JPH065383B2 - 紫外線を透過するペリクルとその製法 - Google Patents
紫外線を透過するペリクルとその製法Info
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- JPH065383B2 JPH065383B2 JP23088085A JP23088085A JPH065383B2 JP H065383 B2 JPH065383 B2 JP H065383B2 JP 23088085 A JP23088085 A JP 23088085A JP 23088085 A JP23088085 A JP 23088085A JP H065383 B2 JPH065383 B2 JP H065383B2
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、マイクロリトグラフィ技術におけるフォト
マスクならびにレチクルの保護に使用されるペリクル構
造、特に波長帯域が約240ナノメータを下限とする放射
の約90％またはそれ以上を透過する新規なペリクル構造
に関するものである。
マスクならびにレチクルの保護に使用されるペリクル構
造、特に波長帯域が約240ナノメータを下限とする放射
の約90％またはそれ以上を透過する新規なペリクル構造
に関するものである。
（従来の技術） 薄くて透明な有機フィルムからなるペリクルは、フォト
マスクとレチクルの保護のために使用されており、半導
体装置の製造工程中におけるマイクロリトグラフィにお
ける生産性の向上に役立っている。一般に使用されてい
るペリクルは、マイクロリトグラフィのマスクに固着さ
れ、該マスクとは所定の距離をおいてマスク上に位置し
ている。したがって、マイクロリトグラフィの操作中に
おいて、こまかなダクト粒子は、ペリクルに付着する
が、ワーク表面にフォーカスされない。したがって、フ
ォトリトグラフィック装置に使用される場合には、ダク
ト粒子によるウエファへの悪影響を防ぐことができ、マ
スク及び／またはレチクルをペリクルで保護した場合に
は、ウエファの歩留りは、約40%以上向上する。
マスクとレチクルの保護のために使用されており、半導
体装置の製造工程中におけるマイクロリトグラフィにお
ける生産性の向上に役立っている。一般に使用されてい
るペリクルは、マイクロリトグラフィのマスクに固着さ
れ、該マスクとは所定の距離をおいてマスク上に位置し
ている。したがって、マイクロリトグラフィの操作中に
おいて、こまかなダクト粒子は、ペリクルに付着する
が、ワーク表面にフォーカスされない。したがって、フ
ォトリトグラフィック装置に使用される場合には、ダク
ト粒子によるウエファへの悪影響を防ぐことができ、マ
スク及び／またはレチクルをペリクルで保護した場合に
は、ウエファの歩留りは、約40%以上向上する。
このようなペリクルについては、「セミコンダクタ・イ
ンターナショナル」8,97(1981)のR.Hershel著の文献に
開示されている。これらの使用は、また、「SPIEオプチ
カル・マイクロリトグラフィ」Vol.334,52(1982)のA.Ra
ngappan,C.Kao著の文献やI.Ward,Dawn Duly著「オプチ
カル・マイクロリトグラフィIII」：「テクノロジィ・
フォア・ザ・ネクスト・デケード」SPIE Vol.470(1984)
147〜156頁などに紹介されている。
ンターナショナル」8,97(1981)のR.Hershel著の文献に
開示されている。これらの使用は、また、「SPIEオプチ
カル・マイクロリトグラフィ」Vol.334,52(1982)のA.Ra
ngappan,C.Kao著の文献やI.Ward,Dawn Duly著「オプチ
カル・マイクロリトグラフィIII」：「テクノロジィ・
フォア・ザ・ネクスト・デケード」SPIE Vol.470(1984)
147〜156頁などに紹介されている。
現在一般に市販されているペリクルは、例えば本出願人
のものがあり、これは、約2.85ミクロンの厚さのニトロ
セルロースからなる膜材である。このようなニトロセル
ロースのペリクルは、現在のマイクロリトグラフィ技術
の要求を満足させる光透過特性を有している。ニトロセ
ルロース以外のフィルムもペリクルの素材として使用さ
れており、例えば、マイラー、セルロースアセテート、
