次いで室温で酒石酸ナトリウムカリウムの飽和水溶液（３０ｍＬ）と１５分間激しく撹拌した。混合物を水（６０＋Ｌ）とＥｔＯＡｃ（ｌｏｏｍＬ）の間で分配した。有機層をＩＮ　ＨＣＩ（４０ｍＬ）及び塩水（２ｘ　５０＋ｓＬ）で洗浄した。すべての水性層を追加のＥｔＯＡｃ（１００岱Ｌ）で抽出した。有機層を集め、脱水（Ｎａ＊５Ｏ４）　シ、真空上濃縮した。７０−２３０メツシユのシリカゲル（２（Ｉｇ）のクロマトグラフィーで、トルエン：ＥｔＯＡｃ（５：１）で溶離して精製すると、純粋な生成物（０，９ｇ、　１．０３ｍｍｏｌ）が無色泡状、収率５０％で得られた。ＩＲ（ＣＤＣｌ２）１７３５．１７２０（ｓｈ）、　１６７０，１６４５ｃｌ’　；　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　９１８（Ｍ＋Ｋ）。ＨＦの１Ｍ溶液［０，３５ｍＬ、　０．３５ｍｍｏｌ（９，５８ｍＬ　ＣＯ３ＣＮ中の４８％）ＩＦ水溶液の０．４２ｍ１．は１Ｍ溶液となる）］をアセトニトリル（３，２ｍＬ）中の実施例３２８の生成物（２９０ｍｇ、　０．３３ｍｍｏｌ）の溶液に滴下添加した。混合物を室温に温め、４５分撹拌した。これを０℃ に冷却し、粉砕したＮａＨＣＯｓ（２４４ｍｇ、　２．９１１１ｍｏｌ）固体を添加した。３０分後、無水ＭｇＳ０４（２５０１１１ｇ）を添加し、混合物を１５分撹拌した。塩化メチレン（１５ｍＬ）で希釈し、遠心分離し、シリカゲルのプラグを通過させた。シリカをヘキサン：アセトン（１：１）で溶出し、生成物を含む画分をプールし、濃縮し、シリカゲルのＨＰＬＣでヘキサン：アセトン（２：１）で溶離すると、所望の生成物（１６３ｍｇ、　０．２１ｍｍｏｌ）が収率６４％で得られた。ＩＲ（ＣＤＣ１３）１７３５．１６４５ｃｍ−’　；ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　８０２（Ｍ＋Ｋ）。Ｃ４ｚＨｓ＊Ｎ　Ｏ１１の元素分析・計算値：　Ｃ，６６，０３；　Ｈ，９，１０；　Ｎ、　１．８３゜実測値・Ｃ，６５，９２：　Ｈ，８，９３，Ｎ、　１．７６゜実施例３３０：式１：Ｒ−４チル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　：　Ｒ’＝−ＯＣＲ２Ｃ（０）ＯＣＨ３（９−フルオレニル）（Ｒ配置）。アスコマイシン（１０ｇ、　０．０１２ｍｏｌ）を蒸留したＣＩ２Ｃｌ２Ｃｈ（５０中に溶解させた。酢酸ロジウム（ＩＩ）の二量体（１００ｍｇ）を添加し、混合物を０℃に冷却した。９−フルオレニルメチルジアゾアセテート（３，３５ｇ、　０．０１２ｍｏｌ）をＣＨ２Ｃｌ２（１０ｍＬ）ニ溶解シ、この溶液を反応混合物中に、約０．５ｍＬ／時間の速度でシリンジポンプを介して添加した。添加は約２４時間で終了した。反応混合物をさらに２４時間ｏ℃で撹拌し、シリカ（２３０−４００メッシュ、　４００ｇ）上に載置し、フード中で気流により溶媒を蒸発させた。吸着したノリ力を、ＩＬガラス漏斗内の新しいシリカ（８００ｇ）上に重層した。シリカプラグを以下の溶媒で溶離した。ＣＨ２Ｃｌ２（２Ｌ）、３：Ｉ　Ｃｌ、Ｃ１２／Ｃ１３ＣＮ（４Ｌ）、２：Ｉ　ＣＨ２Ｃｌ２／ＣＨ３ＣＮ（３Ｌ）、及ヒ１：ＩＣＨ，Ｃ１，／Ｃ）＋３ＣＮ（３Ｌ）、生成物を含む両分を集め、真空上濃縮すると、黄色い泡（７，３２ｇ）が得られた。アスコマイシンを含む両分を一緒にし、真空上濃縮すると、緑色の泡（３，３０ｇ；少量の触媒を含む）が得られた。生成物をさうｌ：　ＨＰＬＣ（シリカゲル、　２３０−４００メツシユ、　５０Ｘ　５００ｍｍカラム）で３．５：１ヘキサン／アセトン（流速８０！＋１／分）で溶離して精製した。最も純粋な物質を含む画分を集め、真空上濃縮すると、白色泡（４，０ｇ、回収したアスコマイシンをベースとして収率４５％）が得られた。ＩＲ（ＫＢｒ）３４４０．１？４０．１７１０（ｓｈ）、　１６５０ｃｍ−’　；　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　１１０６６（＋Ｋ）。Ｃｓ＊Ｈａ＋Ｎ　Ｏｚ・０．７Ｈ２０（’）　元素分析：計算値：　Ｃ，６８，０８；　Ｈ，７，９８：　Ｎ、　１．３５゜実測値　Ｃ，６８，１１；　Ｈ，７，８８；　Ｎ、　１．５１゜実施例３３１・式Ｉ：Ｒ−４チル；　Ｒ”＝Ｈ；　ｎ−１；　Ｒ’＝−ＯＣＲ２Ｃ（０）ＯＲ（Ｒ配置１［）実施例３３０で得られた生成物（５，１０ｇ、　５ｇ＋＊ｏｌ）をＣＨ２Ｃｌ２（４５１Ｌ）に溶解し、次いでピペリジン（５ｍｌ）を添加した。溶液を室温で２時間撹拌し、次いで分液漏斗に移し、追加のＣＨ２ＣＨ２Ｃ１ｘ（１００テ希釈し、次イｔ’ＩＮ　）ＩＣＩ（２Ｘ１００ｉＬ）及び塩水（２ｘ１００ａＬ）で洗浄した。有機層を脱水（Ｎａ２ｓｏ４）　Ｌ、濾過し、次いで真空上溶媒を除去すると、表記化合物と９−メチレニルフルオレンの混合物（５，０８ｇ）が得られた。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　８１１１８（ｉｌ＋Ｋ）、　９２６（ｊｌ＋２に−Ｈ）。実施例３３１の生成物（１００ｍｇ、　０．１１８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１ｍＬ）に溶解し、溶液を０°Ｃに冷却した。ＨＯＢＴ−Ｈ２Ｏ（２１，６１１ｇ。０、１４２１１１ｍｏｌ）を添加し、ＥＤＡＣ（２７，１ｍｇ、　０．１４２ｍｍｏｌ）、次いでフェネチルアミン（２６，７ｔｔ　Ｌ、　０．２１２ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温に温め、−晩撹拌した。ジクロロメタン（１０ｍＬ）を添加上、有機相をＩＮ　１（ＣＩ（２ｘ２０糺）、飽和重炭酸塩溶液（２Ｘ　２０ｍＬ）次いで塩水（２Ｘ　２０ｍＬ）で洗浄した。有機層を脱水（Ｎａ２ｓＯ，）Ｌ、濾過し、溶媒を真空下除去すると、黄色い泡（８７、５ｍｇ）が得られた。粗な生成物をＨＰＬＣ（２０Ｘ　３００ａ＋ｍ、シリカカラム）で２：■ヘキサン／アセトンで精製した。生成物を含む画分を集め、溶媒を真空下除去すると、表記化合物（４９゜６ｍｇ、収率４４Ｕが白色固体として得られた。融点９３−１０５℃、ＩＲ（ＫＢｒ）３４３５．１７４０．１７００．　Ｊ６５０ｃ「’　：　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　９５３（Ｍ＋Ｈ）、　９９１（Ｍ＋Ｋ）。Ｃｓ３ＨｓｏＮ　２０　Ｉｓの元素分析：計算値　Ｃ，６６，７８；　Ｈ，８，４６；　Ｎ、　２．９４゜実測値：　Ｃ，６７，１３；　Ｈ，８，３３；　Ｎ、　３．０４実施例３３３：式１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’ ＝−ＯＣＨ２Ｃ（０）Ｒ目；　Ｒ”＝ＮＲ１４Ｒ”：　Ｒ１’＝ＣＨ３，ＲＩ５＝−Ｃ１１２Ｃ）＋２Ｃ，Ｈ，。実施例３３２を、２−フェニルエチルアミンをＮ、Ｎ−メチル、２−フェニルエチルアミンと置き換えて繰り返すと、表記化合物が得られた。実施例３３４：式１：Ｒ＝４チル；　Ｒ’＝Ｈ：　ｎ＝１　：　Ｒ’＝−ＯＣ）＋２Ｃ（０）Ｒ’　２；　Ｒ”　＝　ＨＮ（ＣＪ）ｓＮＨ−ダンシル。表記化合物を、２−フェニルエチルアミンをダンンルヵダベリンと置き換えて実施例３３２に記載の方法で合成した。ＩＲ（ＫＢｒ）３４２０．１７４０．１７００．１６４５ｃｍ−’；ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　１２０５（Ｍ＋Ｋ）。Ｃ６２Ｈ９４Ｎ　４０１５Ｓ　ノ元素分析：計算値：　Ｃ，６３，７８；　ｔ− ｉ、　８．１２：　Ｎ、　４．８０゜実測値　Ｃ，６３，４３＋　Ｈ，８゜２５＋　Ｎ、　４．４８゜表記化合物を、２−フェニルエチルアミンとアニリンを置き換えて実施例３３２に記載の方法で合成した。融点１１２−１２０℃、ＩＲ（ＫＢｒ）３４４０．３４００（ｓｈ）、　３３００（ｓｈ）、　１７４０．１７００．１６５０゜１５４０、１５００ｃｍ＝；ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　９６３　（Ｍ＋Ｋ）。Ｃ５１ＩＩ　７６Ｎ　２０１３の元素分析。計算値　Ｃ，６６，２１；　Ｈ，８，２８：　Ｎ、　３．０３゜実測値　Ｃ，６６，１１＋　Ｈ，８，１５；　Ｎ、　３．２３゜表記化合物は、２−フェニルエチルアミンと２−（４−モルフォリノ）−エチルアミンを置き換えて実施例３３２に記載の方法で合成した。実施例３３７：式Ｉ：Ｒ＝ｚチル；　Ｒ’＝Ｈ：　ｎ−１；　Ｒ’＝−表記化合物は、２−フェニルエチルアミンと３−（４−モルフォリノ）−プロピルアミンを置き換えて実施例３３２に記載の方法で合成した。表記化合物は、２−フェニルエチルアミンと２−ジメチルアミノ−エチルアミンを置き換えて実施例３３２に記載の方法で表記化合物は、２−フェニルエチルアミンと３−ジメチルアミノ−プロピルアミンを置き換えて実施例３３２に記載の方法で合成した。表記化合物は、２−フェニルエチルアミンとＬ−フェニルアラニンベンジルエステルを置き換えて実施例３３２に記載の方法で合成した。ＭＳ（ＦＡＢ）ＩＩｌ／Ｚ　１１２５０１＋）Ｉ）。実施例３４１：式Ｉ：Ｒ＝エチル：　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ−１；　Ｒ’＝−ＯＣＨｔＣ（０）ＲＩ２：　Ｒ目＝　（Ｓ）−）ＩＮＣＩ（（Ｃ）ＩＩＣｇＨ５）ＣＯ２Ｈ。表記化合物は、実施例１１０の生成物と実施例３４０の生成物を置き換えて実施例１１１に記載の方法で合成した。