JPH06510029A - 毒性解除剤として３−アミノベンゾ〔ｂ〕チオフェンを含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ７、　として３−アミノベン゛　ｂ チオフェン　る７、 本発明は以下の一般式■ で表わされ、 式中のＲ１が−ＣＯｘ基あるいは−ｃｏｏｘ基を意味し、 このＸが水素、ハロゲン、置換されていないか、あるいは１から３個の、Ｃ１− Ｃ４アルキル、ヒドロキシ−Ｃ−Ｃ−アルキル、フェニルおよびベンジルの各基 から選択される置換基を有するアミノ、Ｃ１−Ｃ１゜アルキル、Ｃ２−Ｃ８アル ケニル、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ−Ｃ１ｏシクロアルケニル（ただしこ れら最後の４個の基は置換されていないか、あるいは部分的もしくは完全にハロ ゲン化されており、さらに１個もしくは２個のカルボキシルあるいはカルボニル を持っていてもよい）、酸素原子および硫黄原子あるいは１から３個の窒素原子 と酸素もしくは硫黄原子から選ばれる１カ）ら３個のヘテロ原子を持っている（ ただし３個のへテロ原子が同時に隣接することはできない）５員もしくは６員の 芳香族へテロ環、置換されていないか、あるいはハロゲン、−ｃｏｙ基および− ｃｏｏｙ基（ただしこれらはさらに置換可能の炭素原子が存在する限り多数のハ ロゲン原子を持っていてもよい）から選ばれる３個までの置換を持っていてもよ いフェニルないしナフチルを意味し、このＹがＣｌ−０６アルキル、Ｃ３Ｃ６シ クロアルキルあるいはフェニルを意味し、 式中のＲ、Ｒが水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、メルカプト、アミノ（ただし その窒素原子はＣｌ−０４アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ４アルキル、フェニ ルおよびベンジルから選ばれる１個から３個の置換基を持っていてもよい）、Ｃ １−Ｃ１ｏアルキル、Ｃｌ−Ｃ６アルコキシ、Ｃ２−Ｃ８アルケニル、Ｃ３−Ｃ １ｏシクロアルキル、Ｃ３−Ｃ１ｏシクロアルケニル（ただしこれら最後の４個 の基は部分的もしくは完全にハロゲン化されていてもよい）、フェニル、ナフチ ル、酸素原子と硫黄原子、あるいは窒素原子と酸素原子もしくは硫黄原子から選 ばれる３個までのへテロ原子（ただしヘテロ原子が３個の場合にはすべてが同時 に隣接することはできない）を有する５員もしくは６員の芳香族へテロ環を意味 し、式中のＲ４からＲ７までが水素、フェニル、ナフチルあるいは酸素原子と硫 黄原子あるいは３個の窒素原子と酸素原子もしくは硫黄原子から選ばれる３個ま でのヘテロ原子（ただしヘテロ原子が３個の場合にはすべてが同時に隣接するこ とはできない）を有する５員もしくは６員の芳香族へテロ環（上記芳香族および ヘテロ芳香族基は３個までの以下の置換基、すなわちハロゲン、−ｃｏｙ基ある いは一０００Ｙ基を持っていてもよく、さらにこれら置換基は置換可能の炭素原 子が存在する限り多数のハロゲン原子を持っていてもよい）、Ｃ１−０１ｏアル キル、Ｃ２−Ｃ６アルケニル、Ｃ３−Ｃ１ｏシクロアルキル、Ｃ−０１ｏシクロ アルケニルを意味し、あるいはＲ４とＲ５および／あるいはＲ６とＲ７が、結合 されている窒素原子と共に５員から７員の環を形成することができる、 毒性解除作用を有する３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェンおよび少なくとも１種 類のカルボキシル、ヒドロキシチオカルボニルあるいはスルホン酸基を有する化 合物■の塩基性塩および塩基性窒素原子を有する化合物■の酸性塩の少なくとも １種類と、 （Ａ）以下の一般式■ で表わされ、 Ｒａがｃ　−Ｃ６アルキルを意味し、 Ｒが水素、農業上使用可能のカチオンの当量、Ｃ２−Ｃ８アルキルカルボニル、 Ｃｌ−Ｃ１ｏアルキルスルホニル、ＣＣｔｏアルキルホスホニル、ベンゾイル、 ベンゼンスルホニル、ベンゼンスルホニル又はベンゼンスルホニル（ただし最後 の３個の基は１から５個のハロゲン原子を持っていてもよい）を意味し、Ｒｏが 水素、シア八ホルミル、ＣＣｅアルキル、■ Ｃｌ−０４アルコキシ−ＣＩ−０６アルキル、Ｃｌ−Ｃ４アルキルチオ−Ｃ−Ｃ ６アルキル、フェノキシ−０１−Ｃ６アルキル、フェニルチオ−ＣＩ−０６アル キル、ピリジルオキシ−ＣＣｅアルキル又はピリジルチオ−Ｃ−Ｃ６アルキル（ ただし上記フェニルおよびビリ■ ジル環はそれぞれ１個から３個の以下の置換基、すなわちニトロ、シアノ、ハロ ゲン、Ｃ１−０４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４ アルキル、Ｃｌ−Ｃ４アルコキシ、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ　 −Ｃアルコキシ、Ｃｌ−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ３−Ｃ６アルケニル、Ｃ３−Ｃ６ アルケニルオキシ、Ｃ３−Ｃ６アルキニル、Ｃ３Ｃ６アルキニルオキシ、−ＮＲ ｇＲｈを持っていてもよい）を意味し、このＲｇが水素、Ｃｌ−０４アルキル、 Ｃ３−Ｃ６アルケニル、Ｃ３−Ｃ６アルキニル、ｃｌ−ｃ６アシル、３個までの 以下の置換基、すなわちニトロ、シアノ、ハロゲン、Ｃ−Ｃ４アルキル、部分的 もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−０４アルキル、Ｃｌ−Ｃ４アルコキン、 Ｃｌ−０４アルキルチオを持っていてもよいベンゾイルを意味し、 そのＲｈが水素、Ｃ１−０４アルキル、Ｃ３−Ｃ６アルケニル、Ｃ３−Ｃ６アル キニルを、 Ｃ３−Ｃ７シクロアルキルあるいはＣ３−Ｃ７シクロアルケニル（ただしこれら の基は３個までの以下の置換基、すなわちヒドロキシル、ハロゲン、ＣＩ　Ｃ４ ７／ｌｚキノペ部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ １−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−０４アルキルチオ、ベンジルチオ、Ｃｌ−Ｃ４アル キルスルホニル、Ｃｌ−０４アルキルスルフエニル、Ｃｌ−０４アルキルスルフ イニルを持っていてもよい）を、ｌもしくは２個の、酸素原子または硫黄原子あ るいは酸素原子と硫黄原子をヘテロ原子として有し、かつ３個までの以下の置換 基、すなわちＣ１−０４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ　 −Ｃ４アルキ■ ル、Ｃｌ−Ｃ４アルコキン、Ｃｌ−０４アルキルチオを持っていてもよい５員飽 和へテロ環を、■もしくは２個の、酸素原子または硫黄原子あるいは酸素原子と 硫黄原子をヘテロ原子として有し、かつ３個までの以下の置換基、すなわちヒド ロキシル、ハロゲン、Ｃ−Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化工 されたＣ　−Ｃアルキル、Ｃ−０４アルコキシ、Ｃ１−０４アルキルチオを持っ ていてもよい６員もしくは７員の飽和あるいは単環もしくは双環不飽和へテロ環 を、ｌもしくは２個の窒素原子と酸素原子または硫黄原子をヘテロ原子として３ 個まで有し、かつ３個までの以下の置換基、すなわちシアノ、ハロゲン、Ｃ１− ０４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ １−Ｃ４アルコキシ、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４アルコ キシ、Ｃ１−０４アルキルチオ、Ｃ２−Ｃ６アルケニル、Ｃ２−Ｃ６アルケニル オキシ、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ−Ｃ−Ｃ４アルキ ルを持っていてもよい５員へテロ芳香族環を、 ３個までの以下の置換基、すなわちニトロ、シアノ、ホルミル、ハロゲン、Ｃ− Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−０４アルキル、Ｃ ｌ−０４アルコキシ、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣｌ−０４アルコ キシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、ＣＣ６アルケニルを持っていてもよいフェニル あるいはピリジルを、さらに Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ、Ｃ３Ｃ６アルキニル、ｋｌ　ｋｌ ｃ　−Ｃ６アルキニルオキシ、−ＮＲＲ（ＲＲは後述する意味わ有する）をそれ ぞれ意味し、式中のＲｄが水素、ヒドロキシル、あるいはＲｏがＣ１−Ｃ６アル キルを意味する場合、Ｃ１−Ｃ６アルキルを意味し、 Ｒｅが水素、ハロゲン、シアノ、Ｃ１−０４アルコキシカルボニル、Ｃ−０４ア ルキルケトオキシムを意味し、 Ｗが３個までの置換基、すなわち３個の０ｌ−Ｃ３アルキル、３個のハロゲン原 子および１個のメチレンから選ばれる置換基を持っていてもよいＣｌ−Ｃ６アル キル鎖、Ｃ３−Ｃ６アルケニレン鎖、Ｃ３−Ｃ６アルキニレン鎖を意味し、 Ｃ３−０６アルキレン鎖あるいはＣ４Ｃ６アルケニレン鎖（ただし両者共３個ま での０１−０３アルキル基を持っていてもよく、また各鎖のメチレン基が酸素原 子もしくは硫黄原子、スルホキシドもしくはスルホンあるルケニル、Ｃ−Ｃ６ア ルキニルを意味し、式中のＲｆが水素、ビニルを、 −ＣＨ＝ＣＨ−Ｚ　（Ｚはシアノ、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ４アルキル、部分的もし くは完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４アルキルを意味する）を、 Ｃ３−０６シクロアルキル（３個までの以下の置換基、すなわちヒドロキシル、 ハロゲン、Ｃｌ−Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１− Ｃ４アルキル、Ｃ−０４アルコキシを持っていてもよい）を、■ カルボキシル、Ｃ１−０８アルコキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、 フェニル、チェニル、ピリジル（ただしこれら３個の芳香族基は置換されていな いくでもよく、あるいは３個までの以下の置換基、すなわちニトロ、シアノ、ハ ロゲン、Ｃ−Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されているＣ　− Ｃ４アルキル、ＣＩ　Ｃ４アルコキシ、部分的もしくは完全にハロゲン化されて いるＣｌ−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキ ルを持っていてもよ（、このシクロアルキルは置換されていなくてもよく、ある いはこれ自体がさらに３個までの以下の置換基、すなわちハロゲン、Ｃ，−Ｃ４ アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されているＣ　−Ｃ４アルキル、Ｃ １−Ｃ４アルコキシを持っていてもよい）を、以下の置換基、すなわちＣ−Ｃ４ アルキル、Ｃ３−０６ンクロアルキル（ただし３個までの以下の置換基、すなわ ちヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ１−０４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲ ン化されたＣ　−Ｃ４アルキル、Ｃ，−Ｃ４アルコキシを持っていてもよい）、 フェニル、チェニル、ピリジル（ただしこれら芳香族基は置換されていないくて もよく、あるいは３個までの以下の置換基、すなわちニトロ、シアノ、ハロゲン 、Ｃｌ−Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−０４アル キル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ　−Ｃ ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオを持っていてもよい）を持っていてもよ いエチニル基、フェニル基、ハロゲンフェニル基、ジハロゲンフェニル基、３個 までの窒素原子と酸素原子もしくは硫黄原子をヘテロ原子として３個まで持って いる５員環ヘテロ芳香族基、４個までの窒素原子を持っている６員環ヘテロ芳香 族基（ただしこれら窒素原子すべてが同時に隣接することはできない）（上述の フェニル基およびヘテロアリール基は、３個までの以下の置換基、すなわちニト ロ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−０４アルキルチオ、部分的もしくは完全にハ ロゲン化されたＣ１−Ｃ４アルコキシ、上述Ｚ、−ＮＲｋＲｌを持っていてもよ い）を意味し、 このＲｋが水素、Ｃ１−０４アルキル、Ｃ３−Ｃ６アルケニル、Ｃ３−Ｃ６アル キニルを意味し、Ｒ１が水素、Ｃｌ−０４アルキル、Ｃ３−Ｃ６アルケニル、Ｃ ３−Ｃｓアルキニル、ｃｌ−ｃ６アシル、ベンゾイル（これは３個までの以下の 置換基、ニトロ、シアノ、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全 にハロゲン化されたＣｌ−Ｃ４アルキル、Ｃｌ−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４ア ルキルチオを持っていてもよい）を意味する、シクロヘキセノン誘導体、あるい はＣＢ）以下の一般式■ で表わされ、 Ｒがフェニル、ピリジル、ベンズオキサジル、ベンズチアジル、ベンズピラジニ ル（これら芳香族環は置換されていなくてもよ（、あるいは２個までの以下の置 換基、すなわちニトロ、ｃｌ−０４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化 されたｃｌ−Ｃ４アルキル、および／あるいは部分的もしくは完全にハロゲン化 されたｃｌ−Ｃ４アルコキシを持っていてもよい）を意味し、このＲ１）が水素 あるいはメチルを意味し、Ｒｑが水素、Ｃ−Ｃ４７／ｌ／キル、Ｃ３−ｃ４７Ａ ｔヶニル、Ｃ３−Ｃ４アルキニル、ｃｌ−Ｃ４アルコキシ−０１−Ｃ４アルキル 、Ｃ３−Ｃ４アルキルジエンイミノオキシ、Ｃ２−０３アルキル基、テトラヒド ロフラニルメチル、イソオキザロリジン基、農業上使用可能カチオンの相当物を 意味する、２−（４−へテロアリールオキシ）−フェノキシ酢酸誘導体もしくは ２−（４−了り−ルオキシ）−フェノキシ酢酸誘導体 から成る除草有効物質の少なくとも１種類を含有する除草剤に関する。

本発明はさらに毒性解除剤として３−アミノベンゾ［ｂｌチオフェン■を含有す る除草剤、この除草剤により栽培植物耕作地において好ましくない植物の生長を 選択的に制圧する方法および新規の３−アミノベンゾ［ｂ］チオフヱン誘導体Ｉ ′に関するものである。　化合物のＩのタイプの３−アミノベンゾ［ｂｌチオフ ェン誘導体は、以下の刊行物から公知である。

Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、３７　（２１）　、３２２４−３２２６（１９７２）に おけるＲ、Ｊ、ベックの論稿Ｊ、Ｐｒａｋｔ、Ｃｈｅｍ、３２７　（２）　、３ ２８−３３２　（１９８５）におけるＨ、シエーフア−らの論稿Ｚ、Ｃｈｅｍ、 ２１　（５）　、１８３−１８４　（１９８１）におけるに、ゲヴアルトらの論 稿 西独特許出願公開３７４０９８４号公報／３８２７２５３号公報 ／３４２９８３０号公報 〃　４０３９７３４号公報 ヨーロッパ特許出願公開３２３５９０号公報／ｌ　２０１１６５号公報 Ｉｌ　８７４８７号公報 ／ｌ　３７８５０８号公報 しかしながら、上記刊行物に記載された化合物は、４位（シアノ基）および５位 （シアノ基）において３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェンＩと相違する。さらに これら公知化合物の、刊行物記載の除草有効物質との組合わせにおける毒性解除 作用は察知され得ない。

上記ヨーロッパ特許出願公開３７８５０８号による３−アミノチオフェン （Ｒ’　はアルキルもしくはシクロアルキル　Ｒ＃　、Ｒｍｌは水素、アルキル 、トリフルオロメチル、シクロプロピルを意味する）は、除草剤に配合し、毒性 解除作用化合物として使用それ得るが、当該文献にはチオフェン環の４位、５位 における縮合置換が可能か否かにつき全（言及、示唆する所がない。

次に西独の上記４０３９７３４号公報は、２−アミノチオフェンが除草剤に対し 同様に毒性解除作用を有する旨記載されている。

ヨーロッパの上記３７８５０８号公報および西独の上記４０３９７３４号公報か ら公知の毒性解除作用を有する除草剤混合物は、収量減退作用を示す。

そこで本発明の課題は、有用植物が認め得るほどに被害を受けることなく、また 収量も本質的に減退することなく、好ましくない植物の良好な制圧作用を保証す る、毒性解除作用性除草剤混合物を提供することである。

さらに毒性解除性化合物Ｉと除草剤■もしくは■で栽培植物を処理するときは、 化合物Ｉと■あるいは化合物■と■を合併して施こし、あるいは別個に施こして も、また別個に施こす場合、その順序をどちらにしても差支えないことも見出さ ね、た。

本発明による除草剤組成物は、毒性解除性化合物Ｉの少なくとも１種類と、除草 剤■もしくは■の少なくとも１種類を含有する。しかしながら、さらに他の毒性 解除剤あるいは除草剤を添加しても、これはなお本発明除草剤に含まれる。

酸性末端基あるいは塩基性窒素原子を有する化合物は■は、農業上使用可能の塩 として存在し得る。農業上使用可能の塩としては、一般的にこのような酸もしく は塩基との塩が考えられ、これは化合物■の毒性解除効果に全（影響を与えない 。

酸付加塩としては、例えばハイドロクロライド、ハイドロブロマイド、硫酸塩、 硝酸塩、燐酸塩、オキサレート、ドデンルベンゾスルホネートなどが適当である 。また塩基性としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカリ金属 塩、カルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩のようなアルカリ土類金属塩、 マンガン塩、銅塩、亜鉛塩、鉄塩のような遷移金属塩、３個までのＣ１−０４ア ルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−０４アルキル置換基および／あるいはフェニル、ベ ンジル置換基を持っているのが好ましいアンモニウム塩、ことにジイソプロピル 、テトラメチル、テトラブチル、トリメチルベンジルアンモニウム塩、ホスホニ ウム塩、スルホニウム塩、ことにトリー（Ｃ１−Ｃ４）　アルキルスルホニウム 塩、スルホキソニウム塩、ことにトリー（ｃｌ−０４）アルキルスルホキソニウ ム塩が好ましい。

３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェン■の置換基は以下に示されるものである。

Ｒ１は−ｃｏｘ基あるいは−ｃｏｏｘ基を意味し、このＸは水素、弗素、塩素、 臭素、沃素のようなハロゲン、ことに弗素、塩素を意味し、 アミノ基（ただし３個までの以下の置換基、すなわちメチル、エチル、ｎ−プロ ピル、ｌ−メチルエチル、ｎ−ブチル、■−メチルプロピル、２−メチルプロピ ル、１、ｌ−ジメチルエチル、ことにメチル、エチルのようなＣｌ−０４アルキ ル置換基、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル−１，２−ヒドロキシエチ ル−１，１−ヒドロキシプロピル−１，２−ヒドロキシプロピル−１，３−ヒド ロキシプロピル−１，１−ヒドロキシエチル−２，２−ヒドロキシエチル−２、 ■−ヒドロキシブチルー１．２−ヒドロキシブチル−１，３−ヒドロキシブチル −１，４−ヒドロキシブチル−１，１−ヒドロキシブチル−２，２−ヒドロキシ ブチル−２、ｌ−ヒドロキシブチル−３，２−ヒドロキシブチル−３、■−ヒド ロキシー２−メチルプロピル−３，２−ヒドロキシ−２＝メチルプロピル−３， ３−ヒドロキシ−２−メチルプロピル−３，２−ヒドロキシメチルプロピル−２ 、ことに１−ヒドロキシエチル−１のようなヒドロキシ−ＣＩ−０４アルキル置 換基、フェニル置換基、ベンジル置換基を持っていてもよい）を意味する。