パリレン（ポリ（クロロ-p-キシシレン））及びセルロ
ースアセテート（ブチレートなし）などの材料により作
られている。これらの例のほかにも種々のものがある。
のものがあり、これは、約2.85ミクロンの厚さのニトロ
セルロースからなる膜材である。このようなニトロセル
ロースのペリクルは、現在のマイクロリトグラフィ技術
の要求を満足させる光透過特性を有している。ニトロセ
ルロース以外のフィルムもペリクルの素材として使用さ
れており、例えば、マイラー、セルロースアセテート、
パリレン（ポリ（クロロ-p-キシシレン））及びセルロ
ースアセテート（ブチレートなし）などの材料により作
られている。これらの例のほかにも種々のものがある。
（発明が解決しようとする問題点） 前記したニトロセルロースのペリクルは、波長が360ナ
ノメータ以下の短い波長の光透過性に甚だしく劣るが、
最近の技術においては、紫外線の中間帯域、特に280〜3
60ナノメータの範囲の波長のものを透過する特性がペリ
クルに要求されている。このような特性のペリクルの素
材としては、経済的に製造でき、機械強度にすぐれ、前
記マスクと接触しないような配置位置での設置が可能
で、紫外線放射に対する抵抗力があって、容易に劣化せ
ず、操作ならびにクリーニングの際になかなか破けない
などの特性のものが要求される。また、ペリクルのフィ
ルムは、薄く均一な厚さのもので、マイクロリトグラフ
ィック・プロセスの光学特性に支障を来たさないもので
なければならない。
ノメータ以下の短い波長の光透過性に甚だしく劣るが、
最近の技術においては、紫外線の中間帯域、特に280〜3
60ナノメータの範囲の波長のものを透過する特性がペリ
クルに要求されている。このような特性のペリクルの素
材としては、経済的に製造でき、機械強度にすぐれ、前
記マスクと接触しないような配置位置での設置が可能
で、紫外線放射に対する抵抗力があって、容易に劣化せ
ず、操作ならびにクリーニングの際になかなか破けない
などの特性のものが要求される。また、ペリクルのフィ
ルムは、薄く均一な厚さのもので、マイクロリトグラフ
ィック・プロセスの光学特性に支障を来たさないもので
なければならない。
（問題点を解決するための手段） 前記問題点を解決するための具体的手段として、この発
明は、ペリクルの成形要素として、セルロース・アセテ
ート・ブチレートを採用したもので、これは、紫外線透
過特性に秀れており、特に波長（周波数）が240〜290ナ
ノメータの遠紫外線ならびに波長が290〜360ナノメータ
の中間紫外線の放射に対し、独立の膜状体として要求さ
れる強度、耐久特性を備えている。さらに、この発明の
ペリクルは、反射防止コーティングを施せば、約240ナ
ノメータを下限とする波長のものに有効であり、この発
明のペリクル（セルロース・アセテート・ブチレート・
フィルム）の両面に反射防止コーティングを施せば、シ
リカ・マスク基体の透過周波数の下限である約190ナノ
メータとほぼ同様の低い周波数のものを透過する特性を
有する。
明は、ペリクルの成形要素として、セルロース・アセテ
ート・ブチレートを採用したもので、これは、紫外線透
過特性に秀れており、特に波長（周波数）が240〜290ナ
ノメータの遠紫外線ならびに波長が290〜360ナノメータ
の中間紫外線の放射に対し、独立の膜状体として要求さ
れる強度、耐久特性を備えている。さらに、この発明の
ペリクルは、反射防止コーティングを施せば、約240ナ
ノメータを下限とする波長のものに有効であり、この発
明のペリクル（セルロース・アセテート・ブチレート・
フィルム）の両面に反射防止コーティングを施せば、シ
リカ・マスク基体の透過周波数の下限である約190ナノ
メータとほぼ同様の低い周波数のものを透過する特性を
有する。
セルロース・アセテート・ブチレートの好ましい組成例
の一例は、ブチリル含量が約15％で、粘度が15sec(SSU)
のものである。このような材料は、イーストマン・コダ
ック社から市販されており、ホットメルトまたは高光沢
コーティング及び保護コーティングに用いられる剥離可
能コーティング用として製造されている。このイースト
マン・コダック社のセルロース・アセテート・ブチレー
トのコーティングは、同社の商品紹介雑誌（1973年７月
発行）のNo.3.4A,E-101B,E-184Aに掲載されているが、
このコーティングは、木肌面に塗布され、その仕上げ化
