JPH0660327A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH0660327A JPH0660327A JP22502792A JP22502792A JPH0660327A JP H0660327 A JPH0660327 A JP H0660327A JP 22502792 A JP22502792 A JP 22502792A JP 22502792 A JP22502792 A JP 22502792A JP H0660327 A JPH0660327 A JP H0660327A
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 3
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 23
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 229910020658 PbSn Inorganic materials 0.000 description 1
- 101150071746 Pbsn gene Proteins 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高記録密度化に適したマルチトラック形の薄
膜ヘッドを提供することを目的とする。 【構成】 基板１上に絶縁層５を介して磁性体コア４，
１２とこれに対応して所定数巻回されたコイル導体７と
を一組として複数のヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ2 ，Ｈ3を並置
したヘッドであり、これら複数のヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ2
，Ｈ3 を構成する磁性体コア４，１２のギャップＧ形
成側を互いに近接配置すると共に、コア長の長い磁性体
コアに対応して設けたコイル導体７の巻回数を多く設け
て、記録再生効率を低下させずにトラック幅を狭くした
薄膜磁気ヘッドを得る。
膜ヘッドを提供することを目的とする。 【構成】 基板１上に絶縁層５を介して磁性体コア４，
１２とこれに対応して所定数巻回されたコイル導体７と
を一組として複数のヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ2 ，Ｈ3を並置
したヘッドであり、これら複数のヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ2
，Ｈ3 を構成する磁性体コア４，１２のギャップＧ形
成側を互いに近接配置すると共に、コア長の長い磁性体
コアに対応して設けたコイル導体７の巻回数を多く設け
て、記録再生効率を低下させずにトラック幅を狭くした
薄膜磁気ヘッドを得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気デイスク等の磁気
記録再生装置に使用されて好適な複数のヘッド素子を有
するマルチトラック形の薄膜ヘッドに関するものであ
る。
記録再生装置に使用されて好適な複数のヘッド素子を有
するマルチトラック形の薄膜ヘッドに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】図４はデイスク状記録媒体に使用される
磁気ヘッドの概略部分斜視図で、本発明の薄膜磁気ヘッ
ドと同一タイプのヘッドである。同図において、Ｈ1 は
ヘッド素子で、実際にはヘッド素子Ｈ1 と同列のＡ方向
に同一構成のヘッド素子Ｈ2 ，Ｈ3 ，…が設けられてい
るマルチトラック形のヘッドであるが、本図ではこれら
のヘッド素子の図示を省略しある。図５はヘッド素子Ｈ
1 と図４において図示するのを省略したヘッド素子Ｈ2
，Ｈ3 との配列状態を示した概略部分平面図である。
磁気ヘッドの概略部分斜視図で、本発明の薄膜磁気ヘッ
ドと同一タイプのヘッドである。同図において、Ｈ1 は
ヘッド素子で、実際にはヘッド素子Ｈ1 と同列のＡ方向
に同一構成のヘッド素子Ｈ2 ，Ｈ3 ，…が設けられてい
るマルチトラック形のヘッドであるが、本図ではこれら