ＸはさらにＣ１−Ｃ１ｏアルキル、ことにＣ，−Ｃ６アルキル、例えばメチル、 エチル、ｎ−プロピル、ｌ−メチルエチル、ｎ−ブチル、ｌ−メチルプロピル、 ２−メチルプロピル、１．１−ジメチルエチル、ｎ−ペンチル、２−メチルブチ ル、３−メチルブチル、２．２−ジメチルプロピル、ｎ−ヘキシル、１．１−ジ メチルプロピル、１−２−ジメチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチル ペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、ｌ、ｌ−ジメチルブチル 、１．２−ジメチルブチル、３．３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、２− エチルブチル、１．１．２−１−ジメチルプロピル、１゜２．２−１−ジメチル プロピル、ｌ−エチル−１−メチルプロピル、ｌ−エチル−２−メチルプロピル 、ことにメチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチルを意味する。

これらアルキルは置換されていてなくもよく、あるいは１個もしくは２個以下の 置換基、すなわち、ハロゲン、ことに弗素、塩素、カルボキシル、カルボニルを 持っていてもよい。上記アルキルは、置換可能の水素原子が在る限り、さらに多 数のハロゲン原子、ことに弗素、塩素を持っていてもよい。

ＸはさらにＣ２−Ｃ８アルケニル、ことにＣ２−Ｃ６アルケニル、例えばエチニ ル、ｌ−プロペニル、２−プロペニル、■−メチルエチニル、１−ブテニル、２ −ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−１−プロペニル、２−メチル−１−プ ロペニル、■−メチルー２−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、１−ペ ンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−メチル−１ −ブテニル、２−メチル−１−ブテニル、３−メチル−１−ブテニル、１−メチ ル−２−ブテニル、２−メチル−２−ブテニル、２−メチル−２−ブテニル、３ −メチル−２−ブテニル、■−メチルー３ブテニル、２−メチル−３ブテニル、 ３−メチル−３ブテニル、１゜１−ジメチル−２−プロペニル、■、２−ジメチ ル＝ｌ−プロペニル、１．２−ジメチル−２−プロペニル、ｌ−エチル−１−プ ロペニル、ｌ−エチル−２−プロペニル、１−へキセニル、２−へキセニル、３ −へキセニル、４−へキセニル、５−へキセニル、ｌ−メチル−１−ペンテニル 、２−メチル−１−ペンテニル、３−メチル−１−ペンテニル、４−メチル−１ −ペンテニル、■−メチルー２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３ −メチル−２−ペンテニル、４−メチル−２−ペンテニル、ｌ−メチル−３−ペ ンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、３−メチル−３−ペンテニル、４−メ チル−３−ペンテニル、ｌ−メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテ ニル、３−メチル−４−ペンテニル、４−メチル−４−ペンテニル、１．ｌ−ジ メチル−２＝ブテニル、１．ｌ−ジメチル−３−ブテニル、■、２−ジメチルー １−ブテニル、１．２−ジメチル−２−ブテニル、１．２−ジメチル−３−ブテ ニル、１．３−ジメチル−１−ブテニル、ｌ、３−ジメチル−２−ブテニル、１ ．３−ジメチル−３−ブテニル、２，２−ジメチル−３−ブテニル、２，３−ジ メチル−１−ブテニル、２゜３−ジメチル−２−ブテニル、２．３−ジメチル− ３−ブテニル、３．３−ジメチル−１−ブテニル、３．３−ジメチル−２−ブテ ニル、■−エチルー１−ブテニル、ｌ−エチル−２−ブテニル、ｌ−エチル−３ −ブテニル、２−エチル−１−ブテニル、２−エチル−２−ブテニル、２−エチ ル−３−ブテニル、トリメチル−２−プロペニル、ｌ−エチル−１−メチル−２ −プロペニル、■−エチルー２−メチルー１−プロペニル、ｌ−エチル−２−メ チル−２−プロペニル、ことにエチニル、プロペニル−ｉを意味する。この場合 、アルケニルは置換されていてもよく、また１個もしくは２個の置換基、例えば 上述したようなハロゲン、ことに弗素、塩素、カルボキシル、カルボニルを持っ ていてもよい。アルケニルは、置換可能水素原子が存在する以上、さらに多数の ハロゲン原子、ことに弗素、塩素を持っていてもよい。

ＸはさらにＣ３−Ｃ１ｏシクロアルキルあるいはＣ３−Ｃ１ｏシクロアルケニル 、ことに０３−０８シクロアルキルあるいはＣ−０８シクロアルケニル、例えば シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロへブ チル、シクロオクチル、シクロペンテニル−１、シクロペンテニル−２、シクロ ペンテニル−３、シクロへキセニル−１、シクロへキセニル−２、シクロへキセ ニル−３、シクロへキセニル−４、シクロオクテニル−１１シクロオクテニル− ２、シクロオクテニル−３、ことにシクロペンチル、シクロヘキシルを意味する 。これらは置換されていな（でもよいが、また１個もしくは２個の置換基、すな わち上述したハロゲン、ことに弗素、塩素、カルボキシル、カルボニルを持って いてもよい。なお、置換可能の水素原子が存在する以上、さらに多数のハロゲン 原子、ことに弗素、塩素を持っていてもよい。

Ｘはさらに酸素原子および硫黄原子、あるいは３個の窒素原子と酸素原子もしく は硫黄原子から選択されるヘテロ原子３個までを有する（ただし、３個のへテロ 原子すべてが同時に隣接することはできない）５員あるいは６員の芳香族へテロ 環、例えば２−フリル、３−フリル、２−チェニル、３−チェニル、２−ピロリ ル、３−ピロリル、３−イソオキサシリル、４−イソオキサシリル、５−イソオ キサシリル、３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル、 ３−ピラゾリル、４−ピラゾリル、５−ピラゾリル、２−オキサシリル、４−オ キサシリル、５−オキサシリル、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾ リル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、ｌ、２．４−オキサジアゾリル− ３，１，２，４−オキサジアゾリル−５，１，２，４−トリアゾリル−３、］、 ］３．４−オキサジアゾリルー２ｌ。

３．４−チアゾリル−２、ｌ、３．４−１−リアゾリル−２，２−ピリソニル、 ３−ピリジニル、４−ピリジニル、３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、２− ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル、２−ピラジニル、ｌ、３ ．５−１リアジニルー２．１，２．４−トリアジニル−３、ことにピリジニル− ２を意味する。

Ｘはさらにフェニルあるいはナフチルを意味するが、これらは置換されていなく てもよく、あるいはまた３個までの以下の置換基、すなわち上述したような／％ ロゲン、ことに弗素、塩素、−ＣＯＹ基、−ｃｏｏｙ基を持っていてもよ（、な お置換可能の水素基が存在する以上、さらに多数のハロゲン、ことに弗素、塩素 で置換されていてもよい。このＹは上述したようなＣｌ−０６アルキル、ことに メチル、エチル、上述したようなＣ３−０６シクロアルキル、ことにシクロペン チル、シクロヘキシル、あるいはフェニルを意味する。

ことに極めて好ましいＲ’　（−ＣＯＸ基あるいは−ｃｏｏｘ基は水素、アシル 、メトキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、２ −へブチルオキシカルボニル、■−プロペンー３−オキシカルボニル、ベンジル オキシカルボニル、カルボン酸アミド、カルボキン酢酸エチルエステル、オキサ リル酸エチルエステル、ベンゾイルを意味する。

式■中のＲ、Ｒ３は相互に関係なく、 水素、シアノ、ニトロ、メルカプトを意味し、また弗素、塩素、臭素、沃素のよ うなハロゲン、ことにた弗素、塩素を意味し、 さらにアミノを意味する。これは置換されていてもよく、また３個までの上述し たようなＣ１−Ｃ４アルキル置換基、ことにメチル、上述したようなヒドロキシ −Ｃ１−０４アルキル置換基、フェニル置換基、ベンジル置換基を持っていても よい。

Ｒ２、Ｒ３はまたＣＩ　”１０アルキル、ことにｃ、−０８アルキル、ことにメ チル、エチルを意味する。これらアルキルは置換されていてもよ（、また１個も しくは２個の置換基、例えば上述したようなハロゲン、ことに弗素、塩素、カル ボキシル、カルボニルを持っていてもよく、なお置換可能の水素基が存在する以 上さらに多数のハロゲン原子、ことに弗素、塩素を持っていてもよい。

Ｒ２、Ｒ３はさらにＣ−Ｃアルコキシ、例えばメトキシ、エトキン、ｎ−プロポ キシ、■−メチルエトキシ、ｎ−ブトキシ、■−メチルプロポキシ、２−メチル プロポキシ、ｌ、ｌ−ジメチルエトキシ、ｎ−ペントキン、ｌ−メチルブトキシ 、２−メチルブトキン、３−メチルブトキシ、１．１−ジメチルプロポキシ、ｌ 、２−−ジメチルプロポキシ、２．２−ジメチルプロポキシ、ｌ−エチルプロポ キシ、ｎ−ヘキソキシ、■−メチルペントキシ、２−メチルペントキシ、３−メ チルベントキン、４−メチルペントキシ、１．ｌ−ジメチルブトキシ、１．２− ジメチルブトキシ、１．３−ジメチルブトキシ、２．２−ジメチルブトキシ、２ ．３−ジメチルブトキシ、３．３−ジメチルブトキシ、１−エチルブトキシ、２ −エチルブトキシ、１，１．２−トリメチルプロポキシ、１．２．２−トリメチ ルプロポキシ、ｌ−二チルーメチルプロポキシ、■−エチルー２−メチルプロポ キシ、ことにメトキシ、ニドキシを意味する。

Ｒ，Ｒ３はさらにＣ２−Ｃ８アルケニル、好ましくはＣ−Ｃ６アルケニル、こと にエチニルを意味し、これらアルケニルは置換されていてもよく、また１個もし くは２個の置換基、例えば上述のハロゲン原子、ことに弗素、塩素、カルボキシ ル、カルボニルを持っていてもよく、置換可能の水素基が存在する場合には、さ らに多数のハロゲン原子、ことに弗素、塩素を持っていてもよい。

Ｒ２、Ｒ３はさらにＣ３−Ｃ１ｏシクロアルキルあるいはＣ−Ｃ，ｏシクロアル ケニル、ことに０３−Ｃ８シク０アルキルあるいはＣ５−０８シクロアルケニル 、例えばシクロペンチル、ソクロヘキシルを意味し、これは置換されていてもよ く、あるいは１個もしくは２個の置換基、すなわち上述したハロゲン、ことに弗 素、塩素、カルボキシル、カルボニルを持っていてもよく、カルボ環式基は置換 可能の水素原子が存在する場合には、さらに多数のハロゲン原子、ことに弗素、 塩素を持っていてもよい。

Ｒ、Ｒ３はさらにフェニル、ナフチルを意味し、これらは置換されていてもよく 、あるいは３個までの置換基、すなわち上述したようなハロゲン原子、ことに弗 素、塩素、−ＣＯＹ基、−ｃｏｏｙ基を持っていてもよく、また置換可能の水素 原子が存在する限り、さらに多数のハロゲン原子を持っていてもよい。

Ｒ、Ｒ３はさらに酸素原子および硫黄原子を、あるいは１から３個の窒素原子と 酸素原子または硫黄原子から選ばれるヘテロ原子（ただし３個のへテロ原子のす べてが同時に隣接することはできない）を有する５員もしくは６員芳香向族へテ ロ環、例えば２−フリル、３−フリル、２−チェニル、３−チェニル、２−ピロ リル、３−ピロリル、３−イソオキサシリル、４−イソオキサシリル、５−イソ オキサシリル、３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル 、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル、５−ピラゾリル、２−オキサシリル、４− オキサシリル、５−オキサシリル、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チア ゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、ｌ、２．４−オキサノアゾリル −３、ｌ、２．４−オキサジアゾリル−５、■、２゜４−チアゾリル−３、ｌ、 ２．４−チアゾリル−５，１゜２．４−１−リアゾリル−３、ｌ、３．４−オキ サジアゾリル−２、ｌ、３．４−チアジアゾリル−２、ｌ、３゜４−トリアゾリ ル−２，２−ピリンニル、３−ピリジニル、４−ピリジニル、３−ピリダジニル 、４−ピリダジニル、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル 、２−ピラジニル、ｌ、３．５−）リアジニルー２、ｌ、２．４−トリアジニル −３、ことにピリジニル−２、ピリジニル−３、ピリジニル−４を意味する。

Ｒ２、Ｒ３はことに水素を意味するのが好ましＬ）。

Ｒ４、Ｒは相互に無関係に、 水素を意味し、あるいは Ｃ１−Ｃ１ｏアルキル、ことにＣｌ−０６アルキル、ことにメチル、エチルを意 味し、これらは置換されていなくてもよく、また１個もしくは２個の置換基、す なわち上述したようなハロゲン原子、ことに弗素、塩素、カルボキシル、カルボ ニルを持っていてもよく、また置換可能の水素原子が存在する場合にはさらに多 数のハロゲン原子、ことに弗素、塩素を持っていてもよい。

Ｒ４からＲ７はまたＣ　２　Ｃｓアルケニル、ことにＣ２Ｃ６アルケニル、好ま しくはエチニルを意味し、これらは置換されていなくてもよ（、あるいは１個も しくは２個のハロゲン原子、ことに弗素、塩素、カルボキシル、カルボニルを、 また置換可能の水素原子が存在する場合、さらに多数のハロゲン原子、ことに弗 素、塩素を持っていてもよい。

Ｒ４からＲ７はまたフェニル、ナフチルを意味し、これらは置換置換されていな くてもよく、あるいは３個までの置換基、例えば上述したようなハロゲン、こと に弗素、塩素、−ｃｏｙ基、−ｃｏｏｙ基を持っていてもよく、また置換可能の 水素原子が存在する場合にさらに多数のハロゲン原子、ことに弗素、塩素を持っ ていてもよい。　ＲからＲ７はさらに酸素原子および硫黄原子を、あるいは３個 の窒素原子と酸素原子もしくは硫黄原子から選ばれる１から３個のへテロ原子（ ただしヘテロ原子３個がすべて隣接することはできない）を有する５員、６員芳 香向族へテロ環、例えば２−フリル、３−フリル、２−チェニル、３−チェニル 、２−ピロリル、３−ピロリル、３−イソオキサシリル、４−イソオキサシリル 、５−イソオキサシリル、３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソ チアゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル、５−ピラゾリル、２−オキサシ リル、４−オキサシリル、５−オキサシリル、２−チアゾリル、４−チアゾリル 、５−チアゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、１．２．４−オキサ ジアゾリル〜３．１．２．４−オキサジアゾリル−５，１，２，４−チアゾリル −３，１，２，４−チアゾリル−５、］、、］２．４＝トリアゾリルー３１，３ ．４−オキサジアゾリル−２、ｌ、３．４−チアジアゾリル−２，１，３，４− トリアゾリル−２，２−ピリジニル、３−ピリジニル、４−ピリジニル、３−ピ リダジニル、４−ピリダジニル、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピ リミジニル、２−ピラジニル、１，３．５−トリアジニル−２，１，２，４−ト リアジニル−３、ことにピリジニル−２、ピリジニル−３、ピリジニル−４を意 味する。これらへテロ環は置換されていてもよく、あるいは１個もしくは２個の 置換基、すなわち上述したようなハロゲン原子、ことに弗素、臭素、−ＣＯＹ基 、−ＣＯＯＹ基を持っていてもよい。また置換可能の水素原子が存在する場合に はさらに多数のハロゲン原子、ことに弗素、塩素を持っていてもよい。

またＲ　とＲ、はＲ６とＲ７は、それぞれこれと結合している窒素原子と共に、 ５員、６員、７員のへテロ環、例えばピロリジニル、ピペリジニル、モルホリニ ル、アゼピニルを形成する。

極めて好ましいＲ４からＲ７は水素である。

以下の一般式Ｉ′ で表わされる３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェンは新規である。

式Ｉおよび１′は種々の方法で、ことに以下の方法で得られる。

ＩＶ　Ｖ ｌ　（Ｒ４−Ｒ７＝１４） ニトロベンズチアゾール■へのシアノ基の導入は、塩基の存在下に、文献記載（ Ｃｈｅｍ、Ｐｈａｒｍ、Ｂｕｌ　ｌ。

３０、．８５１　（１９８２）参照）の態様で、シアン酢酸エステルにより、ニ トロ基の同時還元により行われる。

この塩基としては、例えばナトリウム水酸化物、カリウム水酸化物のようなアル カリ金属水酸化物、ナトリウムエタルレート、カリウム−ｔ−ブチレートのよう なアルカリ土類金属アルコレートが挙げられるが、カリウム−１−ブチレートが ことに好ましい。

処理は不活性溶媒、ことにジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンのよう な極性、中性溶媒中で行うのが好ましい。溶媒の使用量は臨界的ではなく、原則 的に反応混合物が容易に撹拌され得るように選択される。一般的に、化合物■の 量に対して３から６倍モルの量範囲で使用するのが好ましい。またシアン酢酸エ ステルは、ニトロベンズチアゾール■の量に対して過剰量、例えば２から６倍モ ル量、ことに３倍モル量で使用されるのが好ましい。塩基の量も臨界的ではない が、高転化率をもたらすために、シアン酢酸エステルの量に対し半分から２倍量 の塩基量が好ましい。塩基とシアン酢酸エステルは、はぼ化合量論的な割合で使 用されるのが好ましい。

通常、反応温度はＯから１００℃、好ましくは２０から８０°Ｃ１ことに４０か ら６０°Ｃで充分である。また反応は一般的に０５から５バール、ことに０．８ から３バールの圧力範囲で行われる。

／アノベンズチアゾールＶは、スルホランメトキシプロパツールのような極性溶 媒中において、塩基もしくは臭素酢酸誘導体と反応させて、化合物Ｉに転化され る。

この処理は、強塩基、例えばナトリウム、カリウムの水酸化物のようなアルカリ 金属水酸化物の存在下に行うのが好ましい。すべての反応干与体は、化学量論的 量で使用され得るが、互いに約５モル％までの過剰量で使用されるのが好ましい 。反応温度は通常、２０から２００°Ｃ１好ましくは８０から２００°Ｃ１こと に１６０℃から溶媒沸点の範囲であり、反応圧力については、ニトロベンズチア ゾール■からシアノベンズチアゾールＶへの転化に関し上述した範囲が好ましい 。

反応混合物は、一般的に水との混合、相分離および場合により塑生成物のクロマ トグラフィー精製処理に付される。中間生成物および最終生成物は、場合により 無色ないし淡褐色の粘稠油状体として得られるが、減圧および比較的高温の揮発 性部分を蒸散除去して精製される。

中間および最終生成物が固体として得られる場合、精製は再結晶ないし温浸によ って行われ得る。

シアノベンズチアゾールＶは新規化合物である。式中の置換基Ｒ４からＲ７の１ 個もしくは複数個が水素を意味しない場合、それ自体公知の方法で、例えばアミ ノ基とＨａｌ　−Ｒ、Ｈａｌ−Ｒ、Ｈａｌ−Ｒ６あるいはＨａｌ−Ｒ７（Ｈａｌ は塩素、臭素のような）へロゲンを示す）との反応により得られる。個の場合、 処理は原則的にナトリウム、カリウムの水酸化物のようなアルカリ金属水酸化物 、カリウム水酸化物のようなアルカリ土類金属水酸化物、ナトリウム、カリウム のメタル−ト、カリウム−ｔ−ブチレートのようなアルカリ土類金属アルコレー ト、カルシウムアルコレートのようなアルカリ土類金属アルコレート、ナトリウ ム、カリウムの水素化物のようなアルカリ土類金属水素化物、カルシウム水素化 物のようなアルカリ土類金属水素化物、ジメチルアミン、トリエチルアミン、ジ イソプロピルアミン、ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、ピペリジン のような脂肪族アミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジンのようなヘテロ 芳香族アミンの存在下に行われる。

