JPH0653780U - 真空排気配管 - Google Patents
真空排気配管Info
- Publication number
- JPH0653780U JPH0653780U JP9322592U JP9322592U JPH0653780U JP H0653780 U JPH0653780 U JP H0653780U JP 9322592 U JP9322592 U JP 9322592U JP 9322592 U JP9322592 U JP 9322592U JP H0653780 U JPH0653780 U JP H0653780U
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- Japan
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- turbo molecular
- vacuum
- molecular pump
- pump
- pipe
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- Pending
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空チャンバーにターボ分子ポンプと油回転
ポンプを接続して構成した真空排気装置の、排気能力の
維持を図ることを目的としている。 【構成】 真空チャンバー1にターボ分子ポンプ5と油
回転ポンプ7を順次接続してなる真空排気配管2、3に
おいて、ターボ分子ポンプ5の上流および下流にバルブ
4、6が介設してあり、これらのバルブ間の配管8に、
不活性ガス導入系10が接続してある。
ポンプを接続して構成した真空排気装置の、排気能力の
維持を図ることを目的としている。 【構成】 真空チャンバー1にターボ分子ポンプ5と油
回転ポンプ7を順次接続してなる真空排気配管2、3に
おいて、ターボ分子ポンプ5の上流および下流にバルブ
4、6が介設してあり、これらのバルブ間の配管8に、
不活性ガス導入系10が接続してある。
Description
この考案は真空チャンバーにターボ分子ポンプと油回転ポンプを順次接続して 、真空チャンバー内を10-7Torr以下の圧力の高真空領域および超高真空領域に排 気する真空排気配管に関する。
【0001】
従来、真空チャンバーの内壁に水分が吸着すると、水分の吸着エネルギーが高 い為に、所定の到達圧力まで排気するのに要する時間が極端に長くなることが知 られている。水分の脱着を促進する為に、真空チャンバー壁を加熱しながら排気 することが行なわれている。
【0002】 又、油回転ポンプを停止する際には、作動油の逆流を防ぐ為に、ポンプの上流 側配管に大気を導入している。
【0003】 真空チャンバーにターボ分子ポンプと油回転ポンプを順次接続して構成した真 空排気配管では、油回転ポンプに導入した大気が、真空チャンバー内は勿論のこ と、ターボ分子ポンプ内に流入することは避ける必要があるので、前記ターボ分 子ポンプの上流および下流に夫々バルブを介設していた。
【0004】
前記のように、真空チャンバーに、ターボ分子ポンプと油回転ポンプを順次接 続した真空排気配管においては、排気装置を停止する場合、ターボ分子ポンプの 上流および下流側配管に介設したバルブを閉じ、油回転ポンプに大気を導入する 。従って、次の排気を開始する場合、ターボ分子ポンプ内が高真空状態で封じら れているので、油回転ポンプ側より低い圧力となっており、バルブを開けた際に 油回転ポンプ作動油の蒸発分子がターボ分子ポンプ側に流入(逆流)して、ター ボ分子ポンプ内を汚し、高真空以上の到達圧力までの排気を難しくする問題点が あった。
【0005】
この考案は前記の問題点に鑑みてなされたもので、真空チャンバーにターボ分 子ポンプと油回転ポンプを接続して構成した真空排気装置の、排気能力の維持を 図ることを目的としている。
【0006】 斯る目的を達成するこの考案の真空排気装置は、真空チャンバーにターボ分子 ポンプと油回転ポンプを順次接続してなる真空排気配管において、前記ターボ分 子ポンプの上流および下流にバルブが介設してあり、これらのバルブ間の配管に 不活性ガス導入系が接続してあることを特徴としている。
【0007】 前記不活性ガス導入系には、アルゴンガス、窒素ガス等を用いることができる 。露点の低いものとする為に、純度99.999%以上とすることが望ましい。
【0008】
この考案の真空排気配管では、排気装置を停止する場合、ターボ分子ポンプ内 に不活性ガスを封入することができる。然して封入圧力を、油回転ポンプ側の到 達圧力より高い圧力としておくことによって、ターボ分子ポンプと油回転ポンプ 間の流体の逆流を無くすることができる。
【0009】
以下この考案の実施例を図1に基づいて説明する。図1において1は真空チャ ンバーで主排気系となる真空排気配管2と、副排気系となる真空排気配管3が接 続してある。
【0010】 各真空排気配管2、3は、真空チャンバー1側から、バルブ4、ターボ分子ポ ンプ5、バルブ6、油回転ポンプ7を接続管8、8を介して順次接続して構成し てある。主排気系のターボ分子ポンプ5および油回転ポンプ7の排気速度は、副 排気系の夫々の排気速度より大きいものとしてある。油回転ポンプ7とバルブ6 の配管8には、リークバルブ9が設けてある。
【0011】 前記の真空排気配管2、3のバルブ4とターボ分子ポンプ5の配管8にはガス 導入系10が接続してある。ガス導入系10は、ガスボンベ11、導入管12お よびバルブ13で構成されたもので、導入管12には、圧力調整弁、流量系など が介設されるが図示は省略した。ガスボンベ11は実施例の場合、純度99.9 99%のアルゴンガスが封入されたものを使用した。尚、図中14は圧力ゲージ である。