のヘッド素子の図示を省略しある。図５はヘッド素子Ｈ
1 と図４において図示するのを省略したヘッド素子Ｈ2
，Ｈ3 との配列状態を示した概略部分平面図である。
【０００３】これらの図において、１は基板、２は絶縁
層、４は軟磁性材料から成る下コアである。５は絶縁層
で、この絶縁層５にはコイル導体７が巻回されて埋設さ
れている。９は中間コア、１０は保護層、１２は上部コ
アである。１３は前記コイル導体７に接続される導体で
あり、この導体１３には連続してリ−ド部１４が形成さ
れている。１５はパッド部で、この上面側に合金層１６
が設けられ、この合金層１６にはリ−ドワイヤ１７が熱
圧着されて複数のヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ2 ，Ｈ3から成る
薄膜ヘッドが構成されているものである。このような薄
膜磁気ヘッドによれば、狭いトラックや狭ピッチの記録
媒体を記録再生するのに好適なマルチタイプのヘッド構
造となっている。
層、４は軟磁性材料から成る下コアである。５は絶縁層
で、この絶縁層５にはコイル導体７が巻回されて埋設さ
れている。９は中間コア、１０は保護層、１２は上部コ
アである。１３は前記コイル導体７に接続される導体で
あり、この導体１３には連続してリ−ド部１４が形成さ
れている。１５はパッド部で、この上面側に合金層１６
が設けられ、この合金層１６にはリ−ドワイヤ１７が熱
圧着されて複数のヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ2 ，Ｈ3から成る
薄膜ヘッドが構成されているものである。このような薄
膜磁気ヘッドによれば、狭いトラックや狭ピッチの記録
媒体を記録再生するのに好適なマルチタイプのヘッド構
造となっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、更に高密度
化を図るためにはトラックピッチを小さくする必要があ
り、前記構成のものにおいては限界がある。この構造の
ものは隣どうしのコアとコアとの間にコイルを形成する
ためのスペ−スが必要であり、通常コイルのピッチは狭
くとも３μｍピッチ程度で、一つのコアに対して１０〜
２０巻回されたコイルが必要とされる。そのため、図５
に示したヘッド素子の配置ではコア間のピッチを６０μ
ｍ以下にすることは極めて難しいものとなる。
化を図るためにはトラックピッチを小さくする必要があ
り、前記構成のものにおいては限界がある。この構造の
ものは隣どうしのコアとコアとの間にコイルを形成する
ためのスペ−スが必要であり、通常コイルのピッチは狭
くとも３μｍピッチ程度で、一つのコアに対して１０〜
２０巻回されたコイルが必要とされる。そのため、図５
に示したヘッド素子の配置ではコア間のピッチを６０μ
ｍ以下にすることは極めて難しいものとなる。
【０００５】これを達成するために、例えば、図６に示
すようなヘッド素子の配列が考えられる。この配列によ
れば、ヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ2 ，Ｈ3 の各上部コア１２，
１２，１２の先端（ギャップ形成側）が中央位置に近接
しておりトラックピッチ（コア間）を狭くすることがで
きる。しかし、この場合、中央のヘッド素子Ｈ2 と両側
のヘッド素子Ｈ1 Ｈ3 のコア形状が異なり、両側のコア
ほどギャップ形成側から後方に至る長さ（以下、単にコ
ア長と称す。）が長くなり、磁気抵抗が大きくなり、し
かも、漏れ磁束も増加する。これに伴って、記録再生効
率が低下してしまう。また、記録媒体に対して全ヘッド
素子の記録再生効率を同一にする必要があり、必然的に
記録再生効率の悪い両側のヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ3 に合わ
せなければならず、折角各コアを近接させて狭トラック
化を図ろうとしても記録再生密度を向上させることがで
きないという問題点があった。
すようなヘッド素子の配列が考えられる。この配列によ
れば、ヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ2 ，Ｈ3 の各上部コア１２，
