JPH0657204B2 - Ｍｒｉ用磁石保持調整装置 - Google Patents
Ｍｒｉ用磁石保持調整装置Info
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- JPH0657204B2 JPH0657204B2 JP61065356A JP6535686A JPH0657204B2 JP H0657204 B2 JPH0657204 B2 JP H0657204B2 JP 61065356 A JP61065356 A JP 61065356A JP 6535686 A JP6535686 A JP 6535686A JP H0657204 B2 JPH0657204 B2 JP H0657204B2
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000002595 magnetic resonance imaging Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)
- Electromagnets (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はＭＲＩ用磁石保持調整装置に係り、特に磁石の
精密位置調整に好適なＭＲＩ用磁石保持調整装置に関す
る。
精密位置調整に好適なＭＲＩ用磁石保持調整装置に関す
る。
ＭＲＩ（Magnetic Resonance Imaging）は、複数個の円
環状電磁石を保持し、当該電磁石各コイル内部空間の円
芯軸（Ｚ軸）方向に磁束を発生せしめる電磁石装置を備
えている。
環状電磁石を保持し、当該電磁石各コイル内部空間の円
芯軸（Ｚ軸）方向に磁束を発生せしめる電磁石装置を備
えている。
そして、電磁石装置は、前記内部空間の磁場の均一化を
図るため、各部の円環状電磁石の変位を微小に変えるた
めの調整手段を備えているものである。
図るため、各部の円環状電磁石の変位を微小に変えるた
めの調整手段を備えているものである。
１個約５００〜７００Kgで相互に電磁吸引力が働いてい
る複数個の磁石の相互位置を精密に調整するためには、
各部のガタや変形を排除すると同時に、摺動部のステイ
ツクスリツプ現象をいかに小さくするかが重要である。
従来の磁石では、磁石保持用架台自体の強度が低いのに
加え、摺動部の摩擦が大きく、精密な位置調整が困難で
あり、かつ、磁石相互間の電磁吸引力による変形や摩擦
増加がそれに加わり、さらに調整作業を阻害していた。
る複数個の磁石の相互位置を精密に調整するためには、
各部のガタや変形を排除すると同時に、摺動部のステイ
ツクスリツプ現象をいかに小さくするかが重要である。
従来の磁石では、磁石保持用架台自体の強度が低いのに
加え、摺動部の摩擦が大きく、精密な位置調整が困難で
あり、かつ、磁石相互間の電磁吸引力による変形や摩擦
増加がそれに加わり、さらに調整作業を阻害していた。
本発明は、このような事情に基づいてなされたものであ
り、この磁場の均一化を図るため簡単に調整を行なうこ
とのできるＭＲＩ用磁石保持調整装置を提供するもので
ある。
り、この磁場の均一化を図るため簡単に調整を行なうこ
とのできるＭＲＩ用磁石保持調整装置を提供するもので
ある。
このような目的を達成するために、本発明は、複数個の
円環状電磁石を同軸上に配置した、中心空間に高均一な
磁場を得るＭＲイメージング用電磁石装置において、前
記電磁石は水平向両側であって、上下方向の略中心位置
に前記電磁石の重量を支える磁石支持アームを設け、こ
の支持アームに電磁石径方向の水平方向（Ｘ方向）と垂
直方向（Ｙ方向）に移動可能な調整機構を介在させ、該
支持アームは非磁性部材で構成された架台で保持され、
該架台には前記複数個の電磁石群の円環軸方向（Ｚ方
向）外側両端に門形状の枠が一体構造で設けられ、前記
電磁石の円環外縁側の中心軸対称な位置に４本のＺ固定
軸を複数個の電磁石外縁に貫通し、且つ該Ｚ固定軸の両
端を該架台の前記門形状枠に固定し、該Ｚ固定軸に貫通
された複数の電磁石の各々に前記電磁石の任意な傾斜に
対応可能な滑り機構を含むＺ調整用のリングを前記電磁
石の両側から挟み込み固定の可能な構成にすると共に、
Ｚ固定軸とＺ調整リングのネジ機構により移動可能とし
たことを特徴とするＭＲＩ用磁石保持調整装置。
円環状電磁石を同軸上に配置した、中心空間に高均一な
磁場を得るＭＲイメージング用電磁石装置において、前
記電磁石は水平向両側であって、上下方向の略中心位置
に前記電磁石の重量を支える磁石支持アームを設け、こ
の支持アームに電磁石径方向の水平方向（Ｘ方向）と垂
直方向（Ｙ方向）に移動可能な調整機構を介在させ、該
支持アームは非磁性部材で構成された架台で保持され、
該架台には前記複数個の電磁石群の円環軸方向（Ｚ方
向）外側両端に門形状の枠が一体構造で設けられ、前記
電磁石の円環外縁側の中心軸対称な位置に４本のＺ固定
軸を複数個の電磁石外縁に貫通し、且つ該Ｚ固定軸の両
端を該架台の前記門形状枠に固定し、該Ｚ固定軸に貫通
された複数の電磁石の各々に前記電磁石の任意な傾斜に
対応可能な滑り機構を含むＺ調整用のリングを前記電磁
石の両側から挟み込み固定の可能な構成にすると共に、
Ｚ固定軸とＺ調整リングのネジ機構により移動可能とし
たことを特徴とするＭＲＩ用磁石保持調整装置。
本発明の一実施例を図面をもちいて説明する。第１図は
磁石構造図、第２図は第１図Ａ−Ａ′にて切断した軸方
向（Ｚ軸）視図を示す。図に示すように１つの架台の上
に複数個（図示例では４個）の磁石が装架されている。
図において１は架台で非磁性体で構成され、複数個の磁
石の重量を支えまた各磁石の位置の固定を行なう。１Ａ
はガイドフレーム取付面で、磁石の中心軸（Ｚ軸）に平
行に架台の両側に磁石の数だけ配置され平面に仕上げら
れている。２，３はそれぞれアームで磁石のＺ軸方向の
固定軸を固定するため、架台の両側面の上下に設けられ
架台１に固定されている。４は磁石で巻線６とその両側
に設けられた側板５ではさまれ一体に成形されている。
７は磁石支持アームで一端は側板５に固定され、他端は
支持アーム８に固定ねじ８Ａで固定されている。９はＺ
固定軸で図示の如く側板５の四隅に４本が貫通し、その
両端はアーム２，３に固定具１０で固定される。Ｚ固定
軸９の表面には調節ねじ９Ａが必要数設けられ、そこに
Ｚ調節リング１１がねじ嵌合される。Ｚ調節リング１１
は側板５の外面両側に各１個づつ（図示例ではひとつの
磁石に対し片側４個、計８個）設けられ、このＺ調節リ
ング１１の回転によつて磁石のＺ軸方向の移動と固定を
行う。また第３図に示す如くＺ調節リング１１の移動を
各軸において反対にすることにより、磁石の中心軸とＺ
軸を０だけ偏角させることが可能となる。第４図はＺ調
節リング１１の詳細構造を示す。側板５のＺ固定軸貫通
部には穴５Ａが設けられ、その外側には摺動機取付用の
環状溝５Ｂが同心に加工されている。Ｚ調節リング１１
はＺ調節リングで中心部は調節ねじ９Ａと嵌合するめね
じを有し、外周には複数個の回転用治具挿入穴１１Ａ、
目盛板１１Ｂが取付けられ、Ｚ調節リング１１の回転角
度からその移動量が直読できるようになつている。また
内面には球状面１１Ｃを有し摺動機１１Ｅを介してリン
グ１１Ｄに接触し、側板５とＺ固定軸９と交叉角が直角
でない場合も球状面１１Ｃ、摺動材１１Ｅ間の摺動変位
によつて吸収し、Ｚ調節リング１１の押圧を円滑に側板
５に伝達する。またリング１１Ｄは摺動機１１Ｆを介し
て側板５に接触し、この側板５のＸ，Ｙ方向の変位を摺
動吸収する。なお摺動材１１Ｆは環状溝５Ｂ内部に固定
される。
磁石構造図、第２図は第１図Ａ−Ａ′にて切断した軸方
