JPH0651302A - 表示装置 - Google Patents
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- JPH0651302A JPH0651302A JP4219708A JP21970892A JPH0651302A JP H0651302 A JPH0651302 A JP H0651302A JP 4219708 A JP4219708 A JP 4219708A JP 21970892 A JP21970892 A JP 21970892A JP H0651302 A JPH0651302 A JP H0651302A
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 反射型の空間光変調素子を用いて高輝度化を
図った表示装置を提供することにある。 【構成】 反射型の空間光変調素子SLMを用いて画像
をスクリ−ンS上に表示させる装置において、二つの偏
光ビームスプリッタPBS,PBSiを設け、これらの
それぞれに形成される反射・透過膜面PBS-1,PBS
i-1の配置関係を、互いに入射する偏光々が逆転する関
係となるように配置して、明るい画像を得るために光源
LSを大きくして非平行光が増加した場合にも、読み出
し光への不要光の混入を抑え、高輝度で、高コントラス
トな画像を得るようにする。
図った表示装置を提供することにある。 【構成】 反射型の空間光変調素子SLMを用いて画像
をスクリ−ンS上に表示させる装置において、二つの偏
光ビームスプリッタPBS,PBSiを設け、これらの
それぞれに形成される反射・透過膜面PBS-1,PBS
i-1の配置関係を、互いに入射する偏光々が逆転する関
係となるように配置して、明るい画像を得るために光源
LSを大きくして非平行光が増加した場合にも、読み出
し光への不要光の混入を抑え、高輝度で、高コントラス
トな画像を得るようにする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は投射型表示装置、リヤプ
ロジェクタ、オーバーヘッドプロジェクタ等の表示装置
に関する。
ロジェクタ、オーバーヘッドプロジェクタ等の表示装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】画像信号における各画素信号によって強
度変調された状態の光束を水平方向及び垂直方向に走査
し、その光束を投影光学系によりスクリーンに投影し
て、2次元的な画像の表示を行なうようにした表示装置
は従来から知られているが、従来技術では、時系列的な
信号を用いて高輝度で高解像度の光学的な2次元画像、
例えば縦横にそれぞれ4000個の画素が配列されてい
るような高精細度の2次元画像を実時間に近い状態で形
成させることが要求されても、それを実現できるような
信号変換素子がなかったので、そのような要求を満足さ
せることはできなかった。
度変調された状態の光束を水平方向及び垂直方向に走査
し、その光束を投影光学系によりスクリーンに投影し
て、2次元的な画像の表示を行なうようにした表示装置
は従来から知られているが、従来技術では、時系列的な
信号を用いて高輝度で高解像度の光学的な2次元画像、
例えば縦横にそれぞれ4000個の画素が配列されてい
るような高精細度の2次元画像を実時間に近い状態で形
成させることが要求されても、それを実現できるような
信号変換素子がなかったので、そのような要求を満足さ
せることはできなかった。
【0003】本出願人会社では前記した問題点が良好に
解決でき、高輝度で、かつ、高精細度の画像の表示を極
めて容易に行なうことができるような表示装置として、
例えば、特開平3−196121号公報によって開示さ
れているような表示装置、すなわち、光源から放射され
た断面形状が直線状の光束を、画素毎に設けてある多数
の反射部材を画素情報によって変位させうるような構成
を備えている光変調部に入射させ、光変調部においてそ
れに入射された断面形状が直線状の光束における直線方
向について画素毎に強度変調された断面形状が直線状の
光束として出射させ、前記した光変調部から出射された
光束を光偏向装置により、光束を所定の周期で水平方向
に偏向して投影レンズに入射させ、投影レンズによりス
クリーンに投影してスクリーン上に2次元画像を映出す
るようにした装置を提案したが、前記した既提案の装置
では、それの光変調部で行なわれる画素情報による光の
強度変調動作が遅いことが問題になった。
解決でき、高輝度で、かつ、高精細度の画像の表示を極
めて容易に行なうことができるような表示装置として、
例えば、特開平3−196121号公報によって開示さ
れているような表示装置、すなわち、光源から放射され
た断面形状が直線状の光束を、画素毎に設けてある多数
の反射部材を画素情報によって変位させうるような構成
を備えている光変調部に入射させ、光変調部においてそ
れに入射された断面形状が直線状の光束における直線方
向について画素毎に強度変調された断面形状が直線状の
光束として出射させ、前記した光変調部から出射された
光束を光偏向装置により、光束を所定の周期で水平方向
に偏向して投影レンズに入射させ、投影レンズによりス
クリーンに投影してスクリーン上に2次元画像を映出す
るようにした装置を提案したが、前記した既提案の装置
では、それの光変調部で行なわれる画素情報による光の
強度変調動作が遅いことが問題になった。
【0004】それで、本出願人会社では先に、N個の画
素と対応するN個の発光素子(例えば発光ダイオード)
が直線的に配列されている発光素子アレイにおけるN個
の発光素子に、予め定められた期間にわたってそれぞれ
の発光素子と対応する画素の情報を供給して、前記した
発光素子アレイにおけるN個の発光素子を前記の期間に
わたって同時に発光させ、前記の発光素子アレイの各発
光素子から放射された光の整列方向と直交する方向に前
記した各発光素子から放射された光を同時に偏向させる
ようにし、前記の偏向された光が2つの電極間に少なく
とも光導電層部材と光変調材層部材とを含んで構成され
ている空間光変調素子における光導電層に結像させ、空
間光変調素子に読出し光を与えて空間光変調素子から読
出した画像情報をスクリーンに映出させるようにした表
示装置を提案した。
素と対応するN個の発光素子(例えば発光ダイオード)
が直線的に配列されている発光素子アレイにおけるN個
の発光素子に、予め定められた期間にわたってそれぞれ
の発光素子と対応する画素の情報を供給して、前記した
発光素子アレイにおけるN個の発光素子を前記の期間に
わたって同時に発光させ、前記の発光素子アレイの各発
光素子から放射された光の整列方向と直交する方向に前
記した各発光素子から放射された光を同時に偏向させる
ようにし、前記の偏向された光が2つの電極間に少なく
とも光導電層部材と光変調材層部材とを含んで構成され
ている空間光変調素子における光導電層に結像させ、空
間光変調素子に読出し光を与えて空間光変調素子から読
出した画像情報をスクリーンに映出させるようにした表
示装置を提案した。
【0005】ところで、前記のように空間光変調素子を
含んで構成されている表示装置において、構成部材とし
て用いられている空間光変調素子が反射型の空間光変調
素子の場合には、空間光変調素子から画像情報を読出す
ために空間光変調素子に入射される画像情報の読出し光
と、前記した読出し光の入射によって空間光変調素子か
ら出射された画像情報を含んでいる状態の読出し光とを
良好に分離することが必要とされる。
含んで構成されている表示装置において、構成部材とし
て用いられている空間光変調素子が反射型の空間光変調
素子の場合には、空間光変調素子から画像情報を読出す
ために空間光変調素子に入射される画像情報の読出し光
と、前記した読出し光の入射によって空間光変調素子か
ら出射された画像情報を含んでいる状態の読出し光とを
良好に分離することが必要とされる。
【0006】それで、従来、例えば読出し光を空間光変
調素子の面に直交しない方向から入射させるようにし
て、空間光変調素子から出射される読出し光と空間光変
調素子に入射される読出し光との分離が良好に行なわれ
るようにすることも提案されたが、前記のように空間光
変調素子の面に斜交する方向から読出し光を入射させる
ようにした場合には、スクリーンに歪の無い画像を投影
させるための複雑な光学系が必要とされるという問題点
があるために、読出し光をビームスプリッタを介して空
間光変調素子の面に直交する方向から入,出射させるよ
うにすることが行なわれて来ている。そして、前記のビ
ームスプリッタとしては、一般に半透明鏡や偏光ビーム
スプリッタが使用されることが多いが、ビームスプリッ
タとして半透明鏡が使用された場合に生じる光量損失が
問題になる場合には、ビームスプリッタとして偏光ビー
ムスプリッタが使用される。
調素子の面に直交しない方向から入射させるようにし
て、空間光変調素子から出射される読出し光と空間光変
調素子に入射される読出し光との分離が良好に行なわれ
るようにすることも提案されたが、前記のように空間光
変調素子の面に斜交する方向から読出し光を入射させる
ようにした場合には、スクリーンに歪の無い画像を投影
させるための複雑な光学系が必要とされるという問題点
があるために、読出し光をビームスプリッタを介して空
間光変調素子の面に直交する方向から入,出射させるよ
うにすることが行なわれて来ている。そして、前記のビ
ームスプリッタとしては、一般に半透明鏡や偏光ビーム
スプリッタが使用されることが多いが、ビームスプリッ
タとして半透明鏡が使用された場合に生じる光量損失が
問題になる場合には、ビームスプリッタとして偏光ビー
ムスプリッタが使用される。
【0007】ところで、表示装置によって明るい画像を
表示させるのには、大きな光量の読出し光が放射できる
光源を用いなければならないことは当然であるが、前記
した大きな光量の光を放射できる光源は点光源としては
構成できず、必然的に有限の大きさを示す構成態様の光
源となるから、その光源から放射される光は非平行光と
なる。
表示させるのには、大きな光量の読出し光が放射できる
光源を用いなければならないことは当然であるが、前記
した大きな光量の光を放射できる光源は点光源としては
構成できず、必然的に有限の大きさを示す構成態様の光
源となるから、その光源から放射される光は非平行光と
なる。
【0008】一方、偏光ビームスプリッタに対して不定
偏光々が入射された場合に、その不定偏光々が平行光の
場合には、偏光ビームスプリッタからは等量のS偏光々
とP偏光々とが出力されるが、偏光ビームスプリッタに
対して入射した不定偏光々が非平行光の場合に、偏光ビ
ームスプリッタから出力されるS偏光々の光量とP偏光
々の光量とは異なるものになるために、表示画像のコン
トラスト比が低下することが起こる。
偏光々が入射された場合に、その不定偏光々が平行光の
場合には、偏光ビームスプリッタからは等量のS偏光々
とP偏光々とが出力されるが、偏光ビームスプリッタに
対して入射した不定偏光々が非平行光の場合に、偏光ビ
ームスプリッタから出力されるS偏光々の光量とP偏光
々の光量とは異なるものになるために、表示画像のコン
トラスト比が低下することが起こる。
【0009】本出願人会社は、これを解決すべく特願平
3−285717号(平成3年10月4日出願)の表示
装置を提案した。図2は、その表示装置の概略ブロック
図である。この表示装置においてSLMは2つの電極間
に少なくとも光導電層部材と光変調材層部材とを含んで
構成されている反射型の空間光変調素子、PBSは偏光
ビームスプリッタ、LSは不定偏光々を放射する読出し
光の光源、Lpは投影レンズ、Sはスクリーンである。
PLoは偏光板、PBSiは偏光ビームスプリッタであ
る。反射型の空間光変調素子SLMは例えば透明基板B
P1と透明電極Et1と光導電層部材PCLと誘電体ミラ
ーDMLと光変調材層部材PMLと透明電極Et2と透明
基板BP2とを積層して構成されている。
3−285717号(平成3年10月4日出願)の表示
装置を提案した。図2は、その表示装置の概略ブロック
図である。この表示装置においてSLMは2つの電極間
に少なくとも光導電層部材と光変調材層部材とを含んで
構成されている反射型の空間光変調素子、PBSは偏光
ビームスプリッタ、LSは不定偏光々を放射する読出し
光の光源、Lpは投影レンズ、Sはスクリーンである。
PLoは偏光板、PBSiは偏光ビームスプリッタであ
る。反射型の空間光変調素子SLMは例えば透明基板B
P1と透明電極Et1と光導電層部材PCLと誘電体ミラ
ーDMLと光変調材層部材PMLと透明電極Et2と透明
基板BP2とを積層して構成されている。
【0010】前記した反射型の空間光変調素子SLMに
おいて、透明電極Et1,Et2は透明導電物質の薄膜で構
成されており、また光導電層部材PCLは使用される光
の波長域において光導電性を示す物質、例えば水素化ア
モルファス・シリコン(a−Si−H)が使用されてお
り、また、誘電体ミラーDMLとしては所定の波長帯の
光を反射させうるように多層膜として構成された周知形
態のものが使用でき、さらにまた、光変調材層部材PM
Lとしては例えば電界制御型複屈折効果を有する誘電異
方性が負であるようなネマティック液晶を垂直配向とし
て用いて構成させた光変調材層部材が用いられている。
Eは透明電極Et1,Et2間に所定の電圧を印加するため
の電源である。
おいて、透明電極Et1,Et2は透明導電物質の薄膜で構
成されており、また光導電層部材PCLは使用される光
の波長域において光導電性を示す物質、例えば水素化ア
モルファス・シリコン(a−Si−H)が使用されてお
り、また、誘電体ミラーDMLとしては所定の波長帯の
光を反射させうるように多層膜として構成された周知形
態のものが使用でき、さらにまた、光変調材層部材PM
Lとしては例えば電界制御型複屈折効果を有する誘電異
方性が負であるようなネマティック液晶を垂直配向とし
て用いて構成させた光変調材層部材が用いられている。
Eは透明電極Et1,Et2間に所定の電圧を印加するため
の電源である。
【0011】透明電極Et1,Et2間に電源Eから所定の
電圧が供給されている反射型の空間光変調素子SLMに
おける透明基板BP1側から、画像情報によって強度変
調されている書込み光WLが入射して、反射型の空間光
変調素子SLMにおける光導電層部材PCLに集光され
ると、前記した書込み光WLが集光された部分の光導電
層部材PCLの電気抵抗値が、照射された光量に応じて
高感度に変化して、光導電層部材PCLと誘電体ミラー
DMLとの境界には前記した表示の対象にされている画
像情報で強度変調されている書込み光WLによる照射光
量と対応している電荷像が良好に形成されて、それによ
り反射型の空間光変調素子SLMの光変調材層部材PM
Lには光導電層PCLと誘電体ミラーDMLとの境界に
形成された電荷像による電界が印加されることになる。
電圧が供給されている反射型の空間光変調素子SLMに
おける透明基板BP1側から、画像情報によって強度変
調されている書込み光WLが入射して、反射型の空間光
変調素子SLMにおける光導電層部材PCLに集光され
ると、前記した書込み光WLが集光された部分の光導電
層部材PCLの電気抵抗値が、照射された光量に応じて
高感度に変化して、光導電層部材PCLと誘電体ミラー
DMLとの境界には前記した表示の対象にされている画
像情報で強度変調されている書込み光WLによる照射光
量と対応している電荷像が良好に形成されて、それによ
り反射型の空間光変調素子SLMの光変調材層部材PM
Lには光導電層PCLと誘電体ミラーDMLとの境界に
形成された電荷像による電界が印加されることになる。
【0012】不定偏光々を放射する読出し光の非点光源
LSから放射された非平行光状態の不定偏光々を偏光ビ
ームスプリッタPBSiに与えて、偏光ビームスプリッ
タPBSiにより不要なP偏光々を除去し、偏光ビーム
スプリッタPBSiから出射されたS偏光々だけを偏光
ビームスプリッタPBSに入射させているが、既述のよ
うに偏光ビームスプリッタではそれに非平行の状態の不
定偏光々が入射された場合には、S偏光々だけが反射さ
れるのではなく幾分かのP偏光々も反射するとともに、
P偏光々だけが透過するのではなく、幾分かのS偏光々
も透過するから、偏光ビームスプリッタPBSiからは
必要なS偏光々だけでなく、不要なP偏光々も偏光ビー
ムスプリッタPBSに入射される。
LSから放射された非平行光状態の不定偏光々を偏光ビ
ームスプリッタPBSiに与えて、偏光ビームスプリッ
タPBSiにより不要なP偏光々を除去し、偏光ビーム
スプリッタPBSiから出射されたS偏光々だけを偏光
ビームスプリッタPBSに入射させているが、既述のよ
うに偏光ビームスプリッタではそれに非平行の状態の不
定偏光々が入射された場合には、S偏光々だけが反射さ
れるのではなく幾分かのP偏光々も反射するとともに、
P偏光々だけが透過するのではなく、幾分かのS偏光々
も透過するから、偏光ビームスプリッタPBSiからは
必要なS偏光々だけでなく、不要なP偏光々も偏光ビー
ムスプリッタPBSに入射される。
【0013】前記のようにS偏光々と僅かな不要なP偏
光々とが入射された偏光ビームスプリッタPBSでは、
そのS偏光々と僅かなP偏光々とを反射して反射型の空
間光変調素子SLMに入射させる。この空間光変調素子
SLMでは、これらの偏光々の偏光面が変化して必要な
P偏光々と不要なS偏光々として、再び偏光ビームスプ
リッタPBSに出射する。そして、この偏光ビームスプ
リッタPBSから出射されるP偏光々と、ここにおい
て、まだ反射しきれない不要なS偏光々とを次段の偏光
子PLo に入射して、ここで、不要なS偏光々を除去
し、投影レンズLpを通じて画像をスクリ−ンS上に表
示させる構成としているものである。
光々とが入射された偏光ビームスプリッタPBSでは、
そのS偏光々と僅かなP偏光々とを反射して反射型の空
間光変調素子SLMに入射させる。この空間光変調素子
SLMでは、これらの偏光々の偏光面が変化して必要な
P偏光々と不要なS偏光々として、再び偏光ビームスプ
リッタPBSに出射する。そして、この偏光ビームスプ
リッタPBSから出射されるP偏光々と、ここにおい
て、まだ反射しきれない不要なS偏光々とを次段の偏光
子PLo に入射して、ここで、不要なS偏光々を除去
し、投影レンズLpを通じて画像をスクリ−ンS上に表
示させる構成としているものである。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】前記の図2に示した表
示装置においては、明るい表示画像を映出させるために
大光量の非平行光の光源を使用する場合には、従来の装
置に比べて、改善されたコントラスト比の高い良好な画
像が得られるものである。ところが、更に、大画面化に
備えて一層の明るい画像を得ようとする場合には、読み
出しのための光源LSを更に大きくして大光量を得るよ
うにしなければならなず、これに伴って光源LSからは
今まで以上に非平行光が発射されることになり、必然的
に偏光ビームスプリッタPBS,PBSiにとっての不
用光も増加することになる。このため、前記図2に示し
たような表示装置では不用光を除去しきれず、コントラ
スト比の劣化を招くことが懸念されるものであった。そ
こで、本発明は、この点を鑑みて成されたものであり、
高輝度化を図るために読み出し光の光源を大きくした場
合にも、コントラスト比の劣化を招くことのないような
表示装置を提供することにある。
示装置においては、明るい表示画像を映出させるために
大光量の非平行光の光源を使用する場合には、従来の装
置に比べて、改善されたコントラスト比の高い良好な画
像が得られるものである。ところが、更に、大画面化に
備えて一層の明るい画像を得ようとする場合には、読み
出しのための光源LSを更に大きくして大光量を得るよ
うにしなければならなず、これに伴って光源LSからは
今まで以上に非平行光が発射されることになり、必然的
に偏光ビームスプリッタPBS,PBSiにとっての不
用光も増加することになる。このため、前記図2に示し
たような表示装置では不用光を除去しきれず、コントラ
スト比の劣化を招くことが懸念されるものであった。そ
こで、本発明は、この点を鑑みて成されたものであり、
高輝度化を図るために読み出し光の光源を大きくした場
合にも、コントラスト比の劣化を招くことのないような
表示装置を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記問題点を
解決するために以下の1)及び2)より成る表示装置を
提供しようというものである。即ち、 1)2つの電極間に少なくとも光導電層部材と光変調材
層部材とを含んで構成されている反射型の空間光変調素
子と、読出し光の光源から前記空間光変調素子に入射さ
せる読出し光と前記空間光変調素子から画像情報を含ん
で出射される読出し光とを分離し、これに形成される反
射・透過膜面により前記画像情報を含んで出射される読
出し光のS偏光々を反射し、P偏光々を透過するための
第1の偏光ビームスプリッタとを少なくとも具備し、こ
の第1の偏光ビームスプリッタから透過される前記P偏
光々を投影レンズを介してスクリ−ン上に画像表示させ
る表示装置において、前記光源と前記第1の偏光ビーム