１２，１２の先端（ギャップ形成側）が中央位置に近接
しておりトラックピッチ（コア間）を狭くすることがで
きる。しかし、この場合、中央のヘッド素子Ｈ2 と両側
のヘッド素子Ｈ1 Ｈ3 のコア形状が異なり、両側のコア
ほどギャップ形成側から後方に至る長さ（以下、単にコ
ア長と称す。）が長くなり、磁気抵抗が大きくなり、し
かも、漏れ磁束も増加する。これに伴って、記録再生効
率が低下してしまう。また、記録媒体に対して全ヘッド
素子の記録再生効率を同一にする必要があり、必然的に
記録再生効率の悪い両側のヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ3 に合わ
せなければならず、折角各コアを近接させて狭トラック
化を図ろうとしても記録再生密度を向上させることがで
きないという問題点があった。
【０００６】そこで、本発明はこれらの点を解決して、
高記録密度化に適したマルチトラック形の薄膜ヘッドを
提供することを目的とするものである。
高記録密度化に適したマルチトラック形の薄膜ヘッドを
提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の点につき
鑑みて成されたものであり、以下の１）及び２）の構成
より達成しようというものである。即ち、 １）基板上に絶縁膜を介して磁性体コアとこれに対応し
て所定数巻回されたコイル導体とを一組として少なくと
も三つ以上のヘッド素子を並置して成る薄膜磁気ヘッド
において、前記複数のヘッド素子を構成する前記磁性体
コアのギャップ形成側を互いに近接配置すると共に、こ
れら磁性体コアに対応して設けられる前記コイル導体の
内、前記ギャップ形成側から後方に至るコア長の長い磁
性体コアに対応して設けられるコイル導体の巻回数を、
これより短いコア長の磁性体コアに対応して設けられる
コイル導体に比べ、多く巻回して成ることを特徴とする
薄膜磁気ヘッド。
鑑みて成されたものであり、以下の１）及び２）の構成
より達成しようというものである。即ち、 １）基板上に絶縁膜を介して磁性体コアとこれに対応し
て所定数巻回されたコイル導体とを一組として少なくと
も三つ以上のヘッド素子を並置して成る薄膜磁気ヘッド
において、前記複数のヘッド素子を構成する前記磁性体
コアのギャップ形成側を互いに近接配置すると共に、こ
れら磁性体コアに対応して設けられる前記コイル導体の
内、前記ギャップ形成側から後方に至るコア長の長い磁
性体コアに対応して設けられるコイル導体の巻回数を、
これより短いコア長の磁性体コアに対応して設けられる
コイル導体に比べ、多く巻回して成ることを特徴とする
薄膜磁気ヘッド。
【０００８】２）請求項１記載の薄膜磁気ヘッドにおい
て、前記磁性体コアのギャップ形成側の近接配置を中央
に設けられる磁性体コアの方向に近接するように配置し
たことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
て、前記磁性体コアのギャップ形成側の近接配置を中央
に設けられる磁性体コアの方向に近接するように配置し
たことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【０００９】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の一実施例に
つき説明する。図１は本発明の薄膜磁気ヘッドの実施例
に係る概略部分断面斜視図、図２はヘッド素子の配列を
示した概略部分平面図、図３は本発明の薄膜磁気ヘッド
の製造工程を示した図である。尚、前記従来例と対応す
る構成要素には、同一符号を付して対応関係を分かり易
くする。
つき説明する。図１は本発明の薄膜磁気ヘッドの実施例
に係る概略部分断面斜視図、図２はヘッド素子の配列を
示した概略部分平面図、図３は本発明の薄膜磁気ヘッド
の製造工程を示した図である。尚、前記従来例と対応す
る構成要素には、同一符号を付して対応関係を分かり易
くする。
【００１０】この実施例の薄膜磁気ヘッドは、例えば、
磁気デイスクに使用されて好適なマルチトラック形の３
トラックに対応した３つのヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ2 ，Ｈ3