ＩＲ（ＣＤＣＩｓ）１７４０．１７００（ｓｈ）、　１６４５ｃｍ−’；ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　１１０３５（＋Ｋ）。実施例３４２　式１：Ｒ＝４チル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝−ＯＣＩ ’１ｔＣ（０）Ｒ目；　Ｒ’　２＝　（Ｒ）−ＨＮＣＨ（Ｃ１（ｚｃ　ｓＨ５）Ｃｏ□ＣＨ，Ｐｈ。表記化合物は、２−フェニルエチルアミンとＤ−フェニルアラニンベンジルエステルを置き換えて実施例３３２に記載の方法で合成した。実施例３４３：式Ｉ：Ｒ＝１チル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　１　；　Ｒ’＝−ＯＣＩ（２Ｃ（０）Ｒ’　２　；　Ｒ’　”＝　（Ｒ）−１（ＮＣＲ（Ｃ１ｈＣｅＨ５）ＣＣＩＪ。表記化合物は、実施例１１０の生成物と実施例３４２の生成物を置き換えて実施例１１１に記載の方法で合成した。実施例３４４２式Ｉ：式１：Ｒ＝４チル’＝Ｈ；　ｎ＝１　：　Ｒ’＝−ＯＣＨ２Ｃ（０）　Ｒ’　２：　Ｒ’　２＝　−ＩＮ（ＣＨｚ）　２ＳＨ。表記化合物は、２−フェニルアミンと２−アミノ−エタンチオールを置き換えて実施例３３２に記載の方法で合成した。実施例３４５　式■　Ｒ＝エチル＋Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’＝−ＯＣＩＩ２Ｃ（０）　Ｒｌ　２　：　Ｒ＋　２＝　−）ＩＮ（ＣＨ２）３ＳＨ。表記化合物は、２−フェニルアミンと３−アミノ−プロパンチオールを置き換えて実施例３３２に記載の方法で合成した。実施例３４６：式１：Ｒ＝ｘチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　１　：　Ｒ’＝−ＯＣＩ’１ｚＣ（０）ＯＣ２Ｈｓ（Ｒ配置１）。酸化銀（１）（９２６ｍｇ、　４．　Ｏｍｍｏｌ）を７セトニトリｋ　（０，８ａ＋Ｌ）及びエチルヨードアセテート（８２８μＬ、　７．０ｍｓ＋ｏｌ）に溶解したアスコマイシン（７９１ｍｇ、　１．　Ｏｍｍｏｌ）に添加した。混合物を室温で３日間撹拌し、揮発成分を真空上除去し、実施例１０９に記載ごとくシリカゲルのクロマトグラフィーで単離した。スペクトルデータは、実施例１０９の生成物で得られたものと一致した。実施例３４７：式１：Ｒ＝エチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ’＝−ＯＣ（０）− （オルト−ＮＯ２）−Ｃ，Ｈ４（Ｒ配置）。ジクロロメタン（１０ｉＬ）中のアスコマイシン（７９１ｍｇ、　１．　Ｏｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（０，２８ｉＬ、　２．０ａｕａｏｌ）を０℃に冷却した。２−ニトロベンゾイルクロリド（３２２μＬ、　２．２ｍｍｏｌ）、次いでＤＭＡＰ（１２２ｍｇ、　１．　Ｏｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温に温め、２４時間後、溶液をＩＮ　ＨｓＰ０４（３０１＋１Ｌ）とＥｔＯＡｃ（３０ｉＬ）の間で分配した。水性層を再びＥｔＯ＾Ｃ（３０ｉＬ）で抽出した。有機層を塩水（２ｘ　３０ｉＬ）で洗浄し、抽出液を合わせ、脱水（ＮａＩＳｏ、）シ、真空下濃縮した。残渣をシリカゲルのＨＰＬＣにより、ヘキサンアセトン（２，５：ｌ）で精製すると、表記化合物が４０％の収率で得られた。ＭＳ（ＦＡＲ）ｍ／ｚ　９７９（Ｍ＋Ｋ）。実施例３４ｇ：　式Ｖ　：　亜式ｒＩＩａ；　Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｒ”＝Ｒ” ＝　Ｒ”５　Ｈ、：　ｎ　＝　］、　；　Ｒ１＝−ＱＣ（０）−（、ｔ／ｌｚ　ト−ＮＯ２）−Ｃ６＋１４（Ｒ配ｆｉｔ）　；　Ｒ３３＝−ＱＣ（０）−（オルト−ＮＯ２）−Ｃ８Ｈ４；　Ｒ”＝　Ｒ３８＝０゜実施例３４７の生成物から表記化合物も単離した。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　１１．２８（Ｍ＋Ｋ）。実施例３４９：式１：Ｒ＝エチル：　Ｒ’　＝Ｈ；　ｎ　＝　１　；　Ｒ’＝− ＯＣ（０）−２−ピリジル（Ｒ配置） ■−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（７００１１１ｇ、　３．７ｍｍｏｌ）を、０℃で、ジクロロメタン（１０ｉＬ）中のアスコマイノン（７９１ｍｇ、　１．　Ｏｍｍｏｌ）、ピコリン酸（３８１ｍｇ、　３．１＋＋＋ｍｏｌ）及びトリエチルアミン（０，２８ｉＬ、　２．０Ｉｌｆｆｌｏｌ）に加え、次いでＤＭＡＰ（１２２ｍｇ、　１．　Ｏｍｍｏｌ）を添加した。混合物を室温に温め、３６時間撹拌した。次いでこれをＥｔＯ＾Ｃ（３０ｉＬ）と水（３０ｉＬ）の間で分配した。有機層を塩水（２Ｘ　３０ｉＬ）で洗浄した。水性部分をＥｔＯ＾Ｃ（３００１Ｌ）で再抽出し、有機層を合わせ、脱水（ＮａＩＳｏ４）　Ｌ、真空下濃縮した。残渣をシリカゲルのＲＰＬＣでヘキサン；アセトン（１：１）で精製すると、表記化合物が得られた。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　９３５（Ｍ＋Ｋ）。実施例３４９の生成物から表記化合物も単離した。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　９１７　（Ｍ＋Ｋ）。実施例３４９の生成物から表記化合物も単離した。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ　１０４０　（Ｍ＋Ｋ）　。実施例３５２＝式１：Ｒ＝ｘチル：　Ｒ’＝Ｈ・ｎ＝　１　・Ｒ’＝−＋＋０Ｃ（０）−（オルト−Ｎｌ（ｚ）−ＣｓＬ（Ｒ配置）。表記化合物は、実施例１１０の生成物と実施例３４７の生成物を置き換えて実施例１１１に記載の方法で合成した。実施例３５３：式Ｖ：亜式ＩＩＩａ；Ｒ＝！チル；Ｒ’＝Ｒ”＝Ｒ３２＝　Ｒ” ＝　Ｈ；　ｎ　＝　ｌ　；　Ｒ’＝−ＱＣ（０）−（オルト−ＮＨ，）−Ｃ６Ｈ４（Ｒ配ｆｆ）　；　Ｒ３３＝−ＱＣ（０）−（ｔ／ｌ、　１−Ｎｆ１２）−Ｃ６Ｈ４；　Ｒ３１＝Ｒ”表記化合物は、実施例１１０の生成物と実施例３４８の生成物を置き換えて実施例１１１に記載の方法で合成した。実施例３６の生成物（５００ｍｇ、　０．６５ｍｍｏｌ）を、１−ペンジルーピペラジン（３３７μＬ、　１．９５ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（２７０μ Ｌ。１、９５ｍｍｏｌ）を含む塩化メチレン（５＋Ｌ）中に溶解した。混合物を室温で一晩撹拌した。酢酸エチル（５ｈＬ）及び塩水溶液を添加して、分配した。酢酸エチル層を塩水（×３）で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した。シリカゲルカラムで精製し、次いでＨＰＬＣにかけると、表記化合物が得られた。収量１５９ｍｇ（２６％）、　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／Ｚ；Ｍ＋ト９５０．　Ｍ＋に＝９８８゜表記化合物は、実施例３５４に記載の方法に従って、実施例３６の生成物（７００ｍｇ、　０．９１ｍｍｏｌ）及び１−メチルピペラジン（５０７μｍＬ、４．５５ＩｎＩｌｏｌ）カラ製造した。収量２０８ｍｇ（２６％）、　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ＋Ｈ＝８７４．　Ｍ＋に＝９１２゜実施例３５６：式ＩＩＩ：Ｒ＝ｚチル：　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ”＝　Ｒ３２，＝　ｌ（、Ｒ３３及びＲ”の一方はＨであり、他方はＮ−フェニルピペラジニルである。Ｒ３５及びＲ３６は一緒にオキソを形成する。表記化合物は、実施例３５４に記載の方法に従って、実施例３６の生成物（５００ｍｇ、　０．６５１１ｎｏｌ）及び１−７　エニ）Ｌｒビヘラシン（４９３μ Ｌ、　３．２５ｍｍｏｌ）から製造した。収量２４８ｍｇ（４１％）、　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ；Ｍ＋１１＝９３６．１＋に＝９７４゜実施例３５７：式１：Ｒ＝４チル；Ｒ’＝Ｈ，ｎ＝１　；Ｒ’＝アジド（Ｒ配置）塩化メチレン（２ｍＬ）中の実施例９の生成物（０，９ｇ、　１＋ｏｍｏｌ）の撹拌溶液に、クロロホルム（１０ＩＩＬ）中のアジ化ｎ−テトラブチルアンモニウム（３，５ｍｌｌ１ｏｌ）を添加した。４５℃で一晩、次いで室温で３日間撹拌後、反応混合物を実施例１ｂに記載の方法に従って、さらにＨＰＬＣ（高性能液体クロマトグラフィー）で精製すると、表記化合物（６６、２＋ｎｇ）が得られた。ＩＩＩ／Ｚ；Ｍ＋に＝８５５：　ＩＲ（ＫＢｒ）３４９０−３４２０．２９６０．２９４０．２８７５．２８２０．２１００、１７４０．１７２０．１７０５．１６５０．１４５５．１３８０．１３５０．１２８５゜１２４５．１２００ｃｍ”。表記化合物は、実施例１ｂに記載の反応からの副生成物として単離した。収量：　５３．０ｍｇ、　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ＋に＝８３７；ＩＲ（ＫＢｒ）３４３０．