JPH06510523A - Novel cephem compounds - Google Patents

Novel cephem compounds

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JPH06510523A
JPH06510523A JP4509891A JP50989192A JPH06510523A JP H06510523 A JPH06510523 A JP H06510523A JP 4509891 A JP4509891 A JP 4509891A JP 50989192 A JP50989192 A JP 50989192A JP H06510523 A JPH06510523 A JP H06510523A
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JP
Japan
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group
formula
salts
tables
alkyl group
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Application number
JP4509891A
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Japanese (ja)
Inventor
坂根 和夫
秀昭 山中
恭弘 小川
Original Assignee
藤沢薬品工業株式会社
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、新規なセフェム化合物および医薬として許容されるその塩類に関す るものである。より詳細には、この発明は、抗菌活性を有する新規なセフェム化 合物および医薬として許容されるその塩類、それらの製造方法、それらを含む医 薬組成物、並びにヒトおよび動物の感染症を治療する方法に関するものである。[Detailed description of the invention] This invention relates to novel cephem compounds and pharmaceutically acceptable salts thereof. It is something that More specifically, this invention provides a novel cephemyl compound with antibacterial activity. compounds and their pharmaceutically acceptable salts, their production methods, and pharmaceuticals containing them. It relates to pharmaceutical compositions and methods of treating infectious diseases in humans and animals.

従って、この発明の一つの目的は、多くの病原菌に対して高い活性を有するセフ ェム化合物および医薬として許容されるその塩類を提供することである。Therefore, one purpose of this invention is to provide a therapeutic agent that has high activity against many pathogenic bacteria. It is an object of the present invention to provide emem compounds and pharmaceutically acceptable salts thereof.

この発明のもう一つの目的は、上記セフェム化合物およびその塩類の製造方法を 提供することである。Another object of the present invention is to provide a method for producing the above-mentioned cephem compounds and salts thereof. It is to provide.

この発明のさらにもう一つの目的は、活性成分として上記セフェム化合物または 医薬として許容されるその塩類を含む医薬組成物を提供することである。Yet another object of this invention is to use the above cephem compounds or An object of the present invention is to provide a pharmaceutical composition containing pharmaceutically acceptable salts thereof.

この発明のさらにもう一つの目的は、感染されたヒトまたは動物に上記セフェム 化合物を投与する工程を包含する。病原菌由来の感染症を治療する方法を提供す ることである。Yet another object of this invention is to infect infected humans or animals with the above-mentioned cephems. and administering the compound. Provides a method to treat infections caused by pathogenic bacteria Is Rukoto.

この発明の目的とするセフェム化合物は新規であり、下記一般式%式% 式中、R’はアミン基または保護されたアミノ基、Z はNまたはCHl R2は水素または有機残基 R3はヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基を示す。The cephem compound targeted by this invention is novel and has the following general formula % formula % In the formula, R' is an amine group or a protected amino group, Z is N or CHl R2 is hydrogen or an organic residue R3 represents a hydroxy group or a protected hydroxy group.

(以下、余白) この発明の目的化合物(I)は以下の方法で製造される。(Hereafter, margin) The object compound (I) of this invention is produced by the following method.

(エエa) またはそのアミノ基における反応性誘導体またはそれらの塩類 毀洸」ヱ1 またはその塩類 (I) またはその塩類 殻汰A旦L (Ia) またはその塩類 (より) またはその塩類 製法」41 (IC) またはその塩類 (工d) またはその塩類 式中、R’、R”、R”およびZはそれぞれ前と同じ意味であり、R=は保護さ れたカルボキシ(低級)アルキル基、R巳はカルボキシ(低級)アルキル基、R 二は保護されたヒドロキシ基、 X は脱離基を示す。(eea) or reactive derivatives or salts thereof at the amino group Destruction”ヱ1 or its salts (I) or its salts A Dan L (Ia) or its salts (Than) or its salts Manufacturing method” 41 (IC) or its salts (Eng. d) or its salts In the formula, R', R'', R'' and Z each have the same meaning as before, and R= is a protected R is a carboxy (lower) alkyl group, R is a carboxy (lower) alkyl group, R is a carboxy (lower) alkyl group, 2 is a protected hydroxy group, X represents a leaving group.

出発化合物(IIa)および(V)は下記の製法にて製造される。Starting compounds (IIa) and (V) are produced by the following method.

製法1m (VI) またはそのアミノ基における反応性誘導体またはそれらの塩類 (V) 製法」」−) またはその塩類 (エエ) またはその塩類 化合物(I)、(Ia)〜(Id)、(III)および(rV)に関して、上記 化合物はシン異性体、アンチ異性体およびこれらの混合物を含むものと理解され る。Manufacturing method 1m (VI) or reactive derivatives or salts thereof at the amino group (V) Manufacturing method”-) or its salts (eee) or its salts Regarding compounds (I), (Ia) to (Id), (III) and (rV), the above Compounds are understood to include syn-isomers, anti-isomers and mixtures thereof. Ru.

例えば、目的化合物(I)に関して、シン異性体は下記式:(式中、R’ 、R ”およびZはそれぞれ前と同じ意味)で表わされる部分構造を有する一つの幾何 学的異性体を意味し、アンチ異性体は、下記式: (式中、R’ 、R”およびZはそれぞれ前と同じ意味)で表わされる部分構造 を有する他の幾何学的異性体を意味し、そしてこの様な幾何学的異性体の全てお よびこれらの混合物は、この発明の範囲内に含まれる。For example, with respect to the target compound (I), the syn isomer has the following formula: (wherein R', R ” and Z have the same meanings as before). It refers to a chemical isomer, and an anti-isomer has the following formula: (In the formula, R', R'' and Z each have the same meaning as before) and all such geometric isomers. and mixtures thereof are included within the scope of this invention.

この明細書および請求の範囲において、これらの幾何学的異性体の部分構造およ びこれらの混合物は、簡便化のために下記式で表わされる: (式中、R’ 、R”およびZはそれぞれ前と同じ意味)。In this specification and claims, the partial structures and and mixtures thereof are represented by the following formula for convenience: (In the formula, R', R'' and Z each have the same meaning as before).

この明細書の前記および後記の記載において、発明の範囲内に含まれる種々の定 義の好適な例および説明を以下に説明する。In the foregoing and subsequent descriptions of this specification, various definitions included within the scope of the invention are explained. Preferred examples and explanations of the meanings are described below.

「低級」という用語は、他に指示のない限り炭素数1〜6の原子を意味する。The term "lower" means atoms containing 1 to 6 carbon atoms unless otherwise specified.

好適な「保護されたアミン基」としては、アシルアミノ基または好ましい置換基 を有していてもよいアル(低級)アルキル基(例えば、ベンジル基、トリチル基 など)などの通常用いられている保護基によって置換されるアミノ基などが挙げ られる。Suitable "protected amine groups" include acylamino groups or preferred substituents. Al(lower)alkyl group which may have (e.g. benzyl group, trityl group) Examples include amino groups substituted with commonly used protecting groups such as It will be done.

「アシルアミノ基」という用語中の好適な「アシル部分」としては、カルバモイ ル基、脂肪族アシル基および芳香環または複素環を含むアシル基が挙げられる。Preferred "acyl moieties" in the term "acylamino group" include carbamoyl acyl groups, aliphatic acyl groups, and acyl groups containing aromatic rings or heterocycles.

さらに、上記アシル基の好適な例としては、低級アルカノイル基(例えば、ホル ミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル 基、イソバレリル基、オキサリル基、スクシニル基、ピバロイル基など);低級 アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル 基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニ ル基、第三級ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオ キシカルボニル基など);低級アルカンスルホニル基(例えば、メシル基、エタ ンスルホニル基、プロパンスルホニル基、イソプロパンスルホニル基、ブタンス ルホニル基など);アレーンスルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル基、ト シル基など);アロイル基(例えば、ベンゾイル基、トルオイル基、キシロイル 基、ナフトイル基、フタロイル基、インダンカルボニル基など);アル(低級) アルカノイル基(例えば、フェニルアセチル基、フェニルプロピオニル基など) ;アル(低級)アルコキシカルボニル基(例えば、ベンジルオキシカルボニル基 、フェネチルオキシカルボニル基など)などが挙げられる。上述したアシル部分 はハロゲン(例えば、塩素、臭素、ヨウ素またはフッ素)などの適当な置換基を 有していてもよい。Further, preferable examples of the above acyl group include lower alkanoyl groups (for example, holyl groups). Mil group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group group, isovaleryl group, oxalyl group, succinyl group, pivaloyl group, etc.); lower Alkoxycarbonyl group (e.g. methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group) group, propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group group, tertiary butoxycarbonyl group, pentyloxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, (oxycarbonyl group, etc.); lower alkanesulfonyl group (e.g., mesyl group, ethyl group, etc.); sulfonyl group, propanesulfonyl group, isopropanesulfonyl group, butanes sulfonyl group, etc.); arenesulfonyl group (e.g., benzenesulfonyl group, sil group, etc.); aroyl group (e.g., benzoyl group, toluoyl group, xyloyl group, group, naphthoyl group, phthaloyl group, indancarbonyl group, etc.); Al (lower) Alkanoyl group (e.g., phenylacetyl group, phenylpropionyl group, etc.) ; Al(lower) alkoxycarbonyl group (e.g. benzyloxycarbonyl group) , phenethyloxycarbonyl group, etc.). The acyl part mentioned above with a suitable substituent such as halogen (e.g. chlorine, bromine, iodine or fluorine) may have.

好適な「有機残基」としては低級アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第三級ブチル基、ペンチ ル基、ネオペンチル基、第三級ペンチル基、ヘキシル基など)、 モノ(またはジまたはトI月ハロ(低級)アルキル基(例えば、クロロメチル基 、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、クロロエチル基、 ジクロロエチル基、トリクロロエチル基、フルオロエチル基、トリフルオロエチ ル基など)、低級アルケニル基(例えば、ビニル基、l−プロペニル基、アリル 基、■−メチルアリル基、lまたは2または3−ブテニル基、lまたは2または 3または4−ペンテニル基、1または2または3または4または5−へキセニル 基など)、低級アルキニル基(例えば、エチニル基、■−プロピニル基、プロパ ルギル基、l−メチルプロパルギル基、lまたは2または3−ブチニル基、■ま たは2または3または4−ペンチニル基、■または2または3または4または5 −へキシニル基など)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基など)、 フェニル(低級)アルキル基なとのアル(低級)アルキル基(例えば、ベンジル 基、フェネチル基、フェニルプロピル基など)、低級アルキル部分が上記に例示 した様なものであるカルボキシ(低級)アルキル基、低級アルキル部分が上記に 例示した様なものであり、保護されたカルボキシ部分が下記に例示した様なもの である保護されたカルボキシ(低級)アルキル基などが挙げられる。Suitable "organic residues" include lower alkyl groups (for example, methyl, ethyl, and Lopyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tertiary butyl group, pentyl group group, neopentyl group, tertiary pentyl group, hexyl group, etc.), mono(or di- or tri-halo(lower) alkyl group (e.g., chloromethyl group) , dichloromethyl group, trichloromethyl group, bromomethyl group, chloroethyl group, Dichloroethyl group, trichloroethyl group, fluoroethyl group, trifluoroethyl group ), lower alkenyl groups (such as vinyl, l-propenyl, allyl), lower alkenyl (such as vinyl, l-propenyl, group, ■-methylallyl group, l or 2 or 3-butenyl group, l or 2 or 3 or 4-pentenyl group, 1 or 2 or 3 or 4 or 5-hexenyl group), lower alkynyl group (e.g. ethynyl group, ■-propynyl group, Lugyl group, l-methylpropargyl group, l or 2 or 3-butynyl group, or 2 or 3 or 4-pentynyl group, ■ or 2 or 3 or 4 or 5 -hexynyl group, etc.), aryl group (e.g., phenyl group, naphthyl group, etc.), Al(lower)alkyl groups such as phenyl(lower)alkyl groups (e.g., benzyl groups, phenethyl groups, phenylpropyl groups, etc.), lower alkyl moieties are exemplified above. Carboxy (lower) alkyl group, lower alkyl moiety is as above. The protected carboxy moiety is as shown in the example below. protected carboxy (lower) alkyl groups, etc.

