JPH0660355A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0660355A JPH0660355A JP4208041A JP20804192A JPH0660355A JP H0660355 A JPH0660355 A JP H0660355A JP 4208041 A JP4208041 A JP 4208041A JP 20804192 A JP20804192 A JP 20804192A JP H0660355 A JPH0660355 A JP H0660355A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- winding
- thin film
- small
- magnetic head
- Prior art date
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- Pending
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- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 記録再生用ギャップの接合強度の低下を防
ぎ、磁気ヘッドの小型,薄型化対応を容易ならしめる。 【構成】 非磁性基板と磁性薄膜5を積層してなる小C
型コアバー2と同様に積層してなる大C型コアバー(ま
たはI型コアバー)1を所定のギャップ長となるように
接合し、磁性薄膜部が中央となるよう巻線芯幅Aの規制
加工を接合部3に達しない深さ範囲で行う。これによ
り、記録再生用ギャップの接合強度の低下が防げる。
ぎ、磁気ヘッドの小型,薄型化対応を容易ならしめる。 【構成】 非磁性基板と磁性薄膜5を積層してなる小C
型コアバー2と同様に積層してなる大C型コアバー(ま
たはI型コアバー)1を所定のギャップ長となるように
接合し、磁性薄膜部が中央となるよう巻線芯幅Aの規制
加工を接合部3に達しない深さ範囲で行う。これによ
り、記録再生用ギャップの接合強度の低下が防げる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録装置のうち、ハ
ードディスクドライブ装置に用いられる磁気ヘッドに関
するものである。
ードディスクドライブ装置に用いられる磁気ヘッドに関
するものである。
【0002】
【従来の技術】図6はハードディスクドライブ装置に最
もよく使用されているモノリシック型ウインチェスター
ヘッドの構造図を示し、(1)は全体の平面図、(2)は(1)
の要部拡大平面図、(3)は(2)の側面図である。
もよく使用されているモノリシック型ウインチェスター
ヘッドの構造図を示し、(1)は全体の平面図、(2)は(1)
の要部拡大平面図、(3)は(2)の側面図である。
【0003】図6に示すように大C型(またはI型)コア
バー1と小C型コアバー2とが接合部3で接合され、こ
の接合部に所定のギャップ長となる記録再生用のギャッ
プ4が形成されている。そして、大小C型コアバーには
巻線(図略)を施すための巻線部には巻線芯幅Aを規制し
てあり、この巻線芯幅Aにはさらにトラック幅Bを規制
するための加工が施されている。上記巻線芯幅規制は図
6(1),(2)に示すように、小C型コアバー2から接合部
3(接合面)を超えて大C型コアバー1まで達する範囲
(図6(1)の破線で示す除去範囲C)まで除去加工が施さ
れている。
バー1と小C型コアバー2とが接合部3で接合され、こ
の接合部に所定のギャップ長となる記録再生用のギャッ
プ4が形成されている。そして、大小C型コアバーには
巻線(図略)を施すための巻線部には巻線芯幅Aを規制し
てあり、この巻線芯幅Aにはさらにトラック幅Bを規制
するための加工が施されている。上記巻線芯幅規制は図
6(1),(2)に示すように、小C型コアバー2から接合部
3(接合面)を超えて大C型コアバー1まで達する範囲
