JPH0651347A

JPH0651347A - マトリクス配線基板およびその製造方法

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Publication number: JPH0651347A
Application number: JP2946293A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Hebiguchi; 広行蛇口
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 1992-06-03
Filing date: 1993-02-18
Publication date: 1994-02-25
Anticipated expiration: 2013-06-18
Also published as: JP2766442B2

Abstract

(57)【要約】【目的】本発明はマトリクス配線基板に駆動回路が接
続されるまで静電気対策を施すことができ、また早期の
回路配線の検査を可能する基板の提供を目的とする。【構成】本発明は、基板上にマトリクス状に回路配線
が形成されたマトリクス配線基板において、回路配線の
外周部に前記回路配線と接続されるガードリングが形成
され、回路配線とガードリングの間に前記回路配線とガ
ードリングの導通を制御する接断部が介在しているもの
である。【効果】本発明によれば、接断部に外場を作用させて
回路配線とガードリングとを導通させておくことで、回
路配線中の各配線が短絡し、それらの間に静電気による
電位差が生じなくなり、放電が起こらず、歩留まりが向
上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本願発明は、回路配線がマトリク
ス状に配置形成されたマトリクス配線基板、およびその
製造方法に関するもので、特にその製造時における静電
気対策を施したものである。

【０００２】

【従来の技術】ビジュアル機器等において、近年特にフ
ラットディスプレイの開発が注目されているが、中でも
液晶ディスプレイは多くの利点を有し、将来の主流表示
方式としてさらなる開発が急務とされている。中でも、
ａ−ＳｉＴＦＴ（アモルファスシリコン薄膜トランジス
タ）を使用したアクティブマトリクス方式の液晶ディス
プレイはその表示品位の高さから主流になると予想さ
れ、現在も比較的小型なものから実用化が進みつつあ
る。

【０００３】ところで、アクティブマトリクス方式の液
晶ディスプレイは、絶縁体であるガラス基板上に、マト
リクス状に、画素電極と、各画素電極に設けられたゲー
ト配線とソース配線と、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と
を形成してなるマトリクス配線基板をまず製造し、これ
を組み立て、液晶を注入する等の工程、駆動回路の接続
工程を経て製造することができる。

【０００４】この際、マトリクス配線基板を製造するに
あたって、各電極相互間には静電気が発生し易いもので
あった。この静電気が発生すると、その放電によって例
えばＴＦＴの絶縁体や半導体が破壊され、またはその発
熱によって回路配線が損傷し、配線基板としての歩留り
を大幅に悪化させてしまうものであった。中でもａ−Ｓ
ｉＴＦＴは特に静電気に対して弱いとされているもので
ある。

【０００５】そこで、従来、図１０に示すように、ガー
ドリング１２を形成することによって静電気対策を施す
製造方法が採られていた。図１０に示すマトリクス配線
基板１０は、データ信号を流すための多数のソース配線
１８，１８，・・・と、走査信号を流すための多数のゲー
ト配線１６，１６，・・・とが整列状態でガラス基板２４
上に形成され、それらソース配線１８とゲート配線１６
との間に画素電極２２，２２，・・・が形成され、各画素
電極２２がスイッチング素子（薄膜トランジスタ：ＴＦ
Ｔ）２０，２０，・・・を介してソース配線１８とゲート
配線１６とに接続されて構成されている。そして、図１
０に示す符号１２が画素エリア１４外に形成されたガー
ドリングであり、画素エリア１４内の回路配線、即ちソ
ース配線１８及びゲート配線１６と接続されている。

【０００６】このガードリング１２を形成したものであ
れば、静電気が発生したとしても、各ソース配線１８と
ゲート配線１６とはガードリング１２によって短絡して
いるために近接する電極間に電位差が生じることがな
く、放電を防止することができる。従って、上記ガード
リング１２が形成されていれば、静電気の発生によって
ＴＦＴや半導体等を含む回路配線の破壊、損傷を防ぐこ
とができた。尚、マトリクス配線基板１０の製造後に
は、画素エリア１４の外周部をダイヤモンドカッタ等の
切削用具を用いてガラス基板２４ごと切り落とし、ガー
ドリング１２を切断除去した後に、この製造された配線
基板の組立工程、駆動回路の接続等の後工程に移る。

【０００７】図１１と図１２は、図１０に示した従来の
アクティブマトリクス液晶表示装置において、ゲート配
線１６とソース配線１８等の部分を実際に基板上に形成
した一構造例を示すものである。図１１と図１２に示す
アクティブマトリクス表示装置において、ガラスなどの
透明の基板５０上に、ゲート配線１６とソース配線１８
とが互いの交差部分にゲート絶縁層５１を介してマトリ
クス状に配線されている。また、ゲート配線１６とソー
ス配線１８との交差部分の近傍に薄膜トランジスタから
なるスイッチング素子５３が設けられている。

【０００８】図１１と図１２に示すスイッチング素子５
３は最も一般的なチャネルエッチ型の素子の一例であ
り、ゲート配線１６から引き出して設けたゲート電極５
４上に、ゲート絶縁層５１を設け、このゲート絶縁層５
１上にアモルファスシリコン（ａ-Ｓｉ）からなる半導
体層５５を設け、更にこの半導体層５５上にアルミニウ
ムなどの導体からなるドレイン電極５６とソース電極５
７とを設けて構成されている。なお、半導体層５５の最
上層はイオンをドープしたアモルファスシリコン層５５
ａにされている。また、前記ドレイン電極５６は、ゲー
ト絶縁層５１にあけられたコンタクトホール５７を介し
て基板５０上に形成された画素電極５８に接続されると
ともに、前記ソース電極５７はソース配線１８に接続さ
れている。

【０００９】そして、前記ゲート絶縁層５１とドレイン
電極５６とソース電極５７などを覆ってこれらの上にパ
シベーション層５９が設けられ、このパシベーション層
５９上に配向膜６０が形成され、この配向膜６０の上方
に、間隔をあけて配向膜６１を備えた透明の基板６２が
設けられ、更に配向膜６０、６１の間に液晶６３が封入
されてアクティブマトリクス液晶表示装置が構成されて
いて、前記画素電極５８が前記液晶６３の分子に電界を
印加すると液晶分子の配向制御ができるようになってい
る。また、液晶６３の上方部分において、基板６２と配
向膜６１の間にはブラックマスク６５が設けられ、画素
電極５８の上方領域以外の部分は覆い隠された構造にな
っている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記方
法によって静電気対策を施すものであっては、ガードリ
ング１２の形成されている時には有効ではあるが、その
後工程においてはガードリング１２は切断除去されてい
るので、静電気に対して無防備であり、前記後工程時
（駆動回路を実装する迄）にはやはり静電気の影響を受
け、配線基板が損傷を受ける可能性の大きいものであっ
た。特に、静電気の発生はａ−ＳｉＴＦＴを形成する工
程と共に、ＬＣＤの組立工程時に多発する傾向があり、
組立工程時に静電気対策が施されていないことは、非常
に問題であった。さらにまた、ガードリング１２を切断
除去する際にも、ガラス基板２４と切削用具との間で静
電気が発生しやすく、この静電気が回路配線の損傷原因
ともなるものであった。