スプリッタとの光路中に、前記光源からの読み出し光の
S偏光々を反射し、P偏光々を透過するための反射・透
過膜面が形成された第2の偏光ビームスプリッタを設
け、前記第1の偏光ビームスプリッタと前記第2の偏光
ビームスプリッタとの配置を、前記第2の偏光ビームス
プリッタの反射・透過膜面から透過されるP偏光々が前
記第1の偏光ビームスプリッタの反射・透過膜面に対し
てS偏光々として入射し、このS偏光々が前記空間光変
調素子が設けられる方向に反射される角度位置に配置し
たことを特徴とする表示装置。
解決するために以下の1)及び2)より成る表示装置を
提供しようというものである。即ち、 1)2つの電極間に少なくとも光導電層部材と光変調材
層部材とを含んで構成されている反射型の空間光変調素
子と、読出し光の光源から前記空間光変調素子に入射さ
せる読出し光と前記空間光変調素子から画像情報を含ん
で出射される読出し光とを分離し、これに形成される反
射・透過膜面により前記画像情報を含んで出射される読
出し光のS偏光々を反射し、P偏光々を透過するための
第1の偏光ビームスプリッタとを少なくとも具備し、こ
の第1の偏光ビームスプリッタから透過される前記P偏
光々を投影レンズを介してスクリ−ン上に画像表示させ
る表示装置において、前記光源と前記第1の偏光ビーム
スプリッタとの光路中に、前記光源からの読み出し光の
S偏光々を反射し、P偏光々を透過するための反射・透
過膜面が形成された第2の偏光ビームスプリッタを設
け、前記第1の偏光ビームスプリッタと前記第2の偏光
ビームスプリッタとの配置を、前記第2の偏光ビームス
プリッタの反射・透過膜面から透過されるP偏光々が前
記第1の偏光ビームスプリッタの反射・透過膜面に対し
てS偏光々として入射し、このS偏光々が前記空間光変
調素子が設けられる方向に反射される角度位置に配置し
たことを特徴とする表示装置。
【0016】2)請求項1記載の表示装置において、第
1の偏光ビームスプリッタの透過側に、ここから透過さ
れるP偏光々に含まれるS偏光々を除去するためのフィ
ルタ手段を設けたことを特徴とする表示装置。
1の偏光ビームスプリッタの透過側に、ここから透過さ
れるP偏光々に含まれるS偏光々を除去するためのフィ
ルタ手段を設けたことを特徴とする表示装置。
【0017】
【実施例】以下、本発明の一実施例につき、図面を使用
して詳細に説明する。まず、本発明の原理につき説明す
る。前述の図2において、偏光ビームスプリッタPBS
iの反射・透過膜面PBSi−1に対する光源LSから
の入射光に着目する。この反射・透過膜面PBSi−1
は、その傾斜角度が略45度としてこの反射・透過膜面
にとってのP偏光々を透過し、S偏光々を反射させるよ
うに形成されているものである。ところが既述したよう
に、光源LSからは非平行光が入射され、透過側にとっ
てはP偏光々のみを透過するように設計してあるもの
の、多少のS偏光々も透過してしまう。また一方、反射
側にとってはS偏光々のみを反射するように設計してあ
るものの、多少のP偏光々も反射してしまう。
して詳細に説明する。まず、本発明の原理につき説明す
る。前述の図2において、偏光ビームスプリッタPBS
iの反射・透過膜面PBSi−1に対する光源LSから
の入射光に着目する。この反射・透過膜面PBSi−1
は、その傾斜角度が略45度としてこの反射・透過膜面
にとってのP偏光々を透過し、S偏光々を反射させるよ
うに形成されているものである。ところが既述したよう
に、光源LSからは非平行光が入射され、透過側にとっ
てはP偏光々のみを透過するように設計してあるもの
の、多少のS偏光々も透過してしまう。また一方、反射
側にとってはS偏光々のみを反射するように設計してあ
るものの、多少のP偏光々も反射してしまう。
【0018】そこで、透過側及び反射側において、前記
の予定外の偏光々(不用光)の混入の仕方について本出
願人が検証した結果、透過側の方が反射側に比べ、不用
光の混入が少ないことが分かった。本発明は、このこと
に着目し、従来装置においては偏光ビームスプリッタP
BSiから偏光ビームスプリッタPBSに至る偏光々
を、偏光ビームスプリッタPBSiからの反射光を利用
するようにしていたが、これを透過光を利用するように
偏光ビームスプリッタPBSiと偏光ビームスプリッタ
PBSとの配置関係を工夫したものである。
の予定外の偏光々(不用光)の混入の仕方について本出
願人が検証した結果、透過側の方が反射側に比べ、不用
光の混入が少ないことが分かった。本発明は、このこと
に着目し、従来装置においては偏光ビームスプリッタP
BSiから偏光ビームスプリッタPBSに至る偏光々
を、偏光ビームスプリッタPBSiからの反射光を利用
するようにしていたが、これを透過光を利用するように
偏光ビームスプリッタPBSiと偏光ビームスプリッタ
PBSとの配置関係を工夫したものである。
【0019】図1は、この原理に基づいて成された表示
装置の概略構成図である。同図において、SLMは、電
極間に少なくとも光導電層部材と光変調材層部材とを含
んで構成されている反射型の空間光変調素子、PBS,
PBSiはそれぞれ第1及び第2の偏光ビームスプリッ
タ、LSは読み出し光の光源、Lpは投影レンズ、Sは
スクリ−ン、PLoは偏光板(フィルタ手段)である。
この表示装置に使用される反射型の空間光変調素子SL
Mは、例えば透明基板BP1 と2つの透明電極Et1と光
導電層部材PCLと誘電体ミラーDMLと光変調材層部
材PMLと透明電極Et2と透明基板BP2 とを積層して
構成されているが、透明電極Et1,Et2は透明導電物質
の薄膜で構成され、また光導電層部材PCLは使用され
る光の波長域において光導電性を示す物質、例えば水素
化アモルファス・シリコン(a−Si−H)が使用され
ている。前記した誘電体ミラーDMLとしては所定の波
長帯の光を反射させうるように多層膜として構成された
周知形態のものが使用でき、また、光変調材層部材PM
Lとしては例えば電界制御型複屈折効果を有する誘電異
方性が負であるようなネマティック液晶を垂直配向とし
て用いて構成させた光変調材層部材が用いられている。
Eは透明電極Et1,Et2間に所定の電圧を印加するため
の電源である。
装置の概略構成図である。同図において、SLMは、電
極間に少なくとも光導電層部材と光変調材層部材とを含
んで構成されている反射型の空間光変調素子、PBS,
PBSiはそれぞれ第1及び第2の偏光ビームスプリッ
タ、LSは読み出し光の光源、Lpは投影レンズ、Sは
スクリ−ン、PLoは偏光板(フィルタ手段)である。
この表示装置に使用される反射型の空間光変調素子SL
Mは、例えば透明基板BP1 と2つの透明電極Et1と光
導電層部材PCLと誘電体ミラーDMLと光変調材層部
材PMLと透明電極Et2と透明基板BP2 とを積層して
構成されているが、透明電極Et1,Et2は透明導電物質
の薄膜で構成され、また光導電層部材PCLは使用され
る光の波長域において光導電性を示す物質、例えば水素
化アモルファス・シリコン(a−Si−H)が使用され
ている。前記した誘電体ミラーDMLとしては所定の波
長帯の光を反射させうるように多層膜として構成された
周知形態のものが使用でき、また、光変調材層部材PM
Lとしては例えば電界制御型複屈折効果を有する誘電異
方性が負であるようなネマティック液晶を垂直配向とし
て用いて構成させた光変調材層部材が用いられている。
Eは透明電極Et1,Et2間に所定の電圧を印加するため
の電源である。
【0020】透明電極Et1,Et2間に電源Eから所定の
電圧が供給されている反射型の空間光変調素子SLMに
おける透明基板BP1側から、画像情報によって強度変
調されている書込み光WLが入射して、反射型の空間光
変調素子SLMにおける光導電層部材PCLに集光され
ると、前記した書込み光WLが集光された部分の光導電
層部材PCLの電気抵抗値が、照射された光量に応じて
高感度に変化して、光導電層部材PCLと誘電体ミラー
DMLとの境界には前記した表示の対象にされている画
像情報で強度変調されている書込み光WLによる照射光
量と対応している電荷像が良好に形成されて、それによ
り反射型の空間光変調素子SLMの光変調材層部材PM
Lには光導電層PCLと誘電体ミラーDMLとの境界に
形成された電荷像による電界が印加されることになる。
電圧が供給されている反射型の空間光変調素子SLMに
おける透明基板BP1側から、画像情報によって強度変
調されている書込み光WLが入射して、反射型の空間光
変調素子SLMにおける光導電層部材PCLに集光され
ると、前記した書込み光WLが集光された部分の光導電
層部材PCLの電気抵抗値が、照射された光量に応じて
高感度に変化して、光導電層部材PCLと誘電体ミラー
DMLとの境界には前記した表示の対象にされている画
像情報で強度変調されている書込み光WLによる照射光
量と対応している電荷像が良好に形成されて、それによ
り反射型の空間光変調素子SLMの光変調材層部材PM
Lには光導電層PCLと誘電体ミラーDMLとの境界に
形成された電荷像による電界が印加されることになる。
【0021】不定偏光々を放射する読出し光の非点光源
LSから放射された非平行光状態の不定偏光々RLが、
偏光ビームスプリッタPBSiに入射される。この不定
偏光々RLは進行方向に対して電界の振動方向が縦方向
の振動光RL-1と横方向の振動光RL-2との合成光であ
り、反射・透過膜面PBSi-1に対してP偏光々の関係
となる振動光RL-1が透過され、S偏光々の関係となる
振動光RL-2が不用光として上方に反射される。この場
合、本来ならば反射・透過膜面PBSi-1においては、
この面に対してのP偏光々である振動光RL-1のみを透
過したいところであるが、不用光である振動光(RL-
2)(以下、光路中の不用光を分かりやすくするために
カッコ書きで示す。)も透過してしまうが、反射光を利
用する場合に比べて、不用光の混入が少ない。即ち、不
用光(RL-2)は、この反射・透過膜面PBSi-1から
反射される振動光RL-2に混入される振動光RL-1より
も少ない比率になっている。
LSから放射された非平行光状態の不定偏光々RLが、
偏光ビームスプリッタPBSiに入射される。この不定
偏光々RLは進行方向に対して電界の振動方向が縦方向
の振動光RL-1と横方向の振動光RL-2との合成光であ
り、反射・透過膜面PBSi-1に対してP偏光々の関係
となる振動光RL-1が透過され、S偏光々の関係となる
振動光RL-2が不用光として上方に反射される。この場
合、本来ならば反射・透過膜面PBSi-1においては、
この面に対してのP偏光々である振動光RL-1のみを透
過したいところであるが、不用光である振動光(RL-
2)(以下、光路中の不用光を分かりやすくするために
カッコ書きで示す。)も透過してしまうが、反射光を利
用する場合に比べて、不用光の混入が少ない。即ち、不
用光(RL-2)は、この反射・透過膜面PBSi-1から
反射される振動光RL-2に混入される振動光RL-1より
も少ない比率になっている。
【0022】前記偏光ビームスプリッタPBSiから出
射された振動光RL-1と不用光(RL-2)とは、次段の
偏光ビームスプリッタPBSに入射される。この時、振
動光RL-1は反射・透過膜面PBS-1に対してS偏光々
として入射する関係となっており、空間光変調素子SL
Mの方向に反射される。一方、不用光(RL-2)はP偏
光々の関係となっており、その殆どがここより透過され
るが、僅かに透過しきれない不用光(RL-2)が空間光
変調素子SLMの方向に反射される。この僅かに透過し
きれない不用光(RL-2)は、この時点において従来の
装置に比べ、著しく減衰されたものとなっている。前記
反射・透過膜面PBSi-1と前記反射・透過膜面PBS
-1との対向面は、互いに入射する偏光々が逆転する角度
位置となっており、この点が本発明の特徴となってい
る。
射された振動光RL-1と不用光(RL-2)とは、次段の
偏光ビームスプリッタPBSに入射される。この時、振
動光RL-1は反射・透過膜面PBS-1に対してS偏光々
として入射する関係となっており、空間光変調素子SL
Mの方向に反射される。一方、不用光(RL-2)はP偏
光々の関係となっており、その殆どがここより透過され
るが、僅かに透過しきれない不用光(RL-2)が空間光
変調素子SLMの方向に反射される。この僅かに透過し
きれない不用光(RL-2)は、この時点において従来の
装置に比べ、著しく減衰されたものとなっている。前記
反射・透過膜面PBSi-1と前記反射・透過膜面PBS
-1との対向面は、互いに入射する偏光々が逆転する角度
位置となっており、この点が本発明の特徴となってい
る。
【0023】偏光ビームスプリッタPBSから出射され
た振動光RL-1と不用光(RL-2)とからなる読み出し
光は、空間光変調素子SLMの読み出し側の透明基板B
P2から入射し、透明電極Et2 及び光変調材層部材P
MLを順次介して誘電体ミラ−DMLに達し、そこで反
射した読み出し光は、この逆の経路を経て、画像情報と
対応して偏光面が変化している状態の読み出し光として
出射する。従って、この空間光変調素子SLMからは、
前記往路の場合とは逆に振動光RL-1が前記偏光ビーム
スプリッタPBSの反射・透過膜面PBS-1に対してP
偏光々の関係となる読み出し光として射出され、不用光
(RL-2)がS偏光々の関係となって射出される。これ
の内、振動光RL-1は、反射・透過膜面PBS-1より透
過され、不用光(RL-2)の殆どが反射される。
た振動光RL-1と不用光(RL-2)とからなる読み出し
光は、空間光変調素子SLMの読み出し側の透明基板B
P2から入射し、透明電極Et2 及び光変調材層部材P
MLを順次介して誘電体ミラ−DMLに達し、そこで反
射した読み出し光は、この逆の経路を経て、画像情報と
対応して偏光面が変化している状態の読み出し光として
出射する。従って、この空間光変調素子SLMからは、
前記往路の場合とは逆に振動光RL-1が前記偏光ビーム
スプリッタPBSの反射・透過膜面PBS-1に対してP
偏光々の関係となる読み出し光として射出され、不用光
(RL-2)がS偏光々の関係となって射出される。これ
の内、振動光RL-1は、反射・透過膜面PBS-1より透
過され、不用光(RL-2)の殆どが反射される。
【0024】更に、この偏光ビームスプリッタPBSか
ら透過された振動光RL-1と、ここで、反射しきれなか
った極僅かの不用光(RL-2)は次段の偏光板PLo
(フィルタ手段)に入射され、そこで、不用光(RL-
2)が除去されて、投影レンズLpを介してコントラス
ト比の劣化のない画像がスクリ−ンS上に表示される。
ら透過された振動光RL-1と、ここで、反射しきれなか
った極僅かの不用光(RL-2)は次段の偏光板PLo
(フィルタ手段)に入射され、そこで、不用光(RL-
2)が除去されて、投影レンズLpを介してコントラス
ト比の劣化のない画像がスクリ−ンS上に表示される。
【0025】
【発明の効果】請求項1記載の表示装置によれば、表示
画面を明るくするために読み出しのための光源を大きく
して不定偏光が増加する場合にも、画像表示のための読
み出し光に不要光の混入を極力減少させることがで、高
コントラストの画像を提供できる。請求項2記載の表示
装置によれば、前記請求項1記載の表示装置の効果に加
えて、更に一層の不要光の混入を抑えることができ、高
コントラストの画像を提供できる。
画面を明るくするために読み出しのための光源を大きく
して不定偏光が増加する場合にも、画像表示のための読
み出し光に不要光の混入を極力減少させることがで、高
コントラストの画像を提供できる。請求項2記載の表示
装置によれば、前記請求項1記載の表示装置の効果に加
えて、更に一層の不要光の混入を抑えることができ、高
コントラストの画像を提供できる。
【図1】本発明の表示装置の一実施例を示した概略構成
図である。
図である。
【図2】従来の表示装置の概略構成図である。
SLM 反射型の空間光変調素子 PBS 偏光ビ−ムスピリッタ(第1の偏光ビ−ムス
ピリッタ) PBSi 偏光ビ−ムスピリッタ(第2の偏光ビ−ム
スピリッタ) PBS-1,PBSi-1 反射・透過膜面 LS 光源 Lp 投影レンズ PLo 偏光板(フィルタ手段) S スクリ−ン
ピリッタ) PBSi 偏光ビ−ムスピリッタ(第2の偏光ビ−ム
スピリッタ) PBS-1,PBSi-1 反射・透過膜面 LS 光源 Lp 投影レンズ PLo 偏光板(フィルタ手段) S スクリ−ン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 竜作 神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番 地 日本ビクター株式会社内
Claims (2)
- 【請求項1】 2つの電極間に少なくとも光導電層部材
と光変調材層部材とを含んで構成されている反射型の空
間光変調素子と、読出し光の光源から前記空間光変調素
子に入射させる読出し光と前記空間光変調素子から画像
情報を含んで出射される読出し光とを分離し、これに形
成される反射・透過膜面により前記画像情報を含んで出
射される読出し光のS偏光々を反射し、P偏光々を透過
するための第1の偏光ビームスプリッタとを少なくとも
具備し、前記第1の偏光ビームスプリッタから透過され
る前記P偏光々を投影レンズを介してスクリ−ン上に画
像表示させる表示装置において、 前記光源と前記第1の偏光ビームスプリッタとの光路中
に、前記光源からの読み出し光のS偏光々を反射し、P
偏光々を透過するための反射・透過膜面が形成された第
2の偏光ビームスプリッタを設け、 前記第1の偏光ビームスプリッタと前記第2の偏光ビー
ムスプリッタとの配置を、前記第2の偏光ビームスプリ
ッタの反射・透過膜面から透過されるP偏光々が前記第
1の偏光ビームスプリッタの反射・透過膜面に対してS
偏光々として入射し、このS偏光々が前記空間光変調素
子が設けられる方向に反射される角度位置に配置したこ
とを特徴とする表示装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の表示装置において、第1
の偏光ビームスプリッタの透過側に、ここから透過され
るP偏光々に含まれるS偏光々を除去するためのフィル
タ手段を設けたことを特徴とする表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4219708A JP2867806B2 (ja) | 1992-07-27 | 1992-07-27 | 表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4219708A JP2867806B2 (ja) | 1992-07-27 | 1992-07-27 | 表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0651302A true JPH0651302A (ja) | 1994-02-25 |
| JP2867806B2 JP2867806B2 (ja) | 1999-03-10 |
Family
ID=16739726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4219708A Expired - Fee Related JP2867806B2 (ja) | 1992-07-27 | 1992-07-27 | 表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2867806B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63253919A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Canon Inc | 光画像変換装置 |
| JPH01319734A (ja) * | 1988-06-21 | 1989-12-26 | Seiko Instr Inc | 透過型光書込液晶ライトバルブ |
-
1992
- 1992-07-27 JP JP4219708A patent/JP2867806B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63253919A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Canon Inc | 光画像変換装置 |
| JPH01319734A (ja) * | 1988-06-21 | 1989-12-26 | Seiko Instr Inc | 透過型光書込液晶ライトバルブ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2867806B2 (ja) | 1999-03-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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|
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |