JPH0657352U - プラズマ殺菌又はプラズマ成膜装置 - Google Patents
プラズマ殺菌又はプラズマ成膜装置Info
- Publication number
- JPH0657352U JPH0657352U JP126393U JP126393U JPH0657352U JP H0657352 U JPH0657352 U JP H0657352U JP 126393 U JP126393 U JP 126393U JP 126393 U JP126393 U JP 126393U JP H0657352 U JPH0657352 U JP H0657352U
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- JP
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 処理物が複数個でも処理物の内外面でも均一
に殺菌又は成膜の処理を行える装置を提供すること 【構成】 ガス導入口２と真空排気口３を有する真空処
理室１内でプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、
該真空室処理室内に複数の処理物５を保持する保持手段
６とを備え、発生するプラズマにより該処理物に殺菌又
は成膜を施す装置に於いて、該プラズマ発生手段を昇降
自在の放電電極８を備えた電極式のプラズマ発生手段で
構成し、該放電電極を処理物の数とその処理面に対応し
た形状に構成した 【効果】 各種形状の複数の処理物に均一な殺菌又は成
膜を施せる
に殺菌又は成膜の処理を行える装置を提供すること 【構成】 ガス導入口２と真空排気口３を有する真空処
理室１内でプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、
該真空室処理室内に複数の処理物５を保持する保持手段
６とを備え、発生するプラズマにより該処理物に殺菌又
は成膜を施す装置に於いて、該プラズマ発生手段を昇降
自在の放電電極８を備えた電極式のプラズマ発生手段で
構成し、該放電電極を処理物の数とその処理面に対応し
た形状に構成した 【効果】 各種形状の複数の処理物に均一な殺菌又は成
膜を施せる
Description
【０００１】
本考案は、主として食品容器や医薬品容器として使用されるガラス又はプラス チック等の処理物の表面をプラズマにより殺菌又は成膜する装置に関する。
【０００２】
従来、ガラスの食品容器等をプラズマにより殺菌し或いは成膜を施すことは行 われており、そのための装置として、図１、図２に示すような装置が知られてい る。図１の装置は、ガス導入口ａと真空排気口ｂ及び開閉扉ｃを備えた真空処理 室ｄ内に、処理物を載せる処理棚ｅを設け、該処理棚ｅの下方に磁気装置ｇとそ の上方には石英窓ｆを介してマイクロ波導入装置ｈとを設けた構成を有している 。この図１の装置は、処理棚ｅに処理物を載せ、真空処理室ｄ内の所定の圧力ま で排気した後、ガス導入口ａを開いてＡr，Ｈe等の不活性ガス或いはＯ2、Ｈ2、 Ｃｌ2、フッ素ガス等の活性ガスを所定の圧力まで導入し、マイクロ波導入装置 ｈを作動させて石英窓ｆを介してマイクロ波を該真空処理室ｄ内へ導入すると、 該不活性ガス或いは活性ガスのプラズマが発生し、不活性ガスが導入された時は 処理物の殺菌が行われ、活性ガスが導入された時は処理物に保護膜の成膜を施す ことが出来る。その際、磁気装置ｇはプラズマ密度の増加と電子の滞在時間を延 ばすべく作用する。
【０００３】 また、図２の装置は、真空処理室ｄ内に高周波電極ｉを設けた点が図１の装置 と相違し、図示してないが開閉扉ｃから出入れできる位置に処理棚ｅが設けられ る。この装置も不活性ガス或いは活性ガスを導入し、高周波電源ｊからの電力を 高周波電極ｉに投入して発生するプラズマにより図１の場合と同様に処理物の殺 菌又は処理物への成膜を行える。
【０００４】
上記のような従来の装置では、処理物が複数個になると各処理物の表面にプラ ズマが均一に照射しないため、殺菌作用あるいは膜厚が不均一になる不都合があ り、また、処理物の内面を処理することは困難であった。
【０００５】 本考案は、処理物が複数個でも処理物の内外面でも均一に殺菌又は成膜の処理 を行える装置を提供することを目的とするものである。
【０００６】
本考案では、ガス導入口と真空排気口を有する真空処理室内でプラズマを発生 させるプラズマ発生手段と、該真空室処理室内に複数の処理物を保持する保持手 段とを備え、発生するプラズマにより該処理物に殺菌又は成膜を施す装置に於い て、該プラズマ発生手段を放電電極を備えた電極式のプラズマ発生手段で構成し 、該放電電極を処理物の数とその処理面に対応した形状に構成することにより、 上記の目的を達成するようにした。
【０００７】
真空処理室内を１０- 2Torr以下の所定圧力まで排気したのち、アルゴンガス 、塩素系等の殺菌用ガス或いは有機シリコン系等の成膜用ガスを例えば０．１〜 １Torrまで導入する。この状態で放電電極を設定位置にまで下降させ、各処理物 の内面や外面の処理面に対応して放電電極が位置し、放電電極の表面でプラズマ を発生させると、各処理物の処理面はプラズマにさらされて均一に殺菌処理或い は成膜処理が施される。
【０００８】
