JPH0659620B2 - ポリツシングコンパウンド - Google Patents
ポリツシングコンパウンドInfo
- Publication number
- JPH0659620B2 JPH0659620B2 JP62081881A JP8188187A JPH0659620B2 JP H0659620 B2 JPH0659620 B2 JP H0659620B2 JP 62081881 A JP62081881 A JP 62081881A JP 8188187 A JP8188187 A JP 8188187A JP H0659620 B2 JPH0659620 B2 JP H0659620B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- compound
- sulfate
- polishing compound
- abrasive grains
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はステンレススチール等の鏡面仕上げなどに使用
されるポリッシングコンパウンドに関し、更に詳述すれ
ば、優れたポリッシング速度を有し、しかも被研磨物の
仕上り面が良好なポリッシングコンパウンドに関する。
されるポリッシングコンパウンドに関し、更に詳述すれ
ば、優れたポリッシング速度を有し、しかも被研磨物の
仕上り面が良好なポリッシングコンパウンドに関する。
従来の技術及び発明が解決しようとする課題 従来、ステンレススチール等の鏡面仕上げや無電解ニッ
ケル−リンめっき皮膜の表面をポリッシングするため、
アルミナ等の砥粒と水とからなるスラリーに酸化剤、例
えば硝酸、硝酸塩類、過酸化物、塩素酸、酸素酸塩、ペ
ルオクソ酸塩、硫酸などを添加したコンパウンドが使用
されている。しかし、これらの酸化剤を添加したコンパ
ウンドは、ポリッシングの速度を早めることはできる
が、必ずしも満足したポリッシング面を与えることがで
きず、特に長時間使用した場合には、仕上り面の平滑性
が低下し、光沢も減少して、表面状態が劣るようになる
という問題が生じる。
ケル−リンめっき皮膜の表面をポリッシングするため、
アルミナ等の砥粒と水とからなるスラリーに酸化剤、例
えば硝酸、硝酸塩類、過酸化物、塩素酸、酸素酸塩、ペ
ルオクソ酸塩、硫酸などを添加したコンパウンドが使用
されている。しかし、これらの酸化剤を添加したコンパ
ウンドは、ポリッシングの速度を早めることはできる
が、必ずしも満足したポリッシング面を与えることがで
きず、特に長時間使用した場合には、仕上り面の平滑性
が低下し、光沢も減少して、表面状態が劣るようになる
という問題が生じる。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、ステンレスス
チールや無電解ニッケル−リンめっき皮膜などを鏡面仕
上げするに際して、ポリッシングの速度が早く、しかも
長時間使用しても良好な光沢を有し、平滑な仕上り面を
与えるポリッシングコンパウンドを提供することを目的
とする。
チールや無電解ニッケル−リンめっき皮膜などを鏡面仕
上げするに際して、ポリッシングの速度が早く、しかも
長時間使用しても良好な光沢を有し、平滑な仕上り面を
与えるポリッシングコンパウンドを提供することを目的
とする。
課題を解決するための手段及び作用 本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を進め
た結果、砥粒と水とを含有するスラリーに過酸化水素，
硝酸，硝酸塩から選ばれる酸化剤を配合すると共に、更
に硫酸亜鉛及び硫酸コバルトから選ばれる硫酸塩を配合
した場合、ポリッシング速度を早めることができる上、
被研磨物に長時間に亘り優れた仕上り面を安定して与
え、このためステンレススチールや無段階ニッケル−リ
ンめっき皮膜などの表面に良好な光沢を有すると共に、
平滑に仕上げることができることを知見し、本発明をな
すに至った。
た結果、砥粒と水とを含有するスラリーに過酸化水素，
硝酸，硝酸塩から選ばれる酸化剤を配合すると共に、更
に硫酸亜鉛及び硫酸コバルトから選ばれる硫酸塩を配合
した場合、ポリッシング速度を早めることができる上、
被研磨物に長時間に亘り優れた仕上り面を安定して与
え、このためステンレススチールや無段階ニッケル−リ
ンめっき皮膜などの表面に良好な光沢を有すると共に、