不活性溶媒ないし希釈剤としては、例えばｎ−ヘキサン、石油エーテルのような 脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キンロールのような芳香族炭化水素、ジ クロロメタン、クロロホルム、テトラクロロメタン、１．２−ジクロロエタン、 クロロベンゼンのような塩素化炭化水素、ピリジン、キノリンのような窒素含有 へテロ芳香族環式化合物、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような環式エーテ ル、アセトニトリル、プロピオニトリルのようなニトリル、さらにはジメチルホ ルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドンあるいはこれらの混 合溶媒が適当である。例えばトリクロロプロピルアンモニウムクロライド、エチ ルトリメチルアンモニウムクロライドのような相転移触媒の存在下に、反応を水 と炭化水素、例えば四塩化炭素から成る２相系で行うこともできる。反応干与体 は、化学量論的量で使用するのが好ましいが、一方を他方に対し例えば１０モル ％程度過剰量で使用することができる。反応温度は一般的に０から２０００Ｃ１ 好ましくは２０から１４０°Ｃ１ことに溶媒の沸点とする。

３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェンＩを製造するためのその他の方法は、以下の 文献を参照され度い。

Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、３７　（２１）　、３２２４−３２２６　（１９７２） におけるＲ、Ｊ、ベックの論稿Ｊ、Ｐｒａｋｔ、Ｃｈｅｍ１３２７　（２）、３ ２８−３３２　（１９８５）におけるＨ、シエーフア−らの論稿Ｚ、Ｃｈｅｍ、 ２１　（５）　、１８３−１８４　（１９８１）におけるに、ゲヴアルトらの論 稿 西独特許出願公開３７４０９８４号公報／／　３８２７２５３号公報 〃　３４２９８３０号公報 ／／　４０３９７３４号公報 ヨーロッパ特許出願公開３２３５９０号公報／／　２０Ｉ１６５号公報 ／／　１８７４８７号公報 ／／　３７８５０８号公報 ３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェン■およびＩ′は、栽培植物、例えばきび、稲 、とうもろこし、麦、（小麦、ライ麦、大麦、からす麦）、綿花、てんさい、さ とうきび、大豆などの雑草に対する除草効果に関し、栽培植物の認容性をもたら すための毒性解除剤として適する。種々のタイプの除草有効物質、例えばトリア ジン、フェニル尿素誘導体、カーバメート、チオールヵーバメートハロゲンアセ トアニリト、安息香酸誘導体、ことにハロゲンフエノキシ酢酸エステル、置換フ ェノキシフェノキシ酢酸エステル、フェノキシフェノキシプロピオン酢酸エステ ル、特にシクロヘキセノン誘導体に対して毒性解除作用を示す。

除草有効物質、シクロヘキセノン誘導体■は、例えばヨーロッパ特許出願公開２ ２８５９８号、２３０２３５号、２３８０２１号、３６８２２１号各公報、米国 特許４４３２７８６号明細書、西独特許出願公開２４３９１０４号、３８３８３ ０９号各公報から公知である。これは稲科に属しない芝および双子葉類栽培植物 に対する雑草を制圧するのにことに有効である。このタイプＨの化合物の置換基 および使用量に応じて、このシクロヘキセノン、稲科の麦、稲の雑草に対しても 選択的に有効である。

さらに他のシクロヘキセノン誘導体■は、それ自体文献公知の方法（例えばヨー 口・ンパ特許出願公開１６９５２１号公報）により、例えばヨーロッパ特許出願 公開８０３１０号、１２５０９４号、１４２７４１号、１３７１７４号、から公 知のトリケトン■を、ヒドロキシルアミン■（例えばホウベン／ワイルのメトー デン、デル、オルガニ・ソノエン、ヘミ−１０／１巻、１１８１頁以降より公知 ）と反応させることにより得られる。

この反応は、溶媒中、ことに塩基の存在下、アンモニウム塩としてヒドロキシル アミンを使用して不均一相で行われる。塩基としては、例えばアルカリ金属、ア ルカリ土類金属のカルボネート、水素カルボネート、アセテート、アルコレート 、酸化物、例えばナトリウム水酸化物、カリウム水酸化物、マグネシウム酸化物 、カルシウム酸化物、その他ピリジンのような有機塩基、トリエチルアミンのよ うな３級アミンが適当である。トリケトンおよびヒドロキシルアミンは、はぼ化 学量論的量で使用される。塩基の量は臨界的ではないが、一般に化合物■の量に 対して約０．５から２モル当量で使用される。

反応温度は一般に０から８０°Ｃである。溶媒としては、例えばジメチルスルホ キサイド、例えばメタノール、エタノール、イソプロパツールのようなアルコー ル、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素、酢酸エチルエステルのような エステル、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテ ルが適当である。

メタノール中において、塩基としてナトリウム水素カーボネートと反応させるの が好ましい。

反応は数時間で終了するが、生成物■は、例えば混合物を濃縮し、残渣をメチレ ンクロライド／水に分配し、溶媒を減圧下に蒸留除去して分離され得る。

しかしながら、この反応は遊離ヒドロキシルアミン塩基を例えば水溶液の形態で 使用し、ヒドロキシルアミン■のために使用される溶媒に応じて単−相あるいは ２相の反応混合物を得ることもできる。この変形法用の溶媒としては、メタノー ル、エタノール、イソプロパツール、シクロヘキサノールのようなアルコール、 ヘキサン、シクロヘキサン、メチレンクロライド、トルエン、ジクロロエタンの ような場合により塩素化された芳香族炭化水素、酢酸エチルエステルのようなエ ステル、アセトニトリルのようなニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフランの ような環式エーテルが使用される。圧力に関する反応条件について特別な制約は な（、大気圧下において処理され得る。

アルカリ金属塩化合物■は、３−ヒドロキシル化合物を、ナトリウないしカリウ ムの水酸化物もしくはアルコレートにより、水溶液もしくはメタノール、エタノ ール、アセトン、トルエンなどの有機溶媒溶液中で処理することにより得られる 。

マンガン、銅、亜鉛、鉄、カルシウム、マグネシウム、バリウムのようなその他 の金属の塩は、慣用の態様でナトリウム塩から、また同様にアンモニウム塩、ホ スホニウム塩はアンモニア、ホスホニウム、スルホニウム、スルホキソニウムの 酸化物で製造され得る。

上記化合物■は、例えば以下の式■ の対応するシクロヘキサン−１，３−ジオンから、それ自体公知（Ｔｅｔｒａｈ ｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、２４９１、（１９７５）参照）の態様で製造され得る。

あるいはまた、この化合物■は塩基の存在下に化合物■を酸クロライドと反応さ せて沈澱するエノールエステルを中間工程で製造し、次いで特定のイミダゾール ないしピリジン誘導体で転位させることにより製造することも可能である（日本 国特開昭５４−６３０５２号公報）。

また上記ヒドロキシルアミン■は、公知の前駆物質から出発して一連の公知方法 から得られる。

式中のしはヒドロキシル基もしくは出発基、例えば塩素、臭素、沃素のようなハ ロゲンまたはＣＨ３５Ｏ２−０−を意味する。

ヒドロキシルアミン■の合成に必要なアルキル化剤は、文献公知であるか、ある いは公知方法で製造され得る。

上記式中のＷが場合によりヘテロ原子で中断されていてもよい脂肪族もしくはオ レフィン性連鎖を意味する場合の誘導体の製造は、以下の文献に示されている。

西独特許出願公開３４３７９１９号、２６５４６４６号、２７１４５６１号、９ ４８８７２号各公報、ヨーロッパ特許出願公開４８９１１号、１４３９５２号各 公報、米国特許４６８６７３５号各明細書、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ 、２８．２６３９　（１９７９）　、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、５２．３５８７　 （１９８７）　、Ｊ、Ｍｅｄ、Ｃｈｅｍ、２６．１５７０　（１９８３）　、５ ｙｎｔｈｅｓｉｓ、６７５　（１９８３）、Ｊ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、４８．４９ ７０　（１９８３）、Ｏｒｇ、５ｙｎｔｈ、Ｃｏ　１１．Ｖ巻２４９゜式中のＷ が脂肪族ないしオレフィン性連鎖、Ｒｆがへテロ環を意味する場合の化合物Ｈの 製造については以下の文献に示されている。日本国特公昭５５−５１００４号、 公明５５−４７６０１米国公報、西独特許出願公開２８２１４０９号公報、Ｊ、 Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌ　Ｃｈｅｍ。

１４．５２５　（１８７６）、ホウベン／ワイルのメトーデン、デル、オルカニ ッンエ、ヘミ−４／３巻第４版（１９７１）４２４頁以降、Ｃｈｅｍ、Ｂｅ　ｒ 、ｌ　１４．３６６７頁また適当なカルビノールＩＸ　（Ｌ＝ＯＨ）から出発す る製造方法は、例えば以下の文献から公知である。すなわちＴｅｔｒａｈｅｄｒ ｏｎ　３５．３２９　（１９７９）、Ｃｈｅｍ、Ｌｅｔ　ｔ、４２３　（１９７ ７）　、ホウベン／ワイルの同上文献１３／９８巻第４版（１９８４）９６４頁 以降、同５／３巻第４版（１９６２）８６２頁および８９９頁以降、同５／４巻 第４版（１９６０）３６１頁および８９９頁以降。

式中のＷが置換もしくは非置換のＣ３−Ｃ６アルキル基を意味する場合のアルキ ル化剤の製造は、古典的な方法（Ｊ、　Ｍｅｄ、　Ｃｈｅｍ、　２９．１３８９ 　（１９８６）、同２４．６７８　（１９８１）、Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｅｃｏｌ。

１Ｏ１１２０１（１９８２）、ヨーロッパ特許出願公開１３１３０２号）により 、あるいはｌ−アルキニル誘導をアリールもしくはヘテロアリールハロゲン化物 により、パラジウム触媒の存在下にカップリングすることにより製造される（Ｔ ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、５０．４４６７　（１９７５）参照）。

化合物■は環式ヒドロキシルイミドＸによりカップリングされ、保護された生成 ヒドロキシルアミン誘導体Ｍは、ことに２−アミノエタノールで分解され、遊離 ヒドロキシルアミン■になされる。

ＨＯ−Ｗ−Ｒｆを使用する場合にはミツノブ変形法（３ｙｎｔｈｅｓｉｓ。

１　（１９８１）　、　Ｊ、Ｍｅｄ、Ｃｈｅｍ、３３　、１８７（１９９０）に よるのが好ましい。

環式ヒドロキシルアミンＸにおけるＤが、例えばＣ２−Ｃアルキレン、Ｃ２アル ケニレン、３個までの二重結合を有し、場合により窒素原子を有する５員または ６員環、例えばフェニレン、ピリジニレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレ ン、シクロヘキセニレンを意味する場合、例えば以下の構造のものが考えられる 。

前述反応式における化合物■とヒドロキシイミドＸとの反応は、塩基の存在下に 行われるのが好ましい。イミド構造を損ねることなくヒドロキシイミドＸを脱プ ロトンする形態のものであれば、原則的にすべての塩基が適当である。ことにい わゆる核性塩基が好ましい。例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属の炭酸塩、 アルカリ金属、アルカリ土類金属の水素炭酸塩のような鉱物性塩基、脂肪族、脂 環式、芳香族の３級アミンのような有機塩基である。これらの混合物も使用され 得る。

具体的に例示すれば、以下の塩基が好ましい。すなわちナトリウム、カリウム、 マグネシウム、カルシウム、バリウムの炭酸塩、これらの金属の水素炭酸塩、ト リメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、エチルジイソプロピル アミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、４−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノピリジン、ジ アザビジシクロオクタン、ジアザビジシクロウンデカン、Ｎ−メチルピロリドン 、ｌ、４−ジメチルピペラジン、ピリジン、キノリン、ビピリジン、フェナント ロリンである。低コストでしかも好ましい塩基は、ナトリウム、カリウムの炭酸 塩である。

塩基は一般にヒドロキシイミドに対して当量から５当量の過剰量で使用される。

さらに多量で使用され得るがそのための利点は認められない。さらに少量で・も 使用され得るが、ヒドロキシイミドＸに対してｌから３当量、ことに１から２当 量の塩基を使用するのが有利である。

求核性塩基、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属の水酸化物、ことにナトリ ウム、カリウムの水酸化物を使用することも可能であるが、この場合には、イミ ド基のカルボニル作用に対するヒドロキシルイオンの核的攻撃を回避するために 、塩基はヒドロキシイミドＸに対し当量で使用するのが好ましい。

出発化合物■は、反応条件下において不活性の溶媒中において、ヒドロキシイミ ドと反応させるのが好ましい。

この溶媒としては、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルス ルホキシド、スルホラン、環式尿素のような極性中性溶媒が有利に使用される。

溶媒使用量は臨界的ではない。

出発化合物■とヒドロキシイミドＸの反応は、また相転移触媒を使用して行われ 得る。この場合は、水と共に２相を形成する溶媒、例えば塩素化炭化水素を使用 するのが好ましい。相転移触媒としては、このような目的に慣用されている４級 のアンモニウム塩とホスホニウム塩、ポリエチレングリコール、ポリエチレング リコールエーテル、クラウンエーテル（１９８０年ワインノｈウスのフェルラー ク、ヘミー社刊フェーズ、トランスファー、キヤタリンスの３７から４５頁およ び８６から９３頁のデームロウらの論稿）が適当である。

出発化合物■とヒドロキシイミドＸの反応は、一般的に０から１４０°Ｃ１好ま しくは２０から１００°Ｃ１ことに４０から８０°Ｃの温度範囲で行われる。ヒ ドロキシイミドＸを塩基と共に触媒に投入し、これに出発物質■を計量添加する のが有利である。この場合、ヒドロキシイミドは、比較的低温度、例えば０から ５０°Ｃで添加し、この添加後始めて適当な温度まで加熱するのが適当である。

これは原則的に常圧下あるいは溶媒の自生圧下で行われる。

反応終了後、反応混合物は水の添加により冷却される。

これにより黄色のヒドロキシルアミン誘導体Ｍが結晶ないし油状体として析出す る。このようにして得られるヒドロキシイミド誘導体は、必要に応じて再結晶ま たは抽出によりさらに精製され得る。

ヒドロキシイミド誘導体は、中間生成物として暫定的に貯蔵されるか、あるいは 直ちに遊離アミノ基との反応によりヒドロキシアミン誘導体■に転化される。こ の転化はそれ自体公知の方法、例えば西独特許出願公開３６１５９７３号に記載 されている方法およびこれに引用されている方法により行われる。次いでこのヒ ドロキシルアミン誘導体■は、エタノールアミンにより遊離される。この誘導体 ■の遊離は、また鉱物性塩基のような水性塩基により、アミン、ヒドラジン、ヒ ドロキシルアミンによりあるいは水性酸により同様に行われ得る。

これらの方法により反応混合物から、慣用の後処理、例えば抽出ないし晶出によ り処理して、ヒドロキシルアミン誘導体■が単離される。このヒドロキシルアミ ン誘導体の結晶化性を高めるためには、鉱酸もしくは有機酸との塩に誘導するこ とがしばしば必要である。このために、これら酸の希釈溶液をヒドロキシルアミ ン誘導体■と当量で反応させることが必要である。得られるヒドロキシルアンモ ニウム塩は、ヒドロキシルアミン誘導体■のように遊離アミノ基と反応させて直 ちに式■の除草剤とするか、あるいは場合により貯蔵される。

このシクロヘキセノン誘導体■は、製造の結果異性体混合物としてもたらされる が、これはＥ／Ｚ異性体混合物あるいは光学的対掌体もしくは偏左右異性体混合 物である。これら異性体混合物は、必要に応じてこのための慣用方法、例えばク ラマドグラフィーあるいは晶出により分離され得る。

シクロヘキセノン誘導体■は、全て本発明に属する上述した各種互変異性体の形 態で得られる。

１゛　シ　ロヘキセノソー 実」Ｌ何」。

２−　［１−（３−（４−ブロムフェニル）−プロペニルオキシアミノ−２）− プロペニル］−３−ヒドロキシ−５−（３−テトラヒドロチオピラニル）−２− シ３、Ｏｇ　（０，０１１モル）の２−プロピオニル−５−（３−テトラヒドロ チオピラニル）−シクロヘキサン−１，３−ジオンと３．０ｇ　（０，０１３モ ル）の３−（４−ブロモフェニル）−プロペニルオキシアミン−２間樗拌した後 、冷却してからこの混合物に２００ミリリを、１００ミリリツトルのメタノール 中において、２０°Ｃで１６時間撹拌した。これにより沈殿する反応生成物をＯ ｏＣにおいて単離し、冷却したメタノールおよび石油エーテルで後処理洗浄し、 乾燥した。収率６８．４％、融点９７−９９°Ｃ０ 寸　理工　１．　１ Ｎ−［３−（４−ブロモフェニル）−プロペニルオキシ−２コーフタルイミド ３５０ミリリツトルの無水Ｎ−メチルピロリドンに、相前後して１８．５ｇ　（ ０，１１モル）のＮ−ヒドロキシフタルイミドと、３１．４ｇ　（０，１１モル ）の１−ブロム−［５−（４−ブロモフェニル）−プロペン−２を添加し、次い で室温で１２．１ｇ（０，１２モル）のトリエチルアミンを滴下添加した。２０ °Ｃで４時間撹拌した後、反応混合物を１．５リツトルの氷冷水中に注下し、濾 過し、水とイソプロパツールで洗浄した。収率８６゜８％、融点１６１−１６２ °Ｃ０ 盲　工　１　、　２ ３−（４−ブロモフェニル）−プロペニルオキシアミン−２ 上記工程で得られたＮ−［３−（４−ブロモフェニル）−プロペニルオキシ−２ ］−フタルイミド３３．４ｇ　（０゜０９３モル）を５０ミリリツトルのエタノ ールアミンに添加し、温度が３０°Ｃになるまで加熱し、６０℃で２時（トリフ ェニルホスフィン）−パラジウム（ＩＩ）クロラットルのジクロロメタンをテン 力した。氷冷水で振出し、有機相を乾燥、濃縮した後、残渣を石英エーテルから 再結晶させた。収率９５．３％、融点３５−３８°Ｃ０イド、３，８ｇの銅（Ｉ ）ヨーダイトおよび８．７ｇのトリフェニルホスフィンを添加し、この混合物を 還流温度に加熱し、この温度（約１００°Ｃ）で４３．４ｇのブ貸す洗浄した。

乾燥、濃縮後、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。展開液と しては、まずジクロロメタン／ｎ−ヘキサンを、次いで純ジクロロメタンを使用 した。収率８２％、融点８５−８８°Ｃ０２５０ＭＨｚ　ＮＮＭＲ（ＤＭＳ　Ｏ ｄ６　）δ（ｐｐｍ）＝１．９−２．１　（ｍ、２Ｈ）　、２．６８（ｔ、２Ｈ ）　、４．３４２　（ｔ、２Ｈ）　、７．１８　（ｔ。

２Ｈ）　、７．４−７．６　（ｍ、２Ｈ）　、７．８５　（ｓ。

４Ｈ） 寸　工　２，３ ５−アミノオキシ−１−（４−フルオロフェニル）−１−ペンチン ６８ミリリツトルのエタノールアミンと４０ミリリツトルのジクロロエタンから 成る混合液中に前項の生成物でフタルイミド４７．７ｇ　（０，１４８モル）を 徐々に添加した。室温で２時間撹拌して、澄明溶液が得られた。

