JPH0653738B2 - チアゾリジン誘導体 - Google Patents

チアゾリジン誘導体

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JPH0653738B2
JPH0653738B2 JP61042608A JP4260886A JPH0653738B2 JP H0653738 B2 JPH0653738 B2 JP H0653738B2 JP 61042608 A JP61042608 A JP 61042608A JP 4260886 A JP4260886 A JP 4260886A JP H0653738 B2 JPH0653738 B2 JP H0653738B2
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solvent
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孝雄 吉岡
栄一 北沢
知之 車田
岳 藤田
勉 金井
光郎 山崎
和雄 長谷川
大能 掘越
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Sankyo Co Ltd
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    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
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    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 従来、チアゾリジン誘導体が血中脂質、血糖低下作用を
有することは、特開昭５５−２２６３６号公報およびCh
em.Pharm.Bull.３０，３５８０（１９８２）において公
知である。
本発明者らは、循環器官用薬の開発を目的としてチアゾ
リジン誘導体について鋭意研究を行ない、後記一般式
（Ｉ）を有する新規化合物が血中脂質代謝改善作用、血
糖代謝改善作用並びにアルドース還元酸素阻害作用を有
し、かつ極めて低毒性であることを見出した本発明を完
成するに至った。
発明の構成 本発明の新規なチアゾリジン誘導体は、一般式 で表わされる化合物またはその塩を含むものである。
上記式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、置換基
を有していてもよいアラルキル基または置換基を有して
いてもよいシクロアルキル基を示し、Ｒ２は水素原子ま
たはアルキル基を示し、Ｒ３および後述するＲ３′は同
一または異なって水素原子または水酸基の保護基を示
し、Ｒ４は水素原子、アルキル基、置換基を有していて
もよいアラルキル基、置換基を有していてもよいシクロ
アルキル基、置換基を有していてもよいアリール基また
はアルコキシ基を示し、Ｒ５は水素原子、アルキル基ま
たはアルコキシ基を示し、Ｒ６およびＲ７は同一または
異なって水素原子またはアルキル基を示し、Ｒ８および
Ｒ９は同一または異なって水素原子または置換基を有し
ていてもよいアルキル基を示し、Ａｒは置換基を有して
いてもよい二価の芳香環基または置換基を有していても
よい二価の複素芳香環基を示し、Ｗはメチレン基、カル
ボニル基、式＞ＣＨ−ＯＲ３′基（式中、Ｒ３′は前述
したものと同意義を示す。）、式＞＝Ｎ−ＯＶ基（式
中、Ｖは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル
基または置換基を有していてもよいアルキル基を示
す。）または式＞＝Ｎ−ＯＲ３′ａ基（式中、Ｒ３′ａ
は前述したＲ３′における水酸基の保護基を示す。）を
示すかあるいは後述するＵと共に二重結合を形成しても
よく、Ｕは単結合またはメチレン基を示すかあるいはＷ
と共に二重結合を形成するか、Ｗがカルボニル基、式＞
＝Ｎ−ＯＶ基若しくは式＞＝Ｎ−ＯＲ３′ａ基（式中、
Ｖ、Ｒ３′ａは前述したものと同意義を示す。）を示す
ときにはＲ１と共に二重結合を形成してもよく、ｎは１
乃至１０の整数を示し、Ｙは酸素原子またはイミノ基を
示し、Ｚは酸素原子またはイミノ基を示すかあるいはＷ
がメチレン基である場合には硫黄原子を示してもよい。
但し、式（Ｉ）中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なっ
て水素原子または低級アルキル基を示し、Ｒ３および後
述するＲ３′は同一または異なって水素原子、脂肪族低
級アシル基、脂環式アシル基、置換基を有していてもよ
い芳香族アシル基、複素環アシル基、置換基を有してい
てもよい芳香族脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボ
ニル基またはアラルキルオキシカルボニル基を示し、Ｒ
４およびＲ５は同一または異なって水素原子、低級アル
キル基または低級アルコキシ基を示し、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ
８およびＲ９は水素原子を示し、Ａｒはｐ−フェニレン
基を示し、Ｗはメチレン基、カルボニル基または式＝Ｃ
Ｈ−ＯＲ３′（Ｒ３′は前述したものと同意義を示
す。）で表される基を示し、Ｕはメチレン基を示し、ｎ
は１乃至３の整数を示し、Ｙは酸素原子またはイミノ基
を示し、ＺはＷがメチレン基を示す場合には酸素原子、
硫黄原子またはイミノ基を示し、ＺはＷがカルボニル基
または式＝ＣＨ−ＯＲ３′（Ｒ３′は前述したものと同
意義を示す。）で表される基を示す場合には酸素原子ま
たはイミノ基を示す；場合を除く。
前記一般式（Ｉ）において、Ｒ１は水素原子、直鎖状ま
たは分枝鎖状の炭素数１乃至２５のアルキル基、置換基
を有してもよい炭素数７乃至１０のアラルキル基、また
は置換基を有してもよい炭素数５乃至８のシクロアルキ
ル基を示し、Ｒ２は水素原子または直鎖状若しくは分枝
鎖状の炭素数１乃至１２のアルキル基を示し、Ｒ３は水
素原子、置換基としてカルボキシ基、低級アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、モノ若しくはジアルキル
置換カルバモイル基、５若しくは６員環状アミノカルボ
ニル基、水酸基、低級アルコキシ基または脂肪族若しく
は芳香族アシルオキシ基を有していてもよい直鎖状若し
くは分枝鎖状の炭素数１乃至１０のアルキル基、あるい
は不飽和結合を有してもよく、また、置換基を有しても
よい炭素数１乃至２３の脂肪族アシル基、脂環式アシル
基、置換基を有していてもよい芳香族アシル基、複素環
アシル基、置換基を有していてもよい芳香脂肪族アシル
基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボ
ニル基またはアルキル基、アラルキル基若しくはアリー
ル基で置換されていてもよいカルバモイル基を示し、Ｒ
３′は水素原子または前記Ｒ３における当該アシル基を
示し、Ｒ４は水素原子、直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素
数１乃至２０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素
数７乃至１０のアラルキル基、置換基を有してもよい炭
素数５乃至８のシクロアルキル基、置換基を有していて
もよいアリール基または直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素
数１乃至１２のアルコキシ基を示し、Ｒ５は水素原子、
直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至２０のアルキル
基または直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至１２の
アルコキシ基を示し、Ｒ６およびＲ７は同一または異な
って、水素原子または直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数
１乃至４個のアルキル基を示し、Ｒ８およびＲ９は同一
または異なって水素原子または前述したＲ３と同意義を
有する置換されていてもよい炭素数１乃至１０のアルキ
ル基を示し、Ａｒは置換基を有してもよい二価の芳香環
基、または置換基を有してもよい二価の複素芳香環基を
示し、Ｗはメチレン基、カルボニル基、式＞＝ＣＨ−Ｏ
Ｒ３′基（式中、Ｒ３′は前述したものと同意義を示
す。）、式＞＝Ｎ−ＯＶ基（式中、Ｖは水素原子、前述
したＲ３におけるものと同意義を有する置換基を有して
いてもよい直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至１０
のアルキル基または置換基を有していてもよい炭素数７
乃至１１のアラルキル基を示す。）または式＞＝Ｎ−Ｏ
−Ｒ３′ａ（式中、Ｒ３′ａは前述したＲ３′における
水素原子を除く同意義を有する基を示す。）を示すかあ
るいは後述するＵと共に二重結合を形成してもよく、Ｕ
は単結合またはメチレン基を示すかあるいはＷと共に二
重結合を形成するか、さらにＷがカルボニル基、式＞＝
Ｎ−ＯＶ基若しくは式＞＝Ｎ−ＯＲ３′ａ基を示すとき
にはＲ１と共に二重結合を形成してもよく、ｎは１乃至
１０の整数を示し、Ｙは酸素原子またはイミノ基を示
し、Ｚは酸素原子またはイミノ基を示すかあるいはＷが
メチレン基である場合には硫黄原子を示してもよい。
但し、式（Ｉ）中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なっ
て水素原子または直鎖状もしくは分枝鎖状の炭素数１乃
至５の低級アルキル基を示し、Ｒ３および後述する
Ｒ３′は同一または異なって水素原子、不飽和結合を有
していてもよい炭素数２乃至６の脂肪族アシル基、脂環
式アシル基、置換基を有していてもよい芳香族アシル
基、複素環アシル基、置換基を有していてもよい芳香族
脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニル基またはア
ラルキルオキシカルボニル基を示し、Ｒ４およびＲ５は
同一または異なって水素原子、直鎖状もしくは分枝鎖状
の炭素数１乃至５の低級アルキル基または低級アルコキ
シ基を示し、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は水素原子を
示し、Ａｒはｐ−フエニレン基を示し、Ｗはメチレン
基、カルボニル基または式＝ＣＨ−ＯＲ３′（Ｒ３′は
前述したものと同意義を示す。）で表される基を示し、
Ｕはメチレン基を示し、ｎは１乃至３の整数を示し、Ｙ
は酸素原子またはイミノ基を示し、ＺはＷがメチレン基
を示す場合には酸素原子、硫黄原子またはイミノ基を示
し、ＺはＷがカルボニル基または式＝ＣＨ−ＯＲ３′
（Ｒ３′は前述したものと同意義を示す。）で表される
基を示す場合には酸素原子またはイミノ基を示す；場合
を除く。
前記一般式（Ｉ）において、Ｒ１がアルキル基を示す場
合、Ｒ１としてメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ネ
オペンチル、２−メチルブチル、１−エチルプロピル、
ヘキシル、イソヘキシル、ネオヘキシル、１−メチルペ
ンチル、３−メチルペンチル、１，３−ジメチルブチ
ル、２−エチルブチル、ヘプチル、１−メチルヘキシ
ル、１−プロピルブチル、４、４−ジメチルペンチル、
オクチル、１−メチルヘプチル、２−エチルヘキシル、
５，５−ジメチルヘキシル、ノニル、デシル、１−メチ
ルノニル、３，７−ジメチルオクチル、７，７−ジメチ
ルオクチル、ウンデシル、４，８−ジメチルノニル、ド
デシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、
３，７，１１−トリメチルドデシル、ヘキサデシル、
４，８，１２−トリメチルトリデシル、ヘプタデシル、
オクタデシル、ノナデシル、エイコシル、３，７，１
１，１５−テトラメチルヘキサデシル、ドコシルまたは
ペンタコシルなどのような直鎖状若しくは分枝鎖状の炭
素数１乃至２５のものがあげられ；Ｒ１が、置換されて
いてもよいアラルキル基を示す場合、Ｒ１としてベンジ
ル、フエネチル、３−フエニルプロピル、または４−フ
エニルブチルなど炭素数７乃至１０のものがあげられ、
そのベンゼン環の置換基としては、メチル、エチル、プ
ロピルなどの低級アルキル基、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシなどの低級アルコキシ基、またはフッ素、塩
素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子があげられ；Ｒ１
が置換されていてもよいシクロアルキル基を示す場合、
シクロアルキル基としてシクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチル、またはシクロオクチル基などの炭
素数５乃至８のものがあげられ、その置換基としてはメ
チル、エチル、プロピルなどの低級アルキル基があげら
れる。
Ｒ２がアルキル基を示す場合、Ｒ２としてメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、オクチル、ドデシルなど炭素数１乃
至１２のものがあげられる。
Ｒ３および後述するＲ８、Ｒ９およびＶが置換基を有し
ていてもよいアルキル基を示す場合、Ｒ３、Ｒ８、Ｒ９
およびＶとして同一または異なってメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ
−ブチル、ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチ
ル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、ネ
オヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニルまたはデシル
のような直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至１０の
アルキル基または式Ｒ10−（Ａｌｋ）−基（式中、Ａｌ
ｋはメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレ
ン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレン、 基のような直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至１０
のアルキレン基を示し、Ｒ10はカルボキシ基、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニルまたはヒドロキシエトキシカルボニル若しく
はメトキシエトキシカルボニルのような水酸基若しくは
低級アルコキシ基で置換されていてもよい炭素数２乃至
５のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−メ
チルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−
ジメチルカルバモイルまたはＮ，Ｎ−ジエチルカルバモ
イルのようなモノ若しくはジアルキル置換カルバモイル
基、１−ピロリジニルカルボニル、ピペリジノカルボニ
ル、モルホリノカルボニルまたは４−メチル−１−ピペ
ラジニル、４−フェニル−１−ピペラジニル、４−アセ
チル−１−ピペラジニルのような置換基を有していても
よい５若しくは６員環状アミノカルボニル基、水酸基、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブ
トキシ、イソブトキシまたはベンチルオキシのような直
鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至５のアルコキシ
基、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキ
シ、イソブチリルオキシまたはピバロイルオキシのよう
な炭素数２乃至５の脂肪族アシルオキシ基、またはベン
ゾイルオキシ、ｐ−トルオイルオキシ、ｏ−アニソイル
オキシ、３−フルオロベンゾイルオキシ、４−クロロベ
ンゾイルオキシ、４−アミノベンゾイルオキシまたは４
−ジメチルアミノベンゾイルオキシのような芳香族アシ
ルオキシ基を示す。）があげられる。
Ｒ３がアシル基を示す場合、Ｒ３としてホルミル、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ピバロ
イル、ヘキサノイル、アクリロイル、メタクリロイル、
クロトノイル、オクタノイル、デカノイル、トリデカノ
イル、ペンタデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデ
カノイル、ノナデカノイル、２，６，１０，１４−テト
ラメチルペンタデカノイル、エイコサノイル、３−カル
ボキシプロパノイル、４−カルボキシブタノイル、５−
カルボキシペンタノイル、７−カルボキシヘプタノイ
ル、３−エトキシカルボニルプロパノイル、３−フェノ
キシカルボニルプロパノイル、３−（４−メチルフェノ
キシカルボニル）プロパノイル、３−（４−メトキシフ
ェノキシカルボニル）プロパノイル、３−（３−フルオ
ロフェノキシカルボニル）プロパノイル、ｃｉｓ−３−
カルボキシプロペノイル、ｔｒａｎｓ−３−カルボキシ
プロペノイルのような不飽和結合を有してもよい炭素数
１乃至２３個の脂肪族アシル基（該アシル基はカルボキ
シ基、低級アルコキシカルボニル基または置換されてい
てもよいアリールオキシカルボニル基で置換されてもよ
い。）、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカ
ルボニル、シクロヘプタンカルボニルのような脂環式ア
シル基、ペンゾイル、ｐ−トルオイル、３−ニトロベン
ゾイル、３−フルオロベンゾイル、２−クロロベンゾイ
ル、４−アミノベンゾイル、３−ジメチルアミノベンゾ
イル、２−メトキシベンゾイル、３，４−ジクロロベン
ゾイル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ゾイル、１−ナフトイルのような芳香族アシル基、２−
フロイル、３−テノイル、３−ピリジンカルボニル、４
−ピリジンカルボニルのような複素環アシル基、フェニ
ルアセチル、４−クロロフェニルアセチル、３−フェニ
ルプロピオニル、シンナモイルのような置換基を有して
もよく、また不飽和結合を有してもよい芳香脂肪族アシ
ル基、メトキルカルボニル、エトキシカルボニル、ベン
ジルオキシカルボニルのような低級アルコキシ若しくは
アラルキルオキシカルボニル基または、カルバモイル、
Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジフェニルカ
ルバモイル、Ｎ−ベンジル−Ｎ−プロピルカルバモイル
のような置換若しくは非置換カルバモイル基などがあげ
られる。
Ｒ３′がアシル基を示す場合、Ｒ３′としてはアセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリルのような炭
素数２乃至４個の脂肪族アシル基またはベンゾイル、ｐ
−トルオイル、４−ニトロベンゾイルのような芳香族ア
シル基があげられるが、Ｒ３′としてはメタンスルホニ
ル、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルのよ
うなスルホニル基を示してもよい。
Ｒ４がアルキル基を示す場合、Ｒ４としてメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ
−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ
−ペンチル、ヘキシル、１，１−ジメチルブチル、１，
３−ジメチルブチル、ヘプチル、１，１−ジエチルプロ
ピル、オクチル、１−メチルヘプチル、２−エチルヘキ
シル、１，１，３，３−テトラメチルブチル、ノニル、
デシル、３，７−ジメチルオクチル、ウンデシル、ドデ
シル、ペンタデシルまたはエイコシルなどのような直鎖
状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至２０のものがあげら
れる。
Ｒ４が置換基を有していてもよい、炭素数７乃至１０の
アラルキル基を示す場合、Ｒ４としてベンジル、１−フ
ェニルエチル、１−メチル−１−フェニルエチル、１−
メチル−１−（４−メチルフェニル）エチル、２−フェ
ニルエチル、２−（３−メトキシフェニル）−１，１−
ジメチルエチル、３−（２−クロロフェニル）プロピ
ル、または４−フェニルブチルなどがあげられる。
Ｒ４が置換基を有していてもよい炭素数５乃至８のシク
ロアルキル基を示す場合、Ｒ４としてシクロペンチル、
シクロヘキシル、１−メチルシクロヘキシル、２−メチ
ルシクロヘキシル、１−エチルシクロヘキシル、１−プ
ロピルシクロヘキシル、１−イソブチルシクロヘキシ
ル、シクロヘプチル、１−メチルシクロヘプチル、また
はシクロオクチルなどがあげられる。
Ｒ４が置換基を有してもよいアリール基を示す場合、Ｒ
４としてフェニル、４−メチルフェニル、３−メトキシ
フェニル、２−クロロフェニル、２，４−ジメチルフェ
ニルなどがあげられる。
Ｒ４がアルコキシ基を示す場合、Ｒ４としてメトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、オ
クチルオキシ、またはドデシルオキシなどのような直鎖
状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至１２のものがあげら
れる。
Ｒ５がアルキル基を示す場合、Ｒ５としてメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペ
ンチル、イソペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチ
ル、デシル、ドデシル、ペンタデシル、エイコシルなど
のように直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至２０の
ものがあげられる。
Ｒ５がアルコキシ基を示す場合、Ｒ５としてメトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、オ
クチルオキシ、またはドデシルオキシなどがあげられ
る。また、隣接するＲ４およびＲ５は一緒になって形成
するメチレンジオキシあるいはエチレンジオキシのよう
な低級アルキレンジオキシ基を示してもよく；さらにＲ
４およびＲ５は一緒になって、置換基を有してもよい式
−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−を示し、隣接するベンゼン
環と共にナフタリン環を形成してもよく、該置換基とし
てはメチル、エチル、イソプロピルなどのように低級ア
ルキル基、メトキシ、エトキシなどのような低級アルコ
キシ基をあげられる。
Ｒ６およびＲ７がアルキル基を示す場合、Ｒ６およびＲ
７として同一または異なってメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イ
ソペンチルなどのような直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素
数１乃至５のものがあげられる。
Ａｒが置換基を有してもよい二価の芳香環基を示す場
合、Ａｒはｐ−フェニレン基、ｏ−フェニレン基または
ｍ−フェニレン基であり得、その場合Ａｒの置換基Ｒ11
はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
またはペンチルのような低級アルキル基、メトキシ、エ
トキシ、イソロポキシ、ｔ−ブトキシ、またはペンチル
オキシのような低級アルコキシ基であり得る。
Ａｒが置換基を有してもよい二価の複素芳香環基を示す
場合、Ａｒはピリジン環、フラン環、チオフェン環、ま
たはピロール環であり得、その結合位置は、式 の型式で示すとき、 （上記式中、Ｑは酸素原子、硫黄原子、またはイミノ基
を示す。） で示すことができ、その場合Ａｒの置換基Ｒ11として
は、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、また
はペンチルのような低級アルキル基、メトキシ、エトキ
シ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、またはペンチルオ
キシのような低級アルコキシ基があげられる。
Ｗとしては、メチレン基；カルボニル基；式＞ＣＨ−Ｏ
Ｒ３′基（式中、Ｒ３′は前述したものと同意義を示
す。）；式＞＝ＮＯＶ基〔式中、Ｖは水素原子、前述し
たＲ３と同意義を有する置換基を有していてもよい直鎖
状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至１０のアルキル基ま
たはベンジル、４−メチルベンジル、３−メトキシベン
ジル、１−クロロベンジル、１−フェニルエチル、２−
フェニルエチル、３−（２−クロロフェニル）プロピル
または４−フェニルブチル、１−ナフチルメチル、２−
ナフチルメチルのような置換基を有していてもよい炭素
数７乃至１１のアラルキル基を示す。〕または式＞＝Ｎ
−ＯＲ３′ａ基（式中、Ｒ３′ａを前述したものと同意
義を示す。）があげられるが、後述するＵと共に二重結
合を形成してもよい。
Ｕは通常メチレン基を示すが、Ｗと共に二重結合を示し
てもよい。Ｕは、さらに、Ｗがカルボニル基、式＞＝Ｎ
−ＯＶ基（式中、Ｖは前述したものと同意義を示す。）
若しくは式＞＝Ｎ−ＯＲ３′ａ基（式中、Ｒ３′ａは前
述したものと同意義を示す。）を示すときには、Ｒ１と
共に二重結合を示してもよい。Ｕは、さらに、単結合を
示すこともできる。
Ｙは酸素原子またはイミノ基を示す。
Ｚは酸素原子またはイミノ基を示すが、Ｗがメチレン基
のときには、硫黄原子を示すこともできる。
本発明の前記一般式（Ｉ）で表わされる目的化合物は、
常法に従って薬理上許容し得る無毒性塩とすることがで
きるが、そのような塩として例えばナトリウム、カリウ
ムのようなアルカリ金属の塩あるいはカルシウムのよう
なアルカリ土類金属の塩などをあげることができる。
本発明の前記一般式（Ｉ）で表わされる目的化合物が塩
基性の基を所有するときには、前述のような無毒性の塩
とすることができ、たとえば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸
塩、リン酸塩のような無機酸塩；酢酸塩、コハク酸塩、
マレイン酸塩、フマール酸塩、リンゴ酸塩、グルタミン
酸塩、アスパラギン酸塩、パラトルエンスルホン酸塩、
メタンスルホン酸塩のような有機酸塩をあげることがで
きる。
更に、本発明の前記一般式（Ｉ）で表わされる目的化合
物において、好適な化合物としては、Ｒ１が水素原子ま
たは直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至２０のアル
キル基、さらに直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至
１２のアルキル基であり、特に直鎖状若しくは分枝鎖状
の炭素数１乃至９のアルキル基であるが、但し、Ｒ２は
水素原子または低級アルキル基を示し、Ｒ３および後述
するＲ３′は同一または異なって水素原子、脂肪族低級
アシル基、脂環式アシル基、置換基を有していてもよい
芳香族アシル基、複素基アシル基、置換基を有していて
もよい芳香族脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニ
ル基またはアラルキルオキシカルボニル基を示し、Ｒ４
およびＲ５は同一または異なって水素原子、低級アルキ
ル基または低級アルコキシ基を示し、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８
およびＲ９は水素原子を示し、Ａｒはｐ−フェニレン基
を示し、Ｗはメチレン基、カルボニル基または式＝ＣＨ
−ＯＲ３′（Ｒ３′は前述したものと同意義を示す。）
で表される基を示し、Ｕはメチレン基を示し、ｎは１乃
至３の整数を示し、Ｙは酸素原子またはイミノ基を示
し、ＺはＷがメチレン基を示す場合には酸素原子、硫黄
原子またはイミノ基を示し、ＺはＷがカルボニル基また
は式＝ＣＨ−ＯＲ３′（Ｒ３′は前述したものと同意義
を示す。）で表される基を示す場合には酸素原子または
イミノ基を示すときは、Ｒ１が直鎖状若しくは分枝鎖状
の炭素数６乃至２０のアルキル基、さらに直鎖状若しく
は分枝鎖状の炭素数６乃至１２のアルキル基であり、特
に直鎖状の炭素数７乃至９のアルキル基であり；Ｒ２が
水素原子または低級アルキル基、さらに水素原子または
メチル若しくはイソプロピル基であり、特にメチル基で
あり；Ｒ３が水素原子、置換されていてもよい直鎖状若
しくは分枝鎖状の炭素数１乃至５のアルキル基〔アルキ
ル基の置換分としてはカルボキシ基、直鎖状若しくは分
枝鎖状の炭素数２乃至５のアルコキシカルボニル基（ア
ルコキシカルボニル基のアルキル基部分は水酸基または
直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至５のアルコキシ
基で置換されていてもよい）、水酸基、直鎖状若しくは
分枝鎖状の炭素数１乃至５のアルコキシ基、炭素数２乃
至５個の脂肪族アシルオキシ基または炭素数１乃至５の
アルキル若しくは炭素数１乃至５のアルコキシで置換さ
れていてもよいベンゾイルオキシを示す。〕、カルボキ
シル基で置換されていてもよい炭素数２乃至５の脂肪族
アシル基または芳香族アシル基である。さらに好適には
水素原子、置換分とじてカルボキシ基、炭素数２乃至５
のアルコキシカルボニル基、水酸基若しくは炭素数１乃
至５のアルコキシ基を有する炭素数１乃至５のアルキル
基、アセチル基またはベンゾイル基であり、特に好適に
は水素原子、カルキシメチル、１−カルボキシエチル、
３−カルボキシプロピル、エトキシカルボニルメチル、
ｔ−ブトキシカルボニルメチル、ペントキシカルボニル
メチル若しくは式 基のような置換分としてカルボキシ若しくは炭素数２乃
至５のアルコキシカルボニルを有する炭素数１乃至３の
アルキル基であり；Ｒ３′は水素原子、アセチル基また
はベンゾイル基であり、特に好適には水素原子であり；
Ｒ４が直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至１２のア
ルキル基であり、さらに好適には、直鎖状若しくは分枝
鎖状の炭素数１乃至９のアルキル基であり、特にメチ
ル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、１，１
−ジメチルブチル、１，１−ジエチルプロピル若しくは
１，１，３，３−テトラメチルブチル基であるが、但
し、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって水素原子また
は低級アルキル基を示し、Ｒ３および後述するＲ３′は
同一または異なって水素原子、脂肪族低級アシル基、脂
環式アシル基、置換基を有していてもよい芳香族アシル
基、複素環アシル基、置換基を有していてもよい芳香族
脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボニル基またはア
ラルキルオキシカルボニル基を示す、Ｒ５は水素原子、
低級アルキル基または低級アルコキシ基を示し、Ｒ６、
Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は水素原子を示し、Ａｒはｐ−フ
エニレン基を示し、Ｗはメチレン基、カルボニル基また
は式＝ＣＨ−ＯＲ３′（Ｒ３′は前述したものと同意義
を示す。）で表される基を示し、Ｕはメチレン基を示
し、ｎは１乃至３の整数を示し、Ｙは酸素原子またはイ
ミノ基を示し、ＺはＷがメチレン基を示す場合には酸素
原子、硫黄原子またはイミノ基を示し、ＺはＷがカルボ
ニル基または式＝ＣＨ−ＯＲ３′（Ｒ３′は前述したも
のと同意義を示す。）で表される基を示す場合には酸素
原子またはイミノ基を示すときは、Ｒ４が直鎖状若しく
は分枝鎖状の炭素数６乃至１２のアルキル基であり、さ
らに好適には分枝鎖状の炭素数６乃至１２のアルキル基
であり、特に１，１−ジメチルブチル、１，１−ジエチ
ルプロピル若しくは１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル基であり；Ｒ５が水素原子、低級アルキル基、さらに
水素原子、メチル基であり、特にメチル基であり；Ｒ６
およびＲ７はそれぞれ水素原子であり；Ｒ８およびＲ９
の好適な置換基は水素原子またはＲ３と同意義を有する
置換アルキル基であり、特に水素原子であり；Ａｒがｐ
−フェニレン基、ｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン
基、または式 の型式で示されるときであり、さらにｐ−フェニレン
基、ｍ−フェニレン基、または式 のときであり、特にｐ−フェニレン基であり；Ｒ11は低
級アルキル基、特にメチル基であり；Ｗがメチレン基、
カルボニル基、 であり、特に、メチレン基、カルボニル基または式＞＝
Ｎ−ＯＨであり、さらに特に、メチレン基であり；Ｕが
メチレン基若しくはＲ１とともに二重結合であり、特に
メチレン基であり；ｎが１、２あるいは３、さらに１あ
るいは２、特に１であり；Ｙが酸素原子であり；Ｚが酸
素原子あるいはイミノ基、特に酸素原子である化合物を
あげることができる。
本発明のチアゾリジン誘導体（Ｉ）の具体例としてたと
えば、以下に示すような構造式を有する化合物（第１
表）があげられる。
なお、以下の表において、Ｍｅ−はメチル置換を示す。
また、以下に示すような構造式を有する化合物（第２
表）があげられる。
また、以下に示すような構造式を有する化合物（第３
表）があげられる。
更に、以下に示すような構造式を有する化合物（第４表
から第５表）があげられる。
なお、以下の表において、ＴＭＢは１，１，３，３−テ
トラメチルブチル基、５，５−ｄＭＨは５，５−ジメチ
ルヘキシル基、３，３−ｄＭＢは３，３−ジメチルブチ
ル基、３，７−ｄＭＯは３，７−ジメチルオクチル基、
７，７−ｄＭＯは７，７−ジメチルオクチル基を示す。
更に、本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物を原料化合
物として、Ｒ９が水素原子以外の化合物として、以下に
示すような構造式を有する化合物（第６表から第１２
表）があげられる。但し、第１１表および第１２表にお
いて、Ｒ９が水素原子を示す化合物は本発明の一般式
（Ｉ）を有する化合物である。
本発明のチアゾリジン誘導体（Ｉ）は、たとえば次のよ
うにして製造することができる。すなわち、式（Ｉ）
中、Ｗはメチレン基またはカルボニル基であり、Ｚがイ
ミノ基である化合物(III)は、一般式(II) で表わされる化合物とチオ尿素を反応させることによっ