粧を行なったり、金属面に塗布されて、保護被膜として
使用されるという使用態様のみのものとして紹介されて
いるにすぎない。
の一例は、ブチリル含量が約15％で、粘度が15sec(SSU)
のものである。このような材料は、イーストマン・コダ
ック社から市販されており、ホットメルトまたは高光沢
コーティング及び保護コーティングに用いられる剥離可
能コーティング用として製造されている。このイースト
マン・コダック社のセルロース・アセテート・ブチレー
トのコーティングは、同社の商品紹介雑誌（1973年７月
発行）のNo.3.4A,E-101B,E-184Aに掲載されているが、
このコーティングは、木肌面に塗布され、その仕上げ化
粧を行なったり、金属面に塗布されて、保護被膜として
使用されるという使用態様のみのものとして紹介されて
いるにすぎない。
前記したセルロース・アセテート・ブチレートは、例え
ば、シクロヘキサノンのような溶剤に可溶のものであっ
て、溶剤に溶かすと、濾過できる程度の粘度となり、ガ
ラス基板にスピン・コートできるものである。例えば、
固体コンテントとしての３〜10重量％のセルロース・ア
セテート・ブチレートをシクロヘキサノンで溶解し、塗
布すべき基体を約300〜2000rpmの回転速度で回転し、該
基体の上に前記の溶解したものをスピン・コートして、
所望の膜厚の皮膜が得られる時間でスピンすると、所望
の膜厚の皮膜が得られる。スピンさせる時間は、スピン
装置の環境条件と溶剤凝縮力により定まる。このような
スピン・コート・プロセスにより、最適な薄さのコーテ
ィングが得られるものであり、回転スピードなどのパラ
メータを調節することにより、厚さが2.85ミクロンのも
のが得られるもので、この条件としては、回転速度が40
0〜600rpm、通常500rpmのスピン速度が選ばれる。該フ
ィルムの厚さは、１〜５ミクロンの範囲のものである。
ば、シクロヘキサノンのような溶剤に可溶のものであっ
て、溶剤に溶かすと、濾過できる程度の粘度となり、ガ
ラス基板にスピン・コートできるものである。例えば、
固体コンテントとしての３〜10重量％のセルロース・ア
セテート・ブチレートをシクロヘキサノンで溶解し、塗
布すべき基体を約300〜2000rpmの回転速度で回転し、該
基体の上に前記の溶解したものをスピン・コートして、
所望の膜厚の皮膜が得られる時間でスピンすると、所望
の膜厚の皮膜が得られる。スピンさせる時間は、スピン
装置の環境条件と溶剤凝縮力により定まる。このような
スピン・コート・プロセスにより、最適な薄さのコーテ
ィングが得られるものであり、回転スピードなどのパラ
メータを調節することにより、厚さが2.85ミクロンのも
のが得られるもので、この条件としては、回転速度が40
0〜600rpm、通常500rpmのスピン速度が選ばれる。該フ
ィルムの厚さは、１〜５ミクロンの範囲のものである。
ガラス基体と、その上面にスピンコートされたフィルム
とは、浴（水）に浸漬され、フィルムは、該基体から剥
がれ、メタルフレーム（金属枠）にぴんと張られれて、
エポキシ系などの接着剤で固着される。
とは、浴（水）に浸漬され、フィルムは、該基体から剥
がれ、メタルフレーム（金属枠）にぴんと張られれて、
エポキシ系などの接着剤で固着される。
前記のペリクル・フィルムの片面または両面には、フッ
化カルシュウムなどの組成からなる反射防止コーティン
グを施すことができる。セルロース・アセテート・ブチ
レートのの反射率は、ニトロセルロースのそれとほぼ同
じであり、低反射コーティングが有効となる。
化カルシュウムなどの組成からなる反射防止コーティン
グを施すことができる。セルロース・アセテート・ブチ
レートのの反射率は、ニトロセルロースのそれとほぼ同
じであり、低反射コーティングが有効となる。
この発明のペリクル・フィルムは、例えば、厚さが2.85
ミクロンであって、280〜360ナノメータの中間紫外線の
約90％以上を反射防止コーティングなしに透過する特性
を有する。また、約280ナノメータ以下の遠紫外線を透
過する。反射防止コーティングが前記ペリクルの片面ま
たは両面に形成されると、遠紫外線の透過特性は、さら
に向上し、約240ナノメータ以上の周波数のもいのを90
％以上透過する。このように、反射防止コーティングに
より、240〜600ナノメータの帯域にある入射光線の約90
％以上が透過される。
