JPH0652709B2 - 基板ベーク装置 - Google Patents

基板ベーク装置

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JPH0652709B2
JPH0652709B2 JP58160315A JP16031583A JPH0652709B2 JP H0652709 B2 JPH0652709 B2 JP H0652709B2 JP 58160315 A JP58160315 A JP 58160315A JP 16031583 A JP16031583 A JP 16031583A JP H0652709 B2 JPH0652709 B2 JP H0652709B2
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JP
Japan
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wire
substrate
pulleys
heat transfer
transfer plate
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JP58160315A
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秀幸 廣瀬
正俊 駒谷
晴夫 佐々木
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Recrystallisation Techniques (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は基板ベーク装置に係り、特に半導体、バルブメ
モリ、液晶などの基板のホトリソグラフイー工程におい
て、ホトレジスト膜の乾燥などに使用する基板ベーク装
置に関する。
〔発明の背景〕
最近、基板に塗布したホトレジスト膜を効率良くベーク
する基板ベーク装置として、第1図に示すようなホツト
プレート式オーブンが利用され始めている。すなわち、
断熱材1上にヒータ2を取付け、このヒータ2上に伝熱
板3が配設されて加熱ブロック4を構成している。伝熱
板3の上面には平行に2本の搬送ビーム溝3aが形成さ
れており、この搬送ビーム溝3a内に基板5を搬送する
ための搬送ビーム6が配設されている。搬送ビーム6の
両端は支持板7の上端に固定されており、この支持板7
の下端は駆動板8に固定されている。
そこで、駆動板8が図示しない駆動手段で上下および水
平に移動させられると、搬送ビーム6も駆動板8と同方
向に移動させられる。すなわち、図示の状態より、搬送
ビーム6がA方向に上昇させられると、基板5も上昇さ
せられて伝熱板3より離れる。次に搬送ビーム6が矢印
B方向に水平移動させられると、基板5も搬送ビーム6
によつて同方向に移動させられる。続いて搬送ビーム6
が矢印C方向に下降させられると、基板5も下降させら
れ伝熱板3上に載置される。これにより、基板5は伝熱
板3によつてベークされる。このベーク中に搬送ビーム
6は基板5を伝熱板3上に残したまま矢印D方向に移動
する。このような一連の動作を順次繰返すことにより、
基板5はベークされながら間欠的に搬送される。
しかしながら、かかる装置は、搬送ビーム6を伝熱板3
の内部に組込む必要があるので、伝熱板3は10〜20
mm以上と厚くする必要がある。このように伝熱板3は厚
くしなければならないので、伝熱板3の熱抵抗が大きく
てヒータ2の熱効率が悪く、また伝熱板3の表面温度を
最大200℃程度にしかできないという欠点があつた。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、ヒータの熱効率が向上し、省エネが図
れると共に、より高温のベーク温度を実現することがで
きる基板ベーク装置を提供することにある。
〔本発明の概要〕
本発明は、断熱材上にヒータが取付けられ、このヒータ
上に基板をベークするための伝熱板が配設された加熱ブ
ロツクを備えた基板ベーク装置において、前記伝熱板の
上面に前記基板の搬送方向に沿つてワイヤ溝を形成し、
このワイヤ溝にこのワイヤ溝に沿つて移動させられるワ
イヤを配設し、このワイヤを前記加熱ブロックに対して
相対的に上下動させるように構成したことを特徴とす
る。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例を第2図により説明する。断熱
材11上にヒータ12を取付け、このヒータ12上に伝
熱板13が配設されて各熱ブロツク14を構成してい
る。前記断熱材11は支柱15を介して底板16上に固
定されている。前記伝熱板13の上面にはワイヤ17が
入るワイヤ溝13aが基板18の送り方向に沿つて2本
平行に形成されている。前記ワイヤ17は前記加熱ブロ
ツク14を囲むようにプーリ19、20、21、22に
掛け渡されており、ワイヤ17の両端はワイヤ17にテ
ンシヨンを与えるテンシヨンスプリング23に取付けら
れている。前記プーリ19〜22はそれぞれプーリ軸2
4〜27に固定され、前記プーリ軸24にはモータ28
の出力軸が固定されている。前記プーリ軸24、25は
プーリ軸支持体29に回転自在に支承され、前記プーリ
軸26、27はプーリ軸支持体30に回転自在に支承さ