[保護されたカルボキシ(低級)アルキル基」という用語中の好適な[保護され たカルボキシ基」および「保護されたカルボキシ部分」としては、エステル化さ れたカルボキシ基などが挙げられる。A suitable [protected carboxy(lower)alkyl group] esterified carboxy group” and “protected carboxy group” Examples include carboxy groups.

そして、上記エステルの好適な例としては、低級アルキルエステル(例えば、メ チルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブ チルエステル、イソブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペンチルエステル 、第三級ペンチルエステル、ヘキシルエステルなど)−低級アルケニルエステル (例えば、ビニルエステル、アリルエステルなど);低級アルキニルエステル( 例えば、エチニルエステル、プロピニルエステルなど)−低級アルコキシアルキ ルエステル(例えば、メトキシメチルエステル、エトキシメチルエステル、イン プロポキシメチルエステル、l−メトキシエチルエステル、■−エトキシエチル エステルなど);低級アルキルチオアルキルエステル(例えば、メチルチオメチ ルエステル、エチルチオメチルエステル、エチルチオエチルエステル、イソプロ ピルチオメチルエステルなど);モノ(またはジまたはト1ハロ口(低級)アル キルエステル(例えば、2−ヨードエチルエステル、2,2.2−1−ジクロロ エチルエステルなど);低級アルカノイルオキシ(低級)アルキルエステル(例 えば、アセトキシメチルエステル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリ ルオキシメチルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ビバロイルオキシメ チルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエステル、2−アセトキシエチルエス テル、2−プロピオニルオキシエチルエステルなど)−低級アルカンスルホニル (低級)アルキニルエステル(例えば、メシルメチルエステル、2−メシルエチ ルエステルなど);アル(低級)アルキルエステル、例えば、1個以上の適当な 置換基で置換されていてもよいフェニル(低級)アルキルエステル(例えば、ベ ンジルエステル、4−メトキシベンジルエステル、4−ニトロベンジルエステル 、フェネチルエステル、トリチルエステル、ベンズヒドリルエステル、ビス(メ トキシフェニル)メチルエステル、3,4−ジメトキシベンジルエステル、4− ヒドロキシ−3,5−ジ第三級ブチルベンジルエステルなど);置換された又は 置換されていないフェニルエステルなどの1個以上の適当な置換基で置換されて いてもよいアリールエステル(例えば、フェニルエステル、トリルエステル、第 三級ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、メシチルエステル、クメニル エステル、4−クロロフェニルエステル、4−メトキシフェニルエステルなど) ;トリ(低級)アルキルシリルエステル;低級アルキルチオエステル(例えば、 メチルチオエステル、エチルチオエステルなど)などが挙げられる。Preferable examples of the above esters include lower alkyl esters (for example, metal esters). Tyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester Tyl ester, isobutyl ester, tertiary butyl ester, pentyl ester , tertiary pentyl ester, hexyl ester, etc.) - lower alkenyl ester (e.g. vinyl ester, allyl ester, etc.); lower alkynyl ester ( (e.g., ethynyl ester, propynyl ester, etc.) -lower alkoxyalkyl esters (e.g., methoxymethyl ester, ethoxymethyl ester, Propoxymethyl ester, l-methoxyethyl ester, ■-ethoxyethyl esters, etc.); lower alkylthioalkyl esters (e.g., methylthiomethyl ethyl ester, ethylthiomethyl ester, ethylthioethyl ester, isopropylene ester, pylthiomethyl ester, etc.); mono(or di- or trihalo(lower) alkyl); Kyl esters (e.g. 2-iodoethyl ester, 2,2.2-1-dichloro (e.g. ethyl ester); lower alkanoyloxy (lower) alkyl ester (e.g. For example, acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, butyl valeryloxymethyl ester, valeryloxymethyl ester, bivaloyloxime Tyl ester, hexanoyloxymethyl ester, 2-acetoxyethyl ester (2-propionyloxyethyl ester, etc.)-lower alkanesulfonyl (lower) alkynyl esters (e.g. mesyl methyl ester, 2-mesylethyl ester) (lower) alkyl esters, e.g. one or more suitable Phenyl (lower) alkyl esters that may be substituted with substituents (e.g. nitrobenzyl ester, 4-methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester , phenethyl ester, trityl ester, benzhydryl ester, bis(metal) toxyphenyl) methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, 4- hydroxy-3,5-ditertiary butylbenzyl ester, etc.); substituted or substituted with one or more suitable substituents such as unsubstituted phenyl esters aryl esters (e.g., phenyl esters, tolyl esters, Tertiary butyl phenyl ester, xylyl ester, mesityl ester, cumenyl ester, 4-chlorophenyl ester, 4-methoxyphenyl ester, etc.) ; tri(lower)alkylsilyl ester; lower alkylthioester (e.g. methylthioester, ethylthioester, etc.).

[保護されたヒドロキシ基」における好適な「保護基」としては、上述のアシル 基、1個以上の適当な置換基で置換されていてもよいフェニル(低級)アルキル 基(例えば、ベンジル基、4−メトキシベンジル基など)、テトラヒドロピラニ ル基などが挙げられる。Suitable "protecting groups" in the "protected hydroxy group" include the above-mentioned acyl groups. phenyl(lower)alkyl optionally substituted with one or more suitable substituents groups (e.g., benzyl group, 4-methoxybenzyl group, etc.), tetrahydropirani and the like.

好適な「脱離基」としては、ハロゲン[例えば、塩素、フッ素。Suitable "leaving groups" include halogen [e.g. chlorine, fluorine.

ヨウ素など]、例えば、スルホニルオキシ基などのアシルオキシ基[例えば、ベ ンゼンスルボニルオキシ基、トシルオキシ基、メシルオキシ基など]、低級アル カノイルオキシ基[例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など]な どが挙げられる。iodine, etc.], acyloxy groups such as sulfonyloxy groups [e.g. (benzenesulfonyloxy group, tosyloxy group, mesyloxy group, etc.), lower alkyl Kanoyloxy group [e.g. acetyloxy group, propionyloxy group, etc.] Which can be mentioned.

医薬として許容される目的化合物(I)の塩類の好適な例としては1通常用いら れる無毒性の塩類が挙げられ、その様な例として例えば、アルカリ金属塩[例え ば、ナトリウム塩、カリウム塩など]およびアルカリ土類金属塩[例えば、カル シウム塩、マグネシウム塩など]などの金属塩、アンモニウム塩、有機塩基塩[ 例えば、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、 ジシクロヘキシルアミン塩、N、N’ −ジベンジルエチレンジアミン塩なと1 、有機酸塩[例えば、ギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒 石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩な ど]、無機酸塩[例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩など]、ア ミノ酸との塩[例えば、アルギン酸塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩など ]などが挙げられる。Preferred examples of pharmaceutically acceptable salts of target compound (I) include 1, commonly used salts; Examples include alkali metal salts [e.g. sodium salts, potassium salts, etc.] and alkaline earth metal salts [e.g. Metal salts such as sium salts, magnesium salts, ammonium salts, organic base salts [ For example, trimethylamine salt, triethylamine salt, pyridine salt, picoline salt, Dicyclohexylamine salt, N,N'-dibenzylethylenediamine salt 1 , organic acid salts [e.g., formate, acetate, trifluoroacetate, maleate, alcohol Stone salt, methanesulfonate, benzenesulfonate, toluenesulfonate etc. ], inorganic acid salts [e.g., hydrochloride, hydrobromide, sulfate, phosphate, etc.], Salts with amino acids [e.g. alginate, aspartate, glutamate, etc. ] etc.

(以下、余白) 目的化合物(I)の好適な実施態様は、下記のとおりである。(Hereafter, margin) Preferred embodiments of the target compound (I) are as follows.

R1はアミノ基または保護されたアミノ基(より好ましくはアシルアミノ基)。R1 is an amino group or a protected amino group (more preferably an acylamino group).

Z はNまたはCHl R2は低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基または保護されたカルボ キシ(低級)アルキル基[より好ましくはエステル化されたカルボキシ(低級) アルキル基、最も好ましくは低級アルコキシカルボニル(低級)アルキル基]、 R7はヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基[より好ましくは、1個以上 の適当な置換基で置換されていてもよいフェニル(低級)アルコキシ基を示す。Z is N or CHl R2 is a lower alkyl group, a carboxy(lower) alkyl group, or a protected carboxyl group. xy(lower)alkyl group [more preferably esterified carboxy(lower) an alkyl group, most preferably a lower alkoxycarbonyl (lower) alkyl group], R7 is a hydroxy group or a protected hydroxy group [more preferably one or more represents a phenyl (lower) alkoxy group which may be substituted with an appropriate substituent.

この発明の目的化合物および出発化合物の製法を、以下に詳述する。The method for producing the target compound and starting compound of this invention will be described in detail below.

暫殊」〕J− 化合物(I)またはその塩類は、化合物(Ha)またはそのアミノ基における反 応性誘導体と、化合物(nr)またはそのカルボキシ基における反応性誘導体ま たはそれらの塩類を反応させることによって製造することができる。Temporary”] J- Compound (I) or a salt thereof is a compound (Ha) or a reaction compound at its amino group. reactive derivative and the reactive derivative at the compound (nr) or its carboxy group. or their salts.

上記化合物(Ila)のアミノ基における反応性誘導体の好適な例としては、上 記化合物(II a)と、例えばアルデヒド、ケトンなどのカルボニル化合物と の反応によって生成されるシッフ塩基タイプのイミノ基または互変異性エナミン タイプの異性体;上記化合物(Ila)と、例えばビス(トリメチルシリル)ア セトアミド、モノ(トリメチルシリル)アセトアミド[例えばN−(トリメチル シリル)アセトアミド]、ビス(トリメチルシリル)尿素などのシリル化合物と の反応によって生成されるシリル誘導体;上記化合物(II a)と、例えば、 三塩化リンまたはホスゲンなどの反応によって生成される誘導体が挙げられる。Suitable examples of reactive derivatives at the amino group of the above compound (Ila) include the above compound (Ila). Compound (IIa) and a carbonyl compound such as an aldehyde or ketone Schiff base type imino group or tautomeric enamine produced by the reaction of isomers of the above compound (Ila) and e.g. bis(trimethylsilyl)a Cetamide, mono(trimethylsilyl)acetamide [e.g. N-(trimethylsilyl) silyl)acetamide], bis(trimethylsilyl)urea, etc. A silyl derivative produced by the reaction of the above compound (IIa) and, for example, Examples include derivatives produced by reactions such as phosphorus trichloride or phosgene.

