JPH0657476U - Glass substrate rotation holding device - Google Patents
Glass substrate rotation holding deviceInfo
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 部品を交換することなく、サイズの異なるマ
スクを回転させつつ保持することができる回転保持装置
を提供する。
【構成】 第1回転台1および第2回転台2は、それぞ
れ、その先端に保持部材15を取付けた放射状のアーム
10もしくは20を有する。前記保持部材15はボルト
4つまり回転中心に関して対向して配置されている。前
記アーム10もしくは20の長さは、複数種類のマスク
11〜14つまり被回転物の4角に対して保持部材15
が対応するような寸法に設定されている。前記第1回転
台1と第2回転台2とは同一回転軸上に設けられ、第1
回転台1を第2回転台に対して軸方向で移動させ、予定
位置に位置決めできる。処理しようとするマスクが保持
されている回転台を予定位置まで上昇させて予定の処理
を行う。
(57) [Abstract] [PROBLEMS] To provide a rotation holding device capable of holding masks of different sizes while rotating without replacing parts. [Structure] The first rotary table 1 and the second rotary table 2 each have a radial arm 10 or 20 having a holding member 15 attached to the tip thereof. The holding members 15 are arranged to face each other with respect to the bolt 4, that is, the center of rotation. The length of the arm 10 or 20 is such that the holding member 15 is provided with respect to the four corners of the masks 11 to 14, that is, the four corners of the object to be rotated.
Are set to the corresponding dimensions. The first rotary table 1 and the second rotary table 2 are provided on the same rotary shaft.
The rotary table 1 can be moved in the axial direction with respect to the second rotary table and positioned at a predetermined position. The rotary table holding the mask to be processed is raised to a predetermined position to perform the predetermined processing.
Description
【0001】[0001]
本考案はガラス基板回転保持装置に関するものであり、特に、複数サイズのガ ラス基板を回転させつつ保持することができるアームを有するガラス基板回転保 持装置に関する。 The present invention relates to a glass substrate rotation holding device, and more particularly to a glass substrate rotation holding device having an arm capable of holding glass substrates of plural sizes while rotating.
【0002】[0002]
半導体、ガラス、セラミック等の基板上に薄膜を形成する場合に、ガラス基板 上に必要なパターンを形成したマスクまたはレティクルが使用されることは知ら れている。 It is known that a mask or reticle having a required pattern formed on a glass substrate is used when forming a thin film on a substrate such as a semiconductor, glass, or ceramic.
【0003】 ところで、繰り返し使用するうちに、このガラス基板(以下、マスクという) にごみもしくはパーティクルが付着する。このごみもしくはパーティクルをその まま放置しておいたのでは、基板上に品質の高い薄膜を形成することが困難とな る。したがって、通常は、ある程度の時間または回数だけ使用した後、これらの ごみもしくはパーティクルを除去するために洗浄が行われている。By the way, dust or particles adhere to the glass substrate (hereinafter referred to as a mask) during repeated use. If this dust or particles are left as they are, it becomes difficult to form a high quality thin film on the substrate. Therefore, after being used for a certain time or a certain number of times, cleaning is usually performed to remove these dusts or particles.
【0004】 洗浄装置の一例として、マスクを装着する回転装置と、該回転装置に装着され たマスクの表面に対向して設けられ、該表面を洗浄してごみもしくはパーティク ルを除去するスクラブヘッドとを有するものが知られている。スクラブヘッドの 、前記マスクとの対向面にはブラシまたはスポンジ状の洗浄用部品が設けられて いる。As an example of a cleaning device, a rotating device for mounting a mask, and a scrub head provided to face the surface of the mask mounted on the rotating device and cleaning the surface to remove dust or particles. Those having and are known. A brush or sponge-like cleaning part is provided on the surface of the scrub head facing the mask.
【0005】 この洗浄装置では、前記回転装置によってマスクを回転させると共に、前記ス クラブヘッドの洗浄用部品をマスクの表面に接触させた状態で回転させ、マスク 表面全体をむらなく洗浄できるように構成されている。In this cleaning device, the mask is rotated by the rotating device, and the cleaning part of the scrub head is rotated in contact with the surface of the mask so that the entire surface of the mask can be cleaned uniformly. Has been done.
【0006】[0006]
【考案が解決しようとする課題】 上記の洗浄装置には次のような問題点があった。洗浄装置の前記回転装置には 、回転中、マスクを保持するための回転保持装置が設けられる。ところで、マス クの形状・寸法はさまざまである。例えば、一辺がそれぞれ4.5インチ(約1 14mm)、5インチ(約127mm)、6インチ(152mm)、7インチ( 約180mm)の正方形のマスクがある。[Problems to be Solved by the Invention] The above cleaning device has the following problems. The rotation device of the cleaning device is provided with a rotation holding device for holding the mask during rotation. By the way, masks have various shapes and sizes. For example, there are square masks having sides of 4.5 inches (about 114 mm), 5 inches (about 127 mm), 6 inches (152 mm), and 7 inches (about 180 mm), respectively.
【0007】 したがって、従来は、これらの各寸法のマスクを保持できるように、寸法の異 なる複数の保持枠を準備し、洗浄の対象となるマスクの大きさに合わせて適当な 保持枠に交換して対処していた。このために、洗浄の対象となるマスクの大きさ が変わる毎に、前記保持枠をその回転駆動軸に対して着脱する操作が必要となり 、工程数が増大して作業能率の低下を招くという問題点があった。Therefore, conventionally, a plurality of holding frames having different dimensions are prepared so that the masks of the respective sizes can be held, and the holding frames are replaced with appropriate holding frames according to the size of the mask to be cleaned. I was dealing with it. For this reason, every time the size of the mask to be cleaned changes, it is necessary to attach and detach the holding frame to and from the rotary drive shaft, which increases the number of processes and lowers work efficiency. There was a point.
【0008】 本考案の目的は、上記の問題点を解消し、保持装置の保持枠を交換することな く複数種類の寸法を有するマスクを保持することができる回転保持装置を提供す ることにある。An object of the present invention is to solve the above problems and provide a rotary holding device capable of holding a mask having a plurality of types of dimensions without replacing the holding frame of the holding device. is there.
【0009】[0009]
上記の課題を解決し、目的を達成するための本考案は、共通する回転中心を有 した複数の回転台と、各回転台に設けられ、他の回転台におけるのとは異なる予 定距離をおいて前記回転中心軸に関して対向して配置された保持部材とを具備し 、前記複数の回転台の1つに対して他の回転台を前記回転中心の延長方向で移動 させて予定位置に位置決めできるように構成した点を第1の特徴がある。 The present invention, which solves the above problems and achieves the object, is provided with a plurality of rotary bases having a common center of rotation and a preset distance different from those of other rotary bases. And holding members arranged to face each other with respect to the rotation center axis, and the other rotation table is moved in the extension direction of the rotation center with respect to one of the plurality of rotation tables and positioned at a predetermined position. The first feature is that it is configured to be possible.
【0010】 また、本考案は、前記保持部材が、前記各回転台のそれぞれにおいて複数組設 けられ、互いに異なる距離をおいて前記回転中心に関して対向して配置されてい る点に第2の特徴がある。Further, the present invention has a second feature in that a plurality of the holding members are provided in each of the rotary tables and are arranged to face each other with respect to the rotation center at different distances from each other. There is.
【0011】 さらに、本考案は、前記回転台の回転時に遠心力でその一端が外側に偏倚し、 他端が内側に偏倚して該回転台上に載置された被回転物の端部に係合するように 前記回転台の端部に揺動自在に設けられた固定具をさらに具備した点に第3の特 徴がある。Further, according to the present invention, when the rotary table is rotated, one end thereof is biased outward by a centrifugal force, and the other end thereof is biased inward, so that an end of an object to be rotated placed on the rotary table is rotated. A third feature is that a fixing tool swingably provided at an end portion of the rotary table so as to be engaged is further provided.
【0012】[0012]
上記の特徴を有する本考案によれば、複数の回転台では、それぞれ異なる距離 をおいて保持部材が対向配置されているので、該保持部材によって、それぞれの 回転台上に寸法の異なる被回転物を保持することができる。 According to the present invention having the above characteristics, since the holding members are arranged to face each other at different distances from each other in the plurality of turntables, the holding members cause the objects to be rotated having different sizes on the respective turntables. Can be held.
【0013】 特に、第2の特徴を有する本考案によれば、各回転台のそれぞれに、互いに配 置間隔の異なる複数組の保持部材を対向して設けたので、寸法の異なるさらに多 くの種類の被回転物を保持することができる。In particular, according to the present invention having the second characteristic, since a plurality of sets of holding members having different arrangement intervals are provided to face each of the rotary tables, respectively, the number of different sizes can be increased. It can hold various kinds of objects to be rotated.
【0014】 また、第3の特徴を有する本考案によれば、回転台が回転している間は、遠心 力によって固定具が被回転物に係合し、回転の停止中は前記遠心力が開放され、 被回転物に対する固定具の係合が解除される。Further, according to the present invention having the third feature, while the rotating table is rotating, the fixing member is engaged with the object to be rotated by the centrifugal force, and the centrifugal force is applied while the rotation is stopped. It is released, and the engagement of the fixture with the object to be rotated is released.
【0015】[0015]
以下、図面を参照して本考案を詳細に説明する。図1は本考案の一実施例を示 す回転保持装置の平面図であり、図2は同部分断面正面図である。該回転保持装 置は回転軸に関して対称的な形状であるので、図1においては一部の図示を省略 する。また、図2では、回転保持装置の回転軸およびその駆動手段は図示を省略 する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. 1 is a plan view of a rotation holding device showing an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a partial sectional front view of the same. Since the rotary holding device has a symmetrical shape with respect to the rotation axis, a part of the rotary holding device is omitted in FIG. Further, in FIG. 2, the rotary shaft of the rotation holding device and its driving means are omitted.
【0016】 図1および図2において、第1回転台1は、8本のアーム10を含み、第2回 転台2も同様に8本のアーム20を含んでいる(一部図示を省略)。第1回転台 1は、ボルト4によって回転軸3と結合され、第2回転台2は、キー5によって 中空状の回転軸6と結合されている。止めねじ7は、第2回転台2とキー5との 軸方向の動きを固定するために設けられる。In FIGS. 1 and 2, the first turntable 1 includes eight arms 10, and the second turntable 2 also includes eight arms 20 (a part thereof is not shown). . The first rotary table 1 is connected to a rotary shaft 3 by a bolt 4, and the second rotary table 2 is connected to a hollow rotary shaft 6 by a key 5. The set screw 7 is provided to fix the axial movement of the second rotary table 2 and the key 5.
【0017】 前記回転軸3は中空の回転軸6に嵌挿され、該回転軸6に対して軸方向に摺動 自在に設定されている。第1回転台1の凹所1aに挿入されてボルト8で固定さ れたピン9は、第2回転台2の孔2aに対して摺動自在に挿入されている。この ピン9によって第1および第2回転台1,2の回転方向での相互の動きは規制さ れ、回転軸3,6の軸方向にのみ相対位置が変動可能となる。The rotary shaft 3 is fitted into a hollow rotary shaft 6 and is set so as to be slidable in the axial direction with respect to the rotary shaft 6. The pin 9 inserted into the recess 1a of the first rotary table 1 and fixed by the bolt 8 is slidably inserted into the hole 2a of the second rotary table 2. The pin 9 restricts the mutual movement of the first and second turntables 1 and 2 in the rotation direction, and the relative positions of the rotation shafts 3 and 6 can be changed only in the axial direction.
【0018】 アーム10および20の先端には、それぞれ1対のストッパすなわち保持部材 15a〜15dが設けられている。アーム10および20の長さは、ボルト4、 つまり回転軸3もしくは6(すなわち回転中心)と前記保持部材15a〜15d との距離が次のような関係になるように決定されている。A pair of stoppers or holding members 15a to 15d are provided at the tips of the arms 10 and 20, respectively. The lengths of the arms 10 and 20 are determined so that the distance between the bolt 4, that is, the rotation shaft 3 or 6 (that is, the rotation center) and the holding members 15a to 15d has the following relationship.
【0019】 すなわち、隣接するアーム10および20のそれぞれにおいて、隣接するもの 同士に固定されている保持部材15a〜15dと前記回転中心との距離は異なる ようにし、回転中心に対して対称位置にあるアーム10および20に固定されて いる保持部材15a〜15d同士は前記回転中心からの距離が同じになるように する。そして、図1から理解されるように、第2回転台2のすべてのアーム20 は、第1回転台1のすべてのアーム10より長くなるようにしてある。That is, in each of the adjacent arms 10 and 20, the distances between the holding members 15a to 15d fixed to the adjacent arms and the rotation center are different from each other, and the arms are symmetrical with respect to the rotation center. The holding members 15a to 15d fixed to the arms 10 and 20 have the same distance from the rotation center. Then, as understood from FIG. 1, all the arms 20 of the second rotary table 2 are made longer than all the arms 10 of the first rotary table 1.
【0020】 具体的には、前記回転中心との距離が最も小さい位置に設けられている保持部 材15bは、一辺4.5インチの正方形のマスク11の4角に当接して該マスク 11を保持する。また、その次に前記回転中心との距離が小さい位置に設けられ ている保持部材15aは、一辺5インチの正方形のマスク12の4角に当接して 該マスク12を保持する。Specifically, the holding member 15b provided at a position where the distance from the rotation center is the smallest is brought into contact with the four corners of a square mask 11 having a side of 4.5 inches so that the mask 11 is held. Hold. Further, the holding member 15a, which is provided next at a position where the distance from the center of rotation is short, comes into contact with the four corners of the square mask 12 having a side of 5 inches to hold the mask 12.
【0021】 さらに、第2回転台2のアーム20に設けられた保持部材15c,15dは、 一辺6インチおよび一辺7インチの正方形のマスク13,14の4角に当接して 該マスク13,14をそれぞれ保持する。Further, the holding members 15c and 15d provided on the arm 20 of the second turntable 2 are brought into contact with the four corners of the square masks 13 and 14 having sides of 6 inches and 7 inches, respectively. Hold each.
【0022】 以上のように構成された回転保持装置を前記マスクの洗浄装置に組込んで使用 する場合の動作を説明する。An operation when the rotation holding device configured as described above is used by incorporating it in the mask cleaning device will be described.
【0023】 まず、寸法の大きいマスク13または14を洗浄するために第2回転台2を使 用する場合は、図2に示した状態でマスク13または14をアーム20に載置し 、回転軸6に駆動源を接続してアーム20を回転させる。その状態で、スクラブ ヘッドに装着されたブラシまたはスポンジ状の洗浄用部品16をマスク13また は14の表面に接触させる。First, when the second turntable 2 is used to wash the mask 13 or 14 having a large size, the mask 13 or 14 is placed on the arm 20 in the state shown in FIG. A drive source is connected to 6 and the arm 20 is rotated. In this state, the brush or sponge-like cleaning component 16 mounted on the scrub head is brought into contact with the surface of the mask 13 or 14.
【0024】 洗浄用部品16もその軸16aを中心に回転させられるので、該洗浄用部品1 6によってマスク13の表面の全体が洗浄される。なお、洗浄に際しては、洗浄 用の水をマスク13の両面に噴射するのがよい。Since the cleaning component 16 is also rotated around its axis 16a, the entire surface of the mask 13 is cleaned by the cleaning component 16. At the time of cleaning, it is preferable to spray cleaning water on both sides of the mask 13.
【0025】 また、寸法の小さいマスク11または12を洗浄するために第1回転台1を使 用する場合は、図示しない押上手段を操作して、マスク11または12が前記マ スク13または14と同一レベル以上になるように回転軸3を押上げて洗浄位置 にセットする。When the first rotary table 1 is used for cleaning the mask 11 or 12 having a small size, the mask 11 or 12 is operated as the mask 13 or 14 by operating the push-up means (not shown). Push the rotary shaft 3 up to the same level or higher and set it at the cleaning position.
【0026】 前記図示しない押上手段は、カムまたはリンク機構によって構成でき、このカ ムまたはリンク機構は、モータまたは電磁ソレノイドで自動的に駆動してもよい し、手動によってもよい。The push-up means (not shown) can be configured by a cam or a link mechanism, and the cam or link mechanism may be automatically driven by a motor or an electromagnetic solenoid, or may be manually operated.
【0027】 ところで、前記アーム10または20上に載置されたマスクは、洗浄用部品1 6で下向きに押さえられているので、通常は、特に上からの押さえ手段は要しな いが、マスクをさらに確実にアーム10および20に保持するために、次のよう な手段を設けることもできる。By the way, since the mask placed on the arm 10 or 20 is pressed downward by the cleaning component 16, usually, no pressing means from above is required. The following means can be provided in order to hold the arm on the arms 10 and 20 more securely.
【0028】 図3はマスクの押さえ手段を示す要部平面図であり、図4は要部断面図である 。同図において、第1回転台1のアーム10の垂直部材10aには、軸17によ って揺動自在にクランプ18が取付けられている。該クランプ18には、テール 部18aとヘッド部18bとが形成されている。FIG. 3 is a plan view of an essential part showing the mask pressing means, and FIG. 4 is a sectional view of the essential part. In the figure, a clamp 18 is swingably attached to a vertical member 10a of an arm 10 of the first rotary table 1 by a shaft 17. The clamp 18 has a tail portion 18a and a head portion 18b.
【0029】 前記クランプ18は、通常はテール部18aとヘッド部18bの重量の不均衡 ならびに軸17の位置によるモーメントの差によって矢印19の方向に振られ、 ヘッド部18bはマスク11上から退避している。そして、回転台が回転駆動さ れると、その遠心力によってテール部18aは矢印19とは反対方向つまり外向 きに振り上げられて図示の状態となり、マスク11はヘッド部18bで押さえら れる。こうして、アーム10に載置されたマスク11は、回転中はクランプ18 でアーム10に確実に保持された状態に維持できる。The clamp 18 is normally swung in the direction of the arrow 19 due to the imbalance of the weight of the tail portion 18 a and the head portion 18 b and the difference in the moment due to the position of the shaft 17, and the head portion 18 b retracts from the mask 11. ing. Then, when the turntable is driven to rotate, the tail portion 18a is swung up in the direction opposite to the arrow 19, that is, outward by the centrifugal force, and the mask 11 is held down by the head portion 18b. In this way, the mask 11 placed on the arm 10 can be maintained in a state of being reliably held by the arm 10 by the clamp 18 during rotation.
【0030】 前記クランプ18はすべてのアーム10に取付けるのが望ましいが、少なくと も回転軸3,6を中心として対向する2本のアームに取付けるようにしてもよい 。また、クランプ18はアーム20に対しても同様に取付けることができるのは もちろんである。The clamp 18 is preferably attached to all the arms 10, but may be attached to at least two arms facing each other about the rotating shafts 3 and 6. Of course, the clamp 18 can be attached to the arm 20 as well.
【0031】 なお、本実施例では、第1および第2回転台1,2をピン9で連結して一体的 に回転させるようにしたが、第1および第2回転台1,2の双方に駆動手段を個 別に設けるか、クラッチを用いた切換え手段で選択的に駆動源を接続するかして 、洗浄すべきマスクを載置した回転台のみを回転させるようにしてもよい。In this embodiment, the first and second rotary bases 1 and 2 are connected by the pin 9 so as to rotate integrally. However, both the first and second rotary bases 1 and 2 are rotated. It is also possible to separately provide the driving means or selectively connect the driving source by the switching means using the clutch to rotate only the rotary table on which the mask to be cleaned is placed.
【0032】 また、第1回転台1を第2回転台2に対して昇降させるのではなく、その逆に 、第2回転台2を第1回転台1に対して昇降させるように構成してもよい。Further, the first rotary table 1 is not moved up and down with respect to the second rotary table 2, but conversely, the second rotary table 2 is moved up and down with respect to the first rotary table 1. Good.
【0033】[0033]
以上の説明から明らかなように、本考案によれば、回転台を取り替えることな く、複数種類のマスクを保持して回転させることができる。したがって、寸法の 異なる複数のマスクを取り扱う工程において、回転台交換の工程を省ことができ 、能率向上に貢献することができる。 As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to hold and rotate a plurality of types of masks without replacing the turntable. Therefore, in the step of handling a plurality of masks having different dimensions, the step of replacing the turntable can be omitted, which can contribute to the improvement of efficiency.
【0034】 また、クランプによって、回転台の回転中にのみ被回転物を補助的に押さえる ことができるので、回転台に対する被回転物の載置作業や取外しの際に該クラン プが障害となることがない。したがって被回転物の載置作業や取外しの自動化が 容易となる。Further, since the clamp can press the object to be rotated only while the rotating table is rotating, the clamp becomes an obstacle when the object to be mounted on or removed from the rotating table. Never. Therefore, it is easy to place the rotating object and automate the removal.
【図1】 本考案の実施例を示す回転保持装置の平面図
である。FIG. 1 is a plan view of a rotation holding device showing an embodiment of the present invention.
【図2】 本考案の実施例を示す回転保持装置の断面図
である。FIG. 2 is a sectional view of a rotation holding device showing an embodiment of the present invention.
【図3】 クランプの取付状態を示す要部平面図であ
る。FIG. 3 is a plan view of an essential part showing a mounted state of a clamp.
【図4】 クランプの取付状態を示す要部断面図であ
る。FIG. 4 is a cross-sectional view of an essential part showing a mounted state of a clamp.
1…第1回転台、 2…第2回転台、 3…回転軸、
6…中空回転軸、10,20…アーム、 11〜14…
マスク、 15…保持部材、18…クランプ1 ... 1st rotary base, 2 ... 2nd rotary base, 3 ... rotary shaft,
6 ... Hollow rotating shaft, 10, 20 ... Arm, 11-14 ...
Mask, 15 ... Holding member, 18 ... Clamp
Claims (6)
ガラス基板を保持して回転させるガラス基板回転保持装
置において、 共通する回転中心を有した複数の回転台と、 各回転台に設けられ、他の回転台におけるのとは異なる
予定距離をおいて前記回転中心軸に関して対向して配置
された保持部材とを具備し、 前記複数の回転台の1つに対して他の回転台を前記回転
中心の延長方向で移動させて予定位置に位置決めできる
ように構成したことを特徴とするガラス基板回転保持装
置。1. A glass substrate rotation holding device for holding and rotating the glass substrate for performing a predetermined treatment on the glass substrate, wherein a plurality of rotation bases having a common rotation center are provided, and each rotation base is provided. A holding member arranged to face the rotation center axis at a predetermined distance different from that of the other rotary table, and the other rotary table is provided for one of the plurality of rotary tables. A glass substrate rotation holding device, characterized in that it can be moved in the extension direction of the rotation center to be positioned at a predetermined position.