平滑に仕上げることができることを知見し、本発明をな
すに至った。
従って、本発明は砥粒と水とを含有するポリッシングコ
ンパウンドにおいて、過酸化水素，硝酸及び硝酸塩から
選ばれる酸化剤と、硫酸亜鉛及び硫酸コバルトから選ば
れる硫酸塩とを配合してなるポリッシングコンパウンド
を提供するものである。
ンパウンドにおいて、過酸化水素，硝酸及び硝酸塩から
選ばれる酸化剤と、硫酸亜鉛及び硫酸コバルトから選ば
れる硫酸塩とを配合してなるポリッシングコンパウンド
を提供するものである。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明のポリッシングコンパウンドは、砥粒と水と、酸
化剤として過酸化水素，硝酸及び硝酸塩と、非酸化性塩
として硫酸コバルト又は硫酸亜鉛とを配合してなるもの
で、上述したように早いポリッシング速度を有すると共
に、被研磨物表面を長期に亘り、良好に仕上げることが
できるものであり、各種の湿式研磨法のポリッシングコ
ンパウンドとして好適に用いられるものである。
化剤として過酸化水素，硝酸及び硝酸塩と、非酸化性塩
として硫酸コバルト又は硫酸亜鉛とを配合してなるもの
で、上述したように早いポリッシング速度を有すると共
に、被研磨物表面を長期に亘り、良好に仕上げることが
できるものであり、各種の湿式研磨法のポリッシングコ
ンパウンドとして好適に用いられるものである。
この場合、砥粒としては、炭酸カルシウム、クレー粉、
カオリン、シリカ、ベントナイト、アルミナ、酸化クロ
ム、酸化鉄、ベンガラ、エメリー粉、トリポリ粉、ケイ
ソ土、酸化チタン、ジルコン、ホワイトアランダム、ア
ランダム、グリーンカーボランダム、カーボランダム、
ガーネット及びダイヤモンド等の天然及び合成研磨剤の
１種又は２種以上を混合したものを使用することができ
る。これらの中ではアルミナやホワイトアランダムが無
電解ニッケル−リンめっき皮膜面等ポリッシングする際
に好適に使用される。砥粒の配合量はポリッシングコン
パウンド全体の２〜３０％（重量％、以下同じ）、特に
８〜１５％とすることがポリッシング力を高めるために
好ましい。また、砥粒の粒度はポリッシングの目的に応
じて種々選択され得るが、被研磨物表面を鏡面仕上げす
る場合は２μｍ以下の粒径のものが好適に使用される。
カオリン、シリカ、ベントナイト、アルミナ、酸化クロ
ム、酸化鉄、ベンガラ、エメリー粉、トリポリ粉、ケイ
ソ土、酸化チタン、ジルコン、ホワイトアランダム、ア
ランダム、グリーンカーボランダム、カーボランダム、
ガーネット及びダイヤモンド等の天然及び合成研磨剤の
１種又は２種以上を混合したものを使用することができ
る。これらの中ではアルミナやホワイトアランダムが無
電解ニッケル−リンめっき皮膜面等ポリッシングする際
に好適に使用される。砥粒の配合量はポリッシングコン
パウンド全体の２〜３０％（重量％、以下同じ）、特に
８〜１５％とすることがポリッシング力を高めるために
好ましい。また、砥粒の粒度はポリッシングの目的に応
じて種々選択され得るが、被研磨物表面を鏡面仕上げす
る場合は２μｍ以下の粒径のものが好適に使用される。
また、酸化剤としては、過酸化水素，硝酸、Ａ（ＮＯ
３）３），Ｚｎ（ＮＯ３）２，Ｎｉ（ＮＯ３）２等の硝
酸塩の１種又は２種以上を混合したものを使用する。
３）３），Ｚｎ（ＮＯ３）２，Ｎｉ（ＮＯ３）２等の硝
酸塩の１種又は２種以上を混合したものを使用する。
なお、これらの酸化剤の配合量はポリッシングコンパウ
ンド全体の0.1〜３０％、特に0.3〜１０％とすることが
好ましい。
ンド全体の0.1〜３０％、特に0.3〜１０％とすることが
好ましい。
本発明のポリッシングコンパウンドは、更に硫酸亜鉛又
は硫酸コバルトを配合するもので、これら硫酸塩添加の
効果は、砥粒を安定分散させると共に、ポリッシングコ
ンパウンドを安定化し、長期使用した後でもポリッシン
グ速度を低下させることなく被研磨物の安定した良好な
仕上り面を与えるということであり、硫酸を添加しても
かかる効果は得られない。
は硫酸コバルトを配合するもので、これら硫酸塩添加の
効果は、砥粒を安定分散させると共に、ポリッシングコ
ンパウンドを安定化し、長期使用した後でもポリッシン
グ速度を低下させることなく被研磨物の安定した良好な
仕上り面を与えるということであり、硫酸を添加しても
かかる効果は得られない。
