JPS625980A - チアゾリジン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 従来、チアゾリジン誘導体が血中脂質、血糖・低下作用
を有することは、特開昭５５−２２６３６　　号公報お
よびＣｈｅｍ、ｐｈａｒｍ、１３ｕ１１．３０　、３５
８０　（１９８２において公知である。

本発明者らは、循環器官用薬の開発を目的としてチアゾ
リジン誘導体について鋭意研究を行ない、後記一般式（
１）を有する新規化合物が血中脂質代謝改善作用並びに
アルドース還元酵素阻讐作用を有し、かつ極めて低毒性
であることを見出して本発明を完成するに至った。

発明の構成 本発明の新規なチアゾリジン誘導体は、一般式 で表わさ孔る化合物およびその薬理上許容される塩を含
むものである。

上記式（Ｉ）中、Ｒ＋は水素原子１アルキル基、置換基
を有していてもよいアラルキル基”！、＊は置換基を有
していてもよいシクロアルキル基を示し、Ｒ２は水素原
子またはアルキル基を示し、　Ｈ３および後述するＲ５
／は同一または異なって水素原子または水酸基の保護基
を示し、Ｒ４は水素原子、アルキル基、置換基を有して
いてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいシ
クロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基
またはアルコキシ基を示しＲ５は水素原子、アルキル基
またはアルコキシ基を示し、Ｒ６およびＲ７は同一また
は異なって水素原子またはアルキル基を示し　Ｈ８およ
びＲ９は同一または異なって水素原子または置換基を有
していてもよいアルキル基を示し、Ａｒ１２置換基を有
していてもよい二価の芳香環基″！たは置換基を有して
いてもよい二価の複素芳香環基を示し、Ｗはメチレン基
、カルボニル基５式、Ｃ！Ｈ−（ＩＲ３’基（式中、Ｒ
３’　＆２前述したものと同意義を示す。）。

式＞Ｎ−ｏ■基（式中、■は水素原子、置換基を有して
いてもよいアルキル基または置換基を有していてもよい
アラルキル基を示す。９または式＞Ｎ−ｏＲ３ｑ基（式
中、Ｈ３／ａは前述したＢ”／における水酸基を示す。

）を示すかあるいは後述するＵと共に二重結合を形成し
てもよく、Ｕは単結合またはメチレン基を示すかあるい
はＷと共に二重結合を形成するか、Ｗがカルボニル基。

式’）−Ｎ−ｏｖ基若しくは式＞Ｎ−ＯＲ３／ａ基（式
中、Ｖ、Ｒ３’ａは前述したものと同意義を示す。）を
示すときにはＲ１と共に二重結合を形成してもよ（、ｎ
は１乃至１０の整数を示し、Ｙは酸素原子またはイミノ
基を示し、Ｚは酸素原子またはイミノ基を示すかあるい
はＷがメチレン基である場合には硫黄原子を示してもよ
い。

前記一般式（１）において、Ｒ＋は水素原子、直鎖状ま
たは分枝鎖状の炭素数１乃至２５のアルキル基、置換基
を有してもよい炭素数７乃至１０のアラルキル基、また
は置換基を有してもよい炭素数５乃至８のシクロアルキ
ル基を示し、　Ｒ２は水素原子または直鎖状若しくは分
枝鎖状の炭素数１乃至１２のアルキル基を示し、Ｒ３は
水素原子、置換基としてカルボキシ基、低級アルコキシ
カルボニル基、カルバモイル基、モノ若シくはジアルキ
ル置換カルバモイル基、５若しくは６員環状アミノカル
ボニル基、水酸基、低級アルコキシ基または脂肪族若し
くは芳香族アシルオキシ基を有していてもよい直鎖状若
しくは分枝鎖状の炭素数１乃至１０のアルキル基、ある
いは不飽和結合を有してもよく、また、置換基を有して
もよい炭素数１乃至２３の脂肪族アシル基、脂環式アシ
ル基、置換基を有していてもよい芳香族アシル基、複素
環アシル基、置換基を有していてもよい芳香脂肪族アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカル
ボニル基またはアルキル基、アラルキル基若しくはアリ
ール基で置換されていてもよいカルバモイル基を示し、
Ｒ６′は水素原子または前記Ｒ３における尚該アシル基
を示し、　Ｒ４は水素原子、直鎖状若しくは分枝鎖状の
炭素数１乃至２０のアルキル基、置換基を有してもよい
炭素数７乃至１０のアラルキル基、置換基を有してもよ
い炭素数５乃至８のシクロアルキル基、置換基を有して
いてもよいアリール基または直鎖状若しくは分枝鎖状の
炭素数１乃至１２のアルコキシ基を示し、　　Ｒ５は水
素原子、直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至２０の
アルキル基または直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃
至１２のアルコキシ基を示し、　Ｒ６およびＲ７は同一
または異なって、水素原子または直鎖状若しくは分枝鎖
状の炭素数１乃至４飼のアルキル基を示し、Ｒ８および
Ｒ９は同一または異なって水素原子または前述したＲ３
　と同意義を有する置換されていてもよい炭素数１乃至
１０のアルキル基を示し＋Ａｒは置換基を有してもよい
二価の芳香環基または置換基を有してもよい二価の複素
芳香環基を示し、Ｗはメチレン基、カルボニル基１式）
＝ｃｎ−ｏＲｓ’基（式中、Ｒ３’＆２前述シタもノド
同意義を示す。〕、式＞＝Ｎ−ＯＶ基（式中、■は水素
原子１前述したＲ３におけるものと同意義を有する置換
基を有していてもよい直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数
１乃至１０のアルキル基または置換基を有していてもよ
い炭素数７乃至１１のアラルキル基を示す。）または式
＞＝Ｎ　−０−Ｒｓｑは、前述しｆｃＲ”’における水
素原子を除く同意義を有する基を示す。）を示すかある
いは後述するＵと共に二重結合を形成してもよ＜ｔ　Ｕ
は単結合またはメチレン基を示すかあるいはＷと共に二
重結合を形成するか、さらにＷがカルボニル基１式〉矧
−〇ｖ　基若しくは式＞＝Ｎ　−ｏＲｓｑ基を示すとき
にはＲ１と共に二重結合を形成してもよ＜ｔ　ｎは１乃
至１０の整数を示し、Ｙは酸素原子またはイミノ基を示
し、２は酸素原子またはイミノ基を示すかあるいはＷが
メチレン基である場合には硫黄原子を示してもよい。

但し、式（Ｉ）中、Ｒ２が水素原子または低級アルキル
基を示し、Ｒ３が水素原子、脂肪族低級アシル基１脂環
式アシル基、置換基を有していてもよい芳香族アシル基
、複素環アシル基、置換基を有していてもよい芳香脂肪
族アシル基、低級アルコキシカルボニル基またはアラル
キルオキシカルボニル基を示し、Ｒ５が水素原子、低級
アルキル基、または低級アルコキシ基を示し１Ｒ６，Ｒ
７，Ｒ８およびＲ９が水素原子を示し、Ａｒがｐ−フェ
ニレン基を示し、Ｗがメチレン基、カルボニル基、また
は式ゝＣＨ−ＯＲ３’基（式中。

Ｒ３／は前述したものと同意義を示す。９で表わされる
基を示し、Ｕがメチレン基を示し１ｎが１乃至３の整数
を示し、Ｙが酸素原子またはイミノ基を示し、２が酸素
原子、硫黄原子またはイミノ基を示す場合に卦いては。

（１１Ｒｊ　　が水素原子−１：たは低級アルキルを示
すとき、Ｒ４は直鎖状または分枝鎖状の炭素数６乃至２
０のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数７乃至１
０のアラルキル基、置換基を有してもよい、炭素数５乃
至８のシクロアルキル基、置換基を有してもよいアリー
ル基、または直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数６乃至１
２のアルコキシ基を示し、 ＋２）　　Ｒ４が水素原子、低級アルキル基、または低
級アルコキシ基を示すとき、Ｒ１は直鎖状若しくは分枝
鎖状の炭素数６乃至２５のアルキル基、置換基を有して
もよい炭素数７乃至１０のアラルキル基、または置換基
を有してもよい炭素数５乃至８のシクロアルキル基を示
す。

また、式（１）中、Ｒ１およびＲ２が同一または異なっ
て水素原子または低級アルキル基を示し、Ｒ４およびＲ
５が同一または異なって水素原子。

低級アルキル基または低級アルコキシ基を示し。

Ｒ６およびＲ７が水素原子を示し、Ａｒがｐ−フェニレ
ン基ヲ示し、Ｗがメチレン基、カルボニル基まｆｃ、は
式−０Ｈ−ＯＲ３’（式中、Ｒ３’＆）水−Ｘ原子ｔｆ
Ｃはアシル基を示す。〕で表わされる基を示し、Ｕがメ
チレン基を示しｈｎが１乃至３の整数を示し、Ｙが酸素
原子またはイミノ基を示し、Ｚが酸素原子、硫黄原子ま
たはイミノ基を示す場合においては　Ｒ３，Ｒ８および
Ｒ９の少々くとも１個が置換されていてもよいアルキル
基を示すものとする。

前記一般式（１）において、 Ｒ１がアルキル基を示す場合、　Ｒ１としてメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチルイソブチル、ペ
ンチル、インペンチル、ネオペンチル、２−メチルブチ
ル、１−エチルフロビル、ヘキシル、イソヘキシル、ネ
オヘキシル。

１−メチルペンチル１３−’チルペンチル、１１１−ジ
メチルブチル、１，３−ジメチルブチル。

２−ｘチルフチル、　　１−）−ｊ−ルー１−エチルフ
ロビル、ヘプチル。１−メチルヘキシル、１−プロピル
ブチル、４，４−ジメチルペンチル、オクチル、１−メ
ｆルヘフチル、２−エチルヘキシル、５，５−ジメチル
ヘキシル、ノニル、デシル、１−メチルノニル、３，７
−シメチルオクチル、７，７−シメチルオクチル、ウン
デシル、４゜８−ジメチルノニル、ドデシル、）！Ｊ７
’シル、テトラデシル、ペンタデシル、３，７．１１−
１リメチルドデシル、ヘキサデシル、４，８．１２−ト
リメチルトリデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノ
ナデシル、エイコシル、　３．７．　Ｉ　Ｌ　ｌ　５−
テトラメチルヘキサデシル、トコシルまたはベンタコシ
ルなどのような直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至
２５のものがあげられ；Ｒ１が、置換されていてもよい
アラルキル基を示す場合、ＲＴとしてベンジル、フェネ
チル、３−フェニルフロビル、マたは４−フェニルブチ
ルなど炭素数７乃至１０のものがあげられ、そのベンセ
ン環の置換基としては、メチル、エチル。

プロピルなどの低級アルキル基、メトキシ、エトキシ、
プロポキシなどの低級アルコキシ基。

またはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子
があげられ；Ｒ１が置換されていてもよいシクロアルキ
ル基を示す場合、シクロアルキル基トしてシクロペンチ
ル、シクロヘキシル。

シクロヘプチル、またはシクロオクチル基などの炭素数
５乃至８のものがあげられ、その置換基としてはメチル
、エチル、プロピルなどの低級アルキル基があげられる
。

Ｒ２がアルキル基を示す場合、　Ｒ２としてメチル、エ
チル、フロビル、イングロビル、ブチルイソブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、オクチル。

ドデシルなど炭素数１乃至１２のものがあげられる。

Ｒ３および後述するＲ８．　Ｒ９およびＶが置換基を有
していてもよいアルキル基を示す場合、Ｒ３Ｒ８，Ｒ９
および■として同一または異なってメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、　　ｔｅ
ｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、２−メチルブ
チル、１−工ｆ　シクロビル、ヘキシル、イソヘキシル
、ネオヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニルまたはデ
シルのような直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至１
０のアルキル基または式Ｒ１０−（Ａｌｋ）（（式中、
Ａｌｋはメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメ
チレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチ
レン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレン、 基のよう な直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至１゜のアルキ
レン基を示し、Ｒ１０はカルボキシ基。

メトキシカルボニル、エトキシカルホニル。

ｔａｒｔ−ブトキシカルボニルまたはメトキシエトキシ
カルボニルのような低級アルコキシ基で置換さｎていて
もよい炭素数２乃至５のアルコキシカルボニル基、カル
バモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカル
バモイ、ル、Ｎ。

Ｎ−ジメチルカルバモイルまたはＮ、Ｎ−ジエチルカル
バモイルのようなモノ若しくはジアルキル置換カルバモ
イル基、１−ピロリジニルカルボニル、ピペリジノカル
ボニル、モルホリノカルボニルまたは４−メチル−１−
ピペラジニル、４−フェニル−１−ピペラジニル、４−
アセチル−１−ピペラジニルのような置換基を有してい
てもよい５若しくは６員環状アミノカルボニル基、水酸
基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ
、ブトキシ、インプロキシマタはペンチルオキシのよう
な直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至５のアルコキ
シ基アセトキシ、フロピオニルオキシ、ブチリルオキシ
、インブチリルオキシまたはピバロイルオキシのような
炭素数２乃至５の脂肪族アシルオキシ基、またはベンゾ
イルオキシ、ｐ−トルオイルオキシ、０−アニンイルオ
キシ、３−フルオロベンゾイルオキシ、４−クロワイン
ソイルオキシ。４−アミノベンゾイルオキシまたは４−
ジメチルアミノベンゾイルオキシのような芳香族アシル
オキシ基を示す。）があげられる。

Ｒ３がアシル基を示す場合、Ｒ３としてホルミル、アセ
チル、グロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ピバロ
イル、ヘキサノイル、アクリロイル、メタクリロイル、
クロトノイル、オクタノイル、デカノイル、トリデカノ
イル、ペンタデカノイル、トリデカノイル、ヘキブテカ
ノイル、オフタデカノイル、ノナデカノイル、２，６．
１０．　＋　４−テトラメチルノナデカノイル、エイコ
サノイル、３−カルボキシフロパフイル。４−カルボキ
シブタノイル、５−カルボキシペンタノイル、１−カル
ポキシヘプタノイＡ／、３−１）−’ｉミージカルボニ
ルプロパノイル３フエノキシカルボニルプロパノイル、
３−（４−メチルフェノキシカルボニル〕グロパノイル
、３−（４−メトキシフェノキシカルボニル）プロパノ
イル、３−（３−フルオロフェノキシカルボニル）７０
パノイ／ｌ／、　Ｃｉ８−３−カルボキシペンタノイル
、、　ｔｒａｎｓ　−３−カルボキシペンタノイルのよ
うな不飽和結合を有してもよい炭素数１乃至２３個の脂
肪族アシル−基（該アシル基はカルボキシ基、低級アル
コキシカルボニル基または置換されていてもよいアリー
ルオキシカルボニル基で置換されてもよい。）、シクロ
ペンクンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル、シク
ロへブタンカルボニルのよウナ脂環式アシル基、ベンゾ
イル、１）−）ルオイル、４−ニトロベンゾイル、３−
フルオロペンソイル、２−クロロベンゾイル、４−アミ
ノベンゾイル、３−ジメチルアミノベンゾイル、２−メ
トキシベンゾイル、３．４−ジクロロヘンソイル、３．
５−シーｔ−７”チル−４−ヒドロキシベンゾイル、１
−ナフトイルのような芳香族アシル基、２−フロイル、
３−テノイル、３−ピリジンカルボニル、４−ピリジン
カルボニルのような複素環アシル基、フェニルアセチル
、４−クロロフェニルアセチル、３−フェニルプロピオ
ニル。

シンナモイルのような置換基を有してもよく。

また不飽和結合を有してもよい芳香脂肪族アシル基、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキ
シカルボニルのような低級アルコキシ若しくはアラルキ
ルオキシカルボニル基または、カルバモイル、Ｎ、Ｎ−
ジメチルカルバモイル、Ｎ、Ｎ−ジフェニルカルバモイ
ル。

Ｎ−ペンシル−Ｎ−プロピルカルバモイルのような置換
若しくは非置換カルバモイル基などがあげられる。

Ｒ３／がアシル基を示す場合、Ｒｂ２としてはアセチル
、グロビオニル、ブチリル、インブチリルのような炭素
数２乃至４個の脂肪族アシル基まタハヘンソイル、ｐ−
トルオイル、４−ニトロベンゾイルのような芳香族アシ
ル基があげられるが、Ｒｂ２としてはメタンスルホニル
、ベンゼンスルホニル、　ｐ−）ルエンスルホニルのヨ
ウナスルホニル基を示してもよい。

Ｒ４がアルキル基を示す場合Ｒ４としてメチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル。

イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、インペンチル、ネ
オペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル。

１．１−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル。

ヘプチル、１，１−ジエチルグロビル、オクチル。

１−メｆルヘフチル、２−エチルヘキシル、１゜１、３
．３−テトラメチルブチル、ノニル、デシル。

３．７−シメチルオクチル、ウンデシル、ドデシル、ペ
ンタデシルまたはエイコシルなどのような直鎖状若しく
は分枝鎖状の炭素数１乃至２゜のものがあげられる。

Ｒ４が置換基を有していてもよい、炭素数７乃至１０の
アラルキル基を示す場合、Ｈ４としてベンジル、１−フ
ェニルエチル＋　　１−メｆルー１−フェニルエチル、
１−メチル−１−（４−メチルフェニル）エチル、２−
フェニルエチル。

２−（３−メトキシフェニル）　−１，１−ジメチルエ
チル、３−（２−クロロフェニル）プロピル、または４
−フェニルブチルなどがあげられる。

Ｒ４が置換基を有していてもよい炭素数５乃至８のシク
ロアルキル基を示す場合、Ｒ４としてシクロペンチル、
シクロヘキシル、１−メチルシクロヘキシル、２−メチ
ルシクロへキシル。

１−エチルシクロヘキシル、１−プロピルシクロヘキシ
ル、１−インブチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、
１−メチルシクロヘプチル。

またはシクロオクチルなどがあげられる。

Ｒ４が置換基を有してもよいアリール基を示す場合、Ｒ
４としてフェニル、４−メチルフェニル、３−メ）キシ
フェニル、２−クロロフェニル、２，４−ジメチルフェ
ニルなどがあげられる。

Ｒ４がアルコキシ基を示す場合、　Ｒ４としてメトキシ
、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、
オクチルオキシ、またはドデシルオキシなどのような直
鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至１２のものがあげ
られる。

Ｒ５がアルキル基を示す場合、Ｒ５としてメチル、エチ
ル、フロビル、インプロピル、ブチル、インブチル、ヘ
ンチル、イソペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル
、デシル、ドデシル、ペンタデシル、エイコシルなどの
ような直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至２ｏのも
のがあげられる。

Ｒ５がアルコキシ基を示す場合、　Ｂ５としてメトキシ
、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、
オクチルオキシｈまたはドデシルオキシなどがあげられ
る。また、隣接するＲ４およびＲ５は一緒になって形成
するメチレンジオキシあるいはエチレンジオキシのよう
な低級アルキレンジオキシ基を示してもよく；さらにＲ
４およびＲ５は一緒に々つて、置換基を有してもよい式
−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ！Ｈ＝ＣＨ−を示し、隣接するベンゼ
ン環と共にナフタリン環を形成してもよく該置換基とし
てはメチル、エチル、イソプロピルなどのような低級ア
ルキル基、メトキシ、エトキシなどのような低級アルコ
キシ基があげられる。

Ｒ６およびＲ７がアルキル基を示す場合、　Ｒ６および
Ｒンとして同一または異々ってメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、インブチル、ペンチル、イ
ンペンチルなどのような直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素
数１乃至５のものがあげられる。

Ａｒが置換基を有してもよい二価の芳香環基を示すｓ合
ｈ　Ａｒ　　はｐ−フェニレン基、ｏ　−−ｙエニレン
基またはｍ−フェニレン基で、１）ｉ。

その場合Ａｒの置換基Ｒ＋１　　はメチル、エチル。

フロビル、イソプロピル、ブチル、またはペンチルのよ
うな低級アルキル基、メトキシ、エトキシ、インプロポ
キシ、ｔ−ブトキシ、またはペンチルオキシのような低
級アルコキシ基であり得る。

Ａｒが置換基を有してもよい二価の複素芳香環基を示す
場合、Ａｒはピリジン環、フラン環、チオフェン環、ま
たはピロール環であり得、その結合位置は、式 の型式で示すとき、 （上記式中、Ｑは酸素原子、 硫黄原子、またはイミノ基を示す。） で示すことができ、その場合Ａｒの置換基Ｒ１１としで
は、メチル、エチル、インプロピル、ナフチル、または
ペンチルのような低級アルキル基、メトキシ、エトキシ
、インプロポキシ、ｔ−ブトキシ、またはペンチルオキ
シのような低級アルコキシ基があげられる。

Ｗとしては、メチレン基；カルボニル基；式〕ＣＨ−Ｏ
Ｒ３′基（式中、Ｒ６′は前述したものと同意義を示す
。）；式＞ＮＯｖ基〔式中、■は水素原子、前述したＲ
３と同意義を有する置換基を有していてもよい直鎖状若
しくは分枝鎖状め炭素数１乃至１０のアルキル基または
ベンジル、４メチルベンジル、３−メトキシベンジル、
１−クロロベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニ
ルエチル、３−（２−１０ロフエニル〕プロピルまたは
４−フェニルブチル、１−す７チルメチル、２−ナフチ
ルメチルのような置換基を有していてもよい炭素数７乃
至１１のアラルキル基を示す。〕または式＞Ｎ−（）Ｒ
？ｉ’、基（式中、Ｒ八は前述したものと同意義を示す
。〕があげられるが、後述するＵと共に二重結合を形成
してもよい。

Ｕは通常メチレン基を示すが、Ｗと共に二重結合を示し
てもよい。Ｕは、さらに、Ｗがカルボニル基１式＞Ｎ　
−ＯＶ基（式中、■は前述したものと同意義を示す。）
若しくは式’）＝Ｎ−ｏＲｓ／ａ基（式中、　Ｒ３／ａ
は前述したものと同意義を示す。

を示すときには、Ｒ＋と共に二重結合を示してもよい。

Ｕは、さらに、単結合を示すこともできる。

Ｙは酸素原子またはイミノ基を示す。

Ｚは酸素原子またはイミノ基を示すが、Ｗがメチレン基
のときには、硫黄原子を示すこともできる。

本発明の前記一般式（１）で表わされる目的化合物は、
常法に従って薬理上許容し得る無毒性塩とすることがで
きるが、そのような塩として例えばナトリウム、カリウ
ムのようなアルカリ金属の塩あるいはカルシウムのよう
なアルカリ土類金属の塩などをあげることができる。

本発明の前記一般式（Ｉ）で表わされる目的化合物は、
常法に従って薬理上許容し得る無毒性塩とすることがで
きるが、そのような塩として例えばナトリウム、カリウ
ムのよう表アルカリ金属の塩あるいはカルシウムのよう
なアルカリ土類金属の塩などをあげることができる。

本発明の前記一般式（Ｉ）で表わされる目的化合物が塩
基性の基を所有するときには、前述のような無責性の塩
とすることができ、たとえば。

塩酸塩、硫酸塩１硝酸塩、リン酸塩のような無機酸塩；
酢酸塩、コハク酸塩、マレイン酸塩。

フマール酸塩、リンゴ酸塩、グルタミン酸塩、アスパラ
ギン酸塩、パラトルエンスルホン酸塩メタンスルホン酸
塩のような有機酸塩をあげることができる。

さらに１本発明の化合物（１）において、好適な化合物
としては、Ｒ＋が水素原子または直鎖状若しくは分枝鎖
状の炭素数１乃至２０のアルキル基、さらに直鎖状若し
くは分枝鎖状の炭素数１乃至１２のアルキル基であり、
特に直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至９のアルキ
ル基であるが１前述した１０頁（２）項記載の化合物で
ある場合においては、Ｈｌが直鎖状若しくは分枝鎖状の
炭素数６乃至２０のアルキル基、さらに直鎖状若しくは
分枝鎖状の炭素数６乃至１２のアルキル基であり、特に
直鎖状の炭素数７乃至９のアルキル基であり；Ｒ２が水
素原子または低級アルキル基、さらに水素原子またはメ
チル若しくはインプロピル基であり、特にメチル基であ
り、Ｈ３が水素原子、置換されていてもよい直鎖状若し
くは分枝鎖状の炭素数１乃至５のアルキル基〔゛アルキ
ル基の置換分としてはカルボキシ基、直鎖状若しくは分
枝鎖状の炭素数１乃至５のアルコキシカルボニル基（ア
ルコキシカルボニル基のアルキル基部分は水酸基または
直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至５のアルコキシ
基で置換されていてもよい）、水酸基、直鎖状若しくは
分枝鎖状の炭素数１乃至５のアルコキシ基、炭素数１乃
至４個の脂肪族アシルオキシ基または炭素数１乃至５の
アルキル若しくは炭素数１乃至５のアルコキシで置換さ
れていてもよいベンゾイルオキシを示す。〕、炭素数１
乃至４の脂肪族アシル基または芳香族アシル基である。

さらに好適には水素原子、置換分としてカルボキシ基、
炭素数１乃至５のアルコキシカルボニル基、水酸基若し
くは炭素数１乃至５のアルコキシ基を有する炭素数１乃
至５のアルコキシ基を有する炭素数１乃至５のアルキル
基、アセチル基またはベンゾイル基であり、特に好適に
は水素原子、カルボキシメチル、２−カルボキシエチル
、３−カルボキシフロビル、エトキシカルボニルメチル
、ｔ−ブトキシカルボニルメチル、ペントキシカルボニ
ルメチル若しくは式 基のような置換分としてカルボ キシ若しくハ炭素数１乃至５のアルコキシカルボニルを
有する炭素数１乃至３のアルキル基であり；Ｒ５／は水
素原子、アセチル基またはベンゾイル基でちり、特に好
適には水素原子であり。

Ｒ４が直鎖状若しくは分枝鎖状の炭素数１乃至１２のア
ルキル基であり、さらに好適には、直鎖状若しくは分枝
鎖状の炭素数１乃至９のアルキル基であり、特にメチル
、インプロピル１ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、１，１−
ジメチルブチル、１，１−ジエチルプロピル若しくは１
．１．３．３−テトラメチルブチル基であるが、前述し
た９頁（１）項記載の化合物である場合においては、Ｈ
４が直鎖状若、シくは分枝鎖状の炭素数６乃至１２のア
ルキル基であり１さらに好適には分枝鎖状の炭素数６乃
至１２のアルキル基であり、特に１．１−ジメチルブチ
ル、１，１−ジエチルフロビル若しくは１．１．３．３
−テトラメチルブチル、基であり；Ｒ５が水素原子、低
級アルキル基、さらに水素原子、メチル基であり、特に
メチル基であり；Ｒ６およびＲ７はそれぞれ水素原子で
あり、　Ｒ８およびＲ９の好適乃至特に好適な置換基は
水素原子またはＲ６と同意義を有する置換アルキル基で
あり；Ａｒがｐ−フェニレンｉ、ｏ−７エ二しン基１ｍ
−フェニレン基、マたは式 の型式で示されるときであり。

さらにｐ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、または式 ％式％ のときであり、特に ｐ−フェニレン基であり；Ｒ１＋は低級アルキル基、特
にメチル基であり；Ｗがメチレン基、カルボニル基、式 ％式％ 、式１０Ｈ−０−（１！ＱＣ！Ｈ３、 式’）−Ｎ−ｏＨＬ式＞Ｎ刊０００Ｈ３、式〉ロＮ−０
−０Ｈ３式 ％式％ 、式＞Ｎ−（）Ｃ！Ｈ２Ｃ！ＯＯＨ 式＞””Ｎ−（）−０Ｈ２０００ＣＨ５、式〉＝Ｎ刊−
ｃａ２ｃｏｏｃ２ｕ５ 式＞＝Ｎ−０−Ｃ！Ｈ２−ｃｏｏｃｎ　、。Ｈ３式〉＝
Ｎ→−０Ｈ２−ｃｏｏ（ｃｕ２．）３ｃｕ３式 ％式％ 式〉二Ｎ−〇−ｃａ２−００００（ＯＨ３月であり、さ
らに、メチレン基、カルボニル基、式〉とＮ−（ＤＨ。

＞＝Ｎ−０−ｃＨ２ｃｏＯＨまたは式％Ｎ−ｏ　ｃｏｃ
Ｈ５であり、特に、メチレン基、カルボニル基または式
＞Ｎ−ＯＨでアリ、さらに特に、メチレン基であり；Ｕ
がメチレン基若しくはＲ１とともに二重結合であり、特
にメチレン基であり；ｎが１，２あるいは３．さらに１
あるいは２．特に１であり、；Ｙが酸素原子であり；２
が酸素原子あるいはイミノ基、特に酸素原子である化合
物をあげることができる。

本発明のチアゾリジン誘導体（Ｉ）の具体例としてはた
とえば１以下に示すような構造式を有する化合物（第−
表）があげられる。

なお、以下の表において、　Ｍｅ−はメチル置換を示す
。

また、 以下に示すような構造式を有する化合 物（第二衣）があげられる。

また、 以下に示すような構造式を有する化合 物（第三衣）があげられる。

さらに、以下に示すよう々構造式を有する化合物（第四
衣〜第十二表）があげられる。

々お、以下の表において、 ＴＭＢは１．１，３．３−テトラメチルブチル基、５．
５−　ｄＭＨは５．５−ツメチルヘキシル基、３．３−
　ｄＭＢは３，３−ジメチルブチル基、３．７−　ｄＭ
ｏは３．７−ツメチルオクチル基、７．７−　ｄＭｏ　
＋！　７．７−シメチルオクチル基を示す。

本発明のチアゾリジン誘導体（１）は、たとえば次のよ
うにして製造することができる。すなわち、式（１）中
、Ｗがメチレン基またはカルボニル基であシ、Ｚがイミ
ノ基である化合物（１）は、一般式（］） で表わされる化合物とチオ尿素を反応させることによっ
て得られる。

上記式中、 Ｂ１．　Ｂ２．　Ｒ５，Ｂ４．　Ｂ５．　Ｒ６，Ｂ７゜
Ａｒ。ｎおよびＹは前述したものと同童義を示し、Ｒ８
は水素原子またはアルキル基を示し、Ｗ１はメチレン基
若しくはカレボニル基を示し、Ａはシアノ基、カルボキ
シ基、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル
、プロポキシカルボニル　イソフロボキシカルボニル、
ブトキシカルボニルのようなアルコキシカルボニル基、
カルバモイル基または式−０００Ｍ基（式中、Ｍは例え
ばナトリウム、カリウム、カルシウムアルミニウムのよ
うな金属原子またはアンモニウム等の等価の陽イオンを
示す。）を表わし、Ｘは例えば塩素、臭累、沃素のよう
なハロゲン原子を表わす。なお、化合物（１）には下記
で示されるように、互変異性体が考えられるが、便宜上
これらを単に式（鳳）として表わす。

ＹｆＪ″−酸累原子のとき、 Ｙがイミノ基であるとき、 化合物（［ｌ）とチオ尿素との反応は通常溶媒中で行な
われる。該溶媒としては、たとえはメタノール、エタノ
ール、グロパノール、ブタノール、エチレングリコール
モノメチルエーテルなどのアルコール類、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンなどのエーテル類、アセトン、ジメ
チルスルホキシド、スルホラン、ジメチルホルムアミド
などがあげられる。化合物（ｎ）とチオ尿素との使用モ
ル比は特に限定されないが、化合物０）に対して等モル
よシやや過剰のチオ尿素を使用するのがよい。好ましく
は化合物０）１モルに対し、１〜２モルである。反応温
度、反応時間などの反応条件は用いられる原料、溶媒な
どにより異なるが、通常反応は溶媒の沸点もしくは８０
乃至１５０℃で、１時間乃至約２０時間行なわれる。

式（＋）中、Ｗがメチレン基およびカルボニル基であり
、Ｙと２が共に酸累原子である本発明の化合物（ＩＴ）
は、化合物（１）を、単離もしくは単離することなく、
加水分解することによって製造することができる。

化合物（ＩＴ）には下記で示されるように、互変異性体
が考えられるが、便宜上これらを単に式（ｆｆ）として
表わす。

加水分解工程は化合物（璽）を適当な溶媒中（たとえは
スルホラン、メタノール、エタノール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテルなど）、水、酢酸のような有機
酸、あるいは硫酸、塩酸のような鉱酸の存在下加熱する
ことによシ行なわれる。酸の添加量は、通常化合物（１
）１モルに対し、０．１〜１０モル、好ましくは０２〜
３モル、水あるいは水性溶媒の添加量は、化合物（１）
に対し通常大過剰である。反応温度は通常、５０乃至１
００℃であり、　加熱時間は通常数時間乃至約２０時間
である。なお、この加水分解工程を経たのちは、化合物
（ＩＴ）中のＲ３は通常水素原子を示す（Ｒ５が氷菓原
子である（ＩＴ）を特に（ＩＶＨ）で示す。〕が、反応
条件をえらぷことによシ、アシル基を残すこともできる
。

該工程において得られたチアゾリジン誘導体（ＩＶ）は
、常法により、ナトリウム、カリウムのようなアルカリ
金属；カルシウムのようなアルカリ土類金属；もしくは
アルミニウムのような三価の金属で例示される種々の金
属；好適にはナトリウム、カリウムのようなアルカリ金
属；カルシウムのようなアルカリ土類金属；さらに好適
には、ナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属との
塩を形成することができる。

またフェノール性水酸基を有するチアゾリジン誘導体に
おいては、例えば、ナトリウム、カリウムのような一価
の金属に対しては、モノ塩もしくはジ塩を、必要に応じ
て形成せしめることができる。

該工程において得られたチアゾリジン誘導体（ｆｆ）が
塩基性の基を有するときには、所望によシ塩酸塩、硫酸
塩、硝酸塩、リン酸塩のような無機酸塩類：酢酸塩、コ
ハク酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、リンゴ酸塩、
グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩、パラトルエンスル
ホン酸塩、メタンスルホン酸塩のような有機酸塩類に導
くことができる。

また（ＩＶＨ）は、酸ハロゲン化物、酸無水物のような
アシル化剤、または芳香族カルボン酸、脂肪族カルボン
酸のような有機酸と、塩酸、硫酸のような鉱酸、パラト
ルエンスルホン酸のような有機酸からなる脱水剤または
脱水触媒を用いることによって、目的とするエステル類
に変換することができる。反応は通常溶媒中で行なわれ
る。使用される溶媒としてはエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、トル
エンのような芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキ
サン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類、ジクロロメ
タン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、ア
セトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド
類、ピリジン、トリエチルアミンのような有様塩基類、
ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類、スルホ
ランのようなスルホン類、水などがあげられる。化合物
（ｆｆＨ）とアシル化剤の割合は特に限定はないが、化
合物（ＩＶＨ）に対して等モルよりやや過剰のアシル化
剤を使用するのがよい。好ましくは化合物（＋ｙＨ）　
１モルに対し、アシル化剤１〜１０モルである。反応温
度、反応時間などの反応条件は用いられる原料、溶媒の
種類によって異なるが、通常０℃乃至１００℃で、数分
乃至約２０時間である。

式（１）中、Ｗがヒドロキシメチレン基であシ、２がイ
ミノ基である化合物（Ｖｌ）は、一般式（Ｖ）で表わさ
れる化合物と水素化ホウ素す）　ＩＪウム、Ｋ−セレク
トライドのような還元剤、特に水素化ホウ素ナトリウム
を反応させることによって得られる。