ガラス基板を保持して回転させるガラス基板回転保持装
置において、 回転中心に関して予定距離をおいて対向する保持部材を
有する第1回転台と、 前記回転中心に関して前記予定距離とは異なる距離をお
いて対向する保持部材を有する第2回転台とを具備し、 前記第1回転台と第2回転台とは同一回転軸上に設けら
れ、該第1および第2回転台の一方を、他方に対して前
記回転中心の延長方向で移動させて予定の位置に位置決
めできるように構成したことを特徴とするガラス基板回
転保持装置。2. A glass substrate rotation holding device for holding and rotating the glass substrate for performing a predetermined treatment on the glass substrate, comprising: a first rotary table having holding members facing each other at a predetermined distance with respect to a center of rotation; A second rotary table having holding members facing each other at a distance different from the planned distance with respect to the rotation center, wherein the first rotary table and the second rotary table are provided on the same rotary shaft, A glass substrate rotation holding device, characterized in that one of the first and second turntables is configured to move in the extension direction of the rotation center with respect to the other so that it can be positioned at a predetermined position.
れに複数組設けられ、かつ互いに異なる距離をおいて前
記回転中心に関して対向して配置されていることを特徴
とする請求項1または2記載のガラス基板回転保持装
置。3. The holding member is provided in a plurality of sets on each of the turntables, and is arranged so as to face each other with respect to the center of rotation at different distances from each other. The glass substrate rotation holding device described.
して該被回転物を保持するように回転台に立設されてい
る突起状部材であることを特徴とする請求項1〜3のい
ずれかに記載のガラス基板回転保持装置。4. The holding member is a projecting member that is erected on a turntable so as to contact the four corners of an object to be rotated and hold the object to be rotated. The glass substrate rotation holding device according to any one of 1 to 3.
が外側に偏倚し、他端が内側に偏倚して該回転台上に載
置された被回転物の端部に係合するように各回転台の端
部に揺動自在に設けられた固定具をさらに具備したこと
を特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のガラス基
板回転保持装置。5. When rotating the turntable, one end thereof is biased outward by the centrifugal force and the other end thereof is biased inward so that the turntable is engaged with an end of a rotated object placed on the turntable. The glass substrate rotation holding device according to any one of claims 1 to 4, further comprising a fixture that is swingably provided at an end of each rotary table.
アームからなり、前記保持部材が該アームの先端に配設
されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに
記載のガラス基板回転保持装置。6. The rotary table according to claim 1, wherein each of the rotary bases comprises a plurality of sets of arms having different lengths, and the holding member is provided at a tip of the arms. The glass substrate rotation holding device described.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1993003979U JP2588854Y2 (en) | 1993-01-19 | 1993-01-19 | Glass substrate rotation holding device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1993003979U JP2588854Y2 (en) | 1993-01-19 | 1993-01-19 | Glass substrate rotation holding device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0657476U true JPH0657476U (en) | 1994-08-09 |
| JP2588854Y2 JP2588854Y2 (en) | 1999-01-20 |
Family
ID=11572170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1993003979U Expired - Lifetime JP2588854Y2 (en) | 1993-01-19 | 1993-01-19 | Glass substrate rotation holding device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2588854Y2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009283664A (en) * | 2008-05-22 | 2009-12-03 | Fujikura Ltd | Wafer holding device |
| JP2011123090A (en) * | 2009-12-08 | 2011-06-23 | Toppan Printing Co Ltd | Photomask cleaning device and method |
| JP2019205961A (en) * | 2018-05-29 | 2019-12-05 | 株式会社クレオ | Cleaning device, vessel installation tool with lid and cleaning method |
-
1993
- 1993-01-19 JP JP1993003979U patent/JP2588854Y2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009283664A (en) * | 2008-05-22 | 2009-12-03 | Fujikura Ltd | Wafer holding device |
| JP2011123090A (en) * | 2009-12-08 | 2011-06-23 | Toppan Printing Co Ltd | Photomask cleaning device and method |
| JP2019205961A (en) * | 2018-05-29 | 2019-12-05 | 株式会社クレオ | Cleaning device, vessel installation tool with lid and cleaning method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2588854Y2 (en) | 1999-01-20 |
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