JPH0656864A - ベータ−アノマーに富む２−デオキシ−２，２−ジフルオロ−ｄ−リボフラノシル−アリールスルホネートの製造法 - Google Patents
ベータ−アノマーに富む２−デオキシ−２，２−ジフルオロ−ｄ−リボフラノシル−アリールスルホネートの製造法Info
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- JPH0656864A JPH0656864A JP5149146A JP14914693A JPH0656864A JP H0656864 A JPH0656864 A JP H0656864A JP 5149146 A JP5149146 A JP 5149146A JP 14914693 A JP14914693 A JP 14914693A JP H0656864 A JPH0656864 A JP H0656864A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H13/00—Compounds containing saccharide radicals esterified by carbonic acid or derivatives thereof, or by organic acids, e.g. phosphonic acids
- C07H13/02—Compounds containing saccharide radicals esterified by carbonic acid or derivatives thereof, or by organic acids, e.g. phosphonic acids by carboxylic acids
- C07H13/08—Compounds containing saccharide radicals esterified by carbonic acid or derivatives thereof, or by organic acids, e.g. phosphonic acids by carboxylic acids having the esterifying carboxyl radicals directly attached to carbocyclic rings
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H11/00—Compounds containing saccharide radicals esterified by inorganic acids; Metal salts thereof
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 下記式（Ｉ）
［式中、Ｘはヒドロキシ保護基、Ｙは（置換）アリール
スルホネート］で表されるベータ-アノマーに富むリボ
フラノシル誘導体を製造するための立体選択的方法であ
って、下記式（II） で表されるラクトールを不活性溶媒中で酸補集剤および
スルホネート化試薬と接触させることからなる方法。 【効果】 上記の方法によりベータ-アノマー誘導体が
立体選択的に生成する。
スルホネート］で表されるベータ-アノマーに富むリボ
フラノシル誘導体を製造するための立体選択的方法であ
って、下記式（II） で表されるラクトールを不活性溶媒中で酸補集剤および
スルホネート化試薬と接触させることからなる方法。 【効果】 上記の方法によりベータ-アノマー誘導体が
立体選択的に生成する。
Description
【０００１】本発明は、抗新生物および／または抗ウイ
ルス物質を製造する際の中間体として使用するための２
-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-１-β
-アリールスルホネートを製造する方法に関する。
ルス物質を製造する際の中間体として使用するための２
-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-１-β
-アリールスルホネートを製造する方法に関する。
【０００２】フッ素置換はヌクレオシドの生物学的活性
を増強し、化学的または代謝的安定性を増大させる手段
として、薬物研究および生化学の分野で詳細に研究され
てきた。生物活性分子の水素をフッ素で置換すること
は、その分子の受容体または酵素への結合の様式に関し
て最小限度の立体的変動をもたらし、ヌクレオシドの化
学的および酵素的不安定性の問題を克服する助けになる
と期待される。
を増強し、化学的または代謝的安定性を増大させる手段
として、薬物研究および生化学の分野で詳細に研究され
てきた。生物活性分子の水素をフッ素で置換すること
は、その分子の受容体または酵素への結合の様式に関し
て最小限度の立体的変動をもたらし、ヌクレオシドの化
学的および酵素的不安定性の問題を克服する助けになる
と期待される。
【０００３】デオキシジフルオロリボフラノシル誘導体
は、デオキシジフルオロリボフラノシル誘導体と核酸塩
基の間のカップリングまたは縮合反応によってデオキシ
ジフルオロヌクレオシドを製造するために使用される。
しかし、デオキシジフルオロリボフラノシル誘導体は主
としてアノマー混合物として存在するので、上記カップ
リング反応からはデオキシジフルオロヌクレオシド産物
のアノマー混合物が得られる。
は、デオキシジフルオロリボフラノシル誘導体と核酸塩
基の間のカップリングまたは縮合反応によってデオキシ
ジフルオロヌクレオシドを製造するために使用される。
しかし、デオキシジフルオロリボフラノシル誘導体は主
としてアノマー混合物として存在するので、上記カップ
リング反応からはデオキシジフルオロヌクレオシド産物
のアノマー混合物が得られる。
【０００４】２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフ
ラノシル-１-α-ハロ誘導体合成の中間体として、ある
いはα-アノマーヌクレオシドを立体選択的に製造する
ためのカップリング反応における中間体として使用する
ために、ベータ-アノマーに富む２-デオキシ-２,２-ジ
フルオロ-Ｄ-リボフラノシル-１-アリールスルホネート
誘導体を製造する立体選択的方法が現在も必要とされて
いる。
ラノシル-１-α-ハロ誘導体合成の中間体として、ある
いはα-アノマーヌクレオシドを立体選択的に製造する
ためのカップリング反応における中間体として使用する