２９６０．２９３０．２８７０．２８２５．２０９０．１７３５．１７１５．１６７０、＋６５０．１６２５．１５９０．１４５０．１３７５．１３６０．１３４５．１３２５゜１２８０、１２７０．１２５０．１２３５．１２００ｃ＋ｒ’。塩化メチレン（５ｍＬ）中の実施例２の生成物（３１６，４ｖａｇ、　０．４ｍｍｏｌ）をｏ　’ｃで、無水ヨード酢酸（１６９，９ｍｇ、　０．４８ａＩＩｌｏｌ）、トリエチルアミン（０，１１５ｍＬ、　０．８ｍｍｏｌ）及びＤＭＡＰ（４ｍｇ、　０．０４ｍｍ＋ｏｌ）で処理し、混合物を０℃で２時間、次いで室温で６時間撹拌した。酢酸エチル（２５＋ｎＬ）を添加し、有機層を１０％−ＫＨ３Ｏ，、塩水、１０％−Ｎａ）ＩｃＯ３、塩水で洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで脱水した。得られた粗な生成物（３８３，６ｍｇ）をＨＰＬＣで精製した。収量＋　３７．１ｍｇ０ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ＋に＝９９７実施例３６０：式１：Ｒ＝１チル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　１　；　Ｒ’＝ジエチルホスホリルオキシ（Ｒ配置）。アスコマイシン（４７４ｍｇ、　０．６ｍｍｏｌ）を０℃でベンゼン（８ａ＋Ｌ）に溶解した。トリエチルアミン（２５０μＬ、　１．８ａ＋ｍｏｌ）、ジエチルクロロホスフェ−）　（２５０μＬ、　１．８ｏ＋ｍｏｌ）、次いでＤＭＡＩ ’（１５ｍｇ、　０．１２ｍｍｏｌ）を反応混合物に添加した。これを０℃で１５分撹拌し、室温に加熱した。−晩撹拌後、冷１０％−ＮａＨ３Ｏａ水溶液（２ｈＬ）を冷反応混合物に注意深く添加した。酢酸エチル（４０ｍＬ）を添加して混合物を抽出した。有機層を１０％−ＮａＨ３Ｏ４、塩水、飽和ＮａＨＣＯｓ、塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を除去後、粗な生成物（６３２ａ＋ｇ）が得られた。これを逆相−ＨＰＬＣで精製すると、純粋な表記化合物（１４０ｍｇ）が収率２５％で得られた。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ；Ｍ＋に＝９６６゜実施例３６１　式ＩＶ：Ｒ＝エチル：　Ｒ’＝）ｌ　；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝Ｈ，Ｒ２１＝ＯＨ，Ｒ”＝Ｈ。実施例１１の生成物（３，２４ｇ、　３．５ｍｍｏｌ）を窒素雰囲気下でベンゼン（４０ｍＬ）に溶解した。＾ＩＢＮ（２，２’−アゾビス［２−メチルプロパンニトリル］、　２９ｍｇ）及び水素化トリブチル錫（１，４ｍＬ。５、２５ｍｍｏｌ）を反応混合物に添加した。この混合物を８０℃で４時間緩やかに還流し、溶媒除去した。残渣を酢酸エチル（６０■Ｌ）に溶解し、塩水（３０＋５Ｌｘ２）、１０％硫酸水素ナトリウム（３０ｍＬＸ３）、塩水（３０ａ＋Ｌｘ１）、飽和炭酸水素ナトリウム（３０ｍＬｘ３）及び塩水（３０ｍＬｘ３）で洗浄した。次いで無水硫酸マグネシウムで脱水した。粗な生成物（５，Ｏｌｇ）をシリカゲルカラム、次いで逆相ＨＰＬＣで精製し、表記化合物を得た。収量４６６ｍｇ（１７％）、　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ＋に＝８１６、実施例３６２：式１：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝　ｌ　；　Ｒ”＝Ｈ，Ｒ３＝Ｈ，Ｒ ”及びＲ４は一緒に結合をなす、Ｃ−３２−トリフルオロメタンスルホニル−Ｃ −２４−ｔ−ブチルジメチルシリルアスコマイシン（５８０ｍｇ、　０．１６ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（４ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（６８４μＬ、　１．６８ｍｍｏｌ）を添加した。混合物を５０℃で３時間、次いで室温で一晩撹拌した。塩化メチレンを蒸発させ、酢酸エチル（４０■Ｌ）を残渣に添加し、これを１０％硫酸水素ナトリウム（２０ｍＬｘ　３）、塩水（２０ＩＩＩＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム（２０ｍＬｘ　３）及び塩水（２０ｍＬｘ３）で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水した。実施例６０に記載の方法に従って脱保護後、表記化合物がシリカゲルのクロマトグラフィー、次いで順相１１ＰＬｃにより得られた。収量：５０ｍｇ（１２％）　；ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ＋に＝８１２゜＊施例３６３−ｉｔＶ　：　Ｒ＝ｘ＋を一辷ｎ＝　１　三Ｒ’＝Ｈ；　Ｒ’＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、　Ｒ３１＝　Ｈ、Ｒ３ｔ＝　）（。ＣＨｚＣｌｚ（３ＩＩＬ）中の３２−ＴＢＤＭＳ、　２２．−３−ジヒドロアスコマイシン（実施例１０３Ｃの方法に従って製造、０．１４ｇ、　０．１５ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（０，１ｈＬ、　０．７５ａ＋ｍｏｌ）の撹拌溶液に、塩化ベンゾイル（０，０５２０１Ｌ、　０．４５１１１１０１）、次いでＤＭＡＰ（０，００２ｇ、　０．０１５ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を室温で一晩撹拌し、次いで酢酸エチルで希釈した。酢酸エチル層を０．１Ｍ　Ｈ３ＰＯ４、ＮａＦＩＣＯ３、塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で脱水した。蒸発させると、表記化合物（０，１３ｇ）が得られた。実施例３６５：式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；　ｎ＝　１　；　Ｒ’＝Ｈ：　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３３＝ＯＨ、Ｒ”＝Ｈ、Ｒ３５＝−０−ベンゾイル（Ｓ配置）、Ｒ５５＝Ｈ実施例３６３の方法により誘導した粗な生成物（０，１３ｇ）を実施例６０に記載の方法に従ってＨＦで処理し、次いでＲＰ−１１ＰＬＣ（４１，４ｍｍＩＤ、　Ｄｙｎａｍａｘ−６０＾８μ１１フエニル、　８３−０４１−Ｃ）で精製すると、表記化合物（０，０８５ｇ）が収率６４％で得られた。ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／ｚ）９３６（Ｍ＋Ｋ）。実施例３６５ａ及び３６５ｂ　：式Ｖ　：　ｎ＝２−ヒドロキシエチル：ｎ＝　１　；　Ｒ’＝Ｈ；　Ｒ’＝ｔｔ−ブチルジメチルシリルオキシ：Ｒ”＝Ｈ：　Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ”＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、　Ｒ３４＝ｌ（、Ｒ３５及びＲ３６は一緒にオキソ基を形成する、及び式ＶＩＩ：Ｒ＝２−ヒドロキシエチル；　ｎ＝　１　；　Ｒ’＝Ｈ：Ｒ’＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ；Ｒ２１及びＲ２２の一方はＨであり、他方はＯＨである。　Ｒ２３＝　Ｑ　）（、Ｒ２４＝Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ３２＝Ｈ：　Ｒ３３＝ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ、　Ｒ３４−１（、Ｒ３５及びＲ３６は一緒にオキソ基を形成す一０℃で、ＣＨｓＣＮ（１５■Ｌ）中の３２．２４−ビスＴＢＤＭＳ、　２１−１タナールアスコマイシン（０，５０ｇ、　０．５０ｍｍｏｌ　：ＰＣＴ出願第ＷＯ３９１０５３０４号及び同第９１１０４０２５号に記載の方法に従って製造）及びトリアセトキノ水素化ホウ素ナトリウム（０，３１ｇ、　１．４５ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に、酢酸（０，２５■Ｌ、　４．３６ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物をＯ′Ｃで２時間撹拌し、水で停止し、室温でさらに０゜５時間撹拌した。次いで反応混合物を酢酸エチルと水の間で分配した。酢酸エチル層をＮａＨＣＯ，水溶液、塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で脱水し、濃縮すると、粗な生成物（０，５６ｇ）が得られた。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーでヘキサン中７．５％〜１５％アセトンで溶離して精製した。所望の生成物３２．２４−ビスＴＢＤＭＳ、　２１−エタノールアスコマイシン（実施例３６５ａ、　Ｏ，ｌ１ｇ）を出発物質（０，１３ｇ）及び二還元生成物（実施例３６５ｂ。０、０６ｇ）と−緒に集め、これをＣ−９位で還元した。