上記式中、Ｂ１．几２．　Ｒ３，Ｒ４，ＢＳ。

Ｒ６，Ｒ７，Ｂ８二 Ａｒ、　ｎおよびＹは前述したものと同意義を示す。

なお、化合物（Ｖｌ）には下記で示されるように、互変
異性体が考えられるが、便宜上これらを単に式（ＶＴ）
として表わす。

Ｙが酸累原子のとき Ｙがイ ミノ基であるとき、 化合物（Ｖ）と水素化ホウ素ナトリウムとの反応は通常
溶媒中で行なわれる。該溶媒としてはたとえばメタノー
ル、エタノール、プロパツール、ブタノール、エチレン
グリコールモノメチルエーテルなどのアルコール類、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類などが
あげられる。化合物（Ｖ）と水素化ホウ素ナトリウムと
の使用モル比は特に限定されないが、化合物（Ｖ）に対
して過剰の水素化ホウ紫ナトリウムを使用するのがよい
。好ましくは化合物（ｖ）１モルに対し１〜２０モルで
ある。反応温度、反応時間などの反応条件は用いられる
原料、溶媒などにより異なるが、通常反応は０乃至１０
０℃で１時間乃至約２０時間行なわれる。

式（１）　中、Ｗがヒドロキシメチレン基であシ、Ｙと
Ｚが共に酸素原子である化合物（■）は、般式（■）で
表わされる化合物と水素化ホウ素ナトリウム　Ｋ−セレ
クトライドのような還元剤、特に水素化ホウ累ナトリウ
ムを反応させることによって得られる。

上記式中、Ｂ１．　Ｂ２．　Ｒ３，Ｂ４．　ＢＳ、　Ｂ
６．　Ｂ７．　Ｂ８’。

Ａｒ、およびｎは前述したものと同意義を示す。

なお、化合物（■）には下記で示されるように、互変異
性体が考えられるが、便宜上これらを単に式（■）とし
て表わす。

化合物（■）と水素化ホウ素ナトリウムとの反応は通常
溶媒中で行なわれる。該溶媒としては、たとえばメタノ
ール、エタノール、プロパツール、ブタノール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール類、
テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類など
があげられる。化合物（■）と水素化ホウ累ナトリウム
との使用モル比は特に限定されないが、化合物（■）に
対して過剰の水素化ホウ累ナトリウムを使用するのがよ
い。好ましくは化合物（■）１モルに対し１〜２０モル
である。反応温度、反応時間などの反応条件は用いられ
る原料、溶媒などによシ異なるが、通常反応は０乃至１
００℃で１時間乃至約２０時間である。

また化合物（ＶＴ）は酸ハロゲン化物あるいは酸無水物
のようなアシル化剤と反応させることによって、目的と
するアシル化物（ＩＫ）に変換することができる。

上記式中、Ｂ１．　Ｒ２，Ｂ３．　Ｂ４．　Ｒ５，Ｒ６
，Ｂ７．　Ｒ，８’。

Ａｒ、　ｎおよびＹは前述したものと同意義を示し、Ｒ
ｔ′は前述したＲ３′の定義から水素原子を除外したも
のを示す。なお、化合物（■）には下記で示されるよう
に、互変異性体が考えられるが、便宜上、これらを単に
式（ＩＸ）として表わす。

Ｙが酸素原子のとき Ｙがイミノ基のとき 反応は通常溶媒中で行なわれる。使用される溶媒として
は、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタ
ンのような脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロ
ホルムのようなハロゲン化炭化水素類、ピリジン、トリ
エチルアミンのような有機塩基類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類、スルホランのよ
うなスルホン類などがあげられる。

化合物（Ｍｌ）とアシル化剤の割合は特に限定はないが
、化合物（ＶＴ）に対して等モルよシやや過剰のアクル
化剤を使用するのがよい。好ましくは化合物（■）１モ
ルに対し、アシル化剤１〜１０モルである。反応温度、
反応時間などの反応条件レマ用いられる原料、溶媒の種
類によって異なるが、通常０乃至１００’（：で、数分
乃至約２０時間である。

また化合物（■）は、酸ハロゲン化物または酸無水物の
ようなアシル化剤と反応させることによって、目的とす
るアシル化物（Ｘ）に変換することができる。

上記式中、Ｂ１．　Ｒ２，Ｒ５，Ｒ％’、　Ｈ，４，Ｒ
５，Ｂ６．　Ｂ７゜Ｒ８，Ａｒ、およびｎは前述したも
のと同意義を示す。なゼ化合物（Ｘ）には下記で示され
るように、互変異性体が考えられるが、便宜上これらを
単に式（Ｘ）として表わす。

反応は通常溶媒中で行なわれる。使用される溶媒として
は、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタ
ンのような脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロ
ホルムのようなハロゲン化炭化水素類、ピリジン、トリ
エチルアミンのような有機塩基類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類、スルホランのよ
うなスルホン類などがあげられろ。化合物（■）とアシ
ル化剤の割合は特に限定はないが、化合物（■）に対し
て等モルよシやや過剰のアシル化剤を使用するのがよい
。好ましくは化合物（■）１モルに対し、アシル化剤１
〜１０モルである。反応温度、反応時間などの反応条件
は用いられる原料、溶媒の種類によって異なるが、通常
０乃至１００℃で、数分乃至約２０時間である。

式（１）中、ＷとＵで炭素・炭素二重結合を形成し、２
がイミノ基である化合物０］）は一般式（Ｖｌ）あるい
は（ＩＫ）で表わされる化合物より、それぞれ、水ある
いはｕ％’ｏＨ（式中、　％／は前述したものと同意義
を示す。）を脱離させることによって得られる。

上記式中、Ｂ１．　Ｂ２．　Ｂ３．　Ｂ３．’、　Ｂ４
．　ＢＳ、　Ｂ６゜Ｒ７，Ｒ”、　Ａｒ、　　ｎおよび
Ｙは　前述したものと同意義を示す。なお、化合物（Ｘ
Ｉ）には下記で示されるように、互変異性体が考えられ
るが、便宜上これらを単に式（ＸＩ）として表わす。

Ｙが酸累原子のとき Ｙがイミノ基であるとき、 化合物（Ｖｌ）あるいは（ＩＸ）よシ、それぞれ、水あ
るいは　Ｒ％’ＯＨを脱離させる反応は酸触媒の存在下
、もしくは　非存在下において、通常溶媒中で行われる
が、酸触媒を特に使用することなく、酸性溶媒中で反応
を行なってもよい。該触媒としては、塩酸、硫酸のよう
な無機酸類、酢酸、パラトルエンスルホン酸のような有
機酸類があげられる。該溶媒としては、エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーチル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、
ヘキサン　シクロヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭
化水素類、ジクロロメタン、クロロホルムのよウナハロ
ゲン化炭化氷菓類、アセトン、メチルエチルケトンのよ
うなケトン類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドのようなアミド類、水、および上記溶媒の混合溶
媒などがあげられる。

上記該酸性溶媒としては、酢酸のような有機酸があげら
れる。化合物（Ｖｌ）あるいは（ＩＸ）と該触媒とめ割
合は、特に限定はないが、化合物（Ｖｌ）あるいは（Ｉ
Ｋ）に対して０．１モル％乃至１ｏｏ　モル％であシ、
好ましくは１乃至１０モル％テする。

反応温度、反応時間などの反応条件は用いられる原料、
溶媒の種類などによって異なるが、通常０乃至１００℃
で、数分乃至約２０時間である。

式（１）中、ＷとＵで炭素・炭素二重結合を形成し、Ｙ
とＺが共に酸素原子である化合物（■）は一般式（■）
あるいは（Ｘ）で表わされる化合物よシ、それぞれ、水
あるいは　ｇ％’ｏｎ　（式中、ｎ　３．／は前述した
ものと同意義を示す。）を脱離させることによって得ら
れる。

上記式中、Ｒ’、　Ｒ２，Ｒ３，Ｒ〜’、　Ｂ４．　Ｂ
５．　Ｒ６゜Ｒ’、　Ｒ”、　Ａｒ、およびｎは前述し
たものと同意義を示す。なお、化合物（Ｘｌｌ）には下
記で示されるように、互変異性体が考えられるが、便宜
上これらを単に式（■）として表わす。

化合物（■）あるいは（Ｘ）よシ、それぞれ、水あるい
は　Ｒ−′○Ｈを脱離する反応は酸触媒の存在下、もし
くは　非存在下において、通常溶媒中で行われるが、酸
触媒を特に使用することなく、酸性溶媒中で反応を行な
ってもよい。該触媒としては、塩酸、硫酸のような無機
酸類、酢酸、パラトルエンスルホン酸のような有機酸類
があげられる。該溶媒としては、エーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、
トルエン、キシレンのヨウナ芳香族炭化水素類、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素
類、ジクロロメタン、クロロホルムのようなハロゲン化
炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケ
トン類、水　および、上記溶媒の混合溶媒などがあげら
れる。

上記該酸性溶媒としては、酢酸のような有機酸があげら
れる。化合物（■）あるいは（Ｘ）と該触媒とめ割合は
、特に限定はないが、化合物（■）あるいは（Ｘ）に対
して、０１モル％乃至１００モル％であシ、好ましくは
１乃至１０モル％でアル。

反応温度、反応時間などの反応条件は用いられる原料、
溶媒の種類などによって異なるが、通常０乃至１００℃
で、数分乃至約２０時間である。

式（１）中、ＷとＵで炭素・炭素二重結合を形成し、Ｚ
が酸素原子である化合物（Ｘｌｌ）はＺがイミノ基であ
る化合物（ＸＩ）を加水分解することによっても製造す
ることができる。

上記式中、Ｂ、１．　Ｂ２．几３．　Ｂ４．　Ｒ５，Ｂ
６．　Ｂ７．　Ｂ８’。

Ａｒ、　ｎおよびＹは前述したものと同意義を示す。

加水分解工程は化合物（ＸＩ）を適当な溶媒中（たとえ
ばスルホラン、メタノール、エタノール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルなど）、水、酢酸のような有
機酸、あるいは硫酸、塩酸のような鉱酸の存在下加熱す
ることにより行なわれる。酸の添加量は、通常化合物（
刀）１モルに対し、０１〜１０モル、好ましくは０２〜
３モル、水あるいは水性溶媒の添加量は、化合物（ＸＩ
）に対し通常大過剰である。反応温度は通常、５０乃至
１００℃であシ、加熱時間は通常数時間乃至約２０時間
である。なお、この加水分解工程を経たのちは、化合物
（Ｘ［ｌ）中のＲ３は通常水素原子を示す［Ｒ３が氷菓
原子である（■）を特に式（ＸＩＩＨ）で示す。〕が、
反応条件をえらぷことによシ、アシル基を残すこともで
きる。

式（１）中、Ｗがメチレン基であシ、ＹとＺが共に酸素
原子である化合物〔■、（ｗｌ−ｃＩ］２）〕は、式（
１）中、ＷとＵで炭素・炭素二重結合を形成し、ＹとＺ
が共に酸素原子である化合物（■）を水素添加すること
によって製造することができる。式中、Ｒ’、　Ｒ２，
Ｒ６，Ｒ’、　Ｒ”’、几６．Ｂ７゜Ｒ♂、Ａｒ、およ
びｎは前述と同意義を示す。

水素添加反応としては接触還元法が用いられる。接触還
元に用いられる触媒はパラジウム炭素、ラネーニッケル
、酸化白金などがあげられるが、好ましくは、パラジウ
ム−炭素である。

水素圧は１気圧乃至１００気圧であるが、１気圧乃至６
気圧が好ましい。溶媒としては、メタノール、エタノー
ルのようなアルコール類、ベンゼン、トルエンのような
芳香族炭化氷菓類、テトラヒドロフランのようなエーテ
ル類、酢酸のような有機酸、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミドのよ５なアミド類、水およびこれら
のものの混合物があげられる。反応温度、反応時間は用
いられる原料、溶媒によって異なるが、通常室温乃至５
０℃で数分乃至約２０時間である。

式（１）中、Ｗがカルボニル基を示し、ＵがＲ１ととも
に二重結合を示し、ＹとＺがともに酸素原子である化合
物（ＸＶ）は、一般式（ｘｉ）で表わされる化合物とチ
オ尿紫から得られる一般式（ＸＩＶ）で表わされる化合
物を経由して製造される。

式（ｘｉ）　、　　（Ｘｆｆ）、あるいは（ｘｖ）中、
Ｒ２，Ｒ３，Ｒ’、　Ｒ”、　Ｒ６，Ｒ７，Ｒ８’、　
Ａ、　Ａｒ、　ｎ、　Ｘ。

Ｙ、および　Ｚは前述したものと同意義を示し、Ｌは一
〇Ｒ３（Ｒ３は前述したものと同意義を示す。）、若し
くは、Ｕと共に二重結合を示し、Ｕは、Ｌが一〇Ｒ６（
Ｒ’は前述したものと同意義を示す。）の場合には、メ
チレン基を示す。式（ｘｒｖ）および式（ＸＶ）で表わ
されるチアゾリジン誘導体には、先に、式（」）および
式（ｆｆ）で示したような互変異性体が考えられるが、
便宜上、該異性体をもそれぞれ、式（Ｘ■）および　式
（ＸＶ）　　として表わす。

化合物（ｘｍ）から（Ｘ■）、ついで（ｘｖ）を得る反
応の条件等は化合物（１１）から０）ついで（ＩＶ）を
得る反応の条件等と同様である。

式（１）中、Ｗが式）＝Ｎ−ＯＶ（式中、■は前述した
ものと同意義を示す。）であり、２がイミノ基である化
合物（ＸＶＩ）は、Ｗがカルボニル基を示す一般式（Ｖ
′）で表わされる化合物に、一般式Ｈ２Ｎ−０Ｖ　（当
該化合物は塩酸、硫酸のような鉱酸の塩であってもよく
、■は前述したものと同意義を示す。）を有する化合物
を反応させることによって得られる。上記（ｖ′）およ
び（Ｘ■）式中、Ｒ’、　Ｒ２，Ｒ６，Ｒ’、　Ｒ”、
　Ｒ６，Ｒ７，Ｒ”’、　Ａｒ　。

ｎ　、ｕ、ｖおよびＹは前述したものと同意義を示す。

なお化合物（Ｘ■）には、たとえば下記で示されるよう
に互変異性体が考えられるが、便宜上、これらを単に、
式（Ｘ■）として表わす。

Ｙが酸素原子のとき、 Ｙがイミノ基であるとき、 化合物（φと化合物：　ＨＮＯＶ　Ｃ当該化合物は前述
した塩であってよく、Ｖは前述したものと同意義を示す
。）との反応は、通常、水酸化す）　ＩＪウム、水酸化
カリウムのようなアルカリ金属水酸化物または炭酸ナト
リウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩で示
される脱酸剤の存在下もしくは非存在下に化合物：　Ｈ
２Ｎ０Ｖ　（当該化合物は前述した塩であってよく、Ｖ
は前述したものと同意義を示す。）で表わされるヒドロ
キシルアミン誘導体類 を作用せしめることによって達成される。

化合物（Ｖ′〕と式Ｈ２Ｎ０Ｖを有する化合物との反応
は、通常、溶媒中で行なわれる。該溶媒とシテハ、たと
えば、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノ
ール、エチレングリコ−／ｌ／モノメチルエーテルなど
のようなアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンナトのようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミドのよりなアミド類、ジメチルスルホ
キシドのようなスルホキシド類、スルホランのようなス
ルホン類、トリエチルアミン、ピリジンなどのような有
機塩基類または水、あるいはこれらの混合溶媒があげら
れる。

化合物（ｖ′）と式ＨＮＯＶで示されるヒドロキシルア
ミノ誘導体類との反応において、その使用モル比は、特
に限定されないが、化合物（Ｖｏ）に対して式Ｈ２Ｎ０
？を有する化合物は等モルより大過剰でよく、好ましく
は化合物（ｙ／　）　１モルに対して、式Ｈ２Ｎ０Ｖを
有する化合物は１乃至５０モルである。式Ｈ２Ｎ０Ｖを
有する化合物がヒドロキシルアミン誘導体類の無機酸塩
類を示すとき、反応に際しては、脱酸剤を使用してもよ
く、その使用モル比は、概無機酸塩類に対して脱酸剤は
等モル以下でよい。

反応温度、反応時間などの反応条件は、用いられる原料
、溶媒などにより異なるが、通常、０乃至１００℃で、
数分乃至約１０日である。

特に式（１）中、Ｗが式）−Ｎ−ＯＶＣ式中、Ｖ−は前
述したものと同意義を示す。）であり、ＹおよびＺが共
に酸素原子である化合物（Ｘ■）は、Ｗがカルボニル基
を 示す一般式（■′）で表わされる化合物に、一般式Ｈ２
Ｎ−（）Ｖ　（当該化合物は塩酸、硫酸のような鉱酸の
塩であってもよく、■は前述したものと同意義を示す。

）を有する化合物を反応させることによって得られる。

上記（■）および（Ｘ■）式中、Ｒ’　、　Ｒ２，Ｒ３
，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７，Ｒ”’、　Ａｒ　。

ｎ　、　Ｔ、ｌおよびＶは前述したものと同意義を示す
。

なお化合物（Ｘ■）には、たとえば下記で示されるよう
に互変異性体が考えられるが、便宜上、これらを単に、
式（Ｘ■）として表わす。

化合物（■′）と式Ｈ２Ｎ０Ｖを有する化合物（当該化
合物は前述した塩であってよく、Ｖｏは前述したものと
同意義を示す。）との反応は、通常、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物または
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭
酸塩で示される脱酸剤の存在下もしくは非存在下に式Ｈ
２ＮＯＶ−を有する化合物（当該化合物は前述した塩で
あってよく、Ｖは前述したものと同意義を示す。）で表
わされるヒドロキシルアミン誘導体類を作用せしめるこ
とによっ て達成される。

化合物（■″）と式Ｈ２Ｎ０Ｖを有する化合物との反応
は、通常、溶媒中で行なわれる。該溶媒としては、たと
えば、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノ
ール、エチレンクリコルモノメチルエーテルなどのよう
なアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど
のようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシド
のようなスルホキシド類、スルホランのようなスルホン
類、トリエチルアミンピリジンなどのような有機塩基類
または水、あるいはこれらの混合溶媒があげられる。

化合物（■勺と式ＨＮｏｖ’ｆ：有する化合物で示され
るヒドロキシルアミン誘導体類との反応において、その
使用モル比は、特に限定されないが、化合物（■Ｉ）に
対して式Ｈ２Ｎ０Ｖヲ有する化合物は等モルより大過剰
でよく、好ましくは化合物（■′）１モルに対して、式
Ｈ２Ｎ０ｖを有する化合物は１乃至５０モルである。式
Ｈ２Ｎ０Ｖを有する化合物がヒドロキシルアミン誘導体
類の無機酸塩類を示すとき、反応に際しては、脱酸剤を
使用してもよく、その使用モル比は、化合物（■′）に
対して脱酸剤は等モル以下でよい。反応温度、反応時間
などの反応条件は、用いられる原料、溶媒などにより異
なるが、通常、０乃至１００℃で、数分乃至約１０日で
ある。

式（Ｉ）中、Ｗが式＞＝Ｎ−０−ＲａＣ式中、Ｒａは前
述したものと同意義を示す。）であり、Ｚがイミノ基で
ある化合物（ＸＸ）は、前述の一般式（Ｘ■）において
、■が水素原子である化合物（Ｘ■）に、酸ハロゲン化
物または酸無水物のよりなアシル化剤を反応させること
によって得られる。

上記（ＸＶｌ［）または（ＸＸ）式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ
３，Ｒ３，’。

４　　　５　　　６　　　７　　　　Ｂ’Ｒ，Ｒ，Ｒ，
Ｒ，Ｒ，Ａｒ　、Ｕ、ｎおよびＹは前述したものと同意
義を示す。なお化合物（ＸＸ）には、たとえば、下記で
示されるように互変異性が考えられるが、便宜上、これ
らを単に、式（ＸＸ）として表わす。

Ｙが酸累原子のとき、 Ｙがイミノ基であるとき、 化合物（Ｘ■〕と該アシル化剤との反応は、通常、溶媒
中で行なわれる。使用される溶媒としては、エーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのよウナエーテル類、
ベンゼン、トルエン　キシレンのような芳香族炭化水素
類、ヘキサン　シクロヘキサン　へブタンのような脂肪
族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルムノような
ハロゲン化炭化水素類、ピリジン、トリエチルアミンの
ような有機塩基類、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドの
ようなスルホキシド類、スルホランのようなスルホン類
および水、あるいはこれらの混合溶媒があげられる。化
合物（Ｘ■）とアシル化剤との割合は、特に限定はない
が、化合物（Ｘ■）に対して等モルより過剰のアシル化
剤を用いるのが良く、好ましくは、化合物（Ｘ■）１モ
ルに対し、アシル化剤１乃至１０モルである。反応温度
、反応時間などの反応条件は用いられる原料、溶媒の種
類などによって異なるが、通常、０°乃至１００℃で、
数分乃至約２０時間である。

特に式（１）中、Ｗが式）−Ｎ−０−Ｒａ（式中、Ｒａ
は前述したものと同意義を示す。）であり、Ｙと２が共
に酸素原子である化合物（Ｘ恥は、前述の一般式（Ｘ■
〕において、特にＶが水素原子である化合物い■）に、
酸ノ・ロゲン化物または酸無水物のようなアシル化剤を
反応させることによって得られる。

上記（ＸＸ）および（ＸＸＩ）式中、Ｒ，Ｒ，Ｒ。

Ｒ”　ｒ　Ｒ’　＋　Ｒ５ｒ　Ｒ６ｒ　Ｒ７ＨＲ８′＋
　ＡｒＨ’ＣＩおよびｎは前述したものと同意義を示す
。なお化合物（ＸＸ［）には、たとえば、下記で示され
るように互変異性体が考えられるが、便宜上、これらを
単に、式（ＸＵとして表わす。

化合物（Ｘ［）と該アシル化剤との反応は、通常、溶媒
中で行なわれる。使用される溶媒としては、エーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、
ベンゼン　トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類、ヘキサン　シクロヘキサン　へブタンのような脂肪
族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルムのような
ハロゲン化炭化水素類、ピリジン　トリエチルアミンの
ような有機塩基類、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドの
よう々スルホキシド類、スルホランのようなスルホン類
および水、あるいはこれらの混合溶媒があげられる。化
合物（ＸＩＸ）とアシル化剤との割合は、特に限定ばな
いが、化合物（ＸＩＸ）に対して等モルより過剰のアシ
ル化剤を用いるのが良く、好ましくは、化合物（Ｘ■）
　’１モルに対し、アシル化剤１乃至１０モルである。

反応温度、反応時間々どの反応条件は用いられる原料、
溶媒の種類などによって異なるが、通常、０℃乃至１０
０℃で、数分乃至約２０時−コである。

式（Ｉ）中、Ｗがメチレン基またはカルボニル基であり
、Ｕがメチレン基であり、Ｒ，ＲおよびＲ９の少なくと
も１個が置換されていてもよいアルキル基、特に前述し
た置換アルキル基であり、Ｙと２がともに酸素原子であ
る化合物は、以下に示す３段階の工程で製造することが
できる。

第１段目の工程は、Ｒ，ＲおよびＲの少々くとも１個が
前述したアルコキシカルボニル基若しくはアシルオキシ
基で置換されていてもよいアルキル基である化合物を製
造する工程である。

本工程の反応は、Ｒ，ＲおよびＲがともに水素原子であ
る化合物（■Ｈ） （式中、Ｒｈ　Ｒｈ　Ｒｒ　Ｒｈ　Ｒｚ　Ｒｈ　Ａｒ　
ｒ　Ｗ　１およびｎは前述したものと同意義を示す。）
を好ましくは塩基の存在下でアルキルハライド〔該アル
キル基は、前述したアルコキシ基若しくはアシルオキシ
基で置換されていてもよく、ハライドは好適にはプロミ
ドである。〕と反応させることによって達成される。反
応終了後、通常の方法、例えばカラムクロマトグラフィ
＝または分取用薄層クロマトグラフィーによって、生成
物の分離を行々い、所望の化合物を得るととができる。

本工程の反応は通常溶媒中で行なわれる。該溶媒として
は、たとえばエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどのエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、シク
ロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロリ
ド、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素類、メタノ
ール、エタノール、　ｔｅｒｔ−ブタノールなどのアル
コール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど
のアミド類、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシ
ド類、スルホランのようなスルホン類、ピリジン、トリ
エチルアミンなどの有機塩基、水およびこれらの溶剤の
混合溶剤があげられる。

使用される塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素す）　ＩＪウム、炭酸水素カリウム々どの
アルカリ金属炭酸塩若しくは重炭酸塩、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムなどの水酸化ア
ルカリ金属若しくはアルカリ土類金属、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウムなどの水素化アルカリ金属、ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅ
ｒｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド、ブ
チルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムなどの有機リ
チウム化合物、リチウムジイソプロピルアミド、リチウ
ムジシクロヘキシルアミドなどのリチウムジアルキルア
ミド、ピリジン、トリエチルアミンなどの有機塩基があ
げられるが、好適には炭酸カリウムのようなアルカリ金
属炭酸塩である。

原料化合物（■゛）とアルキル・・ライドの割合は原料
化合物１モルに対し、アルキルノ１ライド１〜１０モル
であり、原料化合物と塩基の割合は原料化合物１モルに
対し、塩基１〜１０モルである。反応温度、反応時間な
どの反応条件は用いられる原料、アルキルノ・ライド、
溶媒の種類によって異なるが、通常−１０乃至１００℃
で、数分乃至数日である。

なお、本工程の反応において、６位のフェノール性水酸
基をアシル基などの保護基で保証した化合物を用いるこ
とによって、Ｒおよび／またはＲにアルキル基を導入し
、反応生成物より常法に従って保護基を除去し、目的の
化合物を得ることができる。

第２段目の工程は、所望により行なわれる反応であり、
Ｒ，Ｒおよび只　の少なくとも１個が前述したカルボキ
シ基若しくは水酸基で置換されているアルキル基である
化合物を製造する工程である。

本工程の反応は、館１段目の工程で得られたＲ３　、　
Ｒ８およびＲ９の少なくとも１個が対応するアルコキシ
カルボニル基若しくはアシルオキシ基で置換されている
アルキル基である化合物を、たとえば酸性若しくは塩基
性加水分解反応または酸性オレフィン脱離反応、好まし
くは酸性加水分解反応または酸性オレフィン脱離反応に
付することによって達成される。

酸性加水分解反応の反応条件は、常法、たとえば特開昭
５８−１５８３７５号明細書に示した６位フェノール性
水酸基のエステルまたはチアゾリン環２位のイミノ基の
加水分解反応条件と同様である。

塩基性加水分解反応の反応条件は、常法、たとえば前記
公開明細書に示したα−ノ・ロゲノカルボン酸類に関す
る加水分解および加溶媒分解反応条件と同様である。

酸性オレフィン脱離反応は、好ましくはアルコキシカル
ボニル基がｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基である場合
に行なわれるものであるが、無様若しくは有機の醒の存
在下で達成される０本工程の反応は、常法に従って無水
条件下で有機溶剤中で行なわれる。使用される溶剤とし
ては前記第１段目の工程であげたものと同様であるが、
好適にはジオキサンのようなエーテル類である。

使用される酸としては、塩化水素酸、硫酸、リン酸など
の鉱酸、酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸、メタン
スルホン酸、ｐ−）ルエンスルホン酸などのスルホン酸
があげられるが、好適には塩化水素酸のよう々鉱酸であ
る。反応温度、反応時間などの反応条件は、通常０乃至
１００℃で数分乃至２４時間である。

第３段目の工程は、所望により行なわれる反応であり、
Ｒ，ＲおよびＲの少なくとも１個が前述したアルコキシ
カルボニル基若しくはアシルオキシ基で置換されている
アルキル基である化合物を製造する工程である。

本工程の反応は、第２段目の工程で得られたＲ３．Ｒ８
およびＲ９の少なくとも１個が対応するカルボキシ基若
しくは水酸基で置換されているアルキル基である化合物
を、通常のエステル化反応の条件に従って処理すること
によって達成される。

式（Ｉ）中、Ｗがメチレン基まだはカルボニル基であり
、Ｕがメチレン基であり、ＲおよびＲ８が水素原子であ
り、Ｒ９が前述した置換されていてもよいアルキル基で
あり、Ｙと２がともに酸素原子である化合物は、前述し
た化合物（ＩＶＨ）の選択的アルキル化反応によって得
ることができる。本反応の反応条件は前述したアルキル
化反応において、原料化合物とアルキルハライドの割合
は原料化合物１モルに対し、アルキルノ・ライド１〜５
モル、好ましくは１〜３モルであり、反応温度および反
応時間は０乃至１００℃で、３０分乃至３時間である。

式（１）中、Ｗがメチレン基またはカルボニル基であり
、Ｕがメチレン基であり、ＹとＺがともに酸素原子であ
って、（ａ）　Ｒが水素原子であり、Ｒ３およびＲが前
述した置換されていてもよいアルキル基（ジアルキル置
換体）であるか、あるいは（ｂ）　Ｒ、ＲおよびＲが置
換されていてもよいアルキル基（トリアルキル置換体）
である化合物は、前述した化合物（■Ｈ）の選択的アル
キル化反応によって得ることができる。本反応の反応条
件は、前述したアルキル化反応において、原料化合物と
アルキルハライドの割合は原料化合物１モルに対し、ア
ルキルノ・ライド３〜６モルであり、反応温度および反
応時間は１５乃至４０℃で、５時間乃至２日間である。

反応生成物はさらに、クロマトグラフィーなどの分離法
を用いて精製することができる。

式（１）中、Ｗがメチレン基またはカルボニル基であり
、Ｕがメチレン基であり、ＲおよびＲ９が水素原子であ
り、ＲがＲｂ〔式中、Ｒｂは只の定義より水素原子およ
びアシル基を除き、かつ、置換されていてもよいアルキ
ル基の置換基が前述したものと同意義を有するアルコキ
シカルボニル基若しくはアシルオキシ基を示す。〕であ
り、ＹとＺがともに酸素原子である化合物（ＩＶ　）は
、以下に示すように、ハロゲノカルボン酸誘導体（［）
とチオ尿素を反応させ、ついで加水分解反応に付するこ
とによって得られる。

上記式中、Ｒ、Ｒ、Ｒｂ、　Ｒ、Ｒ、Ｒ、Ｒ。

Ａｒ　、　Ｗｌ、　ｎ　、　ＡおよびＸは前述したもの
と同意義を示す。

本工程の反応は、前述した化合物（ｎ）とチオ尿素との
反応、ついで得られた２−イミノ化合物（Ｉ）の加水分
解反応と同様に実施されるが、該イミノ基の加水分解反
応において使用される溶媒がアルコール類である場合に
は、置換基Ｒコ１がエステル残基を有するとき、該溶媒
アルコールとエステル交換を起してもよく、たとえば２
−メトキシエタノールを用いる場合、目的化合物（ＩＶ
ａ）のＲｂは２−メトキシエトキシカルボニルアルキル
基を示してもよい。

化合物（ＩＶ　）は、前述した第２段目の工程により、
置換基Ｒｂ　　がカルボキシ基若しくは水酸基で置換さ
れているアルキル基である化合物に導くことができる。

本製法における原料化合物（「）は、たとえば後述する
叩の化合物（■）（Ｗ’　′；ｃ　Ｈ２）あるいはＤ法
の化合物（［）　（Ｗ　：　＞＝０）に対応する化合物
であるが、以下に示すアルキル化反応に従って、化合物
（３）あるいは（１２）を製造し、以下、Ａ法あるいは
Ｄ法に従って得ることができる。

すなわち、６−ヒドロキシ−２−（４−ニトロフェノキ
シアルキル）クロマンで代表されるクロマン類（３Ｈ）
または（２Ｈ）に対し、前述したＡ−２工程における２
−メトキシメチルハライドのような、置換されていても
よいアルキルハライドとして、アルコキシカルボニルメ
チルハライドのよう々、置換されていてもよいアルキル
ハライドを反応せしめることによって、本発明における
出発物質（３′）または（１２’）の製造が達成される
。

上記式中、Ｒ、Ｒ、Ｒｂ、　Ｒ、Ｒ、Ａｒ　、　ｗ１’
。

ｎおよびＸは前述したものと同意義を示す。

本工程の反応は前述したアルキル化反応の反応条件と同
様である。

式（Ｉ）中、Ｗがヒドロキシメチレン基でアリ、ＹとＺ
がともに酸素原子であり、Ｒ，ＲおよびＲ９の少なくと
も１個が置換されていてもよイアルキル基である化合物
は、上述のアルキル化反応によって得られたＷがカルボ
ニル基である化合物を還元することによって得ることが
できる。その反応条件は前述した化合物（■）の還元に
よる化合物（■）の製造と同様である。

式（１）中、Ｗが＞＝Ｎ−（）Ｖ基であり、Ｙおよび２
がともに酸素原子であり、Ｒ３，Ｒ”およびＲ９の少な
くとも１個が置換されていてもよいアルキル基である化
合物は、上述のアルキル化反応によって得られたＷがカ
ルボニル基である化合物を式Ｈ２Ｎ−（）Ｖ　Ｃ式中、
■は前述したものと同意義を示す。）を有するヒドロキ
シルアミン誘導体と反応させることによって得ることが
できるその反応条件は前述した化合物（■）とＨＮ−０
Ｖとの反応と同様である。

式（１）中、Ｗが〉＝ＮｏＲ：　’基であり、Ｙおよび
Ｚがともに酸素原子であり、Ｒ３，Ｒ”およびＲ９の少
なくとも１個が置換されていてもよいアルキル基である
化合物は、上述のオキシム化反応によって得られだＷが
＞＝Ｎ−ＯＨ基である化合物を常法に従ってアシル什す
ると７１−Ｖ士って怨スととができる。その反応条件は
、前述した化合物（Ｘ■）のアシル化による化合物（Ｘ
Ｘ）の製造と同様である。

式（１）中、Ｗが；ＣＨ−ＯＲａ　　基であり、Ｙおよ
び２がともに酸素原子であり、Ｒ，Ｔ（およびＲ９の少
々くとも１個が置換されていてもよいアルキル基である
化合物は、上述の還元反応によって得られたＷがヒドロ
キシメチレン基である化合物を常法に従ってアシル化す
ることによって得ることができる。その反応条件は、前
述した化合物（■）のアシル化による化合物（Ｘ）の製
造と同様である。

弐〇）中、ＷとＵで炭素・炭素二重結合を形成し、Ｙお
よびＺがともに酸素原子であり、Ｒ１Ｒ８およびＲ９の
少なくとも１個が置換されていてもよいアルキル基であ
る化合物は、上述の反応によって得られたＷがヒドロキ
シメチレン基あるいは、’ＣＨ−ＯＲ：　　基である化
合物よりそれぞれ水あるいはＲ３０Ｈを脱離することに
よって得ることができる。その反応条件は前述した化合
物ＯＴＤの脱水反応あるいは化合物（Ｘ）の　３１０Ｈ
脱離反応による化合物（■）の製造と同様である。

本工程の反応によって得られたＷとＵで炭素・炭素二重
結合を形成している化合物を水素添加することによって
Ｗがメチレン基である対応する化合物ヲ得ることができ
る。その反応条件は前述した化合物（イ）の水素添加に
よる化合物■の製造と同様である。

式（１）中、Ｗがカルボニル基を示し、ＵがＲとともに
二重結合を示し、ＹとＺがともに酸素原子であり、Ｒお
よびＲが水素原子でありＲがＲｂ　　でのり、ＹとＺが
ともに酸素原子である化合物（ＸＶ　）は、ハロゲノカ
ルボン醒誘４体（ＸＩ　）とチオ尿素を反応させ、つい
で反応生成物を加水分解することによって得られる。本
工程の原料化合物（ＸＩ　）は、後述するＨ法に準じて
製造することができ、目的化合物（ＸＶ　）　’＆製造
する反応条件は前述した化合物（ＸＩ）のチオ尿素との
反応、ついで加水分解による化合物（ＸＶ）の製造と同
様である。