上記化合物(m)のカルボキシ基における反応性誘導体の好適な例としては、β −ラクタム化合物を取り扱う分野において通常用いられるもの、即ち酸ハロゲン 化物、酸無水物、活性化アミド、活性化エステルなどが挙げられる。反応性誘導 体の好適な例としては、酸塩化物;酸アジド;例えば、置換されたリン酸[例え ば、ジアルキルリン酸、フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジベンジルリン酸 、ハロゲン化されたリン酸など]、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫 酸、スルホン酸[例えば、メタンスルホン酸なとJ、脂肪族カルボン酸[例えば 、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ビバル酸、吉草酸、イソ吉草酸、2− エチル酪酸、トリクロロ酢酸など]または芳香族カルボン酸[例えば、安息香酸 なと]などの酸との混合酸無水物;対称酸無水物;イミダゾール、l−ヒドロキ シ−IH−ベンゾトリアゾール、4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、 トリアゾールまたはテトラゾールで活性化されたアミド;もしくは活性化された エステル[例えば、シアノメチルエステル、メトキシメチルエステル、ジメチル イミノメチル[(CH−)z N ”=CH−]エステル、ビニルエステル、プ ロパルギルエステル、p−ニトロフェニルエステル、2,4−ジニトロフェニル エステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェニルエステル、メシ ルフェニルエステル、フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、 p−ニトロフェニルチオエステル、p−クレシルチオエステル、ベンゾチアゾリ ルチオエステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジル エステル、ピペリジルエステル、8−キノリルチオエステルなど]、またはN− ヒドロキシ化合物とのエステル[例えば、N、N−ジメチルヒドロキシアミン、 1−ヒドロキシ−2−(IH)−ピリドン、N−ヒドロキシこはく酸イミド、N −ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ−IH−ベンゾトリアゾールなど] などが挙げられる。これらの反応性誘導体は、用いられる上記化合物(III) の種類によってその中から任意に選択される。Suitable examples of reactive derivatives at the carboxy group of the compound (m) include β - those commonly used in the field of handling lactam compounds, i.e. acid halogens; Examples include compounds, acid anhydrides, activated amides, and activated esters. reactivity induction Suitable examples of compounds include acid chlorides; acid azides; e.g. substituted phosphoric acids [e.g. For example, dialkyl phosphoric acid, phenyl phosphoric acid, diphenyl phosphoric acid, dibenzyl phosphoric acid , halogenated phosphoric acid, etc.], dialkyl phosphorous acid, sulfite, thiosulfate, sulfur acids, sulfonic acids [e.g. methanesulfonic acid], aliphatic carboxylic acids [e.g. , acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, bibaric acid, valeric acid, isovaleric acid, 2- ethylbutyric acid, trichloroacetic acid, etc.] or aromatic carboxylic acids [e.g., benzoic acid, mixed acid anhydrides with acids such as [Nato]; symmetrical acid anhydrides; imidazole, C-IH-benzotriazole, 4-substituted imidazole, dimethylpyrazole, amides activated with triazoles or tetrazole; Esters [e.g., cyanomethyl ester, methoxymethyl ester, dimethyl Iminomethyl [(CH-)z N ”=CH-]ester, vinyl ester, plastic Lopargyl ester, p-nitrophenyl ester, 2,4-dinitrophenyl ester, trichlorophenyl ester, pentachlorophenyl ester, meshi ruphenyl ester, phenylazophenyl ester, phenylthioester, p-nitrophenyl thioester, p-cresyl thioester, benzothiazolyte ruthioester, carboxymethylthioester, pyranyl ester, pyridyl ester, piperidyl ester, 8-quinolyl thioester, etc.], or N- Esters with hydroxy compounds [e.g., N,N-dimethylhydroxyamine, 1-Hydroxy-2-(IH)-pyridone, N-hydroxysuccinimide, N -hydroxyphthalimide, 1-hydroxy-IH-benzotriazole, etc.] Examples include. These reactive derivatives are used in the above compound (III) be arbitrarily selected from among them depending on the type.

この反応は通常、水、アルコール[例えば、メタノール、エタノールなど]、ア セトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチ レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N、N−ジメチルホルムアミド、ピリ ジンなどの通常用いられる溶媒、もしくは反応に悪影響を及ぼさない他のすべて の有機溶媒中で行われる。これらの通常用いられる溶媒はまた、水と混合して使 用してもよい。This reaction typically involves water, alcohol [e.g., methanol, ethanol, etc.], Setone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, ethyl chloride Ren, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N,N-dimethylformamide, pyri Commonly used solvents such as gin, or anything else that does not adversely affect the reaction in an organic solvent. These commonly used solvents can also be used mixed with water. may be used.

この反応において、上記化合物(■r)を遊離酸型またはその塩型で用いる場合 、上記反応は好ましくは、N、 N’−ジシクロへキシルカルボジイミド:N− シクロへキシル−No−モルホリノエチルカルボジイミド;N−シクロへキシル −N’ −(4−ジエチルアミノシクロヘキシル)カルボジイミド、N、N’− ジエチルカルボジイミド、N、N’ −ジイソプロピルカルボジイミド;N−エ チル−N’ −(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド;N。In this reaction, when the above compound (■r) is used in the free acid form or its salt form , the above reaction preferably involves N,N'-dicyclohexylcarbodiimide:N- Cyclohexyl-No-morpholinoethylcarbodiimide; N-cyclohexyl -N'-(4-diethylaminocyclohexyl)carbodiimide, N, N'- Diethylcarbodiimide, N,N'-diisopropylcarbodiimide; Chil-N'-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide; N.

No−カルボニル−ビス(2−メチルイミダゾール);ペンタメチレンケテン− N−シクロヘキシルイミン;ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミン;エ トキシアセチレン;1−アルコキシ−1−クロロエチレン;亜リン酸トリアルキ ル;ポリリン酸エチル;ポリリン酸イソプロピル;オキシ塩化リン(塩化ホスホ リル);三塩化リン;塩化チオニル;塩化オキサリル;ハロギ酸低級アルキルエ ステル[例えば、クロロギ酸エチルエステル、クロロギ酸イソプロピルエステル など]ニトリフェニルホスフィン;2−エチル−7−ヒドロキシベンズイソオキ サゾリウム塩;2−エチル−5−(m−スルホフェニル)イソオキサゾリウムヒ ドロキシドの分子内塩;1−(p−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−6−ク ロロ−IH−ベンゾトリアゾール、N、N−ジメチルホルムアミドと塩化チオニ ル、ホスゲン、クロロギ酸トリクロロメチル、オキシ塩化リンなどとの反応によ って製造されるいわゆるビルスマイヤー試薬などの通常用いられる濃縮剤の存在 下に行われる。No-carbonyl-bis(2-methylimidazole); pentamethylene ketene- N-cyclohexylimine; diphenylketene-N-cyclohexylimine; Toxyacetylene; 1-alkoxy-1-chloroethylene; Trialkylphosphite ethyl polyphosphate; isopropyl polyphosphate; phosphorus oxychloride (phosphorus chloride) Phosphorus trichloride; Thionyl chloride; Oxalyl chloride; Lower alkyl haloformate ster [e.g., chloroformate ethyl ester, chloroformate isopropyl ester] etc.] nitriphenylphosphine; 2-ethyl-7-hydroxybenzisiodine Sazolium salt; 2-ethyl-5-(m-sulfophenyl)isoxazolium salt Inner salt of droxide; 1-(p-chlorobenzenesulfonyloxy)-6-k Rolo-IH-benzotriazole, N,N-dimethylformamide and thionichloride by reaction with chlorine, phosgene, trichloromethyl chloroformate, phosphorus oxychloride, etc. The presence of commonly used concentrating agents such as the so-called Vilsmeier reagent, which is prepared by done below.

この反応はまた、アルカリ金属重炭酸塩、トリ(低級)アルキルアミン、ピリジ ン、N−(低級)アルキルモルホリン、N、N−ジ(低級)アルキルベンジルア ミンなどの無機または有機塩基の存在下に行われる。This reaction also works with alkali metal bicarbonates, tri(lower)alkylamines, pyridine N, N-(lower)alkylmorpholine, N,N-di(lower)alkylbenzyl alkyl It is carried out in the presence of an inorganic or organic base such as amine.

上記反応温度は特に限定されず、反応は通常冷却〜加温下に行われる。The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling to heating.

製1L仁U 化合物(I)またはその塩類は、化合物(IV)またはその塩類と、化合物(V )またはその塩類を反応させることによって製造することができる。Made in 1L Ren U Compound (I) or a salt thereof, compound (IV) or a salt thereof, and compound (V ) or its salts.

上記反応は、アセトン、クロロホルム、アセトニトリル、塩化メチレン、塩化エ チレン、ホルムアミド、N、N−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノー ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシドまたは上記 反応に悪影響を及ぼさない他のすべての有機溶媒などの溶媒中で行われる。この 反応温度は特に限定されず、上記反応は通常、冷却、室温または加温下に行われ る。上記反応はまた、アルカリ金属[例えば、ナトリウム、カリウムなど]、ア ルカリ土類金属[例えば、マグネシウム、カルシウムなど]、それらの水酸化物 または炭酸塩または重炭酸塩、トリ(低級)アルキルアミン[例えば、トリメチ ルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなど]、ピコリン、 アルカン酸のアルカリ金属塩[例えば、2−エチルヘキサンナトリウムなど]、 N−(低級)アルキルモルホリン、N、N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン などの無機塩基および有機塩基の存在下に行われる。The above reaction uses acetone, chloroform, acetonitrile, methylene chloride, and ethyl chloride. Tyrene, formamide, N,N-dimethylformamide, methanol, ethanol diethyl ether, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide or the above It is carried out in a solvent such as any other organic solvent that does not adversely affect the reaction. this The reaction temperature is not particularly limited, and the above reaction is usually performed under cooling, room temperature, or heating. Ru. The above reaction also involves alkali metals [e.g., sodium, potassium, etc.], alkali metals [e.g., sodium, potassium, etc.], alkaline earth metals [e.g. magnesium, calcium etc.], their hydroxides or carbonates or bicarbonates, tri(lower)alkylamines [e.g. triamine, triethylamine, diisopropylethylamine, etc.], picoline, alkali metal salts of alkanoic acids [e.g., sodium 2-ethylhexane, etc.], N-(lower)alkylmorpholine, N,N-di(lower)alkylbenzylamine It is carried out in the presence of inorganic and organic bases such as.

1汰ユ旦り 化合物(I b)またはその塩類は、化合物(I a)またはその塩類を、該カ ルボキシ保護基の脱離反応に付すことによって製造することができる。上記脱離 反応の好適な方法としては、加水分解、還元などの通常用いられる方法が挙げら れる。1st class Yudanri Compound (Ib) or a salt thereof is compound (Ia) or a salt thereof. It can be produced by subjecting it to an elimination reaction of a ruboxy protecting group. Detachment above Suitable reaction methods include commonly used methods such as hydrolysis and reduction. It will be done.

(il加水分解: 上記加水分解は、好ましくは塩基またはルイス酸を含む酸の存在下に行われる。(il hydrolysis: The above hydrolysis is preferably carried out in the presence of a base or an acid including a Lewis acid.