れている。そして、前記モータ28およびプーリ軸支持
体29、30は上下動板31に固定されている。前記上
下動板31は前記底板16に植設されたガイド棒32に
沿つて上下動可能に設けられており、前記底板16に取
付けられた上下シリンダ33によつて上下動させられる
ようになつている。
次に作用について説明する。上下シリンダ33を上昇さ
せると、上下動板31と共にワイヤ17が上昇して基板
18を持ち上げる。これによつて基板18は伝熱板13
より離れる。この状態でモータ28を駆動すると、ワイ
ヤ17が移動して基板18は搬送される。ワイヤ17を
一定長さ移動させた後、上下シリンダ33を下降させる
と、上下動板31と共にワイヤ17が下降し、基板18
は伝熱板13上に載置される。そして、伝熱板13によつ
て基板18はベークされる。この間にモータ28は逆転
し、ワイヤ17は基板18を伝熱板13上に残したまま
元の位置に移動する。この動作を順次繰返すことによ
り、基板18はベークされながら搬送される。
このように、基板18の持ち上げおよび搬送をワイヤ1
7によつて行なうので、伝熱板13のワイヤ溝13aは
ワイヤ17が配設される浅い溝でよい。すなわち、ワイ
ヤ17は1mmφ以下と細いので、伝熱板13の厚さを2
mm以下と非常に薄くすることができる。このように伝熱
板13を非常に薄くできるので、伝熱板13の熱抵抗が
小さくなり、ヒータ12の熱効率が良く、省エネが図れ
ると共に、伝熱板13の表面温度も高温にすることがで
きる。例えば、従来は350Wのヒータを必要とした
が、本発明は85Wにすることができた。また従来は伝
熱板の表面の最高温度は200℃であつたが、本発明は
350℃にすることができた。またワイヤ17の上下動
と回転動作をそれぞれ別個の駆動源により行なうことが
できるので、搬送機構が簡単になる。
なお、上記実施例においては、ワイヤ17を上下動させ
たが、各熱ブロック14を上下動させてもよい。
〔発明の効果〕
本発明によれば、伝熱板の上面に基板の搬送方向に沿つ
てワイヤ溝を形成し、このワイヤ溝にこのワイヤ溝に沿
つて移動させられるワイヤを配設し、このワイヤを加熱
ブロツクに対して相対的に上下動させるように構成して
なるので、伝熱板を非常に薄くすることができ、ヒータ
の熱効率が向上し、省エネが図れると共に、伝熱板の最
高温度を高くすることができる。また搬送機構も簡単に
することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来例を示し、(a)は正面図、(b)は平面図、
(c)は(a)のE−E線断面図、第2図は本発明の一実施例
を示し、(a)は正面図、(b)は平面図、(c)は(a)のF−F
線断面図である。 11……断熱材、12……ヒータ、 13……伝熱板、13a……ワイヤ溝、 14……加熱ブロック、17……ワイヤ、 18……基板、28……モータ、 31……上下動板、33……上下シリンダ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐々木 晴夫 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所茂原工場内 (56)参考文献 特開 昭58−44721(JP,A) 特開 昭54−119471(JP,A) 特公 平2−41163(JP,B1) 実公 昭62−14684(JP,Y1)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】断熱材上にヒータが取付けられ、このヒー
    タ上に基板をベークするための伝熱板が配設された加熱
    ブロックを備え、前記伝熱板の上面に前記基板の搬送方
    向に沿ってワイヤ溝を形成し、このワイヤ溝にこのワイ
    ヤ溝に沿って移動させられるワイヤを配設し、このワイ
    ヤを前記加熱ブロックに対して相対的に上下動させるよ
    うに構成した基板ベーク装置であって、更に、上記加熱
    ブロックの右上、左上、左下及び右下の位置にそれぞれ
    第1、第2、第3及び第4のプーリと、上記第1〜第4
    のプーリの相対位置を固定しかつ一緒に上下動させる支
    持体と、上記第4のプーリを正方向及び逆方向に回転駆
    動するモータとを設け、上記ワイヤは、上記第3及び第
    4のプーリ間に配置されたテンションスプリングを介し
    て、リング状に繋がれると共に上記第1から第4のプー
    リにかけられ、(1)上記支持体を持ち上げることによ
    り上記基板を上記第1及び第2のプーリ間に位置する上
    記ワイヤで支えつつ上記第4のプーリを正方向に回転さ
    せることにより上記基板を上記ワイヤと共に一方向に移
    動し、(2)上記支持体を下げることにより上記基板を
    上記ワイヤから開放して上記加熱ブロック上に置き、
    (3)上記第4のプーリを逆方向に回転させることによ
    り上記ワイヤを逆方向に戻し、上記(1)〜(3)の動
    作を順に繰り返すように構成したことを特徴とする基板
    ベーク装置。
JP58160315A 1983-09-02 1983-09-02 基板ベーク装置 Expired - Lifetime JPH0652709B2 (ja)

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