て得られる。
上記式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，
Ｒ７，Ａｒ，ｎおよびＹは前述したものと同意義を示
し、Ｒ８′は水素原子またはアルキル基を示し、Ｗ１は
メチレン基若しくはカルボニル基を示し、Ａはシアノ
基、カルボキシ基、例えばメトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシ
カルボニル、ブトキシカルボニルのようなアルコキシカ
ルボニル基、カルボモイル基または式−ＣＯＯＭ基（式
中、Ｍは例えばナトリウム、カリウム、カルシウム、ア
ルミニウムのような金属原子またはアンモニウム等の等
価の陽イオンを示す。）を表わし、Ｘは例えば塩素、臭
素、沃素のようなハロゲン原子を表わす。なお、化合物
(III)には下記で示されるように、互変異性体が考えら
れるが、便宜上これらを単に式(III)として表わす。
Ｙが酸素原子のとき Ｙがイミノ基であるとき、 化合物(II)とチオ尿素との反応は通常溶媒中で行なわれ
る。該溶媒としては、たとえばメタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモ
ノメチルエーテルなどのアルコール類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンなどのエーテル類、アセトン、ジメチ
ルスルホキシド、スルホラン、ジメチルホルムアミドな
どがあげられる。化合物(II)とチオ尿素との使用モル比
は特に限定されないか、化合物(II)に対して等モルより
やや過剰のチオ尿素を使用するのがよい。好ましくは化
合物(II)１モルに対し、１〜２モルである。反応温度、
反応時間などの反応条件は用いられる原料、溶媒などに
より異なるが、通常反応は溶媒の沸点もしくは８０乃至
１５０℃、１時間乃至薬２０時間行なわれる。
式（Ｉ）中、Ｗがメチレン基およびカルボニル基であ
り、ＹとＺが共に酸素原子である本発明の化合物(IV)
は、化合物(III)を、単離もしくは単離することなく、
加水分解することによって製造することができる。
化合物(IV)には下記で示されるように、互変異性体が考
えられるが、便宜上これらを単に式(IV)として表わす。
加水分解工程は化合物(III)を適当な溶媒中（たとえば
スルホラン、メタノール、エタノール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテルなど）、水、酢酸のような有機
酸、あるいは硫酸、塩酸のような鉱酸の存在下加熱する
ことにより行なわれる。酸の添加量は、通常化合物(II
I)１モルに対し、０．１〜１０モル、好ましくは０．２
〜３モル、水あるいは水性溶媒の添加量は、化合物(II
I)に対し通常大過剰である。反応温度は通常、５０乃至
１００℃であり、加熱時間は通常数時間乃至約２０時間
である。なお、この加水分解工程を経たのちは、化合物
(IV)中のＲ３は通常水素原子を示す〔Ｒ３が水素原子で
ある(IV)を特に(IVH)で示す。〕が、反応条件をえらぶ
ことにより、アシル基を残すこともできる。
該工程において得られたチアゾリジン誘導体(IV)は、常
法により、ナトリウム、カリウムのようなアルカリ金
属；カルシウムのようなアルカリ土類金属；もしくはア
ンモニウムのような三価の金属で例示される種々の金
属；好適には、ナトリウム、カリウムのようなアルカリ
金属；カルシウムのようなアルカリ土類金属；さらに好
適には、ナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属と
の塩を形成することができる。
またフェノール性水酸基を有するチアゾリジン誘導体に
おいては、例えば、ナトリウム、カリウムのような一価
の金属に対しては、モノ塩もしくはジ塩を、必要に応じ
て形成せしめることができる。
該工程において得られたチアゾリジン誘導体(IV)が塩基
性の基を有するときには、所望により塩酸塩、硫酸塩、
硝酸塩、リン酸塩のような無機酸塩類；酢酸塩、コハク
酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、リンゴ酸塩、グル
タミン酸塩、アルパラギン酸塩、パラトルエンスルホン
酸塩、メタンスルホン酸塩のような有機酸塩類に導くこ
とができる。
また(IVH)は、酸ハロゲン化物、酸無水物のようなアシ
ル化剤、または芳香族カルボン酸、脂肪族カルボン酸の
ような有機酸と、塩酸、硫酸のような鉱酸、パラトルエ
ンスルホン酸のような有機酸からなる脱水剤または脱水
触媒を用いることによって、目的とするエステル類に変
換することができる。反応は通常溶媒中で行なわれる。
使用される溶媒としてはエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、トルエ
ンのような芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサ
ン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類、ジクロロメタ
ン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、アセ
トン、メチルエチルケトンのようなケトン類、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド
類、ピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基類、
ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類、スルホ
ランのようなスルホン類、水などがあげられる。化合物
(IVH)とアシル化剤の割合は特に限定はないが、化合物
(IVH)に対して等モルよりやや過剰のアシル化剤を使用
するのがよい。好ましくは化合物(IVH)１モルに対し、
アシル化剤１〜１０モルである。反応温度、反応時間な
どの反応条件は用いられる原料、溶媒の種類によって異
なるが、通常０℃乃至１００℃で、数分乃至約２０時間
である。
式（Ｉ）中、Ｗがヒドロキシメチレン基であり、Ｚがイ
ミノ基である化合物(VI)は、一般式（Ｖ）で表わされる
化合物と水素化ホウ素ナトリウム、Ｋ−セレクトライド
のような還元剤、特に水素化ホウ素ナトリウムを反応さ
せることによって得られる。
上記式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，
Ｒ７，Ｒ８′，Ａｒ，ｎおよびＹは前述したものと同意
義を示す。なお、化合物(VI)には下記で示されるよう
に、互変異性体が考えられるが、便宜上これらを単に式
(VI)として表わす。
Ｙが酸素原子のとき Ｙがイミノ基であるとき、 化合物（Ｖ）と水素化ホウ素ナトリウムとの反応は通常
溶媒中で行なわれる。該溶媒としては、たとえばメタノ
ール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール類、
テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類など
があげられる。化合物（Ｖ）と水素化ホウ素ナトリウム
との使用モル比は特に限定されないが、化合物（Ｖ）に
対して過剰の水素化ホウ素ナトリウムを使用するのがよ
い。好ましくは化合物（Ｖ）１モルに対し１〜２０モル
である。反応温度、反応時間などの反応条件は用いられ
る原料、溶媒などにより異なるが、通常反応は０乃至１
００℃で１時間乃至約２０時間行なわれる。
式（Ｉ）中、Ｗがヒドロキシメチレン基であり、ＹとＺ
が共に酸素原子である化合物(VIII)は、一般式(VII)で
表わされる化合物と水素化ホウ素ナトリウム、Ｋ−セレ
クトライドのような還元剤、特に水素化ホウ素ナトリウ
ムを反応させることによって得られる。
上記式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，
Ｒ７，Ｒ８′，Ａｒ，およびｎは前述したものと同意義
を示す。なお、化合物(VIII)には下記で示されるよう
に、互変異性体が考えられるが、便宜上これらを単に式
(VIII)として表わす。
化合物(VII)と水素化ホウ素ナトリウムとの反応は通常
溶媒中で行なわれる。該溶媒としては、たとえばメタノ
ール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール類、
テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類など
があげられる。化合物(VII)と水素化ホウ素ナトリウム
との使用モル比は特に限定されないが、化合物(VII)に
対して過剰の水素化ホウ素ナトリウムを使用するのがよ
い。好ましくは化合物(VII)１モルに対し１〜２０モル
である。反応温度、反応時間などの反応条件は用いられ
る原料、溶媒などにより異なるが、通常反応は０乃至１
００℃で１時間乃至約２０時間である。
また、化合物(VI)は酸ハロゲン化物あるいは酸無水物の
ようなアシル化剤と反応させることによって、目的とす
るアシル化物(IX)に変換することができる。
上記式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，
Ｒ７，Ｒ８′，Ａｒ，ｎ，およびＹは前述したものと同
意義を示し、Ｒ３′ａは前述したＲ３′の定義から水素
原子を除外したものを示す。なお、化合物(IX)には下記
で示されるように、互変異性体が考えられるが、便宜上
これらを単に式(IX)として表わす。
Ｙが酸素原子のとき Ｙがイミノ基のとき 反応は通常溶媒中で行なわれる。使用される溶媒として
は、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタ
ンのような脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロ
ホルムのようなハロゲン化炭化水素類、ピリジン、トリ
エチルアミンのような有機塩基類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類、スルホランのよ
うなスルホン酸などがあげられる。
化合物(VI)とアシル化剤の割合は特に限定はないが、化
合物(VI)に対して等モルよりやや過剰のアシル化剤を使
用するのがよい。好ましくは化合物(VI)１モルに対し、
アシル化剤１〜１０モルである。反応温度、反応時間な
どの反応条件は用いられる原料、溶媒の種類によって異
なるが、通常な０乃至１００℃で、数分乃至約２０時間
である。
また化合物(VIII)は、酸ハロゲン化物または酸無水物の
ようなアシル化剤と反応させることによって、目的とす
るアシル化物（Ｘ）に変換することができる 上記式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ３′ａ，Ｒ４，Ｒ５，
Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８′，Ａｒ，およびｎは前述したものと
同意義を示す。なお化合物（Ｘ）には下記で示されるよ
うに、互変異性体が考えられるが、便宜上これらを単に
式（Ｘ）として表わす。
反応は通常溶媒中で行なわれる。使用される溶媒として
は、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタ
ンのような脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロ
ホルムのようなハロゲン化炭化水素類、ピリジン、トリ
エチルアミンのような有機塩基類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類、スルホランのよ
うなスルホン酸などがあげられる。化合物(VIII)とアシ
ル化剤の割合は特に限定はないが、化合物(VIII)に対し
て等モルよりやや過剰のアシル化剤を使用するのがよ
い。好ましくは化合物(VIII)１モルに対し、アシル化剤
１〜１０モルである。反応温度、反応時間などの反応条
件は用いられる原料、溶媒の種類によって異なるが、通
常０乃至１００℃で、数分乃至約２０時間である。
式（Ｉ）中、ＷとＵで炭素・炭素二重結合を形成し、Ｚ
がイミノ基である化合物(XI)は一般式(VI)あるいは(IX)
で表わされる化合物より、それぞれ、水あるいはＲ３′
ａＯＨ（式中、Ｒ３′ａは前述したものと同意義を示
す。）を脱離させることによって得られる。
上記式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ３′ａ，Ｒ４，Ｒ５，
Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８′，Ａｒ，ｎおよびＹは前述したもの
と同意義を示す。なお化合物(XI)には下記で示されるよ
うに、互変異性体が考えられるが、便宜上これらを単に
式(XI)として表わす。
Ｙが酸素原子のとき Ｙがイミノ基であるとき、 化合物(VI)あるいは(IX)より、それぞれ、水あるいはＲ
３′ａＯＨを脱離させる反応は酸触媒の存在下、もしく
は非存在下において、通常溶媒中で行われるが、酸触媒
を特に使用することなく、酸性溶媒中で反応を行なって
もよい。該触媒としては、塩酸、硫酸のような無機酸
類、酢酸、パラトルエンスルホン酸のような有機酸類が
あげられる。該溶媒としては、エーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素
類、ジクロロメタン、クロロホルムのようなハロゲン化
炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケ
トン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
のようなアミド類、水、および上記溶媒の混合溶媒など
があげられる。
上記該酸性溶媒としては、酢酸のような有機酸があげら
れる。化合物(VI)あるいは(IX)と該触媒との割合は、特
に限定はないが、化合物(VI)あるいは(IX)に対して０．
１モル％乃至１００モル％であり、好ましくは１乃至１
０モル％である。反応温度、反応時間などの反応条件は
用いられる原料、溶媒の種類などによって異なるが、通
常０乃至１００℃で、数分乃至約２０時間である。
式（Ｉ）中、ＷとＵで炭素・炭素二重結合を形成し、Ｙ
とＺが共に酸素原子である化合物(XII)は一般式(VIII)
あるいは（Ｘ）で表わされる化合物より、それぞれ、水
あるいはＲ３′ａＯＨ（式中、Ｒ３′ａは前述したもの
と同意義を示す。）を脱離させることによって得られ
る。
上記式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ３′ａ，Ｒ４，Ｒ５，
Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８′，Ａｒ，およびｎは前述したものと
同意義を示す。なお，化合物(XII)には下記で示される
ように、互変異性体が考えられるが、便宜上これらを単
に式(XII)として表わす。
化合物(VIII)あるいは（Ｘ）より、それぞれ、水あるい
はＲ３′ａＯＨを脱離する反応は酸触媒の存在下、もし
くは非存在下において、通常溶媒中で行われるが、酸触
媒を使用することなく、酸性溶媒中で反応を行なっても
よい。該触媒としては、塩酸、硫酸のような無機酸類、
酢酸、パラトルエンスルホン酸のような有機酸類があげ
られる。該溶媒としては、エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサン、シ
クロヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類、ジ
クロロメタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水
素類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン
類、水および、上記溶媒の混合溶媒などがあげられる。
上記該酸性溶媒としては、酢酸のような有機酸があげら
れる。化合物(VIII)あるいは（Ｘ）と酸触媒との割合
は、特に限定はないが、化合物(VIII)あるいは（Ｘ）に
対して、０．１モル％乃至１００モル％であり、好まし
くは１乃至１０モル％である。反応温度、反応時間など
の反応条件は用いられる原料、溶媒の種類などによって
異なるが、通常０乃至１００℃で、数分乃至約２０時間
である。
式（Ｉ）中、ＷとＵで炭素、炭素二重結合を形成し、Ｚ
が酸素原子である化合物(XII)はＺがイミノ基である化
合物(XI)を加水分解することによっても製造することが
できる。
上記式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，
Ｒ７，Ｒ８′，Ａｒ，ｎおよびＹは前述したものと同意
義を示す。
加水分解工程は化合物(XI)を適当な溶媒中（たとえばス
ルホラン、メタノール、エタノール、エチレングリコー
ルモノメチルエーテルなど）、水、酢酸のような有機
酸、あるいは硫酸、塩酸のような鉱酸の存在下加熱する
ことにより行なわれる。酸の添加量は、通常化合物(XI)
１モルに対し、０．１〜１０モル、好ましくは０．２〜
３モル、水あるいは水性溶媒の添加量は、化合物(XI)に
対し通常大過剰である。反応温度は通常、５０乃至１０
０℃であり、加熱時間は通常数時間乃至約２０時間であ
る。なお、この加水分解工程を経たのちは、化合物(XI
I)中のＲ３は通常水素原子を示す〔Ｒ３が水素原子であ
る(XII)を特に式(XIIH)で示す。〕が、反応条件をえら
ぶことにより、アシル基を残すこともできる。
式（Ｉ）中、Ｗがメチレン基であり、ＹとＺが共に酸素
原子である化合物〔IV，(W1=CH2)〕は、式（Ｉ）中、Ｗ
とＵで炭素・炭素二重結合を形成し、ＹとＺが共に酸素
原子である化合物(XIII)を水素添加することによって製
造することができる。式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，
Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８′，Ａｒおよびｎは前述と同意
義を示す。
水素添加反応としては接触還元法が用いられる。接触還
元に用いられる触媒はパラジウム−炭素、ラネ−ニッケ
ル、酸化白金などがあげられるが、好ましくは、パラジ
ウム−炭素である。水素圧は１気圧乃至１００気圧であ
るが、１気圧乃至６気圧が好ましい。溶媒としては、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、ベンゼ
ン、トルエンのような芳香族炭化水素類、テトラヒドロ
フランのようなエーテル類、酢酸のような有機酸、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミ
ド類、水およびこれらのものの混合物があげられる。反
応温度、反応時間は用いられる原料、溶媒によって異な
るが、通常室温乃至５０℃で数分乃至約２０時間であ
る。
式（Ｉ）中、Ｗがカルボニル基を示し、ＵがＲ１ととも
に二重結合を示し、ＹとＺがともに酸素原子である化合
物(XV)は、一般式(XIII)で表わされる化合物とチオ尿素
から得られる一般式(XIV)で表わされる化合物を経由し
て製造される。式(XIII)，(XIV)、あるいは(XV)中、 Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８′，Ａ，Ａ
ｒ，ｎ，Ｘ，Ｙ，およびＺは前述したものと同意義を示
し、Ｌは−ＯＲ３（Ｒ３は前述したものと同意義を示
す。）、若しくは、Ｕと共に二重結合を示し、Ｕは、Ｌ
が−ＯＲ３（Ｒ３は前述したものと同意義を示す。）の
場合には、メチレン基を示す。式(XIV)および式(XV)で
表わされるチアゾリジン誘導体には、先に、式(III)お
よび式(IV)で示したような互変異性体が考えられるが、
便宜上、該異性体をも、それぞれ、式(XIV)および式(X
V)として表わす。
化合物(XIII)から(XIV)、ついで(XV)を得る反応の条件
等は化合物(II)から(III)ついで(IV)を得る反応の条件
等と同様である。
式（Ｉ）中、Ｗが式＞＝Ｎ−ＯＶ（式中、Ｖは前述した
ものと同意義を示す。）であり、Ｚがイミノ基である化
合物(XVI)は、Ｗがカルボニル基を示す一般式（Ｖ′）
で表わされる化合物に、一般式Ｈ２Ｎ−ＯＶ（当該化合
物は塩酸、硫酸のような鉱酸の塩であってもよく、Ｖは
前述したものと同意義を示す。）を有する化合物を反応
させることによって得られる。
上記（Ｖ′）および(XVI)式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ
４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８′，Ａｒ，ｎ，Ｕ，Ｖおよ
びＹは前述したものと同意義を示す。なお化合物(XVI)
には、たとえば下記で示されるように互変異性体が考え
られるが、便宜上、これらを単に、式(XVI)として表わ
す。
Ｙが酸素原子のとき、 Ｙがイミノ基であるとき、 化合物（Ｖ′）と化合物：Ｈ２ＮＯＶ（当該化合物は前
述した塩であってもよく、Ｖは前述したものと同意義を
示す。）との反応は、通常、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムのようなアルカリ金属水酸化物または炭酸ナト
リウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩で示
される脱酸剤の存在下もしくは非存在下に化合物：Ｈ２
ＮＯＶ（当該化合物は前述した塩であってもよく、Ｖは
前述したものと同意義を示す。）であらわされるヒドロ
キシルアミン誘導体類を作用せしめることによって達成
される。
化合物（Ｖ′）と式Ｈ２ＮＯＶを有する化合物との反応
は、通常、溶媒中で行なわれる。該溶媒としては、たと
えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのよ
うなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンな
どのようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシ
ドのようなスルホキシド類、スルホランのようなスルホ
ン類、トリエチルアミン、ピリジンなどのような有機塩
基類または水、あるいはこれらの混合溶媒があげられ
る。
化合物（Ｖ′）と式Ｈ２ＮＯＶで示されるヒドロキシル
アミン誘導体類との反応において、その使用モル比は、
特に限定されないが、化合物（Ｖ′）に対して式Ｈ２Ｎ
ＯＶを有する化合物は等モルより大過剰でよく、好まし
くは化合物（Ｖ′）１モルに対して、式Ｈ２ＮＯＶを有
する化合物は１乃至５０モルである。式Ｈ２ＮＯＶを有
する化合物がヒドロキシルアミン誘導体類の無機酸塩類
を示すとき、反応に際しては、脱酸剤を使用してもよ
く、その使用モル比は、該無機酸塩類に対して脱酸剤は
等モル以下でよい。
反応温度、反応時間などの反応条件は、用いられる原
料、溶媒などにより異なるが、通常、０乃至１００℃
で、数分乃至約１０日である。
特に式（Ｉ）中、Ｗが式＞＝Ｎ−ＯＶ（式中、Ｖは前述
したものと同意義を示す。）であり、ＹおよびＺが共に
酸素原子である化合物(XVII)は、Ｗがカルボニル基を示
す一般式(VII′）で表わされる化合物に、一般式Ｈ２Ｎ
−ＯＶ（当該化合物は塩酸、硫酸のような鉱酸の塩であ
ってもよく、Ｖは前述したものと同意義を示す。）を有
する化合物を反応させることによって得られる。
上記(VII′）および(XVII)式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ
４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８′，Ａｒ，ｎ，Ｕ，および
Ｖは前述したものと同意義を示す。なお化合物(XVII)に
は、たとえば下記で示されるように互変異性体が考えら
れるが、便宜上、これらを単に、式(XVII)として表わ
す。
化合物(VII′）と式Ｈ２ＮＯＶを有する化合物（当該化
合物は前述した塩であってよく、Ｖは前述したものと同
意義を示す。）との反応は、通常、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物または炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸
塩で示される脱酸剤の存在下もしくは非存在下に式Ｈ２
ＮＯＶを有する化合物（当該化合物は前述した塩であっ
てよく、Ｖは前述したものと同意義を示す。）で表わさ
れるヒドロキシルアミン誘導体類を作用せしめることに
よって達成される。
化合物(VII′）と式Ｈ２ＮＯＶを有する化合物との反応
は、通常、溶媒中で行なわれる。該溶媒としては、たと
えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのよ
うなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンな
どのようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシ
ドのようなスルホキシド類、スルホランのようなスルホ
ン酸、トリエチルアミン、ピリジンなどのような有機塩
基類または水、あるいはこれらの混合溶媒があげられ
る。
化合物(VII′）と式Ｈ２ＮＯＶを有する化合物で示され
るヒドロキシルアミン誘導体類との反応において、その
使用モル比は、特に限定されないが、化合物(VII′）に
対して式Ｈ２ＮＯＶを有する化合物は等モルより大過剰
でよく、好ましくは化合物(VII′）１モルに対して、式
Ｈ２ＮＯＶを有する化合物は１乃至５０モルである。式
Ｈ２ＮＯＶを有する化合物がヒドロキシルアミン誘導体
類の無機酸塩類を示すとき、反応に際しては、脱酸剤を
使用してもよく、その使用モル比は、化合物(VII′）に
対して脱酸剤は等モル以下でよい。反応温度、反応時間
などの反応条件は、用いられる原料、溶媒などにより異
なるが、通常、０乃至１００℃で、数分乃至約１０日で
ある。
式（Ｉ）中、Ｗが式＞＝Ｎ−Ｏ−Ｒ３′ａ（式中、
Ｒ３′ａは前述したものと同意義を示す。）であり、Ｚ
がイミノ基である化合物(XX)は、前述の一般式(XVI)に
おいて、Ｖが水素原子である化合物(XVIII)に、酸ハロ
ゲン化物または酸無水物のようなアシル化剤を反応させ
ることによって得られる。
上記(XVIII)または(XX)式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，
Ｒ３′ａ，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８′，Ａｒ，
Ｕ，ｎ，およびＹは前述したものと同意義を示す。なお
化合物(XX)には、たとえば下記で示されるように互変異
性体が考えられるが、便宜上、これらを単に、式(XX)と
して表わす。
Ｙが酸素原子のとき、 Ｙがイミノ基であるとき、 化合物(XVIII)と該アシル化剤との反応は、通常、溶媒
中で行なわれる。使用される溶媒としては、エーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンのような脂肪
族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルムのような
ハロゲン化炭化水素類、ピリジン、トリエチルアミンの
ような有機塩基類、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドの
ようなスルホキシド類、スルホランのようなスルホン類
および水、あるいはこれらの混合溶媒があげられる。化
合物(XVIII)とアシル化剤との割合は、特に限定はない
が化合物(XVIII)に対して等モルより過剰のアシル化剤
を用いるのが良く、好ましくは、化合物(XVIII)１モル
に対し、アシル化剤１乃至１０モルである。反応温度、
反応時間などの反応条件は用いられる原料、溶媒の種類
などによって異なるが、通常、０°乃至１００℃で、数
分乃至約２０時間である。
特に式（Ｉ）中、Ｗが式＞＝Ｎ−Ｏ−Ｒ３′ａ（式中、
Ｒ３′ａは前述したものと同意義を示す。）であり、Ｙ
とＺが共に酸素原子である化合物(XXI)は、前述の一般
式(XVII)において、特にＶが水素原子である化合物(XI
X)に、酸ハロゲン化物または酸無水物のようなアシル化
剤を反応させることによって得られる。
上記(XIX)および(XXI)式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ３′
ａ，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８′，Ａｒ，Ｕ，およ
びｎは前述したものと同意義を示す。なお化合物(XXI)
には、たとえば、下記で示されるように互変異性体が考
えられるが、便宜上、これらを単に、式(XXI)として表
わす。
化合物(XIX)と該アシル化剤との反応は、通常、溶媒中
で行なわれる。使用される溶媒としては、エーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンのような脂肪
族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルムのような
ハロゲン化炭化水素類、ピリジン、トリエチルアミンの
ような有機塩基類、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドの
ようなスルホキシド類、スルホランのようなスルホン類
および水、あるいはこれらの混合溶媒があげられる。化
合物(XIX)とアシル化剤との割合は、特に限定はない
が、化合物(XIX)に対して等モルより過剰のアシル化剤
を用いるのが良く、好ましくは、化合物(XIX)１モルに
対し、アシル化剤１乃至１０モルである。反応温度、反
応時間などの反応条件は用いられる原料、溶媒の種類な
どによって異なるが、通常、０°乃至１００℃で、数分
乃至約２０時間である。
特に式（Ｉ）中、Ｗがメチレン基またはカルボニル基で
あり、Ｕがメチレン基であり、Ｒ３，Ｒ８およびＲ９の
少なくとも１個が置換されていてもよいアルキル基、特
に前述した置換アルキル基であり、ＹとＺがともに酸素
原子である化合物は、以下に示す３段階の工程で製造す
ることができる。
第１段目の工程は、Ｒ３，Ｒ８およびＲ９の少なくとも
１個が前述したアルコキシカルボニル基若しくはアシル
オキシ基で置換されていてもよいアルキル基である化合
物を製造する工程である。
本工程の反応は、Ｒ３，Ｒ８およびＲ９がともに水素原
子である化合物(IV′Ｈ） （式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ａｒ，
Ｗ１およびｎは前述したものと同意義を示す。）を好ま
しくは塩基の存在下でアルキルハライド〔該アルキル基
は、前述したアルコキシカルボニル基若しくはアシルオ
キシ基で置換されていてもよく、ハライドは好適にはプ
ロミドである。〕と反応させることによって達成され
る。反応終了後、通常の方法、例えばカラムクトマトグ
ラフィーまたは分取用薄層クロマトグラフィーによっ
て、生成物の分離を行ない、所望の化合物を得ることが
できる。
本工程の反応は通常溶媒中で行なわれる。該溶媒として
は、たとえばエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどのエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、シク
ロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロリ
ド、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類、メタノ
ール、エタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールなどのアルコ
ール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど
のアミド類、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシ
ド類、スルホランのようなスルホン類、ピリジン、トリ
エチルアミンなどの有機酸基、水およびこれらの溶剤の
混合溶剤があげられる。
使用される塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどのアル
カリ金属炭酸塩若しくは重炭酸塩、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化カルシウムなどの水酸化アルカ
リ金属若しくはアルカリ土類金属、水酸化ナトリウム、
水素化カリウムなどの水素化アルカリ金属、ナトリウム
メトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ
−ブトキシなどのアルカリ金属アルコキシド、ブチルリ
チウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムなどの有機リチウム
化合物、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジシ
クロヘキシルアミドなどのリチウムジアルキルアミド、
ピリジン、トリエチルアミンなどの有機塩基があげられ
るが、好適には炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸
塩である。
原料化合物(IV′Ｈ）とアルキルハライドの割合は原料
化合物１モルに対し、アルキルハライド１〜１０モルで
あり、原料化合物と塩基の割合は原料化合物１モルに対
し、塩基１〜１０モルである。反応温度、反応時間など
の反応条件は用いられる原料、アルキルハライド、溶媒
の種類によって異なるが、通常１０乃至１００℃で、数
分乃至数日である。
なお、本工程の反応において、６位のフェノール性水酸
基をアシル基などの保護基で保護した化合物を用いるこ
とによって、Ｒ８および／またはＲ９にアルキル基を導
入し、反応生成物より常法に従って保護基を除去し、目
的の化合物を得ることができる。
第２段目の工程は、所望により行なわれる反応であり、
Ｒ３，Ｒ８およびＲ９の少なくとも１個が前述したカル
ボキシ基若しくは水酸基で置換されているアルキル基で
ある化合物を製造する工程である。
本工程の反応は、第１段目の工程で得られたＲ３，Ｒ８
およびＲ９の少なくとも１個が対応するアルコキシカル
ボニル基若しくはアシルオキシ基で置換されているアル
キル基である化合物を、たとえば酸性若しくは塩基性加
水分解反応または酸性オレフィン脱離反応、好ましくは
酸性加水分解反応または酸性オレフィン脱離反応に付す