好適な塩基としては、アルカリ金属[例えば、ナトリウム、カリウムなど]、ア ルカリ土類金属[例えば、マグネシウム、カルシウムなど]、それらの水酸化物 または炭酸塩または重炭酸塩、トリアルキルアミン[例えば、トリメチルアミン 、トリエチルアミンなど]、ピコリン、1.5−ジアザビシクロ[4,3,Ol −ノン−5−エン、1.4−ジアザビシクロ[2,2,2,]オクタン、1.8 −ジアザビシクロ[5,4,O,]ウンデカ−7−エンなどの無機塩基および有 機塩基が挙げられる。Suitable bases include alkali metals [e.g. sodium, potassium, etc.], alkaline earth metals [e.g. magnesium, calcium etc.], their hydroxides or carbonates or bicarbonates, trialkylamines [e.g. trimethylamine , triethylamine, etc.], picoline, 1,5-diazabicyclo[4,3,Ol -non-5-ene, 1.4-diazabicyclo[2,2,2,]octane, 1.8 - Inorganic bases such as diazabicyclo[5,4,O,]undec-7-ene and organic Examples include machine bases.

好適な酸としては、有機酸[例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢 酸、トリフルオロ酢酸など]および無機酸[例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、 塩化水素、臭化水素など]が挙げられる。トリ八日酢酸[例えば、トリクロロ酢 酸、トリフルオロ酢酸など1などのルイス酸を用いる脱離反応では、好ましくは 陽イオン捕獲剤[例えば、アニソール、フェノールなど]の存在下に行われる。Suitable acids include organic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, trichloroacetic acid, acids, trifluoroacetic acid, etc.] and inorganic acids [e.g., hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, hydrogen chloride, hydrogen bromide, etc.]. trioctoacetic acid [e.g., trichlorovine vinegar In the elimination reaction using a Lewis acid such as trifluoroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc., preferably It is carried out in the presence of a cation scavenger [eg, anisole, phenol, etc.].

この反応は通常、水、アルコール[例えば、メタノール、エタノールなど]、塩 化メチレン、テトラヒドロフラン、これらの混合物または上記反応に悪影響を及 ぼさない他のすべての溶媒などの溶媒中に行われる。液体の塩基または酸も、溶 媒として使用することができる。反応温度は特に限定されず、反応は通常、冷却 〜加温下に行われる。This reaction typically involves water, alcohol [e.g., methanol, ethanol, etc.], and salts. methylene chloride, tetrahydrofuran, mixtures thereof, or those that adversely affect the above reactions. It is carried out in a solvent such as any other solvent that does not degrade. Liquid bases or acids also dissolve It can be used as a medium. The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually cooled. ~Performed under heating.

(iil 還元: 還元反応は通常用いられる方法で行われ、化学的還元と接触還元が含まれる。(iii reduction: The reduction reaction is carried out by commonly used methods and includes chemical reduction and catalytic reduction.

上記化学的還元に用いられる好適な還元剤としては、金属(例えば、錫、亜鉛、 鉄など)または金属化合物(例えば、塩化クロム、酢酸クロムなど)および有機 酸または無機酸〔例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、p− )ルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸など)の組み合わせが挙げられる。Suitable reducing agents used in the above chemical reduction include metals (e.g. tin, zinc, iron, etc.) or metal compounds (e.g., chromium chloride, chromium acetate, etc.) and organic Acids or inorganic acids [e.g. formic acid, acetic acid, propionic acid, trifluoroacetic acid, p- ) luenesulfonic acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid, etc.).

上記接触還元に用いられる好適な触媒としては、白金触媒(例えば、白金板、白 金スポンジ、白金黒、白金コロイド、酸化白金、白金線など)、パラジウム触媒 (例えば、パラジウムスポンジ、パラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム炭 素、コロイドパラジウム、パラジウム/硫酸バリウム、パラジウム/炭酸バリウ ムなど)、ニッケル触媒(例えば、還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケ ルなど)、コバルト触媒(例えば、還元コバルト、ラネーコバルトなど)、鉄触 媒(例えば、還元鉄、ラネー鉄など)、銅触媒(例えば、還元銅、ラネー銅、ウ ルマン鋼など)などの通常用いられるものが挙げられる。上記還元反応は通常、 水、メタノール、エタノール、プロパツール、N、N−ジメチルホルムアミドま たはこれらの混合物などの反応に悪影響を及ぼさない通常用いられる溶媒中で行 われる。さらに、化学的還元で用いられる上記酸が液体の場合は、これらも溶媒 として用いることができる。さらに、化学的還元に用いられる好適な溶媒として は、上述した溶媒および通常用いられる他の溶媒(例えば、ジエチルエーテル、 ジオキサン、テトラヒドロフランなど、またはこれらの混合物)が挙げられる。Suitable catalysts used in the above catalytic reduction include platinum catalysts (e.g., platinum plates, platinum gold sponge, platinum black, platinum colloid, platinum oxide, platinum wire, etc.), palladium catalyst (For example, palladium sponge, palladium black, palladium oxide, palladium charcoal) Colloidal palladium, palladium/barium sulfate, palladium/barium carbonate nickel catalysts (e.g. reduced nickel, nickel oxide, Raney nickel) cobalt catalysts (e.g. reduced cobalt, Raney cobalt, etc.), iron catalysts (e.g. reduced cobalt, Raney cobalt, etc.), catalysts (e.g. reduced iron, Raney iron, etc.), copper catalysts (e.g. reduced copper, Raney copper, Commonly used materials include Le Mans steel, etc.). The above reduction reaction is usually Water, methanol, ethanol, propatool, N,N-dimethylformamide or or a mixture of these, in a commonly used solvent that does not adversely affect the reaction. be exposed. Furthermore, if the above acids used in chemical reduction are liquids, they are also solvents. It can be used as Furthermore, as a suitable solvent used in chemical reduction is the solvent mentioned above and other commonly used solvents (e.g. diethyl ether, (dioxane, tetrahydrofuran, etc., or mixtures thereof).

上記還元反応の反応温度は特に限定されず、反応は通常冷却〜加温下に行われる 。The reaction temperature of the above reduction reaction is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling to heating. .

製法ユまL 化合物(Id)またはその塩類は、化合物(I c)またはその塩類を、該ヒド ロキシ保護基の脱離反応に付すことによって製造することができる。上記反応は 、上述した製法(3)と同様の方法で行われる。従って、用いられる試薬および 反応条件(例えば、溶媒、反応温度など)は、製法(3)のものを参照すればよ い。Manufacturing method Yuma L Compound (Id) or a salt thereof is a compound (Ic) or a salt thereof It can be produced by subjecting it to an elimination reaction of a roxy protecting group. The above reaction is , is carried out in the same manner as the above-mentioned manufacturing method (3). Therefore, the reagents used and For reaction conditions (e.g. solvent, reaction temperature, etc.), please refer to the one for production method (3). stomach.

紅汰1 化合物(Vl またはその塩類は、化合物(Vl)またはそのアミノ基における 反応性誘導体またはその塩類と、化合物(■)またはそのカルボキシ基における 反応性誘導体を反応させることによって製造することができる。Benita 1 Compound (Vl) or its salts are compound (Vl) or its amino group Reactive derivatives or salts thereof and compound (■) or its carboxy group It can be produced by reacting reactive derivatives.

この反応は、上述した製法(I)と同様の方法で行われる。従って、用いられる 試薬および反応条件(例えば、溶媒、反応温度など)は、製法口)のものを参照 すればよい。This reaction is carried out in the same manner as the production method (I) described above. Therefore, used For reagents and reaction conditions (e.g., solvent, reaction temperature, etc.), refer to those in the manufacturing process. do it.

製法A11 化合物(旧またはその塩類は、化合物(■)またはその塩類と、化合物(V)ま たはその塩類を反応させることによって製造することができる。Manufacturing method A11 Compound (formerly or its salts) is a combination of compound (■) or its salts and compound (V) or its salts. or its salts.

この反応は通常、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピル アルコールなど)、テトラヒドロフラン、ジオキサン、クロロホルム、塩化メチ レン、ジメチルアセトアミド、N、N−ジメチルホルムアミドまたは上記反応に 悪影響を及ぼさない他のすべての有機性溶媒などの通常用いられる溶媒中で行わ れる。これらの溶媒のうち、親水性溶媒を水と混合して用いてもよい。This reaction is typically performed with an alcohol (e.g. methanol, ethanol, isopropyl alcohol, etc.), tetrahydrofuran, dioxane, chloroform, methic chloride Ren, dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide or the above reaction carried out in commonly used solvents such as all other organic solvents without adverse effects. It will be done. Among these solvents, a hydrophilic solvent may be used in combination with water.

上記反応温度は特に限定されず、反応は通常冷却〜加温下に行われる。The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling to heating.

この反応は通常、アルカリ金属[例えば、ナトリウム、カリウムなど1、アルカ リ土類金属[例えば、マグネシウム、カルシウムなどJ、それらの水酸化物また は炭酸塩または重炭酸塩、トリ(低級)アルキルアミン[例えば、トリメチルア ミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなど]、ピコリンなどの 無機塩基および有機塩基の存在下に行われる。This reaction usually occurs with alkali metals [e.g., sodium, potassium, etc. Lithium metals [e.g. magnesium, calcium etc., their hydroxides or carbonates or bicarbonates, tri(lower)alkylamines [e.g. triethylamine, diisopropylethylamine, etc.], picoline, etc. It is carried out in the presence of inorganic and organic bases.

製法」旦り 化合物(ITcl またはその塩類は、化合物(Ilb)またはその塩類を、該 ヒドロキシ保護基の脱離反応に付すことによって製造することができる。この反 応は、上述した製法(3)と同様の方法で行われる。従って、用いられる試薬お よび反応条件(例えば、溶媒、反応温度など)は、製法(3)のものを参照すれ ばよい。Manufacturing method The compound (ITcl) or its salts is the compound (Ilb) or its salts. It can be produced by subjecting it to an elimination reaction of a hydroxy protecting group. This anti The reaction is carried out in the same manner as the production method (3) described above. Therefore, the reagents used For the reaction conditions (e.g. solvent, reaction temperature, etc.), please refer to production method (3). Bye.

1汰」旦り 化合物(Ilal またはその塩類は、化合物(IId)またはその塩類を、該 アミノ保護基の脱離反応に付すことによって製造することができる。この反応は 、上述した製法(3)と同様の方法で行われる。従って、用いられる試薬および 反応条件(例えば、溶媒、反応温度など)は、製法(3)のものを参照すればよ い。1st category Compound (Ilal) or its salts is compound (IId) or its salts. It can be produced by subjecting it to an elimination reaction of an amino protecting group. This reaction is , is carried out in the same manner as the above-mentioned manufacturing method (3). Therefore, the reagents used and For reaction conditions (e.g. solvent, reaction temperature, etc.), please refer to the one for production method (3). stomach.

目的化合物並びに製法(1)〜(4)と製法(A)〜(D)における出発化合物 およびこれらの反応性誘導体は、化合物(I)において例示したものを参照すれ ばよい。Target compounds and starting compounds in production methods (1) to (4) and production methods (A) to (D) and these reactive derivatives, please refer to those exemplified for compound (I). Bye.

上記目的化合物(I)および医薬として許容されるその塩類は新規であり、強い 抗菌活性を発揮してグラム陰性菌およびグラム陰性菌を含む広範囲の病原菌の生 育を阻害するので、抗菌剤として有用である。The objective compound (I) and its pharmaceutically acceptable salts are novel and have strong It exhibits antibacterial activity and supports the growth of a wide range of pathogenic bacteria, including Gram-negative bacteria and Gram-negative bacteria. It is useful as an antibacterial agent because it inhibits growth.