【００１１】また、ガードリング１２が形成されている
うちはソース配線１８とゲート配線１６とは短絡してい
るために当然ではあるが、回路配線の検査を行なうこと
ができず、また、検査のためにガードリング１２を一旦
切断除去してしまうと、再びガードリング１２を形成す
ることはできず、検査後の回路配線は静電気の発生に対
して無防備となり、従って、検査後に不良が発生する可
能性が大きく、検査の実質的な価値が損なわれてしま
う。そこで、検査はガードリング１２を切り離して配線
基板の組立工程等の後工程を経て駆動回路が接続された
後に行なっていたが、この方法だと回路配線の不良を見
つけ出したとしても、多くの工程を経た後であるので既
に対応困難であり、廃棄処分となるため、製造損失が大
きく、回路配線の早期検査が切望されていた。

【００１２】本発明は前記課題を解決するためになされ
たもので、マトリクス配線基板に駆動回路が接続される
まで静電気対策を施すことができ、また、なるべく早期
の回路配線の検査を可能とするマトリクス配線基板およ
びその製造方法を提供するものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載のマトリ
クス配線基板は、基板上にマトリクス状に回路配線が形
成されたマトリクス配線基板において、回路配線の外周
部に前記回路配線と接続されるガードリングが形成さ
れ、回路配線とガードリングの間に前記回路配線とガー
ドリングの導通を制御する接断部が介在していることを
特徴とするものである。

【００１４】請求項２に記載のマトリクス配線基板は、
請求項１記載のマトリクス配線基板において、接断部
が、回路配線とガードリングの導通／絶縁を切替える接
断スイッチング素子と、前記接断スイッチング素子を制
御する給電部とから構成されていることを特徴とするも
のである。

【００１５】請求項３に記載のマトリクス配線基板は、
請求項１記載のマトリクス配線基板において、接断部が
可変抵抗素子で構成されているものである。

【００１６】請求項４に記載のマトリクス配線基板は、
請求項１記載のマトリクス配線基板において、接断部が
可変抵抗回路で構成されているものである。

【００１７】請求項５に記載のマトリクス配線基板の製
造方法は、基板上にマトリクス状の回路配線が形成され
たマトリクス配線基板の製造方法において、回路配線の
外周部に前記回路配線と接続されるガードリングを形成
し、さらに前記回路配線とガードリングとの間に接断部
を形成し、前記形成された接断部に外場を作用させて回
路配線とガードリングを導通させておき、必要に応じて
接断部を外場から遮断して回路配線とガードリングを絶
縁するものである。

【００１８】請求項６に記載のマトリクス配線基板の製
造方法は、基板上にマトリクス状の回路配線が形成され
たマトリクス配線基板の製造方法において、回路配線の
外周部に前記回路配線と接続されるガードリングを形成
し、さらに前記回路配線と前記ガードリングとの間に前
記回路配線と前記ガードリングとの導通を制御する接断
部を形成し、前記接断部により前記回路配線と前記ガー
ドリングを導通させておき、必要に応じて前記接断部に
外場を作用させて、前記回路配線と前記ガードリングと
を絶縁するものである。

【００１９】

【作用】本発明のマトリクス配線基板では、回路配線の
外周部にガードリングを形成し、かつ前記回路配線とガ
ードリングの間にこれらの導通を制御する接断部を形成
したものである。回路配線と導通するガードリングが形
成されていることで、回路配線中で静電気が発生したと
しても、各配線がガードリングによって短絡しているの
で、電位差が生じず、静電気による放電が発生すること
がない。

【００２０】さらに、回路配線とガードリングの間の導
通／絶縁を容易に切替えることのできる接断部を形成
し、前記接断部にて回路配線とガードリングを絶縁する
ことで回路配線にとってガードリングを取り除いたのと
同じ効果を得ることができ、しかも、回路配線とガード
リングを絶縁状態とした後であっても再び導通状態とす
ることもできるので、ガードリングを切断除去する必要
が無くなる。

【００２１】従って、ガードリングを切断除去すること
なく、回路配線の検査ならびに駆動回路の接続が可能と
なる。よって、ガードリングを配線基板から取り除いた
後でなければ行えない回路配線の検査を、随時必要に応
じて何度でも行なうことができる。即ち、検査時には接
断部にてガードリングと回路配線とを絶縁して検査可能
状態とし、検査後にはガードリングと回路配線とを導通
することができるからである。従って、検査後であって
も静電気対策の必要な時には常時ガードリングと回路配
線を導通することで静電気対策を施すことができる。

【００２２】また、本発明の接断部は、前記接断部に作
用する外場によって制御されるものであり、いたって容
易かつ正確に回路配線とガードリングの導通／絶縁を切
替えることができる。さらにこの接断部には、外場によ
って作用される給電部によって制御される接断スイッチ
ング素子、もしくは外場によって作用される可変抵抗素
子、または可変抵抗回路を使用できる。

【００２３】更に、外場を作用させて接断部を制御する
ものにあっては、製造工程中において、マトリクス状に
配されている回路配線は、ガードリングを介して導通さ
れているために、静電気が発生したとしても、回路配線
とガードリングとの間に互いに電位差が生じない。ま
た、回路配線とガードリングとの間に導通を制御できる
接断部を配しているために、必要に応じて導通／絶縁を
自由に制御することができる。なお、回路配線に接続さ
せて設けたガードリングは、検査後も特に除去する必要
が生じないので、ガードリングの除去工程は必要ない。
更にまた、アクティブマトリクス液晶表示素子において
は、接断部として薄膜トランジスタを利用できるので、
アクティブマトリクス液晶表示素子製造時に同時に基板
上に形成することができ、工程を増加させることなく、
接断部を製造できる。一方、バックライトを使用するこ
とを前提とする透過型液晶表示素子においては、外場と
して液晶表示装置のバックライトの光を利用することが
できる。