ることによって達成される。
酸性加水分解反応の反応条件は、常法、たとえば特開昭
５８−１５８３７５号明細書に示した６位フェノール性
水酸基のエステルまたはチアゾリジン環２位のイミノ基
の加水分解反応条件と同様である。
塩基性加水分解反応の反応条件は、常法、たとえば前記
公開明細書に示したα−ハロゲノカルボン酸類に関する
加水分解および加溶媒分解反応条件と同様である。
酸性オレフィン脱離反応は、好ましくはアルコキシカル
ボニル基がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である場合
に行なわれるものであるが、無機若しくは有機の酸の存
在下で達成される。
本工程の反応は、常法に従って無水条件下で有機溶媒中
で行なわれる。使用される溶剤としては前記第１段目の
工程であげたものと同様であるが、好適にはジオキサン
のようなエーテル類である。
使用される酸としては、塩化水素酸、硫酸、リン酸など
の鉱酸、酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸、メタン
スルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸などのスルホン酸
があげられるが、好適には塩化水素酸のような鉱酸であ
る。反応温度、反応時間などの反応条件は、通常０乃至
１００℃で数分乃至２４時間である。
第３段目の工程は、所望により行なわれる反応であり、
Ｒ３，Ｒ８およびＲ９の少なくとも１個が前述したアル
コキシカルボニル基若しくはアシルオキシ基で置換され
ているアルキル基である化合物を製造する工程である。
本工程の反応は、第２段目の工程で得られたＲ３，Ｒ８
およびＲ９の少なくとも１個が対応するカルボキシ基若
しくは水酸基で置換されているアルキル基である化合物
を、通常のエステル化反応の条件に従って処理すること
によって達成される。
式（Ｉ）中、Ｗがメチレン基またはカルボニル基であ
り、Ｕがメチレン基であり、Ｒ３およびＲ８が水素原子
であり、Ｒ９が前述した置換されていてもよいアルキル
基であり、ＹとＺがともに酸素原子である化合物は、前
述した化合物(IV′Ｈ）の選択的アルキル化反応によっ
て得ることができる。本反応の反応条件は前述したアル
キル化反応において、原料化合物とアルキルハライドの
割合は原料化合物１モルに対し、アルキルハライド１〜
５モル、好ましくは１〜３モルであり、反応温度および
反応時間は０乃至１００℃で、３０分乃至３時間であ
る。
式（Ｉ）中、Ｗがメチレン基またはカルボニル基であ
り、Ｕがメチレン基であり、ＹとＺがともに酸素原子で
あって、（ａ）Ｒ８が水素原子であり、Ｒ３およびＲ９
が前述した置換されていてもよいアルキル基（ジアルキ
ル置換体）であるか、あるいは（ｂ）Ｒ３，Ｒ８および
Ｒ９が置換されていてもよいアルキル基（トリアルキル
置換体）である化合物は、前述した化合物(IV′Ｈ）の
選択的アルキル化反応によって得ることができる。本反
応の反応条件は、前述したアルキル化反応において、原
料化合物とアルキルハライドの割合は原料化合物１モル
に対し、アルキルハライド３〜６モルであり、反応温度
および反応時間は１５乃至４０℃で、５時間乃至２日間
である。反応生成物はさらに、クロマトグラフィーなど
の分離法を用いて精製することができる。
式（Ｉ）中、Ｗがメチレン基またはカルボニル基であ
り、Ｕがメチレン基であり、Ｒ３およびＲ９が水素原子
であり、Ｒ３がＲ３′ｂ〔式中、Ｒ３′ｂはＲ３の定義
より水素原子およびアシル基を除き、かつ、置換されて
いてもよいアルキル基の置換基が前述したものと同意義
を有するアルコキシカルボニル基若しくはアシルオキシ
基を示す。〕であり、ＹがＺがともに酸素原子である化
合物(IVa)は、以下に示すように、対応するハロゲノカ
ルボン酸誘導体(IIa)とチオ尿素を反応させ、ついで加
水分解反応を付することによって得られる。
上記式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３′ｂ，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，
Ｒ７，Ａｒ，Ｗ１，ｎ，ＡおよびＸは前述したものと同
意義を示す。
本工程の反応は、前述した化合物(II)とチオ尿素との反
応、ついで得られた２−イミノ化合物(III)の加水分解
反応と同様に実施されるが、該イミノ基の加水分解反応
において使用される溶媒がアルコール類である場合に
は、置換基Ｒ３′ｂがエステル残基を有するとき、該溶
媒アルコールとエステル交換を起してもよく、たとえば
２−メトキシエタノールを用いる場合、目的化合物(I
Va)のＲ３′ｂは２−メトキシエトキシカルボニルアル
キル基を示してもよい。
化合物(IVa)は、前述した第２段目の工程により、置換
基Ｒ３′ｂがカルボキシ基若しくは水酸基で置換されて
いるアルキル基である化合物に導くことができる。
本製法における原料化合物(IIa)は、たとえば後述する
Ａ法の化合物(II)（Ｗ：＞ＣＨ２）あるいはＤ法の化合
物(II)（Ｗ：＞＝Ｏ）に対応する化合物であるが、以下
に示すアルキル化反応に従って、化合物（３′）あるい
は（１２′）を製造し、以下、Ａ法あるいはＤ法に従っ
て得ることができる。
すなわち、６−ヒドロキシ−２−（４−ニトロフェノキ
シアルキル）クロマンで代表されるクロマン類（３Ｈ）
または（１２Ｈ）に対し、後述するＡ−２工程における
メトキシメチルハライドのような、置換されていてもよ
いアルキルハライドとして、アルコキシカルボニルメチ
ルハライドのような、置換されていてもよいアルキルハ
ライドを反応せしめることによって、本発明における出
発物質（３′）または（１２′）の製造が達成される。
上記式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３′ｂ，Ｒ４，Ｒ５，Ａｒ，
Ｗ１，ｎおよびＸは前述したものと同意義を示す。
本工程の反応は前述したアルキル化反応の反応条件と同
様である。
式（Ｉ）中、Ｗがヒドロキシメチレン基であり、ＹとＺ
がともに酸素原子であり、Ｒ３，Ｒ８およびＲ９の少な
くとも１個が置換されていてもよいアルキル基である化
合物は、上述のアルキル化反応によって得られたＷがカ
ルボニル基である化合物を還元することによって得るこ
とができる。その反応条件は前述した化合物(VII)の還
元による化合物(VIII)の製造と同様である。
式（Ｉ）中、Ｗが＞＝Ｎ−ＯＶ基であり、ＹおよびＺが
ともに酸素原子であり、Ｒ３，Ｒ８およびＲ９の少なく
とも１個が置換されていてもよいアルキル基である化合
物は、上述のアルキル化反応によって得られたＷがカル
ボニル基である化合物を式Ｈ２Ｎ−ＯＶ（式中、Ｖは前
述したものと同意義を示す。）を有するヒドロキシルア
ミン誘導体と反応させることによって得ることができ
る。その反応条件は前述した化合物(VII′）とＨ２Ｎ−
ＯＶとの反応と同様である。
式（Ｉ）中、Ｗが＞＝ＮＯＲ３′ａ基であり、Ｙおよび
Ｚがともに酸素原子であり、Ｒ３，Ｒ８およびＲ９の少
なくとも１個が置換されていてもよいアルキル基である
化合物は、上述のオキシム化反応によって得られたＷが
＞＝Ｎ−ＯＨ基である化合物を常法に従ってアシル化す
ることによって得ることができる。その反応条件は、前
述した化合物(XVIII)のアシル化による化合物(XX)の製
造と同様である。
式（Ｉ）中、Ｗが＞＝ＣＨ−ＯＲ３′ａ基であり、Ｙお
よびＺがとれに酸素原子であり、Ｒ３，Ｒ８およびＲ９
の少なくとも１個が置換されていてもよいアルキル基で
ある化合物は、上述の還元反応によって得られたＷがヒ
ドロキシメチレン基である化合物を常法に従ってアシル
化することによって得ることができる。その反応条件
は、前述した化合物(VIII)のアシル化による化合物
（Ｘ）の製造と同様である。
式（Ｉ）中、ＷとＵで炭素・炭素二重結合を形成し、Ｙ
およびＺがともに酸素原子であり、Ｒ３，Ｒ８およびＲ
９の少なくとも１個が置換されていてもよいアルキル基
である化合物は、上述の反応によって得られたＷがヒド
ロキシメチレン基であるいは＞ＣＨ−ＯＲ３′ａ基であ
る化合物よりそれぞれ水あるいはＲ３′ａＯＨを脱離す
ることによって得ることができる。その反応条件は前述
した化合物(VII)の脱水反応あるいは化合物（Ｘ）のＲ
３′ａＯＨの脱離反応による化合物(XII)の製造と同様
である。
本工程の反応によって得られたＷとＵで炭素・炭素二重
結合を形成している化合物を水素添加することによって
Ｗがメチレン基である対応する化合物を得ることができ
る。その反応条件は前述した化合物(XII)の水素添加に
よる化合物(IV)の製造と同様である。
式（Ｉ）中、Ｗがカルボニル基を示し、ＵがＲ１ととも
に二重結合を示し、ＹとＺがともに酸素原子であり、Ｒ
８およびＲ９が水素原子でありＲ３がＲ３′ｂであり、
ＹとＺがともに酸素原子である化合物(XVa)は、対応す
るハロゲノカルボン酸誘導体(XIIIa)とチオ尿素を反応
させ、ついで反応生成物を加水分解することによって得
られる。本工程の原料化合物(XIIIa)は、後述するＨ法
に準じて製造することができ、目的化合物(XVa)を製造
する反応条件は前述した化合物(XIII)のチオ尿素との反
応、ついで加水分解による化合物(XV)の製造と同様であ
る。
式（Ｉ）中、Ｗがカルボニル基を示し、ＵがＲ１ととも
に二重結合を示し、ＹおよびＺがともに酸素原子であ
り、Ｒ３，Ｒ８およびＲ９の少なくとも１個が置換され
ていてもよいアルキル基である化合物は、Ｒ３，Ｒ８お
よびＲ９がともに水素原子である化合物(XV′Ｈ） （式中、Ｒ２，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ａｒおよびｎ
は前述したものと同意義を示す。） を塩基の存在下でアルキルハライドと反応させることに
よって達成される。その反応条件は、前述した化合物(X
V′Ｈ）のアルキル化反応の場合と同様である。
式（Ｉ）中、Ｗが＞＝Ｎ−ＯＶ基または＞＝Ｎ−Ｏ
Ｒ３′ａ基であり、ＵがＲ１とともに二重結合を示し、
ＹおよびＺがともに酸素原子であり、Ｒ３，Ｒ８および
Ｒ９の少なくとも１個が置換されたアルキル基である化
合物は、上記の反応によって得られたＷがカルボニル基
である化合物より、前述したオキシム化反応およびその
アシル化反応によって得ることができる。
上記の各反応によって得られたＲ３，Ｒ８およびＲ９の
少なくとも１個がカルボキシ基若しくはアルコキシカル
ボニル基で置換されたアルキル基を有する化合物または
その反応性誘導体を用いて、常法に従ってアミド化反応
を行なうことによって、置換基Ｒ３，Ｒ８およびＲ９の
少なくとも１個が対応する置換若しくは非置換のカルバ
モイル基で置換されたアルキル基である化合物を得るこ
とができる。
式（Ｉ）中、Ｗが式＞＝Ｎ−ＯＶ（式中、Ｖは前述した
ものと同意義を示す。）あるいは式＞＝Ｎ−ＯＲ３′ａ
（式中、Ｒ３′ａは前述したものと同意義を示す。）で
あるいわゆるオキシム型、オキシムエーテル型、ならび
にオキシムエステル型に属する化合物は、アンチ型であ
ってもシン型であってもよく、いずれの異性体も本発明
の化合物に包含される。
該オキシム型に属する化合物もまた、常法に従った塩と
することができ、その塩が陽イオンの塩である場合は陽
イオンとして、ナトリウム、カリウムのようなアルカリ
金属イオン、カルシウムのようなアルカリ土類金属イオ
ン、アンモニウムのような三価の金属イオンなどがあげ
られる。
前記一般式（Ｉ）において、Ｗがメチレン基、カルボニ
ル基、式＞＝Ｎ−ＯＶ基（式中、Ｖは前述と同意義を示
す。）式＞＝Ｎ−Ｏ−Ｒ３′ａ基（式中、Ｒ３′ａは前
述と同意義を示す。）またはＷがＵと共に炭素・炭素二
重結合を形成するとき、式（Ｉ）によって示されるチア
ゾリジン誘導体においてクロマン環の２位のおよびチア
ゾリジン環の５位の炭素原子はそれぞれ不斉炭素原子で
あり、それらに基づく各異性体もまた本発明の化合物に
包含される。
また、式（Ｉ）中、Ｗが式＞ＣＨ−ＯＲ３′〔Ｒ３′は
前述したものと同意義を示す。〕を示すとき、式（Ｉ）
によって示されるチアゾリジン誘導体において、クロマ
ン環の２位、４位およびチアゾリジン環の５位の炭素原
子はそれぞれ不斉炭素原子であり、それらに基づく各異
性体もまた本発明の化合物に包含される。
また、式（Ｉ）中、Ｗがカルボニル基、式＝Ｎ−ＯＶ基
若しくは式＝Ｎ−Ｏ−Ｒ３′ａ基（式中およびＲ３′ａ
は前述と同意義を示す。）を示し、ＵがＲ１と共に二重
結合を示すチアゾリジン誘導体において、チアゾリジン
５位の炭素原子は不斉炭素原子であり、それに基づく異
性体もまた本発明の化合物に包含される。
以上の反応によって得られたチアゾリジン誘導体（Ｉ）
は公知の分離、精製手段、たとえば濃縮、減圧濃縮、溶
媒抽出、晶出再結晶、転溶、クロマトグラフィー、さら
に光学分割法などによって単離精製することが可能であ
る。
本発明の前記一般式（Ｉ）で表わされる目的化合物を製
造する際の原料化合物であるα−ハロゲノカルボン酸誘
導体類(II)は、例えば以下の方法によって製造すること
ができる。
Ａ法 Ａ法はすでに本発明者らによって、特願昭５８−１５８
３７５号（前号１と略す）に詳述された方法と同等のも
のであり、一般式(II)においてＷがメチレン基である化
合物を製造するのに有利に使用される。一般式(II)にお
いて、Ｗ１がメチレン基である化合物を(II)(W1:CH2)で
示す。
上記式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，
Ｒ７，Ｒ８′，Ａｒ，ｎ，ＸおよびＡは前述したものと
同意義を示し、Ｒ12は水酸基の保護基を示し、ｍは０乃
至９の整数を示す。
Ａ−１ Ａ−１工程は還元工程であり、前号１に示したものと本
質的に同等である。
Ａ−２ Ａ−２工程もまた前号１に示したもと本質的に同等であ
る。Ａ−１工程で得られたクロマンアルコール類（２）
は、Ａｒ（Ａｒは前述したものと同意義を示す。）にニ
トロ基を有するクロマン類（３）に導かれる。該反応に
先立ちフェノール性水酸基を保護することが好ましく、
水酸基の保護基Ｒ12としては、たとえば、メトキシメチ
ル、２−テトラヒドロピラニル、メトキシカルボニルメ
チル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルなどのよう
な置換されていてもよいアルキル基が好ましい。保護さ
れたフェノール性水酸基を有するクロマンアルコール類
は、単離することもできるが、単離することなく、式Ｘ
−（Ａｒ）−ＮＯ２を有する化合物（該化合物中、Ａｒ
およびＸは前述と同意義を表わす。）と反応させ、Ａｒ
にニトロ基を有するクロマン類（３）に導かれる。
Ａ−３ Ａ−３工程もまた前号１に示されたものと本質的に同等
である。Ａ−２で得られたニトロ体（３）は、対応する
アミノ体（４）に還元される。該還元反応に際して、該
ニトロ体（３）のフェノール性水酸基の保護基Ｒ12はそ
のままでもよいが、脱保護してもよく、さらに他の基、
たとえばアセチル基、ベンゾイル基のようなアシル基に
変えてもよく、アシル基に変えることが好ましい。化合
物（３）の脱保護をおこなう場合、脱保護工程は（３）
を低濃度の酸の存在下に加水分解することによって達成
される。化合物（３）の保護基をアシル基などに変える
場合、該アシル化は上記加水分解によって脱保護された
化合物をさらにアセチルクロリド、ベンゾイルクロリド
のような酸ハライド類、無水酢酸のような酸無水物類で
示されるアシル化剤で処理することによって達成され
る。ニトロ体（３）からアミノ体（４）への還元反応と
しては、接触還元あるいは亜鉛、鉄などの金属と酸（た
とえば、塩酸、硫酸などの鉱酸、あるいは酢酸などの有
機酸）による還元があげられるが、好ましくは接触還元
があげられる。
Ａ−４ Ａ−４工程もまた、前号１に示したものと本質的に同等
である。
Ａ−４工程において、Ａｒ（Ａｒは前述と同意義を示
す。）にアミノ基を有するクロマン類（４）をジアゾ化
し、ついでメインバイン アリーレイション(Meerwein
Arylation)をおこなうことによって、本発明における目
的化合物（Ｉ）の原料である。α−ハロゲノカルボン酸
誘導体類(II)(W:CH2)の製造が達成される。該反応は塩
酸、臭素水素酸などの存在下、亜硫酸ソーダなどの亜硝
酸塩類で、ジアゾ化し、ついで、アクリル酸、アクリル
酸メチル、アクリル酸エチルのようなアクリル酸エステ
ル類、クロトン酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリ
ロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル酸アミド、
メタクリル酸アミドなどの一般式Ｒ６Ｒ７Ｃ＝ＣＲ８′
Ａ（式中、Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８，およびＡは前記したもの
と同意義を示す。）で示されるアクリル酸誘導体、もし
くはアクリル酸同族体、（ここにおいて、Ｒ６あるいは
Ｒ７は好ましくは水素原子；Ｒ８′は好ましくは水素原
子またはメチル基、特に水素原子を示す。）の存在下
に、触媒量の塩化第一銅、酸化第一銅などの第一銅塩類
を作用せしめることによって開始する。アクリル酸誘導
体としてはアクリル酸エステル類が好ましく、第一銅塩
類としては酸化第一銅が好ましい。該反応の溶媒として
は、メタノール、エタノールのようなアルコール類、ア
セトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、水、お
よびこれらの混合物があげられる。アミノ体（４）とア
クリル酸誘導体の割合は、化合物（４）１モルに対し
て、アクリル酸誘導体類１〜１５モル、好ましくは５〜
１０モルである。化合物（４）と第一銅塩類との割合は
化合物（４）１モルに対し、第一銅塩類０．０１〜１モ
ルであり、好ましくは０．０３〜０．３モルである。反
応温度、反応時間は、用いられる原料、溶媒などにより
異なるが、通常、室温乃至１００℃で約１０分乃至約２
０時間、好ましくは４０乃至６０℃で３０分乃至２時間
である。
Ｂ法 Ｂ法もまた、一般式(II)においてＷがメチレン基である
化合物を合成するのに有利に使用される。
クロマンアルコール類（２）において、特にｎが２であ
る化合物は、例えばジャーナル・オブ・アメリカン・オ
イル・ケミスツ・ソサイアティ５１巻，２００頁（１９
７４）〔J.Am.Oil Chemist′s Soc.,51,200 (1974)〕に
記載された方法で、ハイドロキノン類（５）より多段階
を経て製造することができるが、特開昭５８−２０１７
７５号に示された方法に準じて、１段階で製造すること
も可能である。上記反応式中、Ｒ１Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，
およびＲ５は前述したものと同意義を示す。以後Ａ−２
工程以下の方法に準じた、数段階に渡る方法を用いるこ
とによって、α−ハロゲノカルボン酸誘導体類(II)(W:C
H2)の合成が達成される。
Ｃ法 Ｃ法もまた、一般式(II)においてＷおよびＵがメチレン
基である化合物を合成するのに有利に使用される。
本法はジャーナル・オブ・メディシナルケミストリー
１８，９３４頁（１９７５）〔J.Med.Chem.,18,934(197
5)〕に記載された方法に準じたものであり、クロマン環
２位にＲ１′（Ｒ１′は、前述したＲ１の定義から水素
原子を除外したものを示す）を導入するのに、有利に用
いることができる。
上記式中、Ｒ１′，Ｒ２，Ｒ４，Ｒ５，およびＲ12は前
述したものと同意義を示し、Ｂ１はカルボン酸の保護基
たとえば、アルキル、アルケニル、アルキニル、アラル
キル基、置換されていてもよいフェニル基を、好ましく
は低級アルキル基を示すが、特に保護を必要とせぬ場合
は水素原子を示してもよい。
Ｃ−１乃至Ｃ−４ Ｃ−１工程乃至Ｃ−４工程は上記文献に記載された方法
と本質的に同等である。
Ｃ−５ Ｃ−５工程は必要に応じてなされる、フェノール性水酸
基を保護する工程であるが、Ｃ−６工程に先立ちフェノ
ール性水酸基を保護することが好ましい。水酸基を保護
する場合その保護基Ｒ12としては、通常のフェノール性
水酸基の保護基たとえば、メトキシメチル、２−テトラ
ヒドロピラニルなどのようなアルコキシアルキル基もし
くは置換していてもよいベンジル基が、また、アセチ
ル、ベンゾイルのようなアシル基が挙げられるが、アル
コキシアルキル基が好ましい。保護基を導入する反応
は、通常、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化
カルシウムのような水素化アルカリもしくはアルカリ土
類金属、また、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエ
トキサイド、カリウムターシャリーブトキサイドのよう
なアルカリ金属のアルコラートなどの塩基の存在下、ク
ロロメチルメチルエーテルのようなアルコキシアルキル
化剤、もしくはベンジルハライドのようなアルキル化剤
を用いることによって達成される。該反応において、溶
媒としては、たとえばジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンセン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサ
ン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジ
メチルスルホキシドのようなスルホキシド類、スルホラ
ンのようなスルホン類などがあげられる。化合物（９）
と該アルキル化剤との割合は、特に限定しないが、
（９）に対してやや過剰の該アルキル化剤を用いるのが
有利である。好ましくは化合物（９）１モルに対して、
該アシル化剤は１乃至２モルである。反応温度、反応時
間などの反応条件は、用いられる原料、溶媒などにより
異なるが、通常反応は０乃至５０℃、好適には１０乃至
２５℃で、数分乃至数時間行なわれる。このようにして
保護されたクロマンカルボン酸誘導体類は、単離するこ
ともできるが、単離することなく、Ｃ−６工程において
クロマン環２位のアルキル化反応に使用することができ
る。
Ｃ−６ Ｃ−６工程は、所望に応じて、クロマン環６位に保護さ
れた水酸基、同環２位にＲ１′を有するクロマンカルボ
ン酸誘導体類（１１）を製造する工程で、クロマン環６
位に保護された水酸基を有するクロマンカルボン酸（１
０）を不活性溶媒中、塩基と処理し、反応液中にカルバ
ニオンを発生させた後、一般式Ｒ１′−Ｘ′（式中、Ｒ
１′は前述したものと同意義を示し、Ｘ′は塩素、臭
素、沃素のようなハロゲン原子又はメタンスルホニルオ
キシ、エタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオ
キシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシのようなスルホニ
ルオキシ基を示す。）を有する化合物を反応させること
によって達成される。使用される塩基としては、例え
ば、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｔ−ブチル
リチウム、フェニルリチウムのような有機リチウム化合
物；リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロ
ヘキシルアミド、リチウムイソプロピル シクロヘキシ
ルアミドなどのようなリチウムジアルキルアミド類；ま
たは、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムなどのような水素化アルカリ金属類をあげることが
できるが、好適には有機リチウム化合物、またはリチウ
ムジアルキルアミド類である。
使用される不活性溶剤としては反応に関与しなければ特
に限定されないが、例えば、エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類をあげることがで
きる。
反応温度は前段のアニオンの発生では、−７８℃乃至室
温であり、後段のアニオンとＲ１′−Ｘ′との反応で
は、０℃乃至６０℃であり、反応に要する時間は前段で
は３０分間乃至２時間であり、後段では１時間乃至２４
時間である。
以後、Ａ−１工程以下の方法に準じた方法を逐次用いる
ことによってα−ハロゲノカルボン酸誘導体類(II)(W:C
H2)の製造が達成される。
なお、所望に応じて、Ｒ１が水素原子であるクロマンカ
ルボン酸類（１０）を用い、Ｃ−６工程を経由すること
なく、直接にＡ−１工程に準じた反応並びに以降の各反
応を実施することにより、Ｒ１が水素原子であるα−ハ
ロゲノカルボン酸誘導体類(II)(W:CH2)の製造が達成さ
れる。
Ｄ法 Ｄ法はすでに本発明者らによって、特開昭６１−３６２
８４号（前号２と略す）に詳述された方法と同等のもの
であり、一般式(II)において、Ｗがカルボニル基である
化合物〔(II)(W:>=0)と表わす。〕を製造するのに有利
に使用される。
上記式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，
Ｒ７，Ｒ８′，Ａｒ，ｎ，ＸおよびＡは前述したものと
同意義を示す。
Ｄ−１およびＤ−２ Ｄ−１およびＤ−２工程は前号２に示したものと本質的
に同等である。
Ｄ−３ Ｄ−３工程は、前述したＡ−４工程に相当するものであ
り、Ａ−４工程と同様にして達成される。
Ｅ法 Ｅ法は一般式(II)においてＷがカルボニル基であり、か
つクロマン環の２位に置換基Ｒ１′（Ｒ１′は前述と同
意義を示す。）を有する化合物を製造するのに有利に使
用される。
本法は、先のＣ−３工程で得られたクロモンカルボン酸
類（８）を、Ｃ−４工程において使用した条件よりも緩
和な条件で、２位と３位の炭素原子が形成する二重結合
のみを還元（Ｅ−１）する工程；ならびにＥ−２乃至Ｅ
−７の各工程；によって構成される。
式中、Ｒ１′，Ｒ２，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ12，ＡｒおよびＢ
１は前述と同意義を示し、Ｂ２は保護されたカルボニル
基を示す。以下各工程について詳述する。
Ｅ−１ Ｅ−１工程はクロモンカルボン酸類（８）より４−オキ
ソクロマンカルボン酸類（１４）を得る工程である。還
元方法としては、接触還元が用いられる。接触還元に用
いられる触媒はパラジウム−炭素、ラネ−ニッケル、酸
化白金などがあげられるが、好ましくは、パラジウム−
炭素である。水素圧は１気圧乃至１００気圧であるが、
１気圧乃至６気圧が好ましい。溶媒としては、メタノー
ル、エタノールのようなアルコール類、ベンゼン、トル
エンのような芳香族炭化水素類、テトラヒドロフランの
ようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミドのようなアミド類、酢酸のような有機酸類、
水およびこれらのものの混合物があげられるが、アミド
類が好ましい。反応温度、反応時間などの反応条件は用
いられる原料、溶媒によって異なるが、通常室温乃至５
０℃、好ましくは室温乃至４０℃で、数分乃至数日、好
ましくは、約３０分乃至約２０時間である。
Ｅ−２ Ｅ−２工程は４−オキソクロマンカルボン酸類（１４）
のカルボニル基を、所望により、保護する工程である
が、Ｅ−４工程による、クロマン環２位のアルキル化反
応に先立ち該保護を行なうことが望ましい。保護基とし
ては通常のカルボニル基の保護基であれば特に限定はな
く、該オキソ化合物を、たとえば、エノールエーテル
類、あるいはエノールエステル類のような保護されたエ
ノール類に変換してもよいが、環状もしくは非環状のケ
トンアセタール環、もしくはケトンジチオアセタール類
に変換してもよく、ケトンジチオアセタール類への変換
が好ましい。保護されたカルボニル基を有するクロマン
カルボン酸類（１５）〔式中、Ｒ２，Ｒ４，Ｒ５，およ
びＢ１は前述と同意義を示し、Ｂ２は式−Ｂ３−Ｂ４−
Ｂ３−を示し、Ｂ３は酸素原子もしくは硫黄原子、好ま
しくは硫黄原子を示し、Ｂ４はたとえば式−（ＣＨ２）
２−，式−（ＣＨ２）３−，式−（ＣＨ２）４−もしく
は式CH2−CH＝CH−CH2−(cia)、好ましくは式−（ＣＨ
２）２−もしくは式−（ＣＨ２）３−特に式−（Ｃ
Ｈ２）３−を示す。〕の製造は、通常、４−オキソクロ
マンカルボン酸類（１４）と、エチレングリコール、
１，３−プロパンジオール、１，２、−エタンジチオー
ル、１，３−プロパンジチオールあるいはｃｉｓ−２−
ブテン−１，４−ジオールのようなＨ−B3−B4−B3−Ｈ
（式中、Ｂ３，Ｂ４は前述と同意義を示す。）で表わさ
れる化合物、好ましくは１，３−プロパンジチオールと
を触媒の存在下もしくは非存在下に脱水反応させること
によって達成される。該触媒としては三フッ化ホウ素、
そのエーテル錯塩、その酢酸錯塩、塩化アルミニウムの
ようなルイス酸類；もしくは塩酸、硫酸のような無機酸
類；酢酸、コハク酸、フマール酸、マレイン酸、パラト
ルエンスルホン酸、またはメタンスルホン酸のような有
機酸類があげられるが、ルイス酸が好ましく、、特に三
フッ化ホウ素の酢酸錯塩が好ましい。溶媒は使用しなく
ても良いが、溶媒を使用する場合には、該溶媒としてベ
ンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類、クロロホ
ルム、ジクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素類
を、好ましくはクロロホルムのようなハロゲン化炭化水
素類をあげることができる。化合物（１４）とＨ−B3−
B4−B3−Ｈとの割合は特に限定はないが、化合物（１
４）に対して等モルよりやや過剰のＨ−B3−B4−B3−Ｈ
を使用するのがよい。好ましくは化合物（１４）１モル
に対して、式Ｈ−B3−B4−B3−Ｈを有する化合物１乃至
２モルである。化合物（１４）と触媒との割合は特に限
定はないが、化合物（１４）１モルに対して、触媒１乃
至４モルである。反応温度、反応時間などの反応条件は
用いられる原料、溶媒の種類によって異なるが、通常０
℃〜１００℃好ましくは１０°乃至４０℃で、数分乃至
数日、好ましくは１時間乃至３０時間である。
Ｅ−３ Ｅ−３工程は、クロマン環４位に、保護されたカルボニ
ル基を有するクロマンカルボン酸類（１５）の同環６位
のフェノール性水酸基を、必要に応じて保護する工程で
ある。Ｅ−４工程によるクロマン環２位のアルキル化反
応に先立ち該保護を行なうことが好ましい。水酸基の保
護基Ｒ12としては、通常のフェノール性水酸基の保護
基、たとえば、メトキシメチル、２−テトラヒドロピラ
ニル、メトキシカルボニルメチル、ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチルなどのような置換されていてもよいアルキル
基もしくは置換していてもよいベンジル基が、また、ア
セチル、ベンゾイルのようなアシル基があげられるが、
アルコキシアルキル基あるいはアルコキシカルボニルア
ルキル基が好ましい。保護基を導入する反応は、通常、
水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシウム
のような水素化アルカリもしくはアルカリ土類金属、ま
た、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイ
ド、カリウムターシャリーブトキサイドのようなアルカ
リ金属のアルコラートなどの塩基類の存在下、クロロメ
チルメチルエーテル、ブロモ酢酸メチル、ブロモ酢酸ｔ
−ブチルのようなアルキル化剤、もしくはペンジルハラ
イドのようなアルキル化剤を用いることによって達成さ
れる。該反応において、溶媒としては、たとえばジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エーテル類、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水
素類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドのようなス
ルホキシド類、スルホランのようなスルホン類があげら
れる。化合物（１５）と該アルキル化剤との割合は、特
に限定しないが、（１５）に対して等モルよりやや過剰
の該アルキル化剤を用いるのがよく、好ましくは（１
５）１モルに対して、該アルキル化剤は１乃至２モルで
ある。反応温度、反応時間などの反応条件は、用いられ
る原料、溶媒などにより異なるが、通常反応は０乃至５
０℃で、数分乃至数時間行なわれる。このようにして保
護されたクロマンカルボン酸類（１６）は単離すること
もできるが単離することなくＥ−４工程で使用すること
もできる。
Ｅ−４ Ｅ−４工程は、所望に応じて、クロマン環６位に保護さ
れた水酸基、同環４位に保護されたカルボニル基、同環
２位にＲ１′を有するクロマンカルボン酸類（１７）を
製造する工程で、クロマン環６位に保護された水酸基、
同環４位に保護されたカルボニル基を有するクロマンカ
ルボン酸類（１６）を不活性溶媒中、塩基と処理し、反
応液中にカルバニオンを発生させた後、一般式Ｒ１′−
Ｘ′（式中、Ｒ１′は前述したものと同意義を示し、
Ｘ′は塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子又はメタ
ンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、ベンゼ
ンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシの
ようなスルホニルオキシ基を示す。）を有する化合物を
反応させることによって達成される。使用される塩基と
しては、例えば、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウ
ム、ｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウムのような有
機リチウム化合物；リチウムジイソプロピルアミド、リ
チウムジシクロヘキシルアミド、リチウムイソプロピ
ル、シクロヘキシルアミドなどのようなリチウムジアル
キルアミド類；または、水素化リチウム、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウムなどのような水素化アルカル金属
類をあげることができるが、好適には有機リチウム化合
物、またはリチウムジアルキルアミド類である。
使用される不活性溶媒としては反応に関与しなければ特
に限定されないが、例えば、エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類をあげることがで
きる。
反応温度は前段のアニオンの発生では、−７８℃乃至室
温であり、後段のアニオンとＲ１′−Ｘ′との反応で
は、０℃乃至６０℃であり、反応に要する時間は前段で
は３０分間乃至２時間であり、後段では１時間乃至２４
時間である。
なお、所望に応じて、Ｒ１が水素原子であるクロマンカ
ルボン酸類（１６）を用い、Ｅ−４工程を経由すること
なく、直接にＥ−５工程に準じた還元反応並びに以降に