を具備したものである。ヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ2 ，Ｈ3
は、前記図５に示したヘッド素子の配列と同様、それぞ
れのヘッド素子のコア１２がヘッド素子Ｈ2 のコア１２
に近接配置されているものである。ヘッド素子Ｈ2 に対
応するコイル導体７は、８回巻回されて設けられてお
り、この両側のヘッド素子Ｈ1 及びＨ3 に対応するコイ
ル導体７は、これより多い９回巻回されてそれぞれ設け
られている。これは両側のヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ3 の前面
のギャップ形成側から後方に至るコア長が長くなり、こ
れに伴って記録再生効率が低下することから、その分の
記録再生効率を補うために巻回数を増加させているもの
である。
磁気デイスクに使用されて好適なマルチトラック形の３
トラックに対応した３つのヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ2 ，Ｈ3
を具備したものである。ヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ2 ，Ｈ3
は、前記図５に示したヘッド素子の配列と同様、それぞ
れのヘッド素子のコア１２がヘッド素子Ｈ2 のコア１２
に近接配置されているものである。ヘッド素子Ｈ2 に対
応するコイル導体７は、８回巻回されて設けられてお
り、この両側のヘッド素子Ｈ1 及びＨ3 に対応するコイ
ル導体７は、これより多い９回巻回されてそれぞれ設け
られている。これは両側のヘッド素子Ｈ1 ，Ｈ3 の前面
のギャップ形成側から後方に至るコア長が長くなり、こ
れに伴って記録再生効率が低下することから、その分の
記録再生効率を補うために巻回数を増加させているもの
である。
【００１１】以下、図３を使用して本実施例の薄膜磁気
ヘッドの製造方法について説明する。薄膜磁気ヘッド
は、図３（ａ）に示すように、基板１上に薄膜形成技術
によってＳｉＯ2 、Ｔｉ０2 或いはＡｌ2 Ｏ3 等の絶縁
層２を１〜１０μｍの厚さで形成し、次いで絶縁層２を
フォトリソグラフィ技術によって作成したマスクを介し
てエッチングし、コア形状の溝３を形成する。そして、
同図（ｂ）に示すように溝３内に薄膜形成技術によって
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉを主成分とした軟磁性材料の層を形成
し、この磁性層の上部の余分な部分を研磨によって削除
し、表面を平坦化して下コア４とする。
ヘッドの製造方法について説明する。薄膜磁気ヘッド
は、図３（ａ）に示すように、基板１上に薄膜形成技術
によってＳｉＯ2 、Ｔｉ０2 或いはＡｌ2 Ｏ3 等の絶縁
層２を１〜１０μｍの厚さで形成し、次いで絶縁層２を
フォトリソグラフィ技術によって作成したマスクを介し
てエッチングし、コア形状の溝３を形成する。そして、
同図（ｂ）に示すように溝３内に薄膜形成技術によって
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉを主成分とした軟磁性材料の層を形成
し、この磁性層の上部の余分な部分を研磨によって削除
し、表面を平坦化して下コア４とする。
【００１２】次いで、同図（ｃ）に示すように絶縁層２
の上に別の絶縁層５を形成し、同図（ｄ）に示すように
エッチングによって絶縁層５の表面に形成したコイル溝
６に、薄膜技術によってＣｕ、Ａｌ、Ａｕ或いはＡｇ等
の導体７を埋め込み、この導体の上の余分な部分を研磨
によって削除し、表面を平坦化してコイル導体７とす
る。 尚、コイル溝６の深さは下コア４に達しないもの
として電気的な絶縁を確保する。
の上に別の絶縁層５を形成し、同図（ｄ）に示すように
エッチングによって絶縁層５の表面に形成したコイル溝
６に、薄膜技術によってＣｕ、Ａｌ、Ａｕ或いはＡｇ等
の導体７を埋め込み、この導体の上の余分な部分を研磨
によって削除し、表面を平坦化してコイル導体７とす
る。 尚、コイル溝６の深さは下コア４に達しないもの
として電気的な絶縁を確保する。
【００１３】この後、同図（ｅ）に示すように薄膜形成
