JPH0657395B2 - ウエハ搬送用のチヤツクユニツト - Google Patents
ウエハ搬送用のチヤツクユニツトInfo
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- JPH0657395B2 JPH0657395B2 JP59120906A JP12090684A JPH0657395B2 JP H0657395 B2 JPH0657395 B2 JP H0657395B2 JP 59120906 A JP59120906 A JP 59120906A JP 12090684 A JP12090684 A JP 12090684A JP H0657395 B2 JPH0657395 B2 JP H0657395B2
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- JP
- Japan
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- wafer
- platen
- movable member
- base
- chuck unit
- Prior art date
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/50—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
- H10P72/57—Mask-wafer alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/70—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
- H10P72/78—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using vacuum or suction, e.g. Bernoulli chucks
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T279/00—Chucks or sockets
- Y10T279/11—Vacuum
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Manipulator (AREA)
- Specific Conveyance Elements (AREA)
- Feeding Of Articles By Means Other Than Belts Or Rollers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ウエハの空間的な位置決めを妨げることなし
にウエハを受容してプラテン上に精確に配置するための
チヤツクユニツトに関するものである。
にウエハを受容してプラテン上に精確に配置するための
チヤツクユニツトに関するものである。
従来の技術 集積回路の製造においては、回路が形成されるシリコン
ウエハを多数の製造段階で処理する必要がある。例え
ば、各ウエハに集積回路が何層にもわたつて形成される
に従つて、何度もウエハにコーテイング、感光、現像、
エツチング及び再コーテングを加る必要がある。これら
多数の製造段階のために、ウエハを製造作業ステーシヨ
ンに配置される以前にまず整列させなければならない。
このために、多くのウエハ処理システムにおいて、ウエ
ハはまず整列ステーシヨンに搬送されて整列させられて
から作業ステーシヨンに搬送されるようになつている。
ウエハを多数の製造段階で処理する必要がある。例え
ば、各ウエハに集積回路が何層にもわたつて形成される
に従つて、何度もウエハにコーテイング、感光、現像、
エツチング及び再コーテングを加る必要がある。これら
多数の製造段階のために、ウエハを製造作業ステーシヨ
ンに配置される以前にまず整列させなければならない。
このために、多くのウエハ処理システムにおいて、ウエ
ハはまず整列ステーシヨンに搬送されて整列させられて
から作業ステーシヨンに搬送されるようになつている。
発明が解決しようとする課題 ウエハの整列作業が終了した後では、このあらかじめ整
列させられた状態を妨げずにウエハを作業ステーシヨン
に供給することが最も重要である。本発明の課題は、こ