(図6(1)の破線で示す除去範囲C)まで除去加工が施さ
れている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述した図6に示すモ
ノリシック型ウインチェスターヘッドは、軟磁性体から
なる大小2つのC型コアバー1,2により構成されてい
るが、接合部分3が記録,再生のためのギャップ4とな
るため、トラック幅B以外の部分の接合部3、すなわち
ギャップ4がトラック幅ギャップ部と同一平面上にあっ
てはならない。その理由は、トラック幅B以外の部分に
接合部3があれば、そこも記録,再生ギャップ4と同じ
機能として働き、本来必要なトラック幅部分以外の箇所
でも記録,再生を行うからである。そのため、従来の磁
気ヘッドでは巻線芯幅規制工程では必要となるギャップ
4部分以外の接合部3は除去しなければならなかった。
ノリシック型ウインチェスターヘッドは、軟磁性体から
なる大小2つのC型コアバー1,2により構成されてい
るが、接合部分3が記録,再生のためのギャップ4とな
るため、トラック幅B以外の部分の接合部3、すなわち
ギャップ4がトラック幅ギャップ部と同一平面上にあっ
てはならない。その理由は、トラック幅B以外の部分に
接合部3があれば、そこも記録,再生ギャップ4と同じ
機能として働き、本来必要なトラック幅部分以外の箇所
でも記録,再生を行うからである。そのため、従来の磁
気ヘッドでは巻線芯幅規制工程では必要となるギャップ
4部分以外の接合部3は除去しなければならなかった。
【0005】このため、大小2つのC型コアバー1,2
を接合している接合部3の箇所は、巻線芯幅規制を施す
ため、接合面積が小さくなり、接合強度の低下を招くと
いう問題があった。
を接合している接合部3の箇所は、巻線芯幅規制を施す
ため、接合面積が小さくなり、接合強度の低下を招くと
いう問題があった。
【0006】特に近年のハードディスクドライブ装置の
小型,薄型化傾向は、それに用いられる磁気ヘッドの外
形寸法にも強く求められ、磁気ヘッドの小型,薄型化は
市場の強い要請となっている。磁気ヘッドの小型,薄型
化は上記接合面積の縮小を招き、接合強度の低下により
巻線作業工程での接合剥がれ,衝撃による接合剥がれ等
の問題を生じている。
小型,薄型化傾向は、それに用いられる磁気ヘッドの外
形寸法にも強く求められ、磁気ヘッドの小型,薄型化は
市場の強い要請となっている。磁気ヘッドの小型,薄型
化は上記接合面積の縮小を招き、接合強度の低下により
巻線作業工程での接合剥がれ,衝撃による接合剥がれ等
の問題を生じている。
【0007】本発明は、上述した磁気ヘッドの小型化,
薄型化に伴う大小C型コアバーの接合部における接合面
積の小さくなることによる接合強度の低下をなくすこと
を目的とする。
薄型化に伴う大小C型コアバーの接合部における接合面
積の小さくなることによる接合強度の低下をなくすこと
を目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、磁性薄膜と非
磁性基板とを積層してなるC型コアバーと、同様に積層
してなるC型またはI型コアバーとを接合してなるコア
ブロックを有し、前記磁性薄膜を含む箇所に巻線を行う
ために施される巻線芯幅規制の加工が、前記接合部分に
達しない深さ範囲において巻線芯幅が形成されたことを
特徴とする。
磁性基板とを積層してなるC型コアバーと、同様に積層
してなるC型またはI型コアバーとを接合してなるコア
ブロックを有し、前記磁性薄膜を含む箇所に巻線を行う
ために施される巻線芯幅規制の加工が、前記接合部分に
達しない深さ範囲において巻線芯幅が形成されたことを
特徴とする。
【0009】
【作用】本発明は磁性薄膜を非磁性基板により積層した
積層型磁気ヘッドであるため、接合部分のうち本来の記
録,再生として働く部分は2つの磁性薄膜の接合箇所の
みである。したがって、2つの大小C型コアバーにより
形成されたギャップ(接合部分)は、記録,再生として働