【００２４】

【実施例】以下に本発明を実施例をもって説明するが本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

【００２５】〔実施例１〕実施例１のマトリクス配線基
板を図１を参照して説明する。図１に示すマトリクス配
線基板２６において、画素エリア１４内の回路配線はア
クティブマトリクス方式の液晶表示パネル用に使用され
る公知のもので、データ信号を流すための多数のソース
配線１８，１８，・・・と、走査信号を流すための多数の
ゲート配線１６，１６，・・・とがマトリクス（行列）状
態でガラス基板２４上に形成されたもので、それら多数
のソース配線１８とゲート配線１６との間に画素電極２
２，２２，・・・が形成され、各画素電極２２はスイッチ
ング素子（薄膜トランジスタ：ＴＦＴ）２０，２０，・・
・を介してソース配線１８及びゲート配線１６とに接続
されて概略構成されている。

【００２６】尚、アクティブマトリクス液晶ディスプレ
イの配線基板において、その配線構造、画素電極構造、
スイッチング素子の構造等はいずれも種々の構造が知ら
れているが、いずれの種類の構造であってもマトリクス
配線基板を使用しているものであれば本発明を適用する
ことができるので、本発明は、画素エリア１４内のアク
ティブマトリクス液晶ディスプレイの構造は特別には問
わないものである。

【００２７】そして、本実施例のマトリクス配線基板２
６においては、画素エリア１４の外周部にガードリング
１２が形成されている。ガードリング１２は導電体から
なり、画素エリア１４内の回路配線、即ちゲート配線１
６及びソース配線１８と接続されている。

【００２８】さらに、本実施例のマトリクス配線基板２
６においては、画素エリア１４内の回路配線とガードリ
ング１２を接続する配線に接断部３２，３２，・・・が形
成されている。さらに、接断部３２は接断スイッチング
素子３０と給電部２８とから構成されている。接断スイ
ッチング素子３０は、回路配線とガードリング１２の間
の導通と絶縁を切替える機能を有するものであれば良
く、図１に示すマトリクス配線基板２６においては、接
断スイッチング素子３０は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
で構成されている。

【００２９】尚、本発明では、回路配線とガードリング
１２とが導通状態であるときの接断スイッチング素子３
０をスイッチングオン状態と称し、回路配線とガードリ
ング１２とが絶縁状態であるときの接断スイッチング素
子３０をスイッチングオフ状態と称する。

【００３０】給電部２８は接断スイッチング素子３０の
導通／絶縁の切替を制御するもので、図１に示すマトリ
クス配線基板２６においては太陽電池が適用されてい
る。従って、太陽電池である給電部２８に光を照射する
ことで給電部２８に起電力が生じ、接断スイッチング素
子３０がスイッチングオン状態となり、回路配線とガー
ドリング１２が導通状態となる。また、給電部２８への
光の照射を停止すると、接断スイッチング素子３０がス
イッチングオフ状態となり、回路配線とガードリング１
２の間は絶縁される。給電部２８に適用する太陽電池
は、ＴＦＴと同等なａ−Ｓｉを使用し、ホモジャンクシ
ョン（ｎ⁺-ａ-Ｓｉ／ｉ-ａ-Ｓｉ、ｎ⁺-ａ-Ｓｉ／ｉ-ａ-
Ｓｉ／Ｐ⁺-ａ-Ｓｉ等）、ヘテロジャンクション、ショ
ットキーバリアを形成するコンタクト等で製造すること
ができ、必要に応じて太陽電池を直列に接続すれば十分
な起電力を得ることができる。

【００３１】給電部２８は接断スイッチング素子３０を
制御するものであれば良く、太陽電池の他にも例えば、
コイルを用いて電磁誘導による起電力を生じさせて接断
スイッチング素子３０を制御するもの、ホール効果によ
って起電力を生じさせて接断スイッチング素子３０を制
御するもの、熱起電力を利用して接断スイッチング素子
３０を制御するもの等、外場によって起電力を生じ接断
スイッチング素子３０を制御できるものであればどのよ
うなものであっても構わない。さらに、給電部２８とし
ては、接断スイッチング素子３０のスイッチング状態
（オン又はオフ）を切替えるのに必要な電圧（例えば、
Ｖ_on≧２Ｖ、Ｖ_off≦１Ｖ）を任意に設定でき、その電
圧を数十分ないし数時間保持できる素子または回路であ
っても良い。例えば、スタティックＲＡＭ等に用いられ
るラッチ回路を使用することもできる。

【００３２】さらにまた、給電部２８としてリークが少
なく容量の大きいコンデンサを適用することもできる。
この場合、回路配線とガードリング１２とを絶縁させて
おく時には、コンデンサは放電させておけば良く、接断
スイッチング素子３０をスイッチングオン状態として回
路配線とガードリング１２とを導通させる時にはコンデ
ンサを蓄電させれば良い。また、コンデンサとしては、
増幅器と組み合わせ、ミラー効果を利用して見かけ上の
容量を大きくしたものであっても良い。この場合、増幅
器の増幅度倍だけ容量が大きくなる。

【００３３】このマトリクス配線基板２６の回路配線お
よびガードリング１２は、ガラス基板２４上に、導電体
であるＴａ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｃｕ等をスパッタ法やエレク
トロンビーム蒸着法等で形成し、ホトリソグラフィ法で
所望のパターンに形成することで製造され得る。

【００３４】本実施例のマトリクス配線基板２６におい
ては、製造時（回路配線に駆動回路を接続する迄）に
は、給電部２８に外場を作用させて給電部２８で起電力
を生じさせ、即ち、給電部２８として太陽電池を適用し
ているならば、前記太陽電池に光を照射し起電力を生じ
させて、接断スイッチング素子３０をスイッチングオン
状態として回路配線とガードリング１２とを導通させて
おく。回路配線とガードリング１２とを導通させておく
ことで、ソース配線１８とゲート配線１６とが短絡して
いるので、それらの間に静電気による電位差が生じるこ
とがなくなり、同電位となる。よって、放電が起こら
ず、画素用ＴＦＴの絶縁体や半導体が破壊されたり、放
電による発熱によって回路配線の損傷が生じることもな
く、配線基板としての歩留りが大幅に向上する。