これを３００ミリリツトルの水冷飽和ナトリウムクロライド溶液に添加し、この 混合液をｌＯＯミリリットルのジクロロメタンで３回抽出し、精製有機相をナト リウムクロライドで１回洗浄し、乾燥、濃縮した。収率９５％（油状体）。

２５０ＭＨｚ　’　ＮＮＭＲ（ＤＤＣ１３）δ（ｐｐｍ）＝１．８−２．０　（ ｍ、２Ｈ）　、２．４７（６，２Ｈ）　、３．８　ｃｔ１２Ｈ）　、５．４　（ 広幅５１２Ｈ）　、　６．　９−７．　１　（ｍ、２Ｈ）　、　７．　３−７． 　４５（ｍ、２Ｈ） 大１０生旦 ２〜［１−［（（Ｅ）　−４−（２−チェニル）−３−ブテニル）−イミノ］− ブチル］−３−ヒドロキシ−５−（２Ｈ−テトラヒドロピラニル−４）−シクロ へキセノン−２ ３００ミリリツトルのエタノール中、３５ｇ（０，１３モル）の２−ブチリル− ３−ヒドロキシ−５−（２Ｈ−テトラヒドロピラニル−２）−２−シクロへキセ ノン−１および２４ｇ（０，１４モル）のＯ−［（Ｅ）−４−（２−チェニル） −３−ブテニルツーヒドロキシルアミンの混合物を１６時間撹拌し、真空下に濃 縮し、１０００ミリリツトルの１０％苛性ソーダ溶液中に注下した。それぞれ２ ００ミリリツトルのメチレンクロライドで３回抽出し、水性相を水冷下に濃塩酸 でｐＨ１に調整した。

次いで水性相をそれぞれ２００ミリリツトルのエーテルで３回抽出し、硫酸マグ ルシウムで乾燥し、真空下に濃縮した。粗生成物をクロマトグラフィー（シリカ ゲル１００　ｇ。

カラム３０ｃｍ、展開液酢酸エステル）により精製した。

収率８５％。

２００ＭＨｚ　’　ＮＮＭＲ（ＤＤＣ１３）δ　（ｐｐｍ）＝０．９５　（ｔ、 ３Ｈ）　、１．１１７−１９６（，９Ｈ）　、２．１３　（ｍ、ＩＨ）　、２． ３６　（ｍ。

ＩＨ）　、２．４３−２．７０　（ｍ、　３旧、２．８８　（ｍ。

２Ｈ）　、３．３６　（ｔ、２Ｈ）　、４．０２　（ｄ、２Ｈ）４１．５　（ｔ 、２Ｈ）、６．００　（ｄｔ、ＩＨ）、６゜６０　（ｄＳ　ＩＨ）　、６．８０ −７．２０　（ｍ、３Ｈ）、１４、　７５　（ｓ、ＩＨ） 肛ｌ」Ｌ二ｍ−± （Ｅ）〜４−ブロムー１−（２−チェニル）−１−ブテン ５から１０’Ｃにおいて、１時間にわたり、９７２ミリリツトルの４８％臭化水 素酸水溶液に、２２５ｇ（１゜４６モル）のシクロプロピル−２−チェニルカル ボニルを滴下添加した。室温で２時間後に有機相を分離し、水溶液ジクロロメタ ンで抽出した。合併有機相を１厚苛性ソーダ液および水で中性になるまで洗浄し 、乾燥し、真空下に濃縮した。粗ブロマイド（ＧＣ９２５）収量３２２ｇ（９４ ％補正）。

２５０ＭＨｚ　’　ＮＮＭＲ（ＤＤＣ１３）δ（ｐｐｍ）＝２．６５−２．８０ 　（ｍ、２Ｈ）　、３゜４６　（ｔ、２Ｈ）　、５．９０−６．１０　（ｍ、Ｉ Ｈ）、６、６１　（ｄ、　Ｉ旧、６．８０−７．００　（ｍ、　２ｌ−（）、７ ．１４　（ｄＳ　ＩＨ） ｉ　工　３．２ Ｎ−［（Ｅ）−４−（２−チェニル）−３−ブテニルオキシ］−フタルイミド ２０力ラ２５°Ｃニオイテ２．５時間ニワたり、１９０ミリリツトル（１，３７ モル）のトリエチルアミンを、前項で得られたブロマイド２８３ｇ　（１，３０ モル）、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン１３００ミリリツトル、カリウムヨーダ イトｌＯｇおよびＮ−ヒドロキシフタルイミド２１２ｇ　（１，３０モル）から 成る混合物に滴下添加した。４時間後に、２０から２５°Ｃにおいてこれを４０ ００ミリリツトルの氷水中に注下し、１０重量％の苛性ソーダ液を少しずつ添加 した。次いで酢酸で抽出し、合併酢酸相を中性となるまで洗浄し、乾燥し、真空 下に濃縮した。粗生成物をクロマトグラフィー（シリカゲル１０００　ｇ１カラ ム３０Ｘ１５ｃｍ、展開液ｎ−ヘキサン／ジクロロメタン７：３）により精製し た。収率２９％、融点６９−７１℃（イソプロパツール）。

２５０　Ｍ　Ｈｚ　Ｎ　Ｎ　Ｍ　Ｒ（ｄ　６　Ｄ　Ｍ　Ｓ　Ｏ）δ（ｐｐｍ）＝ ２．５５−２．７０　（ｍ、２Ｈ）　、４゜２８　（ｔ、２Ｈ）　、６．００− ６．２０　（ｍ、、ＩＨ）、６．７７　（ｄ、ＩＨ）、７．００　（ｍ、２Ｈ） 、７．３５（ｍ、ＩＨ）　、７．８７　（ｓ、４Ｈ）ｉ　理工　３．３ 前項の目的生成物フタルイミドエーテル９０．２ｇ　（０゜３０モル）と、１３ ６ミリリツトルのエタノールアミンから成る混合物を６０℃で３時間撹拌し、冷 却された反応混合物を２００ミリリツトルの酢酸中に注下し、２００ミリリツト ルのナトリウムクロライド溶液を添加し、水化物をジクロロメタンで抽出した。

合併有機相をそれぞれｌＯＯミリリットルの飽和ナトリウムクロライド溶液で３ 回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、真空下に濃縮した。収率８９％。

２５０ＭＨｚ　’　ＮＮＭＲ（ＣＤＣｌ　３　）δ（ｐｐｍ）＝２．４０−２． ５５　（ｍ、２Ｈ）　、３゜７８　（ｔ、２Ｈ）　、５．４０　（ｂｓ、２Ｈ） 　、５．９５−６．２０　（ｍ、ＩＨ）　、６．５７　（ｄ、ＩＨ）　、６゜８ ０−７．　１　５　（ｍ、　３Ｈ） 支ｉ五１ ２−　［１−［［（２−フルオロベンジルオキシ）−エトキシ］−イミノ］−ブ チル］−２−ヒドロキシ−５−（２）（−テトラヒドロピラニル−４）−２−シ クロヘキセノン−１ ４，０ｇ（１０ミリモル）の２−ブチリル−３−ヒドロキシ−５−（２Ｈ−テト ラヒドロピラニル−４）−２−シクロへキセノン−１および２．６ｇ（１４ミリ モル）の０−　［２−（２−フルオロベンジルオキシ）−エチル］−ヒドロキシ ルアミンから成る混合物を、１ｏｏミリリツトルのメタノール中において２４時 間撹拌し、反応混合物を減圧下に濃縮し、粗生成物をクロマトグラフィー（シリ カゲル１００ｇ、カラム３０Ｘ４０ｃｍ、展開液エーテル）により精製した。収 率５４％。

３００ＭＨｚ　’　ＮＮＭＲ（ＣＤＣＩ　３　）δ（ｐＩ）ｍ）＝０．９３　（ ｔ、３Ｈ）　、１．２０−１゜７７　（ｍ、７Ｈ）、１．９０　（ｍＳＩＨ）、 ２．２３　（ｍ。

２Ｈ）　、２．５８　（ｍ、２Ｈ）　、２．９２　（ｍ、２Ｈ）、３．３８　（ ｔ、２Ｈ）、３．８０　（ｍ、２Ｈ）、４．０３（ｍ、２Ｈ）　、４．２５　（ ｍ、２Ｈ）　、４．６８　（ｓ。

２Ｈ）　、６．９３−７．５０　（ｍ、４Ｈ）　、１４．３０（Ｓ、ＩＨ） １　工　４．■ Ｎ−（２−（フルオロベンジルオキシ）−エトキシ］−フタルイミド １６５ｇ（０，７１モル）の１−ブロモ−２−（２−フルオロベンジルオキシ） −エタン、１１６ｇ　（０，７モル）のＮ−ヒドロキシフタルイミドおよび７１ ０ミリリツトルのＮ−メチル−２−ピロリドンから成る混合物に、２０から２５ ℃において１時間にわたり１０８ミリリツトルのトリエチルアミンを滴下添加し 、５時間後に６０℃において冷反応混合物を２００ミリリツトルの氷水中に注下 し、針状結晶を吸引濾別し、水およびイソプロパツールで洗浄し、減圧下、五酸 化燐で乾燥した。収率８２％、融点６２−６４℃。

２５０ＭＨｚ−１ＮＮＭＲ（ｄ６　ＤＭＳＯ）δ（ｐｐｍ）＝３．８５　（ｍ、 ２Ｈ）　、４．３５　（ｍ。

ＩＨ）　、４．５４　（ｓ、２Ｈ）　、７．１０−７．４０　（ｍ１４Ｈ）　、 ７．８８　（ｓ、４Ｈ） １　工　４．２ ０−　［２−（２−フルオロベンジルオキシ）−エチル］−ヒドロキシルアミン 前項で得られたフタルイミドエーテル１８４ｇ（０゜５８モル）を２７０ミリリ ツトルのエタノールアミン中に投入し、３時間後、６０°Ｃにおいて冷反応混合 物をｌＯＯミリリットルの氷水中に注下した。この水化物をそれぞれ８００ミリ リツトルのジクロロメタンで３回抽出し、合併有機相を２００ミリリツトルの飽 和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した 。収率９１％。

ｌＮ　Ｎ　Ｍ　Ｒ（２５０Ｍ　Ｈｚ　、　ＣＤ　Ｃｌ　３　）δ（ｐｐｍ）＝３ ．７０　（ｄｄ、２Ｈ）　、３．８５　（ｄｄ。

２Ｈ）　、５．５０　（ｂｓ、２Ｈ）　、７．００−７．５０（ｍ、４Ｈ） 本発明による除草剤の特定の用途にかんがみて、式Ｈのシクロヘキセノン誘導体 の各置換基はそれぞれ以下の意味を有する。

Ｒａは非分枝ないし分枝Ｃ−Ｃ６アルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピ ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、Ｓ−ブチル、ｌ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペ ンチル、ｎ−ヘキシル、ことにエチル、プロピルを意味する。

Ｒｂは水素、 農業的に使用可能の陽イオン、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金 属陽イオン、カルシウム、マグネシウム、バリウムのようなアルカリ土類金属陽 イオン、マンガン、銅、亜鉛、鉄の陽イオン、場合により３個までの以下の置換 基、すなわち３個までのＣ１−Ｃ４アルキル、３個までのヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ ４アルキル、１個のフェニルもしくはベンジルを持っていてもよいアンモニウム 陽イオン、例えばテトラアルキル−またはベンジルトリアルキル−アンモニウム 陽イオン、ホスホニウム、スルホニウムの陽イオン、例えばトリアルキルスルホ ニウム、スルホオキソニウムの陽イオン当量を意味する。

ＲｂはさらにＣ２−Ｃ８アルキルカルボニルオキシ、例えばメチルカルボニルオ キシ、エチルカルボニルオキシ、ｎ−プロピルカルボニルオキシ、■−メチルエ チルカルボニルオキシ、ｎ−ブチルカルボニルオキシ、ｌ−メチルプロピルカル ボニルオキシ、２−メチルプロピルカルボニルオキシ、１．１−ジメチルエチル カルボニルオキシ、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ、１−メチルブチルカルボニ ルオキシ、２−メチルブチルカルボニルオキシ、３−メチルブチルカルボニルオ キシ、１．１−ジメチルプロピルカルボニルオキシ、ｌ、２−ジメチルプロピル カルボニルオキシ、２，２−ジメチルプロピルカルボニルオキシ、ｌ−エチルプ ロピルカルボニルオキシ、ｎ−ヘキシルカルボニルオキシ、ｌ−メチルペンチル カルボニルオキシ、２−メチルペンチルカルボニルオキシ、３−メチルペンチル カルボニルオキシ、４−メチルペンチルカルボニルオキシ、ｌ、ｌ−ジメチルブ チルカルボニルオキシ、ｌ、２−ジメチルブチルカルボニルオキシ、１．３−ジ メチルブチルカルボニルオキシ、２，２−ジメチルブチルカルボニルオキシ、２ ，３−ジメチルブチルカルボニルオキシ、３．３−ジメチルブチルカルボニルオ キシ、１−エチルブチルカルボニルオキシ、２−エチルブチルカルボニルオキシ 、ｌ、１．２−）ジメチルプロピルカルボニルオキシ、１，２．２−トリメチル プロピルスルホニルオキシ、ｌ−エチル−１−メチルプロピルカルボニルオキシ 、１−エチル−２−メチルプロピルカルボニルオキシ、さらに ペンシルあるいはフェニル環においてｌから５個のハロゲン原子で置換された誘 導体を意味する。

ホニル、ことにＣ１−Ｃ６アルキルアルキルスルホニル、例えばメチルスルホニ ル、エチルスルホニル、ｎ−プロピルスルホニル、ｌ−メチルエチルスルホニル 、ｎ−ブチルスルホニル、ｌ−メチルプロピルカルスルホニル、２−メチルプロ ピルスルホニル、１．１−ジメチルエチルスルホニル、ｎ−ペンチルスルホニル 、ｌ−メチルブチルスルホニル、２−メチルブチルスルホニル、３−メチルブチ ルスルホニル、ｌ、ｌ−ジメチルプロピルスルホニル、ｌ、２−ジメチルプロピ ルスルホニル、２．２−ジメチルプロピルスルホニル、ｌ−二チルブロピルスル ホニル、ｎ−へキシルスルホニル、ｌ−メチルペンチルスルホニル、２−メチル ペンチルスルホニル、３−メチルペンチルスルホニル、４−メチルペンチルスル ホニル、ｌ、ｌ−ジメチルブチルスルホニル、ｌ、２−ジメチルブチルスルホニ ル、１．３−ジメチルブチルスルホニル、２．２−ジメチルブチルスルホニル、 ２，３−ジメチルブチルスルホニル、３，３−ジメチルブチルスルホニル、１− エチルブチルスルホニル、２−エチルブチルスルホニル、ｌ、ｌ、２−トリメチ ルプロピルスルホニル、ｌ、２．２−トリメチルプロピルスルホニル、１−エチ ル−１−メチルプロピルスルホニル、ｌ−エチル−２−メチルプロピルスルホニ ルを意味する。

Ｒｂはまたベンゼンスルホニル、フェニル環において５個までのハロゲン原子に より置換されているその誘導体を、 非分枝もしくは分子Ｃ１−Ｃ１ｏアルキルホスホニル、ことにＣ−Ｃ６アルキル ホスホニル、例えばメチルホスホニル、エチルホスホニル、ｎ−プロピルホスホ ニル、ｌ−メチルエチルホスホニル、ｎ−ブチルホスホニル、ｌ−メチルプロピ ルホスホニル、２−メチルプロピルホスホニル、１．ｌ−ジメチルエチルホスホ ニル、ｎ−ペンチルホスホニル、１−メチルブチルホスホニル、２−メチルブチ ルホスホニル、３−メチルブチルホスホニル、１．１−ジメチルプロピルホスホ ニル、１．２−ジメチルプロピルホスホニル、２，２−ジメチルプロピルホスホ ニル、１−エチルプロピルホスホニル、ｎ−ヘキシルホスホニル、ｌ−メチルペ ンチルホスホニル、２−メチルペンチルホスホニル、３−メチルペンチルホスホ ニル、４−メチルペンチルホスホニル、１．１−ジメチルブチルホスホニル、１ ．２−ジメチルブチルホスホニル、■。

３−ジメチルブチルホスホニル、２，２−ジメチルブチルホスホニル、２．３− ジメチルブチルホスホニル、３゜３−ジメチルブチルホスホニル、ｌ−エチルブ チルホスホニル、２−エチルブチルホスホニル、１，１．２−トリメチルプロピ ルホスホニル、ｌ、２．２−１リメチルプロビルホスホニル、１−エチル−１− メチルプロピルホスホニル、１−エチル−２−メチルプロピルホスホニルを、さ らにまた ベンゼンスルホニルあるいはフェニル環において５個までのハロゲン原子により 置換されているその誘導体を意味する。

Ｒｏは水素、シアノ、ホルミル、分枝もしくは非分枝Ｃ−Ｃ６アルキル、例えば 前述したようなアルキル、ことにエチル、ｎ−プロピル、イソプロピルを意味し 、さらに Ｃ−Ｃアルコキシ−Ｃ−Ｃ４アルキル、例えばメトキシメチル、エトキシメチル 、ｎ−プロポキシメチル、ｌ−メトキシエチル、２メトキシエチル、１−エトキ シエチル、２−エトキシエチル、２−プロポキシエチル、ｌ−メトキシプロピル 、２−メトキシプロピル、３−メトキシプロピル、ｌ−エトキシプロピル、２− エトキンプロピル、３−エトキシプロピル、ｌ−メトキシブチル、２−メトキシ ブチル、３−メトキシブチル、４−メトキシブチル、ｌ−エトキシブチル、２− エトキシブチル、３−エトキシブチル、４−エトキシブチル、１゜３−ジメトキ シプロピル、ことにメトキシメチル、２−エトキシエチルを意味する。

Ｒｏはさらにｃｌ−ｃ４アルキルチオ−Ｃ１−０４アルキル、例えばメチルチオ メチル、エチルチオメチル、１−メチルチオエチル、２−メチルチオエチル、１ −エチルチオエチル、２−エチルチオエチル、１−メチルチオプロピル、２−メ チルチオプロピル、３−メチルチオプロピル、ｌ−エチルチオプロピル、２−エ チルチオプロピル、３−エチルチオフロビル、■−メチルチオブチル、２−メチ ルチオブチル、３−メチルチオブチル、４−メチルチオブチル、■−エチルチオ ブチル、２−エチルチオブチル、３−エチルチオブチル、４−エチルチオブチル 、ことに２−エチルチオフロビルを意味し、さらに フェノキシ−Ｃ−Ｃ６アルキル、フェニルチオ−Ｃ１Ｃ６アルキル、ピリジルオ キシ−ＣＩ−０６アルキルあるいはピリジルチオ−０１−Ｃ６アルキルを意味し 、このフェニル環もしくはピリジル環は、置換されていなくてもよく、あるいは ３個までの以下の置換基、すなわちニトロ、シアノ、ハロゲン、例えば弗素、塩 素、臭素、沃素、ことに弗素、塩素を持っていてもよい。

Ｒｏはまた非分枝もしくは分枝のＣ１−Ｃ４アルキル、例えばメチル、エチル、 ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチルを、 部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４アルキル、ことに０ｌ−Ｃ２ ハロゲンアルキル、例えばクロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、 フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロフルオロメチ ル、ジクロロフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、１−フルオロエチル、 ２−フルオロエチル、２，２−ジフルオロエチル、２，２．２−トリフルオロエ チル、２−クロロ−２−フルオロエチル、２−クロロ−２，２−ジフルオロエチ ル、２．２−ジクロロ−２−フルオロエチル、２，２．２−）ＩＪクロロエチル 、ペンタフルオロエチル、ことにトリフルオロエチルを意味する。