ここで、硫酸亜鉛、硫酸コバルトは、各種水和した構造
を有するものであるが、いずれの形態の水和物を使用し
ても差し支えなく、入手の容易さの点からＺｎＳＯ４・
６Ｈ２Ｏ及びＣｏＳｏ４・７Ｈ２Ｏが好適に使用され
る。また、その配合量はポリッシングコンパウンド全体
の中に硫酸塩の無水物として１〜３５ｇ／、特に３〜
１５ｇ／含有することが好ましく、１ｇ／より少な
いと仕上り面を改良する効果が得られない場合があり、
また３５ｇ／より多いと仕上り面の表面状態を悪くす
る場合がある。
を有するものであるが、いずれの形態の水和物を使用し
ても差し支えなく、入手の容易さの点からＺｎＳＯ４・
６Ｈ２Ｏ及びＣｏＳｏ４・７Ｈ２Ｏが好適に使用され
る。また、その配合量はポリッシングコンパウンド全体
の中に硫酸塩の無水物として１〜３５ｇ／、特に３〜
１５ｇ／含有することが好ましく、１ｇ／より少な
いと仕上り面を改良する効果が得られない場合があり、
また３５ｇ／より多いと仕上り面の表面状態を悪くす
る場合がある。
なお、本発明のポリッシングコンパウンドには、被研磨
物の表面に光沢を付与し、表面状態を良くするのに有効
な各種の添加剤を添加しても差し支えなく、例えば必要
に応じ界面活性剤などを添加配合することができる。
物の表面に光沢を付与し、表面状態を良くするのに有効
な各種の添加剤を添加しても差し支えなく、例えば必要
に応じ界面活性剤などを添加配合することができる。
発明の効果 本発明に係るポリッシングコンパウンドは、ポリッシン
グコンパウンドが安定化し、早いポリッシング速度を有
し、しかも長時間使用しても被研磨物の仕上り面を光沢
よく平滑で優れた状態に保つものである。
グコンパウンドが安定化し、早いポリッシング速度を有
し、しかも長時間使用しても被研磨物の仕上り面を光沢
よく平滑で優れた状態に保つものである。
以下、実施例と比較例を挙げて、本発明を説明するが、
本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
〔実施例１、比較例１〕 第１表に示す組成のポリッシングコンパウンド３種類を
作成し、下記装置及び条件を用いてポリッシングコンテ
ストを行なった。結果を第２表に示す。
作成し、下記装置及び条件を用いてポリッシングコンテ
ストを行なった。結果を第２表に示す。
ポリッシングテスト装置及び条件 ポリッシングマシン：９Ｂ−５ＬＰ （スピードファム社製） パッド：ポリウレタンパッド 回転数：６０ｒｐｍ 面 圧：１００ｇ／cm2 コンパウンド供給量：５０ｍ／分 ポリッシュ時間：３分 ワーク：3.5インチアルミニウム製ディスク表面に無電
解ニッケル−リンめっきを施したもの１チャージ１０枚 ポリッシングの終了したワークについて、表面の粗さを
測定装置としてサーフコム５５０Ａ（東京精密社製）を
用いて評価した。
解ニッケル−リンめっきを施したもの１チャージ１０枚 ポリッシングの終了したワークについて、表面の粗さを
測定装置としてサーフコム５５０Ａ（東京精密社製）を
用いて評価した。
なお、ポリッシングの性能は１０回、３０回及び５０回
目のポリッシングを行なった時のワーク表面の粗さをそ
れぞれ測定することにより行い、各ポリッシングコンパ
ウンドの粗さを比較した。
目のポリッシングを行なった時のワーク表面の粗さをそ
れぞれ測定することにより行い、各ポリッシングコンパ
ウンドの粗さを比較した。
なお、表面状態は顕微鏡観察で、スクラッチ、突起物、
均一性（研磨目）を調べた結果である。
均一性（研磨目）を調べた結果である。
〔実施例２，比較例２〕 第３表に示す組成のポリッシングコンパウンド３種類を
作成し、実施例１と同様にしてポリッシングテストを行
なった。結果を第４表に示す。
作成し、実施例１と同様にしてポリッシングテストを行
なった。結果を第４表に示す。
〔実施例３，比較例３〕 第５表に示す組成のポリッシングコンパウンド３種類を
作成し、実施例１と同様にしてポリッシングテストを行
なった。結果を第６表に示す。
作成し、実施例１と同様にしてポリッシングテストを行
なった。結果を第６表に示す。
〔実施例４，比較例４〕 第７表に示す組成のポリッシングコンパウンド３種類を
作成し、実施例１と同様にしてポリッシングテストを行
なった。結果を第８表に示す。
作成し、実施例１と同様にしてポリッシングテストを行
なった。結果を第８表に示す。
〔実験例〕 アルミナ１００ｇに水８７５ｍを加え、第９表に示す