本考案の実施例を図３に基づき説明すると、同図の符号１はガス導入口２と真 空排気口３及び開閉扉４を備えた真空処理室で、その内部の下方には各種形状の 食品容器や医薬品容器等の処理物５を複数個載せる処理棚６の保持手段を設け、 該処理棚６の上方に該真空処理室１の外部の電極昇降機構７により昇降される複 数個の放電電極８を設けるようにした。９は該放電電極８へ電力を供給する高周 波電源である。該処理物５の形状はコップ状や円柱状等の各様であり、放電電極 ８には各処理物５の処理面に対応するように突部１０や凹部１１が設けられ、例 えば該放電電極８が下降したとき、コップ状の処理物５ａの内面に突部１０が対 応し、円筒状の処理物５ｂの外周面を凹部１１が囲み、これら処理物５の内面と 外周面を同時にプラズマにさらして均一に殺菌或いは成膜処理を行なえるように した。該ガス導入口２からアルゴンガスや塩素系ガス或いはフッ素系ガス等の殺 菌用ガスを導入すればそのガスのプラズマにより各処理物５は殺菌され、有機シ リコン系等の成膜用ガスを導入すればそのガスのプラズマにより各処理物５に保 護膜等の成膜を行える。
【０００９】 図示の装置の作動を説明すると、処理棚６に各種形状の処理物５を載せ、真空 処理室１内を真空排気口３から１０- 2Torr以下の所定の圧力まで排気した後、 ガス導入口２から殺菌用ガス又は成膜用ガスを０．１〜１Torrまで導入する。そ して電極昇降機構７により設定位置に放電電極８を下降させると、各処理物５の 処理面に各放電電極８が対応し、電源９から放電電極８に電力を供給することに より発生するプラズマに各処理面がさらされ、処理面の殺菌や処理面への保護膜 の成膜が行なわれ、該放電電極８と各処理面とが対応しているために均一にこれ らの処理を施せる。
【００１０】
以上のように本考案によれば、真空処理室内のプラズマ発生手段で発生するプ ラズマにより処理物に殺菌又は成膜を施す装置の該プラズマ発生手段を昇降自在 の電極式のプラズマ発生手段で構成し、その放電電極を処理物の数とその処理面 に対応した形状に構成したので、各種形状の複数の処理物に均一な殺菌又は成膜 を施せる等の効果がある。
【図１】 従来例の説明図
【図２】 他の従来例の説明図
【図３】 本考案の実施例の截断側面図
１ 真空処理室 ２ ガス導入口 ３
真空排気口 ５ 処理物 ７ 電極昇降機構 ８
放電電極
真空排気口 ５ 処理物 ７ 電極昇降機構 ８
放電電極
Claims (2)
- 【請求項１】 ガス導入口と真空排気口を有する真空処
理室内でプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、該
真空室処理室内に複数の処理物を保持する保持手段とを
備え、発生するプラズマにより該処理物に殺菌又は成膜
を施す装置に於いて、該プラズマ発生手段を昇降自在の
放電電極を備えた電極式のプラズマ発生手段で構成し、
該放電電極を処理物の数とその処理面に対応した形状に
構成したことを特徴とするプラズマ殺菌又はプラズマ成
膜装置。 - 【請求項２】 上記放電電極の処理物との対向面に突部
や凹部を形成したことを特徴とする請求項１に記載のプ
ラズマ殺菌又はプラズマ成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP126393U JPH0657352U (ja) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | プラズマ殺菌又はプラズマ成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP126393U JPH0657352U (ja) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | プラズマ殺菌又はプラズマ成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0657352U true JPH0657352U (ja) | 1994-08-09 |
Family
ID=11496571
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP126393U Pending JPH0657352U (ja) | 1993-01-21 | 1993-01-21 | プラズマ殺菌又はプラズマ成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0657352U (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004528108A (ja) * | 2001-04-25 | 2004-09-16 | オックスフォード インスツルメンツ プラズマ テクノロジー リミテッド | 滅菌方法 |
| JP2010168604A (ja) * | 2009-01-20 | 2010-08-05 | Shibaura Mechatronics Corp | プラズマ成膜装置及びプラズマ成膜方法 |
| CN111657338A (zh) * | 2020-07-10 | 2020-09-15 | 天津科技大学 | 一种柜式低温等离子体果蔬杀菌设备及其杀菌方法 |
-
1993
- 1993-01-21 JP JP126393U patent/JPH0657352U/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004528108A (ja) * | 2001-04-25 | 2004-09-16 | オックスフォード インスツルメンツ プラズマ テクノロジー リミテッド | 滅菌方法 |
| JP2010168604A (ja) * | 2009-01-20 | 2010-08-05 | Shibaura Mechatronics Corp | プラズマ成膜装置及びプラズマ成膜方法 |
| CN111657338A (zh) * | 2020-07-10 | 2020-09-15 | 天津科技大学 | 一种柜式低温等离子体果蔬杀菌设备及其杀菌方法 |
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