【0012】 上記実施例の真空排気配管のポンプを停止する場合には、バルブ4、6を閉じ て、バルブ4、6間にガス導入系10のバルブ13を開けて、不活性ガスをター ボ分子ポンプ5およびその上流並びに下流の配管8内に導入すると共に、油回転 ポンプ7の配管8内は、リークバルブ9を開けて大気を導入するようにすること ができる。
【0013】 然して、次に真空チャンバー1の真空排気を行う場合、先ず副排気系の真空排 気配管3側で排気し、次いで主排気系の真空排気配管2で排気する。
【0014】 各真空排気配管を動作させる場合、リークバルブ9を閉じて、油回転ポンプ7 を運転し、油回転ポンプ7とバルブ6の間の配管8内を100 〜10-1Torr程度 まで排気した後、バルブ6を開け、次いでターボ分子ポンプ5を運転した後、バ ルブ4を開けるようにする。副排気系から主排気系への切替えは、真空チャンバ ー1内の圧力が、主排気系のターボ分子ポンプ5内の圧力より高い状態で行う。
【0015】 このようにすることによって、バルブ6、4(特に6)の開操作の際には、上 流側、即ちバルブ6の開の際はターボ分子ポンプ5側、バルブ4の開の際は真空 チャンバー1側が高い圧力になり、配管8内で流体の逆流を無くすることができ る。従って、油回転ポンプ7の作動油の蒸発分子がバルブ6を越えてターボ分子 ポンプ5内に逆流して汚染するのを防止することができる。
【0016】 前記バルブ4、6間のターボ分子ポンプ5へ導入する不活性ガスは、100 〜 10-1Torrより高い圧力で大気圧以下の圧力範囲で導入すれば良いことになる。
【0017】 尚、真空チャンバー1を大気に開放する場合、チャンバー内壁に水分子が吸着 すると、高真空領域或いは超高真空領域に排気する時間が長時間になることは前 記のとうりである。従って、真空チャンバー1を開放する際には、真空チャンバ ー1内に不活性ガスを導入すると共に、大気が流入しない手段(例えば開口部を 不活性ガスによるガスカーテンで遮断する)を付加するのが望ましい。
【0018】
以上に説明したようにこの考案によれば、真空排気配管内に設置したターボ分 子ポンプが大気中の水分子や、油回転ポンプから蒸発する油分子に汚染されない ようにしたので、真空チャンバー側を高真空領域あるいは超高真空領域へ、繰り 返し、短時間で排気可能にできる効果がある。
【図1】この考案の実施例の系統図である。
1 真空チャンバー 2、3 真空排気配管 4、6、13 バルブ 5 ターボ分子ポンプ 7 油回転ポンプ 8 配管 9 リークバルブ 10 ガス導入系 11 ガスボンベ 12 導入管 14 圧力ゲージ
Claims (1)
- 【請求項1】 真空チャンバーに、ターボ分子ポンプと
油回転ポンプを順次接続してなる真空排気配管におい
て、前記ターボ分子ポンプの上流および下流にバルブが
介設してあり、これらのバルブ間の配管に、不活性ガス
導入系が接続してあることを特徴とした真空排気配管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9322592U JPH0653780U (ja) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 真空排気配管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9322592U JPH0653780U (ja) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 真空排気配管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0653780U true JPH0653780U (ja) | 1994-07-22 |
Family
ID=14076610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9322592U Pending JPH0653780U (ja) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 真空排気配管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0653780U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9824883B2 (en) | 2013-12-27 | 2017-11-21 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium |
-
1992
- 1992-12-25 JP JP9322592U patent/JPH0653780U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9824883B2 (en) | 2013-12-27 | 2017-11-21 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Substrate processing apparatus, method of manufacturing semiconductor device, and non-transitory computer-readable recording medium |
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