技術によってＳｉＯ2 、Ｔｉ０2 或いはＡｌ2 Ｏ3 等の
絶縁層８を０．１〜１μｍの厚さで形成し、同図（ｆ）
に示すように前後に中間コアの溝８ａ，８ｂをエッチン
グによって形成する。ここで、前方の中間コアの溝８ａ
については後記する磁気ギャップＧ分を残してエッチン
グを止め、後方の溝８ｂについては下コア４が露出する
まで行う。
技術によってＳｉＯ2 、Ｔｉ０2 或いはＡｌ2 Ｏ3 等の
絶縁層８を０．１〜１μｍの厚さで形成し、同図（ｆ）
に示すように前後に中間コアの溝８ａ，８ｂをエッチン
グによって形成する。ここで、前方の中間コアの溝８ａ
については後記する磁気ギャップＧ分を残してエッチン
グを止め、後方の溝８ｂについては下コア４が露出する
まで行う。
【００１４】次いで、同図（ｇ）に示すように中間コア
の溝８ａ，８ｂ内に薄膜形成技術によってＦｅ、Ｃｏ、
Ｎｉを主成分とした軟磁性材料の層を形成し、この磁性
層の上部の余分な部分を研磨によって削除し、表面を平
坦化して中間コア９とする。そして、同図（ｈ）に示す
ように、薄膜形成技術によってＳｉＯ2 、Ｔｉ０2或は
Ａｌ2 Ｏ3 等の絶縁層１０を１ 〜１０μｍ の厚さで
形成し、前記と同様にコア溝１１をエッチングし、この
溝内に同図（ｉ）に示すようにＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉを主成
分とした軟磁性材料の層を形成する。そして、この磁性
層の上部余分な部分を研磨によって削除し、表面を平面
化して上コア１２を形成し、切断線Ｂ−Ｂより磁気ギャ
ップＧが端部となるように切断する。
の溝８ａ，８ｂ内に薄膜形成技術によってＦｅ、Ｃｏ、
Ｎｉを主成分とした軟磁性材料の層を形成し、この磁性
層の上部の余分な部分を研磨によって削除し、表面を平
坦化して中間コア９とする。そして、同図（ｈ）に示す
ように、薄膜形成技術によってＳｉＯ2 、Ｔｉ０2或は
Ａｌ2 Ｏ3 等の絶縁層１０を１ 〜１０μｍ の厚さで
形成し、前記と同様にコア溝１１をエッチングし、この
溝内に同図（ｉ）に示すようにＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉを主成
分とした軟磁性材料の層を形成する。そして、この磁性
層の上部余分な部分を研磨によって削除し、表面を平面
化して上コア１２を形成し、切断線Ｂ−Ｂより磁気ギャ
ップＧが端部となるように切断する。
【００１５】この後、同図（ｊ）に示すように絶縁層１
０にコンタクトホール内を導体１３で埋め、この導体１
３を介してコイル導体７に接続する０．１〜１０μｍ厚
みのＣｕ層を所定形状にエッチングしてリード部１４及
びパッド部１５とする。そして、保護膜を形成した後
に、パッド部１５表面にＮi 、Ｃｏ、Ｐｂ又はこれらを
主成分とする合金層１６、例えばＰｂＳn を５〜３０μ
ｍの厚さで形成し、リードワイヤ１７を熱圧着してマル
チタイプの薄膜ヘッドを得る。尚、上述した製造工程で
は、一つのヘッド素子を得る説明で行ったが、これと同
時に他のヘッド素子も同様にして得られるものである。
０にコンタクトホール内を導体１３で埋め、この導体１
３を介してコイル導体７に接続する０．１〜１０μｍ厚
みのＣｕ層を所定形状にエッチングしてリード部１４及
びパッド部１５とする。そして、保護膜を形成した後
に、パッド部１５表面にＮi 、Ｃｏ、Ｐｂ又はこれらを
主成分とする合金層１６、例えばＰｂＳn を５〜３０μ
ｍの厚さで形成し、リードワイヤ１７を熱圧着してマル
チタイプの薄膜ヘッドを得る。尚、上述した製造工程で
は、一つのヘッド素子を得る説明で行ったが、これと同
時に他のヘッド素子も同様にして得られるものである。
【００１６】また、前記実施例では、３トラックに対応
したヘッド素子数の場合を例にとって説明したが、これ
に限らず、それ以上の数の場合にも当然に適用できるも
のである。例えば、この場合、ヘッド素子数を１つ増や
してヘッド素子Ｈ4 を追加するとすれば、夫々のヘッド
素子に対応して設けられるコイル導体７の巻回数は次の
通りになる。 ヘッド素子数Ｈ1 に対応したコイル導体の巻回数……９
回 ヘッド素子数Ｈ2 に対応したコイル導体の巻回数……８
回 ヘッド素子数Ｈ3 に対応したコイル導体の巻回数……８