示した各反応を実施することにより、Ｒ１が水素原子で
あるα−ハロゲノカルボン酸誘導体類(II)(W:>=0)を製
造することができる。
Ｅ−５ Ｅ−５工程は、クロマン−２−カルボン酸類（１７）
を、Ａ−１工程に準じて、対応するアルコール類（１
８）に還元する工程であり、還元剤としては、たとえば
リチウム アルミナム ハイドライド、ビトライド（ソ
ディウム ビス〔２−メトキシエトキシ〕アルミナム
ハイドライド）などのようなハイドライド類が使用され
る。還元反応で使用される溶媒としては、たとえば、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエーテル類、ベンゼン、
トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサ
ン、ヘペタン、シクロヘキサン、石油エーテル、リグロ
イン、エチルシクロヘキサンのような脂肪族炭化水素
類、などがあげられる。
化合物（１７）と還元剤の割合は特に限定はないが、化
合物（１７）に対してやや過剰の還元剤を使用するのが
良い。好ましくは、化合物（１７）１モルに対して、１
〜２モルである。反応温度、反応時間などの反応条件は
用いられる原料、溶媒などによって異なるが、通常−５
０°乃至１２０℃で約１０分乃至約２０時間反応を行な
う。
Ｅ−６ Ｅ−６工程はＥ−５工程で得られたアルコール類（１
８）に式(Ar)−NO2基（式中、Ａｒは前述の定義と同じ
である。）を導入する工程である。該工程は化合物（１
８）に、通常、塩基たとえば、水素化ナトリウム、水素
化カルシウムのような水素化アルカリもしくはアルカリ
土類金属、また、ナトリウムメトキシサイド、ナトリウ
ムエトキサイド、カリウムターシャリーブトキサイドの
ようなアルカリ金属のアルコラート、好適には水素化ナ
トリウム、もしくはナトリウムエトキサイドを反応させ
て、化合物（１８）を対応するアルコキサイドとし、こ
れに式Ｘ−(Ar)−NO2を有する化合物（式中、Ｘ，Ａｒ
は前述したものと同意義を示す。）を反応させることに
よって達成される。該反応において、溶媒としては、た
とえばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタンのよ
うな脂肪族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシ
ドのようなスルホキシド類、スルホランのようなスルホ
ン類があげられるが、アミド類が好適に使用される。化
合物（１８）と塩基との割合は特に限定はないが、化合
物（１８）に対して、やや過剰の塩基を使用するのが良
く、好ましくは化合物（１８）１モルに対して塩基１乃
至２モルである。化合物（１８）と式Ｘ−(Ar)−NO2を
有する化合物（式中、ＸとＡｒは前述と同意義を示
す。）との割合は特に限定はないが、化合物（１８）に
対して過剰の式Ｘ−(Ar)−NO2を有する化合物を用いる
のがよく、好ましくは（１８）１モルに対して、１乃至
１０モルである。反応温度、反応時間などの反応条件
は、用いられる原料、溶媒などによって異なるが、通常
３０℃乃至１００℃で数分乃至数時間である。
本工程で得られた、クロマン環４位に保護されたカルボ
ニル基を有するニトロ化合物（１９）は、Ａ法に準じ
て、還元反応、メイルバイン アリーレイションを経
て、α−ハロゲノカルボン酸誘導体類さらに目的化合物
（Ｉ）へと段階的に変換されるが、該クロマン環４位に
関する脱保護反応は上記いずれの段階で実施してもよ
く、例えば好ましい方法の一つとして、Ｅ−７に示す工
程をあげることができる。
Ｅ−７ Ｅ−７工程は、所望に応じて、クロマン環６位に保護さ
れた水酸基、４位に保護されたカルボニル基を有するニ
トロ体（１９）の脱保護を行なう工程である。本工程に
おいては、通常４位の脱保護反応が実施されるが、やや
過激な反応条件を設定することにより、同６位の脱保護
を、同時に達成することが可能である。
脱保護剤としては、特に限定はないが、通常の脱保護
剤、たとえば塩酸、硫酸のようなプロトン酸；三フッ化
ホウ素、そのエーテル錯塩、その酢酸錯塩、塩化アンモ
ニウムのようなルイス酸；特にＢ３が硫黄原子の場合、
重金属塩類、重金属酸化物または重金属過酸化物；また
はこれらの２者もしくは３者の混合物があげられ、貴金
属イオンとしては銀、カドミウム、二価の水銀、二価の
銅、三価のタリウムがあげられ、貴金属イオンの対イオ
ンとしては、塩素、臭素、ヨウ素のようなハロゲンイオ
ン、硝酸イオン、過塩素酸イオンのような過酸化物イオ
ンがあげられ、その他ヨウ素、スルフリルクロリドのよ
うなスルフリルハライド類、Ｎ−クロロサクシンイミ
ド、Ｎ−ブロモサクシンイミドのようなＮ−ハロイミド
類があげられるが、好適には塩化第二水銀、あるいはそ
れらの混合物、特にその混合物である。使用される溶媒
としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イ
ソプロパノールのようなアルコール類、アセトン、メチ
ルエチルケトンのようなケトン類、クロロホルム、ジク
ロロメタン、ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水
素類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテ
ル類、酢酸のような有機酸類、アセトニトリルのような
ニトリル類、および水、およびこれらの混合溶媒をあげ
ることができる。
化合物（１９）と脱保護剤との割合は特に限定はなく、
通常（１９）１モルに対して脱保護剤１乃至１０モル、
好適には１乃至４モルである。反応温度、反応時間など
の反応条件は、用いられる原料および溶媒などによって
異なるが、通常室温乃至１００℃、好適には４０乃至８
０℃で、数分乃至数時間、好適には０．５乃至４時間で
ある。
以後、Ｄ−２工程以下の方法に準じた方法を逐次用いる
ことによってα−ハロゲノカルボン酸誘導体類(II)
(W:>=0)の製造が達成される。
Ｆ法 Ｆ法は、一般式(II)においてＷがメチレン基である化合
物を、Ｄ法に関する記載で述べた、クロマン環４位がカ
ルボニル基である化合物（１２）から製造するのに、有
利に使用される。
式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ３′ａ，Ｒ４，Ｒ５，Ａ
ｒ，ｎおよび(II)(W1:CH2)は前述したものと同意義を示
す。
Ｆ−１ Ｆ−１工程は、ニトロ基を有する４−オキソクロマン化
合物（１２）を、対応する４−ヒドロキシ化合物（２
１）に還元する工程である。還元剤としては、水素化ホ
ウ素ナトリウム、Ｋ−セレクトライドのような還元剤が
あげられ、特に水素化ホウ素ナトリウムが好適である。
化合物（１２）と水素化ホウ素ナトリウムとの反応は通
常溶媒中で行なわれる。該溶媒としては、たとえばメタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチ
レングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール
類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類
などがあげられる。化合物（１２）と水素化ホウ素ナト
リウムとの使用モル比は特に限定されないが、化合物
（１２）に対して過剰の水素化ホウ素ナトリウムを使用
するのがよい。好ましくは化合物（１２）１モルに対し
１〜２０モルである。反応温度、反応時間などの反応条
件は用いられる原料、溶媒などにより異なるが、通常反
応は０℃乃至１００℃で１時間乃至約２０時間である。
Ｆ−２ Ｆ−２工程は、所望に応じて、該ヒドロキシ体（２１）
をアシル化する工程である。化合物（２１）は酸ハロゲ
ン化物あるいは酸無水物のようなアシル化剤と反応させ
ることによって、目的とするアシル化物（２３）に変換
することができる。
反応は通常溶媒中で行なわれる。使用される溶媒として
は、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタ
ンのような脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロ
ホルムのようなハロゲン化炭化水素類、ピリジン、トリ
エチルアミンのような有機塩基類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類、スルホランのよ
うなスルホン類などがあげられる。
化合物（２１）とアシル化剤の割合は特に限定はない
が、化合物（２１）に対して等モルよりやや過剰のアシ
ル化剤を使用するのがよい。好ましくは化合物（２１）
１モルに対し、アシル化剤１〜１０モルである。反応温
度、反応時間などの反応条件は用いられる原料、溶媒の
種類によって異なるが、通常０乃至１００℃で、数分乃
至約２０時間である。
Ｆ−３ Ｆ−３工程は、ニトロ基を有する４−ヒドロキシクロマ
ン化合物（２１）から水を脱離させることによって２Ｈ
−クロメン類（２２）を製造する工程である。
該脱離反応は、脱水剤もしくは脱水触媒の存在下もしく
は非存在下に達成される。脱水剤もしくは脱水触媒とし
ては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸のような無機酸類、酢
酸、コハク酸、マレイン酸のような有機酸塩、パラトル
エンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、メタンスルホ
ン酸のようなスルホン酸類、塩化アンモニウム、塩化カ
ルシウムなどの無機塩類、五酸化燐、ポリ燐酸、シリカ
ゲル、アルミナ等があげられるが、酢酸などの有機酸
類、パラトルエンスルホン酸などのスルホン酸類が好適
である。
該脱離反応に際して、溶媒は使用しなくてもよいが、溶
媒を使用する場合は、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノールのようなアルコール類、アセトン、メチル
エチル ケトンのようなケトン類、エーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘ
キサン、シクロヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化
水素類、ジクロロメタン、クロロホルムのようなハロゲ
ン化炭化水素類、酢酸、プロピオン酸などの有機酸類、
ピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミ
ド類、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類、
スルホランのようなスルホン類、水などがあげられ、好
適にはベンゼンのような芳香族炭化水素類もしくは酢酸
のような有機酸類があげられる。脱水剤、もしくは脱水
触媒を使用する場合、化合物（２１）と脱水剤、もしく
は脱水触媒との割合は、特に限定はないが、通常化合物
（２１）１モルに対して該脱水剤もしくは脱水触媒は
０．０１乃至１０モル、好適には、０．１乃至３モルで
ある。反応温度、反応時間などの反応条件は用いられる
原料、溶媒の種類によって異なるが、通常０乃至１００
℃、数分乃至約２０時間である。
Ｆ−４ Ｆ−４工程は、ニトロ基を有する４−アシルオキシクロ
マン化合物（２３）から、化合物Ｒ３′ａＯＨ（Ｒ３′
ａは前述と同意義を示す。）を脱離させることによっ
て、２Ｈ−クロメン類（２２）を製造する工程である。
該脱離反応は脱酸剤もしくは脱酸触媒の存在下もしくは
非存在下に達成される。脱酸剤、もしくは脱水触媒とし
ては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸のような無機酸類、酢
酸、コハク酸、マレイン酸のような有機酸類、パラトル
エンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、メタンスルホ
ン酸のようなスルホン酸類、塩化アンモニウム、塩化カ
ルシウムなどの無機塩類、ピリジン、トリエチルアミ
ン、のような有機塩基類、シリカゲル、アルミナ等があ
げられるが、好適には酢酸などの有機酸類、パラトルエ
ンスルホン酸などのスルホン酸類があげられる。
該脱酸反応に際して、溶媒は使用しなくてもよいが、溶
媒を使用する場合は、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノールのようなアルコール類、アセトン、メチル
エチル ケトンのようなケトン類、エーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘ
キサン、シクロヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化
水素類、ジクロロメタン、クロロホルムのようなハロゲ
ン化炭化水素類、酢酸、プロピオン酸などの有機酸類、
ピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミ
ド類、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類、
スルホランのようなスルホン類、水などがあげられ、好
適にはベンゼンのような芳香族炭化水素類、もしくは酢
酸のような有機酸類があげられる。
脱酸剤もしくは脱酸触媒を使用する場合、化合物（２
３）と脱酸剤もしくは脱酸触媒との割合は、特に限定は
ないが、通常、化合物（２３）１モルに対して、該脱酸
剤もしくは脱酸触媒は０．０１モル乃至１０モル、好適
には、０．１乃至３モルである。反応温度、反応時間な
どの反応条件は用いられる原料、溶媒の種類などによっ
て異なるが、通常、０乃至１２０℃、好適には４０°乃
至１００℃で、数分乃至数日、好適には、１０分乃至１
０時間である。
Ｆ−５ Ｆ−５工程は、ニトロ基を有する２Ｈ−クロメン類（２
２）のニトロ基を還元し、かつ炭素・炭素二重結合を同
時に還元することによりアミノ基を有するクロマン類
（４）を製造する工程である。
該還元反応には接触還元法が好適に使用される。接触還
元に用いられる触媒はパラジウム−炭素、ラネ−ニッケ
ル、酸化白金などがあげられるが、好ましくは、パラジ
ウム−炭素である。水素圧は１気圧乃至１００気圧であ
るが、１気圧乃至６気圧が好ましい。溶媒としては、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、ベンゼ
ン、トルエンのような芳香族炭化水素、テトラヒロドフ
ランのようなエーテル類、酢酸のような有機酸、水およ
びこれらのものの混合物があげられる。反応温度、反応
時間は用いられる原料、溶媒によって異なるが、通常室
温乃至５０℃で数分乃至約２０時間である。
以後、Ａ−４工程によって、α−ハロゲノカルボン酸誘
導体類(II)(W：CH2)の製造が達成される。
なお、Ｆ−１，Ｆ−２，Ｆ−３，Ｆ−４，Ｆ−５，Ａ−
４および／もしくは、目的とするチアゾリジン誘導体を
製造する最終工程は順次、所望に応じて中間体（２
１），（２２），（２３），（４）および／あるいは(I
I)(W1：CH2)を単離することなく実施し得る。
また、なお、たとえばＦ法に示した工程は、示された順
序に限定されることはない。すなわち、たとえば、クロ
マン環４位がカルボニル基である化合物（１２）の有す
るニトロ基を最初に還元し、次いで、４位カルボニル基
の還元を行ないさらに脱水して２Ｈ−クロメン誘導体と
して、次いで二重結合の還元を行ないアミノ化合物
（４）とすることなどはＦ法と同等である。
Ｇ法 Ｇ法は、Ｆ法と類似的で、一般式(II)においてＷがメチ
レン基である化合物を、クロマン環４位がカルボニル基
である化合物から、製造するのに使用することができ
る。すなわち、Ｄ法、Ｅ法、およびＡ法で述べたクロマ
ン環６位の水酸基の保護基の脱保護反応、同、水酸基の
アシル化反応により製造された。Ｂ２が式−Ｓ−(CH2)p
−Ｓ−基（式中ｐは２，３，４を示す。）を示す化合物
（２４）あるいは（２６）をラネーニッケルなどのニッ
ケル触媒により、接触還元するとクロマン環４位がメチ
レン基である化合物（２５）あるいは（２７）を、それ
ぞれ得ることができる。
本反応の水素圧は１気圧乃至１００気圧であるが、１気
圧乃至６気圧が好ましい。溶媒としては、メタノール、
エタノールのようなアルコール類、ベンゼン、トルエン
のような芳香族炭化水素類、テトラヒドロフランのよう
なエーテル類、酢酸のような有機酸、水およびこれらの
ものの混合物があげられる。反応温度、反応時間は用い
られる原料、溶媒によって異なるが、通常室温乃至５０
℃で数分乃至約２０時間である。
Ｈ法 Ｈ法は、式（Ｉ）で表わされる目的化合物のうち、Ｗが
カルボニル基を示し、Ｕがメチレン基若しくはＲ１と共
に二重結合を示す、前述した化合物(XV)の前駆体、すな
わち、クロマン環２位がＬ（Ｌは前述したものと同意義
を示す。）であるα−ハロゲノカルボン酸誘導体類(XII
I)を製造するのに使用することができる。
式中、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８，
Ａ，Ａｒ，Ｌ，ｎ，ＵおよびＸは前述したものと同意義
を示す。
Ｈ−１ Ｈ−１工程はＣ−２工程と同等であり、通常、Ｌは基−
ＯＲ３を示し、Ｕはメチレン基を示すが、必要に応じ
て、ＬとＵで二重結合を形成させることができる。化合
物（２８）は化合物（６）に式O2N-(Ar)-O-(CH2)n-COX
を有する化合物（式中、Ａｒ，ｎおよびＸは前述したも
のと同意義を示す。）を反応せしめ、次いでナトリウム
エトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのような有機塩基
で処理することによって与えられる。
Ｈ−２ Ｈ−２工程はＡ−３工程と同等であり、ＬとＵとの関連
はＨ−１の記載と同じである。
Ｈ−３ Ｈ−３工程はＡ−４工程と同等であり、ＬとＵとの関連
はＨ−１の記載と同じである。
原料化合物、すなわちα−ハロゲノカルボン酸類(II)
の、Ａ法乃至Ｈ法による製造方法のうち好ましいもの
は、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，ＦおよびＨ法であり、さらに
は、Ａ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，ＦおよびＨ法である。Ｄ法、Ｆ
法、Ａ法を組合せて用いることはさらに好ましい。
式(II)によって示されるα−ハロゲノカルボン酸類にお
いてクロマン環２位および置換基Ａのα位の炭素原子は
それぞれ不斉炭素原子であり、それらに基づく各異性体
もまた化合物(II)に包含される。
なお、このようにして得られるα−ハロゲノカルボン酸
誘導体類(II)もまた、血中過酸化脂質低下作用を有する
のみならず、血中トリグリセライドおよびコレステロー
ル低下作用を有することが認められ、従って高脂血症治
療剤として有用である。
かくして得られたクロマン環を有するα−ハロゲノカル
ボン酸誘導体類(II)は所望に応じて相互に各種の加水分
解成績体、エステル交換成績体へ、あるいは、ナトリウ
ム、カリウム、カルシウム、アルミニウムなどの金属塩
類へ、あるいは逆に、金属塩類から、あるいは遊離のフ
ェノール類および／または遊離のカルボン酸類からエス
テル体、アミド体などへ変換することができる。
とりわけ、α−ハロゲノカルボン酸誘導体類(II)を所望
の、各種の加水分解成績体に導く場合、該成績体の製造
は例えば以下のごとく達成される。
Ｒ３が水素原子であり、Ａがカルボキシ基である化合物
は、Ｒ３が例えばアシル基、Ａがアルコキシカルボニル
基である化合物(II)を、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
のようなアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムのような水酸化アルカリ金属などの無機塩
基、あるいはナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、カリウムターシャリーブトキサイドのような
アルカリ金属のアルコラートなどの塩基の存在下、加水
分解反応を行なうことによって得ることができる。溶媒
としては、たとえばメタノール、エタノールのような低
級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエーテル類、水およびこれらの混合溶剤があげられ
る。該加水分解(II)と該無機塩基、あるいは該塩基との
割合は、該化合物(II)１モルに対して、１乃至５、好ま
しくは２乃至３である。反応温度、反応時間などの反応
条件は、用いられる原料、塩基、溶媒などにより異なる
が、通常反応温度は−１０乃至３０℃、好ましくは０乃
至１０℃、反応時間は数分乃至数十時間である。
Ｒ３が水素原子であり、Ａがアルコキシカルボニル基で
ある化合物は、Ｒ３が例えばアシル基、Ａがアルコキシ
カルボニル基である化合物(II)をナトリウムメトキサイ
ド、ナトリウムエトキサイド、カリウムターシャリーブ
トキサイドのようなカルカリ金属のアルコラートなどの
塩基の存在下、加溶媒分解反応を行なうことによって得
ることができる。溶媒としては、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、ｔ−ブチルアル
コールのようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類およびこれらの混合物剤を
あげることができる。特に原料の基Ａに示すアルコキシ
カルボニル基を、そのまま保有することが所望される場
合には、該アルコキシ基に対応するアルカリ金属のアル
コラートを選択することおよび溶媒として、該アルコキ
シ基に対応するアルコールを選択することが望ましい。
さらに、所望により任意のアルカリ金属のアルコラート
および溶媒としてのアルコール類を選択することによ
り、原料中のアルコキシカルボニル基を、所望のアルコ
キシカルボニル基に交換することができる。該原料化合
物(II)と該塩基との割合は、該化合物(II)１モルに対し
て、１乃至３、好ましくは１乃至２である。反応温度、
反応時間などの反応条件は、用いられる原料、塩基、溶
媒などにより異なるが、通常反応温度は−１０乃至３０
℃、好ましくは０乃至１０℃、反応時間は数分乃至数十
時間である。
Ｒ３がアシル基であり、Ａがカルボキシ基である化合物
は、Ｒ３が例えばアシル基、Ａがアルコキシカルボニル
基である化合物(II)を、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
のようなアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムのような水酸化アルカリ金属などの無機塩
基、あるいはナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、カリウムターシャリーブトキサイドのような
アルカリ金属のアルコラートなどの塩基の存在下、加水
分解反応を行なうことによって得ることができる。溶媒
としては、たとえば、メタノール、エタノールのような
低級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエーテル類、水およびこれらの混合溶剤があげら
れる。該化合物(II)と該無機塩基、あるいは該塩基との
割合は、該化合物(II)１モルに対して、１乃至５、好ま
しくは１乃至２である。反応温度、反応時間などの反応
条件は、用いられる原料、塩基、溶媒などにより異なる
が、通常反応温度は−１０乃至３０℃。好ましくは０乃
至１０℃、反応時間は数分乃至約十時間である。
上記の薬理活性を示す式(II)で表わされる好適な化合物
として、下記の構造式を有する、第１３表に示すような
化合物をあげることができる。
また、以下に示すような構造式を有する第１４表に示す
ような化合物があげられる。
発明の効果 前記一般式（Ｉ）で表わされる本発明の目的化合物は、
リノール酸、リノール酸エチルのような不飽和脂肪酸お
よびそのエステル類に対し、高い酸化防止作用を有する
ことから、生体内において不飽和脂肪酸の構成率の高い
リン脂質の酸化を防止し得ることが予想され：Biochem.
Biophys.Res.Commun,９５，７３４−７３７（１９８
０）に示されるラット肝ミクロソーム脂質の過酸化抑制
試験において、協力な過酸化脂質低下作用を有するのみ
ならず、アロキサンで誘発せしめた実験的高脂血症マウ
スの試験において、血中過酸化脂質、トリグリセライド
およびコレステロールを低下せしめ、さらに、遺伝的高
血糖症ＫＫマウスの試験において、血糖低下作用を有
し、また、ウシの水晶体を用いたアルドース還元酵素活
性測定の試験において、酵素阻害作用を表わすなどのき
わめて優れた薬理効果を示し、毒性に関しては実験動物
たとえばラットに対し、食欲減退作用、体重増加抑制作
用、とりわけ、肝腫大作用がきわめて低い化合物であ
る。
以上の試験の結果から本発明のチアゾリジン誘導体
（Ｉ）は人の高脂血症、糖尿病およびそれらの合併症、
例えば糖尿病性白内障、糖尿病性神経障害などの治療に
有用であることが期待される。投与方法は、たとえば錠
剤、カプセル剤、散剤、顆粒剤などとして経口的に用い
られるほか注射剤（静脈内、皮下、筋肉内）、坐剤など
として、非経口的に投与することができ、眼粘膜投与と
しては点眼剤、眼軟膏剤が好ましい。その投与量は症
状、年令などによって異なるが、例えば高脂血症および
／または糖尿病およびそれらの合併症の治療剤として用
いる場合は成人につき通常１日５０mg〜５ｇを経口的ま
たは非経口的に、投与することができる。
以下に実施例、応用令（Ｒ９が水素原子以外の化合物）
および参考例をあげて本発明をさらに具体的に説明す
る。
実施例１ ５−〔４−（６−アセトキシ−５，７，８−トリメチル
−２−オクチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジ
ル〕チアゾリジン−２，４−ジオン エチル ３−〔４−（６−アセトキシ−５，７，８−ト
リメチル−２−オクチルクロマン−２−イルメトキシ）
フェニル〕−２−クロロプロピオネート２．１ｇ、チオ
尿素０．３５ｇ、スルホラン２．５mlの混合物を窒素雰
囲気下、１２０−１３０℃で７時間加熱する。反応混合
物にベンゼンを加えて溶かし、ベンゼン溶液を水洗し
て、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧下に留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
離液；ベンゼン：酢酸エチル＝１０：１）に付し、目的
化合物（淡黄色泡状固体）を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．５５
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝４：１）。
ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.7-1.0(3H,
m),1.1-2.0(16H,m),1.97(3H,s),2.03(3H,s),2.08(3H,
s),2,31(3H,s),2.60(2H,br,t,J＝6Hz),3.03(1H,dd,J＝1
0および15Hz),3.44(1H,dd,J＝３および15Hz),3.92(2H,
s),4.45(1H,dd,J＝３および10Hz),6.85(2H,d,J＝9Hz),
7.13(2H,d,J＝9Hz),8.0-8.9(1H,br.,重水添加で消
失）。
実施例２ ５−〔４−（６−アセトキシ−５，７，８−トリメチル
−２−オクチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジ
ル〕−２−イミノチアゾリジン−４−オン 実施例１におけるシリカゲルクロマトグラフィーにおい
て、該チアゾリジン−２，４−ジオンの次に溶出する部
分（溶離液；ベンゼン：テトラヒドロフラン＝４：１）
から、目的化合物（白色粉末）を得た。
軟化点：８５−９０℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.87(3H,br,
t,J＝4.5Hz),1.0-2.0(16H,m),1.97(3H,s),2.02(3H,s),
2.08(3H,s)2.30(3H,s),2.4-2.7(2H,m),2.88(1H,dd,J＝1
0および15Hz),3.50(1H,dd,J＝３および15Hz),3.9(2H,b
r.s),4.41(1H,dd,J＝３および10Hz),6.0-7.8(2H,br.,重
水添加で消失），6.83(2H,d,J＝9Hz),7.10(2H,d,J＝9H
z)。
実施例３ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチル
−２−オクチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジ
ル〕チアゾリジン−２，４−ジオン エチル ３−〔４−（６−アセトキシ−５，７，８−ト
リメチル−２−オクチルクロマン−２−イルメトキシ）
フェニル〕−２−クロロプロピオネート２．１ｇ、チオ
尿素０．３５ｇ、スルホラン２．５mlの混合物を窒素雰
囲気下、１２０−１３０℃で７時間加熱する。その後、
反応混合物に２Ｎ塩酸３．６ml、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル５mlの混合物を加え、８５−９０℃で
５時間さらに加熱する。反応混合物を水にあけ、ベンゼ
ンで抽出し、抽出液を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで
乾燥する。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチ
ル＝１０：１）に付し、目的化合物（淡黄色泡状固体）
を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．４３
（テイリング）（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
４：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.7-1.0(3H,
m),1.1-2.1(16H,m),2.10(6H,s),2.15(3H,s),2.61(2H,b
r.t,J＝6Hz),3.05(1H,dd,J＝10および15Hz),3.42(1H,d
d,J＝３および15Hz),3.92(2H,s),4.22(1H,s,重水添加で
消失），4.47(1H,dd,J＝３および10Hz),6.85(2H,d,J＝9
Hz),7.13(2H,d,J＝9Hz),8.33(1H,br.s,重水添加で消
失）。
実施例４ ５−〔４−（６−アセトキシ−２−メチル−７−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）クロマン−２−イル
メトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン 実施例１に準じてエチル ３−〔４−〔６−アセトキシ
−２−メチル−７−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）クロマン−２−イルメトキシ）フェニル〕−２−
クロロプロピオネート７．０ｇ、チオ尿素１．２ｇ、ス
ルホラン９mlから製造された目的物は、次の物性を有す
る。
軟化点：７５−８０℃（淡黄色ガラス状固体） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.79(9H,s),
1.36(6H,s),1.45(3H,s),1.66-2.88(2H,nd),1.80(2H,n
d),2.29(3H,s),2.73(2H,br.t,J＝6Hz),3.28(1H,dd,J＝
９および14Hz),3.45(1H,dd,J＝４および14Hz),3.93(2H,
AB型，Ｊ＝9Hz),4.49(1H,dd,J＝４および9Hz),6.75(1H,
s),6.86(1H,s),6.90(2H,d,J＝9Hz),7.13(2H,d,J＝9Hz),
8.1-8.7(1H,br.,重水添加で消失）。
実施例５ ５−〔４−〔６−アセトキシ−２−メチル−７−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）クロマン−２−イル
メトキシ）ベンジル〕−２−イミノチアゾリジン−４−
オン 実施例２に準じてエチル ３−〔４−〔−６−アセトキ
シ−２−メチル−７−（１，１，３，３−テトラメチル
ブチル）クロマン−２−イルメトキシ）フェニル〕−２
−クロロプロピオネート７．０ｇ、チオ尿素１．２ｇ、
スルホラン９mlから製造された目的物は、次の物性を有
する。
融点：１２０−１２８℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：0.78(9H,s),
1.35(6H,s),1.41(3H,s),1.82(2H,s),1.90-2.17(2H,nd),
2,26(3H,s),2.77(2H,br.t,J＝6.5Hz),2.73-3.10(1H,n
d),3.41(1H,dd,J＝４および14Hz),4.00(2H,s),4.49(1H,
dd,J＝４および10Hz),6.75(1H,s),6.78(1H,s),6.92(2H,
d,J＝9Hz),7.22(2H,d,J＝9Hz),7.4-8.6(2H,br.,重水添
加で消失）。
実施例６ ５−〔４−〔６−ヒドロキシ−２−メチル−７−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）クロマン−２−イル
メトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン 実施例３に準じてエチル ３−〔４−〔６−アセトキシ
−２−メチル−７−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）クロマン−２−イルメトキシ）フェニル〕−２−
クロロプロピオネート７ｇ、チオ尿素１．２ｇ、スルホ
ラン９ml、２Ｎ塩酸１３ml、およびエチレングリコール
モノメチルエーテル２０mlから製造された目的物は、次
の物性を有する。
軟化点：８０−８５℃（淡黄色ガラス状） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.78(9H,s),
1.41(9H,s),1.60-2.30(2H,nd),1.91(2H,s),2.67(2H,br.
t,J＝6.5Hz),3.07(1H,dd,J＝10および14Hz),3.45(1H,d
d,J＝４および14Hz),3.93(2H,AB型，Ｊ＝9Hz),4.45(1H,
s,重水添加で消失），4.49(1H,dd,J＝４および10Hz),6.