ＲｏはさらにＣ−０４アルコキシ、例えばメトキシ、■ エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｔ−ブトキン、こ とにメトキシ、エトキシを、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ、−Ｃ４ アルコキシ、ことにＣ１−０２ハロゲンアルコキシ、例えばクロロメトキシ、ジ クロロメトキシ、トリクロロメトキシ、フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ 、トリフルオロメトキシ、クロロフルオロメトキシ、ジクロロフルオロメトキシ 、クロロジフルオロメトキシ、■−フルオロエトキシ、２−フルオロエトキシ、 ２．２−ジフルオロエトキシ、２，２．２−トリフルオロエトキシ、２−クロロ −２−フルオロエトキシ、２−クロロ−２，２−ジフルオロエトキシ、２．２− ジクロロ−２−フルオロエトキシ、２，２．２−トリクロロエトキシ、ペンタフ ルオロエトキシ、ことにトリフルオロメトキシを、さらにＣ−０４アルキルチオ 、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピオチオ、イソプロピオチオ、ｎ− ブチルチオ、ｔ−ブチルチオ、ことにメチルチオ、エチルチオを意味する。

ＲＣはまたＣ　−Ｃ４アルケニル、例えば２−プロペニル、２−ブテニル、３− ブテニル、ｌ−メチル−２−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、２−ペ ンチニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、ｌ−メチル−２−ブテニル、２− メチル−２−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、■−メチルー３−ブテニル 、２−メチル−３−ブテニル、３−メチル−３−ブテニル、ｌ、ｉ−ジメチル− ２−プロペニル、１．２−ジメチル−２−プロペニル、１−エチル−２−プロペ ニル、２−へキセニル、３−へキセニル、４−へキセニル、５−ヘキセニル、１ −メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−メチル−２−ペ ンテニル、４−メチル−２−ペンテニル、ｌ−メチル−３−ペンテニル、２−メ チル−３−ペンテニル、ｌ−メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテ ニル、３−メチル−４−ペンチニル、４−メチル−４−ペンテニル、ｌ、１−ジ メチル−２−ブテニル、１．１−ジメチル−３−ブテニル、ｌ。

２−ジメチル−２−ブテニル、１．２−ジメチル−３−ブテニル、１．３−ジメ チル−２−ブテニル、■、３−ジメチルー３−ブテニル、２．２−ジメチル−３ −ブテニル、２．３−ジメチル−２−ブテニル、２．３−ジメチル−３−ブテニ ル、３．３−ジメチル−２−ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、１−エチル −３−ブテニル、２−エチル−２−ブテニル、２−エチル−３−ブテニル、１． １．２−１−リフチル−２−プロペニル、■−エチルー１−メチルー２−プロペ ニル、１−エチル−２−メチル−２−プロペニル、ことにプロペニル−２、ブテ ニル−３を意味する。

ＲｏはまたＣ　−Ｃ６アルケニルオキシ、例えば２−プロペニル−１−オキシ、 ｎ−ブテニル−４−オキシ、ｎ−ブテニル−３−オキシ、１−メチル−２−プロ ペニル−１−オキシ、２−メチル−２−プロペニル−１−オキシ、ｎ−ペンテニ ル−３−オキシ、ｎ−ペンテニル−４−オキシ、ｎ−ペンテニル−５−オキシ、 １−メチル−２−ブテニル−１−オキシ、２−メチル−２−ブテニル−１−オキ シ、３−メチル−２−ブテニル−１−オキシ、ｌ−メチル−３−ブテニル−１− オキシ、２−メチル−３−ブテニル−１−オキシ、３−メチル−３−ブテニル− １−オキシ、■、１−ジメチルー２−プロペニル−１−オキシ、ｌ、２−ジメチ ル−２−プロペニル−１−オキソ、ｌ−エチル−２−プロペニル−１−オキシ、 ２−ｎ−ヘキセニル−１−オキシ、３−ｎ−へキモニル−１−オキシ、４−ｎ− ヘキセニル−１−オキシ、５−ｎ−へキモニル−１−オキシ、１−メチル−２− ペンテニル−１−オキシ、２−メチル−２−ペンテニル−１−オキシ、３−メチ ル−２−ペンテニル−１−オキシ、４−メチル−２−ペンテニル−１−オキシ、 １−メチル−３−ペンテニル−１−オキシ、２−メチル−３−ペンチニル−１− オキシ、３−メチル−３−ペンテニル−１−オキシ、４−メチル−３−ペンテニ ル−１−オキシ、■−メチルー４−ペンテニルー１−オキシ、２−メチル−４− ペンテニル−１−オキシ、３−メチル−４−ペンテニル−■−オキシ、４−メチ ル−４−ペンテニル−１−オキシ、ｌ、ｌ−ジメチル−２−ブテニル−１−オキ シ、１、ｌ−ジメチル−３−ブテニル−１−オキシ、１．２−ジメチル−２−ブ テニル−■−オキシ、ｌ、２−ジメチル−３−ブテニル−１−オキシ、１，３− ジメチル−２−ブテニル−１−オキシ、１．３−ジメチル−３−ブテニル−１− オキシ、２．２−ジメチル−３−ブテニル−１−オキシ、２，３−ジメチル−２ −ブテニル−１−オキシ、３．３−ジメチル−２−ブテニル−１−オキシ、Ｉ− エチル−２−ブテニル−１−オキシ、■−エチルー３−ブテニルー１−オキシ、 ｉ、ｉ、２−１−ジメチル−２−プロペニル−１−オキシ、ｌ−エチル−１−メ チノー２−プロペニル−１−オキシ、■−エチルー２−メチメー２−プロペニル −１−オキシ、ことに２−プロペニル−１−オキシ、２−ブテニル−１−オキシ を意味する。

ＲＣはまたＣ３−Ｃ６アルキニル、例えばＩ−プロピニル−１，２−プロピニル −３，１−ｎ−ブチニル−１１２−ｎ−ブチニル−１，１−ｎ−ペンチニル−Ｉ Ｓ　１−ｎ−ペンチニル−４，１−ｎ−ペンチニル−５，２−ペンチニル−１， ２−ペンチニル−４，１−ｎ−ヘキシニル−１，１−ｎ−へキンニル−３，１− ｎ−へキシニル−４，１−ｎ−ヘキシニル−５，１−ｎ−ヘキシニル−６，２− ｎ−ヘキシニル−１，２−ｎ−へキシニル−４，２−ｎ−ヘキシニル−５，２− ｎ−へキシニル−６，３−ｎ−へキシニル−１，３−ｎ−へキシニル−３，３− メチル−１−ペンチニル−１，３−メチル−１−ペンチニル−３，３−メチル− １−ペンチニル−４，３−メチル−１−ペンチニル−５，４−メチル−１−ペン チニル−１１４−メチル−２−ペンチニル−４，４−メチル−２−ペンチニル− ５、ことに２−プロピニルを、Ｃ３Ｃ６アルキニルオキシ、例えば２−プロピニ ル−３−オキシ、１−ｎ−ブチニル−４−オキシ、２−ｎ−ブチニル−１−オキ シ、１−ｎ−ペンチニル−３−オキシ、１−ｎ−ペンチニル−４−オキシ、１− ｎ−ペンチニル−５−オキシ、２−ペンチニル−１−オキシ、２−ペンチニル− ４−オキシ、２−ペンチニル−５−オキシ、３−メチル−１−ブチニル−３−オ キシ、３−メチル−１−ブチニル−４−オキシ、１−ｎ−へキシニル−３−オキ シ、１−ｎ−へキシニル−４−オキシ、１−ｎ−へキシニル−５−オキシ、１− ｎ−ヘキシニル−６−オキシ、２−ｎ−へキシニル−１−オキシ、２−ｎ−ヘキ シニル−４−オキシ、２−ｎ−へキシニル−５−オキシ、２−ｎ−へキシニル− ６−オキシ、３−ｎ−へキシニル−１−オキシ、３−ｎ−ヘキシニル−２−オキ シ、３−メチル−１−ペンチニル−３−オキシ、３−メチル−１−ペンチニル− ４−オキシ、３−メチル−１−ペンチニル−５−オキシ、４−メチル−２−ペン チニル−４−オキシ、４−メチル−２−ペンチニル−５−オキシ、ことに２−プ ロピニルオキシを、さらにＮＲｇ　Ｒｈを意味する。

このＲは水素、非分岐もしくは分枝Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ３−Ｃ６アルケニル 、Ｃ３−Ｃ６アルキニル、ことに水素を意味し、 Ｒｇは水素、非分岐もしくは分枝Ｃ−Ｃ４アルキル、Ｃ３−Ｃ６アルケニル、Ｃ ３−Ｃ６アルキニルを、Ｃ，−Ｃ６アシル、例えばメチルカルボニル、エチルカ ルボニル、ｎ−プロピルカルボニル、メチルエチルカルボニル、ｎ−ブチルカル ボニル、１−メチルプロピルカルボニル、２−メチルプロピルカルボニル、Ｉ、 １−ジメチルエチルカルポニル、ｎ−ペンチルカルボニル１−メチルブチルカル ボニル、２−メチルブチルカルボニル、３−メチルブチルカルボニル、ｌ，１− ジメチルプロピルカルボニル、ｌ，２−ジメチルプロピルカルボニル、２，２− ジメチルプロピルカルボニル、１−エチルプロピルカルボニル、ｎ−へキンルホ カルボニル、１−メチルペンチルカルボニル、２−メチルペンチルカルボニル、 ３−メチルペンチルカルボニル、４−メチルペンチルカルボニル、ｌ，１−ジメ チルブチルカルボニル、１、２−ジメチルブチルカルボニル、ｌ，３−ジメチル ブチルカルボニル、２．２−ジメチルブチルカルボニル、２、３−ジメチルブチ ルカルボニル、３，３−ジメチルブチルカルボニル、ｌ−エチルブチルカルボニ ル、２−エチルブチルカルボニル、１，１．２−）ジメチルプロピルカルボニル 、ｌ，２．２−トリメチルプロピルカルボニル、１−エチル−１−メチルプロピ ルカルボニル、■ーエチルー２ーメチルプロピルカルボニル、ことにメチルカル ボニル、１．１−ジメチルカルボニルを意味する。

Ｒｇはさらにベンゾイルを意味する。これは置換されていなくてもよ（、あるい は３個までの置換基、すなわちニトロ、シアノ、ハロゲン、ことに弗素、塩素、 上述のような非分岐もしくは分枝Ｃ１−Ｃ４アルキルを持っていてもよい。

Ｈｇはさらに部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣＩ−Ｃ４アルキル、こと に０１−Ｃ２ハロゲンアルキル、例えばクロロメチル、ジクロロメチル、トリク ロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロ フルオロメチル、ジクロロフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、ｌ−フル オロエチル、２−フルオロエチル、２．２−ジフルオロエチル、２。

２、２−）リフルオロエチル、２−クロロ−２−フルオロエチル、２−クロロ− ２，２−ジフルオロエチル、２。

２−ジクロロ−２−フルオロエチル、２，２．２−１リクロロエチル、ペンタフ ルオロエチル、ことにトリフルオロメチルを意味し、また Ｃｌ−０４アルコキシ、Ｃ１−０４アルキルチオを意味する。

Ｒｇはさらにフェノキシ−Ｃ−Ｃ６アルキル、フェニルチオ−Ｃ１−０６アルキ ル、ピリジルオキシ−ｃｌ−０６アルキル、ピリジルチオ−０１−Ｃ６アルキル 、例えばフェノキシメチル、フェノキシエチル、フェノキンプロピル、フェノキ シブチル、４−フルオロフェノキシエチル、２−　（４−フルオロフェノキシ） −プロピル、４−トリフルオロメチルフェノキシエチル、２−　（４−フルオロ メチルフェノキシ）−プロピル、フェニルチオメチル、フェニルチオエチル、フ ェニルチプロピル、フェニルチオエチル、４−フルオロフェニルチオエチル、２ −（４−フルオロフェニルチオ）−プロピル、４−トリフルオロメチルフェニル チオエチル、２−（４−トリフルオロメチルフェニルチオ）−プロピル、ことに ４−フルオロフェニルチオエチル、４−リフルオロメチルフェニルチオを意味し 、これらを意味するのが特に好ましい。

ＲｇはさらにＣ３−Ｃ７シクロアルキル、Ｃ３−ｃ７シクロアルケニル、例えば シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプ チル、シクロペンテニル−１１シクロペンテニル−３、シクロへキセニル−１、 シクロへキセニル−２、シクロへキセニル−３、シクロへブテニル−１１シクロ へブテニル−２、シクロへブテニル−３、シクロへブテニル−４を意味するが、 これらは置換されていなくてもよ（、あるいは３個までの置換基、すなわちヒド ロキシル、ハロゲン、ことに弗素、塩素、非分枝もしくは分枝Ｃ，−Ｃ４アルキ ル、ことにメチル、エチル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたアルキル、 ことにトリフルオロメチル、Ｃｌ−０４アルコキシ、ことにメトキシ、ＣＩ−Ｃ ４アルキルチオ、ことにメチルチオ、エチルチオ、ベンジルチオ、Ｃ１−Ｃ４ア ルキルスルホニル、ことにメチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−プロピル スルホニル、ｌ−メチルエチルスルホニル、ｎ−ブチルスルホニル、ｌ−メチル プロピルスルホニル、２−メチルプロピルスルホニル、ｌ、ｌ−ジメチルエチル スルホニル、ことにメチルスルホニルを持っていてもよい。

ＲｇはさらにＣ−Ｃ４アルキルスルフィニル、例えばメチルスルフィニル、エチ ルスルフィニル、ｎ−プロピルスルフィニル、ｌ−メチルエチルスルフィニル、 ｎ−ブチルスルフィニル、ｌ−メチルプロピルスルフィニル、２−メチルプロピ ルスルフィニル、１．１−ジメチルエチルスルフィニル、ことにメチルスルホニ ルを、置換Ｃ３−Ｃ７シクロアルキル、Ｃ５−０７シクロアルケニル、例えば１ −メチルチオシクロプロピル、ｌ−エチルチオシクロプロピル、４−メチルシク ロヘキシル、４−メチルシクロへキセニル−３，３−エチルチオ−４−ヒドロキ シ−４−メチルシクロへキセニル、３．４−ジヒドロキシシクロへキセニル、こ とに１−メチルチオシクロプロピル、１−エチルチオシクロプロピル、３゜４− ジヒドロキシンクロヘキシルを意味する。

Ｒｇはさらに５員のへテロシクロアルキル、例えばテトラヒドロフラニル−２、 テトラヒドロフラニル−３、テトラヒドロチェニル−２、テトラヒドロチェニル −３、ピロリンニル−２、ピロリジニル−３、イソオキサジノニル−３、イソオ キサジノニル−４、イソオキサジノニル−５、イソチアゾリジニル−３、イソチ アゾリジニル−４、イソチアゾリジニル−５、ピラゾリジニル−３、ピラゾリン ニル−４、ピラゾリジニル−５、オキサシリノニル−２、オキサゾリジニル−４ 、オキサゾリジニル−５、チアゾリジニル−２、チアゾリジニル−４、チアゾリ ジニル−５、イミダゾリジニル−２、イミダゾリジニル−４，１，２，４−オキ サジアジリジニル−３、ｌ。

２．４−オキサジアジリジニル−５、ｌ、２．４−チアンアゾリンニル−３，１ ，２，４−チアジアゾリンニル−５，１，２，４−１−リアゾリジニル−３，１ ，３，４＝オキサジアゾリジニル−２，１，３，４−チアジアゾリンニル−２、 ジオキソラニル、ことにテトラヒドロフラニル−２、テトラヒドロフラニル−３ 、ジオキソラニルを意味し、これらへテロ環はそれぞれ置換されていてもよく、 あるいは３個までの置換基、すなわち非分枝もしくは分枝Ｃ１−Ｃ４アルキル、 ことにメチル、エチル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−０４アル キル、ことにトリフルオロメチル、Ｃ１−Ｃ４アルコシ、ことにメトキシ、Ｃ− Ｃ４アルキルチオ、ことにメチルチオを持っていてもよい。

Ｒｇはまた６員、７員のへテロ環、例えばテトラヒドロチオピラニル−２、テト ラヒドロチオピラニル−３、テトラヒドロチオピラニル−４、テトラヒドロピラ ニル−２、テトラヒドロピラニル−３、テトラヒドロピラニル−４，５，６−シ ヒドロー２Ｈ−チオピラニル−２，５，６−シヒドロー２　Ｈ−チオピラニル− ３，５，６−シヒドロー２Ｈ−チオピラニル−４，５，６−シヒドロー２Ｈ−チ オピラニル−５，５，６−シヒドロー２Ｉ］−チオピラニル−６，５，６−シヒ ドロー２Ｈ−ピラニル−２，５，６−シヒドロー２Ｈ−ピラニル−３，５，６− シヒドロー２Ｈ−ピラニル−４，５，６−シヒドロー２Ｈ−ピラニル−５，５， ６−シヒドロー２Ｈ−ピラニル−６、ジオキセパニル−５、ことにテトラヒドロ チオピラニル−３、テトラヒドロピラニル−３、テトラヒドロピラニル−４を意 味する。これらへテロ環はそれぞれ置換されていなくてもよく、あるいは３個ま での置換基、すなわちヒドロキシル、ハロゲン、ことに弗素、塩素、非分枝もし くは分枝Ｃ１−Ｃ４アルキル、ことにメチル、エチル、部分的もしくは完全にハ ロゲン化されたＣ１−Ｃアルキル、ことにトリフルオロメチル、Ｃ，−Ｃ４アル コキシ、ことにメトキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、ことにメチルチオ、エチル チオを持っていてもよい。