実施例３６５ａの生成物（３２，２４−ビスＴＢＤＮＳ、　２１−４タノールアスコマイシン、　１１０Ｉ！ｇ）を実施例３６３と同一条件を使用して塩化ベンゾイルと反応させた。表記ビス−ＴＢＤＭＳ保護ベンゾエートをシリカゲルカラムを使用して精製した。収量：９０ｍ実施例３６７・式ＩＩＩ：Ｒ＝２−ベンゾイルオキシエチル；ｎ＝１　；　Ｒ’＝Ｈ、Ｒ３１＝Ｈ；　Ｒ３２＝Ｈ、Ｒ３３＝ＯＨ：　Ｒ”４＝Ｈ，Ｒ３Ｂ及びＲ３６は一緒にオキソ基を形成する。実施例３６６の生成物（３２，２４−ビスＴＢＤＮＳ、　２１−エチルベンゾエートアスコマイシン、９ｈｇ）を実施例６０に記載の方法に従ってＩＦで処理し、ＲＰ−ＨＰＬＣにより精製すると、表記化合物（０゜０４ｇ）が得られた。ＦＡＲ−ＭＳ（ｍ／ｚ）９５０（Ｍ＋Ｋ）。Ｃ６゜８７３ＮＩＯ＋４・Ｈ，０の元素分析：計算値・Ｃ，６４，５７；　Ｈ，８，１３；　Ｎ、　１．５１゜実測値：　Ｃ，６４，６６；　Ｈ，８，０２；　Ｎ、　１．７１゜実施例３６８ａ及び３６８ｂ　：式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；ｎ＝ｌ；Ｒ’＝Ｈ、Ｒ”’＝Ｈ、Ｒ３２＝Ｈ：　Ｒ”＝Ｈ：　Ｒ”及びＲ２Ｈ（Ｓ配Ｉｆｆ）は−緒に−０−Ｃ（ＣＨｓ）ｘ−０−を形成する。Ｒ’８＝Ｈ，及び式ＩＩＩ：Ｒ＝ｚチル；　ｎ　＝　１　；　Ｒ’＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｈ：　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｈ、Ｒ３３及びＲ３５（Ｒ配置）は−緒ニ−０−Ｃ（（Ｊｌ、）２−０ −を形成する。Ｒ３’＝Ｈ。ＣＪＣＮ（８ｍＬ）中のアスコマイ／ン（０，５ｇ、　０．６ｍｍｏｌ）の撹拌溶液に、０℃で酢酸（０，１２ｍＬ、　２．　ｌａ＋ｍｏｌ）次いでトリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム（０，１５ｇ、　０．７ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を０℃で２時間撹拌し、水で停止した。水浴を除去し、反応混合物をさらに０．５時間撹拌し、室温に温めた。反応混合物を酢酸エチルと水の間で分配した。有機層をＮａＦＩＣＯ３水溶液及び水の順で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で脱水した。溶媒を濃縮すると、未反応出発物質と一緒にＣ２２−ジヒドロアスコマイノンのＳ及びＲ異性体の両方を含む粗な物質（０，５１ｇ）が得られた。−に記の粗な物質をジメトキシプロパン（５ｍＬ）を含むＤＭＦ（５ｍＬ）に溶解した。ピリジニウムｐ−１−ルエンスルホネート（０，０５ｇ）を添加し、混合物を室温で一晩撹拌した。反応廓合物をエーテルで希釈し、塩水で洗浄した。エーテルをＮａ２ＳＯ４で脱水し、蒸発させると粗なＣ２２，２４−アセトニド（０，５６ｇ）が得られた。ＲＰ−ＨＰＬＣ（４１，１ｍｍ１Ｄ、　Ｄｙｎａｇ＋ａｘ−６０＾８ｕｍ７エ＝　ル、　８３−Ｄ４１−Ｃ）で精製すると、アスコマイシン（０，０９６ｇ）及びＣ２２−Ｒ−ジヒドロアスコマイシン（０，０３ｇ）と−緒にＣ２２−３，２４−アセトニド（０，１５ｇ）及びＣ２２−Ｒ，２４−アセトニド異性体（０，０２５ｇ）を単離した。１）１−ＮＭＲｄ　１．３（ｓ、６Ｈ）（２２，２４− ３−アセトニド）、ｄ　１．４２（ｓ、６Ｈ）（２２，２４−Ｒ−アセトニド）　、ＦＡＢ−ＭＳ（ＩＩ／Ｚ）８７２（Ｍ＋Ｋ）。ＣＨ２ＣＨ２Ｃ１２（１０中の実施例１０３ｃの方法で製造した３２−ＴＢＤＭＳ。２２−８−ジヒドロアスコマイシン（０，５ｇ、　０．６３＋ｍｏｌ）、Ｎ−（ベンジルオキシカルボニルオキシ）スクシンイミド（０，２７ｇ、　１．１ｍｍｏｌ）及びＤＭＡＰ（０，０７ｇ、　０．６３ｎＩＩｌｏｌ）ヲ室温テア　日間撹ｎ　Ｌ　ｔ：。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーで５７９５アセトン／ヘキサンで溶離して精製すると、３２−ＴＢＤＭＳ、　２２−８−ペンジルカーボネートアスコマイシン（０，３１ｇ、　５４％）が得られた。実施例３７０９式ＩＩＩ　：　Ｒ＝　エチル；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝Ｈ；　Ｒ” 実施例３６９の生成物を実施例６０の方法に従ってＨＦで処理し、ＲＰ−）ＩＰＬＣで精製すると、表記化合物が得られた。メタノール性ＥｒＣｌ３・６Ｈ２０（０，２Ｍ）（１ｍＬ）中の２４−デスオキシアスコマイシン、実施例３８０の生成物（０，１５５ｇ、　０．２ｍｍｏｌ）に、トリメチルオルトフォーメート（０，１５＋Ｌ、　１．４ｍｍｏｌ）を添加した。室温で５時間撹拌後、反応混合物をＮａＨＣＯ３水溶液に注ぎ、エーテル抽出した。エーテル層を塩水で洗浄し、Ｎａ２５Ｏ１で脱水し、蒸発させると粗な生成物が得られた。ＲＰ−ＨＰＬＣで精製後、表記化合物（０，ｌ１ｇ）を収率６９％で単離した。ＦＡＲ−ＭＳ（ｍ／ｚ）８４６（Ｍ＋Ｋ）。実施例３７２ａ及び３７２ｂ　：式ＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　、　Ｒ２ｇ、　Ｒ２？及び結合している炭素原子はない；Ｒ２８及２４−デスオキシアスコマイシンをアスコマイシンと置き換えて、実施例３７１の方法から、実施例３７２ａ及び３７２ｂの表記化合物を主及び副生成物として製造した。ＦＡＢ−ＭＳ（ｍ／Ｚ）８９０（Ｍ＋Ｋ）。実施例２２１テ得られたヒドラゾン（１，ＯＯｇ、　１．０４ｍｍｏｌ）、シアノ水素化ホウ素ナトリウム（２６１１１ｇ、　４．１６ｍｍｏｌ）及びｐ−トルエンスルホン酸−水和物をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド及びスルホラン（１：　１．４６ａＬ）の混合物中に混和した。この混合物をＮ２雰囲気下１１０℃で５．５時間加熱した。反応混合物を水（２００口Ｌ）で希釈し、エーテル（２００ｍＬ）で抽出した。有機相を数回洗浄してＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド及びスルポランを除去した。エーテル層を硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧下で除去した。粗な物質をシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィーでヘキサン中４０％アセトンで精製した。表記化合物が固体（１７６ｍｇ）で得られた。融点８４−８７℃ＩＲ（ＣＤＣ１３）Ｃ１１−’３４３０．２９４０．１７３５．１６３０．１４５５．１１７０．１０９０；ＭＳ（ＦＡＢ）　ｒｎ／ｅ　：　Ｍ＋に＝ｌＯ００゜実施例７で得られたオキシム（５０ｍｇ、　０．０６２ｍｍｏｌ）をエタノール（１０ｍ１．１００％）中の木炭上に担持した１０％パラジウムと混和した。混合物を水素圧力（１気圧）下に設置し、周囲温度で一晩撹拌した。混合物を濾過剤を通して除去し、濾液を蒸発転層させると、表記化合物が定量的に得られた：ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｃ：Ｍ＋に＝８３１゜実施例３７５・式Ｖ：Ｒ−エチル；　Ｒ’−Ｈ；　ｎ−１；　Ｒ’＝Ｈ；−Ｒ３１＝Ｒ”＝Ｒ”＝Ｒ３４＝Ｈ・Ｒ”及びＲ”は−緒ｌ：−−−−−−！：−−− −−−−−−−−−−−−実施例２５９の生成物を実施例３６に記載のごとく脱水した。この物質を続いて実施例３８０に記載のごとく水素化し、シリカゲルのフラッシュクロマトグラフィーでアセトン及びヘキサンで溶離して精製して表記化合物を得た。実施例３８０の生成物を実施例３６２に記載の方法に従って脱実施例５１の生成物を実施例３６に記載のごと（脱水した。この物質を続いて実施例３８０に記載のごとく水素化し、シリカゲルのフラッシュクロマトグラフィーでアセトンとヘキサンで溶離して精製すると、表記化合物が得られた。ている炭素原子と一緒にＲ２ｇ、　Ｒ２？、　Ｒ２８及びＲ２Ｇは、複実施例３８の生成物を実施例３８０に記載のごとく水素化し、シリカゲルのフランシュクロマトグラフィーでアセトンとヘキサンで溶離して精製後に表記化合物が得られた。実施例３７９・式Ｖ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝ＯＣＨｚＣ（０）ＯＣ２Ｈｓ　（Ｒ配置）　、　Ｒ３＋＝Ｒ３２＝Ｒ３３＝Ｒ３４＝Ｈ，Ｒ３５及びＲ３６は一緒にオキソ基を形成する。実施例１０９の生成物を実施例３６に記載の方法に従って脱水した。この物質をエタノール中炭素に担持した１０％パラジウムと混和し、水素雰囲気（１気圧）下で２時間還元した。この触媒を濾過剤で除去し、濾液を減圧下濃縮した。粗な物質をノリカゲルのフランシュクロマトグラフィーでヘキサン中のアセトンで溶離して精製した。実施例３８０・式ＩＩＩ：Ｒ＝−ｒ−チル：Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１　；Ｒ”＝：　Ｒ３２＝Ｒ３３＝Ｒ３４＝）（、Ｒ３５及びＲ３ｇは一緒にオキソ基実施例３６で得られた一ｒ−／　：／　（１，００ｇ、　１．２９ｍｍｏｌ）ヲＪ　９　／− ル中の炭素に担持した１０％パラジウム（１００ｍｇ）と混和し、水素（１気圧）雰囲気下で４時間還元した。混合物を濾過剤を通して触媒除去し、濾液を減圧下濃縮した。