ために、ベータ-アノマーに富む２-デオキシ-２,２-ジ
フルオロ-Ｄ-リボフラノシル-１-アリールスルホネート
誘導体を製造する立体選択的方法が現在も必要とされて
いる。
【０００５】したがって、本発明の１つの目的はベータ
-アノマーに富む２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リ
ボフラノシル-１-アリールスルホネートを製造するため
の立体選択的方法を提供することである。
-アノマーに富む２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リ
ボフラノシル-１-アリールスルホネートを製造するため
の立体選択的方法を提供することである。
【０００６】本発明のもう１つの目的は、ベータ-アノ
マーに富む２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラ
ノシル-１-アリールスルホネートを高収率で製造するた
めの立体選択的方法を提供することである。
マーに富む２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラ
ノシル-１-アリールスルホネートを高収率で製造するた
めの立体選択的方法を提供することである。
【０００７】本発明により、式：
【化３】 ［式中、各Ｘはヒドロキシ保護基から独立に選択され、
Ｙはアリールスルホネートおよび置換アリールスルホネ
ートからなる群から選択される］で表されるベータ-ア
ノマーに富むリボフラノシル誘導体を製造するための立
体選択的方法であって、式：
Ｙはアリールスルホネートおよび置換アリールスルホネ
ートからなる群から選択される］で表されるベータ-ア
ノマーに富むリボフラノシル誘導体を製造するための立
体選択的方法であって、式：
【化４】 ［式中、Ｘは上記と同意義である］で表されるラクトー
ル(lactol)を不活性溶媒中で酸補集剤およびスルホネー
ト化試薬と接触させることからなる方法が提供される。
ル(lactol)を不活性溶媒中で酸補集剤およびスルホネー
ト化試薬と接触させることからなる方法が提供される。
【０００８】本明細書では特に示さない限り一貫してす
べての温度を摂氏温度で表し、百分率などのすべての比
率を重量単位で表し、すべての混合物を体積単位で表
す。アノマー混合物を重量／重量比または百分率として
表す。用語「キシレン」はキシレンのすべての異性体お
よびそれらの混合物を表す。用語「ラクトール」は単独
で、もしくは組み合わされて、３,５-ヒドロキシ保護２
-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノースを表
す。用語「ハロ」は単独で、あるいは組み合わされて、
クロロ、ヨード、フルオロおよびブロモハロゲンを表
す。用語「アルキル」は単独で、あるいは組み合わされ
て直鎖、環状および分枝鎖の脂肪族炭化水素基であっ
て、好ましくは７炭素原子までを含有するもの、例えば
メチル、エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブチ
ル、ｔ-ブチル、ｎ-ペンチル、ｎ-ヘキシル、３-メチル
ペンチル基など、あるいは置換された直鎖、環状および
分枝鎖脂肪族炭化水素、例えば、クロロエタン、１,２-
ジクロロエタン、トリフルオロメタンなどを表す。用語
「アルコキシ」は単独で、あるいは組み合わされて、一
般式ＲＯで表される化合物を意味する(ここにＲは上に
定義したアルキルを表す)。用語「アリール」は単独
で、もしくは組み合わされて炭素環式および複素環式化
合物、例えばフェニル、ナフチル、チエニルおよびそれ
らの置換誘導体を表す。用語「芳香族」は単独で、ある
いは組み合わされて、(４ｎ＋２)非極在化π電子を含有
するベンゼン様構造を意味する。用語「スルホネート」
は単独で、あるいは組み合わされて、一般式ＢＳＯ3(こ
こにＢは上に定義したアリール基を表す)で表される化
合物を意味する。用語「置換」は単独で、あるいは組み
合わされて、水素または一般的な部分を、シアノ、ハ
ロ、カルボアルコキシ、アリール、ニトロ、アルコキ
シ、アルキルおよびジアルキルアミノから選択される１
またはそれ以上の基で置き換えることを意味する。「ア
ノマーに富む」という表現は単独で、あるいは組み合わ
されて、特定したアノマーの比率が１：１より大きいア
ノマー混合物を表し、実質上純粋なアノマーを包含す
る。
べての温度を摂氏温度で表し、百分率などのすべての比
率を重量単位で表し、すべての混合物を体積単位で表
す。アノマー混合物を重量／重量比または百分率として
表す。用語「キシレン」はキシレンのすべての異性体お
よびそれらの混合物を表す。用語「ラクトール」は単独
で、もしくは組み合わされて、３,５-ヒドロキシ保護２
-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノースを表
す。用語「ハロ」は単独で、あるいは組み合わされて、
クロロ、ヨード、フルオロおよびブロモハロゲンを表
す。用語「アルキル」は単独で、あるいは組み合わされ
て直鎖、環状および分枝鎖の脂肪族炭化水素基であっ
て、好ましくは７炭素原子までを含有するもの、例えば
メチル、エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブチ
ル、ｔ-ブチル、ｎ-ペンチル、ｎ-ヘキシル、３-メチル
ペンチル基など、あるいは置換された直鎖、環状および
分枝鎖脂肪族炭化水素、例えば、クロロエタン、１,２-
ジクロロエタン、トリフルオロメタンなどを表す。用語
「アルコキシ」は単独で、あるいは組み合わされて、一
般式ＲＯで表される化合物を意味する(ここにＲは上に
定義したアルキルを表す)。用語「アリール」は単独
で、もしくは組み合わされて炭素環式および複素環式化
合物、例えばフェニル、ナフチル、チエニルおよびそれ
らの置換誘導体を表す。用語「芳香族」は単独で、ある
いは組み合わされて、(４ｎ＋２)非極在化π電子を含有
するベンゼン様構造を意味する。用語「スルホネート」
は単独で、あるいは組み合わされて、一般式ＢＳＯ3(こ
こにＢは上に定義したアリール基を表す)で表される化
合物を意味する。用語「置換」は単独で、あるいは組み
合わされて、水素または一般的な部分を、シアノ、ハ
ロ、カルボアルコキシ、アリール、ニトロ、アルコキ
シ、アルキルおよびジアルキルアミノから選択される１