く部分が磁性薄膜部分のみであることから、従来の図6
に示すような巻線芯幅規制工程で接合部に達する加工は
必要としなくなり、接合面積の縮小を生ぜず、接合強度
を低下することがない。
積層型磁気ヘッドであるため、接合部分のうち本来の記
録,再生として働く部分は2つの磁性薄膜の接合箇所の
みである。したがって、2つの大小C型コアバーにより
形成されたギャップ(接合部分)は、記録,再生として働
く部分が磁性薄膜部分のみであることから、従来の図6
に示すような巻線芯幅規制工程で接合部に達する加工は
必要としなくなり、接合面積の縮小を生ぜず、接合強度
を低下することがない。
【0010】
【実施例】図1は本発明の一実施例における磁気ヘッド
の構造を示す斜視図であり、同図(1)は全体斜視図、(2)
は(1)の接合部分の拡大斜視図を示す。
の構造を示す斜視図であり、同図(1)は全体斜視図、(2)
は(1)の接合部分の拡大斜視図を示す。
【0011】図1に示すように、大,小C型コアバー
1,2はトラック部を形成する磁性薄膜5と、後述する
非磁性基板6(図3参照)を積層し形成され、接合部3の
接合によってコアブロックが構成されている。
1,2はトラック部を形成する磁性薄膜5と、後述する
非磁性基板6(図3参照)を積層し形成され、接合部3の
接合によってコアブロックが構成されている。
【0012】巻線芯幅規制のための加工は、図1(2)に
示すように接合部3に達しない深さ範囲(D)(図2(3)参
照)において、磁性薄膜を含む箇所に巻線を行うための
巻線窓9における巻線芯幅Aが形成され、をの巻線芯幅
Aには磁性薄膜5でなるトラック幅Bを有する。
示すように接合部3に達しない深さ範囲(D)(図2(3)参
照)において、磁性薄膜を含む箇所に巻線を行うための
巻線窓9における巻線芯幅Aが形成され、をの巻線芯幅
Aには磁性薄膜5でなるトラック幅Bを有する。
【0013】図2は図1を正投影図法で示した図であ
り、(1)は全体の平面図,(2)は(1)の側面図,(3)は(1)
の要部拡大平面図であり、この要部拡大平面図から明ら
かなように、上述した巻線芯幅規制のための加工は、大
小C型コア1,2の接合部3に達しない深さ範囲Dを残
して巻線芯幅Aの加工が施されている。
り、(1)は全体の平面図,(2)は(1)の側面図,(3)は(1)
の要部拡大平面図であり、この要部拡大平面図から明ら
かなように、上述した巻線芯幅規制のための加工は、大
小C型コア1,2の接合部3に達しない深さ範囲Dを残
して巻線芯幅Aの加工が施されている。
【0014】以下に上記図1,図2に示す磁気ヘッドの
巻線芯幅A等の加工プロセスについて、図3ないし図5
を用いて説明する。
巻線芯幅A等の加工プロセスについて、図3ないし図5
を用いて説明する。
【0015】図3(1)に示すように、まず、非磁性基板
6として、アルチック,チタン酸カルシウム,結晶化ガ
ラス等のセラミックスのうちでも熱膨張係数が大きいも
のを用いる。一例として、チタン酸カルシウム系のもの
を、非磁性基板6に用い、この非磁性基板6の一面に磁
性薄膜5としてセンダスト,アモルファス,パーマロイ
等のうちから、Fe−Al−Siの3元組成のセンダスト
を用いてスパッタリングを行った。この時、非磁性基板
6とセンダストが化学反応(拡散)等が生じないよう、非
磁性基板6とセンダスト間にSiO2を下地層として事前
にスパッタリングを施してある。
6として、アルチック,チタン酸カルシウム,結晶化ガ
ラス等のセラミックスのうちでも熱膨張係数が大きいも
のを用いる。一例として、チタン酸カルシウム系のもの
を、非磁性基板6に用い、この非磁性基板6の一面に磁
性薄膜5としてセンダスト,アモルファス,パーマロイ
等のうちから、Fe−Al−Siの3元組成のセンダスト
を用いてスパッタリングを行った。この時、非磁性基板
6とセンダストが化学反応(拡散)等が生じないよう、非
磁性基板6とセンダスト間にSiO2を下地層として事前
にスパッタリングを施してある。