粗な物質をシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィーでヘキサン中２５％アセトンで溶離して精製すると、表記化合物（３４８＋＋＋ｇ）が無色泡状で得られた：ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｅ；Ｍ＋に＝８１４゜実施例３８１ａ及び３８１ｂ：式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝プリンを形成する。及び式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝　１　：　Ｒ３３＝−０−：　Ｒ”＝Ｈ；　Ｒ”＝Ｒ３２＝Ｈ；　Ｒ”及Ｕ実施例７で得られたオキシム（２５ｈｇ、　０．３１０＋ｕ＋ｏｌ）ヲ塩化メチレン（２５１１１）に溶解し、溶液を０℃に冷却した。Ｍａｒｔｉｎスルフラン脱水剤（２０８ｍｇ、　０．３１０ｍｍｏｌ）を添加した。反応の各々１及び２時間後に、さらに２当量の脱水剤を添加した。反応をイソプロパツール（３ｉＬ）で停止し、混合物を飽和重炭酸塩水溶液（８０＋Ｌ）で洗浄した。有機層を脱水し、溶媒除去した。生成物を分離し、シリカゲルのフラッシュクロマトグラフィーでヘキサン中３０％アセトンで精製した。実施例３８１ａ：１１３（ＦＡＢ）ｉ／ｅ：Ｍ＋に＝８２７．実施例３８１ｂ：ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：Ｍ＋に＝８２７゜アスコマイシン（２，０２ｇ、　２．５４ｍａ＋ｏｌ）を９０％エタノール（４０ａ＋Ｌ）に溶解した。この溶液に、−〇−アリルヒドロキシルアミン塩酸塩（０，６２７５ｇ、　５．７２ｍｍｏｌ）、次いでピリジン（０，２ｍＬ、　２．５４ｍｍ。１）を添加した。反応を室温で２３時間撹拌した。次いで水（７５ｎＬ）中に注ぎ、酢酸エチル（２Ｘ　７５ｍ１、）で抽出した。抽出液を合わせ、塩水（５０ｎＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を除去すると、粗な物質が得られ、これをシリカゲルのクロマトグラフィーでヘキサン中３０％アセトンで溶離して精製した。収量＋　１．９７ｇ、　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｅ　：　Ｍ＋に＝８８５　；　’　”ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ）δ（選択シグナル）１９６．７．１６１．６．１３３．６．１１８．５゜７４．９；　ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−’３４５０．２９３０．１７４５．１７２０．１６５０．１４５０゜実施例３８３　式ＶＩＩＩ：Ｒ＝エチル：　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ”及ＩＪ　Ｒ３３Ｉｔ　−緒１：　結合ヲナｔ　；　Ｒ”＝　Ｒ”＝　Ｈ；　Ｒ３ｓ及ＣＦ実施例３６の生成物（５０２ｍｇ、　０．６４６ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン（４０ｎＬ）に溶解した。水素化カリウム（１９３＋ｍｇ、　１．６１ｍｍｏｌ：鉱油中３５％懸濁液として）を添加し、反応混合物を室温で撹拌した。１９時間後、追加のアリコートの水素化カリウム（７６ｍｇ、　０．６４６ｍｍｏｌ）を添加し、次いで７時間で停止した。テトラヒドロフランを除去し、ＩＮ塩酸（２５＋Ｌ）と酢酸エチル（２５ｎＬ）の間で分配した。水性相を追加の酢酸エチル（１５１１Ｌ）で洗浄した。有機相を混和し、塩水（２０ｎＬ）で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水して溶媒除去した。この物質をシリカゲルのフラッシュクロマトグラフィーでヘキサン中３０％アセトンで溶離して精製した。収量５９＋ａｇ；ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：Ｍ＋に＝８１２；Ｉ３ＣＮＭＲ（１２５ＭＨｚ）δ（選択シグナル）９６．４．８０．１．７５．２：　ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’３４３０．２９２０．１？５５．１７３５．１６９０．１６２５．１４５５、１０９０゜実施例２２４の生成物（１０２ｍｇ、　０．１２８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラノ（１０ｎＬ）に溶解した。水素化カリウム（２０ｍｇ、　０．４６２ｍｍｏｌ）を３５％懸濁液として添加し、反応混合物を室温で２０時間撹拌した。混合物を水（０，５ｍ１）で停止し、減圧下で濃縮した。残渣を０．５Ｎ塩酸と酢酸エチル（５０ｎＬ）の間で分配した。水性相を再び酢酸エチル（２５ｎＬ）で洗浄し、洗浄した有機相を合わせｌ硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒除去した。粗な物質を／す力ゲルのフラッシュクロマトグラフィーでヘキサン中３０％アセトンで溶離して精製した。収量５０ａ＋ｇ；ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：Ｍ＋に＝８１４：”ＣＮＭＲ（１２５ＭＨｚ）（δ９選択ピーク）２０２．８．７６゜４、７５．８．７４．５．７１．８゜実施例３８５　式Ｖ　：　Ｒ＝！チル；Ｒ’＝Ｈ；ｎ＝１　：Ｒ’＝ｔ−ブチルンメチルンリルオキシ；Ｒ３１及びＲ３３は一緒に結合をなす、　Ｒ３２＝Ｒ３４＝　）（、Ｒ３６及びＲ３６の一方はＨであり、他方は一〇Ｃ（０）ＣＩｌ□ ＣＨ３である。実施例３６の生成物を脱水し、ペンダントシクロヘキサノールヒドロキシル基を実施例８ａに記載の如くそのｔ−ブヂルジメチルンリルエーテルとして保護した。プロピオン酸（５０μＬ、　０．６７３ｍｍｏｌ）をヘキサン（１０ｎＬ）及びＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０μｌ、）中に溶解した。これに、塩化オキサリル（０，２９ｎＬ、　３．３７ｍｍｏｌ）を添加し、反応混合物を室温で１時間撹拌した。次いで塩を濾別し、溶媒を真空上除去した。新しく製造した酸クロリドを無水塩化メチレン（１０■Ｌ）中に吸収させた。上記の脱水し、保護したアスコマイシン誘導体（２０２ｍｇ、　０．２２５ｍｍｏｌ）をジイソプロピルエチルアミン（０，２ｍＬ、　１．１３ｍｍｏｌ）と−緒に添加した。４８時間後、ジクロロメタンを除去し、物質をＩＮ塩酸（３０ｎＬ）と酢酸エチル（３０ｎＬ）の間で分配した。水性層を追加の酢酸エチル（１５ｎＬ）で洗浄した。有機層を合わせ、塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水した。溶媒を除去し、シリカゲルのフラッシュクロマトグラフィーでヘキサン中２５％アセトンで精製した。収量１０１ｍｇ＋ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｅ：１１＋に＝９４６゜グリシンエチルエステルの４−クロロベンジルイミン（１，４６ｇ、　６．４６ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン（８０ｎＬ）中に溶解した。これに、鉱油中６０％懸濁液として水素化ナトリウム（０゜３９ｇ、　９．７０ｍｍｏｌ）を添加した。これを室温で１５分撹拌し、実施例３６の生成物（２，００ｇ、　２．５８ｍｍｏｌ）を添加した。室温で２４時間後、水（１０ｓＬ）を添加して反応を停止した。テトラヒドロフランを除去し、残渣をシリカゲルに載置し、ヘキサン中２５％アセトンで溶離した。収量＋　０．６０ｇ、　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｅ　：　Ｍ＋に＝８９７゜麗＋ｌ’１＝８５９゜実施例３６の生成物（５０１ｍｇ、　０．４６４ｍｍｏｌ）及びグリシンエチルエステルの４−クロロベンジルイミン（２１８ｍｇ、　０．９７ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフラン（２０ｓＬ）に溶解した。これに、トリエチルアミン（１，４０ｓＬ、　９．６９ｍｍｏｌ）及び臭化リチウム（２６５ｍｇ。３、０４ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を窒素上室温で撹拌した。３時間後、反応をＩＮ塩酸（２０ｓＬ）と酢酸エチル（２０ｓＬ）の間で分配した。水性相を、追加の酢酸エチル（２０ｓＬ）で洗浄した。洗浄した有機層を合わせ、塩水（１５ｓＬ）で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで脱水し、溶媒除去すると、粗な物’１ｔ（０，７０ｇ）が得られた。この物質を酢酸エチル／ヘキサン（２：１）から再結晶すると、表記化合物（０，２３ｇ）が得られた。ＭＳ（ＦＡＢ）＋ｉ／ｅ：Ｍ＋に＝１０３７．１０３９．　Ｍ＋Ｈ−９９９，１００１；　’　”ＣＮＭＲ（７５ＭＨｚ）δ（選択ピーク）１６７．６．　１４１．７．　１３５．８．　１２９．４．　１２８．９．６３゜１、　６２．９．　５１．８．　５０．