またはそれ以上の基で置き換えることを意味する。「ア
ノマーに富む」という表現は単独で、あるいは組み合わ
されて、特定したアノマーの比率が１：１より大きいア
ノマー混合物を表し、実質上純粋なアノマーを包含す
る。
【０００９】本発明方法での使用に適するラクトール出
発物質は、米国特許第４９６３３７４号に記述されてい
る。本方法ではラクトールを不活性溶媒中で酸補集剤お
よびスルホネート化試薬と混合する。
発物質は、米国特許第４９６３３７４号に記述されてい
る。本方法ではラクトールを不活性溶媒中で酸補集剤お
よびスルホネート化試薬と混合する。
【００１０】好適な酸補集剤は、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピ
ルアミン、トリイソブチルアミン、トリブチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルエチルアミン、
ジエチルメチルアミン、Ｎ,Ｎ-ジメチルアミノピリジ
ン、Ｎ-メチルモルホリン、Ｎ,Ｎ-ジメチルベンジルア
ミンおよびそれらの混合物などのトリアルキルアミン類
からなる群から選択される。酸補集剤は約８ないし約２
０のｐＫａを有することが好ましく、使用するラクトー
ルの量に対して少なくとも等モル量を、またより好まし
くは約１.２モル等量ないし約２モル等量を使用する。
リエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピ
ルアミン、トリイソブチルアミン、トリブチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルエチルアミン、
ジエチルメチルアミン、Ｎ,Ｎ-ジメチルアミノピリジ
ン、Ｎ-メチルモルホリン、Ｎ,Ｎ-ジメチルベンジルア
ミンおよびそれらの混合物などのトリアルキルアミン類
からなる群から選択される。酸補集剤は約８ないし約２
０のｐＫａを有することが好ましく、使用するラクトー
ルの量に対して少なくとも等モル量を、またより好まし
くは約１.２モル等量ないし約２モル等量を使用する。
【００１１】溶媒は、トルエン、アセトン、アニソー
ル、ジクロロメタン、１,２-ジクロロエタン、キシレ
ン、グライム、テトラヒドロフラン、１-ニトロプロパ
ン、２-ニトロプロパン、ジクロロフルオロメタン、ニ
トロエタン、クロロホルム、およびそれらの混合物から
なる群から選択することができる。好ましいものはジク
ロロメタンとクロロホルムである。
ル、ジクロロメタン、１,２-ジクロロエタン、キシレ
ン、グライム、テトラヒドロフラン、１-ニトロプロパ
ン、２-ニトロプロパン、ジクロロフルオロメタン、ニ
トロエタン、クロロホルム、およびそれらの混合物から
なる群から選択することができる。好ましいものはジク
ロロメタンとクロロホルムである。
【００１２】スルホネート化試薬を混合物に加えること
により、式Ｉで表されるベータ-アノマーに富むリボフ
ラノシル-１-アリールスルホネートが生成する。
により、式Ｉで表されるベータ-アノマーに富むリボフ
ラノシル-１-アリールスルホネートが生成する。
【００１３】好適なスルホネート化試薬は、ハロゲン化
アリールスルホニル、ハロゲン化置換アリールスルホニ
ル。アリールスルホニル無水物および置換アリールスル
ホニル無水物からなる群から選択することができる。ハ
ロゲン化置換アリールスルホニルは、塩化２-ニトロベ
ンゼンスルホニル、塩化ｐ-シアノベンゼンスルホニ
ル、塩化３-ニトロベンゼンスルホニル、塩化２,４-ジ
ニトロベンゼンスルホニル、塩化ｐ-ブロモベンゼンス
ルホニル、塩化ｐ-フルオロベンゼンスルホニル、塩化
２,４,６-トリイソプロピルベンゼンスルホニル、塩化
２,４,６-トリメチルベンゼンスルホニル、塩化ｐ-ヨー
ドベンゼンスルホニル、塩化ｐ-クロロベンゼンスルホ
ニル、塩化ｐ-メトキシベンゼンスルホニル、塩化ｐ-ト
ルエンスルホニルからなる群から選択される。好ましい
ものは塩化２-ニトロベンゼンスルホニル、塩化３-ニト
ロベンゼンスルホニル、塩化ｐ-ブロモベンゼンスルホ
ニル、塩化ｐ-フルオロベンゼンスルホニル、および塩
化ｐ-クロロベンゼンスルホニルであり、最も好ましい
ものは塩化ｐ-ブロモベンゼンスルホニルである。好ま
しいアリールスルホニル無水物は、ベンゼンスルホン酸
無水物およびｐ-ブロモベンゼンスルホン酸無水物から
選択される。好ましいハロゲン化アリールスルホニルは
塩化ベンゼンスルホニルおよび塩化２-ナフチレンスル
ホニルから選択され、より好ましくは塩化ベンゼンスル
ホニルである。
アリールスルホニル、ハロゲン化置換アリールスルホニ
ル。アリールスルホニル無水物および置換アリールスル
ホニル無水物からなる群から選択することができる。ハ
ロゲン化置換アリールスルホニルは、塩化２-ニトロベ
ンゼンスルホニル、塩化ｐ-シアノベンゼンスルホニ
ル、塩化３-ニトロベンゼンスルホニル、塩化２,４-ジ
ニトロベンゼンスルホニル、塩化ｐ-ブロモベンゼンス
ルホニル、塩化ｐ-フルオロベンゼンスルホニル、塩化
２,４,６-トリイソプロピルベンゼンスルホニル、塩化
２,４,６-トリメチルベンゼンスルホニル、塩化ｐ-ヨー
ドベンゼンスルホニル、塩化ｐ-クロロベンゼンスルホ
ニル、塩化ｐ-メトキシベンゼンスルホニル、塩化ｐ-ト
ルエンスルホニルからなる群から選択される。好ましい
ものは塩化２-ニトロベンゼンスルホニル、塩化３-ニト
ロベンゼンスルホニル、塩化ｐ-ブロモベンゼンスルホ
ニル、塩化ｐ-フルオロベンゼンスルホニル、および塩
化ｐ-クロロベンゼンスルホニルであり、最も好ましい
ものは塩化ｐ-ブロモベンゼンスルホニルである。好ま
しいアリールスルホニル無水物は、ベンゼンスルホン酸
無水物およびｐ-ブロモベンゼンスルホン酸無水物から
選択される。好ましいハロゲン化アリールスルホニルは
塩化ベンゼンスルホニルおよび塩化２-ナフチレンスル
ホニルから選択され、より好ましくは塩化ベンゼンスル
ホニルである。
【００１４】本方法で使用されるヒドロキシ保護基(Ｘ)
は当該技術分野で公知であり、「Protective Group in
Organic Chemistry」,McOmie編,Plenum Press,ニューヨ
ーク(1973)の第３章、および「Protective Group in Or
ganic Synthesis」,Greene,Jon,J.Wiley and Sons,ニュ
ーヨーク(1981)の第２章に記述されている；好ましいも