【0016】非磁性基板6の磁性薄膜5とスパッタリン
グした反対側には、同じくSiO2の下地層をスパッタリ
ングし、その上に接着剤となるガラス7をスパッタリン
グで行った。この接着剤となるガラスは、後工程のギャ
ップ形成工程で加熱されるため、ギャップ形成温度では
軟化しない材質のガラスを用いなくてはならない。その
ため、本実施例では一度加熱接着されるとガラス軟化温
度が高くなる結晶化ガラス系のものを使用した。
グした反対側には、同じくSiO2の下地層をスパッタリ
ングし、その上に接着剤となるガラス7をスパッタリン
グで行った。この接着剤となるガラスは、後工程のギャ
ップ形成工程で加熱されるため、ギャップ形成温度では
軟化しない材質のガラスを用いなくてはならない。その
ため、本実施例では一度加熱接着されるとガラス軟化温
度が高くなる結晶化ガラス系のものを使用した。
【0017】このように、非磁性基板6の両面に磁性薄
膜5とのりガラス7をスパッタリングしたものを、図3
(2)のように複数個並べて両端より加熱接着を行う。本
実施例では10枚の非磁性基板6を積層して積層コアブロ
ックを作った。
膜5とのりガラス7をスパッタリングしたものを、図3
(2)のように複数個並べて両端より加熱接着を行う。本
実施例では10枚の非磁性基板6を積層して積層コアブロ
ックを作った。
【0018】次に図3(3)に示すように、積層コアブロ
ックは切断により大小のC型コアバー1,2の基板が得
られる。このとき、切断方向は磁性薄膜5と直角(矢印
E方向)に行い、大小交互に切断し隣合う大小のC型コ
アバー1,2基板をペアリング8する。これは非磁性基
板6の厚みバラツキ,傾き等により大小のC型コアバー
1,2の磁性薄膜5の位置がずれないようにするためで
ある。
ックは切断により大小のC型コアバー1,2の基板が得
られる。このとき、切断方向は磁性薄膜5と直角(矢印
E方向)に行い、大小交互に切断し隣合う大小のC型コ
アバー1,2基板をペアリング8する。これは非磁性基
板6の厚みバラツキ,傾き等により大小のC型コアバー
1,2の磁性薄膜5の位置がずれないようにするためで
ある。
【0019】次に図4(1)に示すように、切断された大
小のC型コアバー1,2の基板は、巻線窓9の加工が行
われ、さらにギャップデプスを形成するための斜面10の
加工が施され、大小のC型コアバー1,2が作られる。
大小のC型コアバーの接合面は、記録再生に必要なギャ
ップ長を構成する重要な部分であり、この接合面は鏡面
加工が施される。鏡面となった接合面には所定のギャッ
プ長を得るためにギャップスペーサーとしてガラスがス
パッタリングされる。このガラスは後工程での加熱でも
溶解しない高融点ガラスが用いられ、ギャップスペーサ
ーのガラスの上にはさらに大小のC型コアバー同士を接
合するための、のり材としてギャップ形成工程で溶解す
る低融点ガラスがスパッタリングされる。
小のC型コアバー1,2の基板は、巻線窓9の加工が行
われ、さらにギャップデプスを形成するための斜面10の
加工が施され、大小のC型コアバー1,2が作られる。
大小のC型コアバーの接合面は、記録再生に必要なギャ
ップ長を構成する重要な部分であり、この接合面は鏡面
加工が施される。鏡面となった接合面には所定のギャッ
プ長を得るためにギャップスペーサーとしてガラスがス
パッタリングされる。このガラスは後工程での加熱でも
溶解しない高融点ガラスが用いられ、ギャップスペーサ
ーのガラスの上にはさらに大小のC型コアバー同士を接
合するための、のり材としてギャップ形成工程で溶解す
る低融点ガラスがスパッタリングされる。
【0020】このようにギャップスペーサーガラスと接
着のための、のりガラスとスパッタリングされた大小の
C型コアバー1,2は、次の工程で図4(2)に示すよう
に一体化されるが、この時大小のC型コアバー1,2は
各々の磁性薄膜同士がぴったりと一致するよう、位置決
めを行いながら巻線窓9よりさらにボンディングガラス