ミクロンであって、280〜360ナノメータの中間紫外線の
約90％以上を反射防止コーティングなしに透過する特性
を有する。また、約280ナノメータ以下の遠紫外線を透
過する。反射防止コーティングが前記ペリクルの片面ま
たは両面に形成されると、遠紫外線の透過特性は、さら
に向上し、約240ナノメータ以上の周波数のもいのを90
％以上透過する。このように、反射防止コーティングに
より、240〜600ナノメータの帯域にある入射光線の約90
％以上が透過される。
また、この発明のペリクルは、機械的強度、耐薬品性に
秀れ、ペリクルをクリーニングするクリーニング剤にお
かされず。照射される紫外線にも強い特性を有する。
秀れ、ペリクルをクリーニングするクリーニング剤にお
かされず。照射される紫外線にも強い特性を有する。
（実施例） この発明を実施例により詳細に説明する。
第１図と第２図は、ペリクルが施された従来の構造のマ
スクを示すもので、上面にメタリックのパターン１１が
形成されたシリカ・マスク１０を備えている（第２
図）。第１、２図に図示されているペリクルは、薄い有
機フィルム１２からなるもので、矩形のメタルフレーム
１３に固定されている。前記のフレームは、マイクロリ
トグラフィ・プロセス（ウエファーの精密露光処理）に
使用されるプロジェクション・アライナーまたはステッ
プ・リピート・アライナーに装着される態様に応じた形
状になっている。そして、フィルム領域は、所望の領域
または前記プロセスにおいて必要な領域のもので、下側
に配置のマスクの形状に合致するものである。
スクを示すもので、上面にメタリックのパターン１１が
形成されたシリカ・マスク１０を備えている（第２
図）。第１、２図に図示されているペリクルは、薄い有
機フィルム１２からなるもので、矩形のメタルフレーム
１３に固定されている。前記のフレームは、マイクロリ
トグラフィ・プロセス（ウエファーの精密露光処理）に
使用されるプロジェクション・アライナーまたはステッ
プ・リピート・アライナーに装着される態様に応じた形
状になっている。そして、フィルム領域は、所望の領域
または前記プロセスにおいて必要な領域のもので、下側
に配置のマスクの形状に合致するものである。
フィルム１２は、これまで、種々の素材により作られて
おり、特に厚さが2.85ミクロンのニトロセルロースによ
り作られている。このフィルムの厚さは、0.865ミクロ
ンのような極めて薄い場合もある。市販されているペリ
クルとしては、本出願人の製造に係る“Ｔｙｐｅ １”
と称されているニトロセルロースフィルムのペリクルが
あり、このペリクルの厚さは、2.85ミクロンであって、
そのスペクトル透過特性は、第３図に示すとおりのもの
である。
おり、特に厚さが2.85ミクロンのニトロセルロースによ
り作られている。このフィルムの厚さは、0.865ミクロ
ンのような極めて薄い場合もある。市販されているペリ
クルとしては、本出願人の製造に係る“Ｔｙｐｅ １”
と称されているニトロセルロースフィルムのペリクルが
あり、このペリクルの厚さは、2.85ミクロンであって、
そのスペクトル透過特性は、第３図に示すとおりのもの
である。
第３図において、グラフの横軸は、標準の高圧水銀ラン
プの波長（ナノメータ）を示し、縦軸はペリクルを透過
するスペクトルの透過率を示す。第３図に示すように、
従来のペリクルは、350〜450ナノメータの間の帯域にお
いて、点線で示した波長ｉ、ｈ、ｇでオペレートされ
る。この場合、特に注目すべき点は、第３図の特性をも
つペリクルは、光透過率が約360ナノメータ以下で急激
に減少していることから、比較的ディープな紫外線（遠
紫外線）処理に使用できないことである。
プの波長（ナノメータ）を示し、縦軸はペリクルを透過
するスペクトルの透過率を示す。第３図に示すように、
従来のペリクルは、350〜450ナノメータの間の帯域にお
いて、点線で示した波長ｉ、ｈ、ｇでオペレートされ
る。この場合、特に注目すべき点は、第３図の特性をも
つペリクルは、光透過率が約360ナノメータ以下で急激
に減少していることから、比較的ディープな紫外線（遠
紫外線）処理に使用できないことである。
第３図の特性をもつニトロセルロースフィルムは、各種
の方法により作ることができ、基体へのフォトレジスト
のスピニング塗装に使用されている周知技術のスピニン
グ・プロセスによる製造方法が好ましい。そして、成形