なお、目的化合物(I)の有用性を示すために、この発明の代表的化合物のMI C(最少発育阻止濃度)のデータを以下に示す。In addition, in order to demonstrate the usefulness of the target compound (I), the MI of the representative compound of this invention C (minimum inhibitory concentration) data are shown below.

区鼠方迭: インビトロ抗菌活性を下記寒天平板倍々希釈法により測定した。Ward Nezumi: In vitro antibacterial activity was measured by the following agar plate multiple dilution method.

各試験菌株をトリプトケース・ソイ・プロス中−晩培養させてその■白金耳(生 育数108/ml)を、各濃度段階の試験化合物を含むハート・インフュージョ ン寒天(HI寒天)上に画線し、37℃で20時間インキュベーション後に、最 少発育阻止濃度(MIC)をμg/mlで表わした。Each test strain was cultured in Tryptocase Soy Pross overnight. Heart infusion containing the test compound at each concentration level Streak on agar (HI agar) and incubate for 20 hours at 37°C. Minor inhibitory concentration (MIC) was expressed in μg/ml.

区挾化査惣ニ アβ−(2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル) −2− (1−カルボキシ−1−メチルエトキシイミノ)アセトアミド] −3−[3− ((5−ヒドロキシ−4−オキソ−l。ward examination department Aβ-(2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2- (1-carboxy-1-methylethoxyimino)acetamide]-3-[3- ((5-hydroxy-4-oxo-l.

4−ジヒドロピリジン−2−イル)カルボキシアミノ)−1−ピリジニオJメチ ルー3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)(以下、余白) 試Ju宋: MIC(μg/ml) 治療用として投与するために、この発明の目的化合物(I)および医薬として許 容されるその塩類は、経口投与、非経口投与および外用投与に適した有機もしく は無機の、固体状賦形剤もしくは液状賦形剤のような医薬として許容される担体 と混合して、上記化合物を有効成分として含有する常用の医薬製剤の形で使用さ れる。4-dihydropyridin-2-yl)carboxyamino)-1-pyridinio Jmethy Ru-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (hereinafter referred to as the margin) Trial Ju Song: MIC (μg/ml) For therapeutic administration, the object compound (I) of this invention and a pharmaceutically acceptable Its salts may be organic or organic, suitable for oral, parenteral and topical administration. is a pharmaceutically acceptable carrier such as an inorganic, solid or liquid excipient. used in the form of conventional pharmaceutical preparations containing the above compounds as active ingredients, mixed with It will be done.

医薬製剤は、錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤のような固形状であってもよく、 液剤、懸濁液、シロップ剤、乳剤、リモナーデ剤などのような液状であってもよ い。Pharmaceutical formulations may be in solid form such as tablets, granules, powders, capsules, It may be in liquid form, such as a solution, suspension, syrup, emulsion, lemonade, etc. stomach.

必要に応じて上記製剤中に溶解補助剤、安定剤、湿潤剤およびそカラム、白土、 ショ糖、コーンスターチ、タルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オリ ーブ油、カカオ脂、エチレングリコールなどのような通常使用される添加剤が含 まれていてもよい。If necessary, solubilizing agents, stabilizers, wetting agents, columns, clay, Sucrose, cornstarch, talc, gelatin, agar, pectin, peanut oil, ori Contains commonly used additives such as oil, cocoa butter, ethylene glycol, etc. It may be

上記化合物(I)の投与量は患者の年齢および状態、疾患の種類、適用する化合 物(I)の種類などによって変化する。一般的には、1日当たり1mgと約4, 000mgとの間の量もしくはそれ以上を患者に投与すればよい。この発明の目 的化合物(I)は、平均1回投与量約50mg、100mg、250mg、50 0mg、1000mgを病原菌感染症の治療に用いれば良い。The dosage of the above compound (I) should be determined depending on the age and condition of the patient, the type of disease, and the compound to be applied. It changes depending on the type of object (I). Generally, 1 mg per day and about 4, Amounts between 0.000 mg or more may be administered to the patient. The eye of this invention Compound (I) is administered at an average single dose of about 50 mg, 100 mg, 250 mg, 50 mg, 0mg and 1000mg may be used to treat pathogenic bacterial infections.

下記の製造例および実施例は、本発明をより詳細に示すことを目的として記載さ れたものである。The following Preparations and Examples are included for the purpose of illustrating the invention in more detail. It is something that was given.

暫亘豊工 5−(4−メトキシベンジルオキシ)−2−カルボキシ−4(IH)−ピリドン (115g)、3−アミノピリジン(39,35g)および無水l−ヒドロキシ ベンゾトリアゾール(62,3g)のN、N−ジメチルホルムアミド (1,1 5Ll懸濁液に、l−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイ ミドの塩酸塩(88,2g)を25℃で加えた。同温度で1時間攪拌した後、反 応混合物を43℃で4時間撹拌した。20℃に冷却後、この混合物を、氷水(4 ,6L)、ジイソプロピルエーテル(1,15L)、酢酸エチル(2,3L)お よび塩化ナトリウム(4,00g)の混液中に注いだ。この混液を30分間撹拌 し、得られた沈殿物を濾過して採取した。この沈殿物をテトラヒドロフラン(4 L)中に懸濁し、IN水酸化ナトリウム水溶液(200ml)と塩化ナトリウム (loog)を加えた。分離したテトラヒドロフラン相を硫酸マグネシウム(1 kg)で乾燥し、減圧乾固することにより、乾燥物が得られた。得られた残渣に クロロホルムを加えて摩砕処理し更に乾燥することにより、5−(4−メトキシ ベンジルオキシ)−2−(3−ピリジルカルバモイル)−4(LH)−ピリドン (105,5g)が得られた。Toyoko Shikarata 5-(4-methoxybenzyloxy)-2-carboxy-4(IH)-pyridone (115g), 3-aminopyridine (39,35g) and anhydrous l-hydroxy Benzotriazole (62,3g) in N,N-dimethylformamide (1,1 To 5L suspension, l-ethyl-3-(3-dimethylaminopropyl)carbodiyl Mido hydrochloride (88.2 g) was added at 25°C. After stirring at the same temperature for 1 hour, The reaction mixture was stirred at 43°C for 4 hours. After cooling to 20°C, the mixture was diluted with ice water (4 , 6 L), diisopropyl ether (1,15 L), ethyl acetate (2,3 L), and sodium chloride (4,00 g). Stir this mixture for 30 minutes The resulting precipitate was collected by filtration. This precipitate was mixed with tetrahydrofuran (4 L) suspended in aqueous IN sodium hydroxide solution (200 ml) and sodium chloride. (loog) was added. The separated tetrahydrofuran phase was dissolved in magnesium sulfate (1 kg) and dried under reduced pressure to obtain a dried product. The resulting residue By adding chloroform, grinding, and drying, 5-(4-methoxy benzyloxy)-2-(3-pyridylcarbamoyl)-4(LH)-pyridone (105.5 g) was obtained.

(以下、余白) 設置ガ1 5−(4−メトキシベンジルオキシ)−2−(3−ピリジルカルバモイル)−4 (LH)−ピリドン(63,65g)とジイソプロピルエチルアミン(31,5 m1)のN、N−ジメチルホルムアミド f640mll溶液に、78−ホルム アミド−3−クロロメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(50g)を−5℃ で加えた。5℃で2時間撹拌した後、反応混合物を酢酸エチル(6,4L)中に 注いだ。得られた沈殿物を濾過して採取し、酢酸エチルで洗浄して減圧乾固する ことにより、粗製の7B−ホルムアミド−3−[3−[(5−(4−メチルベン ジルオキシ)−4−オキソーl、4−ジヒドロピリジン−2−イル)カルボニル アミノコ−1−ピリジニオ1メチル−3−セフェム−4−カルボン酸(84g) が得られた。塩化メチレン(160ml)、アニソール(80ml)およびトリ フルオロ酢酸(320ml)の氷冷混液に、前記で得られた化合物(84g)を 少しずつ加えた。この反応混液を水冷下で2時間攪拌した。得られた溶液をジイ ソプロピルエーテル(2,8L)中に注ぎ沈殿物を得た。この沈殿物を濾過して 採取し、ジイソプロピルエーテルと酢酸エチルで洗浄し、減圧乾固することによ り、7β−ホルムアミド−3−[3−((5−ヒドロキシ−4−オキソ−1,4 −ジヒドロピリジン−2−イル)カルボニルアミノ)−1−ピリジニオコメチル −3−セフェム−4−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩(70g)が得られた。(Hereafter, margin) Installation Ga 1 5-(4-methoxybenzyloxy)-2-(3-pyridylcarbamoyl)-4 (LH)-pyridone (63,65 g) and diisopropylethylamine (31,5 g) Add 78-form to 640 ml of N,N-dimethylformamide solution of m1). Amido-3-chloromethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (50 g) at -5°C I added it. After stirring for 2 hours at 5°C, the reaction mixture was dissolved in ethyl acetate (6.4L). I poured it. The resulting precipitate is collected by filtration, washed with ethyl acetate, and dried under reduced pressure. The crude 7B-formamide-3-[3-[(5-(4-methylbenzene) Zyloxy)-4-oxol,4-dihydropyridin-2-yl)carbonyl Aminoco-1-pyridinio-1methyl-3-cephem-4-carboxylic acid (84g) was gotten. Methylene chloride (160ml), anisole (80ml) and trichloride The compound obtained above (84 g) was added to an ice-cooled mixture of fluoroacetic acid (320 ml). I added it little by little. This reaction mixture was stirred for 2 hours under water cooling. Dilute the resulting solution Pour into sopropyl ether (2.8 L) to obtain a precipitate. Filter this precipitate was collected, washed with diisopropyl ether and ethyl acetate, and dried under reduced pressure. 7β-formamide-3-[3-((5-hydroxy-4-oxo-1,4 -dihydropyridin-2-yl)carbonylamino)-1-pyridiniocomethyl Trifluoroacetate (70 g) of -3-cephem-4-carboxylic acid was obtained.

得られた化合物(69,5g)のメタノール(695ml)懸濁液中に、濃塩酸 (44,7m1)を水冷下で加えた。この溶液を22℃で4時間撹拌した。得ら れた水溶液をアセトン(1,85L)と酢酸エチル(1,85L)の混液中に注 ぎ沈殿物を得た。この沈殿物を濾過して採取し、酢酸エチルで洗浄して減圧乾固 することにより、粗製の目的化合物(56g)が得られた。この粗製の化合物( 56g)を水(560ml)に溶解した。この水溶液を6N塩酸でpHを1.0 に調整し、ダイヤイオンHP−20(商標:三菱化成工業社製)(560ml) 充填のカラムクロマトグラフィーにかけ、水で溶出した。目的化合物を含む画分 を集めた。集めた水溶液(925ml)に、水冷下でイソプロピルアルコール( 2,3L)を少しずつ加えた。得られた沈殿物を濾過して採取し、イソプロピル アルコールで洗浄して五塩化リンで減圧乾固することにより、7β−アミノ−3 −[3−+ (5−ヒドロキシ−4−才キソー1.4−ジヒドロピリジン−2− イル)カルボニルアミノ)−1−ピリジニオコメチル−3−セフェム−4−カル ボン酸の2塩酸塩(19,2g)が得られ5.23 +11(、d、 J=41 (z)、 S、’35 LIH,d、 J=4Hz)。Concentrated hydrochloric acid was added to a suspension of the obtained compound (69.5 g) in methanol (695 ml). (44.7ml) was added under water cooling. This solution was stirred at 22°C for 4 hours. Obtained Pour the aqueous solution into a mixture of acetone (1.85 L) and ethyl acetate (1.85 L). A precipitate was obtained. This precipitate was collected by filtration, washed with ethyl acetate, and dried under reduced pressure. By doing so, the crude target compound (56 g) was obtained. This crude compound ( 56g) was dissolved in water (560ml). This aqueous solution was adjusted to pH 1.0 with 6N hydrochloric acid. Diaion HP-20 (trademark: manufactured by Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.) (560ml) It was subjected to packed column chromatography and eluted with water. Fraction containing target compound Collected. To the collected aqueous solution (925 ml) was added isopropyl alcohol ( 2.3 L) was added little by little. The resulting precipitate was collected by filtration and diluted with isopropyl By washing with alcohol and drying under reduced pressure with phosphorus pentachloride, 7β-amino-3 -[3-+ (5-hydroxy-4-year-old xo-1,4-dihydropyridine-2- carbonylamino)-1-pyridiniocomethyl-3-cephem-4-cal Bonic acid dihydrochloride (19.2 g) was obtained, 5.23 + 11 (, d, J = 41 (z), S, '35 LIH, d, J = 4Hz).