のようなあらかじめ整列させられた状態を妨げずにウエ
ハを作業ステーシヨンに供給することのできるウエハ搬
送用チヤツクユニツトを提供することである。
列させられた状態を妨げずにウエハを作業ステーシヨン
に供給することが最も重要である。本発明の課題は、こ
のようなあらかじめ整列させられた状態を妨げずにウエ
ハを作業ステーシヨンに供給することのできるウエハ搬
送用チヤツクユニツトを提供することである。
課題を解決するための手段 この課題を解決した本発明によるチャックユニットは、
ハウジングと、このハウジング内に配置されたプラテン
と、さらにこのハウジング内に配置された、ウエハの空
間的な位置決めを妨げることなしにこのウエハを掴んで
前記プラテン上に載せるためのウエハ昇降機構とから成
っており、該ウエハ昇降機構が、ベースと、このベース
に対して相対的に鉛直方向で昇降可能な可動部材と、こ
のベースと可動部材とに接続されたメタルベローズとか
ら成っており、このメタルベローズは鉛直方向で移動さ
せられた時に前記可動部材の回転を妨妨げるようになっ
ており、前記ベースと可動部材とメタルベローズとが気
密なスペースを形成しており、該スペースに通じる第1
の導管手段が前記ベースに形成されており、前記プラテ
ンが前記可動部材上で中央開口を備えたおり、前記第1
の導管手段に圧縮空気を供給すると、前記可動部材が回
転することなしに前記中央開口を貫通して上昇させら
れ、圧縮空気の供給を中止すると前記可動部材が回転す
ることなしに下降させられるようになっている。
ハウジングと、このハウジング内に配置されたプラテン
と、さらにこのハウジング内に配置された、ウエハの空
間的な位置決めを妨げることなしにこのウエハを掴んで
前記プラテン上に載せるためのウエハ昇降機構とから成
っており、該ウエハ昇降機構が、ベースと、このベース
に対して相対的に鉛直方向で昇降可能な可動部材と、こ
のベースと可動部材とに接続されたメタルベローズとか
ら成っており、このメタルベローズは鉛直方向で移動さ
せられた時に前記可動部材の回転を妨妨げるようになっ
ており、前記ベースと可動部材とメタルベローズとが気
密なスペースを形成しており、該スペースに通じる第1
の導管手段が前記ベースに形成されており、前記プラテ
ンが前記可動部材上で中央開口を備えたおり、前記第1
の導管手段に圧縮空気を供給すると、前記可動部材が回
転することなしに前記中央開口を貫通して上昇させら
れ、圧縮空気の供給を中止すると前記可動部材が回転す
ることなしに下降させられるようになっている。
作 用 プラテンはウエハを受容するように構成されており、ウ
エハは、真空源に接続された、プラテン表面の開口によ
つてプラテンに吸着されるようになつている。前記ウエ
ハ昇降機構は、プラテン上に配置されたウエハを受容す
るために上昇させられ次いでウエハをプラテン上に載設
するために下降させられる。このウエハ昇降機構は内部
にシリンダを備えたベースを有している。このシリンダ
内にはシヤフト部分が配置されている。シヤフト部分の
拡張部分とベースとはメタルベローズの互いに向き合う
両端部に接続されている。これら拡張部分とベースとメ
タルベローズとは気密なスペースを形成しており、この
スペース内に、シヤフト部分を昇降させるための圧縮空
気が供給又は排出されるようになつている。シヤフト部
分の1端部にはゴムカツプが固定されており、このゴム
カツプに真空が供給されてウエハが固定されるようにな
つている。ウエハ昇降機構内のメタルベローズ及びその
連結部はシヤフト部分の回転が妨げひいては、ウエハを
プラテン上に載設するためにメタルベローズが下降させ
られた時にウエハが回転するのを妨げるように作用す
る。
エハは、真空源に接続された、プラテン表面の開口によ
つてプラテンに吸着されるようになつている。前記ウエ
ハ昇降機構は、プラテン上に配置されたウエハを受容す
るために上昇させられ次いでウエハをプラテン上に載設
するために下降させられる。このウエハ昇降機構は内部
にシリンダを備えたベースを有している。このシリンダ
内にはシヤフト部分が配置されている。シヤフト部分の
拡張部分とベースとはメタルベローズの互いに向き合う
両端部に接続されている。これら拡張部分とベースとメ
タルベローズとは気密なスペースを形成しており、この
スペース内に、シヤフト部分を昇降させるための圧縮空