されたフィルムは、常法により浴（水）から引き上げら
れ、第１、２図のフレーム１３のようなフレームに接着
され、ぴんと伸長される。
の方法により作ることができ、基体へのフォトレジスト
のスピニング塗装に使用されている周知技術のスピニン
グ・プロセスによる製造方法が好ましい。そして、成形
されたフィルムは、常法により浴（水）から引き上げら
れ、第１、２図のフレーム１３のようなフレームに接着
され、ぴんと伸長される。
前記のペリクルのスペクトル透過特性を改良する手段と
しては、該ペリクルの一方の面に反射防止コーティング
を施す処理が知られている。これによって、厚さ2.85ミ
クロンのニトロセルロースフィルムのスペクトル透過特
性は、第４図に示すように改良することができる。
しては、該ペリクルの一方の面に反射防止コーティング
を施す処理が知られている。これによって、厚さ2.85ミ
クロンのニトロセルロースフィルムのスペクトル透過特
性は、第４図に示すように改良することができる。
また、他の改良手段としては、ペリクルの両面に反射防
止コーティングを施す方法であって、これによって、第
５図に示すとおりの結果が得られる。反射防止コーティ
ングは、例えば、通常知られているカルシューム弗化物
によるコーティングなどの任意のタイプのものである。
止コーティングを施す方法であって、これによって、第
５図に示すとおりの結果が得られる。反射防止コーティ
ングは、例えば、通常知られているカルシューム弗化物
によるコーティングなどの任意のタイプのものである。
この発明によれば、ペリクルを構成するフィルム１２
は、セルロース・アセテート・ブチレートにより作られ
ている。この発明の一実施例においては、セルロース・
アセテート・ブチレートは、約15％のブチリルを含み、
粘度が15sec(SSU)である。この素材は、イーストマン・
コダック社から市販（カタログNo.4623,CAS登録第900-3
6-8）されている。該素材の粘度範囲は、５〜20sec(SS
U)の範囲に変更でき、ブチリル含量は、５〜40％の範囲
で変更できる。そして、該素材は、シクロヘキサノンの
溶剤中で、重量比３〜10％の個体が溶解され、適度の粘
度となって、濾過され、ついでガラス基体にスピンニン
グ・コートされる。
は、セルロース・アセテート・ブチレートにより作られ
ている。この発明の一実施例においては、セルロース・
アセテート・ブチレートは、約15％のブチリルを含み、
粘度が15sec(SSU)である。この素材は、イーストマン・
コダック社から市販（カタログNo.4623,CAS登録第900-3
6-8）されている。該素材の粘度範囲は、５〜20sec(SS
U)の範囲に変更でき、ブチリル含量は、５〜40％の範囲
で変更できる。そして、該素材は、シクロヘキサノンの
溶剤中で、重量比３〜10％の個体が溶解され、適度の粘
度となって、濾過され、ついでガラス基体にスピンニン
グ・コートされる。
溶剤としては、そのほか、有機アセテート、ケトン、エ
チレン、プロピレン・クロライドなどのものが使用でき
る。これらの溶剤により良好なフィルムが得られるもの
であるが、シクロヘキサノンは、良好な濾過作用に役立
つ。
チレン、プロピレン・クロライドなどのものが使用でき
る。これらの溶剤により良好なフィルムが得られるもの
であるが、シクロヘキサノンは、良好な濾過作用に役立
つ。
前記したスピニング・プロセスは、前記した基体へのフ
ォトレジストのスピニング塗装に用いられているコンベ
ンショナルなスピン・プロセスと基本的に同じ方法であ
る。このように、固体重量比が３〜10％溶液において
は、300〜2,000rpmのスピン操作が行なわれて、厚さが
１ミクロンから５ミクロンのペリクルが得られる。厚さ
が2.85ミクロンのペリクルを作る場合、溶液を固体重量
比６％のものであると、スピン速度は、400〜600rpm、
通常500rpmである。
ォトレジストのスピニング塗装に用いられているコンベ
ンショナルなスピン・プロセスと基本的に同じ方法であ
る。このように、固体重量比が３〜10％溶液において
は、300〜2,000rpmのスピン操作が行なわれて、厚さが
１ミクロンから５ミクロンのペリクルが得られる。厚さ
が2.85ミクロンのペリクルを作る場合、溶液を固体重量
比６％のものであると、スピン速度は、400〜600rpm、
通常500rpmである。