式（１）中、Ｗがカルボニル基を示し、Ｕ　７）ｓ　Ｒ
とともに二重結合を示し、Ｙおよび２がともに酸素原子
であり、Ｒ，ＲおよびＲの少なくとも１個が置換されて
いてもよいアルキル基である化合物は、Ｒ，ＲおよびＲ
がともに水素原子である化合物（ｘｖ’　） （式中、Ｒ、Ｒ、Ｒ、Ｒ、Ｒ、Ａｒおよびｎは前述した
ものと同意義を示す。） を塩基の存在下でアルキルハライドと反応させることに
よって達成される。その反応条件は、前述した化合物（
ＸＶ靜のアルキル化反応の場合と同様である。

式（１）中、Ｗが）−Ｎ−ＯＶ基または）＝Ｎ　−ＯＲ
基であり、ＵがＲとともに二重結合を示し、Ｙおよび２
がともに酸素原子であり、Ｒ，ＲおよびＲの少なくとも
１個が置換されたアルキル基である化合物は、上記の反
応によって得られたＷがカルボニル基である化合物より
、前述したオキシム化反応およびそのアシル化反応によ
って得ることができる。

上記の各反応によって得られたＲ、ＲおよびＲ９の少な
くとも１個がカルボキシ基若しくはアルコキシカルボニ
ル基で置換されたアルキル基を有する化合物またはその
反応性誘導体を用いて、常法に従ってアミド化反応を行
なうことによって、置換基Ｒ，Ｉ（および只　の少なく
とも１個が対応する置換若しくは非置換のカルバモイル
基で置換されたアルキル基である化合物を得ることがで
きる。

式＜１）甲、Ｗが式）＝Ｎ−０■（式中、■は前述した
ものと同意義を示す。）あるいは式＞Ｎ−ＯＲ３（式中
、　ｓ＋は前述したものと同意義を示す。）であるいわ
ゆるオキシム型、オキシムエーテル型、ならびにオキシ
ムエステル型に属する化合物は、アンチ型であってもシ
ン型 であってもよく、いずれの異性体も本発明の化合物に包
含される。

該オキシム型に属する化合物もまた、 常法に従った塩とすることができ、その塩が陽イオンと
の塩である場合は陽イオンとして、ナトリウム、カリウ
ムのようなアルカリ金属イオン　カルシウムのようなア
ルカリ土類金属イオン　アルミニウムのような三価の金
属イオンなどがあげられる。

前記一般式（１）において、Ｗがメチレン基、カルボニ
ル基、式＞＝Ｎ−ＯＶ基（式中、■は前述と同意義を示
す。）式〉−Ｎ−〇−Ｒ３″基（式中、Ｒ３′は前述と
同意義を示す。）まだはＷがＵと共に炭素・炭素二重結
合を形成するとき、式（Ｉ）によって示されるチアゾリ
ジン誘導体においてクロマン環の２位およびチアゾリジ
ン環の５位の炭素原子はそれぞれ不斉炭素原子であり、
それらに基づく各異性体もまた本発明の化合物に包含さ
れる。

また、式（１）中、Ｗが式　；ＣＨ−ＯＲ”［Ｒ３″ハ
前述したものと同意義を示す。〕を示すとき、式（１）
によって示されるチアゾリジン誘導体において、クロマ
ン環の２位、４位およびチアゾリジン環の５位の炭素原
子はそれぞれ不斉炭素原子であり、それらに基づく各異
性体もまだ本発明の化合物に包含される。

また、式（Ｉ）中、Ｗがカルボニル基、式−Ｎ−（）ｖ
基若しくは式−Ｎ−０−Ｒ：’基（式中およびＲ：°は
前述と同意義を示す。）を示し、ＵがＲ１と共に二重結
合を示すチアゾリジン誘導体において、チアゾリジン５
位の炭素原子は不斉炭素原子であり、それに基づく異性
体もまた本発明の化合物に包含される。

以上の反応によって得られたチアゾリジン誘導体（１）
は公知の分離、精製手段、たとえば濃縮、減圧濃縮、溶
媒抽出、晶出再結晶、転溶、クロマトグラフィー　さら
に光学分割法などによって単離精製することが可能であ
る。

本発明の前記一般式（Ｄで表わされる目的化合物を製造
する際の原料化合物であるα−ハロゲノカルボン酸誘導
体類（［）は、例えば以下の方法によって製造すること
ができる。

Ａ法 Ａ法はすでに本発明者らによって、特願昭５８−１５８
３７５号（前号１と略す）に詳述された方法と同等のも
のであり、一般式（「）ニおいてＷがメチレン基である
化合物を製造するのに有利に使用される。一般式（Ｉｔ
）において、ｗｌがメチレン基である化合物を（ＩＩ）
　（ｗ　、。Ｈ）で示す。

上記式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７
，Ｒ８′。

Ａｒ　、　ｎ　、　ＸおよびＡは前記したものと同意義
を示し、Ｒは水酸基の保護基を示し、ｍは〇乃至９の整
数を示す。

Ａ−１ Ａ−１工程は還元工程であり、前号１に示したものと本
質的に同等である。

Ａ−２ Ａ−２工程もまた前号１に示したものと本質的に同等で
ある。Ａ−１工程で得られたクロマンアルコール類（２
）は、Ａｒ（’Ａｒは前述したものと同意義を示す。）
にニトロ基を有するクロマン類（３）に導かれる。該反
応に先立ちフェノール性水酸基を保議することが好まし
く、水酸基の保護基Ｒ１２としては、たとえば、メトキ
シメチル、２−テトラヒドロピラニル、メトキシカルボ
ニルメチル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルなど
のような置換されていてもよいアルキル基が好ましい。

保護されたフエノール性水酸基を有するクロマンアルコ
ール類は、単離することもできるが、単離することなく
、弐Ｘ　（Ａｒ　、）　Ｎ　Ｏ２を有する化合物（該化
合物中、ＡｒおよびＸは前述と同意義を表わす。）と反
応させ、Ａｒにニトロ基を有するクロマン類（３）に導
かれる。

Ａ−３工程もまた前号１に示されたものと本質的に同等
である。Ａ−２で得られたニトロ体（３）は、対応する
アミン体（４）に還元される。該還元反応に際して、該
ニトロ体（３）のフェノール性水酸基の保護基Ｒはその
ままでもよいが、脱保護してもよく、さらに他の基、た
とえばアセチル基、ベンゾイル基のようなアシル基に変
えてもよく、アシル基に変えることが好ましい。

化合物（３）の脱保護をおこなう場合、脱保護工程は（
３）を低濃度の酸の存在下に加水分解することによって
達成される。化合物（３）の保護基をアシル基などに変
える場合、該アシル化は上記加水分解によって脱保護さ
れた化合物をさらにアセチルクロリド、ベンゾイルクロ
リドのような酸ハライド類、無水酢酸のような酸無水物
類で示されるアシル化剤で処理することによって達成さ
れる。ニトロ体（３）からアミノ体（４）への還元反応
としては、接触還元あるいは亜鉛、鉄などの金属と酸（
たとえば、塩酸、硫酸などの鉱酸、あるいは酢酸などの
有機酸）による還元があげられるが、好ましくは接触還
元があげられる。

Ａ−４ Ａ−４工程もまた、前号１に示したものと本質的に同等
である。

Ａ−４工程において、Ａｒ　（Ａｒは前述と同意義を示
す。）にアミノ基を有するクロマン類（４）をジアゾ化
し、ついでメイルパイン　了り−レイション（Ｍｅｓｒ
ｗｅｉｎ　Ａｒｙｌａｔｉｏｎ）をおこなうことによっ
て、本発明における目的化合物（１）の原料である、α
−ハロゲノカルボン酸誘導体類（「）（Ｗ：。Ｈ）の製
造が達成される。該反応は塩酸、臭化水素酸などの存在
下、亜硝酸ソーダなどの亜硝酸塩類で、ジアゾ化し、つ
いで、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ルのようなアクリル酸エステル類、クロトン酸エチル、
メタクリル段エチル、アクリロニトリル、メタクリロニ
トリル、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミドなどの
一般式ＲＲＣ＝ＣＲＡ　（式中、Ｒ１Ｒ７、Ｒ８’およ
びＡは前記したものと同意義を示す。）で示されるアク
リル酸誘導体、もしくはアクリル酸同族体、（ここにお
いて、Ｒ８いはＲは好ましくは水素原子；Ｒ８２は好ま
しくは水素原子またはメチル基、特に水素原子を示す。

の存在下に、触媒量の塩化第一銅、酸化第一銅などの第
一銅塩類を作用せしめることによって開始する。アクリ
ル酸誘導体としてはアクリル酸エステル類が好ましく、
第一銅塩類としては酸化落−銅が好ましい。該反応の溶
媒としてはメタノール、エタノールのようなアルコール
類アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、水
、およびこれらの混合物があげられる。

アミン体（４）とアクリル酸誘導体類の割合は、化合物
（４）１モルに対して、アクリル酸誘導体類１〜１５モ
ル、好ましくは５〜１０モルである。化合物（４）と第
一銅塩類との割合は化合物（４）１モルに対し、第一銅
塩類０．０１〜１モルであり、好ましくは００３〜０３
モルである。反応温度、反応時間は、用いられる原料、
溶媒などにより異なるが、通常、室温乃至１００℃で約
１０分乃至約２０時間、好丑しくけ４０乃至６０℃で３
０分乃至２時間である。

Ｂ法 Ｂ法もまた、一般式（［１）においてＷがメチレン基で
ある化合物を合成するのに有利に使用される。

クロマンアルコール類（２）において、％　Ｉｃ　ｎ　
カ２である化合物は、例えばジャ−ナル・オブ・アメリ
カン・オイル・ケミスツ・ソサイアテイ５１巻、２００
頁（１９７４）〔Ｌ、Ｊ、Ａｍ”？ｉｌＣｈｅｍ、Ｓｏ
ｃ、。

５１．２００（１９７４））に記載された方法で、ハイ
ドロキノン類（５）より多段階を経て製造することがで
きるが、特開昭５８−２０１７７５号に示された方法に
準じて、１段階で製造することも可能である。上記反応
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４，およびＲは前述したも
のと同意義を示す。以後Ａ２工程以下の方法に準じた、
数段階に渡る方法を用いることによって、α−ハロゲノ
カルボン酸誘導体類”）（Ｗ：ＣＨ）の合成が達成され
る。

Ｃ法 Ｃ法もまた、一般式（［）においてＷおよびＵがメチレ
ン基である化合物を合成するのに有利に使用される。

拳法はジャーナル・オブ・メディシナルケミストリー　
１８巻、９３４頁（１９７５）［Ｊ、Ｍｅｄ。

Ｃｈｅｍ、、１８，９３４’（１９７５）〕に記載され
た方法に準じたものであり、クロマン壌２位にＲ１″（
Ｒ１は、前述したＲ　の定義から水素原子を除外したも
のを示す〕を導入するのに、有利に用いることができる
。

上記式中、Ｒ１’、　Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５，およびＲ１２
は前述したものと同意義を示し、Ｂ１はカルボン酸の保
護基たとえば、アルキル、アルケニル、アルキニル、ア
ラルキル基、置換されていてもよいフェニル基を、好ま
しくは低級アルキル基を示すが、特に保護を必要とせぬ
場合は水素原子を示してもよい。

Ｃ−１乃至Ｃ−４ Ｃ−１工程乃至ｃ−４工程は上記文献に記載された方法
と本質的に同等である。

Ｃ−５ Ｃ−５工程は必要に応じてなされる、ンエノル性水酸基
を保護する工程であるが、Ｃ−６エ程に先立ちフェノー
ル性水酸基を保護することが好ましい。水酸基を保護す
る場合その保護基Ｒ１０としては、通常のフェノール性
水酸基の保護基たとえば、メトキシメチル、２−テトラ
ヒドロピラニルなどのようなアルコキシアルキル基もし
くは置換していてもよいベンジル基がまた、アセチル、
ベンゾイルのようなアシル基があげられるが、アルコキ
シアルキル基が好ましい。保護基を導入する反応は、通
常、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシ
ウムのような水素化アルカリもしくはアルカリ土類金属
、また、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサ
イド、カリウムターシャリ−ブトキサイドのようなアル
カリ金属のアルコラドなどの塩基の存在下、クロロメチ
ルメチルエテルのようなアルコキシアルキル化剤、もし
くはベンジルハライドのようなアルキル吐剤ヲ用いるこ
とによって達成される。該反応において、溶媒としては
、たとえばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエテル類、ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化氷菓類、ヘキサン、ヘプタンの
ような脂肪族炭化水系類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキ
シドのようなスルホキシド類、スルホランのようなスル
ホン類などがあげられる。

化合物（９）と該アルキル化剤との割合は、特に限定し
ないが、（９）に対しでや５過剰の該アルキル化剤を用
いるのが有利である。好ましくは化合物（９）１モルに
対して、該アルキル化剤は１乃至２モルである。反応温
度、反応時間などの反応条件は、用いられる原料、溶媒
などにより異なるが、通常反応は０乃至５０℃、好適に
は１０乃至２５℃で、数分乃至数時間性なわれる。この
ようにして保護されたクロマンカルボン酸誘導体類は、
単離することもできるが、単離することなく、Ｃ−５工
程においてクロマン現２位のアルキル化反応に使用する
ことができる。

Ｃ−６ Ｃ−５工程は、所望に応じて、クロマン環６位に保護さ
れた水酸基、同項２位にＲ１１を有するクロマンカルボ
ン酸誘導体類ａυを製造する工程で、クロマン環６位に
保護された水酸基を有するクロマンカルボン酸ａ０を不
活性溶媒中、塩基と処理し、反応液中にカルバニオンを
発生させた後、一般式　Ｒ”−Ｘ （式中、Ｒ１１は前述したものと同意義を示しＸは塩素
、臭素、沃素のようなハロゲン原子ヌハメタンスルホニ
ルオキシ、エタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニ
ルオキシ、ｐ−）ルエンスルホニルオキシのようなスル
ホニルオキシ基を示す。）を有する化合物を反応させる
ことによって達成される。使用される塩基としては、例
えば、メチルリチウム　ｎ−ブチルリチウム、ｔ−ブチ
ルリチウム、フェニルリチウムのような有機リチウム化
合物；リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジシク
ロへキシルアミド、リチウムイソプロピル　シクロヘキ
シルアミドなどのようなリチウムジアルキルアミド類；
または、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カ
リウムなどのような水素化アルカリ金属類をあげること
ができるが、好適には有機リチウム化合物、またはリチ
ウムジアルキルアミド類である。

使用される不活性溶剤としては反応に関与しなければ特
に限定されないが、例えば、エーテル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエーテル類をあげることがで
きる。

反応温度は前段のアニオンの発生では、−７８℃乃至室
温であり、後段のアニオンとＲ１３−Ｘ’との反応では
、０℃乃至６０℃であり、反応に要する時間は前段では
３０分間乃至２時間であり、後段では１時間乃至２４時
間である。

以後、Ａ−１工程以下の方法に準じた方法を逐次用いる
ことによってα−ハロゲンカルボン酸誘導体類（［１）
（Ｗ：ＣＨ２）の製造が達成される。

なお、所望に応じて、Ｒ１が水素原子であるクロマンカ
ルボン酸＝ａＣＯを用い、６エ程を経由することなく、
直接にＡ−１工程に準じた反応並びに以降の各反応を実
施することにより、Ｒ１が水素原子であるα−ハロゲノ
カルボン酸誘導体類（ＩＩ）（Ｗ：ＣＨ２）の製造が達
成される。

Ｄ法 り法はすでに本発明者らによって、特願昭５９−１５６
９０７号（前号２と略す）に詳述された方法と同等のも
のであり、一般式（［１）において、Ｗがカルボニル基
である化合物Ｃ（［）（ｗ、　＞。）と表す。〕を製造
するのに有利に使用される。

上記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ８′、Ａ
ｒ、ｎ、ＸおよびＡは前述したものと同意義を示す。

Ｄ−１およびＤ−２ Ｄ−１、およびＤ−２工程は前号２に示したものと本質
的に同等である。

Ｄ−３ Ｄ−３工程は、前述したＡ−４工程に相当するものであ
り、Ａ−４工程と同様にして達成される。

Ｅ法 Ｅ法は一般式（ＩＩ）においてＷがカルボニル基であり
、かつクロマン環の２位に置換基Ｒ１Ｉ（Ｒ１′は前述
と同意義を示す。）を有する化合物を製造するのに有利
に使用される。

本性は、先のＣ−３工程で得られたクロモンカルボン酸
類（８）を、ｃ−４工程において使用した条件よりも緩
和な条件で、２位と３位の炭素原子が形成する二重結合
のみを還元（Ｅ−１）する工程；ならびにに−２乃至Ｅ
−７の各工程；によって構成される。式中、Ｒ”、　Ｒ
２，Ｒ４゜Ｒ，Ｒ，ＡｒおよびＢ、は前述と同意義を示
し、Ｂ２は保護されたカルボニル基を示す。以下各工程
について詳述する。

Ｅ−１ Ｅ−１工程はクロモンカルボン酸類（８１より４−オキ
ソクロマンカルボン酸類（１４１を得る工程である。還
元方法としては、接触還元が用いられる。接触還元に用
いられる触媒はパラジウム−炭素、ラネ−ニッケル、酸
化白金などがあげられるが、好ましくは、パラジウム−
炭素である。水素圧は１気圧乃至１００気圧であるが、
１気圧乃至６気圧が好ましい。溶媒としては、メタノー
ル、エタノールのよウナアルコール類、ベンゼン　トル
エンのような芳香族炭化水素類、テトラヒドロフラン、
のようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミドのようなアミド類、酢酸のような有機酸類
、水およびこれらのものの混合物があげられるが、アミ
ド類が好ま１〜い。反応温度、反応時間など例゛反応条
件は用いられる原料、溶媒によって異なるが、通常室温
乃至５０℃、好ましくは室温乃至４０℃で、数分乃至数
日、好壕しくは、約３０分乃至約２０時間である。

Ｅ−２ Ｅ−２工程は４−オキソクロマンカルボン酸類ａ乃のカ
ルボニル基を、所望により、保護する工程であるが、Ｅ
−４工程による、クロマン環２位のアルキル化反応に先
立ち該保護を行なうことが望ましい。保護基としては通
常のカルボニル基の保護基であれば特に限定はなく、該
オキソ化合物を、たとえば、エノールエーテル類、ある
いはエノールエステル類のような保護されたエノール類
に変換してもよいが、環状もしくは非環状のケトンアセ
ター ル類、もしくはケトンジチオアセタール類に変換しても
よく、ケトンジチオアセタール迎への変換が好ましい。

保護されたカルボニル基に有スルクロマンカルボン酸類
（Ｉω〔式中、Ｒ，Ｒ。

Ｒ１およびＢ　は前述と同意義を示し、Ｂ２は式−Ｅ　
−Ｅ−Ｅ−を示し、Ｂ６は酸素原子もしくは硫黄原子、
好ましくは硫黄原子を示し、Ｂ４はたとえば式−（ｃＨ
）　−、式−（ＣＨ）　−、式−（ＣＨ２）４もしくは
式−ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−（ｃｉｓ）、好ましく
は式−（ＣＨ）−もしくは式−（ＣＨ２）３−特に式（
ＣＨ２）　ｓ−を示す。〕の製造は、通常、４−オキソ
クロマンカルボン１５Ｑ４１と、エチレングリコール、
１，３−プロパンジオール、１，２−エタンジチオール
、１．３−プロパンジチオールあるいはｃｉｓ−２−ブ
テン−１、４−ジオールのようなＨ−Ｂ３−Ｂ、−Ｂ、
、−Ｈ（式中、Ｂ、、ＢＡは前述と同意義を示す。）で
表わされる化合物、好ましくは１゜３−プロパンジチオ
ール　とを触媒の存在下もしくは非存在下に脱水反応さ
せることによって達成される。該触媒としては三フフ化
ホウ素、そのエテル酸塩、その酢酸錯塩、塩化アルミニ
ウムのようなルイス酸類；もしくは塩酸、硫酸のような
無機酸類；酢酸、コハク酸、フマール酸、マレイン酸、
パラトルエンスルホン酸、またはメタンスルホン酸のよ
うな有機酸類があげられるが、ルイス酸が好ましく、特
に三フッ化ホウ素の酢酸錯塩が好ましい。溶媒は使用し
なくても良いが、溶媒を使用する場合には、該溶媒とし
てベンゼン　キシレンのような芳香族炭化水素類、クロ
ロホルム、ジクロロメタンのようなハロゲン化炭化水素
類を、好ましくはクロロホルムのようなハロゲン化炭化
水素類をあげることができる。化合物ＯａとＨ−Ｂ３−
Ｂ４−Ｂ３−Ｈトノ割合は特に限定はないが、化合物α
荀に対して等モルよりやや過剰のＨ−Ｂ６−　Ｂ４−Ｂ
３−Ｈを使用するのがよい。好ましくは化合物Ｈ１モル
に対して、式Ｈ−Ｂ　３−　Ｂ　４−Ｂ　３−　Ｈを有
する化合物１乃至２モルである。化合物θ乃と触媒との
割合は特に限定はないが、化合物０４１モルに対して、
触媒１乃至４モルである。反応温度′、反応時間などの
反応条件は用いられる原料、溶媒の種類によって異なる
が、通常０℃〜１００℃好ましくは１０°乃至４０℃で
、数分乃至数日、好ましくは１時間乃至３０時間である
。

Ｅ−３ Ｅ−３工程は、クロマン環４位に、保護されたカルボニ
ル基を有するクロマンカルボン酸類（１５１の同項６位
のフェノール性水酸基を、必要に応じて保護する工程で
ある。Ｅ−４工程によるクロマン環２位のアルキル化反
応に先立ち該保護を行なうことが好ましい。水酸基の保
護基Ｒ１２としては、通常のフェノール性水酸基の保護
基、たとえば、メトキシメチル、２−テトラヒドロピラ
ニル、メトキシカルボニルメチル、ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチルなどのような置換されていてもよいアルキル
基もしくは置換していてもよいベンジル基が、また、ア
セチル、ベンジルのようなアシル基があげられるが、ア
ルコキシアルキル基あるいははアルコキシカルボニルア
ルキル基が好ましい。

保護基を導入する反応は、通常、水素化ナトリウム、水
素化カリウム、水素化カルシウムのような水素化アルカ
リもしくはアルカリ土類金属、また、ナトリウムメトキ
サイド、ナトリウムエトキサイド、カリウムターシャリ
−ブトキサイドのようなアルカリ金属のアルコラードな
どの塩基額の存在下−クロワメチルメチルエーテル、ブ
ロモ酢酸メチル、ブロモ酢酸ｔ−ブトキシのようなアル
キル化剤、もしくはベ ンジルハライドのようなアルキル化剤を用いることによ
って達成される。該反応において、溶媒としては、たと
えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエーテル類、へキサン、へプタンのような脂
肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンのよう
な芳香族炭化水素印、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシド
のようなスルホキシド類、スルホランのようなスルホン
類があげられる。イと合物０９と該アルキル化剤との割
合は、特に限定しないが、（Ｉ５）に対して等モルより
や＼過剰の該アルキル化剤を用いるのがよく、好ましく
は（１勺１モルに対して、該アルキル化剤は１乃至２モ
ルである。反応温度、反応時間などの反応条件は、用い
られる原料、溶媒などにより異なるが、通常反応は０乃
至５０℃で、数分乃至数時間性なわれる。このようにし
て保護されたクロマンカルボン酸類（Ｉ６）は単離する
こともできるが単離することｆｌくＥ−４工程で使用す
ることもできる。

Ｅ−４ Ｅ−４工程は、所望に応じて、クロマン壌６位に保護さ
れた水酸、基、同項４位に保護されたカルボニル基、同
項２位にＲを有するクロマンカルホン酸類α力を製造す
る工程で、クロマン壌６位に保護された水酸基、同項４
位に保護さレタカルボニル基を有するクロマンカルボン
酸類（１０を不活性溶媒中、塩基と処理し、反応液中に
カルバニオンを発生させた後、一般式Ｒ−Ｘ（式中、Ｒ
１′は前述したものと同意義を示し、Ｘ　は塩累、臭累
、沃素のようなハロゲン原子又ハメタンスルホニルオキ
シ、エタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキ
シ、ｐ−トルエンスルホニルオキシのよウナスルホニル
オキシ基を示す。）を有する化合物を反応させることに
よって達成される。使用される塩基としては、例えば、
メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチ
ウム、フェニルリチウムのような有機リチウム化合物；
リチウムジイソプロピルアミド、リチウムジシクロヘキ
ゞゾルアミド、リチウムイソプロピル　シクロヘキシル
アミドなどのようなリチウムジアルキルアミド類；マタ
は、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウ
ムなどのような氷菓化アルカリ金属類ヲあげることがで
きるが、好適には有機リチウム化合物、まだはリチウム
ジアルキルアミド類である。

使用される不活性溶媒としては反応に関与しなければ特
に限定されないが、例えば、エーテル、テトラヒドロフ
ラン　ジオキサンのようなエーテル類をあげることがで
きる。

反応温度は前段のアニオンの発生では、−７８℃乃至室
温であり、後段のアニオンとＲ１’−Ｘ′との反応では
、０℃乃至６０℃であり、反応に要する時間は前段では
３０分間乃至２時間であり、後段では１時間乃至２４時
間である。

なお、所望に応じて、Ｒが水素原子であるクロマンカル
ボン酸類αｅを用い、Ｅ−４工程を経由することなく、
直接にＥ−５工程に準じた還元反応並びに以降に示した
各反応を実施することにより、Ｒか水素原子であるα−
ハロゲノカルボン酸誘導体類（ＩＩ）（ｗ　：＞。）を
製造することができる。

Ｅ−５ Ｅ−５工程は、クロマン−２−カル宝ン酸類ｔ１７）を
、Ａ−１工程に準じて、対応するアルコル類（Ｉ８に還
元する工程であり、還元剤としてはたとえばリチウム　
アルミナム　ハイドライド、ビトライド（ソデイウム　
ビス〔２−メトキシエトキシ〕アルミナム　ノ・イドラ
イド）などのようなハイドライド類が使用される。還元
反応で使用される溶媒としては、たとえば、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメ
チルエーテルのようなエーテル類、ベンゼン、トルエン
、キシレンのよウナ芳香７に炭化水素類、ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン、石油エーテル、リグロイン、
エチルシクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類、など
があげられる。

化合物りと還元剤の割合は特に限定はないが、化合物り
に対してやや過剰の還元剤を使用するのが良い。好まし
くは、化合物り１モルに対して、１〜２モルである。反
応温度、反応時間などの反応条件は用いられる原料、溶
媒などによって異なるが、通常−５０°乃至１２０℃で
約１０分乃至約２０時間反応を行なう。

Ｅ−６ Ｅ−６エ程はＥ−５工程で得られたアルコル類００に式
（Ａｒ）−ＮＯ２基（式中、Ａｒは前述の定義と同じで
ある。）を導入する工程である。該工程は化合物０８）
に、通常、塩基たとえば、水素化ナトリウム、水素化カ
ルシウムのような水素化アルカリもしくはアルカリ土類
金属、また、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、カリウムターシャリ−ブトキサイドのような
アルカリ金属のアルコラード、好適には水素化ナトリウ
ム、もしくはナトリウムエトキサイドを反応させて、化
合物α３）を対応するアルコキサイドとし、これに弐Ｘ
　　（Ａ　ｒ　）　ＮＯ２を有する化合物（式中、Ｘ　
、　Ａｒは前述したものと同意義を示す。）を反応させ
ることによって達成される。該反応において、溶媒とし
ては、たとえばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼン、トルエン
、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプ
タンのような脂肪族炭化水素類、ジメチルホルムアミド
、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジメチルス
ルホキシドのようなスルホキシド類、スルホランのよう
なスルホン類があげられるが、アミド類が好適に使用さ
れる。化合物α杓と塩基との割合は特に限定はないが、
化合物０のに対して、やや過剰の塩基を使用するのが良
く、好ましくけ化合物（Ｌね１モルに対して塩基１乃至
２モルである。化合物０（至）と式Ｘ　　（Ａ　ｒ　）
　ＮＯ２を有する化合物（式中、ＸとＡｒは前述と同意
義を示す。）との割合は特に限定はないが、 化合物替に対して過剰の式Ｘ−（Ａｒ）−ＮＯ２を有す
る化合物を用いるのがよく、好ましくは０の１モルに対
して、１乃至１０モルである。反応温度、反応時間など
の反応条件は、用いられる原料、溶媒などによって異な
るが、通常３０℃乃至１００℃で数分乃至数時間である
。

本工程で得られた、クロマン環４位に保護されたカルボ
ニル基を有するニトロ化合物α口は、Ａ法に準じて、還
元反応、メイルパイン　アリレイジョン　ヲ経て、α−
ハロゲノカルボン酸誘導体類さらに目的化合物（Ｉ）へ
と段階的に変換されるが、該クロマン環４位に間する脱
保護反応は上記いずれの段階で実施してもよく、例えば
好ましい方法の一つとして、Ｅ−７に示す工程をあげる
ことができる。

Ｅ−７ Ｅ−７エ程は、所望に応じて、クロマン環６位に保護さ
れた水酸基、４位に保護されたカルボニル基を有するニ
トロ体ａ旬の脱保護を行なう工程である。本工程におい
ては、通常４位の脱保膵反応が実施されるが、や＼過激
な反応条件を設定することにより、同６位の脱保護を、
同時に達成することが可能である。

脱保護剤としては、特に限定はないが、通常の脱保護剤
、たとえば塩酸、硫酸のようなプロトン酸；三フッ化ホ
ウ累、そのエーテル加塩、その酢酸酸塩、塩化アルミニ
ウムのようなルイス酸；特にＢ３が硫黄卯子の場合、重
金属塩類、重金属酸化物または重金属過酸化物；または
これらの２者もしくは３者の混合物があげられ、重金属
イ第４としては銀、カドミウム、二価の水銀、二価の銅
、三価のタリウムがあげられ、重金属イオンの対イオン
としては、塩素、臭素、ヨウ素のようなハロゲンイオン
、硝酸イオン、過塩素酸イオンのような過酸化物イオン
があげられ、その他ヨウ紫、スルフリルクロリドのよう
なスルフリルハライド９、Ｎ−クロロサクシンイミド、
Ｎ−プロモサクシンイミドのようなＮ−ハロイミド類が
あげられるが、好適には塩化第二水銀、あるいは酸化水
銀、あるいはそれらの混合物、特にその混合物である。

使用される溶媒としては、メタノール、エタノール　プ
ロパツール　イソプロパツールのようなアルコル類、ア
セトン、メチルエチルケトンのようなケトン類、クロロ
ホルム、ジクロロメタン　ジクロロエタンのようなハロ
ゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエーテル類、酢酸のような有機酸類、アセトニ）
　ＩＪルのようなニトリル類、および水、およびこれら
の混合溶媒をあげることができる。

化合物員と脱保護剤との割合は特に限定はなく、通常α
９１モルに対して脱保題剤１乃至１０モル、好適には１
乃至４モルである。反応温度、反応時間などの反応灸件
は、用いられる原料および溶ｎなどによって異なるが、
通常室温乃至１００℃、好適には４０乃至８０℃で、数
分乃至数時間、好適には０５乃至４時間である。

以後、Ｄ−２工程以下の方法に準じた方法を逐次用いる
ことによってα−ハロゲノカルボン酸誘導体類（ｌｌ）
（ｗ：）−６）の製造が達成される。

Ｆ法 Ｆ法は、一般式（ＩＩ）においてＷがメチレン基である
化合物を、Ｄ法に関する記載で述べた、クロマン環４位
がカルボニル基である化合物ａ’ａ　カら製造するのに
、有利に使用される。

式中、Ｒ’、　Ｒ２，Ｒ３，Ｒ”、　Ｒ４，Ｒ５，Ａｒ
　、　ｎおよび（Ｉｔ）（ｗ、。Ｈ）は前述したものと
同意義を示す。

Ｆ−１ Ｆ−１工程は、ニトロ基を有する４−オキソクロマン化
合物ミノを、対応する４−ヒドロキシ化合物Ｑυに還元
する工程である。還元剤としては、水素化ホウ素ナトリ
ウム、Ｋ−セレクトライドのような還元剤があげられ、
特に水素化ホウ素ナトリウムが好適である。

化合物Ｑ３と水素化ホウ素ナトリウムとの反応は通常溶
媒中で行なわれる。該溶媒としては、たとえばメタノー
ル、エタノール、プロパツル、ブタノール、エチレング
リコールモノメチルエーテルなどのアルコール類、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類などがあ
げられる。化合物α２と水素化ホウ素ナトリウムとの使
用モル比は特に限定されないが、化合物α２に対して過
剰の水素化ホウ素ナトリウムを使用するのがよい。好ま
しくは化合物嘘１モルに対し１〜２０モルである。反応
温度、反応時間などの反応条件は用いられる壓旧、溶媒
などにより異なるが、通常反応は０℃乃至１００℃で１
時間乃至約２０時間である。

Ｆ−２ Ｆ−２工程は、所望に応じて、該ヒドロキシ体０υをア
シル化する工程である。化合物りは酸ハロゲン化物ある
いは酸無水物のよりなアシル化剤と反応させることによ
って、目的とするアシル化物蛤に変換することができる
。

反応は通常溶媒中で行なわれる。使用される溶媒として
は、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタ
ンのよウナ脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロ
ホルムのようなハロゲン化炭化水素類、ピリジントリエ
チルアミンのよ、うな有機塩基類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類、スルホランのよ
うなスルホン類などがあげられる。

化合物（２１１とアシル化剤の割合は特に限定はないが
、化合物（２１１に対して等モルよりやや過剰のアシル
化剤を使用するのがよい。好ましくは化合物ｔ２Ｄ　１
モルに対し、アシル化剤１〜１０モルである。反応温度
、反応時間などの反応条件は用いられる原料、溶媒の種
類によって異なるが、通常０乃至１００℃で、数分乃至
約２０時間である。

Ｆ−３ Ｆ−３工程は、ニトロ基を有する４−ヒドロキシクロマ
ン化合物Ｑυから水を脱離させることによって２Ｈ−ク
ロメン類０りを製造する工程である。

該脱離反応は、脱水剤もしくは脱水触媒の存在下もしく
は非存在下に達成される。脱水剤もしくは脱水触媒とし
て、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸のような無機酸類、酢酸
、コノ・り酸、マレイン酸のような有機酸類、パラトル
エンスルホン酸　ナフタレンスルホン酸−メタンスルホ
ン酸のようなスルホン酸類、塩化アンモニウム、塩化カ
ルシウムなどの無機塩類、五酸化燐、ポリ燐酸、シリカ
ゲル、アルミナ等があげられるが、酢酸などの有機酸類
、パラトルエンスルホン酸などのスルホン酸類が好適で
ある。

該脱離反応に際して、溶媒は使用しなくてもよいが、溶
媒を使用する場合は、メタノール、エタノール、イソプ
ロパツールのようなアルコル類、アセトン、メチル　エ
チル　ケトンのようなケトン類、エーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、ベンゼント
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサン
、シクロヘキサン　へブタンのような脂肪族炭化水素類
、ジクロロメタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭
化水素類、酢酸、プロピオン酸などの有機酸類、ピリジ
ン　トリエチルアミンのような有機塩基類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド類、
ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類、スルホ
ランのようなスルホン類、水などがあげられ、好適には
ベンゼンのような芳香族炭化水素類もしくは酢酸のよう
な有機Ｍ類があげられる。脱水剤、もしくは脱水触媒を
使用する場合は、化合物（２１）と脱水剤、もしくは脱
水触媒との割合は、特に限定はないが、通常化合物（２
１１１モルに対して該脱水剤もしくは脱水触媒は０．０
１乃至１０モル、好適には、０．１乃至３モルである。