Ｒｇはまた１個もしくは２個の窒素原子、１個の塩素もしくは硫黄原子から選ば れる３個までのへテロ原子を有する、例えば２−フリル、３−フリル、２−チェ ニル、３−チェニル、２−ピロリル、３−ピロリル、３−イソオキサシリル、４ −イソオキサシリル、５−イソオキサシリル、３−イソチアゾリル、４−イソチ アゾリル、５−イソチアゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル、５−ピラゾ リル、２−オキサシリル、４−オキサシリル、５−オキサシリル、２−チアゾリ ル、４−チアゾリル、５−チアゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、 ５−イミダゾリル、１，２．４−オキサジアゾリル−３，１，２，４−オキサジ アゾリル−５，１，２，４−チアゾリル−３，１，２，４−チアゾリル−５、ｌ 、２．４−トリアゾリル−３、ｌ、３．４−オキソジアゾリル−２、ｌ、３．４ −チアジアゾリル−２，１，３，４−トリアゾリル−２、ことにイソオキサシリ ル、ピラゾリルを意味する。これらへテロ芳香族環は置換されていな（でもよく 、あるいはまた３個までの置換基、すなわちシアノ、ハロゲン、ことに弗素、塩 素、非分枝もしくは分枝Ｃ１−Ｃ４アルキル、ことにメチル、エチル、イソプロ ピル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたｃｌ−０４アルキル、ことにトリ フルオロメチル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、ことにメトキシ、部分的もしくは完全 にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４アルコキシ、ことにトリフルオロメトキシ、Ｃｌ −Ｃ４アルキルチオ、ことにメチルチオ、Ｃ２Ｃｅアルケニル、例えばエチニル 、ｌ−プロペニル、２−プロペニル、■−メチルエチル、ｌ−ブテニル、２−ブ テニル、３−ブテニル、ｌ−メチル−１−プロペニル、２−メチル−１−プロペ ニル、ｌ−メチル−２−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、１−ペンテ ニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、■−メチルー１−ブ テニル、２−メチル−１−ブテニル、３−メチル−１−ブテニル、１−メチル− ２−ブテニル、２−メチル−２−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、ｌ−メ チル−３−ブテニル、２−メチル−３−ブテニル、３−メチル−３−ブテニル、 １゜１−ジメチル−２−プロペニル、■、２−ジメチルー１−プロペニル、１． ２−ジメチル−２−プロペニル、１−エチル−１−プロペニル、ｌ−エチル−２ −プロペニル、１−へキセニル、２−へキセニル、３−へキセニル、４−へキセ ニル、５−へキセニル、ｌ−メチル−１−ペンテニル、２−メチル−１−ペンテ ニル、３−メチル−１−ペンテニル、４−メチル−１−ペンテニル、ｌ−メチル −２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−メチル−２−ペンテニル 、４−メチル−２−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−３ −ペンテニル、３−メチル−３−ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニル、ｌ −メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、３−メチル−４−ペ ンテニル、４−メチル−４−ペンテニル、１．１−ジメチル−２−ブテニル、ｌ 、１−ジメチル−３−ブテニル、ｌ、２−ジメチル−１−ブテニル、１．２−ジ メチル−２−ブテニル、ｌ、２−ジメチル−３−ブテニル、１．３−ジメチル− １−ブテニル、１．３−ジメチル−２−ブテニル、１．３−ジメチル−３−ブテ ニル、２−２−ジメチル−３−ブテニル、２．３−ジメチル−１−ブテニル、２ ゜３−ツメチル−２−ブテニル、２．３−ジメチル−３−ブテニル、３．３−ジ メチル−１−ブテニル、３゜３−ジメチル−２−ブテニル、ｌ−エチル−１−ブ テニル、ｌ−エチル−２−ブテニル、１−エチル−３−ブテニル、２−エチル− １−ブテニル、２−エチル−２−ブテニル、２−エチル−３−ブテニル、ｌ、１ ．２−１−ジメチル−２−プロペニル、ｌ−エチル−１−メチル−２−プロペニ ル、１−エチル−２−メチル−１−プロペニル、ｌ−エチル−２−メチル−２− プロペニルことに１−メチルエチニルを意味する。

ＲｇはさらにＣ−Ｃ６アルケニルオキシ、例えばエチニルオキシ、２−プロペニ ル−１−オキシ、４−ｎ−ブテニル−１−オキシ、３−ｎ−ブテニル−１−オキ シ、ｌ−メチル−２−プロペニル−１−オキシ、２−メチル−２−プロペニル− １−オキシ、３−ｎ−ペンテニルオキシ、４−ｎ−ペンテニルオキシ、５−ｎ− ペンテニルオキシ、ｌ−メチル−２−ブテニル−１−オキシ、２−メチル−２− ブテニル−１−オキシ、３−メチル−２−ブテニル−１−オキシ、１−メチル− ３−ブテニル−１−オキシ、２−メチル−３−ブテニル−１−オキシ、３−メチ ル−３−ブテニル−１−オキシ、１．１−ジメチル−２−プロペニル−１−オキ シ、１，２−ジメチル−２−プロペニル−１−オキシ、ｌ−エチル−２−プロペ ニル−ｌ−オキシ、２−ｎ−へキモニル−１−オキシ、３−ｎ−ヘキセニル−１ −オキシ、４−ｎ−へキモニル−１−オキシ、５−ｎ−へキモニル−ｌ−オキシ 、ｌ−メチル−２−ペンテニル−１−オキシ、２−メチル−２＝ペンテニル−１ −オキシ、３−メチル−２−ペンテニル−１−オキシ、４−メチル−２−ペンテ ニル−１−オキシ、■−メチルー３−ペンテニルー１−オキシ、２−メチル−３ −ペンテニル−■−オキシ、３−メチル−３−ペンテニル−１−オキシ、４−メ チル−３−ペンテニル−１−オキシ、ｌ−メチル−４−ペンテニル−１−オキシ 、２−メチル−４−ペンテニル−１−オキシ、３−メチル−４−ペンテニル−１ −オキシ、４メチル−４−ペンテニル−１−オキシ、ｌ、１−ジメチル−２−ブ テニル−１−オキシ、１．１−ジメチル−３−ブテニル−１−オキシ、ｌ、２− ジメチル−２−ブテニル−１−オキシ、１．２−ジメチル−３−ブテニル−１− オキシ、１．３−ジメチル−２−ブテニル−１−オキシ、１．３−ジメチル−３ −ブテニル−１−オキシ、２．３−ジメチル−２−ブテニル−１−オキシ、２， ３−ジメチル−３−ブテニル−１−オキシ、３．３−ジメチル−２−ブテニル− １−オキシ、ｌ−エチル−２−ブテニル−１−オキシ、■−エチルー３−ブテニ ルー１−オキシ、２−エチル−２−ブテニル−１−オキシ、２−エチル−３−ブ テニル−１−オキシ、ｌ、１．２−１−リフチル−２−プロペニル−１−オキシ 、ｌ−エチル−１−メチル−２−ブロペニルー１−オキシ、■−エチルー２−メ チルー２−プロペニル−１−オキシ、ことに２−プロペニル−１−オキシを意味 する。

ＨｇはさらにＣ−Ｃ６アルキニルオキシ、例えば２−プロビニルー３−オキシ、 １−ｎ−ブチニル−４−オキシ、２−ｎ−ブチニル−１−オキシ、１−ｎ−ペン チニル−３−オキシ、１−ｎ−ペンチニル−４−オキシ、１−ｎ−ペンチニル− ５−オキシ、３−チンルー１−ブチニル−３−オキシ、３−チンルー１−ブチニ ル−４−オキシ、１−ｎ−へキシニル−６−オキシ、２−ｎ−ヘキシニル−１− オキシ、２−ｎ−ヘキシニル−４−オキシ、２−ｎ−へキシニル−５−オキシ、 ２−ｎ−へキシニル−６−オキシ、３−ｎ−へキシニル−１−オキシ、３−ｎ− へキシニル−２−オキシ、３−メチル−１−ペンチニル−３−オキシ、３−メチ ル−１−ペンチニル−４−オキシ、３−メチル−１−ペンチニル−５−オキシ、 ４−メチル−２−ペンチニル−４−オキシ、４−メチル−２−ペンチニル−５− オキシ、ことに２−プロペニルオキシを、 Ｃ１−０４アルコキシ−Ｃ１−０４アルキル、例えばメトキシメチル、エトキシ メチル、ｎ−プロポキシメチル、（１−メチルエトキシ）−メチル、ｎ−ブトキ シメチル、（ｌ−メチルプロポキシ）−メチル、（２−メチルプロポキシ）−メ チル、（１，ｌ−ジメチルエトキシ）−メチル、メトキシエチル、エトキシエチ ル、ｎ−プロポキシエチル、（１−メチルエトキシ）−エチル、ｎ−ブトキシエ チル、（ｌ−メチルプロポキシ）−エチル、（２−メチルプロポキシ）−エチル 、（１，１−ジメチルエトキシ）−エチル、３−（メトキシ）−プロピル、２− （メトキシ）−プロピル、２−（エトキシ）−プロピル、ことにメトキシメチル 、エトキシメチルを意味する。

Ｒｇはさらにフェニル、ピリジルを意味し、これらは置換されていな（てもよ（ 、あるいは３個までの置換基、すなわちニトロ、シアノ、ホルミル、ハロゲン、 ことに弗素、塩素、非分枝もしくは分枝Ｃ１−０４アルキル、ことにメチル、エ チル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣｌ−Ｃ４アルキル、ことにトリ フルオロメチル、Ｃ−Ｃ４アルコキシ、ことにメトキシ、部分的もしくは完全に ハロゲン化されたＣ１−０４アルコキシ、ことにトリフルオロメトキシ、Ｃ１− ０４アルキルチオ、ことにメチルチオ、Ｃ３−Ｃ６アルケニル、ことに２−プロ ペニル、Ｃ−Ｃ６アルケニルオキシ、ことにプロベニルオキシ、Ｃ３−Ｃ６アル キニル、ことに２−プロピル、Ｃ−Ｃ６アルキニルオキシ、ことに２−プロペニ ルオキシ、ＮＲｇＲｈを持っていてもよく、このＲｈは上述した意味を有するが 、ことに水素、アセチル、ベンゾイルを意味するのが好ましい。

Ｒｇはことにフェニル、ピリジル、ことにフェニル、４−エチルフェニル、４− エチルフェニル、４−プロパギルオキシフェニル、２，４．６−１−リメチルフ ェニル、４−ベンゾイルアミノ−３−フルオロフェニル、４−ホルミルフェニル 、ピリジルを意味するのが好ましい。Ｗはｃｌ−Ｃ６アルキレン、Ｃ３−Ｃ６ア ルケニレン、Ｃ３−Ｃ６アルキニレン、例えばメチレン、エチレン、プロピレン 、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、プロペニレン、２−プロペニレン、ブテ ニレン、２−ブテニレン、３−ブテニレン、ペンテニレン、３−ペンテニレン、 ４−ベンテニレン、■−ヘキセニレン、２−ヘキセニレン、３−ヘキセニレン、 ４−ヘキセニレン、５−ヘキセニレン、２−プロビニレン、２−ブテニレン、３ −ブテニレン、２−ペンチニレン、３−ペンチニレン、４−ペンチニレン、２− ヘキセニレン、３−ヘキセニレン、４−ヘキセニレン、５−ヘキセニレンを意味 する。これら連鎖は３個までの置換基、すなわち３個までのハロゲン原子、こと に弗素、塩素、３個までのＣ−Ｃ３アルキル、ことにメチル、エチル、ｎ−プロ ピル、イソプロピル、ことにメチルエチル、１個のメチレンを持っていてもよい 。

不飽和連鎖の場合には、シス型でもトランス型でももたらされ得る。ことに好ま しいのは、プロピレン、ブチレン、２−プロペニレン、２−ブテニレン、３−ブ テニレンである。

Ｗはまた置換されていな（でも、３個までの０１−０４アルキルを持っていても よい０３−Ｃ６アルキレンあるいはＣ４−Ｃ６アルケニレンを意味する。この各 メチレン基は酸素または硫黄原子、スルホキサイド、スルホン、非分枝もしくは 分枝Ｃ１−Ｃ４アルキル、ことにメチル、エチル、Ｃ３−Ｃ６アルケニル、こと に２−プロペニル、２−ブテニル、Ｃ３−Ｃ６アルキニル、ことに２−プロピニ ル、２−ブチニルで置換されていてもよい。具体例としては、３−オキサプロピ レン、３−アザプロピレン、３−チアプロピレン、３−チアプロピレン−３，３ −ジオキサイド、３−オキサブチレン、３−アザブチレン、３−チアブチレン、 ３−チアブチレン３−オキサイド、３−チアブチレン−３，３−ジオキサイド、 ４−オキサブチレン、４−アザブチレン、４−チアブチレン、４−チアブチレン −４−オキサイド、４−チアブチレン−４゜４−ジオキサイド、４−オキサ−２ −ブテニレン、４−アザ−２−ブテニレン、４−チア−２−ブテニレン、３−オ キサペンチレン、３−アザベンチレン、３−チアペンチレン、３−チアペンチシ ン−３−オキサイド、３−チアペンチレン、−３，３−ジオキサイド、４−チア ペンチシン−４，４−ジオキサイド、５−オキサペンチレン、５−アザペンチレ ン、５−チアペンチレン、５−チアペンチシン−５−オキサイド、５−チアペン チレン−５，５−ジオキサイド、５−オキサ−３−ペンテニレン、５−アザ−３ −ペンテニレン、５−チア−３−ペンテニレン、３−オキサヘキシレン、３−ア ザヘキシレン、３−チアヘキシレン、３−チアヘキシレン−３−オキサイド、３ −チアヘキシレン３．３−ジオキサイド、４−チアヘキシレン−４，４−ジオキ サイド、５−オキサヘキシレン、５−アザヘキシレン、５−チアヘキシレン、５ −チアヘキシレン−５−オキサイド、５−チアヘキシレン−５，５−ジオキサイ ド、６−オキサヘキシレン、６−アザヘキシレン、６−チアヘキシレン、６−チ アヘキシレン−６−オキサイド、６−チアブチレンー６．６−ジオキサイド、６ −オキサ−４−ヘキセニレン、６−アザ−４−ヘキセニレン、６−チア−４−ヘ キセニレンなどが挙げられる。不飽和連鎖の場合、２重結合、シス型、トランス 型を示し得る。ことに好ましいのは３−オキシプロピレン、２−メチル−３−オ キサプロピレン、３−オキサブチレン、４−オキサブチレンである。

Ｒｆは水素、ビニルを、 −ＣＨ＝ＣＨ−Ｚ　（Ｚはシアノ）を、ハロゲン、ことに弗素、塩素、非分枝も しくは分枝Ｃ１−０４アルキル、ことにメチル、１．ｌ−ジメチルエチル、部分 的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−０４アルキル、ことにジフルオロメチ ル、トリフルオロメチル、２，２．２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエ チルを意味し、さらに Ｃ−０６シクロアルキル、例えばシクロプロピル、ツクロブチル、シクロペンチ ル、シクロヘキシルを意味する。これらは置換されていてなくてよく、あるいは ３個までの置換基、すなわちヒドロキシル、ハロゲン、ことに弗素、塩素、非分 枝もしくは分枝Ｃ，−Ｃ４アルキル、ことにメチル、イソプロピル、部分的もし くは完全にハロゲン化されたＣｌ−０４アルキル、ことにトリフルオロエチル、 Ｃ−０４アルコキシ、ことにメトキシを、また カルボキシルを意味する。

ＲｆはさらにＣ−０８アルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボニル、エト キシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル、１−メチルエトキシカルボニル、 ｎ−ブトキンカルボニル、ｌ−メチルプロピルオキシカルボニル、２−メチルプ ロピルオキシカルボニル、１．１−ジメチルエトキンカルボニル、ｎ−ペントキ シカルボニル、ｌ−メチルブチルオキシカルボニル、２−メチルブチルオキシカ ルボニル、３−メチルブチルオキシカルボニル、２．２−ジメチルプロピルオキ シカルボニル、ｌ−エチルプロピルオキシカルボニル、ｎ−へキンオキシカルボ ニル、１．ｌ−ジメチルプロポキシカルボニル、１．２−ジメチルプロポキシカ ルボニル、１−メチルブチルオキシカルボニル、２−メチルペンチルオキシカル ボニル、３−メチルペンチルオキシカルボニル、４−メチルペンチルオキシカル ボニル、ｌ、１−ジメチルブチルオキシカルボニル、ｌ、２−ジメチルブチルオ キシカルボニル、１．３−ジメチルブチルオキシカルボニル、２．２−ジメチル ブチルオキシカルボニル、２．３−ジメチルブチルオキシカルボニル、３．３− ジメチルブチルオキシカルボニル、ｌ−エチルブチルオキシカルボニル、２−エ チルブチルオキシカルボニル、ｌ、１．２−トリメチルプロピルオキシカルボニ ル、ｌ、２．２−トリメチルプロポキンカルボニル、１−エチル−１−メチルプ ロピルオキシカルボニル、ｌ−エチル−２−メチルプロピルオキシカルボニル、 ことにメトキシカルボニルを、さらに ベンジルオキシカルボニルを意味する。

Ｒｆはさらに置換されていな（てもよ（、また３個までの以下の置換基をもって いてもよいフェニル、チェニル、ピリジルを意味する。置換基はニトロ、シアノ 、ハロゲン、ことに弗素、塩素、非分枝もしくは分枝Ｃ１−Ｃ４アルキル、こと にメチル、エチル、１−メチルエチル、部分的もしくは完全にハロゲン化された Ｃ１−Ｃ４アルキル、ことにトリフルオロメチル、Ｃｌ−Ｃ４アルコキシ、こと にメトキシ、エトキシ、コキシ、ことにジフルオロメトキシ、トリフルオロメト キシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、ことにメチルチオ、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル であって、このシクロアルキル置換基は置換されていなくてもよく、あるいはこ れ自体がさらに３個までのハロゲン、ことに弗素、塩素、非分枝もしくは分枝Ｃ １−Ｃ４アルキル、ことにメチル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１ −Ｃ４アルキル、ことにトリフルオロメチル、Ｃ−Ｃ４アルコキシ、ことにメト キシで置換されていてもよい。

Ｒｆはさらに１個の以下の置換基を持っていてもよいエチニルを意味する。この 置換基は非分枝もしくは分枝Ｃ１−０４アルキル、ことにメチル、エチル、Ｃ３ −０６シクロアルキル、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロベンチル 、シクロヘキシルである。これらシクロアルキルは、置換されていなくてもよい が、さらに３個マチの置換基、ヒドロキシル、ハロゲン、ことに弗素、塩素、非 分枝もしくは分枝Ｃ１−０４アルキル、ことにメチル、エチル、部分的もしくは 完全にハロゲン化されたＣ　−Ｃ４アルキル、ことにトリフルオロメチル、Ｃ− ０４アルコキシ、ことにメトキシ、フェニル、チェニル、ピリジルを持っていて もよい。これら３種類の芳香族置換基自体がさらにまた３個までの置換基、すな わちニトロ、シアノ、ハロゲン、ことに弗素、塩素、非分枝もしくは分枝Ｃ１− Ｃ４アルキル、ことにメチル、エチル、部分的もしくは完全にハロゲン化されて いるＣ１−０４アルキル、ことにトリフルオロメチル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、 ことにメトキシ、部分的もしくは完全にハロゲン化されているＣｌ−０４アルコ キシ、ことにトリフルオロメトキシ、Ｃ，−Ｃ４アルキルチオ、ことにメチルチ オで置換されていてもよい。

Ｒｆはまたフェニル、ハロゲン、フェニル、ジハロゲンフェニルを意味し、さら に ３個までの窒素原子と酸素もしくは硫黄原子から選択される３個までのへテロ原 子を有する５員のへテロ芳香族基、例えばフラニル、チェニル、ピロリル、イソ オキサシリル、イソチアゾリル、ピラゾリル、オキサシリル、チアゾリル、イミ ダゾリル、１，２．４−オキサジアゾリル、１，２．４−チアジアゾリル、１， ２．４−トリアゾリル、１，３．４−オキサジアゾリル、１，３．４−チアジア ゾリル、１，３．４−トリアゾリル、ことにフラニル、チェニルを意味し、さら に ヘテロ原子として５個までの窒素原子を有する６員のへテロ芳香族基、例えばピ リジル、ピリミジル、ピラジル、ピリダジニル、トリアジニル、テトラジニル、 ことにピリジル、ピリミジルを意味する。

上述のフェニルとへテロアリールは置換されていてもよいが、置換可能の炭素原 子が存在する場合には、３個までの以下の置換基、すなわちニトロ、Ｃ１−０４ アルコキシ、ことにメトキシ、Ｃ１−０４アルキルチオ、ことにメチルチオ、部 分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ　ＩＣ４アルコキシ、ことにＣｌ−０２ ハロゲンアルコキシ、例えばトリフルオロメトキシ、Ｚ、−ＮＲｋＲｌを持って いてもよい。