フィルム形成後、ガラス基板とフィルムは、水の浴中に
浸漬され、フィルムがガラス基板から分離される。つい
で、該フィルムは、支持フレーム（第１、２図の支持フ
ィルム１３）に適当なエポキシ系接着剤により接着さ
れ、ぴんと引き伸ばされる。
浸漬され、フィルムがガラス基板から分離される。つい
で、該フィルムは、支持フレーム（第１、２図の支持フ
ィルム１３）に適当なエポキシ系接着剤により接着さ
れ、ぴんと引き伸ばされる。
ペリクル・フィルムの厚さが2.85ミクロンの場合、第６
図に示すようにスペクトル透過特性が得られた。
図に示すようにスペクトル透過特性が得られた。
第６図のスペクトル透過特性を調べると、前記した厚さ
2.85ミクロンのセルロース・アセテート・ブチレート・
フィルムの240ナノメータにおけるスペクトル透過特性
は、約0.72％より大きく、250ナノメータにおいては、
ピークの90％に達していることが観察できる。これらの
スペクトル透過特性は、フォトマイクロリトグラフィ処
理においては、遠紫外線領域においての実施に適してい
る。透過特性は、ペリクルの一方または両方の面に反射
防止加工を施すことにより、改良されている。かくて、
第７図に示すように、240ナノメータにおける透過率
は、80％を越え、第８図に示すように、240ナノメータ
における透過率は、ほぼ90％に達している。
2.85ミクロンのセルロース・アセテート・ブチレート・
フィルムの240ナノメータにおけるスペクトル透過特性
は、約0.72％より大きく、250ナノメータにおいては、
ピークの90％に達していることが観察できる。これらの
スペクトル透過特性は、フォトマイクロリトグラフィ処
理においては、遠紫外線領域においての実施に適してい
る。透過特性は、ペリクルの一方または両方の面に反射
防止加工を施すことにより、改良されている。かくて、
第７図に示すように、240ナノメータにおける透過率
は、80％を越え、第８図に示すように、240ナノメータ
における透過率は、ほぼ90％に達している。
（発明の効果） この発明によれば、ペリクルのフィルム素材は、セルロ
ース・アセテート・ブチレートであって、厚さが薄く均
一なものが得られ、セミコンダクタの製造における紫外
線放射に有効であるなどのすぐれた効果を奏する。
ース・アセテート・ブチレートであって、厚さが薄く均
一なものが得られ、セミコンダクタの製造における紫外
線放射に有効であるなどのすぐれた効果を奏する。
第１図は、導電コーティングが表面に施されて、ペリク
ルで覆われているシリカマスクの一部を示す平面図、 第２図は、第１図２−２線矢視方向断面図、 第３図は、厚さが2.85ミクロンであるニトロセルローウ
ス・フィルムからなる従来構造のペリクルのスペクトル
透過特性を示すグラフ、 第４図は、フィルムの片面に反射防止コーティングが施
された第３図のニトロセルロース・ペリクルのスペクト
ル透過特性を示すグラフ、 第５図は、フィルムの両面に反射防止コーティングが施
された第３図のニトロセルロース・ペリクルのスペクト
ル透過特性を示すグラフ、 第６図は、この発明に係るセルロース・アセテート・ブ
チレートのペリクル・フィルムのスペクトル透過特性を
示すグラフ、 第７図は、フィルムの片面に反射防止コーティングが施
された第６図のセルロース・アセテート・ブチレートの
ペリクル・フィルムのスペクトル透過特性を示すグラ
フ、 第８図は、フィルムの両面に反射防止コーティングが施
された第６図のセルロース・アセテート・ブチレートの
ペリクル・フィルムのスペクトル透過特性を示すグラフ
である。 １０……シリカ・マスク １１……パターン １２……フィルム １３……メタルフレーム
ルで覆われているシリカマスクの一部を示す平面図、 第２図は、第１図２−２線矢視方向断面図、 第３図は、厚さが2.85ミクロンであるニトロセルローウ
ス・フィルムからなる従来構造のペリクルのスペクトル
透過特性を示すグラフ、 第４図は、フィルムの片面に反射防止コーティングが施
された第３図のニトロセルロース・ペリクルのスペクト
ル透過特性を示すグラフ、 第５図は、フィルムの両面に反射防止コーティングが施
された第３図のニトロセルロース・ペリクルのスペクト
ル透過特性を示すグラフ、 第６図は、この発明に係るセルロース・アセテート・ブ
チレートのペリクル・フィルムのスペクトル透過特性を
示すグラフ、 第７図は、フィルムの片面に反射防止コーティングが施
された第６図のセルロース・アセテート・ブチレートの
ペリクル・フィルムのスペクトル透過特性を示すグラ
フ、 第８図は、フィルムの両面に反射防止コーティングが施
された第６図のセルロース・アセテート・ブチレートの
ペリクル・フィルムのスペクトル透過特性を示すグラフ
である。 １０……シリカ・マスク １１……パターン １２……フィルム １３……メタルフレーム
Claims (18)
- 【請求項１】セルロース・アセテート・ブチレートから
なる均一な厚さの薄いフィルムを支持のフレームに緊張
に張りわたしてなるペリクル。 - 【請求項２】フィルムの厚さが約１ミクロンから約５ミ
クロンである特許請求の範囲第１項記載のペリクル。 - 【請求項３】前記フレームは、シリカ・マスクに装着さ
れるに適した構成を有する特許請求の範囲第１項記載の
ペリクル。 - 【請求項４】反射防止コーティングが施されていない前
記薄いフィルムがつぎのようなスペクトル透過特性、す
なわち、280〜360ナノメータの周波数帯域の光線の平均
約90％以上が前記フィルムを透過する特性を有する特許
請求の範囲第１項記載のペリクル。 - 【請求項５】前記フィルムは、そのいずれかの面に反射
防止コーティングが施されている特許請求の範囲第１項
記載のペリクル。 - 【請求項６】240〜600ナノメータの周波数帯域の光線の
平均約90％以上の光線が前記フィルムを透過する特許請
求の範囲第５項記載のペリクル。 - 【請求項７】フィルムの厚さが約2.85ミクロンである特
許請求の範囲第３項記載のペリクル。 - 【請求項８】フィルムの厚さが約2.85ミクロンである特
許請求の範囲第４項記載のペリクル。 - 【請求項９】フィルムの厚さが約2.85ミクロンである特
許請求の範囲第５項記載のペリクル。 - 【請求項１０】フィルムの厚さが約2.85ミクロンである
特許請求の範囲第６項記載のペリクル。 - 【請求項１１】セルロース・アセテート・ブチレートを
溶剤に溶解し、前記溶解したセルロース・アセテート・
ブチレートと溶剤を濾過し、これら回転する基体の上に
塗布してスピンコートし、溶剤をとばしてセルロース・
アセテート・ブチレートの厚さが均一なフィルムを成形
し、このように成形されたフィルムを前記基体から引き
剥がして支持のフレームにぴんと張りわたす工程からな
るペリクルの製法。 - 【請求項１２】セルロース・アセテート・ブチレート
は、50％から40％のブチリルを含み、粘度が５〜20sec
(SSU)である特許請求の範囲第11項記載のペリクルの製
法。 - 【請求項１３】前記溶剤は、シクロヘキサノンである特
許請求の範囲第12項記載のペリクルの製法。 - 【請求項１４】セルロース・アセテート・ブチレート
は、15％のブチリルを含み、粘度が約15sec(SSU)である
特許請求の範囲第11項記載のペリクルの製法。 - 【請求項１５】セルロース・アセテート・ブチレート
は、15％のブチリルを含み、粘度が約15sec(SSU)である
特許請求の範囲第13項記載のペリクルの製法。 - 【請求項１６】セルロース・アセテート・ブチレートが
前記溶剤に約３〜10重量％溶解されている特許請求の範
囲第11項記載のペリクルの製法。 - 【請求項１７】セルロース・アセテート・ブチレートが
前記溶剤に約３〜10重量％溶解されている特許請求の範
囲第13項記載のペリクルの製法。 - 【請求項１８】前記スピン速度が300〜2000rpmの範囲に
ある特許請求の範囲第11項記載のペリクルの製法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US66157784A | 1984-10-16 | 1984-10-16 | |
| US661577 | 1984-10-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61106243A JPS61106243A (ja) | 1986-05-24 |
| JPH065383B2 true JPH065383B2 (ja) | 1994-01-19 |
Family
ID=24654183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23088085A Expired - Lifetime JPH065383B2 (ja) | 1984-10-16 | 1985-10-16 | 紫外線を透過するペリクルとその製法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH065383B2 (ja) |
| DE (1) | DE3536708A1 (ja) |
| FR (1) | FR2573219B1 (ja) |
| GB (1) | GB2165545B (ja) |
| IT (1) | IT1187747B (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1330860C (en) * | 1987-10-26 | 1994-07-26 | Muneyuki Matsumoto | Dust-proof film |
| JP5950467B2 (ja) * | 2013-09-24 | 2016-07-13 | 信越化学工業株式会社 | ペリクル |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB716398A (en) * | 1952-07-07 | 1954-10-06 | Rose Rand | Improvements in or relating to purses or handbags |
| US3549248A (en) * | 1967-12-15 | 1970-12-22 | Polaroid Corp | Optical devices comprising cellulose acetate and cellulose acetate butyrate |
| US4453828A (en) * | 1981-12-02 | 1984-06-12 | Advanced Semiconductor Products, Inc. | Apparatus and methods for measuring the optical thickness and index of refraction of thin, optical membranes |
| JPS58219023A (ja) * | 1982-06-15 | 1983-12-20 | Daicel Chem Ind Ltd | 樹脂薄膜の製造方法 |
| US4482591A (en) * | 1983-03-08 | 1984-11-13 | J. T. Baker Chemical Company | Polyvinyl butyrate pellicle compositions and pellicles thereof for projection printing |
-
1985
- 1985-09-25 GB GB08523609A patent/GB2165545B/en not_active Expired
- 1985-10-02 IT IT22329/85A patent/IT1187747B/it active
- 1985-10-03 FR FR858514692A patent/FR2573219B1/fr not_active Expired
- 1985-10-15 DE DE19853536708 patent/DE3536708A1/de not_active Withdrawn
- 1985-10-16 JP JP23088085A patent/JPH065383B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3536708A1 (de) | 1986-04-17 |
| IT8522329A0 (it) | 1985-10-02 |
| GB2165545B (en) | 1988-03-30 |
| IT1187747B (it) | 1987-12-23 |
| GB8523609D0 (en) | 1985-10-30 |
| JPS61106243A (ja) | 1986-05-24 |
| FR2573219B1 (fr) | 1989-02-03 |
| GB2165545A (en) | 1986-04-16 |
| FR2573219A1 (fr) | 1986-05-16 |
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