反応温度、反応時間などの反応条件は用いられる原料、
溶媒の種類によって異なるが、通常０乃至１００℃で、
数分乃至約２０時間である。

Ｆ−４ Ｆ−４工程は、ニトロ基を有する４−アシルオキシクロ
マン化合物１２３）から、化合物Ｒ”０Ｈ（Ｒ５＋は前
述と同意義を示す。）を脱離させることによって、２Ｈ
−クロメン類■２を製造する工程である。

該脱離反応は脱酸剤もしくは脱酸触媒の存在下もしくは
非存在下に達成される。脱酸剤、もしくは脱水触媒とし
て、塩酸、硫酸、硝酸、すン酸のような無機酸類、酢酸
、コハク酸、マレイン酸のような有機酸類、パラトルエ
ンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、メタンスルホン
酸のようなスルホン酸類、塩化アンモニウム、塩化カル
シウムのような無機塩類、ピリジン、トリエチルアミン
、のような有機塩基類、シリカゲル、アルミナ等があげ
られるが、好適には酢酸などの有機酸類、パラトルエン
スルホン酸なとのスルホン酸類があげられる。

該脱酸反応に際して、溶媒は使用しなくてもよいが、溶
媒を使用する場合には、メタノール、エタノール、イソ
プロパツールのようなアルコル類、アセトン　メチル　
エチル　ケトンのようなケトン類、エーテル、テトラヒ
ドロフラン　ジオキサ′７−のようなエーテル類、ベン
ゼントルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘ
キサン、シクロヘキサン　へブタンのような脂肪族炭化
水素類、ジクロロメタン、クロロホルムのようなハロゲ
ン化炭化水素顛、酢酸、プロピオン酸などの有機酸類、
ピリジン、トリエチルアミンのような有機塩基類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミ
ド類、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類、
スルホランのようなスルホン類、水などがあげられ、好
適にはベンゼンのような芳香族炭化水素類、もしくは酢
酸のような有機酸類があげられる。

脱酸剤もしくは脱酸触媒を使用する場合は、化合物ｔ２
３１と脱酸剤もしくは脱酸触媒との割合は、特に限定は
ないが、通常、化合物Ｑ３）１モルに対して、該脱酸剤
もしくは脱酸触媒は０．０１モル乃至１０モル、好適に
は、０．１乃至３モルである。

反応温度、反応時間などの反応榮件は用いられる原料、
溶媒の種類などによって異なるが、通常、０乃至１２０
℃、好適には４０°乃至１００℃で、数分乃至数日、好
適には、１０分乃至１０時間である。

Ｆ−５ Ｆ−５工程は、ニトロ基を有する２Ｈ−クロメン類ｃ２
２のニトロ基を還元し、かつ炭素・炭素二重結合を同時
に還元することによりアミン基を有するクロマン類（４
）を製造する工程である。

該還元反応には接触還元法が好適に使用される。接触還
元に用いられる触媒はパラジウム−炭素、ラネーニッケ
ル、酸化白金などがあげられるが、好ましくは、パラジ
ウム−炭素である。

水素圧は１気圧乃至１００気圧であるが、１気圧乃至６
気圧が好ましい。溶媒としては、メタノール、エタノー
ルのようなアルコール類、ベンゼン、トルエンのような
芳香族炭化水素、テトラヒドロフランのようなエーテル
類、酢酸のような有機酸、水およびこれらのものの混合
物があげられる。反応温度、反応時間は用いられる原料
、溶媒によって異なるが、通常室温乃至５０℃で数分乃
至約２０時間である。

以後、Ａ−４工程によって、α−ハロゲノカルボン酸誘
導体類（Ｉ）（ｗ：。Ｈ）の製造が達成される。

なお、Ｆ−１、Ｆ−２、Ｆ−３、Ｆ−４、Ｆ−５，Ａ−
４および／もしくは、目的とするチアゾリジン誘導体を
製造する最終工程は順次、所望に応じて中間体ｅ２Ｄ　
、　（２２、ｃ！３１．　（４）オヨび／あるいは（Ｉ
Ｉ）。１：。Ｈ２）を単離することな〈実施し得る。

また、なお、たとえばＦ法で示しだ工程は、示された順
序に限定されることはない。すなわち、たとえば、クロ
マン環４位がカルボニル基である化合物（１つの有する
ニトロ基を最初に還元し、次いで、４位カルボニル基の
還元を行ないさら）に脱水して２Ｈ−クロメン誘導体と
し、次いで二重結合の還元を行ないアミン化合物（４）
とすることなどはＦ法と同等である。

Ｇ法 Ｇ法は、Ｆ法と類似的で、一般式（「）においてＷがメ
チレン基である化合物を、クロマン環４位がカルボニル
基である化合物から、製造するのに使用することができ
る。すなわち、Ｄ法、Ｅ法、およびＡ法で述べたクロマ
ン環６位の水酸基の保護基の脱保護反応、同、水酸基の
アシル化反応により製造された、Ｂ２が式−８−（ＣＨ
２）ｐ基、（式中ｐは２，３．４を示す。）を示す化合
物（財）あるいは（２６）をラネーニッケルなどのニラ
ケル触媒により、接触還元するとクロマン環４位がメチ
レン基である化合物（２５１あるいはＩ２ηを、それぞ
れ得ることができる。本反応の水素圧は１気圧乃至１０
０気圧であるが、１気圧乃至６気圧が好ましい。溶媒と
しては、メタノール、エタノールのようなアルコール類
、ベンゼン　トルエンのような芳香族炭化水素類、テト
ラヒドロフランのようなエーテル類、酢酸のような有機
散、水およびこれらのものの混合物があげられる。反応
温度、反応時間は用いられる原料、溶媒によって異なる
が、通常室温乃至５０℃で数分乃至約２０時間である。

Ｈ法 Ｈ法は、式（１）で表わされる目的化合物のうち、Ｗが
カルボニル基を示し、Ｕがメヂレン基若しくはＲと共に
二重結合を示す、前述した化合物（ＸＶ）の前駆体、す
なわち、クロマン環２位がＬ（Ｌは前述したものと同意
義を示す。）であるα−ハロゲノカルボン酸誘導体ｎ　
（Ｘｌｌ）　全製造するのに使用することができる。

式中、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７゜（Ａ・Ａ
ｒｎ、ＵおよびＸは前述したものと同意義を示す。

Ｈ−１ Ｈ−１工程はＣ−２工程と同等であり、通常、Ｌは基−
ＯＲを示し、Ｕはメチレン基を示すが、必要に応じて、
Ｌ（！：Ｕで二重結合を形成させることができる。化合
物（ハ）は化合物（６）に式０２Ｎ−（Ａｒ）−ｏ−（
ＣＨ２）ｎ−ＣＯＸを有する化合物（式中、Ａｒ　、　
ｎおよびＸは前述したものと同意義を示す。）を反応せ
しめ、次いでナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブト
キシドのような有機塩基で処理することによって与えら
れる。

Ｈ−２ Ｈ−２工程はＡ−３工程と同等であり、ＬとＵとの関連
はＨ−１の記載と同じである。

Ｈ−３ Ｈ−３工程はＡ＝４工程と同等であり、ＬとＵとの関連
はＨ−１の記載と同じである。

原料化合物、すなわちα−ハロゲノカルボン酸＠（Ｉ）
の、Ａ法乃至Ｈ法による製造方法のうち好ましいものは
、Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅ、ＦおよびＨ法であり、さらには
、Ａ、Ｃ，Ｄ、Ｅ、、ＦおよびＨ法である。Ｄ法、Ｆ法
、Ａ法を組合せて用いることはさらに好ましい。

式（［［）によって示されるα−ハロゲノカルボン酸類
においてクロマン環２位および置換基Ａのα位の炭素原
子はそれぞれ不斉炭素原子であり、それらに基づく各異
性体もまた化合物（ＩＩ）に包含される。

なお、このようにして得られるα−ハロゲノカルボン酸
誘導＃’１５　（Ｉｔ）もまた、血中過酸化脂質低下作
用を有するのみならず、血中トリグリセライドおよびコ
レステロール低下作用を有することが認められ、従って
高脂血症治療剤として有用である。

かくして得られたクロマン環を有するα−ハロゲノカル
ボン酸誘導体類（［［）は所望に応じて相互に各種の加
水分解成績体、エステル交換成績体へ、あるいは、ナト
リウム、カリウム、カルシウム、アルミニウムなどの金
属塩類へ　あるいは逆に、金属塩類から、あるいは遊離
のフェノール類および／または遊離のカルボン酸類から
エステル体、アミド体などへ変換することができる。

とりわけ、α−ハロゲノカルボン酸誘導体類（ＩＩ）を
所望の、各種の加水分解成績体に導く場合、該成績体の
製造は例えば以下のごとく達成される。

Ｒ６が水素原子で乏・す、Ａがカルボキシ基である化合
物は、Ｒか例えばアシル基、Ａがアルコキシカルボニル
基である化合物（［）を、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムのようなアルカリ金属炭酸塩、水酸化す）　ＩＪウム
、水酸化カリウムのような水酸化アルカリ金属などの無
機塩基、あるいはナトリウムメトキサイド、ナトリウム
エトキサイド、カリウムターシャリーブトキザイドのよ
うなアルカリ金属のアルコラードなどの塩基の存在下、
加水分解反応を行なうことによって得ることができる。

溶媒としては、たとえばメタノール、エタノールのよう
な低級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類、水およびこれらの混合溶剤があげ
られる。該化合物（ＩＩ）と該無機塩基、あるいは該塩
基との割合は、該化合物（Ｉｔ）　１モルに対して、１
乃至５、好ましくは２乃至３である。

反応温度、反応時間などの反応条件は、用いられる原料
、塩基、溶媒などにより異なるが、通常反応温度は−１
０乃至３０℃、好ましくは０乃至１０℃、反応時間は数
分乃至数十時間である。

Ｒ３が水素原子であり、Ａがアルコキシカルボニル基で
ある化合物は、Ｒか例えばアシル基、Ａがアルコキシカ
ルボニル基である化合物（ｆｆ）をナトリウムメトキサ
イド、ナトリウムエトキサイド、カリウムターシャリ−
ブトキサイドのようなアルカリ金属のアルコラードなど
の塩基の存在下、加溶媒分解反応を行なうことによって
得ることができる。溶媒としては、メタノール、エタノ
ール、プロパツール、インプロパツール、ｔ−ブチルア
ルコールのようなアルコール類、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類およびこれらの混合溶剤
をあげることができる。特に原料の基Ａに示すアルコキ
シカルボニル基を、そのまま保有することが所望される
場合には、該アルコキシ基に対応するアルカリ金属のア
ルコラードを選択することおよび溶媒として、該アルコ
キシ基に対応するアルコールを選択することが望ましい
。さらに、所望により任意のアルカリ金属のアルコラー
ドおよび溶媒としてのアルコール類を選択することによ
り、原料中のアルコキシカルボニル基ヲ、所望のアルコ
キシカルボニル基に交換することができる。該原料化合
物（［１）と該塩基との割合は、該化合物（■）１モル
に対して、１乃至３、好ましくは１乃至２である。反応
温度、反応時間などの反応条件は、用いられる原料、塩
基、溶媒などにより異なるが、通常反応温度は−１０乃
至３０℃、好ましくは０乃至１０℃、反応時間は数分乃
至数十時間である。

Ｒ３がアシル基であり、Ａがカルボキシ基である化合物
は、Ｒか例えばアシル基、Ａがアルコキシカルボニル基
である化合物（Ｉｆ）を、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムのようなアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムのような水酸化アルカリ金属などの無機塩
基、あるいはナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、カリウムターシャリ−ブトキサイドのような
アルカリ金属のアルコラードなどの塩基の存在下、加水
分解反応を行なうことによって得ることができる。溶媒
としては、たとえば、メタノール、エタノールのような
低級アルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエーテル類、水およびこれらの混合溶剤があげら
れる。該化合物（［［）と該無機塩基、あるいは該塩基
との割合は、該化合物（■）１モルに対して、１乃至５
、好ましくは１乃至２である。

反応温度、反応時間などの反応条件は、用いられる原料
、塩基、溶媒などにより異なるが、通常反応温度は−１
０乃至３０℃、好ましくは０乃至１０℃、反応時間は数
分乃至約十時間である。

上記の薬理活性を示す式（Ｉｔ）で表わされる好適な化
合物として、下記の構造式を有する、第十三表に示すよ
うな化合物をあげることができる。

式中、３．７−　ＣＩＭＯ＆！　３．７−ツメチルオク
チル基、ＴＭＢ　ｆ！　１，１，３．３−テトラメチル
ブチル基？示す。

また、以下に示すような構造式を有する第十四表に示す
ような化合物があげられる。

発明の効果 前記一般式（１）で表わされる不発明の目的化合物：′
！、リノール酸、リノール酸エチルのような不飽和脂肪
酸およびそのエステル類に対し、高い酸化防止作用を有
することから、生体内において不飽和脂肪酸の構成率の
高いリン脂質の酸化を防止し得ることが予想され；　Ｂ
ｉｏｃｈｅｍ。

Ｂｉｏｐｈｙｓ、Ｒｓｓ、Ｃｏｍｍｕｎ、９５．７３４
−７３７（１９８０）に示されるラット肝ミクロソーム
脂質の過酸化抑制試験において、強力な過酸化脂質低下
作用を有するのみならず、アロキサンで誘発せしめた実
験的高脂血症マウスの試験において、血中過酸化脂質、
トリグリセライドおよびコレステロールを低下せしめ、
さらに、遺伝的高血糖症ＫＫマウスの試験において、血
糖低下作用を有し、また、ウシの水晶体を用いたアルド
ース還元酵素活性測定の試験において、酵素阻害作用を
表わすなどのきわめて浸れた薬理効果を示し、毒性に関
して（丁実験動物たとえばラットに対し、食欲減退作用
１体重増加抑制作用、とりわけ。

肝腫大作用がきわめて低い化合物である。

以上の試験の結果から本発明のチアゾリジン誘導体（１
）は人の高脂血症、糖尿病およびそれらの合併症５例え
ば糖尿病性白内障、糖尿病性神経障害などの治療に有用
であることが期待される。投与方法は、た七えば錠剤、
カプセル剤、散剤、顆粒剤などとして経口的に用いられ
るほか注射剤（静脈内、皮下、筋肉内）、層剤などとし
て、非経口的に投与することができ、眼粘膜投与として
は点眼剤、眼軟膏剤が好ましい。

その投与量は症状、年令などによって異なるが、例えば
高脂血症および／または糖尿病およびそれらの合併症の
治療剤として用いる場合は成人につき通常１日５０Ｉｎ
ｙ〜５２を経口的丑たは非経口的に１投与することがで
きる。

以下に実施例および参考例をあげて本発明をさらに具体
的に説明する。

実施例 ５−〔（６−アセトキシ５．７゜トリ メチルオクチルクロマン２−イルメト キシ）ベンジルコチアゾリジン−２４−ジオン エチル　３−［４−（６−アセトキシ−５，７。

８　−　）　ＩＪ　メｆルー２ーオクチルクロマンー２
ーイルメトキシ）フェニルクー２−クロロプロピオネー
ト２．１ｇ，　　チオ尿素０．３５ｇ，スルホラン２５
ｍｌの混合物を窒素雰囲気下，　　１２０−１３０℃で
７時間加熱する。反応混合物にベンゼンを加えて溶かし
、ベンゼン溶液を水洗して、無水硫酸ナトリウムで乾燥
する。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶離液：ベンゼン：酢酸エチル＝
１０：１）に付し、目的化合物（淡黄色泡状固体）を得
た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０５５（展
開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝４＝１）。

ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０、７　
−　１．０　（３Ｈ，ｍ）　。

１、１−　２．０　（１６Ｈ，ｍ）。

１。９７　（３Ｈ，Ｓ）。

２、０３　（３Ｈ，ｓ）。

２、０８（３Ｈ′，Ｓ）。

２、３１　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、６０　（２Ｈ，　ｂｒ．ｔ　、　Ｊ：６Ｈｚ）　。

３、０３（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝１０および１５Ｈｚ）。

３、４．４　（１Ｈ，ａｄ，　Ｊ＝　３および１５，Ｈ
ｚ）１３、９２　（　２Ｈ，　ｓ．、）、　。

４：４５　（１Ｈ，ｄｄ　、　Ｊ＝３および１０Ｈ７）
。

６、８５．（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

７、１３　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

８、０−８．９　（ＩＨ，ｂｒ．重水添加で消失）。

実施例 ５−〔４−（６−（アセトキシ−５，７。トリメチル−
オクチルクロマン２−イルメトシ・ン）ペン・ジル］−
２−イミノチアゾリジン−４−オン 実施例 １におけるシリカゲルカラムクロマ トゲラフイーにおいて、該チアゾリジン−２゜４−ジオ
ンの次に溶出する部分（溶離液；ベンゼン：テトラヒド
ロフラン−４＝１）から、目的化合物（白色粉末）を得
た。

軟化点：　８５７：９０６Ｃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．８７
（３Ｈ，ｂｒ、ｔ、Ｊ＝４．５Ｈｚ’）　。

１、０７−２．［１’（、ｊｌむＨ：、、Ｉｎ、）　’
ｔ１．９７（３Ｈ，Ｓ）、。

２．０２（３Ｈ，Ｓ）　。

２、”０８　（３Ｈ，、Ｓ　）　。

２．３０（３Ｈ，Ｓ）。

２．４−２．ｙ（２ｎ、ｍ）　。

２．８８（ＩＨ，ｄｄ’、Ｊ：１０および１５Ｈｚ）。

３．５０（ＩＨ，ｄａ、Ｊ＝　３および１５Ｈｚ）。

３．９　（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）　。

＋４１（ＩＨ，ｄｄ、、ｙ＝　３および１０Ｈ２）。

６．０−７．８　（２Ｈ、ｂｒ、　、重水添加で消失）
。

６．８３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈ２）　。

７．１０　（２’Ｈ，ｄ　、　Ｊ＝＝９Ｈ２）。

実施例３ ５−〔４−（６−ヒドロキシ５、７．８トリメチル−２
−オクチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チ
アゾリジン−２，４−ジオン エチル　３−４：４−’（６−アセトキシ−５，７゜８
−トリメチル−２−オクチルクロマン−２イルメトキシ
）フェニル〕−２−クロロプロピオネート２．１ｇ、チ
オ尿素０３５ｇ、スルホラン２５ｍ１．の混合物を窒素
雰囲気下、１２０−１３０°Ｃで７時間加熱する。その
後、反応混合物に２Ｎ塩酸３６ｍ１．ｘｆレンクリコー
ルモノメチルエーテル５ＴＬｌの混合物を加え、８５−
９０°Ｃで５時間さらに加熱する。反応混合物を水にあ
け、ベンゼンで抽出し、抽出液を水で洗い、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥する。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ベンゼン
：酢酸エチル−１０：１）に付し、目的化合物（淡黄色
泡状固体）を得た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０．４３（
ティリング）（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル−４：
１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．７−
１．０　（３Ｈ、ｍ）　。

１．１−２．１　（１６Ｈ，ｍ）　。

２．１０（６Ｈ，Ｓ）。

２．１５（３Ｈ，Ｓ）。

２．６１　（２Ｈ，ｂｒ、ｔ、Ｊ ３．０５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ ３．４２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ ３″９２（２Ｈ２Ｓ）。

４．２２（ＩＨ，Ｓ、重水添加で消失）。

４．４７（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝３および１０Ｈｚ）ｙ６．
８５（２Ｈ，ｄ、−Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７．１３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）　。

８．３３（ＩＨ，ｂｒ、Ｓ　、重水添加で消失）。

６Ｈ２）１ １０および１５Ｈｚ）、。

３および１５１’ｌｚ）＋ 実施例４ ５−［４−（６−アセトキシ−２−メチル−７−（１゜
１゜３゜３−テトラメチルブチル）クロマノー２−イル
メトキシ〕ベンジル〕チアソリジン−２，４−ジオン 実施例１に準じてエチル　３−［：４−（６アセトキシ
ー２−メチル−７−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）クロマン−２−イルメトキシ〕フェニル〕−２−
クロロプロピオネートＴＯ，９，チオ尿素１．２ｇ、ス
ルホラン９　ｒｎｌから製造された目的物は、次の物性
を有する。

軟ゴヒ点＝７５〜８０℃（淡黄色ガラス状固体）ＮＭＲ
スペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．７９（９Ｈ
，Ｓ）。

１、’３６　（６Ｈ，Ｓ）　。

１．４５　（３Ｈ，８）　。

１．６６−２．２８（２Ｈ，ｎｄ）　。

１．８０　（２Ｈ，８）　。

２．２９　（３Ｈ，、８）　。

２．７３　　（２Ｈ、ｂｒ、ｔ　　、　　　Ｊ＝６０ｚ
）　。

３．２８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ：９および１４Ｈｚ）＋３．
４５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ：４および１４Ｈ２）。

３．９３（２Ｈ，ＡＢ型、　Ｊ＝＝９■ｚ）　。

４．４９（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４および９１１ｚ）。

６．７５（ＩＨ，Ｓ）。

６．８６（ＩＨ，Ｓ）。

６．９０　（２Ｈ，ｄ　、　Ｊ＝９Ｈｚ）。

７．１３　（２Ｈ、ｄ　、　Ｊ＝９Ｈｚ）　。

８．１−８．７　（１Ｈ、ｂｒ、、重水添加で消失）。

実施例５ ５−〔４−〔６−アセトキシ−２−メチル７−（１゜１
、３．３−テトラメチルブチル）クロマン−２−イルメ
トキシ〕ベンジル〕−２−イミノチアゾリジン−４−オ
ン 実施例２に準じてエチル　３−［４＝−（６−アセトキ
シ−２−メチル−７−（１，１，３，３−テトラメチル
ブチル）クロマン−２−イルメトキシ〕フェニル〕−２
−クロロプロピオネート７０ｇ、チオ尿素１２ｇ、スル
ホラン９　ｒｎｌから製造された目的物は、次の物性を
有する。

融点：　１２０−１２８°Ｃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）：０．７８
（９Ｈ，Ｓ）。

１．３５　（６Ｈ，Ｓ）　。

１．４１　（３Ｈ，Ｓ）。

１．８２（２Ｈ，Ｓ）。

１．９０−２．１７　（２Ｈ，ｎｄ）　。

２．２６（３Ｈ，Ｓ）。

２．７７　（２Ｈ；、ｂｒ、　ｔ　、　　Ｊ　＝　６．
５＋１ｚ）　。

２．７３−３．１０　（Ｉ　Ｈ、ｎｄ　）　。

３．４１（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４および１４Ｈｚ）。

４．００（２Ｈ，Ｓ）。

４．４９（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝＝４および１０ｔ（ｚ）＋
６．７５（ＩＨ，Ｓ）。

６．７８（ＩＨ，Ｓ）。

６．９２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９［（ｚ）。

７．２２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９［１ｚ）。

７．４−８．６　（２Ｈ、ｂｒ、　、重水添加で消失）
。

実施例６ ５−〔４−〔６−ヒドロキシ−２−メチル−７−（１、
１、３、３−テトラメチルブチル）クロマノー２−イル
メトキシ〕ベンジル〕チアゾリジン−２、４−ジオン 実施例３に準じてエチル３−〔４−〔６−アセトキシ−
２−メチル−７−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）クロマン−２−イルメトキシ〕フェニル〕−２−ク
ロロプロピオネ−）７ｇ、チオ尿素１．２，９．スルホ
ラン９ＴＬｌ、２Ｎ塩酸１３　ｍｌ　、およびエチレン
グリコールモノメチルエーテル２０ｒｎｌから製造され
た目的物は、次の物性を有する。

軟化点＝８０〜８５℃（淡黄色ガラス状）ＮＭＲスペク
トル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．７８（９Ｈ，Ｓ）
　。

１．４１　（９Ｈ，Ｓ）　。

１．６０−２．３０　（２Ｈ、ｎｄ　）　。

１．９１　（２Ｈ，５）１ ２．６７　（２Ｈ、ｂｒ、　ｔ　、　Ｊ　＝　６．５Ｈ
ｚ）　。

３．０７（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−＝１０および１４ＦＩｚＬ
３．４５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ：　４および１４Ｈｚ）。

３．９３　（２Ｈ、ＡＢ型、　Ｊ　＝　９Ｈｚ）　。

４．４５（ＩＨ，Ｓ、重水添加で消失）。

４．４９（１Ｈ，ｄｄ、、ｒ＝　４およびｔｏＨｚ）。

６．３４（ＩＨ，Ｓ）。

６．７７（ＩＨ，８）。

６．８８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

７．１７（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

８．４（ｉＨ，ｂｒ、ｓ　、重水添加テ消失）。

実施例７ ５−〔４−〔６−アセトキシ−２−メチルー４−オキソ
−７−（１。１。３。３−テトラメチルブチル）クロマ
ン２−イルメトキシ〕ベンジル〕チアゾリジン−２、４
−ジオン 実施例１に準じて、エチル　３−［：４−（６−アセト
キシ−２−メチル−４−オキソ−７−（　１，　１，　
３．　３−テトラメチルブチル）クロマン−２−イルメ
トキシ〕フェニル〕−２−クロロプロピオネ−）７．３
ｇ，チオ尿素１．３ｇ，スルホラン８ｍｌから製造され
た目的物は、次の物性を有する。

軟化点：８０−８８℃（淡黄色粉末） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０、７８
（９Ｈ，Ｓ）。

１、３７（６Ｈ，８）　。

１．５３　（３）１．　Ｓ）　。

１．８３（２Ｈ，Ｓ）。

２．３０（３Ｈ，Ｓ）。

２．７０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７ＦＪｚ）　。

２．８−３．２　（Ｉ　Ｈ、ｎｄ　）　。

３．１０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ）。

３．４５　（ＩＨ，ｄｄ　、　Ｊ：４および１５Ｈｚ）
。

４００および４．１２（２Ｈ，ＡＢ型、　Ｊ　＝　９Ｈ
ｚ）　。

４．４８（１）（、ｄｄ、Ｊ：４および９１１１ｚ）。

６．８５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）　。

−ｒＯ２（Ｉ　Ｈ、ｓ　）　ｔ ７．１７（２Ｈ，ｄ、Ｊ：＝９Ｈｚ）。

ｙ、５１　（ＩＨ，Ｓ）　。

８．３−９．０　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、　、重水添加で消失
）。

実施例８ ５−〔４−〔６−アセトキシ−２−メチル−４−オキソ
−７−（１、１、３、３−テトラメチルブチル）クロマ
ン−２−イルメトキシ〕ベンジル〕−２−イノチアゾリ
ジン−４−オン 実施例２に準じて、 エチル３−〔４−〔６− アセトキシ−２−メチル−４−オキソ−７−（１、１，
３，３−テトラメチルブチル）クロマン−２イルメトキ
シ〕フェニル〕−２−クロロプロピオネート７．３ｇ，
チオ尿素１．３ｇ、スルホラン８ｍｌから製造された目
的物は、次の物性を有する。

融点：　１２５−１３０°Ｃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）：０．７７
（９Ｈ，Ｓ）。

１．３９（６Ｈ，Ｓ）。

１．５３（３Ｈ，Ｓ）。

１．８９（２Ｈ，Ｓ）。

２．３４　（３Ｈ，Ｓ　）　。

２．６−３．０　（Ｉ　Ｈ、ｎｄ　）　。

２．７５　（ＩＨ，ｄ　、　Ｊ＝　１６Ｈｚ）　。

３．１３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１６Ｈｚ）。

３．４０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝＝４および４．１７（２Ｈ
，Ｓ）。

４．４８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４および ６Ｊ７　（２Ｈ，ｄ　、Ｊ＝９［１ｚ）　＋７．０１　
（ＩＨ，Ｓ）　。

１４Ｈｚ）。

ＬＯＨ２）　。

７．２０（２Ｈ，ｄ、Ｊ ９Ｈｚ）　。

７゜４６（ＩＨ，Ｓ）。

７．８−８．７　（２Ｈ、ｂｒ、　、重水添加で消失）
。

実施例９ ５−〔４−〔６−ヒドロキシ−２−メチル−４−オキソ
−７−（１゜１゜３．３−テトラメチルブチル）クロマ
ン−２−イルメトキシ〕ベンジル〕チアゾリジン−２、
４−ジオン ５−（４−［６−アセトキシ−２−メチル−４−オキソ
−７−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）クロマ
ン−２−イルメトキシ〕ベンジル〕＝２−イミノチアゾ
リジン−４−オン５．２，９．２Ｎ塩酸１６ｍ１　、　
ｘ−ＩＦ−レンクリコールモノメチルエーテル２５ｍ１
の混合物を、窒素雰囲気下、８５〜９０°Ｃで６時間加
熱する。反応混合物を水にあけ、ベンゼンで抽出し、抽
出液を水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。溶
媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル−４：１）
に付し、目的化合物（淡黄色泡状固体）を得た。

軟化点：　１００−１０５°Ｃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．７７
（９）（、Ｓ）。

１．４３（６Ｈ，Ｓ）。

１．５２（３Ｈ，８）。

２．００（２Ｈ，５）ｔ ２．７０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ）。

２．８−３．２　（Ｉ　Ｈ、ｎｄ　）　。

３．１２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ）。

３．４３（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ　＝４および１５Ｈｚ）、。

４、ＯＯおよび４．１０（２Ｈ，ＡＢ型、　Ｊ　＝　９
Ｈｚ）、　。

４．４９（ＩＨ，’ｄｄ、Ｊ＝＝４および５ｎｚ）。

６．１（１Ｈ，ｂｒ、ｓ　、重水添加で消失）。

６．８５　（２Ｈ、ｄ　、Ｊ　＝９［１ｚ）　＋６．９
３（ＩＨ，Ｓ）。

７．１５”（２Ｈ，’ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７．３０　（１，Ｈ，Ｓ）　。

８．２−９．３　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、　、重水添加で消失
）。

実施例　１０ ５−［４−［２−（３，，７−ジメチルオクチル）−６
−ヒドロキシ−５、７、８−トリメチル−４−オキソク
ロマン−２−イルメトキシ〕ベンジル〕チアゾリジン−
２、４−ジオン 実施例３に準じて、エチル　３−［４−［：６アセトキ
シー２　−　（　３．　７−；ジメチルオクチル）５、
　７．　８−）リフチル−４−オキンクロマン２ーイル
メトキシ〕フエニル〕−２−クロロフロピオネ−ｚ．ｉ
，ｐ，　チオ尿素０２ｇ，スルホラン１、５ｍｌ，　　
２Ｎ塩酸５ｍｌ，およびエチレングリコールモノメチル
エーテル１ｏｍｌから目的化合物を得た。

軟化点；　４１−４５℃（淡黄色粉末）ＮＭＲヌベクト
ル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０、８５（９Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ）　。

１、０−２．０（１２ｕ，ｍ）−。

２、１３（３Ｈ，Ｓ）。

２、２２　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、５５　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、６５−３．２　（３　Ｈ　、　ｍ）　。

３、４３（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ　＝４および１４Ｈｚ）。

４、０５（２Ｈ，Ｓ）。

４、３５−５．３　（　Ｉ　Ｈ　、　ｂｒ．、重水添加
で消失）。

４、４６（ＩＨ，ｄａ，Ｊ−４および１０Ｈｚ）。

６、８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

７、１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

８、０−９．５　（　Ｉ　Ｈ　、　ｂｒ．　、重水添加
で消失）。

実施例　１１ ５−〔２−（６−ヒドロキシ−２．５，７．８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキ・シ）ピリジン−５−
イルメチル〕チアゾリジン−２、４−ジオン 実施例３に準じて、エチル　３−（２−（６アセトキシ
ー２，５，γ，８ーテトラメチルクロマンー２−イルメ
トキシ）ピリジン−５−イル〕２ークロロプロピオネー
ト３．８ｇ，チオ尿素０、７７、９，スルホラン５．０
　ｄ　、エチレングリコールモノメチルエーテル４．　
５　ｍｌ　、濃塩酸ｉ．　ｓ　ｍｌＪおよび水４、５　
ｍｌから目的物を得た。

軟化点：８７−９４℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、３８
　（３Ｈ，　Ｓ）　。

１、７−２．３（２Ｈ，ｍ）。

２、０６（３Ｈ，８）。

２、０９（３Ｈ，Ｓ）。

２、１４（３Ｈ，Ｓ）。

２、６３　（　２Ｈ　、　ｂｒ．　ｔ　、　Ｊ　＝　６
Ｈｚ）　。

３、１０（ＩＨ，ａｄ，Ｊ＝１５および７．５Ｈｚ）　
。

３３３（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝１ｓおよび４．５Ｈｚ）　。

４−５（１）Ｉ，ｂｒ．　、重水添加で消失する）４、
３２（３Ｈ，Ｓ）。

４″４ｙ（ＩＨ，ｄｄ，、ｒ＝ｒ．ｓおよび４．５Ｈｚ
）　。

６、７５（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝＝９Ｈｚ）　。

７。ｕ＋（１ｎ，ｄｄ，、ｒ＝ｓおよび３Ｈｚ）　。

８、０２（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ）。

実施例１２ ５−〔３−（７−ｔーブチル−６−ヒドロキシ−２−メ
チル−４−オキンクロマン−２−イルメトキシ）−４−
メチルベンジル〕チアゾリジン−２、４−ジオン 実施例３に準じて、エチル３−〔３−（６アセトキシ−
７　−　ｔ　−　７”チル−２−メチル４−オキソクロ
マン−２−イルメトキシ）−一メチルフェニル〕−２−
クロロプロピオネ−）、２．４ｇ，チオ尿素０７ｇ，ス
ルホラン５ｍｌ，２塩酸１　０　ｒｎｌ　、およびエチ
レングリコールモノメシルエーテル１ｓ　ｍｌから目的
化合物を得た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーによるＲｆ値＝０．
４４（展開溶剤；ベンゼン：酢酸工ｉル＝　１　：　１
　’．） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、’４
０　（９Ｈ，　Ｓ）　。

１、５７　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、１４（３Ｈ，Ｓ）１ ２、７７（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）　。

３、０１　（ＩＨ，ｄｄ，、Ｊ：１０および１４Ｈｚ）
＋３、０７（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）　。

３、４４（Ｉｎ，ｄｄ，、ｒ＝４および１４Ｈｚ）。

３、９９および４．１３（２Ｈ，ＡＢ型。Ｊ＝１０Ｈｚ
）。

４、５０（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ：４および１０Ｈｚ）。

５、８４　（　Ｉ　Ｈ　、　ｔｂｒ．５，７重水添加で
消失７・）。

６．６−６．８５（２Ｈ，ｎｄ）。

６．９１　（１Ｈ，Ｓ）　。

７．０８　（Ｉ　Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　７．５Ｈｚ）　
。

７．３１　（ｊＨ，Ｓ）。

８．３−９．０　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、　、重水添加で消失
）実施例１３ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−５，７、８−トリメチル
クロモン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン
−２、４−ジオン 実施例３に準じて、エチル　３−（４−（６−アセトキ
シ−２−ヒドロキシ−５，乙８−トリメチル〜４−オキ
ソクロマン−２−イルメトキシ）フェニルジ−２−クロ
ロプロピオネート２．２ｇ、　チオ尿素０．８Ｌスルホ
ラン４５ｇ、エチレングリコールモノメチルエーテルｙ
　ｏ　ｒｎｌ、水８ｍｌ。

３５％塩酸４　ｍｌより目的化合物を得た。

融点；　２４９−２５２℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、　ＤＭＳＯ−ｄ６）　：
２．２５　（６Ｈ，Ｓ）　。