【００３５】また、駆動回路接続端子３４，３４，・・・
に駆動回路（図示略）を接続し、静電気対策を施す必要
が無くなった際には、給電部（太陽電池）２８を遮光し
（太陽電池に何等かのカバーを被せたり、テープを貼り
付ける等）、起電力を発生させないようにして起電力を
接断スイッチング素子３０のＴＦＴのしきい値以下にす
ることで、接断スイッチング素子３０をスイッチングオ
フ状態とし、回路配線とガードリング１２とを絶縁させ
れば良い。回路配線とガードリング１２とが絶縁される
ことで、回路配線は駆動回路によってのみ駆動されるよ
うになる。

【００３６】従って、本発明のマトリクス配線基板にお
いては、ガードリング１２を回線配線から切断除去する
必要がない。よって、回路配線の製造時から駆動回路を
接続するまでガードリング１２を接続したままにするこ
とができ、静電気対策の必要な駆動回路の接続時まで静
電気対策を維持保障することができる。さらに、ガード
リング１２を切断除去しないことから、従来では切断時
に基板と切削用具の間で多発していた静電気による損傷
を本発明では受けることがない。従って、歩留りが従来
に比して大幅に向上する。

【００３７】また、ガードリング１２と回路配線との導
通／絶縁を任意に繰返すことが可能であるので、回路配
線とガードリング１２とを絶縁し、回路配線の検査を行
なった後に、再び回路配線とガードリングとを導通させ
ることができる。従って、回路配線の検査をいつでも行
なうことができ、早期における回路配線の検査が可能と
なる。従って、回路配線の不良を早期に発見することが
できるので、製造損失を格段に抑えることが可能とな
る。

【００３８】尚、給電部２８の起電力を低下させ回路配
線とガードリング１２とを絶縁し、回路配線の検査時ま
たは駆動時に、ソース配線１８及びゲート配線１６に印
加される電圧の範囲に基づきガードリング１２に任意の
電圧を印加することで、接断スイッチング素子（ＴＦ
Ｔ）３０の絶縁性を確実に向上させることができる。即
ち、接断スイッチング素子３０のＴＦＴがｎチャンネル
の場合、給電部（太陽電池）２８を遮光することに加え
て、回路配線に印加される電圧の最も負の電圧よりも負
の値の電圧をガードリング１２に印加することで確実に
接断スイッチング素子（ＴＦＴ）３０において回路配線
とガードリング１２は絶縁される。この際、さらに、接
断スイッチング素子（ＴＦＴ）３０のゲート電極にも同
様の負の電圧を印加すると絶縁性はより高まる。

【００３９】尚、本実施例ではＴＦＴを用いたアクティ
ブマトリクス方式の液晶ディスプレイを例示したが、本
発明はこれに限定されるものではなく、ＭＩＭを用いた
アクティブマトリクス方式の液晶ディスプレイ、単純マ
トリクス方式の液晶ディスプレイ、各種フラットディス
プレイ（ＥＬ等）等や、各種センサアレイ（イメージセ
ンサアレイ、圧力センサアレイ等）等の各種マトリクス
配線基板に適用できることは勿論である。

【００４０】〔実施例２〕実施例２のマトリクス配線基
板を図２を参照して説明する。図２に示すマトリクス配
線基板３６が実施例１のマトリクス配線基板２６と異な
る点は、複数の薄膜トランジスタからなる接断スイッチ
ング素子３０，３０，・・・のゲート電極をまとめて接続
し、前記直結したゲート電極とガードリング１２との間
に給電部２８を形成した点にある。即ち、実施例２のマ
トリクス配線基板３６においては、接断部３２は多数の
接断スイッチング素子３０，３０，・・・と１つの給電部
２８とから構成されている。

【００４１】実施例２のマトリクス配線基板３６によれ
ば、給電部２８である太陽電池に光を照射したりまたは
遮光するのに一箇所のみに照射／遮光を施せばよく、給
電部２８を制御することの容易性および確実性が向上す
る。また、上記実施例１で示したように、接断スイッチ
ング素子３０であるＴＦＴのゲート電極に負の電圧を印
加すると、接断スイッチング素子３０であるＴＦＴによ
る絶縁性が向上するが、接断スイッチング素子３０であ
るＴＦＴに電圧を印加するにも、実施例２のようにゲー
ト電極が１つにまとめられているとゲート電極への電圧
の印加がより容易となる。

【００４２】他の作用、構成、効果は実施例１のマトリ
クス配線基板２６と同等である。従って、実施例２のマ
トリクス配線基板３６においても、製造時（回路配線に
駆動回路を接続する迄）には、給電部２８に外場を作用
させて給電部２８で起電力を生じさせ、即ち、給電部２
８として太陽電池を適用しているならば、前記太陽電池
に光を照射し起電力を生じさせて、各接断スイッチング
素子３０をスイッチングオン状態として回路配線とガー
ドリング１２とを導通させておく。回路配線とガードリ
ング１２とを導通させておくことで、ソース配線１８と
ゲート配線１６とが短絡しているので、それらの間に静
電気による電位差が生じることがなくなる。よって、放
電が起こらず、画素用ＴＦＴの絶縁体や半導体が破壊さ
れたり、放電による発熱によって回路配線の損傷が生じ
ることもなく、配線基板としての歩留りが大幅に向上す
る。

【００４３】また、駆動回路接続端子３４，３４，・・・
に駆動回路（図示略）を接続し、静電気対策を施す必要
が無くなった際には、太陽電池を遮光し（太陽電池に何
等かのカバーを被せたり、テープを貼り付ける等）、起
電力を発生させないようにして起電力を接断スイッチン
グ素子３０のＴＦＴのしきい値以下にすることで、接断
スイッチング素子３０をスイッチングオフ状態とし、回
路配線とガードリング１２とを絶縁させれば良い。回路
配線とガードリング１２とが絶縁されることで、回路配
線は駆動回路によってのみ駆動されるようになる。

【００４４】従って、このマトリクス配線基板３６にお
いては、ガードリング１２を回路配線から切断除去する
必要がない。よって、回路配線の製造時から駆動回路を
接続するまでガードリング１２を接続したままにするこ
とができ、静電気対策の必要な駆動回路の接続時まで静
電気対策を維持保障することができる。従って、歩留り
が従来に比して大幅に向上する。