回 ヘッド素子数Ｈ4 に対応したコイル導体の巻回数……９
回
したヘッド素子数の場合を例にとって説明したが、これ
に限らず、それ以上の数の場合にも当然に適用できるも
のである。例えば、この場合、ヘッド素子数を１つ増や
してヘッド素子Ｈ4 を追加するとすれば、夫々のヘッド
素子に対応して設けられるコイル導体７の巻回数は次の
通りになる。 ヘッド素子数Ｈ1 に対応したコイル導体の巻回数……９
回 ヘッド素子数Ｈ2 に対応したコイル導体の巻回数……８
回 ヘッド素子数Ｈ3 に対応したコイル導体の巻回数……８
回 ヘッド素子数Ｈ4 に対応したコイル導体の巻回数……９
回
【００１７】更にヘッド素子数を２つ増やしてヘッド素
子Ｈ4 ，Ｈ5 を夫々追加するとすれば、次の通になる。 ヘッド素子数Ｈ1 に対応したコイル導体の巻回数……１
０回 ヘッド素子数Ｈ2 に対応したコイル導体の巻回数……９
回 ヘッド素子数Ｈ3 に対応したコイル導体の巻回数……８
回 ヘッド素子数Ｈ4 に対応したコイル導体の巻回数……９
回 ヘッド素子数Ｈ5 に対応したコイル導体の巻回数……１
０回
子Ｈ4 ，Ｈ5 を夫々追加するとすれば、次の通になる。 ヘッド素子数Ｈ1 に対応したコイル導体の巻回数……１
０回 ヘッド素子数Ｈ2 に対応したコイル導体の巻回数……９
回 ヘッド素子数Ｈ3 に対応したコイル導体の巻回数……８
回 ヘッド素子数Ｈ4 に対応したコイル導体の巻回数……９
回 ヘッド素子数Ｈ5 に対応したコイル導体の巻回数……１
０回
【００１８】従って、上述した各実施例のヘッドによれ
ば、各コアのギャップ形成側を近接配置して、狭トラッ
ク化を図ると共に、この近接配置による外側のヘッド素
子の出力低下をコイル導体の巻回数を増加して防止して
いるので、複数のヘッド素子の記録再生効率を全体的に
向上させることができ、高記録再生密度化を達成できる
ものとなる。また、各ヘッド素子毎に出力特性を補正す
る必要がなく、その分の回路が不要となる。
ば、各コアのギャップ形成側を近接配置して、狭トラッ
ク化を図ると共に、この近接配置による外側のヘッド素
子の出力低下をコイル導体の巻回数を増加して防止して
いるので、複数のヘッド素子の記録再生効率を全体的に
向上させることができ、高記録再生密度化を達成できる
ものとなる。また、各ヘッド素子毎に出力特性を補正す
る必要がなく、その分の回路が不要となる。
【００１９】また、これらの実施例では各外側のコアを
中央のコア方向（内側）に近接させるようにしており、
そのため外側のコア長をできるだけ短くすることがで
き、極端にコイルの巻回数を増加させずに済み、Ｓ／Ｎ
の劣化を防止している。これは、記録再生効率の低下を
コイル導体の巻回数を増加させることにより防止できる
が、余り巻回数を増加させると逆に直流抵抗が増加して
インピ−ダンスノイズの発生原因となってしまう。その
ため、各コア長を余り長くすることは好ましくなく、前
述の実施例ではこの点を考慮した配置構成としているも
のである。 なお、この場合、極端なＳ／Ｎ劣化を招か
ない範囲ならば、前述のように外側のコアを中央のコア
に近接させる構成にせずとも、これ以外のコアに他のコ
アを近接させる構成としても良い。
中央のコア方向（内側）に近接させるようにしており、
そのため外側のコア長をできるだけ短くすることがで
き、極端にコイルの巻回数を増加させずに済み、Ｓ／Ｎ
の劣化を防止している。これは、記録再生効率の低下を
コイル導体の巻回数を増加させることにより防止できる
が、余り巻回数を増加させると逆に直流抵抗が増加して
インピ−ダンスノイズの発生原因となってしまう。その
ため、各コア長を余り長くすることは好ましくなく、前
述の実施例ではこの点を考慮した配置構成としているも
のである。 なお、この場合、極端なＳ／Ｎ劣化を招か
ない範囲ならば、前述のように外側のコアを中央のコア
に近接させる構成にせずとも、これ以外のコアに他のコ
アを近接させる構成としても良い。
【００２０】
【発明の効果】本発明の薄膜ヘッドによれば、各コアの
ギャップ形成側を近接配置して、狭トラック化を図ると
共に、この近接配置による外側のヘッド素子の出力低下
をコイル導体の巻回数を増加して防止しているので、複
数のヘッド素子の記録再生効率を全体的に向上させるこ