２゜６３（３Ｈ，８）。

１１開昭６２ ２．７−３．８　（２Ｈ、ｎｄ　）　。

４．８８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４および９Ｈｚ）　＋５．
１１　（２Ｈ，Ｓ）。

６．２８（ＩＨ，ｓ）。

７．０５　（２Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　９Ｈｚ）　。

７．２４（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝＝９Ｈｚ）　。

８．３−８．７　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、　Ｓ　、重水添加に
より消失）。

実施例　１４ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２、５．７、８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−５−
メチルチアゾリジン−２、４−ジオン 実施例３に準じて、エチル　３−（−４−（６アセトキ
シー２．５．７．８−テトラメチルクロマン−２−イル
メトキシ）フェニルツー２−クロロ−２−メチルプロピ
オネート１．１７，９．　　チオ尿素０．６３ｊｉ、　
　スルホラン３ｇ、エチレングリコールモノメチルエー
テル１０ｍ１．水３ｍｌ、３５％塩酸２　ｍｌから製造
された目的化合物は次の物性を有する。

軟化点：６９−７２℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ａｖｃｐ３）：Ｌ４０（
３Ｈ，Ｓ）　？ １．７２　（３Ｈ，Ｓ）　。

１．６−２．３　（２Ｈ、ｎｄ　）　。

２．１０（６ｎ、ｓ）。

２．１６（３Ｈ，Ｓ）。

２．６２（２Ｈ，ｂｒ、ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）　。

２．９４（１Ｈ，ｄ、Ｊ−１４Ｈｚ）。

３．２４　（ＩＨ，ｄ　、　Ｊ＝１４Ｈｚ）　。

３８４および３．９７　（２Ｈ、ＡＢ型、　Ｊ　＝　９
Ｈｚ）　＋４．４０（ＩＨ，ｂｒ、ｓ　、重水添加によ
り消失）。

６．８４（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７．１３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９１１ｚ）。

８．４−８．９　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、ｓ　、重水添加によ
り消失）。

実施例　１５ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｂ＞−ヒドロキシ
イミノ−２．５、７、８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕−チプゾリジン−２、４−ジ
オン 前記のＤ法、ついで実施例１と同様な方法で製造された
５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベン
ジル〕チアゾリジンー２，４−ジオン５１１　ｙ塩酸ヒ
ドロキシルアミン３Ｉ、メタノール５０ｇおよびピリジ
ン３ｇの混合物を室温下、１週間攪拌した。反応混合物
に酢酸エチルおよび炭酸カリウム水溶液を加え、有機層
を分液し無水硫酸ソーダ上にて乾燥した。溶媒を留去し
残渣をシリカゲルカラ″ムクロマトグラフィー（溶離液
；ヘキサン：酢酸エチル＝１　：’　１　）　Ｋ付し目
的化合物を得た。

軟化点：８４−１００’Ｃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）：１．４２
（３Ｈ，Ｓ）。

２．０９（３Ｈ，８）。

２．１８（３Ｈ，Ｓ）。

２．４８（３Ｈ，５）１ ３．０３（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝９およびｆ４ｆＩｚ）。

３．０７（２Ｈ，Ｓ）’。

３．４３（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝−４および１４Ｈｚ）。

４．０５（２Ｈ，Ｓ）。

ｔ７２（Ｉｎ、ｄｄ、、ｒ　＝４および５ｎｚ）＋６．
９２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

７．２１　（２Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　９Ｈｚ）　。

９．７−１０．５（ＩＨ，ｂｒ、Ｓ、重水添加により消
失）。

実施例　１６ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｅ）−ヒドロキシ
イミノ−２、５、７、８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２、４−ジオ
ン ５−（４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｚ）−ヒドロキシ
イミノ−２，５，乙８ーテトラメチルクロマン−２−イ
ルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジンー２．４ージオン
６２ｍ９を１４０±５°Ｃの油浴にて５時間加熱した。

反応混合物を液体クロマトグラフィーに付し目的物（実
施例１５の化合物）の生成を確認した。

実施例　１７ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｚ）−ヒドロキシ
イミノ−２、５，７、８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオ
ン 実施例１５におけるカラムクロマトグラフィーにおいて
実施例１５０目的化合物の後に溶離された分画から目的
化合物を得た。

軟化点：　１００−１０５℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）：１、４６
　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、０４　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、１８　（６Ｈ，　８）　。

２５８（’ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ）　。

２、８７（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ）　＋’３、１０（
ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝９および１４Ｈｚ）。

３、４３（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝４および１４日ｚ）。

４、０１　（２Ｈ，　Ｓ）　。

４、７４（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ：４および９Ｈｚ）。

６、９２　（　２Ｈ　、　ｄ　、　Ｊ　＝　９Ｈｚ）　
。

７、２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９１Ｔｚ）　。

９、４−１　０．６　（　Ｉ　Ｈ　、　ｂｒ．ｓ　、重
水添加により消失）。

実施例　１８ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−（ｚ）−ヒドロキシ
イミノ−２、５、７，８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２、４−ジオ
ン ５−（４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｅ）−ヒドロキシ
イミノ−２．　５，　７．　８−テトラメチルクロマン
−２−イルメトキシ）ベンジルコチアゾリジン−２，４
−ジオン２７■を１４０±５℃の油浴にて５時間加熱し
た。反応混合物を液体クロマトグラフィーに付し目的物
（実施例１７の化合物）の生成を確認した。

実施例　１９ ５−〔４−（６−アセトキシ−４−（Ｅ）−アセトキシ
イミノ−２．５，７．８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジルコチアゾリジン−２、４−ジオ
ン ５−（４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｂ）−ヒドロキシ
イミノ−２．　５，　７．　８−テトラメチルクロマン
−２−イルメトキシ）ベンジルコチアゾリジン−２，４
−ジオン１ｇ，無水酢酸１．３ｇおよびピリジン１０ｍ
ｌｌの混合物を室温下８日間放置しさらに６０〜８０°
Ｃで８時間加熱した。反応混合物中に炭酸カリウム水溶
液及び酢酸エチルを加え、有機層を分液し無水硫酸ソー
ダで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝
４＝１）に付し、目的化合物を得た。

軟化点：９３−９７℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ａＤｃｎ３）：１、４８
（３Ｈ，Ｓ）。

２、０７（３Ｈ，８）。

ｚ．１ｏ（３Ｈ，ｓ）。

２、２２（３Ｈ．Ｓ）１ ２、３３（３Ｈ，８）。

２、４２（３Ｈ，Ｓ）。

３、００（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）。

３、２６（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ）。

３、０−３．３（ＩＨ，ｎｄ）　。

３、４１　（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝４および１４Ｈｚ）ｔ３
、９１および４．０６（２Ｈ，ＡＢ型，　Ｊ　＝　９Ｈ
ｚ）４．４７（ＩＨ，ｄｄ、、ｒ：＝４および６．８４
（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

７．１４（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

実施例　２０ ５−〔４−（６−ベンゾイルオキシ−４−（Ｂ）−ベン
ゾイルオキシイミノ−２，５、７、８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−
２、４−ジオン ５−（４−（６−ヒドロキシ−４−ＣＢ）−ヒドロキシ
イミノ−２．　５，　７．　８−テトラメチルクロマン
−２−イルメトキシ）ベンジルコチアゾリジン−２，４
−ジオン１ｇ，臭化ベンゾイル１７ｇ。

ピリジン１０ｍ／＋およびジメチルホルムアミド５　ｒ
ｎｌの混合物を室温下６日間放置しさらに６０〜８０℃
で８時間加熱した。反応混合物中に炭酸カリウム水浴液
および酢酸エチルを加え、有機層を分液し無水硫酸ソー
ダで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル−
４＝３）に付し目的化合物を得た。

軟化点：　１０１−１０７℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、５５
（３Ｈ，８）。

２、１４（６１（、Ｓ）。

２、５８（３Ｈ，Ｓ）！ ２、８−３．７　（　４Ｈ　、　ｎｄ　）　。

３、９８および４．１２（２Ｈ，ＡＢ型，　Ｊ　＝　９
１’ｌｚ）　。

ｔ４ｓ（ＩＩ（、ｄｄ，Ｊ＝４および９’ｌ’ｌｚ）　
。

６、８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７、１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９ＦＩｚ）。

７、３−７．８　（　６Ｈ　、　ｍ）　。

７、９−８．５　（４Ｈ，ｍ）。

実施例２１ ５−〔４−（２。５、７。８−テトラメチル−６−ニコ
チノイルオキシ−４−（Ｅ）−ニコチノイルオキシイミ
ノクロマンーＬーイル７ート虹Ｚ工べｌジル〕チアゾリ
ジン−２、４−ジオン ５−［：４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｂ，ｌ−ヒドロ
キシイミノ−２．　５，　７．　８−テトラメチルクロ
マン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジｙー２
．４ージオン’ｇ＋塩化ニコチノイル塩酸塩１１ｇ，ピ
リジン１　２　ｍｌおよびジメチルホルムアミド１　２
　ｒｎｌの混合物を室温下６日間放置しさらに６０〜８
０℃で８時間加熱した。反応混合物に炭酸カリウム水溶
液および酢酸エチルを加え、有機層を分液し無水硫酸ソ
ーダで乾燥した。溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル：
　２　：　３）に付し、さらに分取用薄層シリカゲルク
ロマトグラフィー（展開溶剤；ヘキサン：酢酸エチル１
ニー１０）に付し目的化合物を得た。

軟化点；　１２３−１３０℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、５６
（３Ｈ，８）。

２、１３（３Ｈ，Ｓ）。

２、１７（３Ｈ，Ｓ）。

２、５７　（３Ｊ（、　Ｓ）　。

２、８−３．７　（４　Ｈ　、　ｎｄ　）　。

３９９および４．１６（２Ｈ，ＡＢ型，　Ｊ＝　９Ｈｚ
）　。

４、４５（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ：４および９Ｈｚ）ｔ６、８
４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ） ７、１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ） ７、４−７．７　（２　Ｈ　、　ｍ）　。

８、３−８．７（２Ｈ，ｍ）。

８、７−９．０　（２Ｈ，ｍ）　。

９、２−９．６　（２　Ｈ　、　ｍ）　。

１０−１１　（ＩＨ，ｂｒ．重水添加で消失）。

実施例　２２ ５−〔４−（７−ｔ−ブチル−６−６−ヒドロキシ−４
−（Ｅ）−ヒドロキシイミノ−２−メチルクロマン−２
−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２、４−ジ
オン 実施例１５に準じて、５−〔４−（７−ｔ−ブチル−６
−ヒドロキシ−２−メチル−４−オキソクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジルコチアゾリジン−２，４−ジオ
ン１．３２，９，塩酸ヒドロキシルアミン２．０，９，
　　ピリジンｏ．ｓ　ｒｎｌおよびメタノール２０ｍｌ
から製造された目的化合物（無色結晶）は次の物性を有
する。

融点２３５　−　２３７°Ｃ（分解）。

ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）：１．４０
（１２１（、Ｓ）　。

２．６−４．０　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、　、重水添加で消失
）。

２．９８　（２）（、Ｓ）　ｒ ３．１０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ：９および１４Ｈｚ）＋３．
４３　（ＩＨ，ｄｄ　、　Ｊ　＝４および１４Ｈ２）＋
４．０５　（２Ｈ，Ｓ）　。

４．７４（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ：４および９Ｈｚ）。

６．７３（ＩＨ，Ｓ）。

６．９５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７、−２−８．５　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、　、重水添加で消
失）。

７．２５（２Ｈ，ｄ、Ｊ　＝９Ｈｚ）　。

７．３０（ＩＨ，Ｓ）。

９．７−１０．６　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ、　、重水添加で消
失）。

実施例　２３ ５−〔４−〔６−ヒドロキシ−４−（Ｅ）−ヒドロキシ
イミノ−２−メチル−７−（１。１。３、３−テトラメ
チルブチル）クロマン−２−イルメトキシ〕ベンジル〕
チアゾリジン−２、４−ジオン 実施例１５に準じて、５−〔４−〔６−ヒドロキシ−２
−メチル−４−オキソ−７−（　Ｌ　Ｌ　３。

３−テトラメチルブチル）クロマン−２−イルメトキシ
〕ベンジル〕チアゾリジン−２，４ジオン１０ｇ，塩酸
ヒドロキシルアミン０．２６９。

ピリジン０３ｇ，メタノール１０ｍｌから製造された目
的化合物は次の物性を有する。

軟化点：　１１５−１２０℃（白色粉末）ＮＭＲスペク
トル（δｐｐｍ、重アセトン）：０、７６（９Ｈ，８）
。

１、４０　（９Ｈ，　Ｓ）　。

２、００　（２Ｈ，　Ｓ）　。

２、５−３．６　（　Ｉ　Ｈ　、　ｂｒ．　、重水添加
で消失）ｒ２、９８　（　２Ｈ　、　ｓ’）　。

３、０９（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ：９および１５Ｈｚ）。

３、４４（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝４および１５［１ｚ）。

４、ｏ３（２ｘ（、ｓ）。

４、７６（ＩＨ，ｄａ，Ｊ＝４およびｓ■ｚ）＋６、７
５（ＩＨ，Ｓ）。

６、９３　（２Ｈ，　ｄ　、　Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７、２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ ９Ｈｚ）。

７、２５（ＩＨ，Ｓ）。

７、５ ８、４（ＩＨ，ｂｒ。重水添加で消失）。

実施例２４ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−（Ｅ）−ヒドロキシ
イミノ−２−イソブチル−５、７。８−トリメチルクロ
マン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２
、４−ジオン 実施例１５に準じて、５−（：４−（６−ヒドロキシ−
２−インブチル−５，　７．　８　−　）ジメチル４−
オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベンジルコチアゾ
リジン−２，４−ジオン１５５１１９。

塩酸ヒドロキシルアミン６００ｍｇ，　エタノール４ｍ
１１およびピリジン６　ｍｌｌから製造された目的物は
、次の物性を有する。

軟化点ニア７−８０℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）：０、９７
（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）　。

１、６−２．３　（Ｉ　Ｈ，　ｎｄ）　。

１、１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６ＦＩｚ）　。

２、１１　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、１８（３Ｈ，Ｓ）。

２、４６（３Ｈ，Ｓ）。

２、７−３．７　（　Ｉ　Ｈ　、　ｂｒ．　、重水添加
により消失）。

２、８−３．２　（　Ｉ　Ｈ　、　ｎｄ　）　。

３、０９　（２Ｈ，　Ｓ）　。

３、４３（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝４および１４Ｈｚ）。

４、０５（２Ｈ，ＡＢ型，Ｊ＝１０Ｈｚ）。

４、７２（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ：４および９Ｈｚ）。

６、９１　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７、２２　（２Ｈ，　ｄ　、　Ｊ＝９Ｈｚ）　。

９、８−１　０．５　（　Ｉ　Ｈ　、　ｂｒ．ｓ　、重
水添加により消失）。

実施例　２５ ５−〔４−〔２−（３。７−ジメチルオクチル）−６−
ヒドロキシ−４−（Ｅ）−ヒドロキシイミノ−５、７，
８−トリメチルクロマン−２−イルメトキシ〕ベンジル
〕チアゾリジン−２，４−ジオン実施例１５に準じて、
５−〔４−〔２−（３、７ジメチルオクチル）−６−ヒ
ドロキシ−５，７，８−トリメチル−４−オキソクロマ
ン−２−イルメトキシ〕ベンジル〕チアゾリジン−２，
４ジオン１５０　ｍ９．　　塩酸ヒドロキシルアミン３
６７１１ｐ　。

ピリジン４１ｍｇ、メタノール２　ｒｎｌから製造され
た目的化合物は次の物性を有する。

軟化点：５５−６０℃（淡黄色粉末） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．８３
（９Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）　。

１．０−２．０　（１２Ｈ，ｍ）　。

２．１０　（３Ｈ，８）　。

２．１８　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．４１　（３Ｈ，８）　。

２．９−．３．．２　（Ｉ　Ｈ、ｎｄ　）　。

２．９２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ）　。

３．２−３．５５　（Ｉ　Ｈ、ｎｄ　）　。

３．２３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ）　。

３．９４　（２Ｈ，Ｓ）　。

４．３−４．８　（Ｉ　Ｈ、ｎｄ　）　。

＋４６（ｕ−ｉ、ｄｄ、、ｒ＝４および１０Ｈｚ）。

６．８３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７．１５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７．８−８．９　（２Ｈ、ｂｒ。重水添力で消失）。

実施例２６ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２、５、７、８−テトラ
メチル−４−（Ｅ）−メトキシイミンクロマン−２−イ
ルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２、４−ジオン ５−（４−（６−ヒドロキシ−２．　５．　７　８−テ
トラメチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ）
ベンジルコチアゾリジン−２，４−ジオン１ｇ，メトキ
シアミン塩酸塩０６ｇおよびメタノール５ｇの混合物を
室温下１０日間放置した。

反応混合物に酢酸エチル及び炭酸カリウム水溶液を加え
、有機層を分液し無水硫酸ソーダで乾燥した、溶媒な留
去−し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
離液；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）に付し目的化合
物を得た。

軟化点ニア２−７６℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＯＤＣρ３）二１、４１
　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、０８（３Ｈ，Ｓ）。

２、１７（３Ｈ，Ｓ）。

２、５０（３Ｈ，Ｓ）。

２８８および３．０８　（　２Ｈ　、　ＡＢ型，　Ｊ　
＝　１　７Ｈｚ）３、００（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝９および
１４Ｈｚ，）＋３、４２（ＩＨ，ｄｄ，、ｙ　＝４およ
び１４Ｈｚ）＋３、９２（２Ｈ，Ｓ）。

３、９６（３Ｈ，８）。

４、２−４．９　（　Ｉ　Ｈ　、　ｂｒ，　）　。

４、４５（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝４および９Ｈｚ）。

６、８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ　＝９１１ｚ）　。

７、’１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

実施例２７ ５−〔４−（４−（Ｅ）−ベンジルオキシイノ−６−ヒ
ドロキシ−２、５、７、８−テトラメチルクロマンー２
ーイルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２、４−ジ
オン ５−（４−（６−ヒドロキシ−２．　５，　７．　８−
テトラメチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ
）ベンジル〕チアゾリジン−２、４−ジオン１ｇ，ベン
ジルオキシアミン塩酸塩１．２ｇおよびメタノール１０
ｇの混合物を室温下７日間放置した。

反応混合物に酢酸エチルおよび炭酸カリウム水溶液を加
え、有機層を分液し無水硫酸ソーダで乾燥した。溶媒を
留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
離液；ヘキサン：酢酸エチル＝３　：　１　）に付し目
的化合物を得た。

軟化点：６４−６９°Ｃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＯＤＯρ３）：１、４０
（３Ｈ，Ｓ）。

２、０６（３Ｈ，Ｓ）。

２、１６（３Ｈ，Ｓ）。

２、４１　（３Ｈ，Ｓ）　。

２、９２および３．１８　（　２Ｈ，ＡＢ型，　Ｊ　＝
　１　７Ｈｚ）３、０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９Ｈｚおよ
び１４１’ｌｚ）。

３、４２（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝４［１ｚおよび１４Ｈｚ）
＋３、９０（２Ｈ，Ｓ）。

ｔ４ｓ（ＩＨ，ｄｄ，、ｒ＝４および９Ｈｚ）。

５、１９（２Ｈ，Ｓ）。

６、８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

７、１１　（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７．５（５Ｈ，ｍ）。

実施例２８ ５−〔４−（４−（Ｅ）−ｔ−ブトキシカルボニルメト
キシイミノ−６−ヒドロキシ−２、５、７、８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾ
リジン−２，４−ジオン５−〔４−（６−ヒドロキシ−
２．　５，　７．　８−テトラメチル−４−オキソクロ
マン−２−イルメトキシ）ベンジルコチアゾリジン−２
，４〜ジオンｉｙ，ｔ−ブトキシカルボニルメトキシア
ミン・ｐ−トルエンスルホン酸塩２．１，９，　メタノ
ール５ｇおよびピリジン０．６ｇの混合物を室温下７日
間放置した。反応混合物に酢酸エチルおよび炭酸カリウ
ム水溶液を加え、有機層を分液し無水硫酸ソーダで乾燥
した。溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル−３：１）に
付し目的化合物を得た。

軟化点ニア６−８０℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＯＤＯρ３）：１、４４
（３Ｈ，Ｓ）。

１、４９　（　９Ｈ，　Ｓ　）　。

２、０７（３Ｈ，Ｓ）。

２、１７（３Ｈ，Ｓ）。

２、４３（３Ｈ，Ｓ）。

３、０２（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ　＝９および１４Ｈｚ）＋３
、０８　（　２Ｈ　、　ＡＢ型，Ｊ＝１７Ｈｚ）。

３、４２（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ：４および１４Ｈｚ）。

３、９ｅ（２Ｈ，ｓ）。

ｔ４３（ＩＨ，ｄｄ，、ｙ＝４および９Ｈｚ）。

４、６７（２Ｈ，Ｓ）。

４、９−６．１　（　２Ｈ　、　ｂｒ．　、重水添加に
より消失）。

６、８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７、１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

実施例２９ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２、５，７，８−テトラ
メチル−２Ｈ−クロメン−２−イルメトキシ）ベンジル
〕チアゾリジン−２，４−ジオン５−〔４−（４、６−
ジヒドロキシ−２、５、７、８−テトラメチルクロマン
−２−イルメトキシ）ベンジルコチアゾリジン−２，４
−ジオン１４０■。

ｐ−）ルエンスルホン酸１　０　＝９　、ベンゼン１０
ｍｌ。

ジメチルホルムアミド０．５　ｍｌの混合物を１時間加
熱還流する。今後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、次いで水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥
する。溶媒を減圧下留去して残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶離剤；ベンゼン：酢酸エチル＝４
　：　１　）に付し、目的化合物を得た。

軟化点：　１７３−１７６℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）：１、５０
　（３１（、　Ｓ）　。

２、０２（３Ｈ，Ｓ）。

２、１２（３Ｈ，Ｓ）。

２、１８（３Ｈ，Ｓ）。

３、０６（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝９Ｈｚおよび１４Ｈｚ）３
、４０（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝４１’ｌｚおよび１４１１１
ｚ）３、９４（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１０ｔｌｚ）。

４、０５（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）。

４、７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ：４および９［］ｚ）。

５、７５（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）。

６、７２（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）　。

６、８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７、１　９　（　２．Ｈ，　ｄ　、　Ｊ　＝　９Ｈｚ）
。

実施例３０ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２．５，７、８−テトラ
メチルクロマン−６−イルハイドロジエンサクシネート 前記のＡ法、ついで実施例１と同様な方法で製造された
５−（４−（６−ヒドロキシ−２，５゜７．８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジルコチアゾ
リジン−２，４−ジオン１．０１、無水コハク酸０．３
１１およびピリジンｌ　ｍｌの混合物全室温で一夜放置
した。反応混合物をシクロヘキサン１０ｒｎｌで３回洗
浄し、得られた不溶物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチルー５＝１乃至１
：１）に付し、目的化合物を得た。

融点：　１９７−２０２℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ　１重ピリジン）：１．３
６　（３Ｈ、ｓ　） １．５−２．３（２Ｈ，ｍ） ２．１０（６Ｈ，ｓ） ２．１４（３Ｈ，ｓ） ２．５　（２Ｈ、ｂｒ、　　ｔ　、　Ｊ−６Ｈｚ　）２
．７〜３．３５　（５Ｈ、ｍ　） ３．６０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４および１５Ｈｚ）３９５
および４．０５　（２Ｈ、ＡＢ型、Ｊ＝９Ｈｚ）４．９
０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４および９　Ｈｚ　）６．９８（
２Ｈ，’ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ７．３０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ナトリウム塩 本すクシネート２４６ｍ？’Ｌメタノール１００ｍ１に
懸濁し、室温で２５係ナトリウムメトキシド　メタノー
ル溶液ｌ　ｍｌを加える。少量の不溶部分ｋＦ去後、メ
タノールを減圧で留去する。

得られた残渣全エーテルで洗い、ナ）　ＩＪウム塩を得
た。融点：　１７８−１８０℃ 実施例　３１ ５−（４−（４−カルぎキシメトキシイミノ−６−ヒド
ロキシ−２，５，７，８一テトラメチルクロマン−２一
イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２，４一ジオ
ン 実施例２８で得られた５−〔４−（４−ｔブトキシカル
ゲニルメトキシイミノ−６−ヒドＥｅｌ　−１’　シー
　２，５，７．８−テトラメチルクロマン−２−イルメ
トキシ）ベンジルクチアゾリジン−２゜４−ジオン０７
グと４Ｎ塩化水素ジオキサン溶液７　ｍＡ’の混合物を
、室温で１５時間放置する。

反応終了後、溶媒を留去して得られた残渣を温水で洗い
目的物を得た。

軟化点ニア５−８５℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ　、　ＤＭＳＯ−ｄ６）　
：１．３３（３Ｈ，ｓ） １．９８（３Ｈ，ｓ） ２．０９（３Ｈ，ｓ） ２．３４・（３Ｉ（、ｓ　） ２．９〜３．５（２Ｈ，ｍ） ３．０（２Ｈ，ｓ） ４．０２（２Ｈ，ｓ） ４．６５（２Ｈ，Ｓ） ４．８４（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４および９Ｈｚ）６．９０
（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ７．１７　（２Ｈ１ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ） ７．５５〜７．９５　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ　、重水添加で消
失）実施例３２ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジンイ−５−イ
ルメチル）フエノキシメチル〕−２、５、７、８−テト
ラメチル−４−オキソクロマン−６−イルオキシ酢酸２
−メトキシエチル ３−［４−（、６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−
２．　５，　７．　８−テトラメチル−４−オキソクロ
マン−２−イルメトキシ）フェニルクー２−クロロプロ
ピオン酸エチル１３グ、チオ尿素２、　６　ｆ　、およ
びスルホラン１５ｍｌの混合物を窒素気流中、１２０〜
１３０℃で５時間加熱した。

次いで、２Ｎ塩酸３０ｍｌおよび２−メトキシエタノー
ル６０ｍｌを加え、１１０℃で３時間加熱した。反応混
合物を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。該抽出液を水
で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；
ベンゼン：酢酸エチル＝４：１）に付し標記のエステル
交換したチアンニリジン誘導体を得た。

Ｒｆ値（以下、シリカゲル薄層クロマトグラフィーによ
る値を示す。）：０．１４（展開溶剤；ベンゼン：酢酸
エ チル＝４　：　１　） ＮＭＲ２＜クトル（δｐｐｍ　、　ＣＤＣ７３）：１、
５０（３Ｈ，ｓ）。

２、１０（３Ｈ，ｓ）。

２、２６（３Ｈ，ｓ）。

２、４　５〜２．８　（　Ｉ　Ｈ　、　ｎｄ　）　。

２、５６（３Ｈ，ｓ）。

２、９〜３．２　５　（　Ｉ　Ｊ（　、　ｎｄ．　）　
。

３、０７（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ）。

３、４　０（３Ｈ　、ｓ　）　。

３、４〜３．６　（　Ｉ　Ｈ　、　ｎｄ　）　。

３、６〜３．７５　（２Ｈ　、ｍ）　。

３９８および４．１　１　（２Ｈ　、ＡＢ型，Ｊ＝１０
Ｈｚ）。

４３〜４．４５（２Ｈ，ｍ）。

４、３４（２Ｈ，ｓ）。

４、４　５〜４．６　（　Ｉ　Ｈ　、　ｎｄ　）　。

６、８５（２Ｈ，（１，Ｊ＝９Ｈｚ）。

乙１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

８、７〜ｓ．ｓ（１Ｈ，ｂｒ，）。

実施例３３ ５−〔４−（６−エトキシ−２、５，７、８−テトラメ
チルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリ
ジン−２、４−ジオン 実施例３２に準じて、２−クロロ−３−〔４−（６−ニ
トキシー２．　５，　７．　８−テトラメチルクロ？　
ｙ　−　２　−　イルメトキシ）フェニル〕，フロピオ
ン酸エチル５１グ、チオ尿素１２、スルホラン６ｍｌ！
、２Ｎ塩酸１６１ｎｌ，および２−メトキシエタノール
５７ｎｌから目的化合物を得た。

融点：５６〜６０℃ マススヘクトル（　ｍ／　ｅ　）　：　４　６　Ｂ　（
Ｍ＋）Ｎ　Ｍ　Ｒ　、（　ベクトル（δｐｐｍ，ｃＤｃ
ｔ３）：１、３　９　（３Ｈ　、　ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ　）
　。

１、４１（３Ｈ，ｓ）。

１、７〜２．１　（２Ｈ　、ｎｄ）　。

２、ｏｒ（ｓｎ，ｓ，Ｌ ２、１４（３Ｈ，ｓ）。

２、１７（３Ｈ，ｓ）。

２、６１　（２Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ−７Ｈｚ）。

３、ｏｓ（１Ｈ，ａａ，、ｒ＝１０および１４Ｈｚ）ｊ
３、４５（ＩＨｊｄａｊＪ−４および１４Ｈｚ．）。

３、７２（２Ｈ，ｑ，、ｙ−γＨｚ）。

３、８７および３．９７（２Ｈ，ＡＢ型，Ｊ＝９Ｈｚ）
。

４、４１（ＩＨ，ａｄ，Ｊ＝４および１０Ｈｚ）。

６、８７（２Ｈ，（１，Ｊ＝９Ｈｚ）。

７、１４（２Ｈ，ａ，Ｊ−９Ｈｚ）。

８、６〜Ｂ．８　（ＩＨ　、　ｂｒ　）（重水添加で消
失）。

実施例３４ ２−〔４−（２、４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチルシー４−ヒドロキシ−２、５
，７、８−テトラメチルクロマン−６−イルオキシ酢酸
２一メトキシエチル２−［４−（２．４−ジオキソチア
ゾリジン−５−イルメチル）フエノキシメチル〕−２，
５，７８ーテトラメチルー４ーオキソクロマン−６−イ
ルオキシ酢酸２−メトキシエチル１，２グとメチルアル
コール２０ｍｌの混合物を氷冷し、水素化ホウ素ナトリ
ウム１．５２を加えて、水冷で１時間かきまぜた。反応
混合物を氷水に注ぎ、１０多塩酸で中和し、ついで酢酸
エチルで抽出した。

抽出液を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を減圧下に留去し、淡黄色粉末状の目的化合物を得た
。

Ｒｆ値＋０．２０（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチルク
１：１） マススペクトル（ｍ／ｅ　）　：　５７３　（Ｍ＋）　
。

実施例３５ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２．５、７、８−テトラ
メチル−２Ｈ−クロメン−６−イオキシ酢酸メチル ２−（４−（２．４−ジオキソチアゾリジン５−イルメ
チル）フェノキシメチル〕−４−ヒドロキシ−２．　５
，　７．　８−テトラメチルクロマン−６−イルオキシ
酢酸２−メトキシエチル９７０■、ｐ−トルエンスルホ
ン酸５０ｍｙ、ベンゼン１ｒ）ｍｌ，およびジオキサン
１ＴＬｌの混合物を窒素気流中１時間加熱還流した。反
応混合物を５％重炭酸ナトリウム水溶液、次いで水で洗
い無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離
液：ベンゼン：酢酸エチル＝７：３）に付し、標記のメ
チルエステルを得た。

Ｒｆ＝０．７４（展開溶剤：ベンゼン：酢酸エチル＝１
：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）：１、５１
（３Ｈ，ｓ）。

２、０１（３Ｈ，ｓ）。

２、１４（３Ｈ，ｓ）。

２、２２（３Ｈ，ｓ）。

３、０７（ＩＨ　、ａａｊＪ−ｇおよび１４Ｈｚ）。

３、４２（ＩＨ，ｄａｊＪ＝４およびｉ４Ｈｚ）。

３、７４（３Ｈ，ｓ）。

４、０３（２Ｈ，ｓ）。

４、３２（２Ｈ，Ｓ）。

４、７３　（ＩＨ　、ｄａ　、、ｒ−４およびｓａｚ）
。

５、８０（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１０Ｈｚ）。

６、７０（ＩＨ，（１，Ｊ＝１０Ｈｚ）。

ｓ．８ｓ（２ａ，ａ，Ｊ＝ｇａｚ）。

？．２０　（２Ｈ，ｄ　、Ｊ＝９Ｈｚ）。

実施例３ ２−〔４−（２、４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２．５。７、８−テトラ
メチル−２Ｈ−クロメン−６−イルオキシ酢酸２−メト
キシエチル 実施例３５におけるカラム久ロマトグラフイにおいて、
同側におけるメチルエステルの後に溶離された分画から
目的化合物を得た。

Ｒｆ値：０．５９（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル−
１：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ　　、重アセトン）：１、
５２（３Ｈ，ｓ）。

２、０２（３Ｈｊｓ）。

２、１６（３Ｈ，ｓ）。

２、２３（３Ｈ，ｓ）。

３、０９（ＩＨ，ａｄ，Ｊ−９および１５Ｈｚ）。

３、３　０〜３．６　０　（　Ｉ　Ｈ　、　ｎａ　）　
。

３、３２（３Ｈ，ｓ）。

３、５〜３．７（２Ｈ，ｍ）。

４、０４（２Ｈ，ｓ）。

４、２５〜４．４５（２Ｈ，ｍ）。

４、３５（２Ｈ，Ｓ）。

４、７５　（１ａ　、ａａ，Ｊ＝４および９Ｈｚ）。

５、８２（ＩＨ，ｄ，Ｊ−１０Ｈｚ）。

６、７２（ｉＨ，＋１，Ｊ＝１０Ｈｚ）。

６、８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

７、２１　（２ａ，ａ，、ｒ−９Ｈｚ）。

実施例３７ ５−〔４−〔６−（２−ヒドロキシエトキシ）−２．５
，７。８一テトラメチル−２Ｈ−クロメン−２−イルメ
トキシ〕ベンジル〕チアゾリジン−２、４−ジオン 実施例３６におけるシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにおいて、該２−メトキシエチルエステルの後に溶離
された分画から標記エーテル化合物を得た。

Ｒｆ値：０．４４（展開溶剤：ベンゼン：酢酸エチル−
１＝１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）：１．５１
（３Ｈ，ｓ）。

２．０１（３Ｈ，ｓ）。

２．１５（３Ｈ，ｓ）。

２．２１（３Ｈ，ｓ）。

３．０８（ｉＨ，ｄ４．Ｊ−９および１４Ｈ７）。

３．４２（ＩＨ，ｄａ、Ｊ−４および１４Ｈｚ）。

３．６〜３．９５（４Ｈ，ｍ）。

４．０３（２Ｈ，ｓ）。

４．７４（ＩＨ，ｄｔｌ、Ｊ＝４および９Ｈｚ）。

５．７８（ＩＨ，ａ、Ｊ＝１０Ｈｚ）。

６．７１　（ＩＨ，ｄ、Ｊ−１０Ｈｚ）。

６．８８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

７．２１　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

実施例３８ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２、５、７、８−テトラ
メチルクロマン−６−イルオキシ酢酸２−メトキシエチ
ル ２−〔４−（２、４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル）−２，５，７、８−テトラ
メチル−２Ｈ−り、ロメンー６−イルオキシ酢酸２−メ
トキシエチル２６０ｍ９．１０％　パラジウム炭素３０
０Ｔｎ９、およびエタノール５０ｍ１の混合物を、パー
ルの水添装置を用い、水素圧３〜５気圧で１０時間振盪
した。該パラジウム炭素をＦ去後、涙液を減圧下で濃縮
して無色油状の目的物を得た。

Ｒｆ値：０．３４（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル−
２：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ　、　ｃＤｃｔ、、　）　
：１．４０（３Ｈ，ｓ）。