34(1H,s),6.77(1H,s),6.88(2H,d,J＝9Hz),7.17(2H,d,J
＝9Hz),8.4(1H,br.s,重水添加で消失）。
実施例７ ５−〔４−〔６−アセトキシ−２−メチル−４−オキソ
−７−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）クロマ
ン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，
４−ジオン 実施例１に準じて、エチル ３−〔４−〔６−アセトキ
シ−２−メチル−４−オキソ−７−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）クロマン−２−イルメトキシ）フ
ェニル〕−２−クロロプロピオネート７．３ｇ、チオ尿
素１．３ｇ、スルホラン８mlから製造された目的物は、
次の物性を有する。
軟化点：８０−８８℃（淡黄色粉末） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.78(9H,s),
1.37(6H,s),1.53(3H,s),1.83(2H,s),2.30(3H,s),2.70(1
H,d,J＝17Hz),2.8-3.2(1H,nd),3.10(1H,d,J＝17Hz),3.4
5(1H,dd,J＝４および15Hz),4.00および4.12(2H,AB型，
Ｊ＝9Hz),4.48(1H,dd,J＝４および9Hz),6.85(2H,d,J＝9
Hz),7.02(1H,s),7.17(2H,d,J＝9Hz),7.51(1H,s),8.3-9.
0(1H,br.,重水添加で消失）。
実施例８ ５−〔４−〔６−アセトキシ−２−メチル−４−オキソ
−７−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）クロマ
ン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２−イミノチアゾ
リジン−４−オン 実施例２に準じて、エチル ３−〔４−〔６−アセトキ
シ−２−メチル−４−オキソ−７−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）クロマン−２−イルメトキシ）フ
ェニル〕−２−クロロプロピオネート７．３ｇ、チオ尿
素１．３ｇ、スルホラン８mlから製造された目的物は、
次の物性を有する。
融点１２５−１３０℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：0.77(9H,s),
1.39(6H,s),1.53(3H,s),1.89(2H,s),2.34(3H,s),2.6-3.
0(1H,nd),2.75(1H,d,J＝16Hz),3.13(1H,d,J＝16Hz),3.4
0(1H,dd,J＝４および14Hz),4.17(2H,s),4.48(1H,dd,J＝
４および10Hz),6.87(2H,d,J＝9Hz),7.01(1H,s),7.20(2
H,d,J＝9Hz),7.46(1H,s),7.8-8.7(2H,br.,重水添加で消
失）。
実施例９ ５−〔４−〔６−ヒドロキシ−２−メチル−４−オキソ
−７−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）クロマ
ン−２−イルメトキシ〕ベンジル〕チアゾリジン−２，
４−ジオン ５−〔４−〔６−アセトキシ−２−メチル−４−オキソ
−７−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）クロマ
ン−２−イルメトキシ〕ベンジル〕−２−イミノチアゾ
リジン−４−オン５．２ｇ，２Ｎ塩酸１６ml、エチルグ
リコールモノメチルエーテル２５mlの混合物を、窒素雰
囲気下、８５−９０℃で６時間加熱する。反応混合物を
水にあけ、ベンゼンで抽出し、抽出液を水で洗浄後、、
無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減圧下に留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離
液；ベンゼン：酢酸エチル＝４：１）に付し、目的化合
物（淡黄色泡状固体）を得た。
軟化点：１００−１０５℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.77(9H,s),
1.43(6H,s),1.52(3H,s),2.00(2H,s),2.70(1H,d,J＝17H
z),2.8-3.2(1H,nd),3.12(1H,d,J＝17Hz),3.43(1H,dd,J
＝４および15Hz),4.00および4.10(2H,AB型，Ｊ＝9Hz),
4.49(1H,dd,J＝４および9Hz),6.1(1H,br,s,重水添加で
消失），6.85(2H,d,J＝9Hz),6.93(1H,s),7.15(2H,d,J＝
9Hz),7.30(1H,s),8.2-9.3(1H,br.,重水添加で消失）。
実施例１０ ５−〔４−〔２−（３，７−ジメチルオクチル）−６−
ヒドロキシ−５，７，８−トリメチル−４−オキソクロ
マン−２−イルメトキシ〕ベンジル〕チアゾリジン−
２，４−ジオン 実施例３に準じて、エチル ３−〔４−〔６−アセトキ
シ−２−（３，７−ジメチルオクチル）−５，７，８−
トリメチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ〕
フェニル〕−２−クロロプロピオネート１．１ｇ，チオ
尿素０．２ｇ、スルホラン１．５ml、２Ｎ塩酸５ml、お
よびエチレングリコールモノメチルエーテル１０mlから
目的化合物を得た。
軟化点：４１−４５℃（淡黄色粉末） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.85(9H,d,J
＝7Hz),1.0-2.0(12H,m),2.13(3H,s),2.22(3H,s),2.55(3
H,s),2.65-3.2(3H,m),3.43(1H,dd,J＝４および14Hz),4.
05(2H,s),4.35-5.3(1H,br,,重水添加で消失），4.46(1
H,dd,J＝４および10Hz),6.83(2H,d,J＝9Hz),7.15(2H,d,
J＝9Hz),8.0-9.5(1H,br.,重水添加で消失）。
実施例１１ ５−〔２−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ピリジン−５−イ
ルメチル〕チアゾリジン−２，４−ジオン 実施例３に準じて、エチル ３−〔２−（６−アセトキ
シ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イル
メトキシ）ピリジン−５−イル〕−２−クロロピオネー
ト３．８ｇ、チオ尿素０．７７ｇ、スルホラン５．０m
l、エチレングリコールモノメチルエーテル４．５ml、
濃塩酸１．５mlおよび水４．５mlから目的物を得た。
軟化点：８７−９４℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.38(3H,s),
1.7-2.3(2H,m),2.06(3H,s),2.09(3H,s),2.14(3H,s),2.6
3(2H,br.t,J＝6Hz),3.10(1H,dd,J＝15および7.5Hz),3.3
3(1H,dd,J＝15および4.5Hz),4-5(1H,br.,重水添加で消
失する），4.32(3H,s),4.47(1H,dd,J＝7.5および4.5H
z),6.75(1H,d,J＝9Hz),7.46(1H,dd,J＝９および3Hz),8.
02(1H,d,J＝３Hz)。
実施例１２ ５−〔３−（７−ｔ−ブチル−６−ヒドロキシ−２−メ
チル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ）−４−
メチルベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン 実施例３に準じて、エチル ３−〔３−（６−アセトキ
シ−７−ｔ−ブチル−２−メチル−４−オキソクロマン
−２−イルメトキシ）−４−メチルフェニル〕−２−ク
ロロプロピオネート２．４ｇ、チオ尿素０．７ｇ、スル
ホラン５ml、２Ｎ塩酸１０ml、およびエチレングリコー
ルモノメチルエーテル１５mlから目的化合物を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーによるＲｆ値＝０．
４４（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝１：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.40(9H,s),
1.57(3H,s),2.14(3H,s),2.77(1H,d,J＝16Hz),3.01(1H,d
d,J＝10および14Hz),3.07(1H,d,J＝16Hz),3.44(1H,dd,J
＝４および14Hz),3.99および4.13(2H,AB型，Ｊ＝10Hz),
4.50(1H,dd,J＝４および10Hz),5.84(1H,br,s,重水添加
で消失），6,6-6.85(2H,nd),6.91(1H,s),7.08(1H,d,J＝
7.5Hz),7.31(1H,s),8.3-9.0(1H,br.,重水添加で消
失）。
実施例１３ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチル
クロモン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン
−２，４−ジオン 実施例３に準じて、エチル ３−〔４−（６−アセトキ
シ−２−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチル−４−オ
キソクロマン−２−イルメトキシ）フェニル〕−２−ク
ロロプロピオネート２．２ｇ、チオ尿素０．８ｇ、スル
ホラン４．５ｇ、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル７０ml、水８ml、３５％塩酸４mlより目的化合物を得
た。
融点；２４９−２５２℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＤＭＳＯ−ｄ６）：2.25(6
H,s),2.63(3H,s),2.7-3.8(2H,nd),4.88(1H,dd,J＝４お
よび9Hz),5.11(2H,s),6.28(1H,s),7.05(2H,d,J＝9Hz),
7.24(2H,d,J＝9Hz),8.3-8.7(1H,br.s,重水添加で消
失）。
実施例１４ ５−〔４−〔６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕５−メ
チルチアゾリジン−２，４−ジオン 実施例３に準じて、エチル ３−〔４−（６−アセトキ
シ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イル
メトキシ）フェニル〕−２−クロロ−２−メチルプロピ
オネート１．１７ｇ、チオ尿素０．６３ｇ、スルホラン
３ｇ、エチレングリコールモノメチルエーテル１０ml、
水３ml、３５％塩酸２mlから製造された目的化合物は次
の物性を有する。
軟化点；６９−７２℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.40(3H,s),
1.72(3H,s),1.6-2.3(2H,nd),2,10(6H,s),2.16(3H,s),2.
62(2H,br.t,J＝7Hz),2.94(1H,d,J＝14Hz),3.24(1H,d,J
＝14Hz),3.84および3.97(2H,AB型，Ｊ＝9Hz),4.40(1H,b
r.s,重水添加により消失），6.84(2H,d,J＝9Hz),7.13(2
H,d,J＝9Hz),8.4-8.9(1H,br.s重水添加により消失）。
実施例１５ ５−〔４−〔６−ヒドロキシ−４−（Ｅ）−ヒドロキシ
イミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン 前記のＤ法、ついで実施例１と同様な方法で製造された
５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベン
ジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン５ｇ、塩酸ヒドロ
キシルアミン３ｇ、メタノール５０ｇおよびピリジン３
ｇの混合物を室温下、１週間攪拌した。反応混合物に酢
酸エチルおよび炭酸カリウム水溶液を加え、有機層を分
液し無水硫酸ソーダ上にて乾燥した。溶媒を留去し残渣
をシリカゲルクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：
酢酸エチル＝１：１）に付し目的化合物を得た。
軟化点：８４−１００℃ ＮＭＲスペククトル（δppm，重アセトン）：1.42(3H,
s),2.09(3H,s),2.18(3H,s),2.48(3H,s),3.03(1H,dd,J＝
９およびＪ＝14Hz),3.07(2H,s),3.43(1H,dd,J＝４およ
びＪ＝14Hz),4.05(2H,s),4.72(1H,dd,J＝４および9Hz),
6.92(2H,d,J＝9Hz),7.21(2H,d,J＝9Hz),9.7-10.5(1H,b
r.s,重水添加により消失）。
実施例１６ ５−〔４−〔６−ヒドロキシ−４−（Ｅ）−ヒドロキシ
イミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン ５−〔４−〔６−ヒドロキシ−４−（Ｚ）−ヒドロキシ
イミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン６２mgを１４０±５℃の油浴にて５時間加熱した。反
応混合物を液体クロマトグラフィーに付し目的物（実施
例１５の化合物）の生成を確認した。
実施例１７ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｚ）−ヒドロキシ
イミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン 実施例１５におけるカラムクロマトグラフィーにおいて
実施例１５の目的化合物の後に溶離された分画から目的
化合物を得た。
軟化点：１００−１０５℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.46(3H,s),
2.04(3H,s),2.18(6H,s),2.58(1H,d,J＝13Hz),2.87(1H,
d,J＝13Hz),3.10(1H,dd,J＝９および14Hz),3.43(1H,dd,
J＝および14Hz),4.01(2H,s),4.74(1H,dd,J＝４および9H
z),6.92(2H,d,J＝9Hz),7.22(2H,d,J＝9Hz),9.4-10.6(1
H,br.s,重水添加により消失）。
実施例１８ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｚ）−ヒドロキシ
イミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｅ）−ヒドロキシ
イミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン２７mgを１４０±５℃の油浴にて５時間加熱した。反
応混合物を液体クロマトグラフィーに付し目的物（実施
例１７の化合物）の生成を確認した。
実施例１９ ５−〔４−（６−アセトキシ−４−（Ｅ）−アセトキシ
イミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｅ）−ヒドロキシ
イミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン１ｇ，無水酢酸１．３ｇおよびピリジン１０mlの混合
物を室温下８日間放置しさらに６０〜８０℃で８時間加
熱した。反応混合物中に炭酸カリウム水溶液及び酢酸エ
チルを加え、有機層を分液し無水硫酸ソーダで乾燥し
た。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、
目的化合物を得た。
軟化点：９３−９７℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.48(3H,s),
2.07(3H,s),2.10(3H,s),2.22(3H,s),2.33(3H,s),2.42(3
H,s),3.00(1H,d,J＝17Hz),3.26(1H,d,J＝17Hz),3.0-3.3
(1H,nd),3.41(1H,dd,J＝４および14Hz),3.91および4.06
(2H,AB型，Ｊ＝9Hz),4.47(1H,dd,J＝４およびＪ＝9Hz),
6.84(2H,d,J＝9Hz),7.14(2H,d,J＝9Hz)。 実施例２０ ５−〔４−（６−ベンゾイルオキシ−４−（Ｅ）−ベン
ゾイルオキシイミノ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−
２，４−ジオン ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｅ）−ヒドロキシ
イミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン１ｇ、臭化ベンゾイル１．７ｇ、ピリジン１０mlおよ
びジメチルホルムアミド５mlの混合物を室温下６日間放
置しさらに６０〜８０℃で８時間加熱した。反応混合物
中に炭酸カリウム水溶液および酢酸エチルを加え、有機
層を分液し無水硫酸ソーダで乾燥した。溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；
ヘキサン：酢酸エチル＝４：３）に付し目的化合物を得
た。
軟化点：１０１−１０７℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.55(3H,s),
2.14(6H,s),2.58(3H,s),2.8-3.7(4H,nd),3.98および4.1
2(2H,AB型，Ｊ＝9Hz),4.45(1H,dd,J＝４および9Hz),6.8
4(2H,d,J＝9Hz),7.14(2H,d,J＝9Hz),7.3-7.8(6H,m),7.9
-8.5(4H,m)。
実施例２１ ５−〔４−（２，５，７，８−テトラメチル−６−ニコ
チノイルオキシ−４−（Ｅ）−ニコチノイルオキシイミ
ノクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジ
ン−２，４−ジオン ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｅ）−ヒドロキシ
イミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン１ｇ、塩化ニコチノイル塩酸塩１．１ｇ、ピリジン１
２mlおよびジメチルホルムアミド１２mlの混合物を室温
下６日間放置しさらに６０〜８０℃で８時間加熱した。
反応混合物中に炭酸カリウム水溶液および酢酸エチルを
加え、有機層を分液し無水硫酸ソーダで乾燥した。溶媒
を留去し残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶離
液；ヘキサン：酢酸エチル＝２：３）に付し、さらに分
取用薄層シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶剤；ヘ
キサン：酢酸エチル＝１：１０）に付し目的化合物を得
た。
軟化点；１２３−１３０℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.56(3H,s),
2.13(3H,s),2.17(3H,s),2.57(3H,s),2.8-3.7(4H,nd),3.
99および4.16(2H,AB型，Ｊ＝9Hz),4.45(1H,dd,J＝４お
よび9Hz),6.84(2H,d,J＝9Hz),7.15(1H,d,J＝9Hz),7.4-
7.7(2H,m),8.3-8.7(2H,m),8.7-9.0(2H,m),9.2-9.6(2H,
m),10-11(1H,br.,重水添加で消失）。
実施例２２ ５−〔４−（７−ｔ−ブチル−６−ヒドロキシ−４−
（Ｅ）−ヒドロキシイミノ−２−メチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン 実施例１５に準じて、５−〔４−（７−ｔ−ブチル−６
−ヒドロキシ−２−メチル−４−オキソクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン１．３２ｇ、塩酸ヒドロキシルアミン２．０ｇ、ピリ
ジン０．５mlおよびメタノール２０mlから製造された目
的化合物（無色結晶）は次の物性を有する。
融点２３５−２３７℃分解 ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.40(12H,
s),2.6-4.0(1H,br.,重水添加で消失),2.98(2H,s),3.10
(1H,dd,J＝９および14Hz),3.43(1H,dd,J＝４および14H
z),4.05(2H,s),4.74(1H,dd,J＝9Hz),6.73(1H,s),6.95(2
H,d,J＝9Hz),7.2-8.5(1H,br.,重水添加で消失),7.25(2
H,d,J＝9Hz),7.30(1H,s),9.7-10.6(1H,br.,重水添加で
消失）。
実施例２３ ５−〔４−〔６−ヒドロキシ−４−（Ｅ）−ヒドロキシ
イミノ−２−メチル−７−（１，１，３，３−テトラメ
チルブチル）クロマン−２−イルメトキシ〕ベンジル〕
チアゾリジン−２，４−ジオン 実施例１５に準じて、５−〔４−〔６−ヒドロキシ−２
−メチル−４−オキソ−７−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）クロマン−２−イルメトキシ〕ベンジ
ル〕チアゾリジン−２，４−ジオン１．０ｇ、塩酸ヒド
ロキシルアミン０．２６ｇ、ピリジン０．３ｇ、メタノ
ール１０mlから製造された目的化合物は次の物性を有す
る。
軟化点：１１５−１２０℃（白色粉末） ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：0.76(9H,s),
1.40(9H,s),2.00(2H,s),2.5-3.6(1H,br.,重水添加で消
失),2.98(2H,s),3.09(1H,dd,J＝９および15Hz),3.44(1
H,dd,J＝４および15Hz),4.03(2H,s),4.76(1H,dd,J＝9H
z),6.75(1H,s),6.93(2H,d,J＝9Hz),7.22(2H,d,J＝9Hz),
7.25(1H,s),7.5-8.4(1H,br.,重水添加で消失）。
実施例２４ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｅ）−ヒドロキシ
イミノ−２−イソブチル−５，７，８−トリメチルクロ
マン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−
２，４−ジオン 実施例１５に準じて、５−〔４−（６−ヒドロキシ−２
−イソブチル−５，７，８−トリメチル−４−オキソク
ロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−
２，４−ジオン１５５mg、塩酸ヒドロキシルアミン６０
０mg、エタノール４ml、およびピリジン６mlから製造さ
れた目的物は、次の物性を有する。
軟化点：７７−８０℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：0.97(6H,d,J
＝6Hz),1.6-2.3(1H,nd),1.78(2H,d,J＝6Hz),2.11(3H,
s),2.18(3H,s),2.46(3H,s),2.7-3.7(1H,br.,重水添加に
よりで消失),2.8-3.2(1H,nd),3.09(2H,s),3.43(1H,dd,J
＝４および14Hz),4.05(2H,AB型，Ｊ＝10Hz),4.72(1H,d
d,J＝４および9Hz),6.91(2H,d,J＝9Hz),7.22(2H,d,J＝9
Hz),9.8-10.5(1H,br.s,重水添加により消失）。
実施例２５ ５−〔４−〔２−（３，７−ジメチルオクチル）−６−
ヒドロキシ−４−（Ｅ）−ヒドロキシイミノ−５，７，
８−トリメチルクロマン−２−イルメトキシ〕ベンジ
ル〕チアゾリジン−２，４−ジオン 実施例１５に準じて、５−〔４−〔２−（３，７−ジメ
チルオクチル）−６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメ
チル−４−オクソクロマン−２−イルメトキシ〕ベンジ
ル〕チアゾリジン−２，４−ジオン１５０mg、塩酸ヒド
ロキシルアミン３６mg，ピリジン４１mg、メタノール２
mlから製造された目的化合物は次の物性を有する。
軟化点：５５−６０℃（淡黄色粉末） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.83(9H,d,J
＝7Hz),1.0-2.0(12H,m),2.10(3H,s),2.18(3H,s),2.41(3
H,s),2.9-3.2(1H,nd),2.92(1H,d,J＝17Hz),3.2-3.55(1
H,nd),3.23(1H,d,J＝17Hz),3.94(2H,s),4.3-4.8(1H,n
d),4.46(1H,dd,J＝４および10Hz),6.83(2H,d,J＝9Hz),
7.15(2H,d,J＝9Hz),7.8-8.9(2H,br.,重水添加で消
失）。
実施例２６ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチル−４−（Ｅ）−メトキシイミノクロマン−２−イ
ルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベン
ジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン１ｇ、メトキシア
ミン塩酸塩０．６ｇおよびメタノール５ｇの混合物を室
温下１０日間放置した。反応混合物に酢酸エチル及び炭
酸カリウム水溶液を加え、有機層を分液し無水硫酸ソー
ダで乾燥した。溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝
３：１）に付し目的化合物を得た。
軟化点：７２−７６℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.41(3H,s),
2.08(3H,s),2.17(3H,s),2.50(3H,s),2.88および3.08(2
H,AB型，Ｊ＝17Hz),3.00(1H,dd,J＝９および14Hz),3.42
(1H,dd,J＝４および14Hz),3.92(2H,s),3.96(3H,s),4.2-
4.9(1H,br),4.45(1H,dd,J＝４および9Hz),6.83(2H,d,J
＝9Hz),7.12(2H,d,J＝9Hz)。
実施例２７ ５−〔４−（４−（Ｅ）−ベンジルオキシイミノ−６−
ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−
２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−
ジオン ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベン
ジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン１ｇ、ベンジルオ
キシアミン塩酸塩１．２ｇおよびメタノール１０ｇの混
合物を室温下７日間放置した。反応混合物に酢酸エチル
および炭酸カリウム水溶液を加え、有機層を分液し無水
硫酸ソーダで乾燥した。溶媒を留去し残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エ
チル＝３：１）に付し目的化合物を得た。
軟化点：６４−６９℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.40(3H,s),
2.06(3H,s),2.16(3H,s),2.41(3H,s),2.92および3.18(2
H,AB型，Ｊ＝17Hz),3.02(1H,dd,J＝９および14Hz),3.42
(1H,dd,J＝４および14Hz),3.90(2H,s),4.43(1H,dd,J＝
４および9Hz),5.19(2H,s),6.82(2H,d,J＝9Hz),7.11(2H,
d,J＝9Hz),7.2-7.5(5H,m)。
実施例２８ ５−〔４−（４−（Ｅ）−ｔ−ブトキシカルボニルメト
キシイミノ−６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾ
リジン−２，４−ジオン ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベン
ジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン１ｇ、ｔ−ブトキ
シカルボニルメトキシアミン・ｐ−トルエンスルホン酸
塩２．１ｇ、メタノール５ｇおよびピリジン０．６ｇの
混合物を室温下７日間放置した。反応混合物に酢酸エチ
ルおよび炭酸カリウム水溶液を加え、有機層を分液し無
水硫酸ソーダで乾燥した。溶媒を留去し残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸
エチル＝３：１）に付し目的化合物を得た。
軟化点：７６−８０℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.44(3H,s),
1.49(9H,s),2.07(3H,s),2.17(3H,s),2.43(3H,s),3.02(1
H,dd,J＝９および14Hz),3.08(2H,AB型，Ｊ＝17Hz),3.42
(1H,dd,J＝４および14Hz),3.96(2H,s),4.43(1H,dd,J＝
４および9Hz),4.57(2H,s),4.9-6.1(2H,br.,重水添加に
より消失),6.84(2H,d,J＝9Hz),7.10(2H,d,J＝9Hz)。
実施例２９ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチル−２Ｈ−クロメン−２−イルメトキシ）ベンジ
ル〕チアゾリジン−２，４−ジオン ５−〔４−（４，６−ジヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕
チアゾリジン−２，４−ジオン１４０mg、ｐ−トルエン
スルホン酸１０mg、ベンゼン１０ml、ジメチルホルムア
ミド０．５mlの混合物を１時間加熱還流する。冷後、反
応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥する。溶媒を減圧下留
去して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
離剤；ベンゼン：酢酸エチル＝４：１）に付し、目的化
合物を得た。
軟化点：１６３−１７６℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.50(3H,s),
2.02(3H,s),2.12(3H,s),2.18(3H,s),3.06(1H,dd,J＝９
および14Hz),3.40(1H,dd,J＝４および14Hz),3.94(1H,d,
J＝10Hz),4.05(1H,d,J＝10Hz),4.70(1H,dd,J＝４および
9Hz),5.75(1H,d,J＝10Hz),6.72(1H,d,J＝10Hz),6.85(2
H,d,J＝9Hz),7.19(2H,d,J＝9Hz)。
実施例３０ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−６−イルハイドロジエンサクシネート 前記のＡ法、ついで実施例１と同様な方法で製造された
５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾ
リジン−２，４−ジオン１．０ｇ、無水コハク酸０．３
１ｇおよびピリジン１mlの混合物を室温で一夜放置し
た。反応混合物をシクロヘキサン１０mlで３回洗浄し、
得られた不溶物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル＝５：１乃至１：１）
に付し、目的化合物を得た。
融点：１９７−２０２℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，重ピリジン）：1.36(3H,s),
1.5-2.3(2H,m),2.10(6H,s),2.14(3H,s),2.5(2H,br.t,J
＝6Hz),2.7-3.35(5H,m),3.60(1H,dd,J＝４および15Hz),
3.95および4.05(2H,AB型，Ｊ＝9Hz),4.90(1H,dd,J＝４
および9Hz),6.98(2H,d,Ｊ＝9Hz),7.30(2H,d,J＝9Hz)。
ナトリウム塩 本サクシネート２４６mgをメタノール１００mlに懸濁
し、室温で２．５％ナトリウムメトキシドメタノール溶
液１mlを加える。少量の不溶部分を濾去後、メタノール
を減圧で留去する。得られた残渣をエーテルで洗い、ナ
トリウム塩を得た。
融点：１７８−１８０℃ 実施例３１ ５−〔４−（４−カルボキシメトキシイミノ−６−ヒド
ロキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン 実施例２８で得られた５−〔４−（４−ｔ−ブトキシカ
ルボニルメトキシイミノ−６−ヒドロキシ−２，５，
７，８−テトラメチククロマン−２−イルメトキシ）ベ
ンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン０．７ｇと４Ｎ
塩化水素ジオキサン溶液７mlの混合物を、室温で１５時
間放置する。反応終了後、溶媒を留去して得られた残渣
を温水で洗い目的物を得た。
軟化点：７５−８５℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＤＭＳＯ−ｄ６）：1.33(3
H,s),1.98(3H,s),2.09(3H,s),2.34(3H,s),2.9-3.5(2H,
m),3.0(2H,s),4.02(2H,s),4.65(2H,s),4.84(H,dd,J＝４
および9Hz),6.90(2H,d,J＝9Hz),7.17(2H,d,J＝9Hz),7.5
-7.95(1H,br,重水添加で消失）。
実施例３２ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２，５，７，８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−６−イルオキシ酢酸２−
メトキシエチル ３−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−
２，５，７，８−テトラメチル−４−オキソクロマン−
２−イルメトキシ）フェニル〕−２−クロロプロピオン
酸エチル１３ｇ、チオ尿素２．６ｇ、およびスルホラン
１５mlの混合物を窒素気流中、１２０〜１３０℃で５時
間加熱した。次いで、２Ｎ塩酸３０mlおよび２−メトキ
シエタノール６０mlを加え、１１０℃で３時間加熱し
た。反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。該
抽出液を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル＝４：１）に付し標記
のエステル交換したチアゾリジン誘導体を得た。
Ｒｆ値（以下、シリカケル薄層クロマトグラフィーによ
る値を示す。）：０．１４（展開溶剤；ベンゼン：酢酸
エチル＝４：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.50(3H,s),
2.10(3H,s),2.26(3H,s),2.45-2.8(1H,nd),2.56(3H,s),
2.9-3.25(1H,nd),3.07(1H,d,J＝16Hz),3.40(3H,s),3,4-
3.6(1H,nd),3.6-3.75(2H,m),3.98および4.11(2H,AB型，
Ｊ＝10Hz),4.3-4.45(2H,m),4.34(2H,s),4.45-4.6(1H,n
d),6.85(2H,d,J＝9Hz),7.16(2H,d,J＝9Hz),8.7-9.3(1H,
br.)。
実施例３３ ５−〔４−（６−エトキシ−２，５，７，８−テトラメ
チルクロマン−２−イルメト キシ〕ベンジル〕チアゾ
リジン−２，４−ジオン 実施例３２に準じて、２−クロロ−３−〔４−（６−エ
トキシ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ〕フェニル〕プロピオン酸エチル５．１
ｇ、チオ尿素１ｇ、スルホラン６ml、２Ｎ塩酸１６ml、
および２−メトキシエタノール５mlから目的化合物を得
た。
融点：５６−６０℃ マススペクトル（ｍ／ｅ）：４６９（Ｍ＋） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.39(3H,t,J
＝7Hz),1.41(3H,s),1.7-2.1(2H,nd),2.07(3H,s),2.14(3
H,s),2.17(3H,s),2.61(2H,br,t,J＝7Hz),3.05(1H,dd,J
＝10および14Hz),3.45(1H,dd,J＝４および14Hz),3.72(2
H,q,J＝7Hz),3.87および3.97(2H,AB型，Ｊ＝9Hz),4.47
(1H,dd,J＝４および10Hz),6.87(2H,d,J＝9Hz),7.14(2H,
d,J＝9Hz),8.6-8.8(1H,br.,重水添加で消失）。
実施例３４ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−４−ヒドロキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−６−イルオキシ酢
酸２−メトキシエチル ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２，５，７，８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−６−イルオキシ酢酸２−
メトキシエチル１．２ｇとメチルアルコール２０mlの混
合物を氷冷し、水素化ホウ素ナトリウム１．５ｇを加え
て、氷冷で１時間かきまぜた。反応混合物を氷水に注
ぎ、１０％塩酸で中和し、ついで酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を減圧下に留去し、淡黄色粉末状の目的化合物
を得た。
Ｒｆ値：０．２０（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
１：１） マススペクトル（ｍ／ｅ）：５７３（Ｍ＋） 実施例３５ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２，５，７，８−テトラ
メチル−２Ｈ−クロメン−６−イルオキシ酢酸メチル ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−４−ヒドロキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−６−イルオキシ酢
酸２−メトキシエチル９７０mg、ｐ−トルエンスルホン
酸５０mg、ベンゼン１０ml、およびジオキサン１mlの混
合物を窒素気流中１時間加熱還流した。反応混合物を５
％重炭酸ナトリウム水溶液、次いで水で洗い無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ベンゼ
ン：酢酸エチル＝７：３）に付し、標記のメチルエステ
ルを得た。
Ｒｆ値：０．７４（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
１：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.51(3H,s),
2.01(3H,s),2.14(3H,s),2.22(3H,s),3.07(1H,dd,J＝９
および14Hz),3.42(1H,dd,J＝および14Hz),3.74(3H,s),
4.03(2H,s),4.32(2H,s),4.73(1H,dd,J＝４および9Hz),
5.80(1H,d,J＝10Hz),6.70(1H,d,J＝10Hz),6.86(2H,d,J
＝9Hz),7.20(2H,d,J＝9Hz)。
実施例３６ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２，５，７，８−テトラ
メチル−２Ｈ−クロメン−６−イルオキシ酢酸２−メト
キシエチル 実施例３５におけるカラムクロマトグラフィーにおい
て、同例におけるメチルエステルの後に溶離された分画
から目的化合物を得た。
Ｒｆ値：０．５９（（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル
＝１：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.52(3H,s),
2.02(3H,s),2.16(3H,s),2.23(3H,s),3.09(1H,dd,J＝９
および15Hz),3.30-3.60(1H,nd),3.32(3H,s),3.5-3.7(2
H,m),4.04(2H,s),4.25-4.45(2H,m),4.35(2H,s),4.75(1
H,dd,J＝４および9Hz),5.82(1H,d,J＝10Hz),6.72(1H,d,
J＝10Hz),6.88(2H,d,J＝9Hz),7.21(2H,d,J＝9Hz)。
実施例３７ ５−〔４−〔６−（２−ヒドロキシエトキシ）−２，
５，７，８−テトラメチル−２Ｈ−クロメン−２−イル
メトキシ〕ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン 実施例３６におけるシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにおいて、該２−メトキシエチルエステルの後に溶離
された分画から標記エーテル化合物を得た。
Ｒｆ値：０．４４（（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル
＝１：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.51(3H,s),
2.01(3H,s),2.15(3H,s),2.21(3H,s),3.08(1H,dd,J＝９
および14Hz),3.42(1H,dd,J＝４および14Hz),3.6-3.95(4
H,m),4.03(2H,s),4.74(1H,dd,J＝４および9Hz),5.78(1
H,d,J＝10Hz),6.71(1H,d,J＝10Hz),6.88(2H,d,J＝9Hz),
7.21(2H,d,J＝9Hz)。
実施例３８ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−６−イルオキシ酢酸２−メトキシエチ
ル ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２，５，７，８−テトラ
メチル−２Ｈ−クロメン−６−イルオキシ酢酸２−メト
キシエチル２６０mg、１０％パラジウム炭素３００mg，
およびエタノール５０mlの混合物を、パールの水添装置
を用い、水素圧３〜５気圧で１０時間振盪した。該パラ
ジウム炭素を濾去後、濾液を減圧下で濃縮して無色油状
の目的物を得た。
Ｒｆ値：０．３４（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
２：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.40(3H,s),
1.75-2.15(2H,nd),2.06(3H,s),2.14(3H,s),2.18(3H,s),
2.61(2H,br.t,J＝7Hz),3.05(1H,dd,J＝９および14Hz),
3.35-3.8(3H,nd),3.39(3H,s),3.86および3.96(2H,AB
型，Ｊ＝10Hz),4.25-4.6(3H,nd),4.34(2H,s),6.87(2H,
d,J＝9Hz),7.15(2H,d,J＝9Hz),8.35-8.8(1H,br.,重水添
加により消失）。
実施例３９ ５−〔４−〔６−（２−ヒドロキシエトキシ）−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ〕ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン 実施例３８に準じて、５−〔４−〔６−（２−ヒドロキ
シエトキシ）−２，５，７，８−テトラメチル−２Ｈ−
クロメン−２−イルメトキシ〕ベンジル〕チアゾリジン
−２，４−ジオン０．３５ｇ、１０％パラジウム炭素
０．３ｇ，エチルアルコール１０mlから目的化合物を得
た。
Ｒｆ値：０．４５（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
１：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.41(3H,s),
1.7-2.2(2H,nd),2.07(3H,s),2.13(3H,s),2.18(3H,s),2.
61(2H,br.t,J＝7Hz),3.05(1H,dd,J＝９および14Hz),3.4
4(1H,dd,J＝４および14Hz),3.7-4.1(6H,m),4.47(1H,dd,
J＝４および9Hz),4.85-5.2(2H,br),6.87(2H,d,J＝９H
z),7.14(2H,d,J＝9Hz) 実施例４０ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２，５，７，８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−６−イルオキシ酢酸エチ
ル。
実施例４４において得た、２−〔４−（２，４−ジオキ
ソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル〕
−２，５，７，８−テトラメチル−４−オキソクロマン
−６−イルオキシ酢酸０．５ｇ、４Ｎ塩化水素ジオキサ
ン溶液０．５ml、およびエチルアルコール５mlの混合物
を室温で一夜放置した。反応混合物を水に注ぎ、重炭酸
ナトリウムで中和した後、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を水で洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留
去し、得られた残渣を分取用シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝７：３）
に付し目的化合物を得た。
Ｒｆ値：０．７０（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
１：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.33(3H,t,J
＝7Hz),1.50(3H,s),2.10(3H,s),2.26(3H,s),2.57(3H,
s),2.55-2.8(1H,nd),3.06(1H,d,J＝16Hz),3.07(1H,dd,J
＝９および14Hz),3.45(1H,dd,J＝４および14Hz),4.00お
よび4.11(2H,AB型，Ｊ＝10Hz),4.29(2H,s),4.31(2H,q,J
＝7Hz),4.48(1H,dd,J＝４および9Hz),6.85(2H,d,J＝9H
z),7.16(2H,d,J＝9Hz),8.3-8.9(1H,br)。
応用例１ ５−〔４−（６−アセトキシ−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２，
４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル ５−〔４−（６−アセトキシ−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾ
リジン−２，４−ジオン１ｇ、無水炭酸カリウム０．４
３ｇおよびアセトン８mlの混合物に、氷冷下ブロモ酢酸
ｔ−ブチル０．８７ｇを滴下した後、室温で２時間かき
まぜ、さらに２日間放置した。反応混合物を氷水に注
ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗った
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去した残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ベ
ンゼン）に付し目的化合物を得た。
Ｒｆ値：０．６（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝１
０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.41(3H,s),
1.47(9H,s),1.7-2.1(2H,nd),1.98(3H,s),2.02(3H,s),2.
07(3H,s),2.30(3H,s),2.62(2H,br.t,J＝7Hz),2.98(1H,d
d,J＝10および14Hz),3.55(1H,dd,J＝４および14Hz),3.8
6および3.97(2H,AB型，Ｊ＝9Hz),4.19(2H,s),4.45(1H,d
d,J＝４および10Hz),6.86(2H,d,J＝9Hz),7.15(2H,d,J＝
9Hz)。
応用例２ ５−〔４−（６−アセトキシ−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２，
４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸メチル 応用例１に準じて、５−〔４−（６−アセトキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン２．４
ｇ、ブロモ酢酸メチル１．５ｇ、炭酸カリウム１．５ｇ
およびアセトン２５mlから無色油状の目的物を得た。
Ｒｆ値：０．２６（（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル
＝２０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.42(3H,s),
1.8-2.25(2H,nd),1.98(3H,s),2.02(3H,s),2.08(3H,s),
2.30(3H,s),2.64(2H,br.t,J＝7Hz),3.01(1H,dd,J＝10お
よび14Hz),3.54(1H,dd,J＝4.5および14Hz),3.75(3H,s),
3.87および4.00(2H,AB型，Ｊ＝9Hz),4.31(2H,s),4.50(1
H,dd,J＝4.5および10Hz),6.89(2H,d,J＝9Hz),7.17(2H,
d,J＝9Hz)。
応用例３ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２，
４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル 応用例１に準じて、５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン１ｇ、無
水炭酸カリウム０．４７ｇ、ブロモ酢酸ｔ−ブチル０．
９３ｇ、アセトン８mlから製造された目的化合物は次の
物性を有する。
Ｒｆ値：０．５２（（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル
＝１０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.42(3H,s),
1.48(9H,s),1.7-2.15(2H,nd),2.11(6H,s),2.16(3H,s),
2.64(2H,br.t,J＝7Hz),2.99(1H,dd,J＝10および14Hz),
3.56(1H,dd,J＝４および14Hz),3.85および3.98(2H,AB
型，Ｊ＝9Hz),4.21(2H,s),4.24(1H,s),4,46(1H,dd,J＝
４および10Hz),6.88(2H,d,J＝9Hz),7.15(2H,d,J＝9H
z)。
応用例４ ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−
３，５−二酢酸ジ−ｔ−ブチル ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾ
リジン−２，４−ジオン１ｇ、無水炭酸カリウム０．９
４ｇ、およびアセトン１０mlの混合物に、氷冷下ブロモ
酢酸ｔブチル１．９ｇを滴下し室温で２日間かきまぜ
る。反応混合物を氷水に注ぎ、ベンゼンで抽出した。抽
出液を水で洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を
留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
離液；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１）に付し目的化
合物を得た。
Ｒｆ値：０．５４（（展開溶剤；シクロヘキサン：酢酸
エチル＝４：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.44(9H,s),
1.48(12H,s),1.54(9H,s),1.8-2.1(2H,nd),2.07(3H,s),
2.16(3H,s),2.20(3H,s),2.5-2.7(2H,m),2.9-3.15(2H,
m),3.24(2H,s),3.93(2H,br.s),4.13(2H,s),4.17(2H,s),
6.85(1H,br.d,J＝9Hz),7.15(1H,br.d,J＝9Hz)。
マススペクトル（ｍ／ｅ）：７．８３（Ｍ＋） 応用例５ ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ）−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３
−酢酸−ｔ−ブチル 応用例４のカラムクロマトグラフィーによる分離工程に
おいて、該ｔ−ブチルエステルの次に溶出される部分か
ら目的化合物を得た。
Ｒｆ値：０．４２（（展開溶剤；シクロヘキサン：酢酸
エチル＝４：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.42(3H,s),
1.48(3H,s),1.54(9H,s),1.7-2.1(2H,nd),2.06(3H,s),2.
15(3H,s),2.19(3H,s),2.61(2H,br.t,J＝7Hz),2.99(1H,d
d,J＝10および14Hz),3.56(1H,dd,J＝４および14Hz),3.8
7および3.96(2H,AB型，Ｊ＝9Hz),4,17(2H,s),4,20(2H,
s),4.46(1H,dd,J＝４および10Hz),6.87(2H,d,J＝9Hz),
7.15(2H,d,J＝9Hz)。
マススペクトル（ｍ／ｅ）：６６９（Ｍ＋） 応用例６ ５−〔４−〔６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベン
ジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−
ブチル 応用例１に準じて、５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，
５，７，８−テトラメチル−４−オキソクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン１ｇ、無水炭酸カリウム０．４５ｇ、ブロモ酢酸ｔ−
ブチル０．９ｇ、アセトン８mlから製造された目的化合
物は、次の物性を有する。
軟化点：１７０−１８０℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.46(9H,s),
1.50(3H,s),2.10(3H,s),2.22(3H,s),2.5-2.8(1H,nd),2.
54(3H,s),3.03(1H,dd,J＝10および14Hz),3.04(1H,d,J＝
16Hz),3.53(1H,dd,J＝４および14Hz),4.16(2H,s),4.22
(2H,s),4.82(1H,dd,J＝４および10Hz),6.96(2H,d,J＝9H
z),7.25(2H,d,J＝9Hz)。
応用例７ ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−
２，５，７，８−テトラメチル−４−オキソクロマン−
イルメトキシ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリ
ジン−３，５−二酢酸ジ−ｔ−ブチル 応用例４に準じて、５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，
５，７，８−テトラメチル−４−オキソクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕−チアゾリジン−２，４−ジ
オン１．５ｇ、無水炭酸カリウム１．３ｇ、ブロモ酢酸
ｔ−ブチル５．４ｇ、アセトン１０mlから目的化合物を
得た。
Ｒｆ値：０．５７（展開溶剤；シクロヘキサン：酢酸エ
チル＝７：３） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.42(9H,s),
1.46(9H,s),1.48(3H,s),1.52(9H,s),2.10(3H,s),2.26(3
H,s),2.55-3.20(4H,nd),2.56(3H,s),3.23(2H,s),3.97お
よび4.08(2H,AB型，Ｊ＝10Hz),4.12(2H,s),4.16(2H,s),
6.82(2H,d,J＝9Hz),7.15(2H,d,J＝9Hz)。
マススペクトル（ｍ／ｅ）：７９７（Ｍ＋） 応用例８ ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−
２，５，７，８−テトラメチル−４−オキソクロマン−
２−イルメトキシ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチア
ゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル 応用例７で得た５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニ
ルメトキシ−２，５，７，８−テトラメチル−４−オキ
ソクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２，４−
ジオキソチアゾリジン−３，５−二酢酸ジ−ｔ−ブチル
の次に溶出する部分より目的化合物を得た。
Ｒｆ値：０．４６（展開溶剤；シクロヘキサン：酢酸エ
チル＝７：３） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.47(9H,s),
1.50(3H,s),1.53(9H,s),2.10(3H,s),2.26(3H,s),2.56(3
H,s),2.6-3.2(3H,nd),3.57(1H,dd,J＝４および14Hz),3.
98および4.11(2H,AB型，Ｊ＝10Hz),4.17(2H,s),4.20(2
H,s),4.47(1H,dd,J＝４および10Hz),6,86(2H,d,J＝9H
z),7.16(2H,d,J＝9Hz)。
マススペクトル（ｍ／ｅ）：６８３（Ｍ＋） 応用例９ ３−エチル−５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，
７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）ベ
ンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン 応用例１に準じて、５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン０．５８
ｇ、無水炭酸カリウム０．２７ｇ、ヨウ化エチル０．６
ｇ、アセトン５mlから目的化合物を得た。
Ｒｆ値：０．３０（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
２０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.09(3H,t,J
＝7Hz),1.40(3H,s),1.7-2.2(2H,nd),2.09(6H,s),2.14(3
H,s),2.62(2H,br,t,J＝7Hz),3.02(1H,dd,J＝９および14
Hz),3.25-3.5(1H,nd),3.59(2H,q,J＝7Hz),3.83および3.
96(2H,AB型，Ｊ＝10Hz),4.23(1H,s,重水添加で消失),4.
36(1H,dd,J＝４および9Hz),6.84(2H,d,J＝9Hz),7.11(2
H,d,J＝9Hz)。
応用例１０ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−ヒドロキシイミノ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３
−酢酸ｔ−ブチル ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベン
ジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−
ブチル０．５ｇ、塩酸ヒドロキシルアミン０．２５ｇ、
ピリジン０．２５ｇおよびメタノール５mlの混合物を２
５〜３０℃で２日間放置した。反応混合物に酢酸エチル
および炭酸カリウム水溶液を加え、有機層を分液した。
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離
液；ベンゼン：酢酸エチル＝９：１）に付し目的化合物
を得た。
Ｒｆ値：０．５５（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
４：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.42(3H,s),
1.45(9H,s),2.07(3H,s),2.17(3H,s),2.46(3H,s),3.03(1
H,dd,J＝10および13.5Hz),3.07(2H,s),3.55(1H,dd,J＝
４および13.5Hz),4.06(2H,s),4.18(2H,s),4.83(1H,dd,J
＝４および10Hz),6.94(2H,d,J＝9Hz),7.25(2H,d,J＝9H
z),10.2(1H,br,s,重水添加により消失）。
実施例４１ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−４−ヒドロキシイミノ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−６−イルオキ
シ酢酸２−メトキシエチル ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２，５，７，８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−６−イルオキシ酢酸２−
メトキシエチル０．６ｇ、塩酸ヒドロキシルアミン０．
３ｇ、ピリジン０．３ｇ、メタノール６mlの混合物を２
５〜３０℃で２日間放置した。反応混合物に酢酸エチル
および炭酸カリウム水溶液を加え、有機層を分液した。
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離
液；ベンゼン：酢酸エチル＝７：３）に付し、目的化合
物を得た。
Ｒｆ値：０．３２（テーリング）〔展開溶剤；ベンゼ
ン：酢酸エチル＝３：２〕 ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.43(3H,s),
2.06(3H,s),2.20(3H,s),2.46(3H,s),2.8-3.55(2H,nd),
3.10(2H,AB型，Ｊ＝13.5Hz),3.32(3H,s),3.55-3.7(2H,
m),4.08(2H,AB型，Ｊ＝6Hz),4.25-4.4(2H,m),4.34(2H,
s),4.76(1H,dd,J＝９および9Hz),6.93(2H,d,J＝9Hz),7.
24(2H,d,J＝9Hz),10.0-10.6(1H,br.,重水添加で消
失）。
応用例１１ ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−４
−ヒドロキシイミノ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２，４−ジオ
キソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−
２，５，７，８−テトラメチル−４−オクソクロマン−
２−イルメトキシ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチア
ゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル０．５ｇ、塩酸ヒドロキ
シルアミン０．２ｇ、ピリジン０．２ｇおよびメタノー
ル５mlの混合物を２５〜３０℃で５日間放置した。反応
混合物に酢酸エチルおよび炭酸カリウム水溶液を加え、
有機層を分液した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１）
に付し目的化合物を得た。
Ｒｆ値；０．４３（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
１０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.45(3H,s),
1.47(9H,s),1.54(9H,s),2.07(3H,s),2.23(3H,s),2.47(3
H,s),2.85-3.15(1H,nd),3.08(2H,s),3.57(1H,dd,J＝４
および13.5Hz),3.97(2H,s),4.20(4H,s),4.46(1H,dd,J＝
４および9Hz),6.87(2H,d,J＝9Hz),7.15(2H,d,J＝9Hz),
7.5-8.05(1H,br.)。
応用例１２ ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−４
−ヒドロキシイミノ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２，４−ジオ
キソチアゾリジン−３，５−二酢酸ジ−ｔ−ブチル ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−
２，５，７，８−テトラメチル−４−オクソクロマン−
２−イルメトキシ〕ベンジル〕−２，４−ジオキソチア
ゾリジン−３，５−二酢酸ジ−ｔ−ブチル３５０mg、塩
酸ヒドロキシルアミン１２２mg、ピリジン１２２mgおよ
びメタノール４mlの混合物を２５〜３０℃で５日間放置
した。反応混合物に酢酸エチルおよび炭酸カリウム水溶
液を加え、有機層を分液した。有機層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル＝
２０：１）に付し目的化合物を得た。
Ｒｆ値；０．４８（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
１０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.45(21H,
s),1.53(9H,s),2.08(3H,s),2.23(3H,s),2.47(3H,s),2.9
-3.2(2H,nd),3.07(2H,br.s),3.22(2H,s),3.95(2H,br.
s),4.11(2H,s)4.18(2H,s),6.83(2H,d,J＝9Hz),7.13(2H,
d,J＝9Hz),7.68(1H,br.s)。
実施例４２ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−４−ヒドロキシイミノ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−６−イルオキ
シ酢酸エチル 実施例４１に準じて２−〔４−（２，４−ジオキソチア
ゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル〕−２，
５，７，８−テトラメチル−４−オキソクロマン−６−
イルオキシ酢酸エチル３３０mg、塩酸ヒドロキシルアミ
ン１７０mg、ピリジン１７０mg、メタノール３mlから淡
黄色粉末状の目的化合物を得た。
Ｒｆ値：０．６７（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
１：１） マススペクトル（ｍ／ｅ）：５５６（Ｍ＋） 実施例４３ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−６−イルオキシ酢酸 ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−６−イルオキシ酢酸２−メトキシエチ
ル２２０mg、４Ｎ塩化水素ジオキサン溶液３mlおよび水
０．３mlの混合物を５時間加熱還流した。反応終了後溶
媒を留去し、得られた残渣を水で洗浄して淡黄色粉末状
の目的物を得た。
ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.38(3H,s),
1.82-2.2(2H,nd),2.02(3H,s),2.15(6H,s),2.65(2H,br.
t,J＝7Hz),3.08(1H,dd,J＝９および14Hz),3.41(1H,dd,J
＝４および14Hz),4.00(2H,s),4.27(2H,s),4.73(1H,dd,J
＝４および9Hz),6.92(2H,d,J＝9Hz),7.23(2H,d,J＝9H
z),9.9-11.3(1H,br.,重水添加により消失）。
マススペクトル（ｍ／ｅ）：４９９（Ｍ＋） ナトリウム塩 実施例３０に準じてナトリウム塩を得た。
融点：１６５−１７０℃（白色粉末） 実施例４４ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２，５，７，８−テトラ
メチル−４−オクソクロマン−６−イルオキシ酢酸 酢酸 実施例３２で得た２−メトキシエチルエステルの次に、
溶離液（酢酸エチル：テトラヒドロフラン：メチルアル
コール＝２：２：１）で溶出される部分から、淡黄色粉
末状の標記化合物を得た。
ＮＭＲスペクトル（δppm，ＤＭＳＯ−ｄ６）：1.41(3
H,s),2.02(3H,s),2.18(3H,s),2.46(3H,s),2.68(1H,d,J
＝16Hz),2.85-3.2(2H,nd),3.22(1H,dd,J＝４および14H
z),4.01(2H,s),4.12(2H,s),4.61(1H,dd,J＝４および9H
z),6.87(2H,d,J＝9Hz),7.15(2H,d,J＝9Hz)。
ナトリウム塩 実施例３０に準じてナトリウム塩を得た。
融点：１６０−１６５℃（淡黄色粉末） 実施例４５ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−４−ヒドロキシイミノ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−６−イルオキ
シ酢酸 ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−４−ヒドロキシイミノ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−６−イルオキ
シ酢酸エチル８．９mg、エタノール１mlおよび０．３１
２Ｍ水酸化ナトリウム水溶液０．２mlの混合物を０−５
℃で１９時間放置した。ＨＰＬＣにより原料の消失を確
認した後、反応混合物に０．３５％塩酸０．５６mlを加
え、減圧下溶媒を留去した。残渣にクロロホルムと水を
加えて析出した淡黄色粉末を濾取し、さらに水洗して目
的物を得た。
マススペクトル（ｍ／ｅ、グリセロールをマトリックス
に用いるファースト・アトム・ボンバードメント法（Ｆ
ＡＢ法）で測定）： 〔Ｍ＋Ｈ〕＋＝５２９ 〔Ｍ−Ｈ〕−＝５２７ より分子量ＭＷ＝５２８。
ナトリウム塩 実施例３０に準じてナトリウム塩を得た。
融点：１７３−１８０℃（白色粉末） 応用例１３ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２，
４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸 ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２，
４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル１．０
ｇと４Ｎ塩化水素ジオキサン溶液１０mlの混合物を室温
で１夜放置した。反応終了後、溶媒を留去し得られた残
渣を水で洗浄し、淡黄色粉末状の目的物を得た。
軟化点：８５−９０℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するジグナルが
消失した。
マススペクトル（ｍ／ｅ）：４９９（Ｍ＋） 応用例１４ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−４−オキソクロマン−２−イルメトキ
シ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３−
酢酸 応用例１３に準じて、５−〔４−（６−ヒドロキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−４−オキソク
ロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２，４−ジオ
キソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル３５０mgと４Ｎ
塩化水素ジオキサン溶液４mlから淡黄色粉末状の目的物
を得た。
軟化点：６０−７０℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するジグナルが
消失した。
マススペクトル（ｍ／ｅ）：５１３（Ｍ＋） 応用例１５ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−ヒドロキシイミノ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３
−酢酸 応用例１３に準じて、５−〔４−（６−ヒドロキシ−４
−ヒドロキシイミノ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２，４−ジオ
キソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル４００mgと４Ｎ
塩化水素ジオキサン溶液５mlから、淡褐色粉末状の目的
物を得た。
軟化点：９０−９５℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するジグナルが
消失した。
応用例１６ ５−〔４−（６−カルボキシメトキシ−２，５，７，８
−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジ
ル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸 ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３
−酢酸ｔ−ブチル０．６３mgと４Ｎ塩化水素ジオキサン
溶液６mlの混合物を室温で１夜放置した。反応終了後、
応用例１３に準じて処理し、淡黄色粉末状の目的物を得
た。
軟化点：９５−１００℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するジグナルが
消失した。
マススペクトル（ｍ／ｅ）：５５７（Ｍ＋） 応用例１７ ５−〔４−（６−カルボキシメトキシ−２，５，７，８
−テトラメチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキ
シ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３−
酢酸 応用例１３に準じて、５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカ
ルボニルメトキシ−２，５，７，８−テトラメチル−４
−オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−
２，４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル５
７０mgと４Ｎ塩化水素ジオキサン溶液６mlから淡黄色粉
末状の目的物を得た。
軟化点：８０−８５℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するジグナルが
消失した。
マススペクトル（ｍ／ｅ）：５７１（Ｍ＋） 応用例１８ ５−〔４−（６−カルボキシメトキシ−４−ヒドロキシ
イミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリ
ジン−３−酢酸 応用例１３に準じて、５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカ
ルボニルメトキシ−４−ヒドロキシイミノ−２，５，
７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）ベ
ンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸ｔ
−ブチル３７０mgと４Ｎ塩化水素ジオキサン溶液４mlか
ら、淡黄色粉末状の目的物を得た。
軟化点：９０−１００℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するジグナルが
消失した。
応用例１９ ５−〔４−（６−カルボキシメトキシ−２，５，７，８
−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジ
ル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３，５−二酢酸 ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−
３，５−二酢酸ジ−ｔブチル０．４１mgと４Ｎ塩化水素
ジオキサン溶液４mlの混合物を室温で一夜放置した。反
応終了後、応用例１３に準じて処理し、淡黄色粉末状の
目的物を得た。
軟化点：１０５−１１０℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するジグナルが
消失した。
マススペクトル（ｍ／ｅ）：６１５（Ｍ＋） 応用例２０ ５−〔４−（６−カルボキシメトキシ−２，５，７，８
−テトラメチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキ
シ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３，
５−二酢酸 応用例１３に準じて、５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカ
ルボニルメトキシ−２，５，７，８−テトラメチル−４
−オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−
２，４−ジオキソチアゾリジン−３，５−二酢酸ジ−ｔ
−ブチル３４０mgと４Ｎ塩化水素ジオキサン溶液４mlか
ら淡黄色粉末状の目的物を得た。
軟化点：１０５−１１０℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するジグナルが
消失した。
マススペクトル（ｍ／ｅ）：６２９（Ｍ＋） 応用例２１ ５−〔４−（６−カルボキシメトキシ−４−ヒドロキシ
イミノ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリ
ジン−３，５−二酢酸 応用例１３に準じて、５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカ
ルボニルメトキシ−４−ヒドロキシイミノ−２，５，
７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）ベ
ンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３，５−二
酢酸ジ−ｔ−ブチル２７０mgと４Ｎ塩化水素ジオキサン
溶液３mlから、淡黄色粉末状の目的物を得た。
軟化点：９０−１００℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するジグナルが
消失した。
実施例４６ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−６−イルオキシ酢酸エチル ａ）５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テ
トラメチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チ
アゾリジン−２，４−ジオン５００mgをジメチルホルム
アミド１５mlに溶かし、ここに５５％油性水素化ナトリ
ウム１００mgを加えて、室温で１時間攪拌した。次いで
氷冷下、ブロモ酢酸エチル３８０mgを滴下し、同温度で
３０分間攪拌した。反応混合物を３Ｎ塩酸と氷の混合物
中に注ぎ、ベンゼンで抽出した。抽出液を水洗後、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去し、得
られた残渣を分取用シリカゲル薄層クロマトグラフィー
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝４：１）に付し、
目的化合物を得た。
融点：１０４−１０６℃ シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ層＝０．４７
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝４：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.32(3H,t,J
＝7Hz),1.40(3H,s),1.7-2.2(2H,nd),2.06(3H,s),2.14(3
H,s),2.19(3H,s),2.62(2H,br.t,J＝7Hz),3.08(1H,dd,J
＝９および14Hz),3.46(1H,dd,J＝４および14Hz),3.87お
よび3.97(2H,AB型，Ｊ＝10Hz),4.29(2H,s),4.30(2H,q,J
＝7Hz),4.50(1H,dd,J＝および9Hz),6.89(2H,d,J＝9Hz),
7.16(2H,d,J＝9Hz),7.8-8.8(1H,br.,重水添加により消
失）。
ｂ）参考例４０に準じて製造した６−エトキシカルボニ
ルメトキシ−２，５，７，８−テトラメチル−２−（４
−ニトロフェノキシメチル）クロマンを参考例４１，４
３、次いで実施例３２に準じて、各々、接触還元反応、
ジアゾ化ならびにメイルバイン アリーレーション反
応、次いでチアゾリジン環生成反応ならびに加水分解反
応に付し、標記化合物を得た。その融点、薄層クロマト
グラフィーによるＲｆ値およびＮＭＲスペクトルはａ）
におけるそれらと一致した。
応用例２２ ４−｛５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメエチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジ
ル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３−イル｝酪酸
エチル 応用例１に準じて、５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン５００m
g、γ−ブロモ酪酸エチル１．１ｇ、炭酸カリウム１．
５ｇおよびアセトン２０mlより製造された目的化合物は
以下の物性を有する。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．５６
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝４：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.24(3H,t,J
＝7Hz),1.40(3H,s),1.7-2.4(6H,nd),2.10(6H,s),2.15(3
H,s),2.63(2H,br.t,J＝7Hz),3.05(1H,dd,J＝９および14
Hz),3.3-3.55(1H,nd),3.61(2H,t,J＝7Hz),3.85および3.
97(2H,AB型，Ｊ＝10Hz),4.12(2H,q,J＝7Hz),4.25(1H,s,
重水添加により消失),4.38(1H,dd,J＝４および9Hz),6.8
6(2H,d,J＝9Hz),7.13(2H,d,J＝9Hz)。
実施例４６ａ）に準じて製造した誘導体（Ｗ：＞ＣＨ２
または＞＝０）ならびに同実施例４１に準じて製造した
誘導体〔Ｗ：＞＝ＮＯＶ（Ｖは前述と同意義を示
す。）〕は以下の物性を有する。
第１５表で示したエステル類を実施例４３、４５または
応用例１３に準じて加水分解に付し、対応するカルボン
酸誘導体を得た。それらは以下の物性を有する。
応用例２３ ４−｛５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕
−２，４−ジオキソチアゾリジン−３−イル｝酪酸 実施例４３に準じて、４−｛５−〔４−（６−ヒドロキ
シ−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イル
メトキシ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン
−３−イル｝酪酸エチル３６０mg、酢酸１５mlおよび３
Ｎ塩酸５mlから得られた目的化合物は以下の物性を有す
る。
軟化点：５７−６３℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.37(3H,s),
1.6-2.4(6H,nd),2.03(3H,s),2.09(3H,s),2.12(3H,s),2.
63(2H,br.t,J＝7Hz),3.11(1H,dd,J＝８および14Hz),3.3
-3.55(1H,nd),3.58(2H,t,J＝7Hz),3.97(2H,s),4.70(1H,
dd,J＝４および8Hz),6.91(2H,d,J＝9Hz),7.20(2H,d,J＝
9Hz)。
実施例６７ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２，５，７，８−テトラ
メチルクロマン−６−イルオキシアセトアミド 実施例４６ａ）に準じて、５−〔４−（６−ヒドロキシ
−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメ
トキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン２
ｇ、５５５油性水素化ナトリウム０．４ｇ、ヨードアセ
トアミド０．８４ｇ、およびジメチルホルムアミド２５
mlから製造した目的化合物は以下の物性を有する。
軟化点：１５２−１５７℃ シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．１９
（（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝１：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＤＭＳＯ−ｄ６）：1.32(3
H,s),1.7-2.1(2H,nd),1.97(3H,s),2.09(6H,s),2.4-2.7
(2H,m),3.02(1H,dd,J＝８および15Hz),3.2-3.4(1H,nd),
3.99(4H,s),4.84(1H,dd,J＝４および8Hz),6.91(2H,d,J
＝8Hz),7.16(2H,d,J＝8Hz),7.3-7.7(2H,br.)。
実施例６８ ５−〔４−（２，５，７，８−テトラメチル−６−ピペ
リジノカルボニルメトキシクロマン−２−イルメトキ
シ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン ａ）２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−
イルメチル）フェノシメチル〕−２，５，７，８−テト
ラメチルクロマン−６−イルオキシ酢酸エチル０．５ｇ
とピペリジン２mlの混合物を８０℃で３時間加熱した。
反応混合物を３Ｎ塩酸と氷の混合物中に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を水洗後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を減圧下で留去して得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ベンゼン：
酢酸エチル＝３：２）に付し、目的化合物を得た。
軟化点：８３−９０℃ シカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．６２
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２：３） ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.3-1.8(6H,
m),1.39(3H,s),1.8-2.2(2H,nd),2.01(3H,s),2.12(3H,
s),2.14(3H,s),2.64(2H,br.t,J＝7Hz),3.08(1H,dd,J＝
９および15Hz),3.3-3.55(1H,nd),3.4-3.8(4H,m),3.99(2
H,s),4.34(2H,s),4.73(1H,dd,J＝４および9Hz),6.91(2
H,d,J＝8Hz),7.21(2H,d,J＝8Hz)。
マススペクトル（ｍ／ｅ）：５６６（Ｍ＋） ｂ）２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−
イルメチル）フェノシメチル〕−２，５，７，８−テト
ラメチルクロマン−６−イルオキシ酢酸５００mg、ピペ
リジン８５mg、トリエチルアミン２４３mg、ヨウ化２−
クロロ−１−メチルピリジニウム３０７mg、およびジオ
キサン７mlの混合物を４０℃で３時間加温した。反応混
合物を５％塩酸で酸性にして、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ベンゼン：酢酸
エチル＝３：２）に付して目的化合物を得た。本化合物
はａ）で得た化合物とシリカゲル薄層クロマトグラフィ
ーのＲｆ値、マススペクトル、およびＮＭＲスペクトル
のデータが一致した。
実施例６９ ５−〔４−（６−モルホリノカルボニルメトキシ−２，
５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン 実施例６８ｂ）に準じて、２−〔４−（２，４−ジオキ
ソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル〕
−２，５，７，８−テトラメチルクロマン−６−イルオ
キシ酢酸５００mg、モルホリン８７mg、トリエチルアミ
ン２４３mg、ヨウ化２−クロロ−１−メチルピリジニウ
ム３０７mg、およびジオキサン５mlより製造した目的化
合物は以下の物性値を有する。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．４１
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２：３） ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.40(3H,s),
1.75-2.2(2H,nd),2.03(3H,s),2.14(6H,s),2.65(2H,br.
t,J＝6Hz),3.08(1H,dd,J＝９および15Hz),3.43(1H,dd,J
＝４および15Hz),3.63(8H,s),4.00(2H,s),4.38(2H,s),
4.73(1H,dd,J＝４および9Hz),6.92(2H,d,J＝9Hz),7.22
(2H,d,J＝9Hz)。
参考例１（Ｃ−４） エチル ６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチルクロ
マン−２−カルボキシレート エチル ６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチルクロ
モン−２−カルボキシレート１４ｇを酢酸３２０mlにと
かし、１０％パラジウム炭素３．５ｇの存在下、水素圧
３気圧、６０〜６５℃で１時間接触還元した。該触媒を
濾別し、濾液を水中にあけ析出した白色結晶を濾取し
た。この目的物の融点は１０８−１０９℃であった。
ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.28(3H,t,J
＝7Hz),2.07(3H,s),2.17(6H,3),1.9-2.3(2H,nd),2.65(2
H,br.t,J＝7Hz),4.22(2H,q,J＝7Hz),4.1-4.3(1H,nd),4.
60(1H,dd,J＝７および4Hz)。
参考例２（Ｃ−５） エチル ６−メトキシメトキシ−５，７，８−トリメチ
ルクロマン−２−カルボキシレート エチル ６−ヒドロキシ−５，７，８，−トリメチルク
ロマン−２−カルボキシレート１４．３ｇ、ジメチルホ
ルムアミド１３０mlの混合物に、窒素気流下、５−１０
℃で５５％油性水素化ナトリウム３ｇ（スクロヘキサン
で２回洗う）を少しずつ加える。室温で１時間かきまぜ
たのち、３〜５℃に氷冷し、クロロメチルエーテル５．
６ｇを滴下する。滴下終了後室温で１時間かきまぜる。
反応混合物を氷水に注ぎ、クロヘキサンで抽出する。抽
出液を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル＝２５．１）
に付し、目的化合物を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．４１
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.27(3H,t,J
＝7Hz)2.0-2.4(2H,nd),2.15(3H,s),2.16(3H,s),2.20(3
H,s),2.64(2H,br.t,J＝7Hz),3.61(3H,s),4.24(2H,q,J＝
7Hz),4.64(1H,dd,J＝４および7Hz),4.87(2H,s)。
参考例３（Ｃ−６） エチル ６−メトキシメトキシ−５，７，８−トリメチ
ル−２−オクチルクロマン−２−カルボキシレート ジイソプロピルアミン２ｇとテトラヒドロフラン８０ml
の混合物に、窒素気流下、−６０〜−５０℃で、ｎ−ブ
チルリチウムのヘキサン溶液（ｎ−ブチルリチウム１．
６２ｍ mol/ml）７．８mlを滴下し、室温で１０分間放
置した。次いで−６０℃でエチル６−メトキシメトキシ
−５，７，８−トリメチルクロマン−２−カルボキシレ
ート４ｇをテトラヒドロフラン約１０mlにとかして加え
１時間攪拌した。次いで臭化オクチル５ｇをテトラヒド
ロフラン約２０mlにとかして加え−６０℃で１時間、室
温で１時間攪拌し、さらに５０℃で１時間加熱した。反
応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液
を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減
圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶離液；ベンゼン）に付し、目的化合物を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値；０．５８
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.89(3H,br.
t,J＝6Hz),1.15(3H,t,J＝7Hz),1.2-1.6(12H,m),1.6-2.4
(4H,m),2.1(3H,s),2.18(3H,s),2.2(3H,s),2.4-2.7(2H,
m),3.59(2H,s),4.11(2H,q,J＝7Hz),4.85(2H,s)。
参考例４（Ａ−１′） ６−メトキシメトキシ−５，７，８−トリメチル−２−
オクチルクロマン−２−イルメタノール リチウムアルミナムハイドライド０．４５ｇ、テトラヒ
ドロフラン３０mlの混合物に、窒素気流下、エチル ６
−メトキシメトキシ−５，７，８−トリメチル−２−オ
クチルクロマン−２−カルボキシレート３．３ｇを、テ
トラヒドロフラン１０mlに溶かして氷冷下で滴下した
後、室温で３時間かきまぜた。反応混合物に氷冷下酢酸
エチルおよび５％塩酸を加え、有機層を分離し、水層を
さらに酢酸エチルで抽出した。両抽出液を合わせて飽和
食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を
減圧下に留去し、シリカゲル薄層クロマトグラフィー
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝１０：１）におけ
るＲｆ値＝０．４５の目的化合物を得た。
ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.7-1.0(3H,
m),1.0-2.3(16H,m),2.10(3H,s),2.15(3H,s),2.20(3H,
s),2.59(2H,br.t,J＝7Hz),3.6(5H,s),4.87(2H,s)。
参考例５（Ａ−２） ６−メトキシメトキシ−５，７，８−トリメチル−２−
（４−ニトロフェノキシメチル）−２−オクチルクロマ
ン ６−メトキシメトキシ−５，７，８−トリメチル−２−
オキソクロマン−２−イルメタノール３ｇ、ジメチルホ
ルムアミド２５mlの混合物に、窒素気流下、室温で５５
％油性水素化ナトリウム０．３８ｇを加え、次いで５０
℃で２時間加熱した。氷冷下でｐ−クロロニトロベンゼ
ン１．４ｇとベンゼン２mlの混合物を滴下後、５０℃で
２時間加熱した。反応混合物を氷水にあけ、ベンゼンで
抽出し、抽出液を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー（溶離液；ベンゼン）に付し、目的化合物
を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．４６
（展開溶剤；ベンゼン） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.7-1.0(3H,
m),1.0-1.9(14H,m),1.9-2.3(2H,nd),2.06(3H,s),2.15(3
H,s),2.19(3H,s),2.6(2H,br.t,J＝7Hz),3.60(3H,s),4.0
5(2H,s),4.87(2H,s),6.97(2H,d,J＝9Hz),8.18(2H,d,J＝
9Hz)。
参考例６（Ａ−３−脱保護工程） ６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチル−２−（４−
ニトロフェノキシメチル）−２−オクチルクロマン ６−メトキシメトキシ−５，７，８−トリメチル−２−
（４−ニトロフェノキシメチル）−２−オクチルクロマ
ン３．７ｇ、酢酸１０ml、ベンゼン３０mlおよび１０％
硫酸０．７５mlの混合物を３０分加熱還流した。反応混
合物を水にあけベンゼンで抽出し、抽出液を水で洗い、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去
し、シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤；ベ
ンゼン）におけるＲｆ値＝０．３４の目的化合物を得
た。
ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.7-1.0(3H,
m),1.0-1.85(14H,m),1.85-2.2(2H,nd),2.10(6H,s),2.16
(3H,s),2.63(2H,br.t,J＝7Hz),4.06(2H,s),4.19(1H,s,
重水添加で消失),6.97(2H,d,J＝9Hz),8.19(2H,d,J＝9H
z)。
参考例７（Ａ−３−アシル化） ６−アセトキシ−５，７，８−トリメチル−２−（４−
ニトロフェノキシメチル）−２−オクチルクロマン ６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチル−２−（４−
ニトロフェノキシメチル）−２−オクチルクロマン３．
５ｇ、ピリジン１０ml、ベンゼン１０mlの混合物に、無
水酢酸１．２ｇを加えて、室温で２時間かきまぜた。反
応混合物を水にあけ、ベンゼンで抽出し、抽出液を５％
塩酸、ついで水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を減圧下に留去し、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー（展開溶剤；ベンゼン）におけるＲｆ値＝０．
４の目的化合物を得た。
ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.75-1.0(3
H,m),1.1-1.65(12H,m),1.65-2.15(4H,nd),1.99(3H,s),
2.04(3H,s),2.08(3H,s),2.32(3H,s),2.63(2H,br.t,J＝7
Hz),4.07(2H,s),6.98(2H,d,J＝9Hz),8.20(2H,d,J＝9H
z)。
参考例８（Ａ−３−Ｈ２） ６−アセトキシ−２−（４−アミノフェノキシメチル）
−５，７，８−トリメチル−２−オクチルクロマン ６−アセトキシ−５，７，８−トリメチル−２−（４−
ニトロフェノキシメチル）−２−オクチルクロマン４
ｇ、１０％パラジウム炭素０．８ｇ、メタノール３０m
l、ベンゼン１０mlの混合物を、パールの水添装置を用
い、水素圧３−５気圧で５時間振盪した。該パラジウム
炭素を濾去し、濾液を減圧下で濃縮し、得られた結晶を
ヘキサンで洗浄して目的物を得た。
融点：１１２−１１４℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.7-1.05(3
H,m),1.05-1.65(12H,m),1.65-2.2(4H,nd),1.97(3H,s),
2.02(3H,s),2.10(3H,s),2.31(3H,s),2.59(2H,br.t,J＝7
Hz),3.0-3.7(2H,br.s,重水添加で消失する),3.86(2H,
s),6.62(2H,d,J＝10Hz),6.75(2H,d,J＝10Hz)。
参考例９（Ａ−４） エチル ３−〔４−（６−アセトキシ−５，７，８−ト
リメチル−２−オクチルクロマン−２−イルメトキシ）
フェニル〕−２−クロロプロピオネート ６−アセトキシ−２−（４−アミノフェノキシメチル）
−５，７，８−トリメチル−２−オクチルクロマン３．
２ｇ、アセトン３５mlの混合物に、窒素気流下、５〜１
０℃で濃塩酸３．５ml、ついで、亜硝酸ソーダ０．６１
ｇを水１．７mlにとかし滴下、さらにアクリル酸エチル
７．２mlを滴下した。内温を４０−４３℃とし、酸化第
一銅０．１ｇを徐々に加える。約３０分で窒素の発生が
終了する。反応混合物を水にあけベンゼンで抽出した。
該抽出液を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、
溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（溶離液；シクロヘキサン：酢酸エチル
＝１０：１）に付し、目的化合物を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．２７
（展開溶剤；シクロヘキサン：酢酸エチル＝９：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.8-1.05(3
H,m),1.05-1.65(15H,m),1.65-2.2(4H,nd),1.97(3H,s),
2.03(3H,s),2.09(3H,s),2.30(3H,s),2.6(2H,br.t,J＝7H
z),3.07(1H,dd.J＝7および14Hz),3.30(1H,dd,J＝7およ
び14Hz),3.92(2H,s),4.18(2H,q,J＝7Hz),4.36(1H,t,J＝
7Hz),6.85(2H,d,J＝9Hz),7.13(2H,d,J＝9Hz)。
参考例１０（Ｄ−１） ６−アセトキシ−２−メチル−２−（４−ニトロフェノ
キシメチル）−４−オキソ−７−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）クロマン ５−アセトキシ−２−ヒドロキシ−４−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）アセトフェノン２３ｇ、１−
（４−ニトロフェノキシ）−２−プロパノン１４．７
ｇ、ピロリジン８ｇ、ベンゼン３００mlの混合物を、室
温で３時間かきまぜる。その後１０時間加熱還流した。
反応混合物を氷水にあけて、ベンゼンで抽出し、抽出液
を５％塩酸、次いで水で洗った後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。溶媒を減圧下で留去し、残渣に、無水酢酸
１５ｇ、ピリジン４００mlを加え室温で１日放置した。
反応混合物を氷水にあけて、ベンゼンで抽出し、抽出液
を５％塩酸、ついで水で洗った後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶離液；ベンゼン：酢酸エ
チル＝２０：１）に付し、さらに、メタノールより再結
晶して、目的化合物を得た。
融点：１６５．５−１６７℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.76(9H,s),
1.36(6H,s),1.57(3H,s),1.83(2H,s),2.32(3H,s),2.74(1
H,d,J＝17Hz),3.10(1H,d,J＝17Hz),4.11および4.24(2H,
AB型,J＝9Hz),6.95(2H,d,J＝9Hz),6.98(1H,s),7.50(1H,
s),8.20(2H,d,J＝9Hz)。
参考例１１（Ｄ−２） ６−アセトキシ−２−（４−アミノフェノキシメチル）
−２−メチル−４−オキソ−７−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）クロマン ６−アセトキシ−２−メチル−２−（４−ニトロフェノ
キシメチル）−４−オキソ−７−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）クロマン１２．３ｇを、メタノール
２００mlおよびベンゼン２０mlの混合物にとかし、１０
％パラジウム炭素２．４ｇの存在下、水素圧約１気圧で
６時間室温で還元した。該パラジウム炭素を濾去し、濾
液を減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル＝
４：１）に付し、目的化合物を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．２９
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝４：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.78(9H,s),
1.37(6H,s),1.52(3H,s),1.83(2H,s),2.30(3H,s),2.66(1
H,d,J＝17Hz),3.10(1H,d,J＝17Hz),3.4(2H,br.s,重水添
加で消失),3.92および4.06(2H,AB型,J＝9Hz),6.58(2H,
d,J＝9Hz),6.76(2H,d,J＝9Hz),7.00(1H,s),7.50(1H,
s)。
参考例１２（Ｄ−３） エチル ３−〔４−（６−アセトキシ−２−メチル−４
−オキソ−７−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）クロマン−２−イルメトキシ〕フェニル〕−２−ク
ロロプロピオネート 参考例９に準じて、６−アセトキシ−２−（４−アミノ
フェノキシメチル）−２−メチル−４−オキソ−７−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）クロマン９
ｇ、亜硝酸ナトリウム１．８ｇ、濃塩酸１０ml、アクリ
ル酸エチル２０ｇ、酸化第一銅０．３ｇ、アセトン１０
０mlおよび水約８mlから製造された目的物は次の物性を
有する。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．３２
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.78(9H,s),
1.23(3H,t,J＝7Hz),1.38(6H,s),1.53(3H,s),1.85(2H,
s),2.30(3H,s),2.69(1H,d,J＝17Hz),3.08(1H,dd,J＝7.5
および15Hz),3.10(1H,d,J＝17Hz),3.32(1H,dd,J＝7.5お
よび15Hz),3.99および4.12(2H,AB型,J＝10.5Hz),4.18(2
H,q,J＝7Hz),4.36(2H,t,J＝7Hz),6.82(2H,d,J＝9Hz),7.
01(1H,s),7.16(2H,d,J＝9Hz),7.52(1H,s)。
参考例１３（Ｆ−１） ６−アセトキシ−４−ヒドロキシ−２−メチル−２−
（４−ニトロフェノキシメチル）−７−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）クロマン ６−アセトキシ−２−メチル−２−（４−ニトロフェノ
キシメチル）−４−オキソ−７−（１，１，３，３−テ
トラメチルブチル）クロマン１３ｇをメタノール１００
mlとベンゼン１０mlの混合溶媒に溶かし、氷冷下、水素
化ホウ素ナトリウム１ｇを加えて、氷冷で３０分かきま
ぜた。反応混合物を氷水にあけ、１０％塩酸で中和した
後、ベンゼンで抽出し、抽出液を水で洗い、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ベンゼ
ン：酢酸エチル＝４：１）に付し、目的化合物を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．３２
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝４：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.77(9H,s),
1.34(6H,s),1.54(3H,s),1.80(2H,s),1.85-2.25(1H,nd),
2.29(3H,s),2.48(1H,dd,J＝7および14Hz),4.02(2H,AB
型,J＝12Hz),4.7-5.0(1H,m),6.85(1H,s),6.95(2H,d,J＝
9Hz),7.08(1H,s),8.18(2H,d,J＝9Hz)。
参考例１４（Ｆ−３） ６−ヒドロキシ−２−メチル−２−（４−ニトロフェノ
キシメチル）−７−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）−２Ｈ−クロメン）（１） および、６−アセトキシ−２−メチル−２−（４−ニト
ロフェノキシメチル）−７−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）−２Ｈ−クロメン（２） ６−アセトキシ−４−ヒドロキシ−２−メチル−２−
（４−ニトロフェノキシメチル）−７−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）クロマン１０．２ｇ、ｐ−ト
ルエンスルホン酸０．４ｇをベンゼン２００mlに溶かし
窒素気流下、３０分加熱還流した。反応混合物を氷水に
あけ、ベンゼンで抽出し、抽出液を水で洗い、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ベンゼ
ン）に付し、シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開
溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１）におけるＲｆ
値＝０．５３の目的化合物（１）及びＲｆ値＝０．５０
の目的化合物（２）を得た。
（１）のＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.7
5(9H,s),1.38(6H,s),1.56(3H,s),1.89(2H,s),4.09(2H,
s),4.43(1H,s,重水添加で消失),5.63(1H,d,J＝10Hz),6.
32(1H,s),6.41(1H,d,J＝10Hz),6.73(1H,s),6.96(2H,d,J
＝9Hz),8.20(2H,d,J＝9Hz)。
（２）のＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.7
6(9H,s),1.32(6H,s),1.58(3H,s),1.79(2H,s),2.29(3H,
s),4.10(2H,s),5.62(1H,d,J＝10Hz),6.43(1H,d,J＝10H
z),6.69(1H,s),6.79(1H,s),6.93(2H,d,J＝9Hz),8.18(2
H,d,J＝9Hz)。
参考例１５（Ｆ−５） ６−アセトキシ−２−（４−アミノフェノキシメチル）
−２−メチル−７−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）クロマン ６−アセトキシ−２−メチル−２−（４−ニトロフェノ
キシメチル）−７−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル），−２Ｈ−クロメン９．１ｇ、１０％パラジウム
炭素２ｇ、メタノール１５０mlの混合物を、パールの水
添装置を用い、水素圧、３−５気圧で１０時間振盪し
た。該パラジウム炭素を濾去し、濾液を減圧下濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離
液；ベンゼン：酢酸エチル＝１０：１）に付し、目的化
合物を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．２７
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝９：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.77(9H,s),
1.34(6H,s),1.42(3H,s),1.7-2.2(2H,nd),1.78(2H,s),2.
27(3H,s),2.65(2H,br.q,J＝7Hz),3.36(2H,br,s,重水添
加で消失),3.85(2H,AB型,J＝9Hz),6.54-6.88(6H,m)。
参考例１６（Ａ−４） エチル ３−〔４−〔６−アセトキシ−２−メチル−７
−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）クロマン−
２−イルメトキシ〕フェニル〕−２−クロロプロピオネ
ート 参考例９に準じて、６−アセトキシ−２−（４−アミノ
フェノキシメチル）−２−メチル−７−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）クロマン７．９ｇ、亜硝酸ナ
トリウム１．６ｇ、濃塩酸９ml、アクリル酸エチル１８
ｇ、酸化第一銅２６０mg、アセトン９０mlおよび水約５
mlから製造された目的物は、次の物性を有する。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．５５
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.78(9H,s),
1.22(3H,t,J＝7Hz),1.35(6H,s),1.43(3H,s),1.7-2.3(2
H,nd),1.79(2H,s),2.27(3H,s),2.70(2H,br.t,J＝6Hz),
3.07(1H,dd,J＝7.5および15Hz),3.32(1H,dd,J＝7.5およ
び15Hz),3.91(2H,AB型,J＝9Hz),4.18(2H,q,J＝7Hz),4.3
7(1H,t,J＝7Hz),6.72(1H,s),6.85(1H,s),6.86(2H,d,J＝
9Hz),7.16(2H,d,J＝9Hz)。
参考例１７（Ｅ−１） エチル ６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチル−４
−オキソクロマン−２−カルボキシレート エチル ６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチルクロ
モン−２−カルボキシレート１２ｇをジメチルホルムア
ミド２５０mlにとかし、１０％パラジウム炭素１６ｇの
存在下、水素圧５気圧、５０〜６０℃で７時間接触還元
した。該触媒を濾去し、濾液を大量の水に注ぎ、析出し
た結晶を濾取した。得られた結晶を酢酸エチルより再結
晶し、目的化合物を得た。
融点：１２０−１２１℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.26(3H,t,J
＝7Hz),2.23(6H,s),2.52(3H,s),2.98(2H,d,J＝7Hz),4.2
4(2H,q,J＝7Hz),4.83(1H,s),4.94(1H,t,J＝7Hz)。
上記目的化合物を濾取した濾液を酢酸エチルで抽出し、
抽出液を無水硫酸ソーダで乾燥、次いで溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；
ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し、第一のフラク
シヨンからは目的化合物を、第二のフラクシヨンからは
エチル ４，６−ジヒドロキシ−５，７，８−トリメチ
ルクロマン−２−カルボキシレートを得た。
融点：１３８−１４４℃ 参考例１８（Ｅ−２） エチル スピロ〔６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメ
チルクロマン−４，２′−〔１，３〕ジチアン〕−２−
カルボキシレート エチル ６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチル−４
−オキソクロマン−２−カルボキシレート１６．６ｇ、
１，３−プロパンジチオール９．７ｇのクロロホルム５
００ml溶液に氷冷下三フッ化ホウ素酢酸錯塩（三フッ化
ホウ素：４０％）２０mlを滴下し、室温下にて２４時間
放置した。反応混合物を氷水中にあけ、炭酸カリウムで
中和した後、酢酸エチルにて抽出し、抽出液を無水硫酸
ソーダ上にて乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣を
酢酸エチルより再結晶し目的化合物を得た。
融点：１８６−１８８℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.35(3H,t,J
＝7Hz),1.8-2.4(2H,nd),2.18(6H,s),2.5-2.9(3H,nd),2.
80(3H,s),3.0-3.5(3H,m),4.31(2H,q,J＝7Hz),4.50(1H,
s),4.79(1H,dd,J＝2および10Hz)。
参考例１９（Ｅ−３） エチル スピロ〔６−メトキシメトキシ−５，７，８−
トリメチルクロマン−４，２′−〔１，３〕ジチアン〕
−２−カルボキシレート エチル スピロ〔６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメ
チルクロマン−４，２′−〔１，３〕ジチアン〕−２−
カルボキシレート６．６ｇ、ジメチルホルムアミド１０
０ml、５５％水素化ナトリウム１ｇの混合物に室温下超
音波処理を１時間行った後、氷冷下にクロロメチルメチ
ルエーテル３ｇを加え、室温下に１夜放置した。反応混
合物に水を加え酢酸エチルにて抽出し、水層はさらにベ
ンゼンにて抽出した。酢酸エチル溶液、ベンゼン溶液と
も３回水洗し、両者を合わせて無水硫酸ソーダ上にて乾
燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル
＝５：１）に付し、目的化合物を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．２１
（展開溶剤；ヘキサン：酢酸エチル＝５：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.34(3H,t,J
＝7Hz),1.7-2.4(2H,nd),2.16(3H,s),2.21(3H,s),2.5-3.
0(3H,nd),2.87(3H,s),3.0-3.5(3H,nd),3.60(3H,s),4.30
(2H,q,J＝7Hz),4.7-5.0(1H,nd),4.89(2H,s)。
参考例２０（Ｅ−４） エチル スピロ〔２−（３，７−ジメチルオクチル）−
６−メトキシメトキシ−５，７，８−トリメチルクロマ
ン−４，２′−〔１，３〕ジチアン〕−２−カルボキシ
レート 窒素雰囲気下、ジイソプロピルアミン２．９ｇのテトラ
ヒドロフラン３０ml溶液中、−６０℃〜−５０℃で、ｎ
−ブチルリチウムのヘキサン溶液（ｎ−ブチルリチウム
１．６２ｍ mol/ml）１７．７mlを滴下し、室温で１０
分間放置した。次いで−６０℃でエチル スピロ〔６−
メトキシメトキシ−５，７，８−トリメチルクロマン−
４，２′−〔１，３〕ジチアン〕−２−カルボキシレー
ト６ｇをテトラヒドロフラン１０mlに溶かして滴下し
た。１時間撹拌した後３，７−ジメチルオクチルブロマ
イド６．４ｇをテトラヒドロフラン５mlに溶かし滴下し
て、１時間撹拌した。その後室温で１時間、４５〜５０
℃で１．５時間撹拌し、さらに室温で一夜放置した。反
応混合物を氷水にあけ、酢酸エチルで抽出し、抽出液を
飽和食塩水で洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）
に付し、目的化合物（淡黄色油状物）を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．５７
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.87(9H,d,J
＝7Hz),1.0-2.3(14H,m),1.17(3H,t,J＝7Hz),2.17(3H,
s),2.21(3H,s),2.3-2.9(2H,nd),2.62(1H,d,J＝14Hz),2.
83(3H,s),2.97-3.5(2H,m),3.59(3H,s),3.73(1H,d,J＝14
Hz),4.03(1H,q,J＝7Hz),4.07(1H,q,J＝7Hz),4.88(2H,
s)。
参考例２１（Ｅ−５） スピロ〔２−（３，７−ジメチルオクチル）−６−メト
キシメトキシ−５，７，８−トリメチルクロマン−４，
２′−〔１，３〕ジチアン〕−２−イルメタノール エチル スピロ〔２−（３，７−ジメチルオクチル）−
６−メトキシメトキシ−５，７，８−トリメチルクロマ
ン−４，２′−〔１，３〕ジチアン〕−２−カルボキシ
レート４ｇをテトラヒドロフラン２０mlに溶かし、リチ
ウムアルミナムハイドライド０．４１ｇ、テトラヒドロ
フラン３０mlの混合物中に、窒素気流中氷冷下で滴下
し、室温で３時間かきまぜた。反応混合物に氷冷下酢酸
エチル約１０ml及び５％塩酸約３０mlを加え、有機層を
分離、水層をさらに酢酸エチルで抽出した。両抽出物を
合わせて飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、溶媒を減圧下留去して、シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：
１）におけるＲｆ値＝０．３６，淡黄色油状の、目的化
合物を得た。
ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.87(9H,d,J
＝7Hz),1.0-2.0(12H,m),2.0-2.5(2H,nd),2.08(3H,s),2.