とができ、高記録再生密度化を達成できるものとなる。
また、各ヘッド素子毎に出力特性を補正する必要がな
く、その分の回路が不要となる。特に、請求項２記載の
薄膜ヘッドによれば、外側のコアを中央のコア方向に近
接させる構成にしているので、そのため外側のコア長を
できるだけ短くすることができ、導電コイルの巻回数を
増加させずに済み、Ｓ／Ｎの劣化を防止できるものとな
る。
ギャップ形成側を近接配置して、狭トラック化を図ると
共に、この近接配置による外側のヘッド素子の出力低下
をコイル導体の巻回数を増加して防止しているので、複
数のヘッド素子の記録再生効率を全体的に向上させるこ
とができ、高記録再生密度化を達成できるものとなる。
また、各ヘッド素子毎に出力特性を補正する必要がな
く、その分の回路が不要となる。特に、請求項２記載の
薄膜ヘッドによれば、外側のコアを中央のコア方向に近
接させる構成にしているので、そのため外側のコア長を
できるだけ短くすることができ、導電コイルの巻回数を
増加させずに済み、Ｓ／Ｎの劣化を防止できるものとな
る。
【図１】本発明の薄膜磁気ヘッドの実施例に係る概略部
分断面斜視図である。
分断面斜視図である。
【図２】本発明の薄膜磁気ヘッドにおける各ヘッド素子
の配列を示した概略部分平面図である。
の配列を示した概略部分平面図である。
【図３】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造工程を示した図
である。
である。
【図４】従来の薄膜磁気ヘッドの実施例に係る概略部分
断面斜視図である。
断面斜視図である。
【図５】従来の薄膜磁気ヘッドにおける各ヘッド素子の
配列を示した概略部分平面図である。
配列を示した概略部分平面図である。
【図６】図５における各ヘッド素子の配列の変形例を示
した図である。
した図である。
１ 基板 ２ 絶縁層 ４ 下コア ５ 絶縁層 ７ コイル導体 ９ 中間コア １０ 保護層 １２ 上部コア １３ 導体 １４ リ−ド部 １５ パッド部 １６ 合金層 １７ リ−ドワイヤ Ｇ 磁気ギャップ
Claims (2)
- 【請求項１】 基板上に絶縁膜を介して磁性体コアとこ
れに対応して所定数巻回されたコイル導体とを一組とし
て少なくとも三つ以上のヘッド素子を並置して成る薄膜
磁気ヘッドにおいて、 前記複数のヘッド素子を構成する前記磁性体コアのギャ
ップ形成側を互いに近接配置すると共に、これら磁性体
コアに対応して設けられる前記コイル導体の内、前記ギ
ャップ形成側から後方に至るコア長の長い磁性体コアに
対応して設けられるコイル導体の巻回数を、これより短
いコア長の磁性体コアに対応して設けられるコイル導体
に比べ、多く巻回して成ることを特徴とする薄膜磁気ヘ
ッド。 - 【請求項２】 請求項１記載の薄膜磁気ヘッドにおい
て、前記磁性体コアのギャップ形成側の近接配置を中央
に設けられる磁性体コアの方向に近接するように配置し
たことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22502792A JPH0660327A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22502792A JPH0660327A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0660327A true JPH0660327A (ja) | 1994-03-04 |
Family
ID=16822921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22502792A Pending JPH0660327A (ja) | 1992-07-31 | 1992-07-31 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0660327A (ja) |
-
1992
- 1992-07-31 JP JP22502792A patent/JPH0660327A/ja active Pending
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