【００４５】また、ガードリング１２と回路配線との導
通／絶縁を任意に繰返すことが可能であるので、回路配
線とガードリング１２とを絶縁し、回路配線の検査を行
なった後に、再び回路配線とガードリングとを導通させ
ることができる。従って、回路配線の検査をいつでも行
なうことができ、早期における回路配線の検査が可能と
なる。従って、回路配線の不良を早期に発見することが
できるので、製造損失を格段に抑えることが可能とな
る。本実施例では、１つの給電部２８で全ての切断スイ
ッチング素子３０、３０…を駆動しているが、ソース配
線１８に接続されているスイッチング素子３０のゲート
電極をまとめたものと、ゲート配線１６に接続されてい
るスイッチング素子３０のゲート電極をまとめたものと
に各々給電部を設けても良い。

【００４６】〔実施例３〕実施例３のマトリクス配線基
板を図３を参照して説明する。図３に示すマトリクス配
線基板３８が実施例１のマトリクス配線基板２６と異な
る点は、接断部として可変抵抗素子４０，４０，・・・を
適用したことにある。可変抵抗素子４０としては外場に
よってその電気抵抗値の変化するものであれば良く、例
えば光によって抵抗値の変化する光導電素子、温度によ
って抵抗値が変化するサーミスタ、圧力によって抵抗値
が変化するピエゾ抵抗素子または歪ゲージ、磁場によっ
て抵抗値が変化するホール素子等が適用できる。

【００４７】可変抵抗素子４０の抵抗値の可変範囲とし
て、上限（高抵抗側）がＲv≧１０⁵Ωであれば一般の表
示の際には問題はない。但し、実装時の駆動回路の能力
いかんによっては、これよりも小さい値であっても良好
な場合がある。下限（低抵抗値側）はＲv≦１０³Ωであ
れば良く、できるだけ低い値である方が除電速度が大き
くなり好ましい。

【００４８】このマトリクス配線基板３８において、回
路配線とガードリング１２とを導通させるには、可変抵
抗素子４０の抵抗を小さくすればよい。即ち、可変抵抗
素子４０として光導電素子を適用しているならば、前記
光導電素子４０に光を照射し、その抵抗値を小さくして
回路配線とガードリング１２とを導通させておく。回路
配線とガードリング１２とを導通させておくことで、ソ
ース配線１８とゲート配線１６とが短絡しているので、
それらの間に静電気による電位差が生じることがなくな
る。よって、放電が起こらず、画素用ＴＦＴの絶縁体や
半導体が破壊されたり、放電による発熱によって回路配
線の損傷が生じることもなく、配線基板としての歩留り
が大幅に向上する。

【００４９】また、駆動回路接続端子３４，３４，・・・
に駆動回路（図示略）を接続し、静電気対策を施す必要
が無くなった際には、光導電素子４０を遮光し（光導電
素子に何等かのカバーを被せたり、テープを貼り付ける
等）、抵抗値を増加させて回路配線とガードリング１２
を絶縁させれば良い。回路配線とガードリング１２が絶
縁されることで、回路配線は駆動回路によってのみ駆動
されるようになる。従って、このマトリクス配線基板３
８においても、ガードリング１２を回路配線から切断除
去する必要がない。よって、回路配線の製造時から駆動
回路を接続するまでガードリング１２を接続したままに
することができ、静電気対策の必要な駆動回路の接続時
まで静電気対策を維持保障することができる。従って、
歩留りが従来に比して大幅に向上する。

【００５０】また、ガードリング１２と回路配線との導
通／絶縁を任意に繰返すことが可能であるので、回路配
線とガードリング１２とを絶縁し、回路配線の検査を行
なった後に、再び可変抵抗素子４０に外場を作用させて
可変抵抗素子４０の抵抗値を低減し、回路配線とガード
リングとを導通させることができる。従って、回路配線
の検査をいつでも行なうことができ、早期における回路
配線の検査が可能となる。従って、回路配線の不良を早
期に発見することができるので、製造損失を格段に抑え
ることが可能となる。

【００５１】〔実施例４〕実施例４のマトリクス配線基
板として、実施例３の可変抵抗素子４０の代りに図４に
示すような可変抵抗回路４２を適用するものを例示す
る。従って、マトリクス配線基板の全体の概要図として
は図３をもって省略する。

【００５２】図４において、Ｒo：抵抗４４の一定の抵抗値Ｒv：外場によりＲL〜ＲH（Ｒo≒ＲL、Ｒo<<ＲH）まで
変化する可変抵抗素子（この可変抵抗素子には実施例３
で適用する各種可変抵抗素子を適用できる）４６の抵抗
値Ｔr：トランジスタ（但し、Ｒ_on<<Ｒo、Ｒ_off≧ＲH>>Ｒ
o、ここで、Ｒ_onはトランジスタのスイッチングオン状
態での抵抗値であり、Ｒ_offはトランジスタのスイッチ
ングオフ状態での抵抗値である。）ＶR：ガードリングの電位Ｖx：ＲoとＲvの接点の電位であり且つトランジスタＴr
のゲート電位Ｖs：回路配線の電位

【００５３】実施例４のマトリクス配線基板において、
静電気対策を施す時、即ち回路配線とガードリング１２
を導通するには、可変抵抗回路４２全体としての抵抗値
を下げてＶsとＶRの差を小さくすればよい。この場合、
まず外場によって可変抵抗素子４６の抵抗値ＲVをＲV
＝ＲL≒Ｒoとする。すると、Ｖx≒（ＶR＋Ｖs）／２
となる。静電気によってＶsがＶRに対して負に帯電した
時、ＴrがｎチャンネルＦＥＴ（Field Effect Transist
or：電界効果トランジスタ）であれば、Ｖsがソース電
位となり、トランジスタＴrのゲートソース電圧Ｖgs
は、Ｖgs＝Ｖx−Ｖs ≒（ＶR−Ｖs）／２となる。トランジスタＴrのしきい値電圧Ｖth（数Ｖ）に対して
Ｖgsが、Ｖgs≒（ＶR−Ｖs）／２≧Ｖth となると、ト
ランジスタＴrはスイッチングオン状態となり、ガード
リング１２と回路配線の間の抵抗Ｒは、Ｒ≒（２Ｒo・Ｒon）／（２Ｒo＋Ｒon） ≒（２Ｒo・Ｒon）／２Ｒo （∵Ｒon<<Ｒo） ≒Ｒon 従って、可変抵抗回路４２全体としての抵抗値Ｒは大幅
に低下し、除電速度を格段に大きくすることができる。