5.41.5.66 (2H,ABq、 J=14Hz)、 7.42 (LH ,s)。5.41.5.66 (2H, ABq, J=14Hz), 7.42 (LH ,s).

7.91 (1B、 s)、 8.09 +LH,dd、 J=6Hz and  9Hz)。7.91 (1B, s), 8.09 +LH, dd, J=6Hz and 9Hz).

8.64 [IH,d、 J=9Hzl、 8,77 (IH,d、 J=6H z)。8.64 [IH, d, J=9Hzl, 8,77 (IH, d, J=6H z).

9.64 (LH,sl 夫五豊ニ アβ−アミノ−3−[3−((5−ヒドロキシ−4−オキソ−1,4−ジヒドロ ピリジン−2−イル)カルボニルアミノ)−1−ピリジニオJメチルー3−セフ ェム−4−カルボン酸の2塩酸塩(15,46g)のテトラヒドロフラン(30 9ml)懸濁液に、N−(トリメチルシリル)アセトアミド(78,75g)を 加え、この混液を38℃に加温した。得られた溶液に、2−(5−アミノ−1, 2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−(1−カルボキシ−1−メチルエト キシイミノ)酢酸とメタンスルホン酸の混合酸無水物(シン異性体)(10,5 7g)を7℃で加えた。3〜5℃で40分間攪拌した後、この反応混液を酢酸エ チル(2,5L)と酢酸(37,78m1)の混液中に注いだ。この混合物を室 温で1.5時間撹拌し、生成した粉末を濾過して採取し、酢酸エチル(300m l)で洗浄して減圧乾固した。この粉末(27,9g)を水(279ml)に溶 解し、IN水酸化ナトリウム水溶液でpHを8に調整した。この溶液をIN塩酸 でpHを6.5に調整し、得られた沈殿物を濾過して除去した。濾液をダイヤイ オンHP−20(140ml)充填のカラムクロマトグラフィーにかけ、水で溶 出した。この溶出液(1290ml)を6N塩酸でpHを1に調整し、得られた 沈殿物を濾過して除去し、濾液をダイヤイオンHP−20(420ml)充填の カラムクロマトグラフィーにかけた。このカラムを水(4,2L)で洗浄した。9.64 (LH, sl Husband Gotoyoni Aβ-amino-3-[3-((5-hydroxy-4-oxo-1,4-dihydro pyridin-2-yl)carbonylamino)-1-pyridinioJ methyl-3-ceph Em-4-carboxylic acid dihydrochloride (15,46 g) in tetrahydrofuran (30 g) 9ml) suspension, N-(trimethylsilyl)acetamide (78.75g) was added to the suspension. and the mixture was heated to 38°C. 2-(5-amino-1, 2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(1-carboxy-1-methyleth ximino) mixed acid anhydride of acetic acid and methanesulfonic acid (syn isomer) (10,5 7g) was added at 7°C. After stirring for 40 minutes at 3-5°C, the reaction mixture was diluted with acetic acid ether. It was poured into a mixture of chill (2.5 L) and acetic acid (37.78 ml). Pour this mixture into the chamber Stir at room temperature for 1.5 hours, collect the resulting powder by filtration, and add ethyl acetate (300 m 1) and dried under reduced pressure. Dissolve this powder (27.9 g) in water (279 ml). The pH was adjusted to 8 with IN aqueous sodium hydroxide solution. Add this solution to IN hydrochloric acid. The pH was adjusted to 6.5 and the resulting precipitate was removed by filtration. Diamond the filtrate Apply column chromatography using HP-20 (140 ml) and dissolve with water. I put it out. The pH of this eluate (1290 ml) was adjusted to 1 with 6N hydrochloric acid, and the obtained The precipitate was removed by filtration, and the filtrate was poured into a Diaion HP-20 (420ml) bottle. It was subjected to column chromatography. The column was washed with water (4.2L).

目的化合物を30%テトラヒドロフラン水溶液で溶出し、その溶出液(1,26 L)から溶媒を蒸発させて850m1とし、7℃に冷却した。得られた粉末を濾 過して採取し、減圧乾固することにより、7β−[2−(5−アミノ−1,2, 4−チアジアゾール−3−イル) −2−(1−カルボキシ−1−メチルエトキ シイミノ)アセトアミド] −3−[3−(〔5−ヒドロキシ−4−オキソ−1 ,4−ジヒドロピリジン−2−イル)カルボキシアミノ)−1−ピリジニオコメ チル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)(9,82g)が得られた 。The target compound was eluted with a 30% aqueous solution of tetrahydrofuran, and the eluate (1,26 The solvent was evaporated from L) to 850ml and cooled to 7°C. Filter the powder obtained. 7β-[2-(5-amino-1,2, 4-thiadiazol-3-yl)-2-(1-carboxy-1-methylethoxy) ciimino)acetamide]-3-[3-([5-hydroxy-4-oxo-1 ,4-dihydropyridin-2-yl)carboxyamino)-1-pyridiniocome Chil-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (9.82 g) was obtained. .

工R(Nujoll : 1770 cm””衷族豊1 7β−アミノ−3−[3−((5−ヒドロキシ−4−オキソ−1,4−ジヒドロ ピリジン−2−イル)カルボニルアミノ)−1−ピリジニオコメチル−3−セフ ェム−4−カルボン酸の2塩酸塩(670mg)のテトラヒドロフラン(13m l)懸濁液に、N−(トリメチルシリル)アセトアミド(3,41g)を加え、 この混合物を40℃に加温した。得られた溶液に、2−(5−アミノ−1,2, 4−チアジアゾール−3−イル)−2−メトキシイミノ酢酸クロリド塩酸塩(シ ン異性体)(334mg)を7℃で加えた。Nujoll: 1770cm""Nujoll 1 7β-Amino-3-[3-((5-hydroxy-4-oxo-1,4-dihydro pyridin-2-yl)carbonylamino)-1-pyridiniocomethyl-3-ceph dihydrochloride (670 mg) of em-4-carboxylic acid in tetrahydrofuran (13 m l) Add N-(trimethylsilyl)acetamide (3.41 g) to the suspension, This mixture was warmed to 40°C. 2-(5-amino-1,2, 4-thiadiazol-3-yl)-2-methoxyiminoacetic acid chloride hydrochloride (334 mg) was added at 7°C.

20℃で30分間撹拌した後、この反応混合物を酢酸エチル(104ml)と酢 酸(1,64m1)の混液中に注いだ。この混液を室温で1時間撹拌し、得られ た粉末を濾過して採取し、酢酸エチル(26m l )で洗浄して減圧乾固した 。この粉末(1,12g)を水(25ml)に溶解し、IN水酸化ナトリウム水 溶液でpHを9に調整し、この溶液を6N塩酸でpHを1に調整した。得られた 沈殿物を濾過して除去し、濾液をダイヤイオンHP−20(25ml)充填のカ ラムクロマトグラフィーにかけた。このカラムを水(200ml)で洗浄した。After stirring for 30 minutes at 20°C, the reaction mixture was diluted with ethyl acetate (104 ml) and vinegar. Poured into a mixture of acid (1.64 ml). This mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and the obtained The powder was collected by filtration, washed with ethyl acetate (26ml), and dried under reduced pressure. . Dissolve this powder (1.12 g) in water (25 ml) and add IN sodium hydroxide solution. The pH of the solution was adjusted to 9, and the pH of this solution was adjusted to 1 with 6N hydrochloric acid. obtained The precipitate was removed by filtration, and the filtrate was poured into a container filled with Diaion HP-20 (25 ml). It was subjected to ram chromatography. The column was washed with water (200ml).

目的化合物を35%メタノール水溶液で溶出し、この溶出液(112ml)から 溶媒を溶出させて18m1とし、5℃に冷却した。得られた粉末を濾過して採取 し、減圧乾固することにより、7β−[2−(5−アミノ−1゜2.4−チアジ アゾール−3−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド] −3−[3−(( 5−ヒドロキシ−4−才キソー1.4−ジヒドロピリジン−2−イル)カルボニ ルアミノ)−1−ピリジニオコメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異 性体)(180mg)が得られた。The target compound was eluted with 35% methanol aqueous solution, and from this eluate (112 ml) The solvent was eluted to 18ml and cooled to 5°C. Filter and collect the resulting powder and dried under reduced pressure to obtain 7β-[2-(5-amino-1゜2.4-thiadiazide). azol-3-yl)-2-methoxyiminoacetamide]-3-[3-(( 5-Hydroxy-4-year-old xo-1,4-dihydropyridin-2-yl)carbonylate -1-pyridiniocomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (180 mg) was obtained.

IR(Nujoll : 1760 cm−1HMR(D20−NaHCO3, 61: 3.19 and 3.68 (21(、ABq。IR (Nujoll: 1760 cm-1HMR (D20-NaHCO3, 61: 3.19 and 3.68 (21 (, ABq.

J=17.8Hz)、 3.92 (3H,sl、 5.25 and 5−6 3 (2H,ABq。J=17.8Hz), 3.92 (3H, sl, 5.25 and 5-6 3 (2H, ABq.

J=14.8)1zl、 5.29 (1−H,d、 J=4.8Hz)、 5 .87(IJt、 ti。J=14.8) 1zl, 5.29 (1-H, d, J=4.8Hz), 5 .. 87 (IJt, ti.

J=4.8Hzl、 7.10 (IH,sl、 7.59 (LH,sl、  7.89 (LH。J=4.8Hzl, 7.10 (IH, sl, 7.59 (LH, sl, 7.89 (LH.

da、 J=5.8Hz and 9.51(z)、 8.43 +1)1.  d、 J=9.5)1z)。da, J=5.8Hz and 9.51(z), 8.43+1)1.  d, J=9.5)1z).