各種硫酸塩類を１６ｇを加えたもの（酸化剤なし）の研
磨力測定を行なった。ポリッシング測定条件は上記実施
例、比較例と同様であるが、研磨回数は１０回とした。
結果を第９表に示す。
各種硫酸塩類を１６ｇを加えたもの（酸化剤なし）の研
磨力測定を行なった。ポリッシング測定条件は上記実施
例、比較例と同様であるが、研磨回数は１０回とした。
結果を第９表に示す。
第９表の結果より、硫酸亜鉛及び硫酸コバルトが高い研
磨力（早い研磨速度）を有していることが認められた。
磨力（早い研磨速度）を有していることが認められた。
この場合、この系は酸化剤を含まない系であり、かかる
酸化剤を含まない系では硫酸亜鉛、硫酸コバルトは外観
が悪いものであるが、上記実施例から明らかなように、
硫酸亜鉛、硫酸コバルトに錯化剤を併用することによ
り、表面状態、光沢を良好にし、外観の良い被研磨物を
与え得ることが認められる。
酸化剤を含まない系では硫酸亜鉛、硫酸コバルトは外観
が悪いものであるが、上記実施例から明らかなように、
硫酸亜鉛、硫酸コバルトに錯化剤を併用することによ
り、表面状態、光沢を良好にし、外観の良い被研磨物を
与え得ることが認められる。
Claims (2)
- 【請求項１】砥粒と水とを含有するポリッシングコンパ
ウンドにおいて、過酸化水素，硝酸及び硝酸塩から選ば
れる酸化剤と、硫酸亜鉛及び硫酸コバルトから選ばれる
硫酸塩とを配合してなること特徴とするポリッシングコ
ンパウンド。 - 【請求項２】硫酸塩の配合量が無水塩としてポリッシン
グコンパウンド全体の１〜３５ｇ／である特許請求の
範囲第１項記載のポリッシングコンパウンド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62081881A JPH0659620B2 (ja) | 1987-04-02 | 1987-04-02 | ポリツシングコンパウンド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62081881A JPH0659620B2 (ja) | 1987-04-02 | 1987-04-02 | ポリツシングコンパウンド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63251163A JPS63251163A (ja) | 1988-10-18 |
| JPH0659620B2 true JPH0659620B2 (ja) | 1994-08-10 |
Family
ID=13758794
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62081881A Expired - Fee Related JPH0659620B2 (ja) | 1987-04-02 | 1987-04-02 | ポリツシングコンパウンド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0659620B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5730644A (en) * | 1995-11-20 | 1998-03-24 | Pfanstiehl; John | Paint blemish repair kit |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6225187A (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-03 | Fujimi Kenmazai Kogyo Kk | メモリ−ハ−ドデイスクの研磨用組成物 |
| JPH06101456B2 (ja) * | 1986-06-10 | 1994-12-12 | 株式会社ジャパンエナジー | ＣｄＴｅウェーハの鏡面研磨液ならびに鏡面研磨方法 |
-
1987
- 1987-04-02 JP JP62081881A patent/JPH0659620B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63251163A (ja) | 1988-10-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |