JPH0658314B2 - レ−ザ光回折を利用した粒度分布測定装置 - Google Patents
レ−ザ光回折を利用した粒度分布測定装置Info
- Publication number
- JPH0658314B2 JPH0658314B2 JP60242064A JP24206485A JPH0658314B2 JP H0658314 B2 JPH0658314 B2 JP H0658314B2 JP 60242064 A JP60242064 A JP 60242064A JP 24206485 A JP24206485 A JP 24206485A JP H0658314 B2 JPH0658314 B2 JP H0658314B2
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- JP
- Japan
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- detector
- light
- lens
- size distribution
- particle size
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/02—Investigating particle size or size distribution
- G01N15/0205—Investigating particle size or size distribution by optical means
- G01N15/0211—Investigating a scatter or diffraction pattern
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は、フラウンホーファ回折を利用した粒度分布測
定装置に関する。
定装置に関する。
＜従来の技術＞ コヒーレントな光がスリット，円形開口，あるいはディ
スク等を通過したときに生ずる回折現象、すなわちフラ
ウンホーファ回折を利用して、粒子群の粒度分布を測定
する方法は既に知られている。実際には、飛しょう状態
の粒子群にレーザ光を照射し、各粒子の大きさに応じて
回折される光をレンズで受け、そのレンズの焦点面上に
回折像を結ばせる。そしてこの回折像の光強度分布の実
測値から、粒子群の粒度分布を算出する。
スク等を通過したときに生ずる回折現象、すなわちフラ
ウンホーファ回折を利用して、粒子群の粒度分布を測定
する方法は既に知られている。実際には、飛しょう状態
の粒子群にレーザ光を照射し、各粒子の大きさに応じて
回折される光をレンズで受け、そのレンズの焦点面上に
回折像を結ばせる。そしてこの回折像の光強度分布の実
測値から、粒子群の粒度分布を算出する。
従来、上述の光強度分布を測定する方法の一つとして、
第３図に示す如く、ホトダイオード等の受光素子を複数
個リング状に組み合わせたリングデテクタを用いる方法
がある。この方法による利点は、回折光には若干のゆ
らぎが存在し、測定に際しては強度信号を平均化する必
要があるが、この平均化が、それぞれの素子について時
間的に平行して行えるので、測定時間が短縮できる。
可動部がない。回折角度の大きい部分は光強度が弱く
なるが、リングデテクタの場合、回折角度が大きくなる
程受光受面積が大きくなるので、測定精度が向上する、
等がある。
第３図に示す如く、ホトダイオード等の受光素子を複数
個リング状に組み合わせたリングデテクタを用いる方法
がある。この方法による利点は、回折光には若干のゆ
らぎが存在し、測定に際しては強度信号を平均化する必
要があるが、この平均化が、それぞれの素子について時
間的に平行して行えるので、測定時間が短縮できる。
可動部がない。回折角度の大きい部分は光強度が弱く
なるが、リングデテクタの場合、回折角度が大きくなる
程受光受面積が大きくなるので、測定精度が向上する、
等がある。
＜発明が解決しようとする問題点＞ リングデテクタを用いる方法の欠点としては、透過光
はデテクタの中心に集光するが、この光強度は極めて大
きく、デテクタ面上で熱エネルギとなって中心部の受光
素子に熱影響を与える結果、素子の温度特性による測定