気が供給又は排出されるようになつている。シヤフト部
分の1端部にはゴムカツプが固定されており、このゴム
カツプに真空が供給されてウエハが固定されるようにな
つている。ウエハ昇降機構内のメタルベローズ及びその
連結部はシヤフト部分の回転が妨げひいては、ウエハを
プラテン上に載設するためにメタルベローズが下降させ
られた時にウエハが回転するのを妨げるように作用す
る。
実施例 次に図面に示した実施例について本発明の構成を具体的
に説明する。
に説明する。
第1図に示した本発明によるチヤツクユニツトはハウジ
ング10より成つている。このハウジング10内にはプ
ラテン11が配置されていて、このプラテン11は製造
しようとするウエハを支持するための表面を有してい
る。ハウジング10とプラテン11とにはプレロードス
プリング13,14に沿つてサスペンシヨンスプリング
12が固定されており、このプレロードスプリング1
3,14はそれぞれ止めねじ15,16に作用してい
て、これによつてプラテン12はハウジング10内でば
ね負荷が加えられている。また、チヤツクユニツトが傾
斜させられたりひつくり返つたりした時にサスペンシヨ
ンスプリング12から著しく傾斜させられた時にプラテ
ン11を中央位置に維持するために、開口17を通つて
挿入された部材(図示せず)がさらに設けられている。
ング10より成つている。このハウジング10内にはプ
ラテン11が配置されていて、このプラテン11は製造
しようとするウエハを支持するための表面を有してい
る。ハウジング10とプラテン11とにはプレロードス
プリング13,14に沿つてサスペンシヨンスプリング
12が固定されており、このプレロードスプリング1
3,14はそれぞれ止めねじ15,16に作用してい
て、これによつてプラテン12はハウジング10内でば
ね負荷が加えられている。また、チヤツクユニツトが傾
斜させられたりひつくり返つたりした時にサスペンシヨ
ンスプリング12から著しく傾斜させられた時にプラテ
ン11を中央位置に維持するために、開口17を通つて
挿入された部材(図示せず)がさらに設けられている。
導管18はハウジング10内を通つていて、プラテン1
1に真空を供給するために導管18aとチユーブ18b
とを介してプラテン11に接続されている。プラテン1
1の表面に形成されたマニホルド及び小さい開口を介し
て、供給された真空によつてウエハはプラテン11にし
つかりと保持されている。
1に真空を供給するために導管18aとチユーブ18b
とを介してプラテン11に接続されている。プラテン1
1の表面に形成されたマニホルド及び小さい開口を介し
て、供給された真空によつてウエハはプラテン11にし
つかりと保持されている。
チヤツク装置内の中央にはウエハ昇降機構19が配置さ
れている。このウエハ昇降機構19は第2図で拡大して
示されている。
れている。このウエハ昇降機構19は第2図で拡大して
示されている。
第2図で解るように、ウエハ昇降機構19は、任意の好
都合な手段を用いてチヤツクユニツトのハウジング10
に固定されたベース20より成つている。ベース20内
にはシリンダ20aが形成されている。ウエハ昇降機構
19は可動部材21を有している。この可動部材21は
円筒形のハウジング22とピストン部材23とから成つ
ている。このピストン部材23は、シリンダ20a内で
滑動可能に配置されたシヤフト部分23aと、円筒形の
ハウジング22の上部に配置されかつ固定された第1の
半径方向拡張部分23bとを有している。この第1の半
径方向拡張部分23bは例えばその外径に設けられた雄
ねじと円筒形のハウジング72の上部の内径に設けられ
た雌ねじとによつて固定されている。ピストン部材23
は、円筒形のハウジング22の上端部に支持された第2
の拡張部分23cを有している。
都合な手段を用いてチヤツクユニツトのハウジング10
に固定されたベース20より成つている。ベース20内
にはシリンダ20aが形成されている。ウエハ昇降機構
19は可動部材21を有している。この可動部材21は
円筒形のハウジング22とピストン部材23とから成つ
ている。このピストン部材23は、シリンダ20a内で
滑動可能に配置されたシヤフト部分23aと、円筒形の
ハウジング22の上部に配置されかつ固定された第1の
半径方向拡張部分23bとを有している。この第1の半
径方向拡張部分23bは例えばその外径に設けられた雄