向（Ｚ軸）視図を示す。図に示すように１つの架台の上
に複数個（図示例では４個）の磁石が装架されている。
図において１は架台で非磁性体で構成され、複数個の磁
石の重量を支えまた各磁石の位置の固定を行なう。１Ａ
はガイドフレーム取付面で、磁石の中心軸（Ｚ軸）に平
行に架台の両側に磁石の数だけ配置され平面に仕上げら
れている。２，３はそれぞれアームで磁石のＺ軸方向の
固定軸を固定するため、架台の両側面の上下に設けられ
架台１に固定されている。４は磁石で巻線６とその両側
に設けられた側板５ではさまれ一体に成形されている。
７は磁石支持アームで一端は側板５に固定され、他端は
支持アーム８に固定ねじ８Ａで固定されている。９はＺ
固定軸で図示の如く側板５の四隅に４本が貫通し、その
両端はアーム２，３に固定具１０で固定される。Ｚ固定
軸９の表面には調節ねじ９Ａが必要数設けられ、そこに
Ｚ調節リング１１がねじ嵌合される。Ｚ調節リング１１
は側板５の外面両側に各１個づつ（図示例ではひとつの
磁石に対し片側４個、計８個）設けられ、このＺ調節リ
ング１１の回転によつて磁石のＺ軸方向の移動と固定を
行う。また第３図に示す如くＺ調節リング１１の移動を
各軸において反対にすることにより、磁石の中心軸とＺ
軸を０だけ偏角させることが可能となる。第４図はＺ調
節リング１１の詳細構造を示す。側板５のＺ固定軸貫通
部には穴５Ａが設けられ、その外側には摺動機取付用の
環状溝５Ｂが同心に加工されている。Ｚ調節リング１１
はＺ調節リングで中心部は調節ねじ９Ａと嵌合するめね
じを有し、外周には複数個の回転用治具挿入穴１１Ａ、
目盛板１１Ｂが取付けられ、Ｚ調節リング１１の回転角
度からその移動量が直読できるようになつている。また
内面には球状面１１Ｃを有し摺動機１１Ｅを介してリン
グ１１Ｄに接触し、側板５とＺ固定軸９と交叉角が直角
でない場合も球状面１１Ｃ、摺動材１１Ｅ間の摺動変位
によつて吸収し、Ｚ調節リング１１の押圧を円滑に側板
５に伝達する。またリング１１Ｄは摺動機１１Ｆを介し
て側板５に接触し、この側板５のＸ，Ｙ方向の変位を摺
動吸収する。なお摺動材１１Ｆは環状溝５Ｂ内部に固定
される。
以上の説明から明らかなようにＺ固定軸９と側板５の交
叉角度θの如何を問わずＺ調節リング１１のＺ方向の移
動を円滑に側板５に伝達し、かつその状態において側板
５のＸＹ方向への移動が円滑に行われる。４例において
はＺ固定軸は４本で説明したが３本でも同様の効果を得
ることができる。またＺ固定軸９の両側の側板５を貫通
せず第５図の如く片側の側板を貫通する場合、第６図に
示す如く側板５に支持板１２を固定しそこにＺ固定軸９
を貫通させる場合、第７図に示す如く側板５に支持板１
３を固定し、その中央にＺ調節リング１４を挿入して同
様の効果を得ることができる。第８図は第７図の詳細構
造を示す。また本説明ではＺ固定軸９が側板５、支持板
１２，１３を貫通する例を示したが、必ずしも貫通する
必要はない。第９図，第１０図はＸ，Ｙ方向調節機構を
示す。磁石は図示の如く磁石のほぼ中央部の両側に取付
けられた支持アーム７及び８によつて、ガイドフレーム
取付面１Ａに対して支持固定される。１５は垂直方向
（Ｙ方向）調節ねじで支持アーム８とねじかん合し、そ
の先端にはＹ摺動子１６を有するいま、Ｙ方向調節ねじ
１５を回転することによつて支持アーム８に対するガイ
ドフレーム１９の位置が変り磁石がＹ方向に変位する。
目盛板１５ＡはＹ方向調節ねじ１５に固定された目盛板
で、その表面には目盛線が記入され、Ｙ方向調節ねじ１
５の回転角度とねじピツチから、Ｙ方向の移動量を直読
できるようになつている。Ｙ方向調節ねじ１５の先端は
球状面１５Ｂを有し磁石のＺ軸方向の傾斜に対応する。
１５ＣはロツクナツトでＹ方向調節ねじ１５の回転を規
制する。球状穴１６ＡはＹ摺動子１６の上面の球状面１