このＲｋは水素、非分枝もしくは分枝Ｃ１−Ｃ４アルキル、ことにメチル、エチ ル、Ｃ３−Ｃ６アルケニル、ことに２−プロピニルを意味し、 Ｒ１は水素、非分枝もしくは分枝Ｃ１−Ｃ４アルキル、ことにメチル、エチル、 Ｃ３−Ｃ６アルケニル、ことに２−プロピニル、Ｃ３−Ｃ６アルキニル、ことに ２−プロピル、分枝もしくは非分枝Ｃ１−Ｃ６アシノペことにアセチル、プロピ オニル、ブチリル、ベンゾイルを意味し、このベンゾイル自体がさらに３個まで の置換基、すなわちニトロ、シアノ、ハロゲン、ことに弗素、塩素、非分枝もし くは分枝Ｃ１−Ｃ４アルキル、ことにメチル、非分枝もしくは分枝Ｃ１−０４ア ルキル、ことにトリフルオロメチル、Ｃ−Ｃ４アルコキシ、ことにメトキシ、■ エトキシ、Ｃ−Ｃ４アルキルチオ、ことにメチルチオを持っていてもよい。

基Ｚが複数である場合、同じかあるいは異なる置換基を持っていてもよい。

置換３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェンＩにより栽培植物認容性が著しく改善さ れ得る除草有効物質、シクロヘキセノン誘導体■が、下表１から８に掲記される 。

以下の式■ で表わされる除草有効物質、２−（４−ヘテロアリールオキシ）−もしくは２− （４−アリールオキシ）−フェノキシ酢酸エステル誘導体の各置換基は以下の透 りである。

Ｒｏはフェニル、ピリジル、ベンズオキサジル、ベンズチアジル、ベンズピラジ ニルを意味し、これらの芳香族環は２個までの置換基を持っていてもよい。すな わち、ニトロ、弗素、塩素、臭素、沃素のようなハロゲン、ことに弗素、塩素 非分枝もしくは分枝Ｃ１−Ｃ４アルキル、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル 、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、部分的もしくは完全にハロゲン化さ れたＣｌ−０４アルキル、ことにＣ１−Ｃ２ハロゲンアルキル、例えばクロロメ チル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル 、トリフルオロメチル、クロロフルオロメチル、ジクロロフルオロメチル、クロ ロジフルオロメチル、ｌ−フルオロエチル、２−フルオロエチル、２．２−ジフ ルオロエチル、２，２゜２−トリフルオロエチル、２−クロロ−２−フルオロエ チル、２−クロロ−２，２−ジフルオロエチル、２．２−ジクロロー２−フルオ ロエチル、２，２．２−トリクロロエチル、ペンタフルオロエチル、ことにトリ フルオロメチル 部分的もしくは完全にハロゲン化されたｃｌ−０４アルコキシ、ことにｃｌ−０ ２ハロゲンアルコキシ、例えばクロロメトキシ、ジクロロメトキシ、トリクロロ メトキシ、クロロフルオロメトキシ、ジクロロフルオロメトキシ、クロロジフル オロメトキシ、ｌ−フルオロエトキシ、２−フルオロエトキシ、２．２−ジフル オロエトキシ、２，２．２−）リフルオロエトキシ、２−クロロ−２−フルオロ エトキシ、２−クロロ−２，２−ジフルオロエトキシ、２，２−ジクロロ−２− フルオロエトキシ、２．２．２−１−ジクロロエトキシ、ペンタフルオロエトキ シ、ことにトリフルオロメトキシで置換されていてもよい。

Ｒ１）は水、アルキル、ことにメチルをＲＱは水、非分枝もしくは分枝Ｃ−Ｃ４ アルキル、ことにメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチルを意味し、 Ｃ３Ｃ４アルケニル、例えばｌ−プロペニル−１１２−プロペニル−１，２−ブ テニル−１，３−ブテニル−ＩＳ　１−メチル−２−プロペニル−１，２−メチ ル−２−プロペニル−１、ことに２−プロペニル−１１ｃ３−０４アルキル、例 えばｌ−プロピニル−１，２−プロピニル−１，２−ブテニル−１，３−ブテニ ル−１，１−メチル−２−プロピニル−１，２−メチル−２−プロピニル−１１ ことに２−プロピニル−１，Ｃ−Ｃ４アルコキシーＣ１−０４アルキル、例えば メトキシメチル、エトキシメチル、ｎ−プロポキシメチル、（ｌ−メチルエトキ シ）−メチル、ｎ−ブトキシメチル、（１−メチルプロポキシ）−メチル、（２ −メチルプロポキシ）−メチル、（１，１−ジメチルエトキシ）−メチル、メト キシエチル、エトキシエチル、ｎ−プロポキシエチル、（ｌ−メチルエトキシ） −エチル、ｎ−ブトキシエチル、（ｌ−メチルプロポキシ）−エチル、（２−メ チルプロポキシ）−エチル、（１，ｌ−ジメチルプロポキン）−エチル、３−（ メトキシ）−プロピル、２−（メトキシ）−プロピル、２−（エトキシ）−プロ ピル、ことにメトキシメチル、エトキシメチルを意味し、さらにＣ−Ｃ４アルキ リデンイミノオキシ−Ｃ２−Ｃ３−アルキル、ことに２−プロピリデンイミノオ キシエチルを、また テトラヒドロフラニルメチル、イソオキサゾリジン、植物容認性陽イオン、例え ばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属陽イオン、カルシウム、マグネシ ウム、バリウムのようなアルカリ土類金属陽イオン、マンガン、銅、亜鉛、鉄の 陽イオン、３個のＣ１−Ｃ４アルキル、３個のヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ４アルキル 、１個のフェニルもしくはベンジル、から選択される３個までの置換基を持って いてもよいアンモニウム陽イオン、例えばテトラアルキルもしくはベンジルアル キルアンモニウム陽イオン、ホスホニウム陽イオン、スルホニウム陽イオン、ト リアルキルスルホニウムのようなスルホニウム陽イオン、スルホオキソニウム陽 イオン当量を意味する。上記化合物は文献（例えば西独特許出願公開２２２３８ ９４号、２４３３０６７号、２５７６２５１号、３００４７７０号各後方、ベ米 国−特許８６８８７５号、同８５８６１８号明細書参照）から公知である。

この２−（４−へテロアリールオキシ）−および（４−アリールオキシ）−フェ ノキシ酢酸誘導体■は、１個もしくは複数個の非対称中心を有し、通常の製造方 法による場合、セラミ化合物として得られるが、必要に応じてこのための慣用法 、例えば光学的活性吸着剤により、各異性体に分離され得る。

セラミ体でも純粋な各異性でも禾本科に属する雑草の制圧作用を有する。この化 合物の栽培植物容認性は、その種類と用量に応じて、商業的容認性と非容認性の 間において区々多様である。

置換３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェンＩにより栽培植物容認性が改善され得る 。除草剤２−（４−ヘテロアリールオキシ）−および（４−アリールオキシ）− フェノキシ酢酸誘導体■は特定の種類を以下の表９に掲記する。

番号　ＲＯＲＰ　ＲＱ　文献 ｅ、ｏｚ　＋Ｆ３　ＣＨ３−ｎ−Ｃ４Ｈ＠　ＢＥ−Ａ　８６Ｂ　８７５１．０３ 　＋Ｆ３　ＣＨ３−ＣＨ２ＣＨ２０ＣＨ２８５υ５−Ａ４７５３６７３Ｂ、０４ 　尤て刀、ＣＨ３−Ｃ２Ｈ５ＢＥ−＾８５Ｂ　６１８除草有効物質と毒性解除有 効化合物とを混合し、あるいは別個に、事後法により栽培植物および雑草の葉面 および苗条（芽条）に施される。除草有効物質および毒性解除有効化合物とは、 同時に耕作地土壌に施こすのが好ましい。両者を別個に施与する場合には、毒性 解除剤を先に施こすのが好ましい。

各有効物質は、合併しであるいは別個に調剤され、懸濁可能、乳化可能あるいは 溶解可能形態において噴霧調剤になされる。

解毒効果はまた栽培植物の種子もしくは苗を播種前もしくは移植前に解毒剤で処 理することによっても達成され得る。次いで除草剤が常法により単独で施用され る。

種子処理の場合、有効物質使用量は、種子１ｋｇに対して、一般的に０．１から １０ｇ、ことに１から２ｇである。解毒剤を種子浸漬、苗処理により施こす場合 、溶液形態が好ましく、有効物質濃度は１から１１００００ｐｐ。

ことに１００から１１０００ｐｐとする。

栽培植物の種類に応じて解毒有効化合物１重量％予想有効化合物■もしくは■の 使用量は相違し、使用量割合も広い範囲で変化する。これはシクロヘキセノン誘 導体Ｈないしヘテロアリールオキシ−もしくはアリールオキシフェノキシ酢酸誘 導体■と、置換３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェンＩの構造ならびにこれら化合 物が施こされる栽培植物の種類に応じて相違する。解毒作用物質、置換３−アミ ノベンゾ［ｂ］チオフェン■に対する除草作用有効物質の適当な使用割合は、１ ：１０から１：０．０１゜ことに１：４からｌ：ｏ、１の範囲である。

本発明による薬剤又は別々に散布する際の除草性有効物質もしくは解毒剤は例え ば直接的に噴霧可能な溶液、粉末、懸濁液、更にまた高濃度の水性、油性又はそ の他の懸濁液又は分散液、エマルジョン、油性分散液、ペースト、ダスト剤、散 布剤又は顆粒の形で噴霧、ミスト法、ダスト法、散布法又は注入法によって適用 することができる。適用形式は、完全に使用目的に基づいて決定される。

直接飛散可能の溶液、乳濁液、ペースト又は油分散液を製造するために、中位乃 至高位の沸点の鉱油留分例えば燈油又はディーゼル油、更にコールタール油等、 並びに植物性又は動物性産出源の油、脂肪族、環状及び芳香族炭化水素例えばメ タノール、エタノ°−ル、イソプロパツール、ブタノール、クロロホルム、四塩 化炭素、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、クロルベンゾール、ドルオー ル、キジロール、パラフィン、テトラヒドロナフタリン、アルキル置換ナフタリ ン又はその誘導体、あるいはイソフォロン等、強極性溶剤例えばジメチルフォル ムアミド、ジメチルスルフオキシド、Ｎ−メチルピロリドン、ことに水が使用さ れる。

水性使用形は乳濁液濃縮物、ペースト、又は湿潤可能の粉末（噴射粉末）油分散 液より水を添加して製造することができる。乳濁液、ペースト又は油分散液を製 造するためには、除草性有効物質及び／又は解毒剤はそのまま又は油又は溶剤中 に溶解して、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化剤により水中に均質に混合される ことができる。しかも除草性有効物質及び／又は解毒剤、湿潤剤、接着剤、分散 剤又は乳化剤及び場合により溶剤又は油よりなる濃縮物を製造することもでき、 これは水にて希釈するのに適する。

表面活性物質としては次のものが挙げられる：リグニンスルフォン酸、ナフタリ ンスルフォン酸、フェノールスルフォン酸の各アルカリ塩、アルカリ土類塩、ア ンモニウム塩、アルキルアリールスルフオナート、アルキルスルフアート、アル キルスルフア−ト、ジブチルナフタリンスルフォン酸のアルカリ塩及びアルカリ 土類塩、ラウリルエーテルスルフアート、脂肪アルコールスルフアート、脂肪酸 のアルカリ塩及びアルカリ土類塩並びに硫酸化ヘキサデカノール、ヘプタデカノ ール及びオクタデカノールの塩、並びに硫酸化脂肪アルコールグリコールエーテ ルの塩、スルフォン化ナフタリン及びナフタリン誘導体とフォルムアルデヒドと の縮合生成物、ナフタリン或はナフタリンスルフォン酸とフェノール及びフォル ムアルデヒドとの縮合生成物、ポリオキシエチレン−オクチルフェノールエーテ ル、エトキシル化イソオクチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノ ール、アルキルフェノールポリグリコールエーテル、トリブチルフェニルポリグ リコールエーテル、アルキルアリールポリエーテルアルコール、イソトリデシル アルコール、脂肪アルコールエチレンオキシド−縮合物、エトキシル化ヒマシ油 、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、又はエトキシル化ポリオキシプロピレ ン、ラウリルアルコールポリグリコールエーテルアセクール、ソルビットエステ ル、リグニン−亜硫酸廃液及びメチル繊維素。

粉末、散布剤及び振りかけ剤は除草性有効物質及び／又は解毒剤と固状担体物質 とを混合又は−緒に磨砕することにより製造することができる。

粒状体例えば被覆−１透浸−及び均質粒状体は、有効物質を固状担体物質に結合 することにより製造することができる。固状担体物質は例えば鉱物上例えばシリ カゲル、珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩、滑石、カオリン、アタクレー、石灰石、石灰 、白亜、膠塊粒土、石灰質黄色粘土、粘土、白雲石、珪藻土、硫酸カルシウム、 硫酸マグネシウム、酸化マグネシウム、磨砕合成樹脂、肥料例えば硫酸アンモニ ウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、尿素及び植物性生成物例えば穀物 粉、樹皮、木材及びクルミ穀粉、繊維素粉末及び他の固状担体物質である。

使用形は除草性有効物質及び解毒剤を０．０２乃至９５重量％殊に０．５乃至９ ０重量％を含有する。除草性有動物質の使用量は０．０５〜５ｋｇ／ヘクタール である。

除草剤は、解毒作用を有する置換３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェンＩと、除草 作用を有するシクロヘキセノン■あるいは（ヘテロアリールオキシ）−ないしく アリールオキシ）−フェノキシ酢酸誘導体■とのほかに、異なる化学構造のしか も３−スミノベンゾ［ｂ］チオフェンの毒性解除効果を維持する除草ないし生長 制御作用物質を含有し得る。

ビ　３−アミノベンゾ　ｂ　チオフェンＩ股」二込ニューと 大１０引立 ３．５−ジアミノ−４−シアン−２−アシルベンゾ［ｂ］チオフェン ３００ミリリツトルのメトキシプロパツール中、０゜１モルの５−アミノ−４− シアノベンズイソチアゾールの溶液に、０．１モルのナトリウムメタル−ト（メ タノール９３０％溶液として）を添加し、１００°Ｃにおいて１時間撹拌し、次 いで５０’Ｃに冷却した。０．１モルのくろろあせとんおよびさらに０．１モル のナトリウムメタル−ト（メタノール９３０％溶液として）を添加後、この混合 物をさらに２．５時間１００°Ｃに加熱し、次いで３０００ミリリツトルの水中 で撹拌し、沈澱生成物を分離し、水で洗浄し、乾燥した。収率８０％、融点２５ ０°Ｃ以上。

なお、５−アミノ−４−シアノベンズイソチアゾールから出発してクロロアセト ンの代りに他のカルボニル化合物を使用することにより、同様にして３．５−ジ アミノ−４−シアノ−２−ベンゾ［ｂ］チオフェン誘導体を得た。

表１０にこのカルボニル化合物と、これにより得られた新規化合物Ｉ′が掲記さ れる。

鵠 ・　に　る 除草有効物質および解毒作用化合物から成る本発明による除草剤ないし除草組成 物の、栽培植物および雑草の生長に対する影響を、除草有効物質のみを使用した 場合に対比して、以下の温室実験による生物学的実施例により示す。

この温室実験において、３０００ｍ３の内容積を有し、培基として約３．０重量 ％の腐葉土を含有するローム土砂を収納したプラスチック製植木鉢を使用した。

被試植物の種子を種類ごとに分けて各植木鉢に浅く播種し、潅水した。次いで各 植木鉢を透視可能のプラスチックシートで被覆し、種子が一斉に発芽し、各植物 が生長するのを観察した。

試験植物のリスト コムギ（秋播き）（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ　ａｅｓｔｉｖｕｍ）コムギ（春播き）（ Ｔｒｉｔｉｃｕｍ　ａｅｓｔｉｖｕｍ）エノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａｖｉｒｉ ｄｉｓ）トウモロコシ（Ｚｅａｍａｙｓ） 事後処理のために、被験植物が草丈３ないし２０ｃｍとなるまで生長してから始 めて実験処理した。すなわち、本発明除草剤は分配剤としての水に懸濁ないし乳 化せしめられ、噴霧器により施こされた。

除草剤実施例として、シクロヘキセノン誘導体■として以下のものを使用した。

（商名品Ｓｅｔｈｏｘｙｄｉｍ） 解毒作用化合物全量を、事後処理用として、希釈剤としてのシクロへキセノン８ ０重量％および表面活性剤（Ｅｍｕ　１　ｐ　ｈ　ｏ　ｒ’ＥＬ、エトキシル化 ひまし油）２０重量％から成る混合物に１０重量％の割合で添加した。

対比のため除草有効物質１０から２０重量％乳化剤濃度として調剤し、解毒有効 化合物を下表に示される量で添加し、各種溶媒で噴霧液を調製した。溶液の調製 は、９３重量％のキシレンと７重量％のＬｕｔｅｎｓｏｌ。

ＡＰ−８（アルキルフェノールポリエチレングリコールエーテルを主体とする非 イオン性表面活性剤）から成る溶液に有効物質を混合することにより行われた。

それぞれの有効物質混合物を施用した後、各被験植物を約１８から３０°Ｃの熱 帯性部分および約ＩＯから２５００の温帯性部分に分けて温室内で栽培した。

実験期間を３から５週目に限定し、その間植物を管理し、有効物質による処理に 対する反応を観察した。

除草有効物質であるシクロヘキセノン誘導体Ｈの、禾本科の栽培植物、すなわち 小麦およびとうもろこしによる容認性の、３−アミノベンゾ［ｂ］チオフヱンＩ による改善効果が、下表１１から１５に示される。

表１２ ［ｋｇ／ｈａ、活性物質］ ＋＋＋　＋＋＋　０，２５　８０　１０００８　Ｇ、２５　０，２５　２０　１ ００−−−　−−−　０．１２５　７５　１０００８　０．１２５　０，１２５ 　２０　９５−−−　−−−　０．０６　６０　９８０８　０．０６　０，０６ 　５　７５ １１　０．０６　０，０６　３０　９５−−−　−−−　０，０３　１０　６０ ０８　０．０３　０，０３　０　５０ １１　０．０３　０，０３　２０　７５表１３ １：ｋｇ／ｈａ、活性物質］ −−−−−−０，１２５８５９０９０ 表１・↓ 表１５ Ｈ−一−−−０，０６９０９０９０ ０９０，０６０，０６０６０９０ １００，０６０，０６１０６５８５ ＋＋＋　＋＋＋　０，０３　７５　７５　９０フロントページの続き （５１）　Ｉｎｔ、Ｃ１，５識別記号　庁内整理番号Ｃ０７Ｄ　３３３／７０　 ９４５５−４Ｃ３３５１０２９４５５−４Ｃ ／／ＡＯＩＮ　４３／４０　１０１　Ｅ　９１５９−４Ｈ４３１５４Ｃ９１５９ −４Ｈ ４３／７６　１０１　９１５９−４Ｈ ＣＯ７Ｄ　２０７／３３５　８２１７−４Ｃ２１３１５３９１６４−４Ｃ ２３１／１２　７４３１−４Ｃ ２６１１０８９２８３−４Ｃ ２７５１０４９０５１−４Ｃ ３０９１０６９３６０−４Ｃ ３０９１０８９３６０−４Ｃ ３１９１０６９４５４−４Ｃ ３３３／２２　９４５５−４Ｃ ４０５／１２　２０７　７６０２−４Ｃ２１３７６０２−４Ｃ ４０７／１２　３０７　７６０２−４Ｃ３０９７６０２−４Ｃ ４０９／１２　３０９　７６０２−４Ｃ４１１／１２　７６０２−４Ｃ ４１７１０４９０５１−４Ｃ Ｉ フロントページの続き （７２）発明者　二ルツ、ゲールハルトドイツ国、Ｄ−６７０１、ダンシュタッ トーシャウエルンハイム、ハールトシュトラーセ、１３ （７２）発明者　レチュ、トーマス ドイツ国、Ｄ−６７００、ルートヴイッヒスハーフェン、ホーエンツォレルンシ ュトラーセ、６２ （７２）発明者　ヴアルター、ヘルムートドイツ国、Ｄ−６７１９、オブリッヒ ハイム、グリューンシュタツター、シュトラーセ、（７２）発明者　ランデス、 アンドレアスドイツ国、Ｄ−６７０３、リムブルガーホーフ、ランテレ、ハルト 、１２

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. （１）以下の一般式Ｉ ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされ、 式中のＲ１が−ＣＯＸ基あるいは−ＣＯＯＸ基を意味し、 このＸが水素、ハロゲン、置換されていないか、あるいは１から３個の、Ｃ１− Ｃ４アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、フェニルおよびベンジルの 各基から選択される置換基を有するアミノ、Ｃ１−Ｃ１０アルキル、Ｃ２−Ｃ８ アルケニル、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルケニル（た だしこれら最後の４個の基は置換されていないか、あるいは部分的もしくは完全 にハロゲン化されており、さらに１個もしくは２個のカルボキシルあるいはカル ボニルを持っていてもよい）、酸素原子および硫黄原子あるいは１から３個の窒 素原子と酸素もしくは硫黄原子から選ばれる１から３個のヘテロ原子を持ってい る（ただし３個のヘテロ原子が同時に隣接することはできない）５員もしくは６ 員の芳香族ヘテロ環、置換されていないか、あるいはハロゲン、−ＣＯＹ基およ び−ＣＯＯＹ基（ただしこれらはさらに置換可能の炭素原子が存在する限り多数 のハロゲン原子を持っていてもよい）から選ばれる３個までの置換を持っていて もよいフェニルないしナフチルを意味し、このＹがＣ１−Ｃ６アルキル、Ｃ３− Ｃ６シクロアルキルあるいはフェニルを意味し、 式中のＲ２、Ｒ３が水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、メルカプト、アミノ（た だしその窒素原子はＣ１−Ｃ４アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ４アルキル、フ ェニルおよびベンジルから選ばれる１個から３個の置換基を持っていてもよい） 、Ｃ１−Ｃ１０アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、Ｃ２−Ｃ８アルケニル、Ｃ３ −Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルケニル（ただしこれら最後の ４個の基は部分的もしくは完全にハロゲン化されていてもよい）、フェニル、ナ フチル、酸素原子と硫黄原子、あるいは窒素原子と酸素原子もしくは硫黄原子か ら選ばれる３個までのヘテロ原子（ただしヘテロ原子が３個の場合にはすべてが 同時に隣接することはできない）を有する５員もしくは６員の芳香族ヘテロ環を 意味し、式中のＲ４からＲ７までが水素、フェニル、ナフチルあるいは酸素原子 と硫黄原子あるいは３個の窒素原子と酸素原子もしくは硫黄原子から選ばれる３ 個までのヘテロ原子（ただしヘテロ原子が３個の場合にはすべてが同時に隣接す ることはできない）を有する５員もしくは６員の芳香族ヘテロ環（上記芳香族お よびヘテロ芳香族基は３個までの以下の置換基、すなわちハロゲン、−ＣＯＹ基 あるいは−ＣＯＯＹ基を持っていてもよく、さらにこれら置換基は置換可能の炭 素原子が存在する限り多数のハロゲン原子を持っていてもよい）、Ｃ１−Ｃ１０ アルキル、Ｃ２−Ｃ６アルケニル、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ３−Ｃ１０ シクロアルケニルを意味し、あるいはＲ４とＲ５および／あるいはＲ６とＲ７が 、結合されている窒素原子と共に５員から７員の環を形成することができる、 毒性解除作用を有する３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェンおよび少なくとも１種 類のカルボキシル、ヒドロキシチオ力ルボニルあるいはスルホン酸基を有する化 合物１の塩基性塩および塩基性窒素原子を有する化合物Ｉの酸性塩の少なくとも １種類と、 （Ａ）以下の一般式ＩＩ ▲数式、化学式、表等があります▼ＩＩで表わされ、 ＲａがＣ１−Ｃ６アルキルを意味し、 Ｒｂか水素、農業上使用可能のカチオンの当量、Ｃ２−Ｃ８アルキルカルボニル 、Ｃ１−Ｃ１０アルキルスルホニル、Ｃ１−Ｃ１０アルキルホスホニル、ベンゾ イル、ベンゼンスルホニル、ベンゼンスルホニル又はベンゼンスルホニル（ただ し最後の３個の基は１から５個のハロゲン原子を持っていてもよい）を意味し、 Ｒｃが水素、シアノ、ホルミル、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ− Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ−Ｃ１−Ｃ６アルキル、フェノキ シ−Ｃ１−Ｃ６アルキル、フェニルチオ−Ｃ１−Ｃ６アルキル、ピリジルオキシ −Ｃ１−Ｃ６アルキル又はピリジルチオ−Ｃ１−Ｃ６アルキル（ただし上記フェ ニルおよびピリジル環はそれぞれ１個から３個の以下の置換基、すなわちニトロ 、シアノ、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化さ れたＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、部分的もしくは完全にハロゲ ン化されたＣ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ３−Ｃ６アルケ ニル、Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ、Ｃ３−Ｃ６アルキニル、Ｃ３−Ｃ６アルキ ニルオキシ、−ＮＲｇＲｈを持っていてもよい）を意味し、このＲｇが水素、Ｃ １−Ｃ４アルキル、Ｃ３−Ｃ６アルケニル、Ｃ３−Ｃ６アルキニル、Ｃ１−Ｃ６ アシル、３個までの以下の置換基、すなわちニトロ、シアノ、ハロゲン、Ｃ１− Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ １−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオを持っていてもよいベンゾイルを 意味し、 そのＲｈが水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ３−Ｃ６アルケニル、Ｃ３−Ｃ６アル キニルを、 Ｃ３−Ｃ７シクロアルキルあるいはＣ５−Ｃ７シクロアルケニル（ただしこれら の基は３梱までの以下の置換基、すなわちヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ４ アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１− Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、ベンジルチオ、Ｃ１−Ｃ４アルキル スルホニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフェニル、Ｃ１−Ｃ４アルキルスルフィニ ルを持っていてもよい）を、１もしくは２個の、酸素原子または硫黄原子あるい は酸素原子と硫黄原子をヘテロ原子として有し、かつ３個までの以下の置換基、 すなわちＣ１−Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオを持っていてもよ い５員飽和ヘテロ環を、１もしくは２個の、酸素原子または硫黄原子あるいは酸 素原子と硫黄原子をヘテロ原子として有し、かつ３個までの以下の置換基、すな わちヒドロキシル、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロ ゲン化されたＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキル チオを持っていてもよい６員もしくは７員の飽和あるいは単環もしくは双環不飽 和ヘテロ環を、１もしくは２個の窒素原子と酸素原子または硫黄原子をヘテロ原 子として３個まで有し、かつ３個までの以下の置換基、すなわちシアノ、ハロゲ ン、Ｃ１−Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４ア ルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１− Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ２−Ｃ６アルケニル、Ｃ２−Ｃ６ アルケニルオキシ、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオキシ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ−Ｃ１ −Ｃ４アルキルを持っていてもよい５員ヘテロ芳香族環を、 ３個までの以下の置換基、すなわちニトロ、シアノ、ホルミル、ハロゲン、Ｃ１ −Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４アルキル、 Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４アル コキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ３−Ｃ６アルケニルを持っていてもよいフ ェニルあるいはピリジルを、さらに Ｃ３−Ｃ６アルケニルオキシ、Ｃ３−Ｃ６アルキニル、Ｃ３−Ｃ６アルキニルオ キシ、−ＮＲｋＲ１（ＲｋＲ１は後述する意味わ有する）をそれぞれ意味し、式 中のＲｄが水素、ヒドロキシル、あるいはＲｃがＣ１−Ｃ６アルキルを意味する 場合、Ｃ１−Ｃ６アルキルを意味し、 Ｒｅが水素、ハロゲン、シアノ、Ｃ１−Ｃ４アルコキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ４ アルキルケトオキシムを意味し、 Ｗが３個までの置換基、すなわち３個のＣ１−Ｃ３アルキル、３個のハロゲン原 子および１個のメチレンから選ばれる置換基を持っていてもよいＣ１−Ｃ６アル キル鎖、Ｃ３−Ｃ６アルケニレン鎖、Ｃ３−Ｃ６アルキニレン鎖を意味し、 Ｃ３−Ｃ６アルキレン鎖あるいはＣ４−Ｃ６アルケニレン鎖（ただし両者共３個 までのＣ１−Ｃ３アルキル基を持っていてもよく、また各鎖のメチレン基が酸素 原子もしくは硫黄原子、スルホキシドもしくはスルホンあるいはＮ−（Ｒｉ）− で置換されていてもよい）を意味し、このＲｉが水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ ３−Ｃ６アルケニル、Ｃ３−Ｃ６アルキニルを意味し、式中のＲｆが水素、ビニ ルを、 −ＣＨ＝ＣＨ−Ｚ（Ｚはシアノ、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ４アルキル、部分的もしく は完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４アルキルを意味する）を、 Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル（３個までの以下の置換基、すなわちヒドロキシル、 ハロゲン、Ｃ１−Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１− Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシを持っていてもよい）を、カルボキシル、 Ｃ１−Ｃ８アルコキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、フェニル、チエ ニル、ピリジル（ただしこれら３個の芳香族基は置換されていないくてもよく、 あるいは３個までの以下の置換基、すなわちニトロ、シアノ、ハロゲン、Ｃ１− Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されているＣ１−Ｃ４アルキル 、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、部分的もしくは完全にハロゲン化されているＣ１−Ｃ ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキルを持ってい てもよく、このシクロアルキルは置換されていなくてもよく、あるいはこれ自体 がさらに３個までの以下の置換基、すなわちハロゲン、Ｃ１−Ｃ４アルキル、部 分的もしくは完全にハロゲン化されているＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アル コキシを持っていてもよい）を、以下の置換基、すなわちＣ１−Ｃ４アルキル、 Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル（ただし３個までの以下の置換基、すなわちヒドロキ シル、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化された Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシを持っていてもよい）、フェニル、 チエニル、ピリジル（ただしこれら芳香族基は置換されていないくてもよく、あ るいは３個までの以下の置換基、すなわちニトロ、シアノ、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１ −Ｃ４アルコキシ、部分的もしくは完全にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４アルコキ シ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオを持っていてもよい）を持っていてもよいエチニル 基、フェニル基、ハロゲンフェニル基、ジハロゲンフェニル基、３個までの窒素 原子と酸素原子もしくは硫黄原子をヘテロ原子として３個まで持っている５員環 ヘテロ芳香族基、４個までの窒素原子を持っている６員環ヘテロ芳香族基（ただ しこれら窒素原子すべてが同時に隣接することはできない）（上述のフェニル基 およびヘテロアリール基は、３個までの以下の置換基、すなわちニトロ、Ｃ１− Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４アルキルチオ、部分的もしくは完全にハロゲン化さ れたＣ１−Ｃ４アルコキシ、上述Ｚ、−ＮＲｋＲ１を持っていてもよい）を意味 し、 このＲｋが水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ３−Ｃ６アルケニル、Ｃ３−Ｃ６アル キニルを意味し、Ｒ１が水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ３−Ｃ６アルケニル、Ｃ ３−Ｃ６アルキニル、Ｃ１−Ｃ６アシル、ベンゾイル（これは３個までの以下の 置換基、ニトロ、シアノ、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全 にハロゲン化されたＣ１−Ｃ４アルキル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ、Ｃ１−Ｃ４ア ルキルチオを持っていてもよい）を意味する、シクロヘキセノン誘導体、あるい は（Ｂ）以下の一般式ＩＩＩ ▲数式、化学式、表等があります▼ＩＩＩで表わされ、 Ｒｏがフェニル、ピリジル、ベンズオキサジル、ベンズチアジル、ベンズピラジ ニル（これら芳香族環は置換されていなくてもよく、あるいは２個までの以下の 置換基、すなわちニトロ、Ｃ１−Ｃ４アルキル、部分的もしくは完全にハロゲン 化されたＣ１−Ｃ４アルキル、および／あるいは部分的もしくは完全にハロゲン 化されたＣ１−Ｃ４アルコキシを持っていてもよい）を意味し、このＲｐが水素 あるいはメチルを意味し、Ｒｑが水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ３−Ｃ４アルケ ニル、Ｃ３−Ｃ４アルキニル、Ｃ１−Ｃ４アルコキシ−Ｃ１−Ｃ４アルキル、Ｃ ３−Ｃ４アルキルジェンイミノオキシ、Ｃ２−Ｃ３アルキル基、テトラヒドロフ ラニルメチル、イソオキザロリジン基、農業上使用可能カチオンの相当物を意味 する、２−（４−ヘテロアリールオキシ）−フェノキシ酢酸誘導体もしくは２− （４−アリールオキシ）−フェノキシ酢酸誘導体 から成る除草有効物質の少なくとも１種類を含有する除草剤。
2. （２）式ＩにおけるＲ２からＲ７が水素を意味する場合の少なくとも１種類の３ −アミノベンゾ［ｂ］チオフェンを毒性解除有効化合物としてその有効量を含有 することを特徴とする、請求項（１）による除草剤。
3. （３）毒性解除効果を有する３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェンＩの少なくとも １種類と、除草剤ＩＩおよび／あるいは除草剤ＩＩＩの少なくとも１種類を１： １０から１０：１の割合で含有することを特徴とする、請求項（１）による除草 剤。
4. （４）毒性解除効果を有する３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェンＩの少なくとも １種類と、除草剤ＩＩおよび／あるいは除草剤ＩＩＩの少なくとも１種類を１： １０から１０：１の割合で含有することを特徴とする、請求項（２）による除草 剤。
5. （５）式ＩにおけるＲ２からＲ７が水素を意味する場合の請求項（１）による３ −アミノベンゾ［ｂ］チオフェンを、以下の式ＩＶ ▲数式、化学式、表等があります▼ＩＶで表わされるニトロベンズチアゾールを 、塩基の存在下にシアン酢酸エステルと反応させ、得られるシアノベンズチオア ゾールＶ ▲数式、化学式、表等があります▼Ｖ をＣ１ＣＨ２−Ｒ１もしくはＢｒＣＨ２−Ｒ１と反応させることにより製造する 方法。
6. （６）請求項（１）による３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェンＩの少なくとも１ 種類の毒性解除有効量と、（Ａ）式ＩＩのシクロヘキセノン誘導体あるいは（Ｂ ）式ＩＩＩの２−（４−ヘテロアリールオキシ）−もしくは２−（４−アリール オキシ）−フェノキシ酢酸誘導体の少なくとも１種類の除草有効量とを、栽培植 物の播種前、その間もしくはその後、あるいは栽培植物の生長前もしくはその間 に、同時にもしくは相前後して施こすことを特徴とする、栽培植物にとって好ま しくない植物の栽培植物耕作地における生長を選択的に制圧する方法。
7. （７）栽培植物と好ましくない植物の葉面に、請求項（１）の除草剤有効組成分 を同時にあるいは相前後して施こし、事後法処理することを特徴とする、栽培植 物にとって好ましくない植物の栽培植物耕作地における生長を選択的に阻止する 方法。
8. （８）栽培植物と好ましくない植物の葉面に、請求項（２）の除草剤有効成分を 同時にあるいは相前後して施こし、事後法処理することを特徴とする、栽培植物 にとって好ましくない植物の栽培植物耕作地における生長を選択的に阻止する方 法。
9. （９）栽培植物と好ましくない植物の葉面に、請求項（３）の除草剤有効成分を 同時にあるいは相前後して施こし、事後法処理することを特徴とする、栽培植物 にとって好ましくない植物の栽培植物耕作地における生長を選択的に阻止する方 法。
10. （１０）栽培植物の種子を、請求項（１）の式まで表わされる３−アミノベンゾ ［ｂ］チオフェンの毒性解除有効量で処理することを特徴とする、（Ａ）式ＩＩ の除草剤、シクロヘキセノン誘導体あるいは（Ｂ）式ＩＩＩの除草剤、２−（４ −ヘテロアリールオキシ）−もしくは２−（４−アリールオキシ）−フェノキシ 酢酸誘導体による栽培植物の薬害を阻止する方法。
11. （１１）栽培植物が大麦、小麦、とうもろこし、もろこしおよび稲であることを 特徴とする、請求項（６）による方法。
12. （１２）以下の一般式Ｉ′ ▲数式、化学式、表等があります▼Ｉ′で表わされ、 式中のＲ１が−ＣＯＸ基あるいは−ＣＯＯＸ基を意味し、このＸが水素、ハロゲ ン、アミノ（これは置換されていなくてもよく、あるいは３個までの以下の置換 基、すなわちＣ１−Ｃ４アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１−Ｃ４アルキル、フェニル 、ベンジルを持っていてもよい）、Ｃ１−Ｃ１０アルキル、Ｃ２−Ｃ８アルケニ ル、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルケニル（これら最後 の４個の基は置換されていなくてもあるいは１個もしくは２個のカルボキシル、 カルボニルを持っていてもよい）、酸素原子と硫黄原子あるいは３個の窒素原子 と酸素原子もしくは硫黄原子から選ばれる３個までのヘテロ原子（ただし３個の ヘテロ原子が同時に隣接することはできない）を有する５員または６員の芳香族 ヘテロ環、フェニルあるいはナフチル（これらは３個までの置換基、すなわちハ ロゲン、−ＣＯＹ、−ＣＯＯＹを持っていてもよく、さらに置換可能の炭素原子 が在る限り多数のハロゲン原子を持っていてもよい）を意味し、このＹがＣ１− Ｃ６アルキル、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル、フェニルを意味することを特徴とす る、３−アミノベンゾ［ｂ］チオフェン。
13. （１３）式Ｉ′においてＲ１が水素、アシル、メトキシカルボニル、ｔ−ブトキ シカルボニル−１−プロペン−３−オキシカルボニル、ｎ−プトキシカルボニル ＜２−ヘプチルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、カルボン酸アミ ド、カルボキシ酢酸エチルエステル、オキサリル酸エチルエステル、ベンゾイル を意味することを特徴とする、請求項（８）による式Ｉ′の３−アミノベンズ［ ｂ］チオフェン。
14. （１４）一般式Ｖ ▲数式、化学式、表等があります▼Ｖ で表わされ、式中のＲ２、Ｒ３が 水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、メルカプト、アミノ（その窒素原子が３個ま での置換基、すなわちＣ１−Ｃ４アルキル、フェニル、ベンジルを持っていても よい）を、 Ｃ１−Ｃ１０アルキル、Ｃ３−Ｃ６アルコキシ、Ｃ２−Ｃ８アルケニル、Ｃ３− Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ３−Ｃ１０シクロアルケニル（これら４個の基は部分 的もしくは完全にハロゲン化されていてもよい）、フェニル、ナフチルを、 酸素原子と硫黄原子あるいは３個の窒素原子と酸素原子もしくは硫黄原子から選 択される３個までのヘテロ原子（だたしヘテロ原子が３個の場合、これら全部が 同時に隣接することはできない）を有する５員または６員の芳香族ヘテロ環をそ れぞれ意味することを特徴とするシアノベンズチアゾール。
15. （１５）以下の式ＩＶ ▲数式、化学式、表等があります▼ＩＶで表わされるニトロベンゾールを、塩素 の存在下にシアン酢酸エステルと反応させることを特徴とする、請求項（１４） による式Ｖのシアノベンズチアゾールを製造する方法。