４；　ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−’３４３０．　２９３０．　１７４５．　１６５０、　１４５０．　１０９０゜実施例３８８ａ及び３８８ｂ　：式ＩＩＩ：Ｒ＝エチル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝ｌ　、　ＲＩＩ、＝Ｒ３２＝Ｒ８４＝Ｈ，Ｒ２Ｈ及びＲ３６は一緒に＝ＮＭｅ（０）（Ｅ−及びＺ−配置）。１９　／−ル（６０ｓＬ）中でアスコマイシン（１５ｇ）、トＩＪ　エチルアミン（９，１ｇ）及びＮ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩（７゜５ｇ）を４５℃ で６０時間撹拌した。溶媒を真空下除去し、生成物をシリカゲル上で１０％エタノール／ジクロロメタンで精製した。実施例３８８ａの表記化合物：収量１０．２ｇ；ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ＋に＝８５９゜実施例３８８ｂの表記化合物：収量３．５ｇ；ＭＳ（ＦＡＢ）ｏ／ｚ：Ｍ＋に＝８５９゜実施例３９１：式Ｉ：Ｒ＝４チル；　Ｒ’＝Ｈ；　ｎ＝１　；　Ｒ’＝−のアスコマイシン（０，４ｇ）及びヨウ化アリル（０，６ｇ）の撹拌溶液に添加した。室温で一晩撹拌後、反応混合物をエーテル中のシリカゲル（２ｇ）のカラムに注ぎ、エーテルで溶離した。半分純粋な生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーで２％イソプロパツール／ジクロロメタンで溶離して精製した。収量：０．２４５ｇ　：　ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ＋ＮＨ４＝８４９゜酸化銀（１）（０，６ｇ）を、０℃でアセトニトリル（０，５ｍＬ）中のアスコマイノン（０，４ｇ）及び４−（Ｎ−モルフォリノ−２−トランス−ブテニル）−プロミド（０，６ｇ）に添加した。室温で一晩撹拌後、反応混合物をエーテル中のシリカゲル（２ｇ）のカラムに注ぎ、エーテルで溶離した。半分純粋な生成物をシリカゲルのクロマトグラフィー（ｌｏｇ）で２％イソプロパツール／ジクロロメタンで溶離した。無水トリフルオロメタンスルホニル（乾燥ジクロロメタン１ｍｌ中０．２８ｇ）を、−１５℃でジクロロメタン（２ｍＬ）中のアスコマイノン（０，８ｇ）及びジイソプロピルエチルアミン（０，５ｇ）の撹拌溶液に添加した。０．５時間撹拌後、テトラゾール（０，１ｇ）を添加し、室温で２４時間撹拌した。溶媒を真空下除去し、粗な生成物をシリカゲル（４０ｇ）上４０％アセトン／ヘキサンで溶離して精製した。さらに生成物をシリカゲル（４０ｇ）で３％イソプロパツール／ジクロロメタンで溶離して精製した。収量：０．３ｇＪＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ：Ｍ＋ト８８２゜実施例３９４：生物学的活性のｉｎ　ｖｉｖｏアッセイ本発明の化合物の免疫抑制活性を、Ｋｉｎｏ、　Ｔ、ら“Ｔｒａｎｓｐｌａｎｔａｔｉｏｎ　Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ、　ＸＩＸ（５）　：３６−３９．５ｕｐｐ１．６（１９８７）”に記載のヒト混合リンパ球反応（肛Ｒ）を使用して測定した。表１に示したアッセイの結果は、試験した化合物は、サブマイクロモル濃度で効果的な免疫モジュレータ−であること上記の詳細な説明及び付記実施例は単なる説明であり、本発明の範囲を限定するものではなく、付記請求項によってのみ限定されることは理解されよう。開示された態様の種々の変化及び変形は当業者には明らかである。化学構造、置換基、誘導体、中間体、合成、配合及び／または本発明の使用法を含むこのような変化及び変形は、本発明の趣旨及び範囲を逸脱しない。フロントページの続き（７２）発明者　オア、ヤット・サンアメリカ合衆国、イリノイ・６００４８、リバテイビル、ウニリントン・アベニュー・（７２）発明者　ウイードマン、ポールアメリカ合衆国、イリノイ・６００４８、リバテイビル、ウェスト・パーク・アベニュー・１４４（７２）発明者　ワグナ−、ロルフアメリカ合衆国、イリノイ・６００３１、ガーニー、オールド・ファーム・レーン・６２９３

Claims

【特許請求の範囲】１．次式の化合物又は製薬上許容可能なその塩、エステル、アミド又はプロドラッグを有する化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＶＩＩ）［式中、ｎは０又は１であり；Ｒ及びＲ′については、（ａ）Ｒ及びＲ′の一方が水素であり他方がメチル、エチル、２−ヒドロキシエチル、プロピル、シクロプロピルメチル、２−オキソプロピル、２−エタナル、アリル、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）Ｒ１０（ここでＲ１０はアリールである）、−ＣＨ２Ｃ（Ｏ）Ｒ１２、−ＣＨ２Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１４ ′）（ＣＨ２）ｍＣＨ（Ｒ１６）−Ｃ（Ｏ）Ｒ１２、ＣＨ２Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１４ ′）（ＣＨ２）ｍＣＨ（Ｒ１６）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１４′′）（ＣＨ２）ｍ′ＣＨ（Ｒ１６′）Ｃ（Ｏ）Ｒ１２及び−ＣＨ２Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１４′）（ＣＨ２）ｍＣＨ（Ｒ１６）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１４′′）（ＣＨ２）ｍ′ＣＨ（Ｒ１６′）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１４′′′）（ＣＨ２）ｍ′′ＣＨ（Ｒ１６′′）Ｃ（Ｏ）Ｒ１２（（ここでｍ、ｍ′及びｍ′′は独立に０〜６であり；Ｒ１６、Ｒ１６′及びＲ１６′′は独立に水素、低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、カルボキシアルキル、チオ低級アルキル、チオアルコキシアルキル、グアニジノアルキル、アミノアルキル、アリールアルキル、そしてｍ、ｍ′及びｍ′′が０以外である場合にはアミノ又はアミドアルキルから選択され；Ｒ１２は（ｉ）ヒドロキシ、（ｉｉ）−ＯＲ１３（ここでＲ１３は低級アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル又はアリールアルキルである）、及び（ｉｉｉ）−ＮＲ１４Ｒ１５（ここでＲ１４、Ｒ１４′、Ｒ１４′′及びＲ１４′′′は独立に水素、低級アルキル、アリールアルキル、シクロアルキル及びシクロアルキルアルキルから選択され、Ｒ１５は水素、低級アルキル、アリールアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル及びチオ低級アルキルから選択されるか、あるいはＲ１４及びＲ１５は一緒になって−（ＣＨ２）ｑ−（ここでｑは２〜５である）であるか；もしくはＲ１４及びＲ１５は一緒になってそれらが結合する窒素とともにモルホリノ及びピペリジノから選択される基を形成するか；もしくはＲ１４′とＲ１６、Ｒ１４′′とＲ１６′、並びにＲ１４′′′とＲ１６′′の１つ以上が一緒になって−（ＣＨ２）ｐ−（ここでＰは２〜５である）である））からなる群から選択されるか、あるいは（ｂ）Ｒ及びＲ′の一方がＲ３５及びＲ３６の一方と一緒になってＣ− ２１／Ｃ−２２結合を形成し、Ｒ及びＲ′の他方はＲ３５及びＲ３６の他方と一緒になって−Ｎ（Ｒ６３）ＣＨ＝ＣＨ−及び−ＯＣ（Ｒ６４）＝ＣＨ−から選択される式を有する複素環形成基（ここでヘテロ原子は各々の場合にＣ−２２と結合し、Ｒ６３は水素、低級アルキル、アリールアルキル及びアリールから選択され、Ｒ６４は水素又は低級アルキルである）であるように選択され；Ｘは以下から選択され、 ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｉａ），▲数式、化学式、表等があります ▼（Ｉｂ）及び▲数式、化学式、表等があります▼（Ｉｃ），（式中、Ｒ１は以下の（ａ）〜（ｈｈ）から選択され、（ａ）水素、（ｂ）ハロゲン、（ｃ）トリフレート、（ｄ）メシレート、（ｅ）トシレート、（ｆ）ベンゼンスルホネート、（ｇ）アジド、（ｇ′）シアネート、（ｈ）−ＯＣ（Ｓ）ＯＲ１１（ここでＲ１１は低級アルキル、アリールアルキル及びアリールから選択される）、（ｉ）−ＯＣ（Ｏ）Ｒ１９（ここでＲ１９は（ｉ）水素、（ｉｉ）低級アルキル、（ｉｉｉ）アリールアルキル、（ｉｖ）アミノアルキル、（ｖ）アリール及び（ｖｉ）任意に保護化されているアルファアミノのα−炭素及び標準アルファアミノ酸の付加側鎖から選択される）、（ｊ）−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ１７（ここでＲ１７は水素、低級アルキル、アリールアルキル、アリール及び−ＳＲ１４から選択される）、（ｋ）−ＯＣ（Ｏ）ＯＲ１１、（ｌ）−ＯＰ（Ｏ）（ＯＲ１１）２、（ｍ）−ＯＲ１１、（ｎ）−Ｏ（ＣＨ２）ｊＣ（Ｏ）Ｒ１２（ここでｊは１〜５である）、（ｏ）−Ｏ（ＣＨ２）ｊＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１４′）（ＣＨ２）ｍＣＨ（Ｒ１６）Ｃ（Ｏ）Ｒ１２、（ｐ）−Ｏ（ＣＨ２）ｊＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１４′）（ＣＨ２）ｍＣＨ（Ｒ１６）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１４′′）（ＣＨ２）ｍ′ＣＨ（Ｒ１６′）Ｃ（Ｏ）Ｒ１２、（ｑ）−Ｏ（ＣＨ２）ｊＣ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１４′）（ＣＨ２）ｍＣＨ（Ｒ１６）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１４′′）（ＣＨ２）ｍ′ＣＨ（Ｒ１６′）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１４′ ′′）（ＣＨ２）ｍ′′ＣＨ（Ｒ１６′′）Ｃ（Ｏ）Ｒ１２、（ｒ）−ＳＲ１７、（ｓ）−ＳＣ（Ｏ）Ｒ１１、（ｔ）−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ１１）２、（ｕ）１−テトラゾリル、（ｕ′）２−テトラゾリル、（ｖ）−ＮＨＣ（ＮＨ）ＮＨ２、（ｗ）−Ｃ（ＮＨ）ＮＨ２、（ｘ）−Ｏ−（ヒドロキシル保護基）、（ｘ′）−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、（ｙ）−ＨＮＳＲ１１、（ｚ）−ＮＲ１７Ｓ（Ｏ）２Ｒ１１、（ａａ）−ＮＲ１７Ｃ（Ｏ）Ｒ１８（ここでＲ１８は水素、低級アルキル、アリールアルキル、アリール、−ＮＲ１４Ｒ１７及び−ＮＲ１４Ｒ１４である）、（ｂｂ）−ＮＲ１７Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ１８、（ｃｃ）−ＮＲ１７Ｃ（Ｏ）ＯＲ１１、（ｄｄ）−ＮＨＰ（Ｏ）（ＯＲ１１）２、（ｅｅ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｉｅ）を有する基、（ｆｆ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｉｆ）（ここでＲ２０及びＲ２０′は独立に水素、アリール、シアノ、トリフルオロメチル、−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−低級アルキル及び−Ｃ（Ｏ）−低級アルキルからなる群から選択される）を有する基、（ｇｇ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｉｇ）を有する基、（ｈｈ）ヒドロキシ、Ｒ２は水素又はトリフルオロメチルカルボニルであるか、あるいはＲ２′と一緒になってジアゾ基を形成するかもしくはＲ３及びＲ４の−方と一緒になってＣ− ３２／Ｃ−３３結合を形成し；Ｒ２′は水素であるか、又はＲ２と一緒になってジアゾ基を形成し；Ｒ３及びＲ４は（ａ）ともにチオ低級アルキル、チオアリールオキシ又はチオアリールアルコキシであるか；（ｂ）Ｒ３及びＲ４の−方が水素、ヒドロキシ、及びＲ２とともに形成するＣ−３２／Ｃ−３３結合から選択され、Ｒ３及びＲ４の他方が水素又はＲ１１であるか；又は（ｃ）Ｒ３及びＲ４は一緒になって（ｉ）オキソ、（ｉｉ）＝ＮＲ４８（（ここでＲ４８はアリールアルコキシ、ヒドロキシ、−Ｏ（ＣＨ２）ｆＣＯＯＨ（ここでｆは１〜５である）、−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＲ３９（ここでＲ３９は低級アルキルである）及び−ＮＨＳ（Ｏ）２Ｒ４０（ここでＲ４０はアリールである）から選択される））、（ｉｉｉ）＝ＮＯＲ２２２又は＝Ｎ＋（Ｏ−）Ｒ２２２（（ここでＲ２２２は低級アルキル、アリール、− ＳＯ２−（低級アルキル）及び−ＳＯ２−（アリール）からなる群から選択される））、並びに（ｉｖ）式−Ｓ−（ＣＨ２）ｒ−Ｓ−（（ここでｒは２又は３である））を有するチオケタル−形成部分から選択される基を形成するように選択され；そしてＲ５はホルミル及び−ＣＨ２ＯＲ１からなる群から選択される｝Ｙは以下のから選択される構造式を有する基であり；▲数式、化学式、表等があります▼（ＩＩＩａ）及び▲数式、化学式、表等があります▼（ＩＩＩａ′），｛式中、（ａ）Ｒ３１及びＲ３２は、Ｒ３１及びＲ３２の一方が水素であり他方が（ｉ）水素、（ｉｉ）ヒドロキシ、（ｉｉｉ）−Ｒ１７、（ｉｖ）−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１及び（ｖ）−ＣＨ（Ｒ１１）ＮＨＲ１７からなる群から独立に選択されるか；あるいはＲ３１及びＲ３２が一緒になってジアゾ基を形成するか；あるいはＲ３３及びＲ３４の一方と一緒になってＲ３１及びＲ３２の一方がＣ−２３／Ｃ −２４結合を形成し、他方が水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ６１、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ６１及び−Ｃ（Ｏ）ＯＲ６１（ここでＲ６１は水素、アリール又は低級アルキルである）からなる群から選択されるか；あるいはＲ３３及びＲ３４の一方と一緒になってＲ３１及びＲ３２の一方が式（Ｃ−２３〜Ｃ−２４の向きで）−ＣＨ（Ｒ１１）ＮＨＣＨ（Ｃ（Ｏ）ＯＲ１１）を有する基を形成するか；あるいはＲ３５及びＲ３６の一方と一緒になってＲ３１及びＲ３２の一方がＣ−２３／Ｃ−２４結合を形成するか；あるいはＲ３１及びＲ３２がそれが結合する炭素原子Ｃ−２３とともに存在せず、Ｃ−２２／Ｃ− ２４結合により置換されるか；あるいはＲ３３及びＲ３４の一方又は両方とそれらが結合する炭素原子とＲ３１及びＲ３２の一方又は両方とが一緒になって（ｉ）縮合インドール基（この場合、窒素原子はＣ−２４に隣接する）、（ｉｉ）縮合、任意に不飽和の５−員複素環式基（この場合、２つの環員の一方はＣ−２３及びＣ−２４に隣接し、他の隣接環員は−ＣＨＲ１７−又は＝ＣＲ１７であり、残りの環員は＝Ｎ−又は−ＮＲ１１−である）、又は（ｉｉｉ）縮合ピロールを形成するか；あるいはＲ３５及びＲ３６とそれらが結合する炭素原子とＲ３１及びＲ３２とが一緒になって（ｉ）縮合インドール基（この場合、窒素原子はＣ−２２に隣接する）、又は（ｉｉ）縮合フラン環（この場合、酸素原子はＣ−２２に隣接する）を形成するように選択され；（ｂ）Ｒ３５及びＲ３６は、ともに低級アルコキシであるか、又はＲ３５及びＲ３６の一方が水素であり、他方がヒドロキシ、アミノ、−ＮＨＲ１７、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ１１、−ＯＣ（Ｏ）Ｏ−（ベンジル）及び−ＮＨＮＨ−（トシル）から選択されるか、あるいは一緒になってＲ３１及びＲ３２の一方とともにＣ−２２／Ｃ−２３結合を形成するか；あるいはＣ−２３が存在しない場合はＲ３３及びＲ３４の一方とＲ３５及びＲ３６の一方が一緒になってＣ−２２／Ｃ−２４結合を形成し、他方が水素又はヒドロキシであるか；あるいはＲ３３及びＲ３４の一方とＲ３５及びＲ３６の一方が一緒になって式−ＯＣ（ＣＨ３）２Ｏ−を有する基を形成するか；あるいはＲ３５及びＲ３６が一緒になってオキソ基又は＝ＮＲ３８（ここでＲ３８は（ｉ）アリールアルコキシ、（ｉｉ）ヒドロキシ、（ｉｉｉ）−ＯＣＨ２ＣＯＯＨ、（ｉｖ）−ＯＣＨ２ＣＨＣＨ２、（ｖ）−ＮＨＣ（Ｏ）ＯＲ３９及び（ｖｉ）−ＮＨＳ（Ｏ）２Ｒ４０から選択される）を形成するか；あるいはＲ及びＲ′とＲ３５及びＲ３６が一緒になって上記のようにＣ−２１／Ｃ−２２結合及び複素環形成基を形成するか；あるいはＲ３１及びＲ３２とＲ３５及びＲ３６が一緒になって上記のようにインドール又はフラン基を形成するか；あるいはＲ３３及びＲ３４のいずれか又は両方と介在炭素原子Ｃ−２２、Ｃ−２３及びＣ−２４とＲ３５及びＲ３６とが一緒になって（ｉ）Ｎ、Ｏ及びＳから選択されるヘテロ原子を包含し、また任意にＮ、Ｏ及びＳから選択される第２のヘテロ原子を包含していてよいが、但し２個のヘテロ原子が存在する場合、少なくとも１個はＮであり、更に任意に低級アルキル、アリール、アリールアルキル、アミド、ホルミル、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１１又は −Ｃ（Ｏ）Ｒ４１（ここでＲ４１は低級アルキルである）で置換されていてよい５又は６員不飽和基、並びに（ｉｉ）任意に低級アルキル、アルコキシ又はハロゲンで置換されていてよく縮合されたフェニル基を有する任意不飽和の７員基（この場合、Ｃ−２２に隣接する環員は＝Ｎ−であり、Ｃ−２４に隣接する環員はＯ又はＳである）から選択される縮合複素環式基を形成するように選択され；（ｃ）Ｒ３３及びＲ３４については（ｉ）Ｒ３３及びＲ３４の一方が水素であり、他方が水素、ヒドロキシ、アミノ、−ＯＲ１１、−ＯＮＯ２、−ＯＣ（Ｏ）ＮＨＲ１７、−Ｃ（Ｏ）Ｒ１１、−Ｃ（Ｒ１１）ＮＨＲ１７及び−Ｏ−（ヒドロキシル保護基）から選択され；（ｉｉ）Ｒ３３及びＲ３４の一方が水素であり、他方がＲ３１及びＲ３２とともに式−ＣＨ（Ｒ１１）ＮＨＣＨ（Ｃ（Ｏ）ＯＲ１１）−を有する基を形成するか、又はＲ３５及びＲ３６の一方とともに式−ＯＣ（ＣＨ３）２Ｏ−を有する基を形成するか、あるいは（ｉｉｉ）Ｒ３３及びＲ３４の一方がＣ−２３／Ｃ−２４を形成するか又は、Ｃ−２３が存在しない場合はＣ −２２／Ｃ−２４結合を形成し、他方が水素、ヒドロキシ及び低級アルコキシから選択されるか；あるいは一緒になってＲ３３及びＲ３４がオキソ基を形成するか；あるいはＲ３１、Ｒ３２、Ｒ３５及びＲ３６の１つ以上と、介在炭素原子とＲ３３及びＲ３４の一方又は両方とが一緒になって（ｉ）インドール（この場合、窒素原子はＣ− ２４に隣接する）、（ｉｉ）フラン（Ｃ−２４に結合する酸素原子を有する）、又は（ｉｉｉ）上記のような複素環式基から選択される基を形成するように選択される｝Ｚは以下から選択される。