５Ｂと対向する面に加工された球状穴で、その内面には
摺動機１６Ｂが取付けられ球状面１５Ｂを接触する。１
６Ｃも摺動材で、ガイドフレーム１９のＹ摺動面１９Ａ
と接触し、磁石の垂直荷重を負担しつつ、Ｘ，Ｚ軸方向
の移動に対してはＹ方向の寸法を維持しつつＹ摺動面１
９Ａを摺動する。１７は横方向（Ｘ方向）調節ねじで支
持アーム８とねじ嵌合し、その先端にはＸ摺動子１８を
有する。いまＸ方向調節ねじ１７を回転させるとガイド
フレーム１９に対する支持アーム８の位置が変り（反対
側のＸ方向調節ねじ１７は逆方向に回転させる）磁石が
Ｘ方向に変位する。目盛板１７ＡはＸ方向調節ねじ１７
に固定された目盛板で目盛板１５Ａと同様にＸ方向調節
ねじ１７の移動量を直読できるようになつている。Ｘ方
向調節ねじ１７の端部にはガイド穴１７Ｂがあり、Ｘ摺
動子１８のガイド軸１８Ａと嵌合し、Ｘ方向調節ねじ１
７をゆるめガイドフレーム１９とＸ摺動子１８のギヤツ
プが生じた場合にＸ摺動子１８が脱落しないようになつ
ている。１７ＣはロツクナツトでＸ方向調節ねじ１７の
回転を規制する。１８Ｂは摺動機でガイドフレーム１９
のＸ摺動面１９Ｂと接触し磁石のＸ方向の動きを規正す
ると同時に、Ｘ，Ｙ方向の移動に対してはＸ方向の寸法
を維持しつつ摺動する。
叉角度θの如何を問わずＺ調節リング１１のＺ方向の移
動を円滑に側板５に伝達し、かつその状態において側板
５のＸＹ方向への移動が円滑に行われる。４例において
はＺ固定軸は４本で説明したが３本でも同様の効果を得
ることができる。またＺ固定軸９の両側の側板５を貫通
せず第５図の如く片側の側板を貫通する場合、第６図に
示す如く側板５に支持板１２を固定しそこにＺ固定軸９
を貫通させる場合、第７図に示す如く側板５に支持板１
３を固定し、その中央にＺ調節リング１４を挿入して同
様の効果を得ることができる。第８図は第７図の詳細構
造を示す。また本説明ではＺ固定軸９が側板５、支持板
１２，１３を貫通する例を示したが、必ずしも貫通する
必要はない。第９図，第１０図はＸ，Ｙ方向調節機構を
示す。磁石は図示の如く磁石のほぼ中央部の両側に取付
けられた支持アーム７及び８によつて、ガイドフレーム
取付面１Ａに対して支持固定される。１５は垂直方向
（Ｙ方向）調節ねじで支持アーム８とねじかん合し、そ
の先端にはＹ摺動子１６を有するいま、Ｙ方向調節ねじ
１５を回転することによつて支持アーム８に対するガイ
ドフレーム１９の位置が変り磁石がＹ方向に変位する。
目盛板１５ＡはＹ方向調節ねじ１５に固定された目盛板
で、その表面には目盛線が記入され、Ｙ方向調節ねじ１
５の回転角度とねじピツチから、Ｙ方向の移動量を直読
できるようになつている。Ｙ方向調節ねじ１５の先端は
球状面１５Ｂを有し磁石のＺ軸方向の傾斜に対応する。
１５ＣはロツクナツトでＹ方向調節ねじ１５の回転を規
制する。球状穴１６ＡはＹ摺動子１６の上面の球状面１
５Ｂと対向する面に加工された球状穴で、その内面には
摺動機１６Ｂが取付けられ球状面１５Ｂを接触する。１
６Ｃも摺動材で、ガイドフレーム１９のＹ摺動面１９Ａ
と接触し、磁石の垂直荷重を負担しつつ、Ｘ，Ｚ軸方向
の移動に対してはＹ方向の寸法を維持しつつＹ摺動面１
９Ａを摺動する。１７は横方向（Ｘ方向）調節ねじで支
持アーム８とねじ嵌合し、その先端にはＸ摺動子１８を
有する。いまＸ方向調節ねじ１７を回転させるとガイド
フレーム１９に対する支持アーム８の位置が変り（反対
側のＸ方向調節ねじ１７は逆方向に回転させる）磁石が
Ｘ方向に変位する。目盛板１７ＡはＸ方向調節ねじ１７
に固定された目盛板で目盛板１５Ａと同様にＸ方向調節
ねじ１７の移動量を直読できるようになつている。Ｘ方
向調節ねじ１７の端部にはガイド穴１７Ｂがあり、Ｘ摺
動子１８のガイド軸１８Ａと嵌合し、Ｘ方向調節ねじ１
７をゆるめガイドフレーム１９とＸ摺動子１８のギヤツ
プが生じた場合にＸ摺動子１８が脱落しないようになつ
ている。１７ＣはロツクナツトでＸ方向調節ねじ１７の
回転を規制する。１８Ｂは摺動機でガイドフレーム１９
のＸ摺動面１９Ｂと接触し磁石のＸ方向の動きを規正す
ると同時に、Ｘ，Ｙ方向の移動に対してはＸ方向の寸法
を維持しつつ摺動する。
以上説明した構造において、摺動機に適当な材料（耐ク
リープ性に優れ、動摩擦、静摩擦係数の差の小さい材
料、例えば特殊充填材入り合成樹脂など）を使用するこ
とにより、微調整の際一番問題となるステイツクスリツ
プ現象を排除することができる。２０は磁石支持ねじで
支持アーム８の端部に設けられ磁石位置調整後このねじ
をしめ付けることによつてその先端がガイドフレーム取
付面１Ａに接触し、位置を固定する。本実施例によれ
ば、磁石のＸ，Ｙ，Ｚ方向の移動が相互干渉がなく独立
して行うことができ、微動時においてもステイツクスリ
ツプ現象がないため位置の再現性が良く、位置調節節精
度を１／１００mmオーダーまで規制できるようになつ
た。また調節部が全部架台の外側に位置し、外部から容
易に操作することができ、かつ移動量が直読できるた
め、調節作業の能率を従来の３倍以上に高めることがで
きた。また任意のコイルをＺ軸に対し任意の角度だけ傾
斜させることができるため、調整可能範囲が大幅に拡大
すると同時に、設置条件を大幅に緩和することができ
た。
リープ性に優れ、動摩擦、静摩擦係数の差の小さい材
料、例えば特殊充填材入り合成樹脂など）を使用するこ
とにより、微調整の際一番問題となるステイツクスリツ
プ現象を排除することができる。２０は磁石支持ねじで
支持アーム８の端部に設けられ磁石位置調整後このねじ
をしめ付けることによつてその先端がガイドフレーム取
付面１Ａに接触し、位置を固定する。本実施例によれ
ば、磁石のＸ，Ｙ，Ｚ方向の移動が相互干渉がなく独立
して行うことができ、微動時においてもステイツクスリ
ツプ現象がないため位置の再現性が良く、位置調節節精
度を１／１００mmオーダーまで規制できるようになつ
た。また調節部が全部架台の外側に位置し、外部から容
易に操作することができ、かつ移動量が直読できるた
め、調節作業の能率を従来の３倍以上に高めることがで
きた。また任意のコイルをＺ軸に対し任意の角度だけ傾
斜させることができるため、調整可能範囲が大幅に拡大
すると同時に、設置条件を大幅に緩和することができ
た。
以上説明したことから明らかなように、本発明によるＭ
ＲＩ用磁石保持調整装置によれば、電磁吸収力が働いて
いる状態においても複数個の磁石を水平（Ｘ方向）、垂
直（Ｙ方向）、軸方向（Ｚ方向）及び中心軸に対する傾
斜取付にわたつて、任意に精密にしかもＸ，Ｙ，Ｚの相
互干渉なしに行なうことができるようになる。
ＲＩ用磁石保持調整装置によれば、電磁吸収力が働いて
いる状態においても複数個の磁石を水平（Ｘ方向）、垂
直（Ｙ方向）、軸方向（Ｚ方向）及び中心軸に対する傾
斜取付にわたつて、任意に精密にしかもＸ，Ｙ，Ｚの相
互干渉なしに行なうことができるようになる。
第１図は本発明によるＭＲＩ用磁石保持調整装置の一実
施例を示す側面図、第２図は第１図のＡ−Ａ′における
断面図、第３図は前記ＭＲＩ用磁石保持調整装置のＺ軸
調整機構を示す側面図、第４図は第３図の詳細を示す一
部断面図、第５図ないし第８図は本発明によるＭＲＩ用
磁石保持調整装置の他の実施例を示す部合構成図、第９
図および第１０図はＸＹ方向調整機構を示す構成図であ
る。 １……架台、１Ａ……ガイドフレーム取付面、２……ア
ーム、３……アーム、４……磁石、５……側板、５Ａ…
…穴、５Ｂ……環状溝、６……巻線、７……磁石支持ア
ーム、８……支持アーム、９……Ｚ固定軸、９Ａ……調
節ねじ、１０……固定具、１１……Ｚ調節リング、１１
Ａ……治具挿入穴、１１Ｂ……目盛板、１１Ｃ……球状
面、１１Ｄ……リング、１１Ｅ……摺動機、１１Ｆ……
摺動機、１２……支持板、１３……支持板、１４……Ｚ
調節リング、１５……Ｙ方向調節ねじ、１５Ａ……目盛
板、１５Ｂ……球状面、１５Ｃ……ロツクナツト、１６
……Ｙ摺動子、１６Ａ……球状穴、１６Ｂ……摺動材、
１６Ｃ……摺動材、１７……Ｘ方向調節ねじ、１７Ａ…
…目盛板、１７Ｂ……ガイド穴、１７Ｃ……ロツクナツ
ト、１８……Ｘ摺動子、１８Ａ……ガイド軸、１８Ｂ…
…摺動材、１９……ガイドフレーム、１９Ａ……Ｙ摺動
面、１９Ｂ……Ｘ摺動面、２０……支持ねじ。
施例を示す側面図、第２図は第１図のＡ−Ａ′における
断面図、第３図は前記ＭＲＩ用磁石保持調整装置のＺ軸
調整機構を示す側面図、第４図は第３図の詳細を示す一
部断面図、第５図ないし第８図は本発明によるＭＲＩ用
磁石保持調整装置の他の実施例を示す部合構成図、第９
図および第１０図はＸＹ方向調整機構を示す構成図であ
る。 １……架台、１Ａ……ガイドフレーム取付面、２……ア
ーム、３……アーム、４……磁石、５……側板、５Ａ…
…穴、５Ｂ……環状溝、６……巻線、７……磁石支持ア
ーム、８……支持アーム、９……Ｚ固定軸、９Ａ……調
節ねじ、１０……固定具、１１……Ｚ調節リング、１１
Ａ……治具挿入穴、１１Ｂ……目盛板、１１Ｃ……球状
面、１１Ｄ……リング、１１Ｅ……摺動機、１１Ｆ……
摺動機、１２……支持板、１３……支持板、１４……Ｚ
調節リング、１５……Ｙ方向調節ねじ、１５Ａ……目盛
板、１５Ｂ……球状面、１５Ｃ……ロツクナツト、１６
……Ｙ摺動子、１６Ａ……球状穴、１６Ｂ……摺動材、
１６Ｃ……摺動材、１７……Ｘ方向調節ねじ、１７Ａ…
…目盛板、１７Ｂ……ガイド穴、１７Ｃ……ロツクナツ
ト、１８……Ｘ摺動子、１８Ａ……ガイド軸、１８Ｂ…
…摺動材、１９……ガイドフレーム、１９Ａ……Ｙ摺動
面、１９Ｂ……Ｘ摺動面、２０……支持ねじ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大塚 雅之 茨城県勝田市市毛882番地 株式会社日立 製作所那珂工場内 (56)参考文献 実開 昭61−99046（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭63−118208（ＪＰ，Ｕ) 特公 平３−48815（ＪＰ，Ｂ２) 実公 平２−36481（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (4)
- 【請求項１】複数個の円環状電磁石を同軸上に配置し
た、中心空間に高均一な磁場を得るＭＲイメージング用
電磁石装置において、前記電磁石は水平向両側であっ
て、上下方向の略中心位置に前記電磁石の重量を支える
磁石支持アームを設け、この支持アームに電磁石径方向
の水平方向（Ｘ方向）と垂直方向（Ｙ方向）に移動可能
な調整機構を介在させ、該支持アームは非磁性部材で構
成された架台で保持され、該架台には前記複数個の電磁
石群の円環軸方向（Ｚ方向）外側両端に門形状の枠が一
体構造で設けられ、前記電磁石の円環外縁側の中心軸対
称な位置に４本のＺ固定軸を複数個の電磁石外縁に貫通
し、且つ該Ｚ固定軸の両端を該架台の前記門形状枠に固
定し、該Ｚ固定軸に貫通された複数の電磁石の各々に前
記電磁石の任意な傾斜に対応可能な滑り機構を含むＺ調
整用のリングを前記電磁石の両側から挟み込み固定の可
能な構造にすると共に、Ｚ固定軸とＺ調整リングのネジ
機構により移動可能としたことを特徴とするＭＲＩ用磁
石保持調整装置。 - 【請求項２】Ｚ方向移動及び傾斜の機構は各々の電磁石
両側に設ける側板に摺動部材を当て、その外側にＺ固定
軸とネジ結合されたＺ調整リングを押し当る構造とし、
該摺動部材とＺ調整臨リングとの間は球状面で接触し、
かつ摺動部材を介在する、特許請求の範囲第１項記載の
ＭＲＩ磁石保持調整装置。 - 【請求項３】垂直方向調整は、前記磁石支持アームか
ら、垂直方向に支持ネジをネジ込み貫通し、その下部に
位置する架台上に設けられたガイドフレームに押し当
て、押し当て部は、Ｙ摺動子なる摺動材を含む部材を介
在させ、前記支持ネジとＹ摺動子の接触面は球状面で接
触する、特許請求の範囲第１項記載のＭＲＩ磁石保持調
整装置。 - 【請求項４】Ｚ方向調整リング及び垂直方向調整ネジ及
び水面方向調整ネジは、各々に移動量を示す目盛を設け
たことを特徴とする、特許請求の範囲第１項、第２項、
又は第３項記載のＭＲＩ磁石保持調整装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61065356A JPH0657204B2 (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 | Ｍｒｉ用磁石保持調整装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61065356A JPH0657204B2 (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 | Ｍｒｉ用磁石保持調整装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62221340A JPS62221340A (ja) | 1987-09-29 |
| JPH0657204B2 true JPH0657204B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=13284594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61065356A Expired - Lifetime JPH0657204B2 (ja) | 1986-03-24 | 1986-03-24 | Ｍｒｉ用磁石保持調整装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0657204B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014042554A (ja) * | 2012-08-24 | 2014-03-13 | Fuji Electric Co Ltd | 磁場発生用電磁石、これを使用した均等磁場発生装置及び磁場発生用電磁石の製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3227844A1 (de) * | 1982-07-26 | 1984-01-26 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Vorrichtung zur justierung und halterung von magnetspulen eines magnetsystems zur kernspin-tomographie |
| JPS60156448U (ja) * | 1984-03-28 | 1985-10-18 | 横河電機株式会社 | 核磁気共鳴スキヤナ用マグネツト保持装置 |
| JPS6199046U (ja) * | 1984-12-06 | 1986-06-25 |
-
1986
- 1986-03-24 JP JP61065356A patent/JPH0657204B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62221340A (ja) | 1987-09-29 |
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