ねじと円筒形のハウジング72の上部の内径に設けられ
た雌ねじとによつて固定されている。ピストン部材23
は、円筒形のハウジング22の上端部に支持された第2
の拡張部分23cを有している。
円筒形のハウジング22の下端部は、メタルベローズ2
4の一端部に固定された延長部22aを有している。メ
タルベローズ24の他端部はベース20の延長部20b
に固定されている。ピストン部材23のシヤフト部分2
3aと円筒形のハウジング22とメタルベローズ24と
ベース20とは気密なスペース25を形成している。メ
タルベローズ24は規格製造製品として入手可能である
(例えば、メタルベローズ社,ロードアイランド)。メ
タルベローズ24は図示の下降位置で通常は可動部材に
ばね負荷を加えている。しかしながら可動部材21が持
ち上げられると、メタルベローズ24はほぼ長手方向で
伸張され、これに対してスペース25の気密特性は維持
される。メタルベローズ24は、可動部材21の剛性を
維持する作用を有していて特に、可動部材が昇降運動さ
せられた時にその回動運動を妨げるようになつている。
ベース20の一端部に固定された制限ストツパ26は延
長部26aを有しており、この延長部26aは、円筒形
のハウジング22の延長部22aと協働して可動部材2
1の上昇運動を制限する。
4の一端部に固定された延長部22aを有している。メ
タルベローズ24の他端部はベース20の延長部20b
に固定されている。ピストン部材23のシヤフト部分2
3aと円筒形のハウジング22とメタルベローズ24と
ベース20とは気密なスペース25を形成している。メ
タルベローズ24は規格製造製品として入手可能である
(例えば、メタルベローズ社,ロードアイランド)。メ
タルベローズ24は図示の下降位置で通常は可動部材に
ばね負荷を加えている。しかしながら可動部材21が持
ち上げられると、メタルベローズ24はほぼ長手方向で
伸張され、これに対してスペース25の気密特性は維持
される。メタルベローズ24は、可動部材21の剛性を
維持する作用を有していて特に、可動部材が昇降運動さ
せられた時にその回動運動を妨げるようになつている。
ベース20の一端部に固定された制限ストツパ26は延
長部26aを有しており、この延長部26aは、円筒形
のハウジング22の延長部22aと協働して可動部材2
1の上昇運動を制限する。
比較的堅い剛性体30がピストン部材23の第2の拡張
部分23cの凹部23d内にねじ込まれている。フレキ
シブルなゴムカツプ27は剛性体30に取り付けられて
いる。ゴムカツプ27と剛性体30及びピストン部材2
3とは、ゴムカツプ27の表面に真空を供給するための
真空通路(導管20d)に通じる共通の孔を有してい
る。
部分23cの凹部23d内にねじ込まれている。フレキ
シブルなゴムカツプ27は剛性体30に取り付けられて
いる。ゴムカツプ27と剛性体30及びピストン部材2
3とは、ゴムカツプ27の表面に真空を供給するための
真空通路(導管20d)に通じる共通の孔を有してい
る。
ベース20に形成された導管20dはシリンダ20aに
連通していて、ひいては剛性体30及びゴムカツプ27
内に形成された導管を介してゴムカツプ27の表面に通
じている。これによつて、導管20dに真空が供給され
ると、ゴムカツプ27に接触しているウエハが下方に吸
い寄せられてゴムカツプ27によつて確実に保持され
る。ゴムカツプ27は、ウエハを保持する時にゴムカツ
プ27が過剰にたわむのを避けるためのストツパ27a
(例えば3つ)を有している。
連通していて、ひいては剛性体30及びゴムカツプ27
内に形成された導管を介してゴムカツプ27の表面に通
じている。これによつて、導管20dに真空が供給され
ると、ゴムカツプ27に接触しているウエハが下方に吸
い寄せられてゴムカツプ27によつて確実に保持され
る。ゴムカツプ27は、ウエハを保持する時にゴムカツ
プ27が過剰にたわむのを避けるためのストツパ27a
(例えば3つ)を有している。
導管20cに圧縮空気が供給されると、圧縮空気は気密
なスペース25内に侵入して可動部材21及び円筒形の
ハウジング22を上昇させてゴムカツプ27を第2図で
破線で示した位置に持たらす。この上昇移動位置でゴム
カツプ27に真空が供給され、こうしてゴムカツプ27
はウエハを掴んで、ウエハ31をプラテン上に持たらし
た供給シヤトルから離昇させる。次いでこの供給シヤト