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ＩＩａ）及び▲数式、化学式、表等があります▼（ＩＩｂ），｛式中、（ａ）Ｒ２１及びＲ２２については（ｉ）Ｒ２１及びＲ２２の一方が水素であり他方が水素、低級アルキル、アリールアルキル、アリール、ハロゲン、トリフレート、メシレート、トシレート、ベンゼンスルホネート、アジド、アミン、アセテート、−ＮＲ１７Ｒ１８、−ＯＣ（Ｏ）Ｒ１９、ＮＲ１７Ｓ（Ｏ）２Ｒ１８、−ＮＲ１７Ｃ（Ｏ）Ｒ１８、及び次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｉｆ）及び▲数式、化学式、表等があります▼（Ｉｇ）を有する基から選択されるか、又はＲ２３とともにＣ−９／Ｃ−１０結合を形成するか、あるいは（ｉｉ）Ｒ２１及びＲ２２の一方がヒドロキシであり、他方が水素、低級アルキル、アリールアルキル及びアリールから選択されるか、あるいは（ｉｉｉ）Ｒ２１及びＲ２２の一方が水素、低級アルキル及びアリールアルキルから選択され、他方がＲ２３及びそれが結合する炭素原子とともに縮合５員複素環式基を形成するが、この場合、Ｃ−９及びＣ−１０に隣接する２環員は酸素であり、残りの環員は−Ｃ（Ｏ）−及びＣ（Ｓ）−から選択されるか、あるいは（ｉｖ）Ｒ２１及びＲ２２の一方が水素、低級アルキル及びアリールアルキルから選択され、他方がＲ２３及びそれが結合する炭素原子とともに縮合５員複素環式基を形成するが、この場合、Ｃ−９及びＣ−１０に隣接する２環員は酸素であり、残りの環員は−Ｐ（Ｏ）（Ｒ２５）−（ここでＲ２５は低級アルキル、アリールアルキル、低級アルコキシ、アミノ又は低級アルキルアミノである）であるか；あるいはＲ２１及びＲ２２は一緒になってオキソ、オキシム及び−Ｏ−ＣＨ２から選択される基を形成するか；あるいはＲ２１及びＲ２２並びにそれらが結合する炭素が存在せず、Ｃ−８が直接Ｃ−１０と結合するように選択され；（ｂ）Ｒ２３はヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、低級アルキルアミノ、アリールアルキルアミノ、低級アルコキシ及びアリールアルコキシからなる群から選択されるか、又はＲ２１及びＲ２２とともにＣ−９／Ｃ−１０結合を形成するか、又はＲ２４とともにＣ−１０／Ｃ−１１結合を形成し；（ｃ）Ｒ２４は水素であるか、又はＲ２３とともにＣ−１０／Ｃ−１１結合を形成し；（ｄ）Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９については（ｉ）Ｒ２８及びＲ２９の一方がヒドロキシであり他方が−ＣＯＯＨ又は−Ｃ（Ｏ）Ｏ−低級アルキルであり、そして（ｉｉ）Ｒ２６及びＲ２７並びにそれらが結合する炭素原子が存在せず、Ｃ−８が直接Ｃ−１０に結合するか；あるいはＲ２６及びＲ２７が一緒になってオキソであり、一方Ｒ２８及びＲ２９は一方がヒドロキシであり他方がＣ−２／Ｃ−１０結合を形成するか；あるいはＲ２６及びＲ２８が一緒になって結合を形成し、そしてＲ２７及びＲ２９が式−Ｕ−Ｃ（Ｒ１１）＝Ｎ−（式中、ＵはＣ−９に隣接し、−Ｏ−、−Ｓ− 及び−ＮＨ−から選択されるか；あるいはＲ２６及びＲ２８が各々ヒドロキシであり、そしてＲ２７及びＲ２９が一緒になって式−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ２）−ＣＨ２−を有する基を形成するか；あるいはＲ２６、Ｒ２７、Ｒ２８及びＲ２９はそれらが結合する炭素原子と一緒になって（ｉ）縮合ナフタレン基（この場合、Ｃ−９及びＣ−１０に隣接する原子はシアノ基に置換されている）、又は（ｌｉ）１ないし３個の窒素ヘテロ原子を有し、任意にアミノ、ハロゲン、低級アルキル及び低級アルコキシから選択される６個までの差で置換されていてよい縮合６員環を含む縮合一−、二−又は三環状複素環式芳香族基を形成するように選択され；（ｅ）Ｒ６０及びＲ５５については、Ｒ６５が水素であり、Ｒ６０が（ｉ）水素、（ｉｉ）ヒドロキシ及び（ｉｉｉ）−ＯＣ（Ｏ）Ｒ１９からなる群から選択されるか、あるいはＲ６０及びＲ６５が一緒になってオキソ基を形成するように選択される｝］２．次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ＩＶ），（式中、Ｒ′は水素であり、ｎ、Ｒ、Ｘ及びＺは上記と同様である）を有する請求項１記載の化合物。３．次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ），（式中、ｎ、Ｒ、Ｒ′、Ｘ及びＹは上記と同様である）を有する請求項１記載の化合物。４．次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ＶＩ），（式中、ｎ、Ｒ、Ｒ′、Ｙ及びＺは上記と同様である）を有する請求項１記載の化合物。５．次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｉ），（式中、Ｒ′は水素であり、ｎ、Ｒ及びＸは上記と同様である）を有する請求項２記載の化合物。６．Ｘが次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｉｂ′），（式中、Ｒ２２１は＝ＮＯＲ２２２及び＝Ｎ＋（Ｏ−）Ｒ２２２（ここでＲ２２２は低級アルキル、アリール、 −ＳＯ２−（低級アルキル）及び−ＳＯ２−（アリール）からなる基である）から選択される）を有する基である請求項５記載の化合物。７．次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ＩＩ），（式中、Ｒ′は水素であり、ｎ、Ｒ及びＺは上記と同様である）を有する請求項２記載の化合物。８．次式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ＩＩＩ），（式中、ｎ、Ｒ、Ｒ′及びＹは上記と同様である）を有する請求項４記載の化合物。９．Ｙが以下の群から選択される請求項１、３、４又は８記載の化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼ ，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲ 数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります ▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼， ▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，及び▲数式、化学式、表等があります▼，（式中、Ｒ１１、Ｒ１７、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３８及びＲ４１は上記と同様であり；Ｒ８１は水素、アルキル、−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ６１、−Ｓ（Ｏ）２Ｒ６１及び−Ｃ（Ｏ）ＯＲ６１から選択され；Ｒ８２及びＲ８３は独立にヒドロキシ及びアミノから選択され；Ｒ８４は水素、ヒドロキシ又は低級アルコキシであり；Ｒ８５は水素又はヒドロキシであり；Ｒ８６は水素、低級アルキル、アリール、アリールアルキル、アミド、ホルミル、−Ｃ（Ｏ）Ｒ４１及び−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４１から選択され；Ｒ８７は水素、ハロゲン、アルコキシ及び低級アルキルから選択され；Ｖは酸素、−Ｎ（Ｒ８６）−及び−ＮＣ（Ｏ）Ｒ８６から選択され；そしてＷは酸素又はイオウである）１０．Ｚが以下の群から選択される請求項１、２、４又は７記載の化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼，▲数式、化学式、表等があります▼及び▲数式、化学式、表等があります ▼，（式中、Ｒ１１、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＵは上記と同様であり；Ｒ７０は水素、低級アルキル又はアリールアルキルであり；Ｒ７１は水素又は低級アルキルであり；Ｒ７２は酸素又はイオウであり；そしてＡ、Ｄ、Ｅ、Ｇ、Ｊ及びＬは窒素、炭素及び−Ｃ（Ｒ７３）−（ここでＲ７３はアミノ、ハロゲン、低級アルキル又は低級アルコキシである）から選択される）１１．治療的有効量の請求項１記載の化合物を製薬上許容可能な担体と組み合わせて含有するイムノモジュレーションに有用な製剤組成物。