【００５４】同様に、トランジスタＴrがｎチャンネル
ＦＥＴであって、ＶsがＶRに対して正に帯電した時に
は、ＶRがソース電位となり、トランジスタＴrのＶgs
は、Ｖgs＝Ｖx−ＶR ≒（Ｖs−ＶR）／２となる。Ｖthに対してＶgsがＶgs≒（Ｖs−ＶR）／２≧Ｖth
となると、トランジスタＴrはスイッチングオン状態と
なり、Ｒ≒Ｒonとなる。従って、可変抵抗回路４２全体
としての抵抗値Ｒは大幅に低下し、除電速度を格段に大
きくすることができる。

【００５５】また、トランジスタＴrがｐチャンネルの
場合であっても、ＶRに対するＶsの帯電電位の符号によ
るソース電位を上記ｎチャンネルの場合と逆に見立てる
ことで、全く同様の効果を得ることができる。

【００５６】回路配線の検査または回路配線の駆動時
で、回路配線とガードリング１２とを絶縁するには、可
変抵抗回路４２の全体としての抵抗値Ｒを大きくすれば
良い。その為ににはまず、外場によって可変抵抗素子４
６の抵抗値ＲvをＲv＝ＲH>>Ｒo にする。すると、Ｒv>
>Ｒo であるから、Ｖx≒ＶR となる。回路配線の検査
や駆動を行なうために回路配線に印加する電位の範囲を
ＶsL≦Ｖs≦ＶsH として表わすと、Ｖsに対して、ＶR
を以下に示すようにすることで、トランジスタＴrは確
実にスイッチングオフ状態を保つことになる。トランジスタＴrがｎチャンネルＦＥＴの場合、ＶR＜
ＶsL トランジスタＴrがｐチャンネルＦＥＴの場合、ＶR＞
ＶsH

【００５７】トランジスタＴrがスイッチングオフの
時、回路配線とガードリング１２との間の抵抗値Ｒは、Ｒ＝ＲH＋Ｒo ≒ＲH となる。この抵抗値Ｒは駆動回路の能力にもよるが、一般的に１
０⁵Ω以上であれば良好である。

【００５８】従って、この実施例４のマトリクス配線基
板において、回路配線とガードリング１２とを導通させ
るには、可変抵抗回路４２の抵抗を小さくすればよく、
回路配線とガードリング１２とを導通させておくこと
で、ソース配線１８とゲート配線１６とが短絡している
ので、それらの間に静電気による電位差が生じることが
なくなる。よって、放電が起こらず、画素用ＴＦＴの絶
縁体や半導体が破壊されたり、放電による発熱によって
回路配線の損傷が生じることもなく、配線基板としての
歩留りが大幅に向上する。

【００５９】また、駆動回路接続端子３４に駆動回路を
接続し、静電気対策を施す必要が無くなった際には、可
変抵抗回路４２の抵抗値を増加させて回路配線とガード
リング１２とを絶縁させれば良い。回路配線とガードリ
ング１２とが絶縁されることで、回路配線は駆動回路に
よってのみ駆動されるようになる。従って、この実施例
４のマトリクス配線基板においても、ガードリング１２
を回路配線から切断除去する必要がない。よって、回路
配線の製造時から駆動回路を接続するまでガードリング
１２を接続したままにすることができ、静電気対策の必
要な駆動回路の接続時まで静電気対策を維持保障するこ
とができる。従って、歩留りが従来に比して大幅に向上
する。

【００６０】また、ガードリング１２と回路配線との導
通／絶縁を任意に繰返すことが可能であるので、回路配
線とガードリング１２とを絶縁し、回路配線の検査を行
なった後に、再び可変抵抗素子４６に外場を作用させて
可変抵抗回路４２の抵抗値を低減し、回路配線とガード
リング１２とを導通させることができる。従って、回路
配線の検査をいつでも行なうことができ、早期における
回路配線の検査が可能となる。従って、回路配線の不良
を早期に発見することができるので、製造損失を格段に
抑えることが可能となる。

【００６１】〔実施例５〕実施例５のマトリクス配線基
板の回路の基本構成を図５を参照して説明する。図５
は、この例の回路の可変抵抗回路の基本構成を示すもの
で、この例の回路は、先の実施例でそれぞれ説明したガ
ードリング１２に接続される接続配線７１と、先の実施
例で説明したゲート配線１６またはソース配線１８に接
続される接続配線７０との間に、メイントランジスタＴ
ｒ₀を組み込み、このメイントランジスタＴｒ₀に対して
露光により抵抗値が減少する可変抵抗素子７２（抵抗値
Ｒ1）と抵抗７３（抵抗値Ｒ2）を接続して構成されてい
る。

【００６２】この回路において、可変抵抗素子７２の両
端の電圧をＶ1、抵抗７３の両端の電圧をＶ2、静電気の
発生によりメイントランジスタＴｒ₀に接続配線７０、
７１を介して負荷される電圧をＶ_seとすると、配線基板
の製造工程中においては、Ｒ1≒Ｒ2とすることによって
Ｖ1≒Ｖ_se／２となる。ここで、Ｖ_se≧２Ｖ_t （Ｖ_t＝メ
イントランジスタＴｒ₀のしきい値）の場合、Ｖ1≧Ｖ_t
となり、メイントランジスタＴｒ₀はオン状態になるの
で放電される。この構成では、Ｖ_seの正負にかかわら
ず、常に動作して静電気から回路配配線を保護する。次
に、この回路が適用された液晶表示装置がバックライト
を利用する形式のものであって、この装置で液晶を表示
する時は、可変抵抗素子７２にバックライトの光が照射
されると、その抵抗値が下がるのでＲ2≫Ｒ1の関係にな
り、Ｖ_se≒Ｖ2≫Ｖ1≒０の関係となる。従ってガードリ
ング１２の電位Ｖ0を回路の中で最も負の電圧に設定し
ておけば、メイントランジスタＴｒ₀（ｎチャンネルＴ
ＦＴ）は、オフになったままであり、液晶表示装置の表
示に影響を与えないだけでなく、電力消費も小さく抑え
ることができる。

【００６３】よって、前記可変抵抗素子７２と抵抗７３
のいずれにおいても、液晶表示するときは、それらの抵
抗値が大きい方が良いと言えるが、液晶表示装置の薄膜
トランジスタの構成材料で前記可変抵抗素子７２や抵抗
７３を製造するためには、薄膜トランジスタのオフ抵抗
を利用するのが現実的に好ましい。このような配慮か
ら、液晶表示装置に用いて好適な構成として図６に示す
構成を採用することができる。