ルは取り除かれる。ウエハは、可動部材21を上昇させ
るのに必要な正圧から、空気をゆつくりと逃がす、導管
20c内に設けられた絞り(図示せず)を介して雰囲気
圧に切換えることによつてメタルベローズ24のスプリ
ング作用下でプラテン11上でゆつくりと下降させられ
る。下降速度の絞りの寸法によつて制御される。ピスト
ンが元の位置に戻されると、導管20cに真空が供給さ
れてメタルベローズ24は完全に収縮される。前述のよ
うにメタルベローズ24は可動部材21の回転運動を妨
げる作用を有しているので、ウエハが製造のためにプラ
テン11上に持たらされた時にそのあらかじめ整列させ
られた状態が維持される。
なスペース25内に侵入して可動部材21及び円筒形の
ハウジング22を上昇させてゴムカツプ27を第2図で
破線で示した位置に持たらす。この上昇移動位置でゴム
カツプ27に真空が供給され、こうしてゴムカツプ27
はウエハを掴んで、ウエハ31をプラテン上に持たらし
た供給シヤトルから離昇させる。次いでこの供給シヤト
ルは取り除かれる。ウエハは、可動部材21を上昇させ
るのに必要な正圧から、空気をゆつくりと逃がす、導管
20c内に設けられた絞り(図示せず)を介して雰囲気
圧に切換えることによつてメタルベローズ24のスプリ
ング作用下でプラテン11上でゆつくりと下降させられ
る。下降速度の絞りの寸法によつて制御される。ピスト
ンが元の位置に戻されると、導管20cに真空が供給さ
れてメタルベローズ24は完全に収縮される。前述のよ
うにメタルベローズ24は可動部材21の回転運動を妨
げる作用を有しているので、ウエハが製造のためにプラ
テン11上に持たらされた時にそのあらかじめ整列させ
られた状態が維持される。
ゴムカツプ27への真空供給が中止されて、プラテン1
1に真空が供給されるとウエハは真空によつてプラテン
11に固定されるので、どの位置においてもウエハに作
業プロセスが施される。
1に真空が供給されるとウエハは真空によつてプラテン
11に固定されるので、どの位置においてもウエハに作
業プロセスが施される。
作業プロセスが終了すると、プラテン11へ真空供給が
中止されて、可動部材21を上昇させるために導管20
cに圧力が供給され、ウエハをしつかりと保持するため
にゴムカツプ27に真空が供給され、こうしてウエハは
プラテン11から離昇させられる。これによつてウエハ
は、導管20cへの真空供給が中止されてから搬送シヤ
フト部分によつて回収される。このプロセスは作業ステ
ーシヨンに各ウエハが到着するたびに繰り返えされる。
中止されて、可動部材21を上昇させるために導管20
cに圧力が供給され、ウエハをしつかりと保持するため
にゴムカツプ27に真空が供給され、こうしてウエハは
プラテン11から離昇させられる。これによつてウエハ
は、導管20cへの真空供給が中止されてから搬送シヤ
フト部分によつて回収される。このプロセスは作業ステ
ーシヨンに各ウエハが到着するたびに繰り返えされる。
本発明は図示の実施例のみに限定されるものではない。
効 果 以上のように本発明のチヤツクユニツトによればウエハ
をそのあらかじめ整列させられた状態を妨げることなし
に各作業ステーシヨンに搬送することができる。
をそのあらかじめ整列させられた状態を妨げることなし
に各作業ステーシヨンに搬送することができる。
第1図は本発明の1実施例によるチヤツクユニツトの概
略的な縦断面図、第2図は第1図のチヤツクユニツトの
ウエハ昇降機構部分の拡大図である。 10……ハウジング、11……プラテン、12……サス
ペンシヨンスプリング、13,14……プレロードスプ
リング、15,16……止めねじ、17……開口、1
8,18a……導管、18b……チユーブ、19……ウ
エハ昇降機構、20……ベース、20a……シリンダ、
20b……延長部、20c,20d……導管、21……
可動部材、22……ハウジング、23……ピストン部
材、23a……シヤフト部分、23b……拡張部分、2
3c……拡張部分、23d……凹部、24……メタルベ
ローズ、25……スペース、26……制限ストツパ、2
6a……延長部、27……ゴムカツプ、27a……スト
ツパ、30……剛性体、31……ウエハ
略的な縦断面図、第2図は第1図のチヤツクユニツトの
ウエハ昇降機構部分の拡大図である。 10……ハウジング、11……プラテン、12……サス
ペンシヨンスプリング、13,14……プレロードスプ