１．７５〜２．１５　（２Ｈ、ｎｄ）　。

２．０６（３Ｈ，ｓ）。

２．１４（３Ｈｊｓ）。

２．１８（３Ｈ，ｓ）。

２．６１（２Ｈ，ｂｒ、ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

３、ａｓ（１ａ、ａａ、Ｊ＝ｓおよび１４Ｈｚ）ｊ３．
３５〜３．８（３Ｈ，ｎｄ）。

３．３９（３Ｈ，ｓ）。

３８６および３．９６（２Ｈ，ＡＢ型、Ｊ＝１０Ｈ２）
。

４．２５〜４．６（３Ｈ，ｎｄ）。

４．３４（２Ｈ，ｓ）。

６．８７（２Ｈ，ｄ、Ｊ−９Ｈｚ）。

７．１５（２Ｈｊ（１，Ｊ＝９Ｈｚ）。

８．３５〜８．８　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ　、　、重水添加に
より消失）。

実施例３９ ５−〔４−〔６−（２−ヒドロキシエトキシ）−２．５
、７、８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ〕
ベンジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン 実施例３８に準じて、５−［４−［６−（２ヒドロキシ
エトキシ）　−２，５，７，８−テトラメチル−２Ｈ−
クロメン−２−イルメトキシ〕ベンジル〕チアゾリジン
−２，４−ジオン０．３５　Ｖ′、１０％パラジウム炭
素０．３Ｓ’、エチルアルコル１０ゴから目的化合物を
得た。

Ｒｆ値：０．４５（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチルコ
１：１） Ｎ’ＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１４１
（３Ｈ，ｓ）。

１７〜２．２（２Ｈ，ｎｄ）。

２．０７　（３Ｈ、’ｓ　）　。

２．１３（３Ｈ，ｓ）。

２．１８（３Ｈ，ｓ）。

２．６１（２Ｈ，ｂｒ、ｔ、Ｊ＝−７Ｈｚ）ｊ３、ｏｓ
（ｒＨ，ａａ、Ｊ＝ｓおよび１４Ｈｚ）。

３．４４（ＩＨ，（１（１，Ｊ＝４および１４Ｈｚ）。

３．７〜４．１　（６Ｈ、ｍ）　。

４．４７（ＩＨ，ｄａ、Ｊ＝４および９Ｈｚ）。

４．８〜５．２　（２Ｈ、ｂｒ、）　。

６．８７（２Ｈ，ｄ、Ｊ−９Ｈｚ）。

７．１４（２Ｈ，（１，Ｊ−９Ｈｚ）。

実施例４０ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−２、５、７、８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−６−イルオキシ酢酸エチ
ル 実施例５６において得た、２−［４−（２、４−ジオキ
ソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル）
−２．５．７．８−テトラメチル−４−オキソクロマン
−６−イルオキシ酢酸０．５２．４Ｎ塩化水素ジオキサ
ン溶液０．５ｍｌ、およびエチルアルコール５ｍｌ！の
混合物を室温で一夜放置した。反応混合物を水に注ぎ、
重炭酸ナトリウムで中和した後、酢酸エチルで抽出した
。

抽出液を水で洗い無水硫酸す）　ＩＪウムで乾燥した。

溶媒を留去し、得られた残渣を分取用シリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
１＝３）に付し目的化合物を得た。

Ｒｆ値＋０．７０（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル−
１：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ　、ＣＤＣｌ３）　：１．
３３（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

１．５０（３Ｈｊｓ）。

２．１０　（’３Ｈ、ｓ　）　。

２．２６（３Ｈｊｓ）。

２．５７（３Ｈ，ｓ）。

２．５５〜２．’８　（Ｉ　Ｈ、ｎｄ　）　。

３０６（１Ｈ１ｄ、Ｊ−１６Ｈ２）。

３．０７（ＩＨ，ａａ、Ｊ＝９および１４Ｈｚ　）　。

３．４５（ＩＨ，ａｄ、Ｊ＝４および１４Ｈｚ）。

４００および４．１１（２Ｈ，ＡＢ型、Ｊ＝１０Ｈｚ）
。

４．２９（２Ｈ，ｓ）。

４．３１　（２Ｈｊｑ　、Ｊ−７Ｈｚ）。

４、．４８　（７Ｈ、ｄ４　、　Ｊ＝４および９Ｈｚ）
。

６．８５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、 ７．１６　（２Ｈ、ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ　）　。

８．３〜８．９　（Ｉ　Ｈ、ｂ　ｒ　、）。

実施例４１ ５−〔４−（６−アセトキシ−２、５、７、８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２．
４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル ５−〔４−（６−アセトキシ−２，５，７、８ーテトラ
メチルクロマンー２ーイルメトキシ）ベンジルクチアゾ
リジン−２．４ージオンｉ　！ｉＩ，無水炭酸カリウム
０．　４　３　ｆおよびアセトン８　ｍｌの混合物に、
氷冷下ブロモ酢酸ｔーブチル０．　８　７　ｆを滴下し
た後、室温で２時間かきまぜ、さらに２日間放置した。

反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を食塩水で洗った後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した
。溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶離液；ベンゼン）に付し目的化合物を得た。

Ｒｆ値：０６（展開溶媒；ベンゼン：酢酸エチル−１０
：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、４１
（３Ｈ，ｓ）。

１、４７（９Ｈ，ｓ）。

１、７〜２．１　（　２Ｈ　、　ｎｄ　）　。

１、９８（３Ｈ，ｓ）。

２、０２（３Ｈ，ｓ）。

２、０７（３Ｈ；ｓ）。

２、３０（３Ｈ，ｓ）。

２、６２（２Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。

２、９８（ＩＨ，ｄｄ，、７−１０および１４Ｈｚ）、
。

３、５５　（ＩＨ，ａｄ．、Ｊ＝４および１４Ｈｚ）。

３８６および３．９７（２Ｈ，ＡＢ型，Ｊ−９Ｈｚ）。

４、１９（２Ｈ，ｓ）。

４、４　５　（Ｉ　Ｈ，　ｄａ　、Ｊ＝４および１０Ｈ
ｚ）。

６、８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

７、１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

実施例４２ ５−〔４−（６−アセトキシ−２、５、７．８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２、
４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸メチル 実施例４１に準じて、５−（４−（６−アセトキシ−２
，　５，　７．　８−テトラメチルクロマン−２−イル
メトキシ）ベンジルフチアゾリジン−２。

４−ジオン２４グ、ブロモ酢酸メチル１，５２、炭酸カ
リウム１５２およびアセトン２５ｍｌから無色油状の目
的物を得た。

Ｒｆ値：［１．２６（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル
ｅ−２０：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ　、ＣＤＣｌ３）：１、４
２（３Ｈ，ｓ）。

１、８〜２．２５（２Ｈ，ｎｃｌ）。

１．９８（３Ｈ，ｓ）。

２．０２（３Ｈ，ｓ）。

２．０８（３Ｈ，ｓ）。

２．３０（３Ｂ、ｓ）。

２．６４（２Ｈ，ｂｒ　、ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

３．０１ＣＩＨ，ｄｅＬ、、、ｆ＝１０および７４Ｈｚ
）。

３．５４　（ＩＨ、ｄ４　、Ｊ＝４．５および１４Ｈｚ
）。

３γ５（３Ｈ，Ｓ）。

３８７および４．００（２Ｈ，ＡＢ型、Ｊ＝９Ｈｚ）。

４．３’１（２Ｈ，ｓ）。

４．５０（ＩＨ，ｄａ、Ｊ−４，５および１ｏｎｚ）。

６．８９（２Ｈｊｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

７．１７（２Ｈ，ｔｌ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

実施例４３ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２、５．７、８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ペンシル〕−２，
４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル 実施例４１に準じて、５−〔４−（６−ヒドロキシー２
，５．７、８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）ベンジル〕チアゾリジンー２、４−ジオン１ｇ，無
水炭酸カリウム０．４７ｇ、ブロモ酢酸ｔ−ブチル０．
９３１ｉ’、アセトン８　ｍｌ！から製造された目的化
合物は次の物性を有する。

Ｒｆ値：０．５２（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
１ｏ：ｉ） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ　、　ｃＤｃｔ３）　：１
、４２（３Ｈ，ｓ）。

１、４８（９Ｈ，ｓ）。

１、７〜２．１　５　（２Ｈ　、ｎｄ）　。

２、１　１　（６Ｈ　、ｓ　）　。

２、１６（３Ｈ，ｓ）。

２、６４（２Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。

２、９９（ＩＨ，ｄａ，Ｊ＝１０および１４Ｈ’ｚ）。

３、５６（ＩＨ，ａｄ，Ｊ＝４および１４Ｈｚ）。

３８５および３．９８（２Ｈ，ＡＢ型　、７＝９Ｈｚ）
。

４、２１（２Ｈ，ｓ）。

４、２４（１Ｈ，ｓ）。

４、４６（ＩＨ，ａｄ，Ｊ，＝４および１０Ｈｚ）。

６、８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

７、１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ−９Ｈｚ）。

実施例４４ ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−２
。５、７、８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）ベンジル］−２．４−ジオキソチアゾリジン−３，
５−二酢酸ジ−ｔ−ブチル５−〔４−（６，−ヒドロキ
シ−２．５，７．８−テトラメチルクロマン−２−イル
メトキシ）ベンジルコチアゾリジン−２，４−ジオン１
９、無水炭酸カリウム０．９４１？，およびアセトン１
０Ｔｉｉｊ！の混合物に、氷冷下ブロモ酢酸ｔブチル１
．９ｆを滴下し室温で２日間かきまぜる。反応混合物を
氷水に注ぎ、ベンゼンで抽出した。抽出液を水で洗い無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ベンゼン：
酢酸エチル−２０＝１）に付し目的化合物を得た。

Ｒｆ値：０．５４（展開溶剤；シクロヘキサン：酢酸エ
チル＝４：ｉ） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、４４
（９Ｈ，ｓ）。

１、４８（１２Ｈ，ｓ）ｊ Ｌ５４（９Ｈ，ｓ）。

１、８〜２１（２Ｈ，ｎｄ）。

２、０７（３Ｈ，ｓ）。

２、１６（３Ｈ，ｓ）。

２、２０（３Ｈ，ｓ）。

２５〜２．７（２Ｈ，ｍ）。

２、９〜３．１　５　（２Ｈ　、ｍ　）　。

３、２４（２Ｈ，ｓ）。

３、９３（２Ｈ，ｂｒ．ｓ）。

４、１３（２Ｈ，ｓ）。

４、１７（２Ｈ，ｓ）。

６、８５（２Ｈ，ｂｒ　、ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

７、１５（２Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

マススペクトル（ｍ／ｅ　）　：　７　８　３　（Ｍ＋
）。

実施例４５ ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−２
、５，７、８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）ベンジル〕−２、４−ジオキソチアゾリジン−３−
酢酸ｔ−ブチル 実施例４４のカラムクロマトグラフィーによる分離工程
において、該ｔ−ブチルエステルの次に溶出される部分
から目的化合物を得た。

Ｒｆ値：０．４２（展開溶剤；シクロヘキサン：酢酸エ
チル＝４：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ　、ＣＤＣｌ３）：１．４
２（３Ｈ，ｓ）。

１．４８（９Ｈｊｓ）。

１．５４　（９Ｈ、、ｓ　）　。

１．７〜２．１　（２Ｈ、、ｎ（１）　。

２．０６（３Ｈ，ｓ）。

２．１５（３Ｈ，ｓ）。

２．１９　（３Ｈ、ｓ　）　。

２．６１（２Ｈ、ｂｒ、ｔ、Ｊ　ｃ＝７Ｉ（ｚ）。

２、ｇｇ（ＩＨ，ｄａ、、ｒ＝１０および１４Ｈｚ）。

３．５６（ｌＨ，ｄｄ、Ｊ＝４および１４Ｈｚ）。

３．８７および３．９６（２Ｈ，ＡＢ型、Ｊ＝９Ｈｚ　
、Ｌ４．１７（２Ｈ，ｓ）。

４．２０（２Ｈ，ｓ）。

４．４６（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４および１０Ｈｚ）。

６．８７　（２Ｈ、ｃＬ　、　Ｊ＝９Ｈ２）　。

７．１５（２Ｈ，（１，Ｊ＝９Ｈｚ）。

マススヘクト＃　（ｍ／ｅ）　：　６６９　（Ｍ＋）。

実施例４６ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２、５，７，８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベン
ジル］−２，４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−
ブチル 実施例４１に準じて、５−（４−（６−ヒドロキシ−２
．　５，　７．　８−テトラメチル−４−オキソクロマ
ン−２−イルメトキシ）ベンジル〕チアゾリジンー２，
４−ジオン１２、無水炭酸カリウム０，４５グ、ブロモ
酢酸ｔ−ブチル０，９２、アセトン８　ｍｌから製造さ
れた目的化合物は、次の物性を有する。

軟化点：１７０〜１８０℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）；１、４６
（９Ｈ，ｓ）。

１、５０（３Ｈ，ｓ）。

２、１０（３Ｈ，ｓ）。

２、２２（３．Ｈ，ｓ）。

２、５〜２．８　（　Ｉ　Ｈ　、　ｎｄ　）。

２、５４（３Ｈ，ｓ）。

３、ｏ３（１Ｈ，ａａ，Ｊ＝１ｏおよび１４Ｈｚ）。

３、０４（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１６ａｚ）。

３、５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４および１４Ｈｚ）ｊ４、
ｉ６（２Ｈ，ｓ）。

４、２２（２Ｈ，ｓ）。

４、８２（１Ｈ，ａａ，Ｊ＝４および１０Ｈｚ）。

６、９６（２Ｈ，＋ｉ，Ｊー９Ｈｚ）。

７、２５（２）ｊ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

実施例４７ ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−２
．５，７，８−テトラメチル−４−オキソクロマン−２
−イルメトキシ）ベンジル〕−２、４−ジオキソチアゾ
リジン−３，５−二酢酸ジーｔ−ブチル 実施例４４に準じて、５−〔４−（６−ヒドロキシ−２
．５，７．８−テトラメチル−４−オキソクロマン−２
−イルメトキシ）ベンジル）−４アゾリジン−２，４−
ジオン１．　５　ｆＦ　、無水炭酸カリウム１．３１、
ブロモ酢酸ｔ−ブチル５４グ、アセトン１０ｍｌから目
的化合物を得た。

Ｒｆ値：０．５７（展開溶剤ニジクロヘキサン：酢酸エ
チル＝７：３） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ　、ＣＤＣｌ３）：１４２
（９Ｈ，ｓ）。

１、４６（９Ｈ，ｓ）。

１４Ｂ（３Ｈ，ｓ）。

１、５２（９Ｈ，ｓ）。

２、１０（３Ｈ，ｓ）。

２、２６（３Ｈ，ｓ）。

２、５！ｌ＋−３．２０（４Ｈ　、ｎｄ）。

２、５６（３Ｈ，ｓ）。

３、２３（２Ｈ，Ｓ）。

３９７および４．０８（２Ｈ，ＡＢ型，Ｊ＝１０Ｈｚ）
。

４、１２（２Ｈ，ｓ）。

４、１６（２Ｈ，ｓ）。

６、８２（２Ｈ，ａ，Ｊ−９Ｈｚ）。

７．１５（２Ｈ，（１，Ｊ＝９Ｈ２）。

マススペクトル（ｍ／ｅ　）　：　７９　ｙ　（Ｍ＋）
。

実施例４８ ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−２
、５，７。８−テトラメチル−４−オキソクロマン−２
−イルメトキシ）ベンジル〕−２、４−ジオキソチアゾ
リジン−３−酢酸ｔ−ブチル 実施例４７で得た５−［４−（６−ｔ−ブトキシカルボ
ニルメトキシ−２．　５，　７．　８−テトラメチル−
４−オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−
２．　４−ジオキソチアゾリジン−３。

５−二酢酸ジーｔーブチルの次に溶出する部分より目的
化合物を得た。

Ｒｆ値：０．４６（展開溶剤；シクロヘキサン：酢酸エ
チル−７＝３） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ　、ＣＤＣｌ３）：１、　
４　７　（　９　Ｈ　、ｓ　）　。

１５０（３Ｈ，ｓ）。

１、５　３　（９Ｈ　、ｓ　）　。

２、１０（３Ｈ，ｓ）。

２、２６（３Ｈ，ｓ）。

２、５６（３Ｈ，ｓ）。

２、６〜３．２（３Ｈ　、ｎｄ）。

３、５７（ｉＩ（、ｄｄ．、Ｊ＝４およびｉ４Ｈｚ）。

３９８および４．１　１　（２Ｈ　、　ＡＢ型，Ｊ＝１
　０Ｈｚ）。

４、１　７　（２Ｈ　、ｓ　）　ｓ ４、２０（２Ｈ，ｓ）。

４、４７（Ｈ，ａａ，、ｙ＝４および１０Ｈｚ）。

６、８６（２Ｈ，ａ，Ｊ−９Ｈｚ）。

７、１　６（２Ｈ　、ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

マススペクトル（ｍ／　ｅ　）　：　６　８　３　（Ｍ
＋）。

実施例４９ ３−エチル−５−［４−（６−ヒドロキシ−２、５。７
。８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）ベン
ジル〕チアゾリジン−２，４−ジオン 実施例４１に準じて、５−［４−（６−ヒドロキシ−２
．　５，　７．　８−テトラメチルクロマン−２−イル
メトキシ）ベンジル〕チアゾリジン−２。

４−ジオン０．　５　８　Ｓ’、無水炭酸カリウム０２
７グ、ヨウ化エチル０．６ｆ、アセトン５ｍｌから目的
化合物を得た。

Ｒｆ値：０．３０（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル−
２０　：１　） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、０９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ−７Ｈｚ）。

１、４０（３Ｈ，ｓ）。

１、７〜２．２（２Ｈ，ｎ’＋：１）　。

２、０９（６Ｈ，ｓ）。

２、１　４　（３Ｈ　、ｓ　）　。

２、６２（２Ｈ，ｂｒ．ｔｊＪ＝７Ｈｚ）。

３、ｏ２（１ｎ，ａａ，Ｊ＝ｇおよび１４Ｈｚ）。

３、２　５〜３．５　（　Ｉ　Ｈ　、　ｎａ）　ｊ３、
５９（２Ｈ，ｑ，Ｊ−７Ｈｚ）。

３、８３および３．９６（２Ｈ，ＡＢ型，Ｊ＝１　０Ｈ
ｚ）。

４、２３（ＩＨ，ｓ，重水添加で消失）。

４、３６（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝４および９Ｈｚ）。

６、８４（２Ｈ，ｄ，、ｒ−９Ｈｚ）。

７、１　１　（２Ｈ　、（１，Ｊ−９Ｈｚ）。

実施例５ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−ヒドロキシイミノ−
２，５。７、８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）ベンジル〕−２、４一ジオキソチアゾリジン−３
−酢酸ｔ−ブチル ５−（４−（６−ヒドロキシ−２．　５，　７．　８−
テトラメチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ
）ベンジル）　−　２．　４−ジオキソチアゾリジン−
３−酢酸ｔーブチルｏ．ｓｒ１塩酸ヒドロキシルアミン
０．２５ｆ１ピリジン０．　２　５　ｒおよびメタノー
ル５ＴＬｌの混合物を２５〜３０℃で２日間放置した。

反応混Ｒ酢酸エチルおよび炭酸カリウム水溶液を加え、
有機層を分液した。

有機層を無水硫酸す）　ＩＪウムで乾燥した。溶媒を留
去し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離
液；ベンゼン：酢酸エチル＝９＝１）に付し目的化合物
を得た。

Ｒｆ値：Ｏ．ＳＳ（展開溶剤：ベンゼン：酢酸エチルク
４：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）：１．４２
（３Ｈ，ｓ）。

１．４５（９Ｈ，ｓ）。

２．０７（３Ｈ，ｓ）。

２．１７（３Ｈ，ｓ）。

２．４６（３Ｈ，ｓ）。

３、ｏ３（１ａ、ａａ、Ｊ＝１ｏおよび１３．５Ｈｚ）
。

３．０７（２Ｈ，ｓ）。

３．５５（１ａ、ｄｄ、、ｙ＝４および？３．５Ｈｚ）
。

４．０６（２Ｈ，５）ｊ ４．１８　（２Ｈ、ｓ　）　。

４．８３（ＩＨ，ａｃｔ、Ｊ＝４および１ＱＨｚ）。

６．９４（２Ｈ，（１，Ｊ＝９Ｈｚ）。

７．２５（２Ｈ，ａ、Ｊ−９Ｈｚ）。

１０．２（ＩＨ，ｂｒ　、ｓ　、重水添加により消失）
。

実施例５１ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−４−ヒドロキシイミノ−
２，５、７．８−テトラメチルクロマン−６−イルオキ
シ酢酸２−メトキシエチル２−〔４−（２、４−ジオキ
ソチアゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル］
　−２，５，７゜８−テトラメチル−４−オキソクロマ
ン−６イルオキシ酢酸２−メトキシエチル０．６り、塩
酸ヒドロキシルアミン０．３１ｉ’、ピリジン０３グ、
メタノール６ｍｌの混合物を２５〜３０℃で２日間放置
した。反応混合物に酢酸エチルおよび炭酸カリウム水溶
液を加え、有機１層を分液した。

有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：
ベンゼン：酢酸ニーｆ−ル＝７：３）に付し、目的化合
物を得だ。

Ｒｆ値：０．３２（テーリング）〔展開溶剤：ベンゼン
：酢酸エチルク３：２〕 Ｎ　Ｍ　Ｒスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）１．４
３　（３Ｈ、ｓ　）　。

２．０６（３Ｈ，ｓ）。

２．２０（３Ｈ，ｓ）。

２．４６（３Ｈ，ｓ）。

２．８〜３．５５（２Ｈ，ｎｄ）。

３．１０（２ｎ、ＡＢ型ｚ　Ｊ＝１３．５　Ｈｚ　）　
。

３．３２（３Ｈ，ｓ）。

３．５５〜３．７　（２Ｈ、ｍ　）　。

４．０８　（２’Ｈ、ＡＢ型、Ｊ＝６Ｈｚ）ｈ４．２５
〜４．４　（２Ｈ、ｍ　）　。

４．３４（２Ｈ，ｓ）。

ｔ７６（ＩＨ，ａａ、Ｊ＝４および９Ｈｚ　）。

６．９３（２Ｈ，（１，Ｊ＝９Ｈｚ）。

７．２４　（２Ｈ、ｄ、Ｊ−９Ｈｚ　）。

１０．０〜１０．６（１Ｈ、ｂｒ、、重水添加で消失）
。

実施例５２ ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシー４
−ヒドロキシイミノ−２．５、７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２．４−ジオ
キソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル ５−（４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−２
．　５，　７．　８−テトラメチル−４−オキソクロマ
ン−２−イルメトキシ）ベンジル］　−　２。

４−ジオキソチアゾリジン−３−酢Ｈｔ．ーブチル０５
ｔ１塩酸ヒドロキシルアミン０２グ、ピリジン０．２ｆ
およびメタノール５　ｒｎｌの混合物を２５〜３０℃で
５日間放置した。反応混合物に酢酸エチルおよび炭酸カ
リウム水溶液を加え、有機層を分液した。有機層を無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ベンゼン酢酸
エチル−２０：１）ｉｐ付し目的化合物を得た。

Ｒｆ値：０．４３（展開溶剤：ベンゼン：酢酸エラルー
１０：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、４５
（３Ｈ，Ｓ）。

１、４７（９Ｈ，ε）。

１、５４（９Ｈ，ｓ）。

２、０７（３Ｈ，ｓ）。

２、２３（３Ｈ，ｓ）。

２、４７（３Ｈ．ｓ）。

２、８５〜３．１５（ＩＨｊｎｄ）。

３、０８（２Ｈ，ｓ）。

３、５７（ＩＨ，ｄｄｊＪ＝４Ｈｚおよび１３．５Ｈｚ
）。

３．９７（２Ｈ，ｓ）。

４．２０（４Ｈ，ｓ）。

４．４６　（ＩＨ、ａａ　、Ｊ＝４および９Ｈｚ　）　
ｊ６．８７　（２Ｈ、ｄ、Ｊ−９Ｈｚ）。

７．１５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

７．５〜８．０５　（Ｉ　Ｈ、ｂｒ　）。

実施例５３ ５−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−４
−ヒドロキシルミノ−２，５、７．８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２．４−ジオ
キソチアゾリジン−３，５−二酢酸ジ−ｔ−ブチル ブチル ５−１：４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−
２，５，７，８−テトラメチル−４−オキソクロマン−
２−イルメトキシ）ヘンシル）　−２゜４−ジオキソチ
アゾリジン−３，５−二酢酸ジーｔ−ブチル３５０ｍｇ
、塩酸ヒドロキシルアミン１２２ｍ９、ピリジン１２２
ｍ９およびメタノール４　ｍｌの混合物を２５〜３０℃
で５日間放置した。

反応混合物に酢酸エチルおよび炭酸カリウム水溶液を加
え、有機層を分液した。有機層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：
１）に付し目的化合物を得た。

Ｒｆ値：０．４８（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝
１０：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）１．４５（
２１Ｈ，ｓ）。

ｉ、　ｓ　ｓ　（９Ｈｓ　Ｓ）　ｊ ２．０８（３Ｈ，ｓ）。

２．２３（３Ｈ，ｓ）。

２．４７（３Ｈ，５）ｊ ２．９〜３．２　（２Ｈ、ｎｄ　）。

３．０７（２Ｈ，ｂｒ、ｓ、）。

３．２２（２Ｈ，ｓ）。

３．９５（２Ｈ，ｂｒ、ｓ、）。

４．１１　（２Ｈ、ｓ　）　。

４．１８（２Ｈ，ｓ）。

６．８３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

７．１３　（２Ｈ、ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ　）　。

７．６８（ＩＨ，ｂｒ、ｓ）。

実施例５４ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル〕−４−ヒドロキシイミノ−
２、５．７，８−テトラメチルクロマン−６−イルオキ
シ酢酸エチル 実施例５１に準じて２−（４−（２，４−ジオキソチア
ゾリジン−５−イルメチル）フェノキシメチル）　−２
，５，γ、８−テトラメチルー４−オキソクロマン−６
−イルオキシ酢酸エチル３３０ｍ９、塩酸ヒドロキシル
アミン１７０ｍ９、ピリジン１７０ｍ９、メタノール３
　ｍｌから淡黄色粉末状の目的化合物を得た。

Ｒｆ値：０．６７（展開溶剤；ベンゼンニ酢酸エチルク
１：１） マススペクトル（ｍｌｅ　）　：　ｓ　５６　（Ｍ＋）
実施例５５ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フエノキシメチル〕−２，５，７８−テトラメ
チルクロマン−６−イルオキシ酢酸 ２−［４−（２，４−ジオキソチアゾリジン５−イルメ
チル）フェノキシメチル’：ｌ−２．　５，　７。

８−テトラメチルクロマン−６−イルオキシ酢酸２−メ
トキシエチル２２０ｍｇ、４Ｎ塩化水素ジオキサン溶液
３　ｍｌおよび水０．　３　ｍｌの混合物を５時間加熱
還流した。反応終了後溶媒を留去し、得られた残渣を水
で洗浄して淡黄色粉末状の目的物を得た。

ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）：１、３８
（３Ｈ，ｓ）。

１、８〜２．２　（　２Ｈ　、　ｎｄ　）　。

２、０２（３Ｈ，ｓ）。

２、１　５　（６Ｈ　、　ｓ　）。

２、６５（２Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。

３、０８（ＩＨ，ｄａ，Ｊ＝９および１４Ｈｚ）。

３、４１　（ＩＨ，ｄａ，Ｊ＝４および１４Ｈｚ）。

４、００（２Ｈ，ｓ）。

４．２７（２Ｈ，ｓ）。

４．７３（ＩＨ，ａｄ、、ｒ＝４および９Ｈｚ）。

６．９２（２Ｈ，ｄ、、Ｊ−９Ｈｚ）。

７゜２３　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

９．９〜１１．３（ｉＨ，ｂｒ、、重水添加により消失
）。

マススペクトル（ｍ／ｅ　）　：　４　ｓ　ｓ　（Ｍ＋
）。

実施例５６ ２−〔４−（２、４−ジオキソチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチル］−２，５、７、８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−６−イルオキシ酢酸 実施例３２で得た２−メトキシエチルエステルの次に、
溶離液（酢酸エチル：テトラヒドロフラン：メチルアル
コール−２：２：１）で溶出される部分から、淡黄色粉
末状の標記化合物を得た。

ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＤＭＳＯ−４６）：１．
４１　（３Ｈ、ｓ　）　。

２．０２（３Ｈ，ｓ）。

２１８　（，３Ｈ，Ｂ）。

２．４６　（３Ｈ，ｓ）。

２．６８（ＩＨ，（１，Ｊ＝＋６Ｈ２）。

２．８５〜３．２（２Ｈ，ｎｄ）。

３．２２　（ＩＨ，ｄａ、Ｊ＝４および１４Ｈｚ）４．
０１　　（２Ｈ，Ｂ）。

４．１２（２Ｈ，Ｓ）。

４゜６１　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４および９Ｈｚ）＋６．
８７（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

７、１５　（２Ｈ、ａ　、Ｊ＝９Ｈｚ八マススへクトル
（ｍ／θ）：５１３（Ｍ＋）。

実施例５７ ２−〔４−（２，４−ジオキソチアゾリジン−５一イル
メチル）フエノキシメチル〕−４−ヒドロキシイミノ−
２、５、７、８−テトラメチルクロマン−６−イルオキ
シ酢酸 ２−（４−（２，４−ジオキンチアゾリジン−５−イル
メチル）フェノキシメチルクー４−ヒドロキシイミノ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン−６−イルオキ
シ酢酸エチル８９ｍハエタノール１ゴおよび０．３１２
Ｍ水酸化ナトリウム水溶液０．２ｍｌの混合物を０−５
℃で１９時間放置した。ＨＰＬＣにより原料の消失を確
認した後反応混合物に０３５チ、塩酸０５６１πｌを加
え。

減圧上溶媒を留去した。残渣にクロロホルムと水を加え
て析出した淡黄色粉末を戸数し、さらに水洗して目的物
を得た。

マススペクトル（ｍ／ｅ　、クリセロールをマトリック
スに用いるファースト・アトム・ボンバードメント法（
ＦＩＡＢ法）で測定）：［：Ｍ＋Ｈ：］＋＝５２９ （Ｍ−Ｈ〕−＝５２７ より分子量ＭＷ＝５２８゜ 実施例５８ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５．７、８−テトラ
メチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル〕−２，
４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸 ５−（４−（６−ヒドロキシ−２，５，乙８−テトラメ
チルクロマンー２−イルメトキシ）ベンジル）　−２，
４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル１．ロ
クと４Ｎ塩化水素ジオキサン溶液１０ゴの混合物を室温
で１夜放置した。反応終了後、溶媒を留去し得られた残
渣を水で洗浄し、淡黄色粉末状の目的物を得た。

軟化点二８５〜９０℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するシグナルが
消失した。

マススペクトル（ｍ／　ｅ　）　：　４９９　（Ｍ＋）
。

実施例５９ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−２，５，７，８−テトラ
メチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベン
ジル）−２，４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸 実施例５８に準じて、５−（４−（６−ヒドロキシ−２
，５，７，８−テトラメチル−４−オキソクロマン−２
−イルメトキシ）ベンジル］　−２゜４−ジオキソチア
ゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル３５０１１９と４Ｎ塩化
水素ジオキサン溶液４　ｍｌから淡黄色粉末状の目的物
を得た。

軟化点二６０〜７０℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するシグナルが
消失した。

マススペクトルＣｍ／ｅ　）　：　５１３　（Ｍ＋）。

実施例６０ ５−〔４−（６−ヒドロキシ−４−ヒドロキシイミノ−
２、５、７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメト
キシ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３
−酢酸 実施例５８に準じて、５−［４−（６−ヒドロキシ−４
−ヒドロキシイミノ−２，５，７，８−テトラメチルク
ロマン−２−イルメトキシ）ベンジル）　−２，４−ジ
オキソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル４００　ｍ９
と４Ｎ塩化水素ジオキサン溶液５　ｍｌから、淡褐色粉
末状の目的物を得た。

軟化点＝９０〜９５℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するシグナルが
消失した。

実施例６１ ５−〔４−（６−カルボキシメトキシ−２，５，７，８
−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル
〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸 ５−（４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−２
，５，乙８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ
）ベンジル］　−２，４−ジオキソチアゾリジン−３−
酢酸−ｔ−ブチル０．６３　ｆと４Ｎ塩化水素ジオキサ
ン溶液６ｍｌの混合物を室温で１夜放置した。反応終了
後、実施例５８に準じて処理し、淡黄色粉末状の目的物
を得た。

軟化点：９５〜１００℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するシグナルが
消失した。

マススベクトル（ｍ／ｅ）：５５７（Ｍ＋）。

実施例６２ ５−〔４−（６−カルボキシメトキシ−２，５、７，８
−テトラメチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキ
シ）ベンジル〕−２，４−ジオキソチアゾリジン−３−
酢酸 実施例５８に準じて、５−（４−（６−ｔ−ブトキシカ
ルボニルメトキシ−２，５，７，８−テトラメチル−４
−オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル）　−
２，４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸ｔ−ブチル５
７０■と４Ｎ塩化水素ジオキサン溶液６ｍＡ’から淡黄
色粉末状の目的物を得た。

軟化点＝８０〜８５℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するシグナルが
消失した。

マススペクトル（ｍ／ｅ　）　：　５７１　（Ｍ＋）。

実施例６３ ５−〔４−（６−カルポキシメトキシー４−ヒドロキシ
イミノ−２，５、７゜８一テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕−２、４−ジオキソチアゾリ
ジン−３−酢酸 実施例５８に準じて、５−Ｃ４−（６−を−ブトキシカ
ルボニルメトキシ−４−ヒドロキシイミノ−２，５，７
，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）ベン
ジル］　−２，４−ジオキソチアゾリジン−３−酢酸ｔ
−ブチル３７０ｍ９と４Ｎ塩化水素ジオキサン溶液４　
ｍｌから、淡黄色粉末状の目的物を得た。

軟化点＝９０〜１００℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するシグナルが
消失した。

実施例６４ ５−〔４−（６−カルボキシメトキシ−２、５、７、８
−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル
〕−２、４−ジオキソチアゾリジン−３，５−二酢酸 ５−（４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−２
，５，７，８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキ
シ）ベンジル）　−２，４−ジオキソチアゾリジン−３
，５−二酢酸ジーｔブチル０，４１グと４Ｎ塩化水素ジ
オキサン溶液４　、ｍｌの混合物を室温で１夜放置した
。反応終了後、実施例５８に準じて処理し、淡黄色粉末
状の目的物を得た。

軟化点：１０５〜１１０℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するシグナルが
消失した。

マススペクトル（ｍ／ｅ）：６１５　（Ｍ＋）。

実施例６５ ５−〔４−（６−カルボキシメトキシ−２、５、７，８
−テトラメチル−４−オキソクロマンイル−２−イルメ
トキシ）ベンジル〕−２、４−ジオキソチアゾリジン−
３，５−二酢酸 実施例５８に準じて、５−［４−（６−ｔ−ブトキシカ
ルボニルメトキシ−２．５，７．８−テトラメチル−４
−オキソクロマン−２−イルメトキシ）ベンジル］　−
　２．　４−ジオキソチアゾリジン−３，５−二酢酸ジ
ーｔーブチル３　４　０　ｍ９と４Ｎ塩化水素ジオキサ
ン溶液４　ｍｌから淡黄色粉末状の目的物を得た。

軟化点＝１０５〜１１０℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するシグナルが
消失した。

マススペクトル（ｍ／ｅ　）　：　６２　９　（Ｍ＋）
。

実施例６６ ５−〔４−（６−カルポキシメトキシー４−ヒドロキシ
イミノ−２、５、７、８−テトラメチルクロマン−２−
イルメトキシ）ベンジル〕−２、４−ジオキソチアゾリ
ジン−３、５−二酢酸実施例５８に準じて、５［４−（
６−を−ブトキシカルボニルメトキシ−４−ヒドロキシ
イミノ−２，５，乙８ーテトラメチルクロマンー２イル
メトキシ）ベンジル）　−　２．　４−ジオキソチアゾ
リジン−３，５−二酢酸ジーｔーブチル２　７　０　ｍ
９と４Ｎ塩化水素ジオキサン溶液３ｍｌ！から、淡黄色
粉末状の目的物を得た。