のはホルミル、アセチル、置換アセチル、プロピオニ
ル、ブチニル、ピバロイル、２-クロロアセチル、ベン
ゾイル、置換ベンゾイル、フェノキシカルボニル、メト
キシアセチルなどのエステル形成基；フェノキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、ｔ-ブトキシカルボニル、
ビニルオキシカルボニル、２,２,２-トリクロロエトキ
シカルボニルおよびベンジルオキシカルボニルなどのカ
ーボネート誘導体；べンジル、ジフェニルメチル、トリ
フェニルメチル、ｔ-ブチル、メトキシメチル、テトラ
ヒドロピラニル、アリル、テトラヒドロチエニル、２-
メトキシエトキシメチルなどのアルキルエーテル形成
基；トリアルキルシリル、トリメチルシリル、イソプロ
ピルジアルキルシリル、アルキルジイソプロピルシリ
ル、トリイソプロピルシリル、ｔ-ブチルジアルキルシ
リルおよび１,１,３,３-テトライソプロピルジスロキサ
ニルなどのシリルエーテル形成基；Ｎ-フェニルカルバ
メートおよびＮ-イミダゾイルカルバメートなどのカル
バメートであるが、より好ましいものはベンゾイル、モ
ノ置換ベンゾイルおよびジ置換ベンゾイル、アセチル、
ピバルアミド、トリフェニルメチルエーテルおよびシリ
ルエーテル形成基、特にｔ-ブチルジメチルシリルであ
り、最も好ましいものはベンゾイルである。
は当該技術分野で公知であり、「Protective Group in
Organic Chemistry」,McOmie編,Plenum Press,ニューヨ
ーク(1973)の第３章、および「Protective Group in Or
ganic Synthesis」,Greene,Jon,J.Wiley and Sons,ニュ
ーヨーク(1981)の第２章に記述されている；好ましいも
のはホルミル、アセチル、置換アセチル、プロピオニ
ル、ブチニル、ピバロイル、２-クロロアセチル、ベン
ゾイル、置換ベンゾイル、フェノキシカルボニル、メト
キシアセチルなどのエステル形成基；フェノキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、ｔ-ブトキシカルボニル、
ビニルオキシカルボニル、２,２,２-トリクロロエトキ
シカルボニルおよびベンジルオキシカルボニルなどのカ
ーボネート誘導体；べンジル、ジフェニルメチル、トリ
フェニルメチル、ｔ-ブチル、メトキシメチル、テトラ
ヒドロピラニル、アリル、テトラヒドロチエニル、２-
メトキシエトキシメチルなどのアルキルエーテル形成
基；トリアルキルシリル、トリメチルシリル、イソプロ
ピルジアルキルシリル、アルキルジイソプロピルシリ
ル、トリイソプロピルシリル、ｔ-ブチルジアルキルシ
リルおよび１,１,３,３-テトライソプロピルジスロキサ
ニルなどのシリルエーテル形成基；Ｎ-フェニルカルバ
メートおよびＮ-イミダゾイルカルバメートなどのカル
バメートであるが、より好ましいものはベンゾイル、モ
ノ置換ベンゾイルおよびジ置換ベンゾイル、アセチル、
ピバルアミド、トリフェニルメチルエーテルおよびシリ
ルエーテル形成基、特にｔ-ブチルジメチルシリルであ
り、最も好ましいものはベンゾイルである。
【００１５】本方法で使用する温度はほぼ室温からその
混合物のほぼ還流温度までにわたる。本方法は常圧下で
行うことが好ましく、約３０分ないし約２４時間で実質
的に完結する。
混合物のほぼ還流温度までにわたる。本方法は常圧下で
行うことが好ましく、約３０分ないし約２４時間で実質
的に完結する。
【００１６】本方法の進行は、高圧液体クロマトグラフ
ィー(ＨＰＬＣ)またはＮＭＲ分光法を用いて追跡するこ
とができる。
ィー(ＨＰＬＣ)またはＮＭＲ分光法を用いて追跡するこ
とができる。
【００１７】以下の実施例は本発明の特定の側面を例示
するものであって、本発明の範囲の限定を意図するもの
ではなく、またそのように見なすべきでもない。
するものであって、本発明の範囲の限定を意図するもの
ではなく、またそのように見なすべきでもない。
【００１８】実施例１：ベータ-アノマーに富む２,２-
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾイル-１-(２,４,６-トリイソプロピルベンゼ
ン)スルホネートの製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０２６ｍｌおよび塩化２,４,
６-トリイソプロピルベンゼンスルホニル７９.９ｍｇを
加えた。室温で約１８時間後、ＮＭＲ分光法で決定した
ところ、アルファに対するベータの比率が２４：１であ
る標記化合物が生成した。
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾイル-１-(２,４,６-トリイソプロピルベンゼ
ン)スルホネートの製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０２６ｍｌおよび塩化２,４,
６-トリイソプロピルベンゼンスルホニル７９.９ｍｇを
加えた。室温で約１８時間後、ＮＭＲ分光法で決定した
ところ、アルファに対するベータの比率が２４：１であ
る標記化合物が生成した。
【００１９】上記ベータ-スルホネートを単離するため
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。ベータおよびアルファ-スルホネート混合物の収率
は１００％であった。
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。ベータおよびアルファ-スルホネート混合物の収率
は１００％であった。
【００２０】実施例２：ベータ-アノマーに富む２,２-
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾイル-１-(４-ブロモベンゼン)スルホネートの
製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１.３４ｇにジクロロメタン３５ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.５３ｍｌおよび塩化４-ブロモ
ベンゼンスルホニル０.９０５ｇを加えた。室温で１６
時間後、逆相ＨＰＬＣで決定したところ、アルファに対
するベータの比率が８.２：１である標記化合物が生成
した。
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾイル-１-(４-ブロモベンゼン)スルホネートの
製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１.３４ｇにジクロロメタン３５ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.５３ｍｌおよび塩化４-ブロモ
ベンゼンスルホニル０.９０５ｇを加えた。室温で１６
時間後、逆相ＨＰＬＣで決定したところ、アルファに対
するベータの比率が８.２：１である標記化合物が生成
した。
【００２１】上記ベータ-スルホネートを単離するため
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌ、重炭酸ナトリウム水
溶液、飽和塩化ナトリウム溶液および水で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状
残渣に濃縮し、結晶化させた。酢酸エチルからの再結晶
後、標記化合物が７２％の収率で得られた。融点１２１
〜１２３℃。元素分析：(計算値)Ｃ：５１.５６、Ｈ：
３.４６、Ｓ：５．５０；(実測値)Ｃ：５１.２９、Ｈ：
３.３６、Ｓ：５.４４。ＱＥ３００1Ｈ ＮＭＲ(ＣＤＣ
ｌ3)δ＝８.２(ｍ，４Ｈ，Ａｒ-ｏ)、７.６９〜７.４
(ｍ，１０Ｈ，Ａｒ-ｍおよびｐ)、６.１１(ｄ，１Ｈ，
１-Ｈ)、５.８８(ｍ，１Ｈ，３-Ｈ)、４.５７(ｍ，１
Ｈ，４-Ｈ)、４.５／４.２６(ｍｍ，２Ｈ，５-Ｈ)。
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌ、重炭酸ナトリウム水
溶液、飽和塩化ナトリウム溶液および水で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状
残渣に濃縮し、結晶化させた。酢酸エチルからの再結晶
後、標記化合物が７２％の収率で得られた。融点１２１
〜１２３℃。元素分析：(計算値)Ｃ：５１.５６、Ｈ：
３.４６、Ｓ：５．５０；(実測値)Ｃ：５１.２９、Ｈ：
３.３６、Ｓ：５.４４。ＱＥ３００1Ｈ ＮＭＲ(ＣＤＣ
ｌ3)δ＝８.２(ｍ，４Ｈ，Ａｒ-ｏ)、７.６９〜７.４
(ｍ，１０Ｈ，Ａｒ-ｍおよびｐ)、６.１１(ｄ，１Ｈ，
１-Ｈ)、５.８８(ｍ，１Ｈ，３-Ｈ)、４.５７(ｍ，１
Ｈ，４-Ｈ)、４.５／４.２６(ｍｍ，２Ｈ，５-Ｈ)。
【００２２】標記化合物は、大きさａ＝６.９３３(１)
Å、ｂ＝１４.３６１(４)Å、ｃ＝２４.９９７(７)Åと
計算密度１.５９１ｇ／ｃｍ3を有する単位格子を伴う斜
方晶系の空間群Ｐ２1２1２1として結晶化した。単色銅
放射を用いる自動４サイクルＸ線ディフラクトメーター
で、２θが１１６.０°未満である合計２０１５の回折
線を測定した。その構造を直接法を用いて解析し、水素
を除くすべての原子について異方性温度係数を用いる最
小二乗法で精度を上げた。すべての水素原子は計算され
た位置に含まれた。最終的なＲ係数は１８８４の観測し
た回折線について０.０５３であった。
Å、ｂ＝１４.３６１(４)Å、ｃ＝２４.９９７(７)Åと
計算密度１.５９１ｇ／ｃｍ3を有する単位格子を伴う斜
方晶系の空間群Ｐ２1２1２1として結晶化した。単色銅
放射を用いる自動４サイクルＸ線ディフラクトメーター
で、２θが１１６.０°未満である合計２０１５の回折
線を測定した。その構造を直接法を用いて解析し、水素
を除くすべての原子について異方性温度係数を用いる最
小二乗法で精度を上げた。すべての水素原子は計算され
た位置に含まれた。最終的なＲ係数は１８８４の観測し
た回折線について０.０５３であった。
【００２３】実施例３：ベータ-アノマーに富む２,２-
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾイル-１-(２,４,６-トリメチルベンゼン)スル
ホネートの製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０３６ｍｌおよび塩化２,４,
６-トリメチルベンゼンスルホニル５７.７ｍｇを加え
た。室温で約１８時間後、ＮＭＲ分光法で決定したとこ
ろ、アルファに対するベータの比率が９.５：１である
標記化合物が生成した。
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾイル-１-(２,４,６-トリメチルベンゼン)スル
ホネートの製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０３６ｍｌおよび塩化２,４,
６-トリメチルベンゼンスルホニル５７.７ｍｇを加え
た。室温で約１８時間後、ＮＭＲ分光法で決定したとこ
ろ、アルファに対するベータの比率が９.５：１である
標記化合物が生成した。
【００２４】上記ベータ-スルホネートを単離するため
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌおよび水で洗浄し、次
いで無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液を
油状物に濃縮した。アルファおよびベータ-スルホネー
ト混合物の収率は９１％であった。
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌおよび水で洗浄し、次
いで無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液を
油状物に濃縮した。アルファおよびベータ-スルホネー
ト混合物の収率は９１％であった。
【００２５】実施例４：ベータ-アノマーに富む２,２-
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾエート-１-(４-ヨードベンゼン)スルホネート
の製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０２６ｍｌおよび塩化４-ヨー
ドベンゼンスルホニル７９.９ｍｇを加えた。室温で約
１時間後、プロトンＮＭＲで決定したところ、アルファ
に対するベータの比率が８.６：１である標記生成物が
生成した。
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾエート-１-(４-ヨードベンゼン)スルホネート
の製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０２６ｍｌおよび塩化４-ヨー
ドベンゼンスルホニル７９.９ｍｇを加えた。室温で約
１時間後、プロトンＮＭＲで決定したところ、アルファ
に対するベータの比率が８.６：１である標記生成物が
生成した。
【００２６】上記ベータ-スルホネートを単離するため
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、次いで無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に
濃縮した。ベータおよびアルファ-スルホネート混合物
の収率をプロトンＮＭＲで決定したところ８０％であっ
た。
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、次いで無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に
濃縮した。ベータおよびアルファ-スルホネート混合物
の収率をプロトンＮＭＲで決定したところ８０％であっ
た。
【００２７】実施例５：ベータ-アノマーに富む２,２-
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾエート-１-(４-クロロベンゼン)スルホネート
の製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０２６ｍｌおよび塩化４-クロ
ロベンゼンスルホニル５５.７ｍｇを加えた。室温で約
１時間後、ＮＭＲ分光法で決定したところ、アルファに
対するベータの比率が６.１：１である標記化合物が生
成した。
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾエート-１-(４-クロロベンゼン)スルホネート
の製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０２６ｍｌおよび塩化４-クロ
ロベンゼンスルホニル５５.７ｍｇを加えた。室温で約
１時間後、ＮＭＲ分光法で決定したところ、アルファに
対するベータの比率が６.１：１である標記化合物が生
成した。
【００２８】上記ベータ-スルホネートを単離するため
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。プロトンＮＭＲで決定した標記化合物の収率は８２
％であった。
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。プロトンＮＭＲで決定した標記化合物の収率は８２
％であった。
【００２９】実施例６：ベータ-アノマーに富む２,２-
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾイル-１-(４-メトキシベンゼン)スルホネート
の製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０２６ｍｌおよび塩化４-メト
キシベンゼンスルホニル５５ｍｇを加えた。室温で約１
時間後、プロトンＮＭＲで決定したところ、アルファに
対するベータの比率が９：１である標記化合物が生成し
た。
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾイル-１-(４-メトキシベンゼン)スルホネート
の製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０２６ｍｌおよび塩化４-メト
キシベンゼンスルホニル５５ｍｇを加えた。室温で約１
時間後、プロトンＮＭＲで決定したところ、アルファに
対するベータの比率が９：１である標記化合物が生成し
た。
【００３０】上記ベータ-スルホネートを単離するため
に、反応混合物をジクロロメタンおよび水で希釈した。
層を分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌ、炭酸ナトリウ
ム、飽和塩化ナトリウムおよび水で洗浄し、次いで硫酸
マグネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮
した。プロトンＮＭＲ分析で決定したアルファおよびベ
ータ-スルホネートの収率は７２％であった。
に、反応混合物をジクロロメタンおよび水で希釈した。
層を分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌ、炭酸ナトリウ
ム、飽和塩化ナトリウムおよび水で洗浄し、次いで硫酸
マグネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮
した。プロトンＮＭＲ分析で決定したアルファおよびベ
ータ-スルホネートの収率は７２％であった。
【００３１】実施例７：ベータ-アノマーに富む２,２-
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾイル-１-(２-ニトロベンゼン)スルホネートの
製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０４２ｍｌおよび塩化２-ニト
ロベンゼンスルホニル６４.４ｍｇを加えた。室温で２
時間後、ＮＭＲ分光法で決定したところ、アルファに対
するベータの比率が８：１である標記化合物が生成した
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾイル-１-(２-ニトロベンゼン)スルホネートの
製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０４２ｍｌおよび塩化２-ニト
ロベンゼンスルホニル６４.４ｍｇを加えた。室温で２
時間後、ＮＭＲ分光法で決定したところ、アルファに対
するベータの比率が８：１である標記化合物が生成した
【００３２】上記ベータ-スルホネートを単離するため
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。
【００３３】実施例８：ベータ-アノマーに富む２,２-
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾイル-１-(３-ニトロベンゼン)スルホネートの
製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０４２ｍｌおよび塩化３-ニト
ロベンゼンスルホニル６４.４ｍｇを加えた。室温で約
２時間後、ＮＭＲ分光法で決定したところ、アルファに
対するベータの比率が８.５：１である標記化合物が生
成した。
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾイル-１-(３-ニトロベンゼン)スルホネートの
製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０４２ｍｌおよび塩化３-ニト
ロベンゼンスルホニル６４.４ｍｇを加えた。室温で約
２時間後、ＮＭＲ分光法で決定したところ、アルファに
対するベータの比率が８.５：１である標記化合物が生
成した。
【００３４】上記ベータ-スルホネートを単離するため
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。
【００３５】実施例９：ベータ-アノマーに富む２,２-
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾイル-１-(４-フルオロベンゼン)スルホネート
の製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０４２ｍｌおよび塩化４-フル
オロベンゼンスルホニル５６.５ｍｇを加えた。室温で
２時間後、逆相ＨＰＬＣで決定したところ、アルファに
対するベータの比率が８.４：１である標記化合物が生
成した。
ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ-
Ｏ-ベンゾイル-１-(４-フルオロベンゼン)スルホネート
の製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０４２ｍｌおよび塩化４-フル
オロベンゼンスルホニル５６.５ｍｇを加えた。室温で
２時間後、逆相ＨＰＬＣで決定したところ、アルファに
対するベータの比率が８.４：１である標記化合物が生
成した。
【００３６】上記ベータ-スルホネートを単離するため
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。ＮＭＲ分光法で決定したところ、べータおよびアル
ファ-スルホネート混合物の収率は８５％であった。
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。ＮＭＲ分光法で決定したところ、べータおよびアル
ファ-スルホネート混合物の収率は８５％であった。
【００３７】実施例１０：ベータ-アノマーに富む２,２
-ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ
-Ｏ-ベンゾイル-１-(４-メチルベンゼン)スルホネート
の製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０４２ｍｌおよび塩化ｐ-トル
エンスルホニル５５.３ｍｇを加えた。室温で２時間
後、逆相ＨＰＬＣで決定したところ、アルファに対する
ベータの比率が７.２：１である標記化合物が生成し
た。
-ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ
-Ｏ-ベンゾイル-１-(４-メチルベンゼン)スルホネート
の製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０４２ｍｌおよび塩化ｐ-トル
エンスルホニル５５.３ｍｇを加えた。室温で２時間
後、逆相ＨＰＬＣで決定したところ、アルファに対する
ベータの比率が７.２：１である標記化合物が生成し
た。
【００３８】上記ベータ-スルホネートを単離するため
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。ＮＭＲ分光法で決定したところ、べータおよびアル
ファ-スルホネート混合物の収率は１００％であった。
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。ＮＭＲ分光法で決定したところ、べータおよびアル
ファ-スルホネート混合物の収率は１００％であった。
【００３９】実施例１１：ベータ-アノマーに富む２,２
-ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ
-Ｏ-ベンゾイル-１-ベンゼンスルホネートの製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０４２ｍｌおよび塩化ベンゼ
ンスルホニル５１.３ｍｇを加えた。室温で２時間後、
逆相ＨＰＬＣで決定したところ、アルファに対するベー
タの比率が７.４：１である標記化合物が生成した。
-ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ
-Ｏ-ベンゾイル-１-ベンゼンスルホネートの製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにジクロロメタン２ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０４２ｍｌおよび塩化ベンゼ
ンスルホニル５１.３ｍｇを加えた。室温で２時間後、
逆相ＨＰＬＣで決定したところ、アルファに対するベー
タの比率が７.４：１である標記化合物が生成した。
【００４０】上記ベータ-スルホネートを単離するため
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。ＮＭＲ分光法で決定したところ、べータおよびアル
ファ-スルホネート混合物の収率は１００％であった。
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。ＮＭＲ分光法で決定したところ、べータおよびアル
ファ-スルホネート混合物の収率は１００％であった。
【００４１】実施例１２：ベータ-アノマーに富む２,２
-ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ
-Ｏ-ベンゾイル-１-(２-ナフチレン)スルホネートの製
造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにクロロホルム-ｄ １ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０５５ｍｌおよび塩化ナフチ
レンスルホニル７２ｍｇを加えた。室温で３時間後、Ｈ
ＰＬＣで決定したところ、アルファに対するベータの比
率が７：１である標記化合物が生成した。
-ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ
-Ｏ-ベンゾイル-１-(２-ナフチレン)スルホネートの製
造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート１００ｍｇにクロロホルム-ｄ １ｍ
ｌ、トリエチルアミン０.０５５ｍｌおよび塩化ナフチ
レンスルホニル７２ｍｇを加えた。室温で３時間後、Ｈ
ＰＬＣで決定したところ、アルファに対するベータの比
率が７：１である標記化合物が生成した。
【００４２】上記ベータ-スルホネートを単離するため
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。
に、反応混合物をジクロロメタンと水で希釈した。層を
分離し、有機層を冷１Ｎ ＨＣｌで洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。得られた溶液を油状物に濃縮し
た。
【００４３】実施例１３：ベータ-アノマーに富む２,２
-ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ
-Ｏ-ベンゾイル-１-(ｐ-ブロモベンゼン)スルホネート
の製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート７.５６ｇに１,２-ジクロロエタン５
０ｍｌ、およびトリエチレン３.０６ｍｌを窒素雰囲気
下室温で加えた。次いで固体(ｐ-ブロモベンゼン)スル
ホン酸無水物１０.３ｇを１,２-ジクロロエタン２５ｍ
ｌと共に２分間かけて加えた。室温で約２.５時間後、
逆相ＨＰＬＣで決定したところ、アルファに対するベー
タの比率が６：１である標記化合物が生成した。逆相Ｈ
ＰＬＣで決定したところ、アルファおよびべータ-スル
ホネート混合物の収率は１００％であった。
-ジフルオロ-２-デオキシ-Ｄ-リボフラノシル-３,５-ジ
-Ｏ-ベンゾイル-１-(ｐ-ブロモベンゼン)スルホネート
の製造 ２-デオキシ-２,２-ジフルオロ-Ｄ-リボフラノシル-３,
５-ジベンゾエート７.５６ｇに１,２-ジクロロエタン５
０ｍｌ、およびトリエチレン３.０６ｍｌを窒素雰囲気
下室温で加えた。次いで固体(ｐ-ブロモベンゼン)スル
ホン酸無水物１０.３ｇを１,２-ジクロロエタン２５ｍ
ｌと共に２分間かけて加えた。室温で約２.５時間後、
逆相ＨＰＬＣで決定したところ、アルファに対するベー
タの比率が６：１である標記化合物が生成した。逆相Ｈ
ＰＬＣで決定したところ、アルファおよびべータ-スル
ホネート混合物の収率は１００％であった。
【００４４】ここに本発明をその好ましい態様を含めて
詳細に記述し終えた。しかし、本開示を熟慮すれば当業
者が本発明に、特許請求の範囲に記載の本発明の範囲と
思想に包含される修飾および／または改善を施し得るこ
とは、理解されるであろう。
詳細に記述し終えた。しかし、本開示を熟慮すれば当業
者が本発明に、特許請求の範囲に記載の本発明の範囲と
思想に包含される修飾および／または改善を施し得るこ
とは、理解されるであろう。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 チャールズ・デイビッド・ジョーンズ アメリカ合衆国46227インディアナ州イン ディアナポリス、イースト・ブランズウィ ック・アベニュー223番
Claims (8)
- 【請求項１】 式： 【化１】 ［式中、Ｘはそれぞれヒドロキシ保護基から独立に選択
され、Ｙはアリールスルホネートおよび置換アリールス
ルホネートからなる群から選択される］で表されるベー
タ-アノマーに富むリボフラノシル誘導体を製造するた
めの立体選択的方法であって、式： 【化２】 ［式中、Ｘは上記と同意義である］で表されるラクトー
ルを不活性溶媒中で酸補集剤およびスルホネート化試薬
と接触させることからなる方法。 - 【請求項２】 酸補集剤が、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ-ｎ-プロピ
ルアミン、トリブチルアミン、トリ-ｎ-ブチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルエチルアミン、
ジエチルメチルアミン、Ｎ-メチルモルホリン、Ｎ,Ｎ-
ジメチルベンジルアミンおよびそれらの混合物からなる
群から選択される請求項１の方法。 - 【請求項３】 酸補集剤が約８ないし約２０のｐＫａを
有する請求項２の方法。 - 【請求項４】 酸補集剤の量が約１モル等量ないし約２
モル等量である請求項１の方法。 - 【請求項５】 スルホネート化試薬が、ハロゲン化アリ
ールスルホニル、ハロゲン化置換アリールスルホニル、
アリールスルホニル無水物および置換アリールスルホニ
ル無水物からなる群から選択される請求項１の方法。 - 【請求項６】 ハロゲン化置換アリールスルホニルが、
塩化２-ニトロベンゼンスルホニル、塩化３-ニトロベン
ゼンスルホニル、塩化２,４-ジニトロベンゼンスルホニ
ル、塩化ｐ-ブロモベンゼンスルホニル、塩化ｐ-フルオ
ロベンゼンスルホニル、塩化２,４,６-トリイソプロピ
ルベンゼンスルホニル、塩化２,４,６-トリメチルベン
ゼンスルホニル、塩化ｐ-ヨードベンゼンスルホニル、
塩化ｐ-クロロベンゼンスルホニル、塩化４-メトキシベ
ンゼンスルホニル、および塩化ｐ-メチルベンゼンスル
ホニルからなる群から選択される請求項５の方法。 - 【請求項７】 ハロゲン化アリールスルホニルが塩化ベ
ンゼンスルホニル、塩化ｐ-ブロモベンゼンスルホニル
および塩化２-ナフチレンスルホニルから選択される請
求項５の方法。 - 【請求項８】 溶媒が、トルエン、アセトン、アニソー
ル、ジクロロメタン、１,２-ジクロロエタン、キシレ
ン、グライム、テトラヒドロフラン、１-ニトロプロパ
ン、２-ニトロプロパン、ジクロロフルオロメタン、ニ
トロエタン、クロロホルムおよびそれらの混合物からな
る群から選択される請求項１の方法。
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