【００６４】図６に示す構成では、メイントランジスタ
Ｔｒ₀に対して第１トランジスタＴｒ₁と第２トランジス
タＴｒ₂を接続して設けたものであり、この図６に示す
回路の等価回路を図７に示す。図７に示す等価回路にお
いては、メイントランジスタＴｒ₀に対し、第２トラン
ジスタＴｒ₂のオフ抵抗をＲ_OFF2とした抵抗７４、およ
び、ダイオードＤ2と、第１トランジスタＴｒ₁のオフ抵
抗をＲ_OFF1とした可変抵抗素子７５、および、ダイオー
ドＤ1をそれぞれ接続した構成になる。この等価回路に
おいて、ガードリング１２を最も負の電圧に設定してお
けば、ダイオードＤ1、Ｄ2は逆バイアスになるために、
抵抗７４と可変抵抗素子７５とに電流が流れ、抵抗比Ｒ
_OFF2／Ｒ_OFF1でメイントランジスタＴｒ₀のゲート電圧
が決まる。ここでバックライトの光によりＲ_OFF2≫Ｒ
_OFF1となると、メイントランジスタＴｒ₀のゲート・ソ
ース間電圧は、Ｖ_GS≒０となり、メイントランジスタＴ
ｒ₀はオフ状態を保つ。

【００６５】以上のことから、図６に示す第１トランジ
スタＴｒ₁と第２トランジスタＴｒ₂は、液晶表示装置を
表示する時は、Ｒ_OFF2≫Ｒ_OFF1（Ｒ_OFF2とＲ_OFF1はそれ
ぞれ、第１トランジスタＴｒ₁と第２トランジスタＴｒ₂
のオフ抵抗）となることが要求される。光によってこの
ような状況を具体的に作るためには、透過型液晶表示装
置の場合、前述したようにバックライトを利用すること
が可能である。このような透過型の液晶表示装置に前記
第１トランジスタＴｒ₁と第２トランジスタＴｒ₂を具体
的に組み込んだ構造の一例を図８と図９に示す。

【００６６】図８は、図１２に示すような透過型の液晶
表示装置に組み込む場合の第１トランジスタＴｒ₁の具
体的構造の一例を示すものであり、この構成の第１トラ
ンジスタＴｒ₁であれば、図１２に示す基板５０とゲー
ト絶縁層５１とゲート電極５４と半導体層５５とドレイ
ン電極５６とソース電極５７を形成して液晶表示装置を
製造する場合の工程をそのまま流用して第１トランジス
タＴｒ₁を作り込むことができる。

【００６７】即ち、図１２に示すスイッチング素子５３
を製造する場合に行うフォトリソグラフィ工程の際に用
いるフォトマスクに第１トランジスタ形成用のパターン
を追加して設け、この追加パターンを利用して成膜やエ
ッチングを繰り返し施すことにより、スイッチング素子
５３の形成と同時に第１トランジスタＴｒ₁形成用の処
理を行なって第１トランジスタＴｒ₁を形成することが
できる。

【００６８】図８に示す第１トランジスタＴｒ₁は、基
板５０上にＩＴＯなどの透明導電膜からなるゲート電極
８０を形成し、基板５０とゲート電極８０をゲート絶縁
膜５１で覆い、その上に半導体層５５を積層し、半導体
層５５上にイオンドープした半導体層５５ａを形成し、
その一部をエッチングにより除去するとともに、ドレイ
ン電極５６’とソース電極５７’を形成することでチャ
ネルエッチ型の薄膜トランジスタ構造としてスイッチン
グ素子としたものである。

【００６９】図９は第２トランジスタＴｒ₂の具体的構
造の一例を示すものであり、この構成の第２トランジス
タＴｒ₂であれば、図１２に示す構造の液晶基板を製造
する工程を利用して第２トランジスタＴｒ₂を作り込む
ことができる。図９に示す第１トランジスタＴｒ₂は、
基板５０上に金属などの遮光性導電膜からなるゲート電
極８１を形成し、基板５０とゲート電極８１をゲート絶
縁膜５１で覆い、その上に半導体層５５を積層し、半導
体層５５上にイオンドープした半導体層５５ａを形成
し、その一部をエッチングにより除去するとともに、ド
レイン電極５６’’とソース電極５７’’を形成するこ
とでチャネルエッチ型の薄膜トランジスタ構造としてス
イッチング素子としたものである。この例の第２トラン
ジスタＴｒ₂を製造する場合においても先に説明した第
１トランジスタＴｒ₁の場合と同様に、スイッチング素
子５３を形成する工程を利用して製造することができ
る。

【００７０】また、図８と図９に示すスイッチング素子
構造を採用する場合においては、これらと同様な構造を
採用してメイントランジスタＴｒ₀を基板５０上に形成
する必要を生じるが、この際のメイントランジスタＴｒ
₀にあっては、液晶表示するときはオフとなるが、液晶
の駆動回路の負担を増やさないために、Ｒ_OFF0（メイン
トランジスタＴｒ₀のオフ抵抗）はできるだけ大きい方
が好ましい。そのためには、表示の際に、基準トランジ
スタＴｒ₀にバックライトが入射し、オフ抵抗が上昇す
ることを抑えなければならないので、図９に示す第２ト
ランジスタＴｒ₂と同じような遮光性導電膜でゲート電
極を構成すれば良い。従って図９と同様の構成にするこ
とによりメイントランジスタＴｒ₀が得られる。更に、
通常、液晶表示装置の上面側からの入射光を防ぐ目的で
ライトシールドと呼ばれる遮光膜で薄膜トランジスタの
上部を覆う構成とすることがあるが、メイントランジス
タＴｒ₀に対しては、Ｒ_OFF0を大きくする効果があるの
で、この遮光膜を前記構造に適用することも有用であ
る。

【００７１】一方、前記第１トランジスタＴｒ₁と第２
トランジスタＴｒ₂に対し、製造工程中などにおいて静
電気対策を必要とする時は、Ｒ_OFF2≒Ｒ_OFF1であること
が求められるので、前記抵抗のバランスが保たれるよう
に、ライトシールドなどの遮光膜は両方付けるか、両方
付けないかにすることが好ましい。前記遮光膜を片側の
みに付けると、上面側からの入射光で前記抵抗値のアン
バランスが生じる。