8.61 (IH,d、 J=5.8Hzl、 9.48 (LH,s)火血盟 ユ 5−(4−メトキシベンジルオキシ)−2−(3−ピリジルカルバモイル)−4 (IH)−ピリドン(441mg)と2−エチルヘキサン酸ナトリウム(1,2 5g)のN、N−ジメチルホルムアミド(8ml)懸濁液に、7β−[2−(5 −アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−(1−カルボキシ− 1−メチルエトキシイミノ)アセトアミド1−3−クロロメチル−3−セフェム −4−カルボン酸のトリフルオロ酢酸塩(2,33g)を5℃で加えた。5℃で 4時間撹拌した後、この反応混合物を酢酸エチル(80ml)中に滴下しながら 加えた。得られた粉末を濾過して採取し、減圧乾固した。この粉末(2,28g )を水(30ml)とアセトン(120ml)の混液に溶解し、その溶液をシリ カゲル(45,5g)充填のカラムクロマトグラフィーにかけた。目的化合物を 80%アセトン水溶液で溶出させ、その溶出液を凍結乾燥することにより、7β −[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−(1− カルボキシ−1−メチルエトキシイミノ)アセトアミド] −3−[3−[(5 −(4−メトキシベンジルオキシ)−4−オキソ−1,4−ジヒドロピリジン− 2−イル)カルボニルアミノ]−1−ピリジニオ]メチル−3−セフェム−4− カルボン酸(シン異性体)が得られた。この化合物(250mg)のギ酸溶液に 、35%塩酸(0,177m1)を室温で加えた。室温で1.5時間撹拌した後 、この溶液を、酢酸エチル(20ml)とアセトン(10ml)の混液中に滴下 しながら加えた。得られた粉末を濾過して採取し、減圧乾固した。得られた粉末 を水(13ml)に溶解し、IN水酸化ナトリウム水溶液でpHを8に調整した 。この溶液を6N塩酸でpHを1に調整し、得られた沈殿物を濾過して除去した 。この濾液をダイヤイオンHP−20(6,5m1)充填のカラムクロマトグラ フィーにかけた。このカラムを水(32,5m1)で洗浄した。目的化合物を3 5%メタノール水溶液で溶出させ、その溶出液を凍結乾燥することにより、7β −[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−(1− カルボキシ−1−メチルエトキシイミノ)アセトアミド] −3−[3−((5 −ヒドロキシ−4−才キソー1.4−ジヒドロピリジン−2−イル)カルボニル アミノ)−1−ピリジニオコメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性 体)(79mg)が得られた。8.61 (IH, d, J=5.8Hzl, 9.48 (LH, s) Fire Blood Alliance Yu 5-(4-methoxybenzyloxy)-2-(3-pyridylcarbamoyl)-4 (IH)-pyridone (441 mg) and sodium 2-ethylhexanoate (1,2 7β-[2-(5 -amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(1-carboxy- 1-methylethoxyimino)acetamide 1-3-chloromethyl-3-cephem Trifluoroacetate of -4-carboxylic acid (2.33 g) was added at 5°C. at 5℃ After stirring for 4 hours, the reaction mixture was added dropwise to ethyl acetate (80 ml). added. The obtained powder was collected by filtration and dried under reduced pressure. This powder (2.28g ) in a mixture of water (30 ml) and acetone (120 ml), and the solution was added to the silica. It was subjected to column chromatography packed with Kagel (45.5 g). target compound By eluting with 80% acetone aqueous solution and freeze-drying the eluate, 7β -[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(1- Carboxy-1-methylethoxyimino)acetamide]-3-[3-[(5 -(4-methoxybenzyloxy)-4-oxo-1,4-dihydropyridine- 2-yl)carbonylamino]-1-pyridinio]methyl-3-cephem-4- A carboxylic acid (syn isomer) was obtained. A solution of this compound (250 mg) in formic acid , 35% hydrochloric acid (0,177ml) was added at room temperature. After stirring for 1.5 hours at room temperature This solution was added dropwise to a mixture of ethyl acetate (20 ml) and acetone (10 ml). I added while doing so. The obtained powder was collected by filtration and dried under reduced pressure. obtained powder was dissolved in water (13 ml) and the pH was adjusted to 8 with IN aqueous sodium hydroxide solution. . The pH of this solution was adjusted to 1 with 6N hydrochloric acid, and the resulting precipitate was removed by filtration. . This filtrate was applied to a column chromatograph packed with Diaion HP-20 (6.5ml). I applied it to the fee. The column was washed with water (32.5ml). 3 target compounds By eluting with 5% methanol aqueous solution and freeze-drying the eluate, 7β -[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(1- Carboxy-1-methylethoxyimino)acetamide]-3-[3-((5 -Hydroxy-4-xo-1,4-dihydropyridin-2-yl)carbonyl amino)-1-pyridiniocomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (synisomer (79 mg) was obtained.

エR(Nuうol) ; ’3−170 cm−1(2H,ABq、 J=14 .4Hzl、 5jl (LH,d、 J=4.8Hz)、 5.90(IH, d、 J=4.8Hzl、 7.20 +:LH,s)、 7.71− (IH ,s)。ER (Nuol);'3-170 cm-1 (2H, ABq, J=14 .. 4Hzl, 5jl (LH, d, J=4.8Hz), 5.90 (IH, d, J=4.8Hzl, 7.20+:LH,s), 7.71-(IH ,s).

7.96 +LH,dd、 J=5.7Hz and 8.3Hz)、 8.5 2 (IL d。7.96 +LH, dd, J=5.7Hz and 8.3Hz), 8.5 2 (IL d.

J=8.31(z)、 8.66 (1B、 d、 J=5.7Hz)、 9. 53 (LH,s)叉1旦A− 7β−アミノ−3−[3−((5−ヒドロキシ−4−オキソ−1,4−ジヒドロ ピリジン−2−イル)カルボニルアミノ)−1−ピリジニオコメチル−3−セフ ェム−4−カルボン酸の2塩酸塩(780mg)のテトラヒドロフラン(15, 6m1)懸濁液に、N−(トリメチルシリル)アセトアミド(3,98g)を加 え、この混合物を38℃に加温した。得られた水溶液に、2−(2−アミノチア ゾール−4−イル)−2−(1−第三級ブトキシヵルボニル−1−メチルエトキ シイミノ)−3−チオ酢酸の2−ベンゾチアゾリルエステル(シン異性体)(8 67mg)を7℃で加えた。J=8.31(z), 8.66 (1B, d, J=5.7Hz), 9. 53 (LH,s)剉1danA- 7β-Amino-3-[3-((5-hydroxy-4-oxo-1,4-dihydro pyridin-2-yl)carbonylamino)-1-pyridiniocomethyl-3-ceph Em-4-carboxylic acid dihydrochloride (780 mg) in tetrahydrofuran (15, 6ml) suspension, add N-(trimethylsilyl)acetamide (3.98g). The mixture was then warmed to 38°C. 2-(2-aminothia) was added to the resulting aqueous solution. sol-4-yl)-2-(1-tert-butoxycarbonyl-1-methylethoxy) 2-benzothiazolyl ester (syn isomer) of (shiimino)-3-thioacetic acid (8 67 mg) was added at 7°C.

室温で1時間撹拌した後、この反応混合物を酢酸エチル(125ml)と酢酸( 1,9m1)の混液中に注いだ。この混合物を室温で30分間撹拌した。得られ た粉末を濾過して採取し、酢酸エチル(30ml)、水(22ml)およびアセ トン(6ml)で洗浄して減圧乾固することにより、7B−[2−(2−アミノ チアゾール−4−イル)−2−(1−第三級ブトキシ力ルボニル−1−メチルエ トキシイミノ)アセトアミド] −3−[3−((5−ヒドロキシ−4−才キソ ー1.4−ジヒドロピリジン−2−イル)カルボニルアミノ1−1−ピリジニオ コメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)が得られた。この化合 物(504mg)のアニソール(2ml)懸濁液に、トリフルオロ酢酸(2,5 m1)を7℃で滴下しながら加えた。室温で2時間撹拌した後、得られた溶液を ジイソプロピルエーテル(50ml)中に注いだ。得られた粉末を濾過して採取 し、減圧乾固した。この粉末を水(15ml)に溶解し、IN水酸化ナトリウム 水溶液でpHを7に調整した。この溶液を6N塩酸でpHを1に調整し、得られ た沈殿物を濾過して除去した。この濾液をダイヤイオンHP−20(15m1) 充填のカラムクロマトグラフィーにかけた。このカラムを水(75m l )で 洗浄した。目的化合物を50%イソプロピルアルコール水溶液で溶出させ、その 溶出液(120ml)から溶媒を蒸発させて50m1とし、5℃に冷却した。得 られた粉末を濾過して採取し、減圧乾固することにより、7β−[2−(2−ア ミノチアゾール−4−イル)−2−(1−カルボキシ−1−メチルエトキシイミ ノ)アセトアミド] −3−[3−((5−ヒドロキシ−4−オキソーl、4− ジヒドロピリジン−2−イル)カルボニルアミノ)−1−ピリジニオコメチル− 3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)(89mg)が得られた。After stirring at room temperature for 1 hour, the reaction mixture was mixed with ethyl acetate (125 ml) and acetic acid ( It was poured into a mixed solution of 1.9 ml (1.9 ml). This mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. obtained The powder was collected by filtration and mixed with ethyl acetate (30 ml), water (22 ml) and acetic acid. 7B-[2-(2-amino Thiazol-4-yl)-2-(1-tert-butoxycarbonyl-1-methylethyl) Toxiimino)acetamide] -3-[3-((5-hydroxy-4- -1,4-dihydropyridin-2-yl) carbonylamino 1-1-pyridinio Comethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) was obtained. This compound Trifluoroacetic acid (2,5 m1) was added dropwise at 7°C. After stirring at room temperature for 2 hours, the resulting solution was Poured into diisopropyl ether (50ml). Filter and collect the resulting powder and dried under reduced pressure. Dissolve this powder in water (15 ml) and add IN sodium hydroxide. The pH was adjusted to 7 with an aqueous solution. The pH of this solution was adjusted to 1 with 6N hydrochloric acid, and the obtained The precipitate was removed by filtration. Transfer this filtrate to Diaion HP-20 (15ml) It was subjected to packed column chromatography. This column was washed with water (75ml). Washed. Elute the target compound with a 50% isopropyl alcohol aqueous solution, and The eluate (120ml) was evaporated to 50ml and cooled to 5°C. profit The resulting powder was collected by filtration and dried under reduced pressure to obtain 7β-[2-(2-alpha). Minothiazol-4-yl)-2-(1-carboxy-1-methylethoxyimide) ) Acetamide] -3-[3-((5-hydroxy-4-oxol, 4- dihydropyridin-2-yl)carbonylamino)-1-pyridiniocomethyl- 3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (89 mg) was obtained.