リング、15,16……止めねじ、17……開口、1
8,18a……導管、18b……チユーブ、19……ウ
エハ昇降機構、20……ベース、20a……シリンダ、
20b……延長部、20c,20d……導管、21……
可動部材、22……ハウジング、23……ピストン部
材、23a……シヤフト部分、23b……拡張部分、2
3c……拡張部分、23d……凹部、24……メタルベ
ローズ、25……スペース、26……制限ストツパ、2
6a……延長部、27……ゴムカツプ、27a……スト
ツパ、30……剛性体、31……ウエハ
Claims (6)
- 【請求項1】ウエハ搬送用のチャックユニットにおい
て、ハウジング(10)と、このハウジング(10)内
に配置されたプラテン(11)と、さらにこのハウジン
グ(10)内に配置された、ウエハ(31)の空間的な
位置決めを妨げることなしにこのウエハ(31)を掴ん
で前記プラテン(11)上に載せるためのウエハ昇降機
構(19)とから成っており、 該ウエハ昇降機構(19)が、ベース(20)と、この
ベース(20)に対して相対的に鉛直方向で昇降可能な
可動部材(21)と、このベース(20)と可動部材
(21)とに接続されたメタルベローズ(24)とから
成っており、このメタルベローズ(24)は鉛直方向で
移動させられた時に前記可動部材(21)の回転を妨げ
るようになっており、 前記ベース(20)と可動部材(21)とメタルベロー
ズ(24)とが気密なスペース(25)を形成してお
り、該スペース(25)に通じる第1の導管手段が前記
ベース(20)に形成されており、前記プラテン(1
1)が前記可動部材(21)上で中央開口を備えたお
り、前記第1の導管手段に圧縮空気を供給すると、前記
可動部材(21)が回転することなしに前記中央開口を
貫通して上昇させられ、圧縮空気の供給を中止すると前
記可動部材(21)が回転することなしに下降させられ
るようになっていることを特徴とする、ウエハ搬送用の
チャックユニット。 - 【請求項2】前記可動部材(21)が一端部でシヤフト
部分(23a)を有しており、前記ベース(20)の内
部にこのシヤフト部分(23a)を受容するためのシリ
ンダ(20a)が形成されている、特許請求の範囲第1
項記載のチヤツクユニツト。 - 【請求項3】前記可動部材(21)が、この可動部材
(21)の他端部に固定されたフレキシブルなカップ
(27)と第2の導管手段とを有しており、該第2の導
管手段を介して前記フレキシブルなカップ(27)に真
空が供給されるようになっていてウエハ(31)とフレ
キシブルなカップ(27)とが接触する際にウエハ(3
1)が吸着によって前記フレキシブルなカップ(27)
に固着されるようになっている、特許請求の範囲第2項
記載のチャックユニット。 - 【請求項4】前記第2の導管手段が、前記フレキシブル
なカップ(27)を通って延びこのカップ(27)の表
面に開口する1又はそれ以上のオリフィスと、前記ベー
ス(20)に形成された導管(20d)と、該導管(2
0d)と前記オリフィスとに連通する、前記シャフト部
分(23a)に形成された孔とから成っている、特許請
求の範囲第3項記載のチャックユニット。 - 【請求項5】前記プラテン(11)上に配置されたウエ
ハ(31)を固定するためにこのプラテン(11)の表
面に真空を供給するための手段がプラテン(11)に設
けられている、特許請求の範囲第4項記載のチャックユ
ニット。 - 【請求項6】ハウジング(10)が、このハウジング
(10)内でプラテン(11)をフレキシブルに押えつ
けるためのフレキシブル部材を有している、特許請求の
範囲第5項記載のチャックユニット。
Applications Claiming Priority (2)
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Family
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP59120906A Expired - Lifetime JPH0657395B2 (ja) | 1983-06-15 | 1984-06-14 | ウエハ搬送用のチヤツクユニツト |
Country Status (5)
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