【００７２】なお、液晶表示装置の製造工程中におい
て、光は、基板５０の下方から入射することはなく、上
から入射するが、仮に下から入射した場合、Ｒ_OFF2≒Ｒ
_OFF1の関係を保つためには、上からの入射光を遮断する
遮光膜を付けない方が良く、表示させる段階で上からの
入射光を遮断すべく、遮光性の樹脂等をコーティングす
るか液晶表示装置の筺体構成材料で覆って遮光するなど
の手段を講じることが理想的である。

【００７３】

【発明の効果】本発明のマトリクス配線基板は、基板上
に、回路配線と、前記回路配線と接続されるガードリン
グと、回路配線とガードリングの導通／絶縁を制御する
接断部が形成されてなるもので、製造時には、接断部に
かかる外場を制御して回路配線とガードリングとを導通
させておくものである。回路配線とガードリングとを導
通させておくことで、回路配線中の各配線が短絡してい
るので、それらの間に静電気による電位差が生じること
がなくなり、同電位となる。よって、放電が起こらず、
画素用ＴＦＴの絶縁体や半導体が破壊されたり、放電に
よる発熱によって回路配線の損傷が生じることもなく、
配線基板としての歩留りが大幅に向上する。

【００７４】また、駆動回路を接続して静電気対策を施
す必要が無くなった際には、接断部にかかる外場を制御
して回路配線とガードリングとを絶縁する。回路配線と
ガードリングとが絶縁されることで、回路配線は駆動回
路からの信号に忠実に駆動されるようになる。

【００７５】従って、本発明のマトリクス配線基板にお
いては、ガードリングを回路配線から切断除去する必要
がない。よって、回路配線の製造時から駆動回路を接続
するまでガードリングを接続したままにすることがで
き、静電気対策の必要な駆動回路の接続時まで静電気対
策を維持保障することができる。さらに、ガードリング
を切断除去しないことから、従来では切断時に基板と切
削用具の間で多発していた静電気による損傷を本発明で
は受けることがない。従って、歩留りが従来に比して大
幅に向上する。

【００７６】また、ガードリングと回路配線との導通／
絶縁を任意に繰返すことが可能であるので、回路配線と
ガードリングとを絶縁し、回路配線の検査を行なった後
に、再び回路配線とガードリングとを導通させることが
できる。従って、回路配線の検査をいつでも行なうこと
ができ、早期における回路配線の検査が可能となる。従
って、回路配線の不良を早期に発見することができるの
で、製造損失を格段に抑えることが可能となる。

【００７７】更に、製造工程中は、マトリクス状に配さ
れている回路配線は、互いに導通されているために、静
電気が発生したとしても、電位差が生じないために、配
線間での放電が起こらず、画素用薄膜トランジスタ、絶
縁膜や回路配線の損傷が生じない。また、アクティブマ
トリクス液晶表示装置に適用する場合に、薄膜トランジ
スタを接断素子として使用できるので、工程を増加させ
ることなく本願発明構造を採用できる。更にまた、透過
型液晶表示装置に適用するならば、外場としてバックラ
イトの光を利用することができるために、製品としてコ
ストアップさせることなく静電気対策をとることがで
き、むしろ、静電気事故による不良品を生じないので歩
留まりが向上し、コストダウンに寄与する。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は実施例１のマトリクス配線基板の回路図
である。

【図２】図２は実施例２のマトリクス配線基板の回路図
である。

【図３】図３は実施例３のマトリクス配線基板の回路図
である。

【図４】図４は実施例４のマトリクス配線基板の接断部
の回路図である。

【図５】図５は実施例５のマトリクス配線基板の接断部
の基本構成図である。

【図６】図６は図５に示す基本構成図の具体的回路を示
す回路図である。

【図７】図７は図６に示す回路の等価回路図である。

【図８】図８は実施例５に用いられる第１のトランジス
タの具体的構造の一例を示す構成図である。

【図９】図９は実施例５に用いられる第２のトランジス
タの具体的構造の一例を示す構成図である。

【図１０】図１０は従来例のマトリクス配線基板の回路
図である。

【図１１】図１１はアクティブマトリクス液晶表示装置
の一構造例の要部を示す平面図である。

【図１２】図１２は図１１のＡーＡ線に沿う断面図であ
る。

【符号の説明】

１０マトリクス配線基板１２ガードリング１４画素エリア１６ゲート配線１８ソース配線２０スイッチング素子２２画素電極２４基板２６マトリクス配線基板２８給電部３０接断スイッチング素子３２接断部３６マトリクス配線基板３８マトリクス配線基板４０可変抵抗素子４２可変抵抗回路４４抵抗４６可変抵抗素子７２可変抵抗素子７５可変抵抗素子

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上にマトリクス状に回路配線が形成
されたマトリクス配線基板において、回路配線の外周部
に前記回路配線と接続されるガードリングが形成され、
回路配線とガードリングの間に前記回路配線とガードリ
ングの導通を制御する接断部が介在していることを特徴
とするマトリクス配線基板。
【請求項２】請求項１記載のマトリクス配線基板にお
いて、接断部が、回路配線とガードリングの導通／絶縁
を切替える接断スイッチング素子と、前記接断スイッチ
ング素子を制御する給電部とから構成されていることを
特徴とするマトリクス配線基板。
【請求項３】請求項１記載のマトリクス配線基板にお
いて、接断部が可変抵抗素子で構成されていることを特
徴とするマトリクス配線基板。
【請求項４】請求項１記載のマトリクス配線基板にお
いて、接断部が可変抵抗回路で構成されていることを特
徴とするマトリクス配線基板。
【請求項５】基板上にマトリクス状の回路配線が形成
されたマトリクス配線基板の製造方法において、回路配
線の外周部に前記回路配線と接続されるガードリングを
形成し、さらに前記回路配線とガードリングとの間に接
断部を形成し、前記形成された接断部に外場を作用させ
て回路配線とガードリングを導通させておき、必要に応
じて接断部を外場から遮断して回路配線とガードリング
を絶縁することを特徴とするマトリクス配線基板の製造
方法。
【請求項６】基板上にマトリクス状の回路配線が形成
されたマトリクス配線基板の製造方法において、回路配
線の外周部に前記回路配線と接続されるガードリングを
形成し、さらに前記回路配線と前記ガードリングとの間
に前記回路配線と前記ガードリングとの導通を制御する
接断部を形成し、前記接断部により前記回路配線と前記
ガードリングを導通させておき、必要に応じて前記接断
部に外場を作用させて、前記回路配線と前記ガードリン
グとを絶縁することを特徴とするマトリクス配線基板の
製造方法。