軟化点＝９０〜１００℃ ＮＭＲスペクトル：ｔ−ブチル基に由来するシグナルが
消失した。

参考例１（Ｃ−４） エチル６−ヒドロキシ−５，７。８−トリメチシクロマ
ン−２−カルボキシレート エチル　６−ヒドロキシ−５．　７．　８−トリメチル
クロモン−２−カルボキシレート１４ｇを酢酸３２０ｍ
ｌにとかし、１０％ノくラジウム炭素３．５．９の存在
下、水素圧３気圧、６０〜６５℃で１時間接触還元した
。該触媒を炉別し、涙液を水中にあけ析出した白色結晶
を炉取した。この目的物の融点は１０８〜１０９℃であ
った。

ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）１、２８（
３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）　。

２、０７（３１−Ｉ，Ｓ）１ ２、１７　（６Ｈ，　Ｓ）　。

１、９−２．３（２Ｈ，ｎｄ）　。

２、６５（２Ｈ，ｂｒ．ｔ，Ｊ−７Ｈｚ）。

４、２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）　。

４、１−４．３（ＩＨ，ｎｄ）　。

４、６０（ＩＨ，ｄｄ，Ｊニアおよび４０２）。

参考例２（Ｃ−５） エチル６−メドキシメトキシー５，７，８−トリメチル
クロマン−２−カルボキシレートエチル６−ヒドロキシ
−５，７，８−トリメチルクロマン−２−カルホキシレ
ート１４．３ｇ、ジメチルホルムアミド１　３　０　ｍ
ｌの混合物に、窒素気流下，ｓ−ｉｏ℃で５５％油性水
素化ナトリウム３ｇ（シクロヘキサンで２回洗う）を少
しずつ加える。室温で１時間かきまぜたのち、３〜５℃
に氷冷し、クロロメチルメチルエーテル５．６ｇを滴下
する。滴下終了後室温で１時間かきまぜる。

反応混合物り氷水に注ぎ、シクロヘキサンで抽出する。

抽出液を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル−２５：１
）に付し、目的化合物を得た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのａｆ値：０．４１
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル−２０：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）１．２７（
３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

２．０−２．４　（２Ｈ、ｎｄ　）　。

２．１５（３Ｈ，Ｓ）。

２．１６　（３Ｈ，Ｓ　）　。

２．２０（３Ｈ，Ｓ）。

２．６４　（２Ｈ，ｂｒ、　ｔ　　、　　Ｊ＝＝７Ｈｚ
）　。

３．６１　（３Ｈ，Ｓ）　。

４．２４（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７ＦＩｚ）。

４．６４（ＩＨ，ｄｄ）、Ｊ＝および７Ｈｚ）。

４．８７（２Ｈ，Ｓ）。

参考例３（Ｃ−６） エチル６−メトキシメトキシー５、７、８−トリメチル
−２−オクチルクロマン−２−カルボキシレート ジイソプロビルアミン２ｇとテトラヒドロ７ラン８ｏ　
ｒｎｌの混合物に、窒素気流下、−６０〜−５０℃で、
ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（ｎブチルリチウム
１．６２　ｍ　ｍｏＱ／ｍｌ）　７　、８ｍｌを滴下し
、室温で１０分間放置した。次いで一６０℃でエチル５
−メトキシメトキシ−５，７，８−）ジメチルクロマン
−２−カルボキシレート４ｇをテトラヒドロフラン約１
０ｍ１にとかして加え１時間攪拌した。次いで臭化オク
チル５ｇをテトラヒドロフラン約２０ｍ１にとかして加
え一６０℃で１時間室温で１時間攪拌し、さらに５０℃
で１時間加熱した。反応混合物を氷水に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を水で洗い、無水硫酸す）　ＩＪ
ウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ベンゼン）に
付し、目的化合物を得た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０５８（展
開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：ＮＭＲスペクト
ル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．８９（３Ｈ，ｂｒ、
ｔ　、　Ｊ＝６Ｈｚ）　。

１．１５（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝＝７Ｈｚ）　。

１．２−１．６（１２Ｈ，ｍ）　。

１．６−２．４　（４Ｈ，ｍ）　。

２．１（３Ｈ，Ｓ）。

２．１８　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．２（３Ｈ，Ｓ）。

２．４−２．７　（２Ｈ、ｒｎ） ３．５９（３Ｈ，Ｓ）。

４．１１　（２Ｈ，ｑ　、Ｊ＝７Ｈｚ）。

４．８５（２Ｈ，Ｓ）。

参考例４（Ａ−１“） ６−メトキシメトキシー５．７、８−トリメチル−２−
オクチルクロマン−２−イルメタノールリチウムアルミ
ナムハイドライド０．４５９．テトラヒドロフラン３０
ｍ１の混合物に、窒素気流下、エチル　６−メドキシメ
トキシー５．７．８−　）リフチル−２−オクチルクロ
マン−２−カルボキシレート３．３ｇを、テトラヒドロ
フラン１０ｍ１に溶かし水冷下で滴下した後、室温で３
時間かきまぜた。反応混合物に水冷下酢酸エチルおよび
５％塩酸を加え、有機層を分離し、水層をさらに酢酸エ
チルで抽出した。両袖出液を合わせて飽和食塩水で洗い
、無水硫酸す）　ＩＪウムで乾燥した。溶媒を減圧下に
留去し、シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤
；ベンゼン：酢酸エチル＝１０：１）におけるＲｆ値＝
０．４５の目的化合物を得た。

ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．７−
１．０　（３Ｈ，ｍ）　。

１．０−２．３　（１６Ｈ、ｍ）　。

２．１０（３Ｈ，Ｓ）。

２．１５（３Ｈ，Ｓ）。

２．２０（３Ｈ，Ｓ）。

２．５９　（２Ｈ，ｂｒ、ｔ　。ＪニアＨｚ）。

３．６（５Ｈ，Ｓ）。

４．８７（２Ｈ，Ｓ）。

参考例５（Ａ−２） ６−メトキシメトキシ−５、７、８−トリメチル−２−
（４−ニトロフェノキシメチル）−２−オクチルクロマ
ン ６−メドキシメトキシー５．７．８−　）リフチル２−
オクチルクロマン−２−イルメタノール３ｇ、　　ジメ
チルホルムアミド２５ｍ１！の混合物に、窒素気流下、
室温で５５％油性水素化ナトリウム０．３８９を加え、
次いで５０°Ｃで２時間加゛熱した。

水冷下でｐ−クロロニトロベンゼン１．４ｇトベンゼン
２　ｍｌの混合物を滴下後、５０°Ｃで２時間加熱した
。反応混合物を氷水にあけ、ベンゼンで抽出し、抽出液
を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減
圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶離液：ベンゼン）に付し、目的化合物を得た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０．４６　
（展開溶剤；ベンゼン） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）；ｏ、ｊ−
ｔｏ（３Ｈ，ｍ）　。

１、０−１．９（１４Ｈ，ｍ）　。

１．９−２．３　（２Ｈ、ｎｄ　）　。

２．０６（３Ｈ，Ｓ）。

２．１５（３Ｈ，Ｓ）。

２．１９　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．６（２Ｈ，ｂｒ、ｔ　、　Ｊ＝７Ｆｌｚ）　。

３．６０（３Ｈ，Ｓ）。

４．０５　（２Ｈ，Ｓ）　。

４．８７（２Ｈ，Ｓ） ６．９７（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

８．１８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

参考例６（Ａ−３−脱保護工程） ６−ヒドロキシ−５、７、８−トリメチル−２−（４−
ニトロフェノキシメチル）−２−オクチルクロマン ６−メドキシメトキシー５，７．８−トリメチル２−（
４−ニトロフェノキシメチル）−２オクチルクロマン３
．７ｇ、酢酸１０ｍｌ、ベンゼン３０ｍｌ，および１０
％硫酸０．７５ｍｌの混合物を３０分加熱還流した。

反応混合物を水にあけベンゼンで抽出し、抽出液を水で
洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。

溶媒を減圧下に留去し、シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー（展開溶剤；ベンゼン）におけるＲｆ値＝０．３４
の目的化合物を得た。

ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０、７−
１．０　（　３Ｈ　、ｍ）　。

１、０−１．８５（１４Ｈ，ｍ）　。

１、８５−２．２　（　２Ｈ　、　ｎｄ　）　。

２、１０（６Ｈ，Ｓ）。

２、１６（３Ｈ，Ｓ）。

２、６３（２Ｈ，ｂｒ．ｔ　　、　　Ｊ＝７Ｈｚ）　。

４、０６（２Ｈ，Ｓ）。

４、１９（ＩＨ，ｓ，重水添加で消失）。

６、９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）　。

８、１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

参考例７（Ａ−３−アシル化） ６−アセトキシ−５，７．８−トリメチル−２−（４−
ニトロフェノキシメチル）−２−オクチルクロマン ６−ヒドロキシ−５．７．８−）リメチル−２＝（４−
ニトロフェノキシメチル）−２−オクチルクロマン３．
５ｇ，ヒリジン１０ｍｌ，ベンゼン１０ｍｌの混合物に
、無水酢酸１．２ｇを加えて、室温で２時間かきまぜた
。反応混合物を水にあけ、ベンゼンで抽出し、抽出液を
５％塩酸、ついで水で洗い、無水硫酸す）　ＩＪウムで
乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー（展開溶剤：ベンゼン）におけるＲｆ値
＝０４の目的化合物を得た。

ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０、７５
−１．０　（３Ｈ，ｍ）　。

１、１−１．６５（１２Ｈ，ｍ）。

１、６５−２．１　５　（　４Ｈ　、　ｎｄ　）　。

１、９９（３Ｈ，Ｓ）。

２、０４（３ＨＩ８）１ ２、０８（３Ｈ，Ｓ）。

２、３２（３Ｈ，Ｓ）。

２、６３　（　２Ｈ　、　ｂｒ．　ｔ　、　Ｊ　＝　７
Ｈｚ）　。

４、０７（２Ｈ，Ｓ）。

６、９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ　＝９Ｈｚ）　。

８、２０　（２Ｈ，　ｄ　、　Ｊ＝９１ＴＺ）。

参考例８（Ａ−３−Ｈ２） ６ーアセトキシー２−（４−アミノフェノキシメチル）
−５．７．８−トジメチル−２−オクチルクロマン ６−アセトキシ−５，７．８−トリメチル−２−（４−
ニトロフェノキシメチル）−２−オクチルクロマン４ｇ
，１０％パラジウム炭素０．８ｇｌメタノール３０ｍｌ
，ベンゼン１０ｍｌの混合物を、パールの水添装置を用
い、水素圧３−５気圧で５時間振盪した。該パラジウム
炭素を漣去し、Ｆ液を減圧下で濃縮し、得られた結晶を
ヘキサンで洗浄して目的物を得た。

融点：　１１２−１１４℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．７−
１．０５（３Ｈ，ｍ）　。

１．０５−１．６５　（１２Ｈ、ｍ）　。

１．６５−２．２（４Ｈ，ｎｄ）　。

１．９７　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．１］２（３Ｈ，Ｓ）。

２．１０　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．３１　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．５９（２Ｈ，ｂｒ、ｔ　、　Ｊ＝７Ｈｚ）　。

３．０−３．７（２Ｈ，ｂｒ、ｓ　、重水添加で消失す
る）。

３．８６　（２Ｈ，Ｓ）　。

６．６２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ）　。

６．７５（２Ｈ，ｄ、Ｊ　＝１０Ｈｚ）。

参考例９（Ａ−４） エチル３−〔４−（６−アセトキシ−５，７、８−トリ
メチル−２−オクチルクロマン−２−イルメトキシ）フ
エニル−２−クロロプロピオネート ６−アセトキシ−２−（４−アミノフェノキシメチル）
−５．７．８−トリメチル−２−オクチルクロマン３２
ｇ，アセトン３　５　ｍｌの混合物に、窒素気流下、５
〜１０℃で濃塩酸３．ｓｒｎｌ，ついで、亜硝酸ソーダ
０６１ｇを水１．７　ｍｌにとかし滴下、さらにアクリ
ル酸エチル７、２　ｍｌを滴下した。内温な４０４３℃
とし、酸化第一銅０．１ｇを徐々に加える。

約３０分で窒素の発生が終了する。反応混合物を水にあ
けベンゼンで抽出した。該抽出液を水で洗い、無水硫酸
す）　ＩＪウムで乾燥して、溶媒を減圧下に留去した。

残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；
シクロヘキサン：酢酸エチル−１０：１）に付し、目的
化合物を得た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０２７（展
開溶剤；シクロヘキサン：酢酸エチル９：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：ｏ．８−
ｔ０５（３Ｈ，ｍ）。

１、０５−１．６５（１５Ｈ，ｍ）。

１、６５−２．２　（　４　Ｈ　、　ｎｄ　）　。

１、９７　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、０３（３Ｈ，Ｓ）。

２、０９（３Ｈ，Ｓ）。

２、３０（３Ｈ，Ｓ）。

２、６　（２Ｈ，　ｂｒ．ｔ　、　Ｊ＝７Ｈｚ）　。

３、０７　（Ｉ　Ｈ，　ｄｄ　、　Ｊ．＝７および１４
Ｈｚ）。

３、３０（ＩＨ，ａｄ，Ｊニアおよび１４Ｆｌｚ）。

３、９２（２Ｈ，Ｓ）。

４、１８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝ニアＨｚ）　。

４、３６（ＩＨ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）　。

６、８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７、１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

参考例１０（Ｄ−１） ６−アセトキシ−２−メチル−２−（４−ニトロフェノ
キシメチル）−４−オキソ−７−（１、１、３、３−テ
トラメチルブチル）クロマン５−アセトキシ−２−ヒド
ロキシ−４−（１。

１、３．３−テトラメチルブチル）アセトフェノン２３
、９，１−（４−ニトロンエノキシ）−２−プロパノン
１４γ（９１ピロリジン８Ｉ，ベンゼン３００ｍｌの混
合物を、室温で３時間かきまぜる。その後１０時間加熱
還流した。反応混合物を氷水にあけて、ベンゼンで抽出
し、抽出液を５％塩酸、次いで水で洗った後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去し、残渣に
、無水酢酸１５ｇ，ピリジン４００ｍＡ！を加え室温で
１日放置した。反応混合物を氷水にあけて、ベンゼンで
抽出し、抽出液を５％塩酸、ついで水で洗った後、無水
硫酸す）　ＩＪウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液
；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１）に付し、さらに、
メタノールより再結晶して、目的化合物を得た。

融点：　１６５．５−１６７°Ｃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０、７６
　（９Ｈ，　Ｓ）　。

１．３６（６Ｈ，Ｓ）。

１．５７（３Ｈ，Ｓ）。

１．８３（２Ｈ，Ｓ）。

２．３２　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．７４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ）　。

３．１０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ）　。

４１１および４．２４（２Ｈ，ＡＢ型。９Ｈｚ）。

６．９５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）　。

６．９８（ＩＨ，Ｓ）。

７．５０（ＩＨ，Ｓ）。

８．２０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

参考例１１（Ｄ−２） ６−アセトキシ−２−（４−アミノンエノキシメチル）
−２−メチル−４−オキソ−７−（１、１、３、３−テ
トラメチルブチル）クロマン６−アセトキシ−２−メチ
ル−２−（キーニトロフェノキシメチル）−４−オキソ
−７−（ｉｌ、　３．３−テトラメチルブチル）クロマ
ン１２．３１を、メタノール２００　ｍｌおよびベンゼ
ン２０ｒｎｌの混合物にとかし、１０％パラジウム炭素
２．４１Ｑ在存下、水素圧約１気圧で６時間室温で還元
した。

該パラジウム炭素を炉去し、ろ液を減圧下に３震＾し、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
溶離液；ベンゼン：酢酸エチル４：１）に付し、目的化
合物を得た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０．２９（
ｉ開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル−４＝ＮＭＲスペクト
ル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．７８（９Ｈ，Ｓ）。

１．３７（６Ｈ，Ｓ）。

１．５２（３Ｈ，Ｓ）。

１．８３（２Ｈ，Ｓ）。

２．３０（３Ｈ，Ｓ）。

２．６６　（Ｉ　Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　１７Ｈｚ）　。

３．１０（ＩＩ（、ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ）。

３．４（２Ｈ，ｂｒ、ｓ　、重水添加で消失）。

３．９２オよび４．０６（２Ｈ，ＡＢ型、　Ｊ−９Ｈｚ
　）　＋６．５８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｆｌｚ）　。

６．７６（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７．００（ＩＨ，Ｓ）。

７．５０（ＩＨ，Ｓ）。

参考例１２（Ｄ−３） エチル３−〔４−〔６−アセトキシ−２−メチル−４−
オキソ−７−（１、１、３、３−テトラメチルブチル）
クロマン−２−イルメトキシ）フェニル〕−２−クロロ
プロピオネート参考例９に準じて、６−アセトキシ−２
−（４アミノフエノキシメチル）−２−メチル−４オキ
ンー７−　（１，１，３，３−テトラメチルブチル）ク
ロマン９ｇ、亜硝酸ナトリウム”８９　＋　濃塩酸１０
　ｍｌ　、アクリル酸エチル２０，９　、酸化第一銅０
．３ｇ、アセトン１００ｍ１１オよび水約８１ｎｌから
製造された目的物は次の物性を有する。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０３２（
展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル−２０：ＮＭＲ７，ベ
クトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．７８（９Ｈ，Ｓ
）。

１２３（３ｎ、ｔ、、ｒ　ニアＨｚ）。

１．３８（６Ｈ，Ｓ）。

１．５３（３Ｈ，５）１ １．８５（２Ｈ，Ｓ）。

２．３０（３Ｈ，Ｓ）。

２．６９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ）。

３．０８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−７，５および１５１’ｌｚ
）＋３．１０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ）。

３．３２（ＩＩ−Ｉ、ｄｄ、Ｊ＝７．５および１５Ｈ２
）＋３．９９および４．１２（２Ｈ，ＡＢ型、　Ｊ　＝
　１０．５Ｆｌｚ）４．１８　（２Ｈ，ｑ　、　Ｊ＝７
１’＋ｚ）　。

４．３６（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝７＋ｌｚ）　。

６．８２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

７．０１　（ＩＨ，Ｓ）　＋ ７．１６（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９ＦＩｚ）。

７．５２（１）（、ｓ）。

参考例１３（Ｐ−１） ６−アセトキシ−４−ヒドロキシ−２−メチル−２−（
４−（ニトロフェノキシメチル）−７−（１、１、３、
３−テトラメチルブチル）クロマン６−アセトキシ−２
−メチル−２−（４−ニトロフェノキシメチル）−４−
オキソ−７−（１、１，３，３−テトラメチルブチル）
クロマン１３ｇをメタノール１００ｍ１とベンゼン１ｏ
　ｍｌの混合溶媒に溶かし、水冷下、水素化ホウ素ナト
リウム１ｇを加えて、水冷で３０分かき寸ぜた。反応混
合物を氷水にあけ、１０％塩酸で中和した後、ベンゼン
で抽出し、抽出液を水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル
＝４−１）に付し、目的化合物な得た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０３２（展
開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝４＝ＮＭＲスペクトル
（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．７７（９Ｈ，Ｓ）。

１．３４　（６Ｈ，Ｓ）。

１．５４（３Ｈ，Ｓ）。

１．８０（２Ｈ，Ｓ）。

１．８５−２．２５　（Ｉ　Ｈ、ｎｄ　）　。

２．２９　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．４８（ｉＨ，ｄｄ、Ｊ＝７および１４Ｈｚ）４．０
２　（２Ｈ、Ａ−Ｂ型、　Ｊ　＝＝：　１２１１ｚ　）
　＋４．７−５．０（１Ｈ，ｍ）。

６．８５　（ＩＨ，Ｓ）　。

６．９５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝＝９Ｈｚ）　。

７．０８（ＩＨ，Ｓ）。

８．１８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝＝９Ｈｚ）。

参考例１４（Ｆ−３） ６−ヒドロキシ−２−メチル−２−（４−ニトロフェノ
キシメチル）−７−（１、１、３、３−テトラメチルブ
チル）−２Ｈ−クロメン（１）および、６−アセトキシ
−２−メチル−２−（４−ニトロフェノキシメチル）−
７−（１、１、３、３−テトラメチルブチル）−２Ｈ−
クロメン６−アセトキシ−４−ヒドロキシ−２−メチル
−２−（４−ニトロフェノキシメチル）−７（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）クロマン１０．２ｇ、　
　ｐ　−）ルエンスルホン酸０．４ｇをベンゼン２００
　ｍｌに溶かし窒素気流下、３０分加熱還流した。反応
混合物を氷水にあけ、ベンゼンで抽出し、抽出液を水で
洗い、無水硫酸す）　ＩＪウムで乾燥した。溶媒を減圧
下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶離液；ベンゼン）に付し、シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０
＝１）におけるＲｆ値＝０５３の目的化合物（１）及び
Ｒｆ値０．５０の目的化合物（２）を得た。

（１）のＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ｃｎｃｐ、３）
：Ｏン５（９Ｈ，Ｓ）　。

１．３８　（６Ｈ，Ｓ）　。

ｔｓｓ　（３Ｈ，Ｓ）　。

１．８９　（２Ｈ，Ｓ）　。

４．０９（２Ｈ，Ｓ）　。

４．４３（ＩＨ，Ｓ、重水添加で消失）。

５．６３（ｉＩ（、ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ）　。

６．３２（ＩＨ，Ｓ）　。

６．４１　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ）　。

６．７３（ＩＨ２Ｓ）　１ ６．９６（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝＝９Ｈｚ）。

８．２０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

（２）のＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）；
０．７６（９Ｈ，Ｓ）。

１．３２（６Ｈ，Ｓ）。

１．５８（３Ｈ，Ｓ）。

１．７９（２Ｈ，Ｓ）。

２．２９（３Ｈ，Ｓ）。

４．１（１（２Ｈ，Ｓ）　。

５．６２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１０１１ｚ）。

６、イ３（ＩＨ，ｄ、Ｊ：＝１０Ｈｚ）。

６．６９（ＩＨ，Ｓ）。

６．７９　（ＩＨ，Ｓ）　。

６．９３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）　。

８．１８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

参考例１５（Ｆ−５） ６−アセトキシ−２−（４−アミノフエノキシメチル）
−２−メチル−７−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）クロマン ６−アセトキシ−２−メチル−２−（４−ニトロフェノ
キシメチル）　−７−（Ｌ　１．３．３−テトラメチル
ブチル）−２Ｈ−クロメン９．１，９．１０％パラジウ
ム炭素２ｇ、メタノール１５０ｍｇの混合物を、パール
の水添装置を用い、水素圧、３−５気圧で１０時間振盪
した。該パラジウム炭素を戸去し、Ｆ液を減圧下凛腕し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離
液；ベンゼン：酢酸エチル＝１０：１）に付し、目的化
合物を得た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０．２７（
展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝９＝ＮＭＲスペクト
ル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．７７　（９Ｈ，Ｓ）
　。

１．３４（６Ｈ，Ｓ）。

１．４２　（３Ｈ，Ｓ）　。

１．７−２．２　（２Ｈ、ｎｄ　）　。

１．７８　（２Ｈ，Ｓ）　。

２．２７（３Ｈ，Ｓ）。

２．６５（２Ｈ，ｂｒ、ｑ　、　　Ｊ＝７Ｈｚ）　。

３．３６（２Ｈ，ｂｒ、ｓ　、重水添加で消失）３．８
５（２Ｈ，ＡＢ型Ｊ−９Ｈ２）。

６．５４−６．８８　（６Ｈ，ｍ）。

参考例１６（Ａ−４） エチル３−〔４−〔６−アセトキシ−２−メチル−７−
（１、１、３、３−テトラメチルブチル）クロマン−２
−イルメトキシ〕フェニル〕−２−クロロプロピオネー
ト 参考例９に準じて、６−アセトキシ−２−（４アミノフ
エノキシメチル）−２−メチル−７−（１，１、３、３
−テトラメチルブチル）クロマン７、９ｇ，亜硝酸ナト
リウム１６９，濃塩酸９ｍｌ，アクリル酸エチル１８ｇ
，酸化第一銅２６０ｍｇ，アセトン９　０　ｍｌおよび
水約５　ｍｌから製造された目的物は、次の物性を有す
る。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０５５（展
開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：ＮＭＲスペクト
ル（δｐｐｍ、ＯＤＯρ３）：０、７８（９Ｈ，Ｓ）。

１、２２　（３Ｈ，　ｔ　、　Ｊ＝７Ｈｚ）　。

１、３５（６Ｈ，Ｓ）。

１、４３（３Ｈ，Ｓ）。

１、７−２．３　（　２Ｈ　、　ｎｄ　）　。

１、７９　（２Ｈ，　Ｓ）　。

２、２７（３Ｈ，Ｓ）。

２、７０　（　２Ｈ　、　ｂｒ．　ｔ　、　Ｊ　＝　６
Ｈｚ）　。

３、０７（ＩＨ，ｄｄ，　Ｊ＝７．５および１５ＨｚＬ
３、３２（ＩＨ，ｄｄ，　Ｊ＝＝７．５および１５１’
ｌｚ）。

３、９１　（　２Ｈ　、　ＡＢ型，　Ｊ　＝　９Ｈｚ）
　。

４、１８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７１１ｚ）。

４、３７（ＩＨ，　ｔ，Ｊ＝７１１ｚ）　。

６、７２（ＩＨ，Ｓ）。

６、８５（ＩＨ，Ｓ）。

６、８６　（２Ｈ　、　ｄ　、　Ｊ　＝　９Ｈｚ）　。

７、１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９１’ｌｚ）６参考例１１（
Ｅ−１） エチル６−ヒドロキシ−５、７，８−トリメチル−４−
オキソクロマン−２−カルホキシレート エチル　６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチルクロ
モン−２−カルボキシレート１２９をジメチルホルムア
ミド２５０　ｍｌにとかし、１０％パラジウム炭素１６
Ｉの存在下、水素圧５気圧、５０〜６０℃で７時間接触
還元した。該触媒を沖去し、Ｆ液を大量の水に注ぎ、析
出した結晶を渥取した。得られた結晶を酢酸エチルより
再結晶し、目的化合物を得た。

融点：　１２０−１２１℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、２６
’（　３Ｈ　、　ｔ　、　Ｊ　＝　７Ｈｚ）　。

２、２３（６Ｈ，Ｓ）。

２、５２（３Ｈ，Ｓ）。

２、９８　（２Ｈ，　ｄ　、　Ｊ＝７Ｈｚ）　。

４、２４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）　。

４、８３（ＩＨ，８）。

４、９４　（　ＩＨ，　ｔ　、　Ｊ＝７Ｈｚ）　。

上記目的化合物を戸数したＰ液を酢酸エチルで抽出し、
抽出液を無水硫酸ソーダで乾燥、次いで溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶離液；
ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）に付し、第一のフラク
ションからは目的化合物を、第二のフラクションからは
エチル　４．６−　ジヒドロキシ−５，乙８−）　！Ｊ
　メチルクロマン−２−カルボキシレートを得た。

融点：　１３Ｂ−１４４℃ 参考例１８（Ｅ−２） エチル　スピロ〔−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチ
ルクロマン−４，２′〔１，３］ジチアン〕−２−カル
ボキシレート エチル　６−ヒドロキシ−５，７，８−トリメチル−４
−−オキソクロマン−２−カルホキシレート１６．６ｇ
，１、３−プロパンジチオール９．７９のクロロホルム
５００ｍｌ溶液に水冷下三フッ化ホウ素酢酸錯塩（三フ
ッ化ホウ素：４０％）２ｏｍｌを滴下し、室温下にて２
４時間放置した。反応混合物を氷水中にあけ、炭酸カリ
ウムで中和した後、酢酸エチルにて抽出し、抽出液を無
水硫酸ソーダ上にて乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、
残渣を酢酸エチ′ルより再結晶し目的化合物を得た。

融点：　１８６−１８８°Ｃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）；１、３５
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）　。

１、８−２．４　（　２Ｈ　、　ｎｄ　）　。

２、１８（６Ｈ，Ｓ）。

２、５−２．９　（３　Ｈ　、　ｎｄ　）　。

２、８０　（３Ｈ，　Ｓ）　。

３、０−３．５　（　３　Ｈ　、　ｍ）　。

４、３１　（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）　。

４、５０（ＩＨ，Ｓ）。

４、？ｓ（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ−＝ｚおよび１０Ｈｚ）。

参考例１９（Ｅ−３） エチル　スピロ〔６−メトキシメトキシ−５７，８−ト
リメチルクロマン−４、２′−〔１，３〕ジチアン〕−
２−カルホキシレート エチル　スピロ〔６−ヒドロキシ−５．７．８−トリメ
チルクロマン−４．２’−（１．３）ジチアンシー２−
カルボキシレート６６ｇ，ジメチルホルムアミド１００
＋＋＋ｌ，　５５％水素化ナトリウム１ｇの混合物に室
温下超音波処理を１時間行った後、水冷下にクロロメチ
ルメチルエーテル３．９を加え、室温下に１夜放置した
。反応混合物に水を加え酢酸エチルにて抽出し、水層は
さらにベンゼンにて抽出した。酢酸エチル溶液、ベンゼ
ン溶液とも３回水洗し、両者を合わせて無水硫酸ソーダ
上にて乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカ
ケパルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：
酢酸エチル＝５　：　１　）に付し、目的化合物を得た
。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０．２１（
展開溶剤；ヘキサン：酢酸エチル−５＝ＮＭＲスペクト
ル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、３４　（３Ｈ，　ｔ
　、　Ｊ＝７Ｈｚ）　。

１、７−２．４　（２Ｈ，　ｎｄ）　。

２、１６　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、２１　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、５−３．０　（３Ｈ，　ｎｄ）　。

２、８７　（３Ｈ，　８）　。

３、０−３．５　（　３Ｈ　、　ｎｄ　）　。

３、６０（３Ｈ，Ｓ）。

４、３０　（　２Ｈ　、　ｑ　、　Ｊ　＝　７Ｈｚ）４
、７−ｓ．ｏ　（　Ｉ　Ｈ　、　ｎｄ　）　。

４、８９（２Ｈ，Ｓ）。

参考例２０（Ｅ−４） エチル　スピロ〔２−（３、７−ジメチルオクチル）−
６−メトキシメトキシ−５，７，８−トリメチルクロマ
ン−４，２′−〔１、３〕ジチアン］−２−カルホキシ
レート 窒素雰囲気下、ジインプロピルアミン２．９ｇのテトラ
ヒドロフラン３０ｍｌ溶液中に、−６０℃〜−５０℃で
、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（ｎブチルリチウ
ム１．６２　ｍ　ｍａｎ／ｒｎｌ　）　１７．７　ｍｌ
を滴下し、室温で１０分間放置した。次いで一６０’Ｃ
でエチル　スピロ〔６−メドキシメトキシー５．　７．
　８−トリメチルクロマン−４．２’−（：１．３）ジ
チアンシー２−カルボキシレート６、９をテトラヒドロ
フラン１　０　ｍｌに溶かして滴下した。１時間攪拌シ
た後３，７−シメチルオクチルブロマイド６４ｇをテト
ラヒドロフラン５　ｍｌに溶かし滴下して、１時間攪拌
した。その後室温で１時間、４５〜５０℃で１５時間攪
拌し、さらに室温で一夜放置した。

反応混合物を氷水にあけ、酢酸エチルで抽出し、抽出液
を飽和食塩水で洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル−１０：　
１　）に付し、目的化合物（淡黄色油状物）を得た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０５７（
展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：１）ＮＭＲス
ペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．８７（９Ｈ，
ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）　。

１．０−２．３（１４Ｈ，ｍ）　。

１．１７（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）　。

２．１７　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．２１　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．３−２．９　（２Ｈ、ｎｄ）　。

２．６２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）　。

２．８３　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．９７−３．５　（２Ｈ，ｍ）　。

３．５９（３Ｈ，Ｓ）。

３．７３（１Ｈ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）。

４．０３　（ＩＨ，ｑ　、　Ｊ＝　　７Ｈｚ）　。

４０７（１Ｈ８ｑ、Ｊ−７Ｈ２）。

４．８８（２Ｈ，Ｓ）。

参考例２１（Ｅ−５） スピロ〔２−（３，７−ジメチルオクチル）−６−メト
キシメトキシ−５、７、８−トリメチルクロマン−４、
２′−〔１，３〕ジチアン〕−２−イルメタノール エチル　スピロ（２−（３，７−ジメチルオクチル）−
６−メドキシメトキシー５．７．８−　）ジメチルクロ
マン−４，２’　−４１，３］］ジチアン〕−２−カル
ボキシレート４をテトラヒドロフラン２０ｍ１に溶かし
、リチウムアルミナムハイドライド０．４１，９．テト
ラヒドロフラン３０　ｍｌの混合物中に、窒素気流中氷
冷下で滴下し、室温で３時間かきまぜた。反応混合物に
水冷下酢酸エチル約１０ｍ１及び５％塩酸約３０　ｍｌ
を加え、有機層を分離、水層をさらに酢酸エチルで抽出
した。両袖出物を合わせて飽和食塩水で洗い、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して、シリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー（展開溶剤：ベンゼン：酢酸
エチル＝　：２ｏ　：　１　）におけるＲｆ値０３６、
淡黄色油状の、目的化合物を得た。

ＮＭＲスヘクトル（δｐｐｍ　、　ｃＤａｘ３）　；０
．８７（９Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）　。

１．０−２．０（１２Ｈ，ｍ）　。

２．０−２．５　（２Ｈ，ｎｄ）　。

２．０１１　（３Ｈ，ｓ）　。

２．２０　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．３４（ＩＨ，ｂｒ、ｓ　、　ｊ７に、添加で消失）
。

２．５−３．０　（３Ｈ，ｍ）　。

２．９２　（３Ｈ，Ｓ）　。

３．０−３．６　（４Ｈ、ｍ）　。

３．６１　（３Ｈ，Ｓ）　。

３．７６（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝６および１２Ｈｚ）。

４．８９（２Ｈ，Ｓ）。

参考例２２（Ｂ−６） スピロ（２７（３，７−ジメチルオクチル）−６−メト
キシメトキシー５、７，８−トリメチル−２−（４−ニ
トロフェノキシメチル）クロマン４、２′−［１，３］
ジチアン〕 スピロ〔２−（３，７−ジメチルオクチル）６−メドキ
シメトキシー５．７．８−トリメチルクロマン−４，２
’−（：１．３〕ジチアン〕−２−イルメタノール３６
ｇ、ジメチルホルムアミド３０７ｎｌの混合物に、窒素
気流中、室温で５５％油性水素化ナトリウム０．４６ｇ
を加え、次いで５０℃で２時間加熱した。水冷下でＰ−
クロロニトロベンゼン１．６６ｇとベンゼン３　ｍｌの
混合物を滴下し、次いで５０℃で２時間加熱した。反応
混合物を水にあけ、ベンゼンで抽出し、抽出液を水で洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
離液；ベンゼン：酢酸エチル＝５０：１）に付し、目的
化合物を得た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０５５（展
開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝２０：Ｎ　Ｍ　Ｒスペ
クトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．８７（９Ｈ，ｄ
、Ｊ＝７Ｈｚ）。