誤差が生ずる虞れがある。デテクタの最中心部の受光
部は、その半径が１mm以下であり、デテクタが集光用の
レンズの光軸と少しでもずれると大きな誤差を生じる
為、その位置合わせが重要となるが、その作業が困難で
ある、等があった。
はデテクタの中心に集光するが、この光強度は極めて大
きく、デテクタ面上で熱エネルギとなって中心部の受光
素子に熱影響を与える結果、素子の温度特性による測定
誤差が生ずる虞れがある。デテクタの最中心部の受光
部は、その半径が１mm以下であり、デテクタが集光用の
レンズの光軸と少しでもずれると大きな誤差を生じる
為、その位置合わせが重要となるが、その作業が困難で
ある、等があった。
＜問題点を解決するための手段＞ 本発明は上述の欠点を解消すべくなされたもので、その
構成を実施例図面である第１図，第２図を参照しつつ説
明すると、本発明は、分散飛しょう状態の供試粒子群Ｗ
にレーザ光を照射し、粒子の大きさに応じて回折される
レーザ光を、供試粒子群Ｗの後方に置かれたレンズ１に
より、そのレンズ１の焦点面に配設された複数個の受光
素子からなるデテクタ（例えばリングデテクタ）２上に
集光し、そのデテクタの半径方向の受光強度分布から供
試粒子群Ｗの粒度分布を求める装置において、上記デテ
クタ２の中心部に貫通小孔２ａが穿設する。また、その
貫通小孔２ａの後方所定距離の位置には、この小孔２ａ
を通過したレーザ光を受光する為の受光手段（透過光強
度測定用デテクタ）３を設けた構成とする。
構成を実施例図面である第１図，第２図を参照しつつ説
明すると、本発明は、分散飛しょう状態の供試粒子群Ｗ
にレーザ光を照射し、粒子の大きさに応じて回折される
レーザ光を、供試粒子群Ｗの後方に置かれたレンズ１に
より、そのレンズ１の焦点面に配設された複数個の受光
素子からなるデテクタ（例えばリングデテクタ）２上に
集光し、そのデテクタの半径方向の受光強度分布から供
試粒子群Ｗの粒度分布を求める装置において、上記デテ
クタ２の中心部に貫通小孔２ａが穿設する。また、その
貫通小孔２ａの後方所定距離の位置には、この小孔２ａ
を通過したレーザ光を受光する為の受光手段（透過光強
度測定用デテクタ）３を設けた構成とする。
＜作用＞ レンズ１の焦点面に配設されたデテクタ２の表面中心部
に集光すべき透過レーザ光は、貫通小孔２ａを通過し
て、その後方所定距離の位置の受光手段３に入射される
ことになる。貫通小孔２ａを通過したレーザ光を全てこ
の受光手段３で受光しても、この受光手段３の受光面上
においては再び拡散されているので、単位面積当りのエ
ネルギが弱くなっており、熱的影響を受けにくく、測定
誤差が生じない。また、レンズ１とデテクタ２の位置合
わせについて、受光手段３の受光量が最大となるようレ
ンズ１の位置を調節することにより、レンズ１の光軸と
デテクタ２の中心が合致し、かつ、レンズ１の焦点面と
デテクタ２の受光面が一致したことになって、その調節
作業が容易となる。
に集光すべき透過レーザ光は、貫通小孔２ａを通過し
て、その後方所定距離の位置の受光手段３に入射される
ことになる。貫通小孔２ａを通過したレーザ光を全てこ
の受光手段３で受光しても、この受光手段３の受光面上
においては再び拡散されているので、単位面積当りのエ
ネルギが弱くなっており、熱的影響を受けにくく、測定
誤差が生じない。また、レンズ１とデテクタ２の位置合
わせについて、受光手段３の受光量が最大となるようレ
ンズ１の位置を調節することにより、レンズ１の光軸と
デテクタ２の中心が合致し、かつ、レンズ１の焦点面と
デテクタ２の受光面が一致したことになって、その調節
作業が容易となる。
＜実施例＞ 本発明の実施例を、以下、図面に基づいて説明する。
第１図は本発明実施例の構成図で、第２図はそのリング
デテクタ２の中心部近傍の拡大図である。
デテクタ２の中心部近傍の拡大図である。
レーザ光源４からのレーザ光はコリメータレンズ５ａ，
５ｂによって拡大され、フローセル６に照射される。フ
ローセル６内には、後述するように、供試粒子群Ｗが希
釈液の中に分散してなる懸濁液が循環しており、照射さ
れたレーザ光はこの分散粒子によって、各粒子径に応じ
た角度で回折する。その回折光は次段の集光用のレンズ
１によって、レンズ１の焦点面に置かれたリングデテク
タ２上に回折像を結ぶ。このレンズ１には、リングデテ
クタ２との位置関係を調節する為の位置調節機構１７が
付設されている。
５ｂによって拡大され、フローセル６に照射される。フ
ローセル６内には、後述するように、供試粒子群Ｗが希
釈液の中に分散してなる懸濁液が循環しており、照射さ
れたレーザ光はこの分散粒子によって、各粒子径に応じ
た角度で回折する。その回折光は次段の集光用のレンズ
１によって、レンズ１の焦点面に置かれたリングデテク
タ２上に回折像を結ぶ。このレンズ１には、リングデテ
クタ２との位置関係を調節する為の位置調節機構１７が
付設されている。
リングデテクタ２は、ホトダイオードを複数個リング状
に組み合わせて構成されており、そのリングの中心にあ
たる位置には、所定径，例えば１mm以下の貫通小孔２ａ
が穿たれている。そして、その貫通小孔２ａの後方、距
離ｌの位置には、同様にホトダイオードから構成され、
貫通小孔２ａを通過したレーザ光を受光するための、透
過光強度測定用デテクタ３が配設されている。
に組み合わせて構成されており、そのリングの中心にあ
たる位置には、所定径，例えば１mm以下の貫通小孔２ａ
が穿たれている。そして、その貫通小孔２ａの後方、距
離ｌの位置には、同様にホトダイオードから構成され、
貫通小孔２ａを通過したレーザ光を受光するための、透
過光強度測定用デテクタ３が配設されている。
リングデテクタ２上に集光されたレーザ光の半径方向へ
の強度分布は、フローセル６内の分散粒子の各粒子の大
きさに基づく回折角度の分布に対応している。すなわ
ち、回折角度の小さい光は内側の素子に、回折角度の大
きい光は外側の素子に集光される。また、回折を受けな
い光、すなわち透過光は、リングデテクタ２の中心の貫
通小孔２ａを通過して、透過光強度測定用デテクタ３に
入射される。
の強度分布は、フローセル６内の分散粒子の各粒子の大
きさに基づく回折角度の分布に対応している。すなわ
ち、回折角度の小さい光は内側の素子に、回折角度の大
きい光は外側の素子に集光される。また、回折を受けな
い光、すなわち透過光は、リングデテクタ２の中心の貫
通小孔２ａを通過して、透過光強度測定用デテクタ３に
入射される。
リングデテクタ２の各半径位置にある素子への光量は、
各素子によって電気信号に変換され、マルチプレクサ
７，アンプ８およびＡ−Ｄ変換器９によって量子化され
た後、ＣＰＵ１０を介してＲＡＭ１１内に格納される。
また、透過光強度測定用デテクタ３への光量、すなわ
ち、透過光量も、同様にアンプ８およびＡ−Ｄ変換器９
で量子化された後、ＲＡＭ１１内に格納される。
各素子によって電気信号に変換され、マルチプレクサ
７，アンプ８およびＡ−Ｄ変換器９によって量子化され
た後、ＣＰＵ１０を介してＲＡＭ１１内に格納される。
また、透過光強度測定用デテクタ３への光量、すなわ
ち、透過光量も、同様にアンプ８およびＡ−Ｄ変換器９
で量子化された後、ＲＡＭ１１内に格納される。
ＣＰＵ１０は、ＲＯＭ１２に書き込まれたプログラムに
基づいて、公知の算法により、ＲＡＭ１１内に格納され
ているリングデテクタ２の受光強度分布、および透過光
強度測定用デテクタ３への入射光強度、すなわち透過光
強度のデータから、供試粒子群Ｗの粒度分布を算出する
ことができる。
基づいて、公知の算法により、ＲＡＭ１１内に格納され
ているリングデテクタ２の受光強度分布、および透過光
強度測定用デテクタ３への入射光強度、すなわち透過光
強度のデータから、供試粒子群Ｗの粒度分布を算出する
ことができる。
ＣＰＵ１０には、指令を与えるためのキーボード１３，
粒度分布算出結果等を表示するためのＣＲＴ１４，およ
び入出力ポート１５が接続されており、この入出力ポー
ト１５には、フローセル６内に懸濁液を循環させ、ある
いは、ＣＰＵ１０からの指令によって、希釈液を追加注
入する為の希釈・循環装置１６が接続されている。そし
て、ＲＯＭ１２には、前述した粒度分布算出プログラム
のほかに、透過光強度測定用デテクタ３の出力の監視に
よる濃度制御用プログラムが書き込まれている。このプ
ログラムは測定に先立って実行され、フローセル６内の
懸濁液濃度が自動的に規定濃度になるよう、希釈・循環
装置１６が制御される。
粒度分布算出結果等を表示するためのＣＲＴ１４，およ
び入出力ポート１５が接続されており、この入出力ポー
ト１５には、フローセル６内に懸濁液を循環させ、ある
いは、ＣＰＵ１０からの指令によって、希釈液を追加注
入する為の希釈・循環装置１６が接続されている。そし
て、ＲＯＭ１２には、前述した粒度分布算出プログラム
のほかに、透過光強度測定用デテクタ３の出力の監視に
よる濃度制御用プログラムが書き込まれている。このプ
ログラムは測定に先立って実行され、フローセル６内の
懸濁液濃度が自動的に規定濃度になるよう、希釈・循環
装置１６が制御される。
すなわち、透過光強度測定用デテクタ３の出力は前述し
た通り、懸濁液を透過した光量を示すもので、この出力
から透過度を求めることができる。透過度は吸光度に容
易に変換することができ、吸光度は懸濁液の面積濃度に
比例する。従って、透過光強度測定用デテクタ３の出力
を監視して、その値がＲＯＭ１２にあらかじめ記憶され
ている所定の値になるまで希釈液を追加してゆくことに
より、懸濁液濃度を規定濃度とすることができる。
た通り、懸濁液を透過した光量を示すもので、この出力
から透過度を求めることができる。透過度は吸光度に容
易に変換することができ、吸光度は懸濁液の面積濃度に
比例する。従って、透過光強度測定用デテクタ３の出力
を監視して、その値がＲＯＭ１２にあらかじめ記憶され
ている所定の値になるまで希釈液を追加してゆくことに
より、懸濁液濃度を規定濃度とすることができる。
以上の本発明実施例を使用するとき、まず、レンズ１と
リングデテクタ２の位置合わせを行う。この位置合わせ
は、レンズ１の焦点面に正しくリングデテクタ２の受光
面が位置し、かつ、レンズ１の光軸が正しくリングデテ
クタ２の中心と一致するよう調整するもので、通常、レ
ンズ１は複数枚の焦点距離の異なるレンズが用意されて
おり、測定範囲に応じて交換自在となっている。このレ
ンズ１の交換時においては、その光軸とリングデテクタ
２のセンタがずれる可能性があって、センタがずれると
大きな測定誤差が発生するから、この位置合わせは重要
である。本発明実施例によると、透過光強度測定用デテ
クタ３に入射する光量が最大となるように位置調節機構
１７を操作すれば、透過光が全て貫通小孔２ａを通過し
て透過孔強度測定用デテクタ３に入射される状態になっ
たということであって、上述した条件を満たす位置にレ
ンズ１が位置決めされたことになり、その作業は容易で
ある。
リングデテクタ２の位置合わせを行う。この位置合わせ
は、レンズ１の焦点面に正しくリングデテクタ２の受光
面が位置し、かつ、レンズ１の光軸が正しくリングデテ
クタ２の中心と一致するよう調整するもので、通常、レ
ンズ１は複数枚の焦点距離の異なるレンズが用意されて
おり、測定範囲に応じて交換自在となっている。このレ
ンズ１の交換時においては、その光軸とリングデテクタ
２のセンタがずれる可能性があって、センタがずれると
大きな測定誤差が発生するから、この位置合わせは重要
である。本発明実施例によると、透過光強度測定用デテ
クタ３に入射する光量が最大となるように位置調節機構
１７を操作すれば、透過光が全て貫通小孔２ａを通過し
て透過孔強度測定用デテクタ３に入射される状態になっ
たということであって、上述した条件を満たす位置にレ
ンズ１が位置決めされたことになり、その作業は容易で
ある。
次に、濃度制御用プログラムが実行される。このプログ
ラムの実行により、前述したように、フローセル３内の
懸濁液濃度が規定濃度に制御される。懸濁液濃度は、低
い場合は回折孔強度が全体的に弱くなって測定が不正確
となる。また高い場合は回折光が再び回折されるという
二重回折現象が発生し、この場合も測定が不正確とな
り、従ってこの濃度は適宜値に設定する必要がある。本
発明実施例によると、透過光強度測定用デテクタ３の出
力により、自動的に懸濁液濃度が適宜値に制御される。
ラムの実行により、前述したように、フローセル３内の
懸濁液濃度が規定濃度に制御される。懸濁液濃度は、低
い場合は回折孔強度が全体的に弱くなって測定が不正確
となる。また高い場合は回折光が再び回折されるという
二重回折現象が発生し、この場合も測定が不正確とな
り、従ってこの濃度は適宜値に設定する必要がある。本
発明実施例によると、透過光強度測定用デテクタ３の出
力により、自動的に懸濁液濃度が適宜値に制御される。
その後、実際の測定動作が実行されるが、このとき、粒
子により回折されずにレンズ１の光軸に平行に入射され
る光、すなわち透過光は、全てリングデテクタ２の受光
面中心部に集光され、極めて大きなエネルギを持ってい
るが、透過光強度測定用デテクタ３はレンズ１の焦点面
から距離ｌだけ後方に配設されているので、透過光は拡
散され、このデテクタ３の受光面上では単位面積当りの
エネルギは弱くなる。
子により回折されずにレンズ１の光軸に平行に入射され
る光、すなわち透過光は、全てリングデテクタ２の受光
面中心部に集光され、極めて大きなエネルギを持ってい
るが、透過光強度測定用デテクタ３はレンズ１の焦点面
から距離ｌだけ後方に配設されているので、透過光は拡
散され、このデテクタ３の受光面上では単位面積当りの
エネルギは弱くなる。
なお、以上の実施例では、液体中に供試粒子群を分散さ
せた場合の測定例を示したが、ガス中に供試粒子群を分
散させてもよいことは勿論である。また、リングデテク
タ２としては、第３図に示したようなリング一周に全て
素子を配列したものに限られることなく、半円形，扇形
に配列したもの、あるいは、直線的に素子を配列した、
ホトダイオードアレイを用いたものであっても、本発明
を適用することができる。
せた場合の測定例を示したが、ガス中に供試粒子群を分
散させてもよいことは勿論である。また、リングデテク
タ２としては、第３図に示したようなリング一周に全て
素子を配列したものに限られることなく、半円形，扇形
に配列したもの、あるいは、直線的に素子を配列した、
ホトダイオードアレイを用いたものであっても、本発明
を適用することができる。
＜効果＞ 以上説明したように、本発明によれば、フランホーファ
回折を利用した粒度分布測定装置において、回折光集光
用のレンズ１の焦点面に置かれるリングデテクタ２の中
心部に貫通小孔２ａを穿ち、透過光をその貫通小孔２ａ
を通過させて、焦点面から所定距離後方の透過光強度測
定用デテクタ３によってその強度を測定するよう構成し
たから、従来のような透過光の集光による受光素子の熱
的影響に起因する測定誤差が生じない。また、透過光が
全て貫通小孔２ａを通過して透過光強度測定用デテクタ
３に入射されるようレンズ１とリングデテクタ２の位置
関係を調節することにより、すなわち、透過光強度測定
用デテクタ３への入射光が最大となるよう上述の位置関
係を調節するだけで、レンズ１とリングデテクタ２の位
置が正しく位置決めされたことになり、その調節作業が
容易となる。
回折を利用した粒度分布測定装置において、回折光集光
用のレンズ１の焦点面に置かれるリングデテクタ２の中
心部に貫通小孔２ａを穿ち、透過光をその貫通小孔２ａ
を通過させて、焦点面から所定距離後方の透過光強度測
定用デテクタ３によってその強度を測定するよう構成し
たから、従来のような透過光の集光による受光素子の熱
的影響に起因する測定誤差が生じない。また、透過光が
全て貫通小孔２ａを通過して透過光強度測定用デテクタ
３に入射されるようレンズ１とリングデテクタ２の位置
関係を調節することにより、すなわち、透過光強度測定
用デテクタ３への入射光が最大となるよう上述の位置関
係を調節するだけで、レンズ１とリングデテクタ２の位
置が正しく位置決めされたことになり、その調節作業が
容易となる。
更に、透過光強度測定用デテクタ３の出力を監視するこ
とにより、供試粒子分散系の濃度を自動的に制御するこ
とも可能となる。
とにより、供試粒子分散系の濃度を自動的に制御するこ
とも可能となる。
第１図は本発明実施例の構成図、第２図はそのリングデ
テクタ２の中心部近傍の拡大図、第３図はリングデテク
タの構成例を示す説明図である。 １……レンズ、２……リングデテクタ ２ａ……貫通小孔 ３……透過光強度測定用デテクタ ４……レーザ光源 ５ａ，５ｂ……コリメータレンズ ６……フローセル、９……Ａ−Ｄ変換器 １０……ＣＰＵ、１１……ＲＡＭ １２……ＲＯＭ、１６……希釈・循環装置
テクタ２の中心部近傍の拡大図、第３図はリングデテク
タの構成例を示す説明図である。 １……レンズ、２……リングデテクタ ２ａ……貫通小孔 ３……透過光強度測定用デテクタ ４……レーザ光源 ５ａ，５ｂ……コリメータレンズ ６……フローセル、９……Ａ−Ｄ変換器 １０……ＣＰＵ、１１……ＲＡＭ １２……ＲＯＭ、１６……希釈・循環装置
Claims (1)
- 【請求項１】分散飛しょう状態の供試粒子群にレーザ光
を照射し、粒子の大きさに応じて回折されるレーザ光
を、供試粒子群の後方に置かれたレンズにより、そのレ
ンズの焦点面に配設された複数個の受光素子からなるデ
テクタ上に集光し、そのデテクタの半径方向の受光強度
分布から供試粒子群の粒度分布を求める装置において、
上記デテクタの中心部に貫通小孔が穿設され、その貫通
小孔の後方所定距離の位置には、当該小孔を通過したレ
ーザ光を受光する為の受光手段が設けられていることを
特徴とする、レーザ光回折を利用した粒度分布測定装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60242064A JPH0658314B2 (ja) | 1985-10-28 | 1985-10-28 | レ−ザ光回折を利用した粒度分布測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60242064A JPH0658314B2 (ja) | 1985-10-28 | 1985-10-28 | レ−ザ光回折を利用した粒度分布測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62100637A JPS62100637A (ja) | 1987-05-11 |
| JPH0658314B2 true JPH0658314B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=17083740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60242064A Expired - Lifetime JPH0658314B2 (ja) | 1985-10-28 | 1985-10-28 | レ−ザ光回折を利用した粒度分布測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0658314B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02179444A (ja) * | 1988-12-29 | 1990-07-12 | Shimadzu Corp | 粒度分布測定装置 |
| JP2687539B2 (ja) * | 1989-01-21 | 1997-12-08 | 株式会社島津製作所 | 粒度分布測定装置 |
| CA2084152A1 (en) * | 1992-11-30 | 1994-05-31 | Her Majesty The Queen, In Right Of Canada, As Represented By The Ministe R Of National Defence | Optical apparatus |
| JP4593144B2 (ja) * | 2004-03-26 | 2010-12-08 | 浜松ホトニクス株式会社 | 微粒子化条件の決定方法、決定装置、及び微粒子の製造方法、製造装置 |
| JP2008249724A (ja) * | 2008-06-06 | 2008-10-16 | Horiba Ltd | 粒子径分布測定装置 |
| ES2581934T3 (es) * | 2009-12-10 | 2016-09-08 | The Procter & Gamble Company | Método para medir la capacidad de eliminación de suciedad de un producto limpiador |
-
1985
- 1985-10-28 JP JP60242064A patent/JPH0658314B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62100637A (ja) | 1987-05-11 |
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