20(3H,s),2.34(1H,br.s,重水添加で消失),2.5-3.0(3H,
m),2.92(3H,s),3.0-3.6(4H,m),3.61(3H,s),3.76(1H,dd,
J＝6および12Hz),4.89(2H,s)。
参考例２２（Ｅ−６） スピロ〔２−（３，７−ジメチルオクチル）−６−メト
キシメトキシ−５，７，８−トリメチル−２−（４−ニ
トロフェノキシメチル）クロマン４，２′−〔１，３〕
ジチアン〕 スピロ〔２−（３，７−ジメチルオクチル）−６−メト
キシメトキシ−５，７，８−トリメチルクロマン−４，
２′−〔１，３〕ジチアン〕−２−イルメタノール３．
６ｇ、ジメチルホルムアミド３０mlの混合物に、窒素気
流中、室温で５５％油性水素化ナトリウム０．４６ｇを
加え、次いで５０℃で２時間加熱した。氷冷下でｐ−ク
ロロニトロベンゼン１．６６ｇとベンゼン３mlの混合物
を滴下し、次いで５０℃で２時間加熱した。反応混合物
を水にあけ、ベンゼンで抽出し、抽出液を水で洗い、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；
ベンゼン：酢酸エチル＝５０：１）に付し、目的化合物
を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．５５
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.87(9H,d,J
＝7Hz),1.0-2.3(14H,m),2.08(3H,s),2.21(3H,s),2.3-3.
0(3H,m),2.89(3H,s),3.0-3.6(3H,m),3.61(3H,s),3.99(1
H,d,J＝9Hz),4.45(1H,d,J＝9Hz),4.89(2H,s),6.92(2H,
d,J＝9Hz),8.17(2H,d,J＝9Hz)。
参考例２３（Ｅ−７）および（Ａ−３脱保護） ２−（３，７−ジメチルオクチル）−６−ヒドロキシ−
５，７，８−トリメチル−２−（４−ニトロフェノキシ
メチル）−４−オキソクロマン スピロ〔２−（３，７−ジメチルオクチル）−６−メト
キシメトキシ−５，７，８−トリメチル−２−（４−ニ
トロフェノキシメチル）クロマン−４，２′−〔１，
３〕ジチアン）３．４ｇ、塩化第二水銀２．２ｇ、酸化
第二水銀１．７ｇ、テトラヒドロフラン１０ml、メタノ
ール２７ml、水３mlの混合物を２時間加熱還流した。反
応混合物にベンゼンを加え、不溶物を濾去し、濾液を硫
酸アンモニウム水溶液、次いで水で洗い、無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣にベン
ゼン３０ml、酢酸１０ml、１０％硫酸水溶液０．５mlを
加えて、３０分間還流した。反応混合物を水にあけ、ベ
ンゼンで抽出し、抽出液を水で洗い、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ベンゼン：酢酸
エチル＝１００：３）に付し、得られた結晶をベンゼ
ン、ヘキサンの混合液より再結晶し、目的化合物を得
た。
融点：１２１−１２３℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.85(9H,d,J
＝7Hz),1.0-1.7(10H,m),1.7-2.1(2H,m),2.11(3H,s),2.2
1(3H,s),2.55(3H,s),2.76および2.98(2H,AB型,J＝16H
z),4.16(2H,s),4.57(1H,s,重水添加で消失),7.96(2H,d,
J＝9Hz),8.20(2H,d,J＝9Hz)。
参考例２４（Ａ−３−アシル化） ６−アセトキシ−２−（３，７−ジメチルオクチル）−
５，７，８−トリメチル−２−（４−ニトロフェノキシ
メチル）−４−オキソクロマン 参考例７に準じて、２−（３，７−ジメチルオクチル）
−６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチル−２−（４
−ニトロフェノキシメチル）−４−オキソクロマン１．
８ｇ、無水酢酸０．５ｇ、ピリジン５ml、およびベンゼ
ン１０mlから製造された目的化合物は、次の物性を有す
る。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．４１
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.85(9H,d,J
＝7Hz),1.0-2.0(12H,m),2.08(3H,s),2.11(3H,s),2.33(3
H,s),2.41(3H,s),2.80および3.00(2H,AB型,J＝16Hz),4.
17(2H,s),6.95(2H,d,J＝9Hz),8.20(2H,d,J＝9Hz)。
参考例２５（Ｄ−２） ６−アセトキシ−２−（４−アミノフェノキシメチル）
−２−（３，７−ジメチルオクチル）−５，７，８−ト
リメチル−４−オキソクロマン 参考例１１に準じて、６−アセトキシ−２−（３，７−
ジメチルオクチル）−５，７，８−トリメチル−２−
（４−ニトロフェノキシメチル）−４−オキソクロマン
１．９５ｇ、１０％パラジウム炭素０．４ｇより製造さ
れた目的化合物は次の物性を有する。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．３１
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝４：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.85(9H,d,J
＝7Hz),1.0-2.0(12H,m),2.09(3H,s),2.13(3H,s),2.32(3
H,s),2.41(3H,s),2.77および3.00(2H,AB型,J＝16Hz),3.
4(2H,br.s,重水添加で消失),3.99(2H,s),6.60(2H,d,J＝
9Hz),6.70(2H,d,J＝9Hz)。
参考例２６（Ｄ−３） エチル ３−〔４−〔６−アセトキシ−２−（３，７−
ジメチルオクチル）−５，７，８−トリメチル−４−オ
キソクロマン−２−イルメトキシ〕フェニル〕−２−ク
ロロプロピオネート 参考例９に準じて、６−アセトキシ−２−（４−アミノ
フェノキシメチル）−２−（３，７−ジメチルオクチ
ル）−５，７，８−トリメチル−４−オキソクロマン
１．６ｇ、亜硝酸ナトリウム０．２８ｇ、濃塩酸１．７
ml、アクリル酸エチル３．３ml、酸化第一銅０．１ｇか
ら製造された目的化合物は、次の物性を有する。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．４５
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：0.86(9H,d,J
＝7Hz),1.0-2.0(12H,m),1.24(3H,t,J＝7Hz),2.09(3H,
s),2.13(3H,s),2.33(3H,s),2.42(3H,s),2.80および2.98
(2H,AB型,J＝16Hz),3.07(1H,dd,J＝7および14Hz),3,31
(1H,dd,J＝7および14Hz),4,06(2H,s),4,18(2H,q,J＝7H
z),4.37(1H,t,J＝7Hz),6.83(2H,d,J＝9Hz),7.15(2H,d,J
＝9Hz)。
参考例２７（Ｄ−１） ６−アセトキシ−７−ｔ−ブチル−２−メチル−２−
（２−メチル−５−ニトロフェノキシメチル）−４−オ
キソクロマン 参考例１０に準じて、５−アセトキシ−４−ｔ−ブチル
−２−ヒドロキシアセトフェノン４．７８ｇ、１−（２
−メチル−５−ニトロフェノキシ）プロパン−２−オン
４．０ｇ、ピロリジン２．０ｇ、ベンゼン５０ml、さら
に無水酢酸４mlおよびピリジン５０mlから製造された淡
赤色泡状の目的物は次の物性を有する。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーによるＲｆ値＝０．
２４（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.32(9H,s),
1.63(3H,s),2.17(3H,s),2.32(3H,s),2.90(1H,d,J＝16.5
Hz),3.15(1H,d,J＝16.5Hz),4.43(2H,AB型,J＝12Hz),6.9
7(1H,s),7,38(1H,d,J＝8Hz),7,45(1H,s),7.70-7.90(2H,
m)。
参考例２８（Ｄ−２） ６−アセトキシ−２−（５−アミノ−２−メチルフェノ
キシメチル）−７−ｔ−ブチル−２−メチル−４−オキ
ソクロマン 参考例１１に準じて、６−アセトキシ−７−ｔ−ブチル
−２−メチル−２−（２−メチル−５−ニトロフェノキ
シメチル）−４−オキソクロマン７．３ｇ、１０％パラ
ジウム炭素１ｇおよびエタノール１００mlを用いて水素
添加を行い、淡赤色泡状の目的化合物を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーによるＲｆ値＝０．
１３（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝５：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，重アセトン）：1.33(9H,s),
1.56(3H,s),1.95(3H,s),2.31(3H,s),2.80(1H,d,J＝16.5
Hz),3.10(1H,d,J＝16.5Hz),4.06(2H,s),3.90-4.70(2H,b
r.,重水添加で消失),6.18(1H,dd,J＝8および1.5Hz),6,2
8(1H,d,J＝1.5Hz),6,78(1H,d,J＝8Hz),7.00(1H,s),7.47
(1H,s)。
参考例２９（Ｄ−３） エチル ３−〔３−（６−アセトキシ−７−ｔ−ブチル
−２−メチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキ
シ）−４−メチルフェニル〕−２−クロロプロピオネー
ト 参考例１２に準じて、６−アセトキシ−２−（５−アミ
ノ−２−メチルフェノキシメチル）−７−ｔ−ブチル−
２−メチル−４−オキソクロマン５．５３ｇ、亜硝酸ナ
トリウム１．２ｇ、濃塩酸２．４ml、アクリル酸エチル
１４ml、酸化第一銅１９０mg、およびアセトン５０mlか
ら製造された淡黄色油状の目的化合物は次の物性を有す
る。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーによるＲｆ値＝０．
４１（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝１０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.22(3H,t,J
＝7.5Hz),1.32(9H,s),1.57(3H,s),2.10(3H,s),2.30(3H,
s),2.74(1H,d,J＝17Hz),2.94-3.25(1H,nd),3.08(1H,d,J
＝17Hz),3.33(1H,dd,J＝7および14Hz),3.99および4.11
(2H,AB型,J＝10Hz),4,18(2H,q,J＝7.5Hz),4,40(1H,t,J
＝7Hz),6.65-6.85(2H,nd),6.99(1H,s),7.07(1H,d,J＝7.
5Hz),7.50(1H,s)。
参考例３０（Ａ−２−Ａｒ化） ６−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチル
−２−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシメチル）
クロマン ６−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチル
クロマン−２−イルメタノール５．０ｇおよびジメチル
ホルムアミド２０mlの混合物に、窒素気流中、室温で５
５％油性水素化ナトリウム０．９６ｇ（シクロヘキサン
で４回洗浄する。）を徐々に加える。５０℃で１０分加
熱したのち１０℃に冷却し、２−クロロ−５−ニトロピ
リジン４．２ｇを少量ずつ加える。室温で一夜放置した
のち、反応混合物を水にあげベンゼンで抽出する。抽出
液を水洗、ついで硫酸ナトリウムで乾燥する。溶媒を減
圧で留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル＝２５：１）に付
し、目的物を得た。
シリカゲルカラムクロマトグラフィーのＲｆ値＝０．５
６（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝１０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.40(3H,s),
1.7-2.3(2H,m),2.02(3H,s),2.17(6H,s),2.65(2H,br.t,J
＝6Hz),3.61(3H,s),4.51(2H,s),4.88(2H,s),6.87(1H,d,
J＝9Hz),8.37(1H,dd,J＝9および3Hz),9.06(1H,d,J＝3H
z)。
参考例３１（Ａ−３−脱保護工程） ６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチル−２−
（５−ニトロピリジン−２−イルオキシメチル）クロマ
ン ６−メトキシメトキシ−２，５，７，８−テトラメチル
−２−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシメチル）
クロマン５．２ｇを酢酸４５mlにとかし、これに１０％
硫酸水溶液１ｇを加えて５５〜５８℃で１５分間加熱す
る。冷後、反応混合物を炭酸水素ナトリウム７５ｇと氷
７５ｇ中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水
洗、ついで硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧で留去
して、淡褐色油状の目的物を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．４６
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝１０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.39(3H,s),
1.7-2.3(2H,m),2.05(3H,s),2.11(3H,s),2.15(3H,s),2.6
7(2H,br.t,J＝6Hz),4.19(1H,s,重水添加で消失する),4.
50(2H,s),6.85(1H,d,J＝9Hz),8,36(1H,dd,J＝9および3H
z),9.06(1H,d,J＝3Hz)。
参考例３２（Ａ−３−アシル化） ６−アセトキシ−２，５，７，８−テトラメチル−２−
（５−ニトロピリジン−２−イルオキシメチル）クロマ
ン 参考例７に準じて、６−ヒドロキシ−２，５，７，８−
テトラメチル−２−（５−ニトロピリジン−２−イルオ
キシメチル）クロマン５．２ｇ、無水酢酸３ml、ピリジ
ン３mlおよびベンゼン約２０mlから製造された目的物は
次の物性を有する。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．５２
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝１０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.40(3H,s),
1.7-2.3(2H,m),2.02(9H,s),2.32(3H,s),2.69(2H,br.t,J
＝6Hz),4.52(2H,AB型,J＝12Hz),6.86(1H,d,J＝9Hz),8.3
6(1H,dd,J＝9および3Hz),9.07(1H,d,J＝3Hz)。
参考例３３（Ａ−３−Ｈ２） ６−アセトキシ−２−（５−アミノピリジン−２−イル
オキシメチル）−２，５，７，８−テトラメチルクロマ
ン ６−アセトキシ−２，５，７，８−テトラメチル−２−
（５−ニトロピリジン−２−イルオキシメチル）クロマ
ン６ｇをメタノール８０mlおよびベンゼン１５mlの混合
物にとかし、１０％パラジウム炭素１．５ｇの存在下、
水素圧約１気圧で、約２０時間、室温で還元した。該パ
ラジウム炭素を濾去し、得られた濾液を減圧下に濃縮し
て、目的物を得た。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．０４
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝１０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.39(3H,s),
1.6-2.4(2H,m),1.97(3H,s),2.01(3H,s),2.07(3H,s),2.3
0(3H,s),2.64(2H,br.t,J＝6Hz),3.9(2H,br,s,重水添加
で消失する),4.25(2H,AB型,J＝12Hz),6.61(1H,d,J＝9H
z),7.02(1H,dd,J＝9および3Hz),7.64(1H,d,J＝3Hz)。
参考例３４（Ａ−４） エチル ３−〔２−（６−アセトキシ−２，５，７，８
−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）ピリジン
−５−イル〕−２−クロロプロピオネート 参考例９に準じて、６−アセトキシ−２−（５−アミノ
ピリジン−２−イルオキシメチル）−２，５，７，８−
テトラメチルクロマン４．５ｇ、亜硝酸ナトリウム１．
１ｇ、濃塩酸５ml、アクリル酸エチル１０ｇ、酸化第一
銅１７５mg、アセトン４０mlおよび水約２．５ｇから製
造された目的物は、次の物性を有する。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．４５
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝１０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.26(3H,t,J
＝7.5Hz),1.40(3H,s),1.7-2.3(2H,m),1.99(3H,s),2.02
(3H,s),2.07(3H,s),2.31(3H,s),2.65(2H,br.t,J＝6Hz),
3.07(1H,dd,J＝13.5および7.5Hz),3.30(1H,dd,J＝13.5
および7.5Hz),4.0-4.5(5H,m),6.72(1H,d,J＝9Hz),7.48
(1H,dd,J＝9および3Hz),8.02(1H,d,J＝3Hz)。 参考例３５（Ａ−４） エチル ３−〔４−（６−アセトキシ−２，５，７，８
−テトラメチルクロマ２−２−イルメトキシ）フェニ
ル〕−２−クロロ−２−メチルプロピオネート 参考例９に準じて、６−アセトキシ−２−（４−アミノ
フェノキシメチル）−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン２ｇ、アセトン２５ml、３５％塩酸３ml、亜硝酸
ソーダ０．７ｇ、水１ml、メタクリル酸エチル８ｇ、お
よび酸化第一銅０．２ｇより製造された目的物は、次の
物性を有する。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．５４
（展開溶剤；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.29(3H,t,J
＝7Hz),1.43(3H,s),1.68(3H,s),1.98(3H,s),2.03(3H,
s),2.09(3H,s),2.32(3H,s),1.5-2.5(2H,nd),2.62(2H,b
r.t,J＝7Hz),3.18および3.36(2H,AB型,J＝17Hz),3.84お
よび3.98(2H,AB型,J＝9Hz),4.21(2H,q,J＝7Hz),6.84(2
H,d,J＝9Hz),7.14(2H,d,J＝9Hz)。
参考例３６（Ｈ−１） ６−アセトキシ−２−ヒドロキシ−５，７，８−トリメ
チル−２−（４−ニトロフェノキシメチル）−４−オキ
ソクロマン ３−アセトキシ−２，４，５−トリメチル−６−（４−
ニトロフェノキシアセトキシ）アセトフェノン１５ｇの
テトラヒドロフラン１リットル溶液へ、氷冷下カリウム
ｔ−ブトキシド３ｇのテトラヒドロフラン１００ml溶液
を滴下し、同温で２．５時間撹拌した。反応混合物を酢
酸エチルおよび食塩水中に注ぎ、有機層を分液し無水硫
酸ソーダで乾燥した。溶媒を留去し残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチ
ル＝１：１）に付し、目的化合物を得た。
融点：２０４−２０７℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＤＭＳＯ−ｄ６）：2.05(3
H,s),2.11(3H,s),2.34(6H,s),2.76(1H,d,J＝17Hz),3.24
(1H,d,J＝17Hz),4.28および4.50(2H,AB型,J＝10Hz),7.2
4(2H,d,J＝9Hz),7.30(1H,s,重水添加により消失),8.24
(2H,d,J＝9Hz)。
参考例３７（Ｈ−２） ６−アセトキシ−２−（４−アミノフェノキシメチル）
−２−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチル−４−オキ
ソクロマン 参考例１１に準じて、６−アセトキシ−２−ヒドロキシ
−５，７，８−トリメチル−２−（４−ニトロフェノキ
シメチル）−４−オキソクロマン７ｇ、１０％パラジウ
ム炭素５ｇ、テトラヒドロフラン１００ml、およびエタ
ノール１００mlから製造された目的化合物は次の物性を
有する。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．４８
（展開溶剤；酢酸エチル） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：2.08(3H,s),
2.10(3H,s),2.32(3H,s),2.41(3H,s),2.78および3.03(2
H,AB型,J＝16Hz),3.4-4.3(3H,br.s,重水添加により消
失),3.98および4.12(2H,AB型,J＝10Hz),6.62(2H,d,J＝9
Hz),6.80(2H,d,J＝9Hz)。
参考例３８（Ｈ−３） エチル ３−〔４−〔６−アセトキシ−２−ヒドロキシ
−５，７，８−トリメチル−４−オキソクロマン−２−
イルメトキシ〕フェニル〕−２−クロロプロピオネート 参考例９に準じて、６−アセトキシ−２−（４−アミノ
フェノキシメチル）−２−ヒドロキシ−５，７，８−ト
リメチル−４−オキソクロマン３．４ｇ、アセトン４０
ml、３５％塩酸５ml、亜硝酸ソーダ１．２ｇ、水１．６
ml、アクリル酸エチル１３ｇおよび酸化第一銅０．３２
ｇから製造された目的化合物は次の物性を有する。
シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０．２０
（展開溶剤；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.24(3H,t,J
＝7Hz),2.09(6H,s),2.33(3H,s),2.42(3H,s),2.5-3.6(4
H,nd),3.9-4.6(5H,nd),6.93(2H,d,J＝9Hz),7.20(2H,d,J
＝9Hz)。
参考例３９ ６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−２，５，７，８
−テトラメチル−２−（４−ニトロフェノキシメチル）
−４−オキソクロマン ６−アセトキシ−２，５，７，８−テトラメチル−２−
（４−ニトロフェノキシメチル）−４−オキソクロマン
２５ｇ、ジメチルホルムアミド３０mlおよびエチルアル
コール１５０mlの混合物を氷冷し、水酸化ナトリウム
５．６ｇ、エチルアルコール１５０mlおよび水２０mlの
混合溶液を滴下した。ついで３時間かきまぜた後、ブロ
モ酢酸ｔ−ブチル１８．３ｇを滴下して、室温で１時間
かきまぜ、さらに一夜放置した。反応混合物を水に注
ぎ、１０％塩酸で中和し、次いでベンゼンで抽出した。
該抽出液を水で洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１）に付し
目的化合物を得た。
Ｒｆ値（以下、シリカゲル薄層クロマトグラフィーによ
る値を示す。）：０．４９（展開溶剤；ベンゼン：酢酸
エチル＝１０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.53(12H,
s),2.07(3H,s),2.27(3H,s),2.57(3H,s),2.68(1H,d,J＝1
6.5Hz),3.05(1H,d,J＝16.5Hz),4.17(2H,s,+2H,AB型,J＝
10Hz),6.97(2H,d,J＝9Hz),8.19(2H,d,J＝9Hz)。
参考例４０ ６−エトキシ−２，５，７，８−テトラメチル−２−
（４−ニトロフェノキシメチル）クロマン ６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラメチル−２−
（４−ニトロフェノキシメチル）クロマン１１ｇとＤＭ
Ｆ１００mlの混合物に５５％油性水素化ナトリウム１．
６ｇを加え室温で１時間かきまぜた。氷冷下ヨウ化エチ
ル５．７ｇ、ベンゼン５mlの混合物を滴下し、室温で２
時間かきまぜた。反応混合物を氷水に注ぎ、ベンゼンで
抽出した。該抽出液を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を減圧下に留去し残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶離液；シクロヘキサン：ベン
ゼン＝３：７）に付し、目的化合物を得た。
Ｒｆ値：０．４８（展開溶剤；ベンゼン） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.39(3H,t,J
＝7Hz),1.43(3H,s),1.7-2.1(2H,nd),2.06(3H,s),2.14(3
H,s),2.17(3H,s),2.63(2H,br.t,J＝7Hz),3.72(2H,q,J＝
7Hz),4.00および4.08(2H,AB型,J＝10Hz),6.98(2H,d,J＝
9Hz),8.17(2H,d,J＝9Hz)。
参考例４１ ２−（４−アミノフェノキシメチル）−６−ｔ−ブトキ
シカルボニルメトキシ−２，５，７，８−テトラメチル
−４−オキソクロマン ６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−２，５，７，８
−テトラメチル−２−（４−ニトロフェノキシメチル）
−４−オキソクロマン１７ｇ、１０％パラジウム炭素
３．５ｇ、メタノール１５０ml、およびジメチルホルム
アミド５０mlの混合物を、パールの水添装置を用いて、
水素圧３〜５気圧で７時間振盪した。該パラジウム炭素
を濾去し、濾液を減圧濃縮した。残渣をベンゼンに溶か
し、水で洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留
去して目的化合物を得た。
Ｒｆ値：０．２９（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
４：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.47(3H,s),
1.54(9H,s),2.11(3H,s),2.26(3H,s),2.55-2.75(1H,nd),
2.57(3H,s),3.05(1H,d,J＝16Hz),3.15-3.65(2H,br.s),
3.90および4.03(2H,AB型,J＝10Hz),4.17(2H,s),6.60(2
H,d,J＝9Hz),6.76(2H,d,J＝9Hz)。
参考例４２ ２−（４−アミノフェノキシメチル）−６−エトキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン 参考例４１に準じて６−エトキシ−２，５，７，８−テ
トラメチル−２−（４−ニトロフェノキシメチル）クロ
マン１１ｇ、１０％パラジウム炭素２．２ｇ、メタノー
ル１００ml、およびベンゼン３０mlから目的化合物を得
た。
融点：１２１−１２３℃ ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.38(3H,t,J
＝7Hz),1.40(3H,s),1.7-2.1(2H,nd),2.08(3H,s),2.12(3
H,s),2.17(3H,s),2.60(1H,br.t,J＝7Hz),3.1-3.6(2H,b
r.,重水添加で消失),3.71(2H,q,J＝7Hz),3.80および3.9
1(2H,AB型,J＝10Hz),6.60(2H,d,J＝9Hz),6.78(2H,d,J＝
9Hz)。
参考例４３ ３−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−
２，５，７，８−テトラメチル−４−オキソクロマン−
２−イルメトキシ）フェニル〕−２−クロロプロピオン
酸エチル ２−（４−アミノフェノキシメチル）−６−ｔ−ブトキ
シカルボニルメトキシ−２，５，７，８−テトラメチル
−４−オキソクロマン１６ｇとアセトン１６０mlの混合
物に、窒素気流中、５〜１０℃で濃塩酸１６ml、亜硝酸
ナトリウム３．１ｇの水（７ml）溶液、さらにアクリル
酸エチル３７mlを順次滴下した。内温を４０〜４３℃と
し、酸化第一銅０．５ｇを徐々に加えた。約３０分で窒
素の発生が終了する。反応混合物を水にあけベンゼンで
抽出した。該抽出液を水で洗い無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶離液；シクロヘキサン：酢酸エチル＝
９：１）に付し目的化合物を得た。
Ｒｆ値：０．３３（展開溶剤；シクロヘキサン：酢酸エ
チル＝４：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.23(3H,t,J
＝7.5Hz),1.50(3H,s),1.53(9H,s),2.09(3H,s),2.26(3H,
s),2.5-2.8(1H,nd),2.57(3H,s),3.05(1H,d,J＝16Hz),3.
07(1H,nd),3.32(1H,dd,J＝7および14Hz),3.98および4.0
9(2H,AB型,J＝10Hz),4.05-4.35(2H,nd),4.18(2H,s),4.3
7(1H,t,J＝7Hz),6.85(2H,d,J＝8Hz),7.14(2H,d,J＝8H
z)。
参考例４４ ２−クロロ−３−〔４−（６−エトキシ−２，５，７，
８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）フェニ
ル〕プロピオン酸エチル 参考例４３に準じて２−（４−アミノフェノキシメチ
ル）−６−エトキシ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン９．５ｇ、濃塩酸１０ml、亜硝酸ナトリウム２．
４ｇ、アクリル酸エチル２６．８ｇ、酸化第一銅０．４
ｇ、およびアセトン１００mlから目的化合物を得た。
Ｒｆ値：０．３０（展開溶剤；シクロヘキサン：酢酸エ
チル＝２０：１） ＮＭＲスペクトル（δppm，ＣＤＣｌ３）：1.23(3H,t,J
＝7Hz),1.38(3H,t,J＝7Hz),1.41(3H,s),1.7-2.1(2H,n
d),2.07(3H,s),2.13(3H,s),2.17(3H,s),2.60(2H,br.t,J
＝7Hz),3.07(1H,dd,J＝4および14Hz),3.31(1H,dd,J＝4
および14Hz),3.71(2H,q,J＝7Hz),3.86および3.96(2H,AB
型,J＝9Hz),4.17(2H,q,J＝7Hz),4.36(1H,t,J＝7.5Hz),
6.85(2H,d,J＝9Hz),7.13(2H,d,J＝9Hz)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/425 ＡＥＤ Ｃ０７Ｄ 311/22 7252−4Ｃ 311/58 7252−4Ｃ (72)発明者 藤田 岳 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 金井 勉 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 山崎 光郎 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 長谷川 和雄 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 掘越 大能 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−51189（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式 〔式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、置換基を
    有していてもよいアラルキル基または置換基を有してい
    てもよいシクロアルキル基を示し、Ｒ２は水素原子また
    はアルキル基を示し、Ｒ３および後述するＲ３′は同一
    または異なって水素原子または水酸基の保護基を示し、
    Ｒ４は水素原子、アルキル基、置換基を有していてもよ
    いアラルキル基、置換基を有していてもよいシクロアル
    キル基、置換基を有していてもよいアリール基またはア
    ルコキシ基を示し、Ｒ５は水素原子、アルキル基または
    アルコキシ基を示し、Ｒ６およびＲ７は同一または異な
    って水素原子またはアルキル基を示し、Ｒ８は水素原子
    または置換基を有していてもよいアルキル基を示し、Ｒ
    ９は水素原子を示し、Ａｒは置換基を有していてもよい
    二価の芳香環基またはピリジル基を示し、Ｗはメチレン
    基、カルボニル基、式＞ＣＨ−ＯＲ３′基（式中、
    Ｒ３′は前述したものと同意義を示す。）、式＞＝Ｎ−
    ＯＶ基（式中、Ｖは水素原子、置換基を有していてもよ
    いアルキル基または置換基を有していてもよいアラルキ
    ル基を示す。）または式＞＝Ｎ−ＯＲ３′ａ基（式中、
    Ｒ３′ａは前述したＲ３′における水酸基の保護基を示
    す。）を示すかあるいは後述するＵと共に二重結合を形
    成してもよく、Ｕは単結合またはメチレン基を示すかあ
    るいはＷと共に二重結合を形成するか、Ｗがカルボニル
    基、式＞＝Ｎ−ＯＶ基若しくは式＞＝Ｎ−ＯＲ３′ａ基
    （式中、Ｖ及びＲ３′ａは前述したものと同意義を示
    す。）を示すときにはＲ１と共に二重結合を形成しても
    よく、ｎは１乃至１０の整数を示し、Ｙは酸素原子また
    はイミノ基を示し、Ｚは酸素原子またはイミノ基を示す
    かあるいはＷがメチレン基である場合には硫黄原子を示
    してもよい。）で表わされるチアゾリジン誘導体または
    その塩。 但し、式（Ｉ）中、Ｒ１およびＲ２は同一または異なっ
    て水素原子または低級アルキル基を示し、Ｒ３および後
    述するＲ３′は同一または異なって水素原子、脂肪族低
    級アシル基、脂環式アシル基、置換基を有していてもよ
    い芳香族アシル基、複素環アシル基、置換基を有してい
    てもよい芳香族脂肪族アシル基、低級アルコキシカルボ
    ニル基またはアラルキルオキシカルボニル基を示し、Ｒ
    ４およびＲ５は同一または異なって水素原子、低級アル
    キル基または低級アルコキシ基を示し、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ
    ８およびＲ９は水素原子を示し、Ａｒはｐ−フェニレン
    基を示し、Ｗはメチレン基、カルボニル基または式＝Ｃ
    Ｈ−ＯＲ３′（Ｒ３′は前述したものと同意義を示
    す。）で表される基を示し、Ｕはメチレン基を示し、ｎ
    は１乃至３の整数を示し、Ｙは酸素原子またはイミノ基
    を示し、ＺはＷがメチレン基を示す場合には酸素原子、
    硫黄原子またはイミノ基を示し、ＺはＷがカルボニル基
    または式＝ＣＨ−ＯＲ３′（Ｒ３′は前述したものと同
    意義を示す。）で表される基を示す場合には酸素原子ま
    たはイミノ基を示す；で表されるチアゾリジン誘導体ま
    たはその塩を除く。
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