１．０−２．３（＋４Ｈ，ｍ）。

２．０８（３Ｈ，Ｓ）。

２．２１　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．３−３．０　（３Ｈ、ｍ）　。

２．８９（３Ｈ，Ｓ）。

３．０−３．６　（３Ｈ，ｍ）　。

３．６１（３１（、ｓ）　。

３．９９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

４．４５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）　。

４．８９（２Ｈ，Ｓ）。

６．９２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９［１ｚ）。

８．１７　（２Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　９Ｈｚ）。

参考例２３（Ｅ−７）および（Ａ−３脱保護２−（３、
７−ジメチルオクチル）−６−ヒドロキシ−５、７、８
−トリメチル−２−（４−ニトロフェノキシメチル）−
４−オキソクロマンスピロ〔２−（３、７−ジメチルオ
クチル）−６−メトキシメトキシ−５、７、８−トリメ
チル２−（４−ニトロフェノキシメチル）クロマン−４
、２’−（１．３）ジチアン）３．４ｇ，塩化第二水銀
２２ｇ，酸化第二水銀１７ｇ，テトラヒドロフラン１０
ｍｌ，メタノール２７ｍｌ，水３ｍｌの混合物を２時間
加熱還流した。反応混合物にベンゼンを加え、不溶物を
炉去し、涙液を硫酸アンモニウム水溶液、次いで水で洗
い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留
去し、残渣にベンゼン３０ｍ１．、酢酸１０ｍｌ，１０
％硫酸水溶液ｏ．ｓｍｌを加えて、３０分加熱還流した
。反応混合物を水にあけ、ベンゼンで抽出し、抽出液を
水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧
下に留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル＝１００＝３）に付
し、得られた結晶をベンゼン、ヘキサンの混合液より再
結晶し、目的化合物を得た。

融点：　１２１−１２３℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０、８５
　（　９Ｈ　、　ｄ　、　Ｊ＝７Ｈｚ）　。

１、０−１．７（１０Ｈ，ｍ）　。

１、７−２．１　（２Ｈ，ｍ） ２、１１　（３Ｈ，Ｓ）。

２、２１　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、５５（３Ｈ，Ｓ）。

２．７６および２．９８（２Ｈ、ＡＢ型、Ｊ＝１６Ｈｚ
）。

４、１６（２Ｈ，Ｓ）。

４、５７（ＩＨ，Ｓ，重水添加で消失）７、９６（２Ｈ
，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）　。

８、２０（２Ｈ、ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

参考例２４（Ａ−３−アシル化） ６−アセトキシ−２−（３，７−ジメチルオクチル）−
５，７，８−トリメチル−２−（４−ニトロフェノキシ
メチル）−４−オキソクロマン参考例７に準じて、２−
（３．７−ジメチルオクチル）−６−ヒドロキシ−５，
　７．　８−）ジメチル−２−（４−ニトロフェノキシ
メチル）−４−オキソクロマン１．８．！９，無水酢酸
０５ｇ，ヒリシン５ｍｌ，およびベンゼン１０ｍｌから
製造された目的化合物は、次の物性を有する。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値コ０．４１
展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチルＮＭＲスペクトル（δ
ｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０、８５（９Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｅ
ｚ）　。

１、０−２．０（１２Ｈ，ｍ）　。

２、０８　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、１１　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、３３（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、４１　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、８０および３．００　（　２Ｈ　、　ＡＢ型，Ｊ二
１６１’ｌｚ）。

４、１７（２Ｈ，Ｓ）。

６、９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ二９Ｈｚ）。

８、２０　（　２Ｈ　、　ｄ　、　Ｊ　＝　９Ｈｚ）。

参考例２５（Ｄ−２） ６−アセトキシ−２−（４−アミノフェノキシメチル）
−２−（３、７−ジメチルオクチル）−５，７，８−ト
リメチル−４−オキソクロマン参考例１１に準じて、６
−アセトキシ−２−（３。

７−ジメチルオクチル）−５．７．８−トリメチル２−
（４−ニトロフェノキシメチル）−４オキソクロマン１
．９５，９．　１０％パラジウム炭素０．４．９より製
造された目的化合物は次の物性を有する。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのｕｆ値０．３１　
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝４　：　１　）Ｎ
ＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０．８５（
９Ｈ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）　。

１．０−２．０（１２Ｈ，ｍ）　。

２．０９（３１（，８）。

２．１３（３Ｈ，Ｓ）。

２．３２　（３Ｈ，Ｓ）　。

２、’４１　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．７７および３．００　（２Ｈ、ＡＢ型、　Ｊ＝１６
ｋ）　。

３．４　（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）　、　（重水添加で消失）
。

３．９９（２Ｈ，Ｓ）。

６．６０　（２Ｈ，ｄ　、　Ｊ＝９Ｈｚ）　。

６．７０　（２Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　９Ｈｚ）。

参考例２６（Ｄ−３） エチル　３−〔４−〔６−アセトキシ−２−（３、７−
シフチルオクチル）−５、７、８−トリメチル−４−オ
キソクロマン−２−イルメトキシ〕フェニル〕−２−ク
ロロプロピオネート参考例９に準じて、６−アセトキシ
−２−（４アミノフエノキシメチル）−２−（３、７−
ジフチルオクチル）−５．７．８−トリメチル−４−オ
キソクロマン１６ｇ，亜硝酸ナトリウム０．２Ｂ，９。

濃塩酸１．　７　ｍｌ　、アクリル酸エチル３．３　ｍ
ｌ，酸化第一銅０．１．９から製造された目的化合物は
、次の物性を有する。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０、４５（
展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル−２０：ＮＭＲスペク
トル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：０、８６（９Ｈ，ｄ，
Ｊ＝７Ｈｚ）　。

１、０−２．０　（　１　２Ｈ　、　ｍ）　。

１、２４（３Ｈ，　ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）　。

２、０９（３Ｈ，Ｓ）。

２、１３　（３Ｈ，　Ｓ）　１ ２、３３　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、４２　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、８０および２．９８　（　２Ｈ　、　ＡＢ型，　Ｊ
　＝　１　６Ｈｚ）　。

３、０７（ＩＨ，ｄｄ，Ｊニアおよび１４Ｈｚ）。

３、３１　（ＩＨ，ｄｄ，Ｊニアおよび１４Ｈｚ）。

４、０６（２Ｈ，Ｓ）。

４、１８　（２Ｈ，　ｑ　、　Ｊ＝７１（ｚ）　。

４、３７（ＩＨ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。

６、８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

７、１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

参考例２７（Ｄ−１） ６−アセトキシ−７−ｔ−ブチル−２−メチル−２−（
２−メチル−５−ニトロフェノキシメチル）−４−オキ
ソクロマン 参考例１０に準じて、５−アセトキシ−４−ｔ−ブチル
−２−ヒドロキシアセトフェノン４．７８、９，１−（
２−メチル−５−ニトロフェノキシ）プロパン−２−オ
ン４０ｇ，ピロリジン２．０ｇ，ベンゼンｓｏｍｌ，さ
らに無水酢酸４ｒｎｌおよびピリジン５０ｍｌから製造
された淡赤色泡状の目的物は次の物性を有する。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーによるＲｆ値：　０
．２４　（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル２０　：　
１　） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）：１、３２
（９Ｈ，Ｓ）１ １、６３（３Ｈ，Ｓ）。

２、１７（３Ｈ，Ｓ）。

２、３２（３Ｈ，Ｓ）。

２−　９　０　（　Ｉ　Ｈ　、ｄ　、Ｊ　＝１　６Ｌ　
５　Ｈｚ　）　＋３、１５（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝１６．５１
’ｌｚ）。

４、４３　（　２Ｈ　、　ＡＢ型，　Ｊ　＝　１　２［
１ｚ）６、９７（ＩＨ，Ｓ）。

７、３１１１　（　Ｉ　Ｈ，　ｄ　、　Ｊ＝８Ｈｚ）　
。

７、４５（ＩＨ，Ｓ）。

７、７０−７．９０（２Ｈ，ｍ）。

参考例２８（Ｄ−２） ６一アセトキシー２ー（５−アミノ−２−メチルフェノ
キシメチル）−７−ｔ−ブチル−２−メチル−４−オキ
ソクロマン 参考例１１に準じて、６−アセトキシ−７−ｔ−ブチル
ー２−メチル−２−（２−メチル−５−ニトロフェノキ
シメチル）−４−オキソクロマン７．３ｇ，１０％パラ
ジウム炭素１ｇおよヒエタノール１００　ｍｌを用いて
水素添加を行い、淡赤色泡状の目的化合物を得た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーによるＲｆ値：０．
１３（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル５：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、重アセトン）：１．３３
（９Ｈ，Ｓ）　。

１．５６　（３Ｈ，Ｓ）　。

１、！９５　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．３１　（３Ｈ，Ｓ）　。

２．８０　（Ｉ　Ｈ，ｄ　、　Ｊ　＝　１６ｉ、５Ｅｌ
ｚ）　。

３．１０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１６．５１’ｌｚ）　。

４．０６（２Ｈ，Ｓ）。

３．９０−４．７０　（２Ｈ、ｂｒ、重水添加で消失）
。

６．１ｓ（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８および１．５Ｈｚ）。

６．２８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１．５Ｈｚ）　。

６．７８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）　。

７．００（１Ｈ，Ｓ）。

７．４７（ＩＨ，Ｓ）。

参考例２９（Ｄ−３）。

エチル３−〔３−（６−アセトキシ−７−ｔ−ブチル−
２−メチル−４−オキソクロマン−２−イルメトキシ）
−４−メチルフェニル〕−２−クロロプロピオネート 参考例１２に準じて、６−アセトキシ−２−（５−アミ
ノ−２−メチルフェノキシメチル）〜１−１−ブチルー
２−メチルー４−オキソクロマン５．５３．！９．亜硝
酸ナトリウム１２ｇ、濃塩酸２．４ｍｌ！、７クリル酸
：ｒ−ｆル、１４ｒｎｌ、酸化第一銅１９０　ｍ９゜お
よびアセトン５０ｍ１から製造された淡黄色油状の目的
化合物は次の物性を有する。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーによるＲｆ値＝０．
４１（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル１０　：　１　
） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１．２２
　（３Ｈ、ｔ　、　Ｊ　＝　７．５Ｈｚ）　。

１．３２（９Ｈ，Ｓ）　。

１．５７（３Ｈ，Ｓ）。

２．１０（３Ｈ，Ｓ）。

２．３０（３Ｈ，Ｓ）。

２．７４　（Ｉ　Ｈ、ｄ　、　Ｊ−１７ＦＪｚ　）　ｔ
２．９４−３．２５　（Ｉ　Ｈ、ｎｄ　）　。

３．０８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ）。

３．３３（ＩＨ，ｄｄ、、ｒ　＝７および１４Ｈｚ）＋
３９９および４．１１（２Ｈ，ＡＢ型、　Ｊ　＝　１０
Ｈｚ）４．１８（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７．５［］ｚ）。

４．４０（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）　。

６．６５−６．１１１５　（２Ｈ，ｎｄ）　。

ｓ、ｊｓ　（ＩＨｌ　ｓ）　ｙ ７．０７　（Ｉ　Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　７．５Ｈｚ）　
。

７．５０（ＩＨ，Ｓ）。

参考例３０（Ａ−２−Ａｒ化） ６−メトキシメトキシ−２、５、７、８−テトラメチル
−２−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシメチル）
クロマン ６−メドキシメトキシー２，５．乙８−テトラメチルク
ロマンー２−イルメタノール５０ｇおよびジメチルホル
ムアミド２０ｍ１の混合物に、窒素気流中、室温で５５
％油性水素化す）ＩＪウム０．９６．９（シクロヘキサ
ンで４回洗浄する。）を徐々に加える。５０℃で１０分
加熱したのち１０℃に冷却し、２−クロロ−５−ニトロ
ピリジン４２ｇを少量ずつ加える。室温で一夜放置した
のち、反応混合物を水にあけベンゼンで抽出する。抽出
液を水洗、ついで゛硫酸す）　＋１ウムで乾燥する。溶
媒を減圧で留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル＝２５：１）
に付し、目的物を得た。

シリカゲルカラムクロマトグラフィーのＲｆ値＝　０．
５６　（展開ｉ剤；　ヘンゼン：酢酸エチル＝１０：１
） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１．４０
　（３Ｈ，Ｓ）　。

１．７−２．３　（２Ｈ，ｍ）　。

２．０２（３Ｈ，Ｓ）　１ ２．１７（６Ｈ，Ｓ）。

２．６５　（２Ｈ、ｂｒ、　ｔ　−Ｊ　＝６Ｈｚ）　ｙ
３．６１　（３Ｈ，８）　。

４．５１　（２Ｈ，Ｓ）　。

４．８８　（２Ｈ，Ｓ）　。

６．８７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

８．３７（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝９および３Ｈｚ）　。

９．０６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）。

６−参考例３１（Ａ−３−脱保護工程）ヒドロキシ−２
、５、７、８−テトラメチル−２−５（−ニトロピリジ
ン−２−イルオキシメチル）クロマン ６−メドキシメトキシー２，５，７．８−テトラメチル
−２−（５−ニトロピリジン−２−イルオキシメチル）
クロマン５．２９を酢酸４　５　Ｔｎｌにとかし、これ
に１０％硫酸水溶液１ｇを加えて５５〜５８℃で１５分
加熱する。今後、反応混合物を炭酸水素ナトリウム７５
ｇと氷７５．９中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。抽出
液を水洗、ついで硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧
で留去して、淡褐色油状の目的物を得た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値＝０４６（
展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル−１０＝ＮＭＲスペク
トル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、３９（３Ｈ，Ｓ）
。

１、７−２．３　（　２Ｈ　、ｍ）　。

２、０５（３Ｈ，Ｓ）。

２、１１　（３Ｈ，　Ｓ）　１ ２、１５（３Ｈ，Ｓ）。

２、６７（２Ｈ，ｂｒ．ｔ　　、　　Ｊ＝６Ｈｚ）　。

４、１９（ＩＨ，Ｓ，重水添加で消失する）４、５０（
２Ｈ，Ｓ）。

ｅ．８ｓ（ＩＨ，ｄ，Ｊ二９Ｈｚ）　。

ｓ．３６（ＬＨ，ｄｄ，Ｊ＝ｓおよび３Ｈｚ）　。

９、０６　（　１Ｈ，　ｄ　、　Ｊ＝３Ｅｚ）。

参考例３２（Ａ−３−アシル化） ６−アセトキシ−２、５、７、８−テトラメチル−２−
（５−ニトロピリジン−２−イルオキシメチル）クロマ
ン 参考例Ｔに準じて、６−ヒドロキシ−２，５，乙８ーテ
トラメチル−２−（５−ニトロピリジン−２−イルオキ
シメチル）クロマン５．２．ｇ　＋　無水酢酸３ｍｌ、
ピリジン３ｍｌ，およびベンゼン約２０ｍｌｌから製造
された目的物は次の物性を有する。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値二０．５２
（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル＝１０：ＮＭＲスペ
クトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、４０（３Ｈ，Ｓ
）。

１、７−２．３　（　２Ｈ　、ｍ）　。

２、０２（９Ｈ，Ｓ）。

２、３２（３Ｈ，Ｓ）。

２、６９　（２Ｈ，　ｂｒ．ｔ　、　Ｊ＝６Ｈｚ）　。

４、５２　（　２Ｈ　、　ＡＢ型，　Ｊ＝１２）１ｚ）
’。

６、８６（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）　。

８、３６（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝９および３Ｈｚ）。

９、０７　（　ＩＨ，　ｄ　、　Ｊ＝３Ｈｚ）。

参考例３３（Ａ−３−Ｈ２） ６−アセトキシ−２−（５−アミノピリジン−２−イル
オキシメチル）−２．５．７，８−テトラメチルクロマ
ンア ６−アセトキシ−２、５、７、８−テトラメチル−２−
（５−ニトロピリジン−２−イルオキシメチル）クロマ
ン６ｇをメタノール８０１ｎｌおよびベンゼン１５ｍｌ
の混合物にとかし、１０％パラジウム炭素１．５ｇの存
在下、水素圧約１気圧で、約２０時間、室温で還元した
。該パラジウム炭素を戸去し、得られた流液を減圧下に
濃縮して、目的物を得た。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０、０４（
展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチル−１０＝ＮＭＲスペク
トル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）；１、３９（３Ｈ，Ｓ）
。

１、６−２．４　（２）１，ｍ）　。

１、９７（３Ｈ，Ｓ）。

２、０１　（３Ｈ，Ｓ）。

２、０７（３Ｈ，Ｓ）１ ２、３０（３Ｈ，Ｓ）。

２、６４　（　２Ｈ　、　ｂｒ．　ｔ　、　　Ｊ　＝　
６Ｈｚ）　。

３、９　（　２Ｈ　、　ｂｒ．ｓ　、重水添加で消失す
る）４、２５　（　２Ｈ　、　ＡＢ型，Ｊ＝１２Ｈｚ）
。

５６１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

７．０２（ｉＨ，ｄｄ、Ｊ＝９および３Ｈｚ）。

７．６４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）。

参考例３４（Ａ−４） エチル　３−〔２−（６−アセトキシ−２、５、７、８
−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）ビリジン
ー５ーイル〕−２−クロロプロピオネート 参考例９に準じて、６−アセトキシ−２−（５−アミノ
ピリジン−２−イルオキシメチル）２、　５，　７．　
８−テトラメチルクロマン４．５ｇ，亜硝酸ナトリウム
１．１，９，濃塩酸５ｍｌ，アクリル酸エチル１０ｇ，
酸化第一銅１　７　５　ｍ９，アセトン４０ｍｌｌおよ
び水約２．５．９から製造された目的物は、次の物性を
有する。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０４５　（
　展開ｉ剤；ベンゼン：酢酸エチル＝ｆｏｉｌ）ＮＭＲ
スペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、２６（３Ｈ
，ｔ，Ｊニア、５Ｈｚ）　。

１、４０（３Ｈ，Ｓ）。

１、７−２．３　（２Ｈ，ｍ）　。

１、９９（３Ｈ，Ｓ）。

２、０２（３Ｈ，Ｓ）。

２、０７　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、３１　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、６５（２Ｈ，　ｂｒ．　ｔ　、　Ｊ＝６１’ｌｚ）
　。

３、０７（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ−１３．５および７．５　Ｈ
ｚ　）３、３０（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ＝１３．５および７．
５　Ｈｚ）４、０−４．５　（５Ｈ，ｍ）　。

６、７２（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７、４８（ＩＨ，ｄｄ，Ｊ二９および３Ｈｚ）。

８、０２（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝３Ｈｚ）。

参考例３５（Ａ−４） エチル　３−〔４−（６−アセトキシ−２、５、７、８
−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）フェニル
〕−２−クロロ−２−メチルプロビオネート 参考例９に準じて、６−アセトキシ−２−（４−アミノ
フェノキシメチル）−、２，５，７．８−テトラメチル
クロマン２ｇ，アセトン２５ｍｌ、３５％塩酸３ｍｌ，
亜硝酸ソーダ０．７ｇ，水１ｍｌ、メタクリル酸エチル
８ｇ，および酸化第一銅０．２９より製造された目的物
は、次の物性を有する。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０５４（展
開溶剤；ヘキサン：酢酸エチル−２：ＮＭＲスペクトル
（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、２９　（３Ｈ，　ｔ　
、　Ｊ＝７Ｈｚ）　。

１、４３（３Ｈ，Ｓ）　。

１、６８（３Ｈ，Ｓ）　。

１、９８　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、０３　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、０９（３Ｈ，Ｓ）　。

２、３２（３Ｈ，Ｓ）。

１、５−２．５　（　２Ｈ　、　ｎｄ　）　。

２、６２（２Ｈ，ｂｒ，ｔ　、　Ｊ＝７Ｈｚ）　。

３１８および３．３６　（　２Ｈ　、　ＡＢ型，Ｊ＝１
７Ｈｚ）。

３８４および３．９８　（　２Ｈ　、　ＡＢ型，　Ｊ＝
　９Ｈｚ）　。

４、２１　（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ）　。

６、８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）　。

７、１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

参考例３６（Ｈ−１） ６−アセトキシ−２−ヒドロキシー５，７、８−トリメ
チル−２−（４−ニトロフェノキシメチル）−４−オキ
ソクロマン ３−アセトキシ−２，４．５−）リメチル−６−（４−
ニトロフェノキシアセトキシ）アセトフェノン１５ｇの
テトラヒドロフラン１１１溶液へ、氷冷下カリウムｔー
ブトキシド３ｇのテトラヒドロフラン１００ｍｌ溶液を
滴下し、同温で２５時間攪拌した。反応混合物を酢酸エ
チルおよび食塩水中に注ぎ、有機層を分液し無水硫酸ソ
ーダで乾燥した。溶媒を留去し残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸エチル＝
１：１）に付し、目的化合物を得た。

融点：　２０４−２０７℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、　ＤＭＳＯ−ｄ６）　：
２、０５（３Ｈ，Ｓ）。

２、１１　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、３４（６Ｈ，Ｓ）。

２．７６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ）。

３．２４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１７Ｈｚ）。

４．２８および４．５０（２Ｈ，ＡＢ型、　Ｊ＝１０ｈ
）　。

７．２４（２Ｈ，ｄ、Ｊ　＝９Ｈｚ）　。

７．３０（ＩＨ，Ｓ、重水添加により消失）。

８．２４　（２Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　９Ｈｚ）。

参考例３７（Ｈ−２） ６−アセトキシ−２−（４−アミノフエノキシメチル）
−２−ヒドロキシ−５、７，８−トリメチル−４−オキ
ソクロマン 参考例１１に準じて、６−アセトキシ−２−ヒドロキシ
−５，７，８−）リメチル−２−（４−ニトロフェノキ
シメチル）−４−オキソクロマン７ｇ、　　１０％パラ
ジウム炭素５ｇ、テトラヒドロフラン１００ｍ１．およ
びエタノール１００　ｒｕｌから製造された目的化合物
は次の物性を有する。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのｕｆ値値引４８展
開溶剤；酢酸エチル） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤ０ｆ３）：２．０８
（３Ｈ１Ｓ）　１ ２．１０（３Ｈ，Ｓ）。

２．３２（３Ｈ，Ｓ）。

２．４１　（３Ｈ，Ｓ）　。

２７８および３．０３　（２Ｈ、ＡＢ型、　Ｊ＝１６Ｈ
ｚ）　。

３．４−４．３　（３Ｈ，ｂｒ、ｓ　、重水添加により
消失）。

３９８および４．１２（２Ｈ，ＡＢ型、　Ｊ　＝　１０
Ｈｚ）　。

６．６２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９ｆｌｚ）　。

６．８０　（２Ｈ、ｄ　、　Ｊ　＝　９Ｈｚ）。

参考例３８（Ｈ−３） エチル３−〔４−（６−アセトキシ−２−ヒドロキシ−
５，７，８−トリメチル−４−オキソクロマン−２−イ
ルメトキシ）フェニル〕−２−クロロプロピオネート 参考例９に準じて、６−アセトキシ−２−（４アミノフ
エノキシメチル）−２−ヒドロキシ５、乙８ートリメチ
ルー４ーオキソクロマン３４、９．　７七ト：ｙ４０ｍ
ｌ，　　３５％塩酸５ｍｌ，亜硝酸ソーダ１．２ｐ，水
１．　６　ｍｌ！　、アクリル酸ｘ　ｆ　ル１３　、ｊ
９および酸化第一銅０．３２．９から製造された目的化
合物は次の物性を有する。

シリカゲル薄層クロマトグラフィーのＲｆ値０２０（展
開溶剤；ヘキサン：酢酸エチル−２＝ＮＭＲスペクトル
（δｐｐｍ、ＯＤＯρ３）：１、２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７Ｈｚ）　。

２、０９（６Ｈ，Ｓ）１ ２、３３（３Ｈ，Ｓ）。

２、４２　（３Ｈ，　Ｓ）　。

２、５−３．６　（　４　Ｈ　、　ｎｄ　）　。

３、９−４．６　（５Ｈ，　ｎｄ）　。

６、９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ二９Ｈｚ）　。

７、２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）。

参考例３ ６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−２，５，７，８
−テトラメチル−２−（４−ニトロフェノキシメチル）
−４−オキソクロマン ６−アセトキシ−２，５，７．８−テトラメチル−２−
（４−ニトロフェノキシメチル）−４−、ｔ中ソクロマ
ン２５１、ジメチルホルムアミド３０ｍＡ’およびエチ
ルアルコール１５０ｍＪの混合物を氷冷し、水酸化ナト
リウム５，６ｆ、エチルアルコール１５０ｍ／！および
水２０ｍｌの混合溶液を滴下した。ついで３時間かきま
ぜた後、ブロモ酢酸ｔ−ブチル１８３２を滴下して、室
温で１時間かきまぜ、さらに−夜装置した。反応混合物
を水に注ぎ、１０チ塩酸で中和し、次いでベンゼンで抽
出した。該抽出液を水で洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶離液；ベンゼン：酢酸エチル−２０：１
）に付し目的化合物を得た。

Ｒｆ値（以下、シリカゲル薄層クロマトグラフィーによ
る値を示す。）：０．４９（展開溶剤；ベンゼン：酢酸
エチル１０：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ２）：１．５３
（１２Ｈ，ｓ）。

２．０７（３Ｈ，ｓ）。

２．２７（３Ｈ，ｓ）。

２．５７（３Ｈ，ｓ）。

２．６８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１６．５Ｈｚ）。

３．０５（’ＩＨｊ（１，Ｊ−’＋６．５Ｈｚ）。

４．１７　（２Ｈ、ｓ　、＋２Ｈ、ＡＢ型、Ｊ＝１０Ｈ
ｚ）。

６．９７　（２Ｈ、ｅＬ　、Ｊ＝９Ｈｚ）。

８．１９（２Ｈ，ａ、Ｊ−９Ｈｚ）。

参考例４０ ６−エトキシ−２，５，７，８−テトラメチル−２−（
４−ニトロフェノキシメチル）クロマン６−ヒドロキシ
−２，５，７，８−テトラメチル−２−（４−ニトロフ
ェノキシメチル）クロマン１１ｇとＤＭＦ１００ｍｌの
混合物に５５％油性Δ素化ナトリウム１６グを加え室温
で１時間かきまぜた。水冷下ヨウ化エチル５７１、ベン
ゼン５　ｍｌの混合物を滴下し、室温で２時間かきまぜ
た。反応混合物を氷水に注ぎ、ベンゼンで抽出した。該
抽出液を水で洗い、無水硫酸す）　ＩＪウムで乾燥した
。溶媒を減圧下に留去し残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶離液ニジクロヘキサン：ベンゼン＝３
ニア）に付シ目的化合物を得た。

Ｒｆ値：０．４８（展開溶剤：ベンゼン）ＮＭＲスペク
トル（δｐｐｍ、ＣＤＣｔ３）：１．３９（３Ｈ，ｔ、
Ｊ−７Ｈｚ）。

１．４３（３Ｈ，ｓ）。

１−７〜２．１　（２Ｈ、ｎｄ　）　。

２．０６（３Ｈ，ｓ）。

２．１４　（３Ｈ、ｓ　）　。

２．１７（３Ｈ，ｓ）。

２．６３（２Ｈｊｂｒ、ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

３．７２（２Ｈ，ｑ、Ｊ−７Ｈｚ）、。

４００および４．０８（２Ｈ，ＡＢ型、Ｊ＝１０Ｈｚ）
。

６．９８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

８．１７　（２Ｈ、ｄ　、　Ｊ−９Ｈｚ　）。

参考例４１ ２−（４−アミノフェノキシメチル）−６−ｔ−ブトキ
シカルボニルメトキシー２，５．７，８−テトラメチル
−４−オキソクロマン ６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−２，５，７、８
−テトラメチル−２−（４−会トロフエノキシメチル）
−４−オキソクロマン１７ｆ１１０チパラジウム炭素３
５１、メタノール１５０ｙｎｌ，およびジメチルホルム
アミド５０ｍＪの混合物を、パールの水添装置を用いて
、水素圧３〜５気圧で７時間振盪した。該パラジウム炭
素を沢去し、ｆ液を減圧濃縮した。残渣をベンゼンに溶
かし２、水で洗い無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を留去して目的化合物を得た。

Ｒｆ値：０．２９（展開溶剤；ベンゼン：酢酸エチルク
４：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）　：１、４
７（３Ｈ，５）。

１、５４（９Ｈｊｓ）。

２、１１（３Ｈ，ｓ）。

２、２６（３Ｈ，ｓ）。

２、５５〜２．７５（ＩＨ，ｎｄ）。

２、５７（３Ｈ，ｓ）。

３、０５（ＩＨ，（１，Ｊ−１６Ｈｚ）。

３、１５〜３６５（２Ｈ，ｂｒ．ｓ）。

３９０および４．０３（２Ｈ，ＡＢ型，Ｊ−１０Ｈｚ）
。

４、１７（２Ｈ，ｓ）。

６、６０　（２Ｈ　、ｄ，Ｊ−９Ｈｚ）。

６、７６（２Ｈ　、（１，’Ｊ＝９Ｈｚ）。

参考例４２ ２−（４−アミノフエノキシメチル）−６−エトキシ−
２，５，７，８−テトラメチルクロマン参考例４１に準
じて６−ニトキシー２．　５，　７．　８−テトラメチ
ル−２−（４−ニトロフェノキシメチル）クロマン１１
ｆ、１０％パラジウム炭素２，２１、メタノール１００
ｍ／，およびベンゼン３０ｍｌから目的化合物を得た。

融点：１２１〜１２３℃ ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１、３８
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）。

１．４０（３Ｈｊｓ）。

１．７〜２．１（２Ｈ，ｎｄ）。

２．０８（３Ｈ，ｓ）。

２．１２（３ｎ、ε）ｊ ２．１７（３Ｈ，ｓ）。

２．６０（２Ｈ、ｂｒ、ｔ、、Ｊ＋＝７Ｈｚ）。

３．１〜３．６（２Ｈ，ｂｒ　０重水添加で消失）、３
．７１　（２Ｈ、ｑ　、、Ｊ＝７Ｈｚ）　。

３８０および３．９１（２Ｈ，ＡＢ型ｊＪ＝１ｏＨｚＬ
６．６０（２Ｈｊｄ、Ｊ＝９Ｈ２）。

６．７８　（２Ｈ，ａ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

参考例４３ ３−〔４−（６−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−２
，５，７，８ーテトラメチル−４−オキソクロマン−２
−イルメトキシ）フェニル〕−２−クロロプロピオン酸
エチル ２−（４−アミノンエノキシメチル）−６−１−ブトキ
シカルボニルメトキシ−２，５，７，８テトラメチル−
４−オキソクロマン１６７とアセトン１６０ｍ／’の混
合物に、室床気流中、５〜１０℃で濃塩酸１６１ｎ１１
亜硝酸ナトリウム３１グの水（７ｍｌ！　）溶液、さら
にアクリル酸エチル３１ｍ１を順次滴下した。内温を４
０〜４３℃とし、酸化第一銅０．５グを徐々に加えた。

約３０分で窒素の発生が終了する。反応混合物を水にあ
けベンゼンで抽出した。該抽出液を水で洗い無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を留去し桟面をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶離液；シクロヘキサン：酢
酸エチル＝９：１）に付し目的化合物を得た。

Ｒｆ値：　０．３３　（展開溶剤；シクロヘキサン：酢
酸エチル＝４：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：１．２３
（３ＨｊｔＪ、ｒ−＝乙５Ｅ（ｚ）。

１．５０（３Ｈ，ｓ）。

１．５３　（９Ｈ、ｓ　）　。

２．０９（３Ｈ，ｓ）。

２．２６（３Ｈｊｓ）。

２．５〜２．８（ＩＨ，ｎｄ）。

２．５７（３Ｈ，ｓ）。

３．０５（ＩＨ，ｄｊ、ｒ−＝１６Ｈｚ）。

３．０７（ＩＨ，ｎｃｌ）。

３．３２（ＩＨ，ａａＪＪ＝７および１４Ｈｚ）。

３．９８および４．０９（２Ｈ，ＡＢ型、Ｊ＝１０Ｈｚ
）。

４．０５〜４．３５（２Ｈ，ｎｄ）。

４．１８（２Ｈ，５）ｊ ４．３７（ＩＨ，ｔ、Ｊｌ＝７Ｈｚ）。

６．８５（２Ｈ，（１，Ｊ＝８Ｈ２）。

７．１４（２Ｈ，ｄ、、Ｔ−８Ｈｚ）。

参考例４４ ２−クロロ−３−〔４−（６−エトキシ−２，５．７，
８−テトラメチルクロマン−２−イルメトキシ）フェニ
ル］プロピオン酸エチル 参考例４３に準じて２−（４−アミノンエノキシメチル
）−６−ニトキシー２．５．７．８−テトラメチルクロ
マン９．５１、濃塩酸１０Ｔｒ／！、亜硝酸ナトリウム
２４２、アクリル酸エチル２６８り、酸化第一銅０．４
ｆ、およびアセトン１００ｍ１から目的化合物を得た。

Ｒｆ値：０．３０（展開溶剤；シクロヘキサン：酢酸エ
チル−２０：１） ＮＭＲスペクトル（δｐｐｍ、ＣＤＣｌ３）：Ｌ２３（
３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

１．３８（３Ｈ，ｔ、Ｊ−７Ｈｚ）。

１．４１（３Ｈｊｓ）。

１・７〜２．１　（２Ｈ、ｎｄ）　。

２．０７（３Ｈ，ｓ）。

２．１３（３Ｈ，ｓ）。

２．１７（３Ｈｊε）ｊ ２．６０（２Ｈ，ｂｒ、ｔ、Ｊ＝７Ｈ２）。

３．０７（１，Ｈ，ｄｄ、、ｒ＝４およびｉ　４Ｈｚ）
。

３．３１（ＩＨＪｄａ、Ｊ、、＝４および１４Ｈｚ）。

３．７１（２ＨＪｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

３．８６および３．９６（２Ｈ，ＡＢ型、Ｊ＝９Ｈｚ）
１４．１７（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）。

ｔ３６（１Ｈ，ｉ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）。

６．８５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

７．１３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式（ I ）中、Ｒ＾１は水素原子、アルキル基、置換
   基を有していてもよいアラルキル基または置換基を有し
   ていてもよいシクロアルキル基を示し、Ｒ＾２は水素原
   子またはアルキル基を示し、Ｒ＾３および後述するＲ＾
   ３′は同一または異なつて水素原子または水酸基の保護
   基を示し、Ｒ＾４は水素原子、アルキル基、置換基を有
   していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよ
   いシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリー
   ル基またはアルコキシ基を示し、Ｒ＾５は水素原子、ア
   ルキル基またはアルコキシ基を示し、Ｒ＾６およびＲ＾
   ７は同一または異なつて水素原子またはアルキル基を示
   し、Ｒ＾８およびＲ＾９は同一または異なつて水素原子
   または置換基を有していてもよいアルキル基を示し、Ａ
   ｒは置換基を有していてもよい二価の芳香環基または置
   換基を有していてもよい二価の複素芳香環基を示し、Ｗ
   はメチレン基、カルボニル基、式＞ＣＨ−ＯＲ＾３′基
   （式中、Ｒ＾３′は前述したものと同意義を示す。）、
   式＞＝Ｎ−ＯＶ基（式中、Ｖは水素原子、置換基を有し
   ていてもよいアルキル基または置換基を有していてもよ
   いアラルキル基を示す。）または式＞＝Ｎ−ＯＲ＾３′
   ＿ａ基（式中、Ｒ＾３′＿ａは前述したＲ＾３′におけ
   る水酸基の保護基を示す。）を示すかあるいは後述する
   Ｕと共に二重結合を形成してもよく、Ｕは単結合または
   メチレン基を示すかあるいはＷと共に二重結合を形成す
   るか、Ｗがカルボニル基、式＞＝Ｎ−ＯＶ基若しくは式
   ＞＝Ｎ−ＯＲ＾３′＿ａ基（式中、Ｖ及びＲ＾３′＿ａ
   は前述したものと同意義を示す。）を示すときにはＲ＾
   １と共に二重結合を形成してもよく、ｎは１乃至１０の
   整数を示し、Ｙは酸素原子またはイミノ基を示し、Ｚは
   酸素原子またはイミノ基を示すかあるいはＷがメチレン
   基である場合には硫黄原子を示してもよい。〕で表わさ
   れるチアゾリジン誘導体およびその薬理上許容される塩
   。