工R(Nujol) : 1770 cm−15,30−5,54(2H,m) 、 5.87 (1)1. d、 J=4.8Hz)、 6.96+LH,s) 、 7.18 +LH,sl、 7.55 +1)1. s3.7.90−8. 00+LH,ml、 8.40−8.6012H,ml、 9.25 TLH, s)尖凰桝二 (1)7B−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)− 2−(1−カルボキシ−1−メチルエトキシイミノ)アセトアミド] −3−[ 3−((5−ヒドロキシ−4−オキソ−1,4−ジヒドロピリジン−2−イル) カルボニルアミノ)−1−ピリジニオコメチル−3−セフェム−4−カルボン酸 (シン異性体)(900mg)の4N硫酸(3m l )溶液に、エタノール( 6ml)を5℃で撹拌しながら加えた。この混合物を5℃で0.5時間撹拌した 。この溶液に、エタノール(14ml)を5℃で攪拌しながら、滴下して加えた 。得られた沈殿物を濾過して採取し、乾燥することにより、7β−[2−(5− アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−(1−カルボキシ−1 −メチルエトキシイミノ)アセトアミド] −3−[3−((5−ヒドロキシ− 4−オキソ−1,4−ジヒドロピリジン−2−イル)カルボニルアミノ)−1− ピリジニオコメチル−3−セフェム−4−カルボン酸硫酸塩(シン異性体)(4 80mg)が得られた。Engineering R (Nujol): 1770 cm-15,30-5,54 (2H, m) , 5.87 (1) 1. d, J=4.8Hz), 6.96+LH,s) , 7.18 +LH,sl, 7.55 +1)1. s3.7.90-8. 00+LH, ml, 8.40-8.6012H, ml, 9.25 TLH, s)Tenhou Masuji (1) 7B-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)- 2-(1-carboxy-1-methylethoxyimino)acetamide]-3-[ 3-((5-hydroxy-4-oxo-1,4-dihydropyridin-2-yl) carbonylamino)-1-pyridiniocomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (900 mg) in 4N sulfuric acid (3 ml) was added ethanol ( 6 ml) was added at 5° C. with stirring. This mixture was stirred at 5°C for 0.5 h. . Ethanol (14 ml) was added dropwise to this solution while stirring at 5°C. . The obtained precipitate was collected by filtration and dried to give 7β-[2-(5- amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(1-carboxy-1 -methylethoxyimino)acetamide] -3-[3-((5-hydroxy- 4-oxo-1,4-dihydropyridin-2-yl)carbonylamino)-1- Pyridiniocomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid sulfate (syn isomer) (4 80 mg) was obtained.

工RTNujol) : 1770.1670 (sh) cm−1HMRfD Mso−d6.6) : 1.43 +6H,s)、 3.44 and 3. 59 (2H。Engineering RT Nujol): 1770.1670 (sh) cm-1HMRfD Mso-d6.6): 1.43 +6H,s), 3.44 and 3. 59 (2H.

ABq、J=18Hz)、5.22 (LH,d、J=5Hz)、5.58 a nd 5.70(2H7八Bq、J=44)1z)、7.’7B (IH,s) 、8.08−8.18 +2H+18、ml、8.21 (LH,s)、8.8 5 (IH,d、J=6Hz)、8J8(IH,d、J=8Hzl、9.71  fLH,s)以下の化合物を実施例5− (1)と同様の方法で得た。ABq, J=18Hz), 5.22 (LH, d, J=5Hz), 5.58a nd 5.70 (2H78Bq, J=44)1z), 7. '7B (IH,s) , 8.08-8.18 +2H+18, ml, 8.21 (LH,s), 8.8 5 (IH, d, J=6Hz), 8J8 (IH, d, J=8Hzl, 9.71 fLH,s) The following compounds were obtained in the same manner as in Example 5-(1).

(2)7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)− 2−(1−カルボキシ−1−メチルエトキシイミノ)アセトアミド] −3−[ 3−、((5−ヒドロキシ−4−オキソ−1,4−ジヒドロピリジン−2−イル )カルボニルアミノ)−1−ピリジニオコメチル−3−セフェム−4−′カルボ ン酸塩酸塩(シン異性体) 工R(Nujol) : 1770.1670 am−1J=14Hz)、 5 .95 (IH,dd、 J=5Hz、 8Hz)、 7.63 (IH。(2) 7β-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)- 2-(1-carboxy-1-methylethoxyimino)acetamide]-3-[ 3-, ((5-hydroxy-4-oxo-1,4-dihydropyridin-2-yl ) carbonylamino)-1-pyridiniocomethyl-3-cephem-4-'carbo Phosphate hydrochloride (syn isomer) Engineering R (Nujol): 1770.1670 am-1J=14Hz), 5 .. 95 (IH, dd, J=5Hz, 8Hz), 7.63 (IH.

s)、8.13 (1)1. sl、8.10−8.20 +コH,m)、8. 7B (IH。s), 8.13 (1) 1. sl, 8.10-8.20 + koH, m), 8. 7B (IH.

a、 J=6Hz)、 8.95 +IH,d、 J=9Hz)、 9.56  (IH,(1゜J=8Hz)、 9.69 (LH,br s)国際調査報告 国際調査報告 JP 9200685 S^ 59657a, J=6Hz), 8.95 +IH, d, J=9Hz), 9.56 (IH, (1°J=8Hz), 9.69 (LH, br s) International search report international search report JP9200685 S^ 59657

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1.式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1はアミノ基または保護されたアミノ基、ZはNまたはCH、 R2は水素または有機残基、 R3はヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基を意味する) で示される化合物または医薬として許容されるその塩類。 2.R1がアミノ基またはアシルアミノ基、R2が水素、低級アルキル基、カル ボキシ(低級)アルキル基または保護されたカルボキシ(低級)アルキル基、R 3がヒドロキシ基または1個以上の適当な置換基で置換されていてもよいフェニ ル(低級)アルコキシ基である請求項1に記載の化合物。 3.R2が水素、低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基またはエステ ル化されたカルボキシ(低級)アルキル基、R3がヒドロキシ基または低級アル コキシフェニル(低級)アルコキシ基 である請求項2に記載の化合物。 4.R2が水素、低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基または低級ア ルコキシカルボニル(低級)アルキル基である請求項3に記載の化合物。 5.R1がアミノ基、 ZがN、 R2がカルボキシ(低級)アルキル基、R3がヒドロキシ基 である請求項4に記載の化合物。 6.7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2 −(1−カルボキシ−1−メチルエトキシイミノ)アセトアミド]−3−[3− {(5−ヒドロキシ−4−オキソ−1,4−ジヒドロピリジン−2−イル)カル ボニルアミノ}−1−ピリジニオ]メチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シ ン異性体)または医薬として許容されるその塩類である請求項5に記載の化合物 。 7.式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1はアミノ基または保護されたアミノ基、ZはNまたはCH、 R2は水素または有機残基、 R3はヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基を意味する) で示される化合物またはその塩類を下記(1)〜(4)のいずれかの方法で製造 する方法。 (1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R3は前と同じ意味) で示される化合物またはそのアミノ基における反応性誘導体またはそれらの塩類 と、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2およびZはそれぞれ前と同じ意味)で示される化合物または そのカルボキシ基における反応性誘導体またはそれらの塩類を反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2、R3およびZはそれぞれ前と同じ意味)で示される化合物 またはその塩類を得るか;または (2)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2およびZはそれぞれ前と同じ意味であり、Xは脱離基を意味 する) で示される化合物またはその塩類と、式:▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R3は前と同じ意味である) で示される化合物またはその塩類を反応させて、式:▲数式、化学式、表等があ ります▼ (式中、R1、R2、R3およびZはそれぞれ前と同じ意味である) で示される化合物またはその塩類を得るか;または (3)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R3およびZはそれぞれ前と同じ意味であり、R2aは保護され たカルボキシ(低級)アルキル基を意味する) で示される化合物またはその塩類を、そのカルボキシ保護基の脱離反応に付して 、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R3およびZはそれぞれ前と同じ意味であり、R2bはカルボキ シ(低級)アルキル基を意味する)で示される化合物またはその塩類を得るか; または (4)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2およびZはそれぞれ前と同じ意味であり、R3aは保護され たヒドロキシ基を意味する)で示される化合物またはその塩類を、そのヒドロキ シ保護基の脱離反応に付して、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R1、R2およびZはそれぞれ前と同じ意味)で示される化合物または その塩類を得る。 8.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R3はヒドロキシ基または保護されたヒドロキシ基を意味する) で示される化合物。 9.請求項1に記載の化合物または医薬として許容されるその塩類を活性成分と して、医薬として許容される担体と混合したものである医薬組成物。 10.請求項1に記載の化合物または医薬として許容されるその塩類を、ヒトま たは動物に投与する感染症の治療方法。 11.抗菌剤として使用される請求項1に記載の化合物または医薬として許容さ れるその塩類。[Claims] 1. formula: ▲Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R1 is an amino group or a protected amino group, Z is N or CH, R2 is hydrogen or an organic residue, R3 means a hydroxy group or a protected hydroxy group) A compound represented by or a pharmaceutically acceptable salt thereof. 2. R1 is an amino group or an acylamino group, R2 is hydrogen, a lower alkyl group, a carboxyl group, Boxy(lower)alkyl group or protected carboxy(lower)alkyl group, R 3 is a hydroxy group or a phenyl group optionally substituted with one or more suitable substituents; 2. The compound according to claim 1, which is a (lower) alkoxy group. 3. R2 is hydrogen, lower alkyl group, carboxy(lower) alkyl group or ester carboxy (lower) alkyl group, R3 is a hydroxy group or a lower alkyl group, Koxyphenyl (lower) alkoxy group The compound according to claim 2. 4. R2 is hydrogen, lower alkyl group, carboxy(lower) alkyl group or lower alkyl group 4. The compound according to claim 3, which is a alkoxycarbonyl (lower) alkyl group. 5. R1 is an amino group, Z is N, R2 is a carboxy (lower) alkyl group, R3 is a hydroxy group 5. The compound according to claim 4. 6.7β-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2 -(1-carboxy-1-methylethoxyimino)acetamide]-3-[3- {(5-hydroxy-4-oxo-1,4-dihydropyridin-2-yl)cal bonylamino}-1-pyridinio]methyl-3-cephem-4-carboxylic acid 6. The compound according to claim 5, which is a pharmaceutically acceptable salt thereof. . 7. formula: ▲Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R1 is an amino group or a protected amino group, Z is N or CH, R2 is hydrogen or an organic residue, R3 means a hydroxy group or a protected hydroxy group) Manufacture the compound shown or its salts by any of the methods (1) to (4) below. how to. (1) Formula: ▲Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R3 has the same meaning as before) Compounds represented by or reactive derivatives thereof at the amino group or salts thereof And the formula: ▲Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (wherein R1, R2 and Z each have the same meanings as before) or By reacting reactive derivatives or salts thereof at the carboxy group, the formula: ▲Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ A compound represented by (wherein R1, R2, R3 and Z each have the same meaning as before) or obtain its salts; or (2) Formula: ▲Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R1, R2 and Z each have the same meaning as before, and X means a leaving group. do) Compounds shown or their salts and formulas: ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R3 has the same meaning as before) By reacting the compound shown by or its salt, the formula: ▲ has a mathematical formula, chemical formula, table, etc. I'm here▼ (In the formula, R1, R2, R3 and Z each have the same meaning as before) obtain a compound represented by or a salt thereof; or (3) Formula: ▲Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R1, R3 and Z each have the same meaning as before, and R2a is protected carboxy (lower) alkyl group) The compound represented by or its salts is subjected to an elimination reaction of its carboxy protecting group. ,formula: ▲Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R1, R3 and Z each have the same meaning as before, and R2b is carboxylic acid. to obtain a compound represented by ((lower) alkyl group) or a salt thereof; or (4) Formula: ▲Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (wherein R1, R2 and Z each have the same meaning as before, R3a is protected hydroxy group) or its salts. Following the elimination reaction of the protecting group, the formula: ▲Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (wherein R1, R2 and Z each have the same meanings as before) or Get the salts. 8. formula ▲Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R3 means a hydroxy group or a protected hydroxy group) The compound shown in 9. The compound according to claim 1 or a pharmaceutically acceptable salt thereof as an active ingredient. and a pharmaceutically acceptable carrier. 10. The compound according to claim 1 or a pharmaceutically acceptable salt thereof is administered to humans or or methods of treating infectious diseases administered to animals. 11. The compound or pharmaceutically acceptable compound according to claim 1 used as an antibacterial agent The salts.
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