を挿入し、電気炉により前記のりガラスの接合とボンデ
ィングガラスの溶融により、より一層強固に一体化され
る。
着のための、のりガラスとスパッタリングされた大小の
C型コアバー1,2は、次の工程で図4(2)に示すよう
に一体化されるが、この時大小のC型コアバー1,2は
各々の磁性薄膜同士がぴったりと一致するよう、位置決
めを行いながら巻線窓9よりさらにボンディングガラス
を挿入し、電気炉により前記のりガラスの接合とボンデ
ィングガラスの溶融により、より一層強固に一体化され
る。
【0021】次に図4(3)に示すように、一体化された
コアバーブロックは記録再生を行うトラック部となる磁
性薄膜部分から所定の寸法で切断され、単独の磁気ヘッ
ド素子が得られる。
コアバーブロックは記録再生を行うトラック部となる磁
性薄膜部分から所定の寸法で切断され、単独の磁気ヘッ
ド素子が得られる。
【0022】この単独の磁気ヘッド素子は図5(1)に示
すように、さらに浮上量を決定するスキー状の面を得る
ための溝11の加工が施され、浮上面12が形成される。次
に本発明の加工である前記図1,図2で述べた巻線芯幅
規制加工となる。この加工では磁性薄膜が巻線心の中心
となるように、小さいC型コアバー2側に加工を行う
が、加工の深さは大小C型コアバーの接合部に達しない
深さ範囲Dで行う。
すように、さらに浮上量を決定するスキー状の面を得る
ための溝11の加工が施され、浮上面12が形成される。次
に本発明の加工である前記図1,図2で述べた巻線芯幅
規制加工となる。この加工では磁性薄膜が巻線心の中心
となるように、小さいC型コアバー2側に加工を行う
が、加工の深さは大小C型コアバーの接合部に達しない
深さ範囲Dで行う。
【0023】スキー形状加工,巻線芯幅規制加工を終え
た磁気ヘッド素子は、さらに所定のギャップデプス寸法
となるよう、表面を研磨する。研磨された面はディスク
進入方向のリーディングエッジ部分にテーパー研磨を施
し、ディスク退出方向にはトレーリングエッジ加工を施
し、図5(2)のような磁気ヘッドの完成品となる。
た磁気ヘッド素子は、さらに所定のギャップデプス寸法
となるよう、表面を研磨する。研磨された面はディスク
進入方向のリーディングエッジ部分にテーパー研磨を施
し、ディスク退出方向にはトレーリングエッジ加工を施
し、図5(2)のような磁気ヘッドの完成品となる。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気ヘッ
ドは、大小のC型コアバーの接続部に巻線芯幅規制の加
工が施されていないため、接合面積の縮小が防げ、強固
なギャップ接着強度が得られる。
ドは、大小のC型コアバーの接続部に巻線芯幅規制の加
工が施されていないため、接合面積の縮小が防げ、強固
なギャップ接着強度が得られる。
【図1】本発明の一実施例における磁気ヘッドの構造を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図2】図1を正投影図法で示した平面図(1),側面図
(2)および(1)の要部拡大平面図(3)である。
(2)および(1)の要部拡大平面図(3)である。
【図3】本発明の一実施例における磁気ヘッドの巻線芯
幅等の加工プロセスを説明する図である。
幅等の加工プロセスを説明する図である。
【図4】本発明の一実施例における磁気ヘッドの巻線芯
幅等の加工プロセスを説明する図である。
幅等の加工プロセスを説明する図である。
【図5】本発明の一実施例における磁気ヘッドの巻線芯
幅等の加工プロセスを説明する図である。
幅等の加工プロセスを説明する図である。
【図6】従来のモノリシック型ウインチェスターヘッド
の構造を示す図である。
の構造を示す図である。
1…大C型(I型)コアバー、 2…小C型コアバー、
3…接合部、 4…記録再生用のギャップ、 5…磁性
薄膜、 6…非磁性基板、 7…ガラス、 8…ペアリ
ング、 9…巻線窓、 10…斜面、 11…溝、 12…浮
上面、 A…巻線芯幅、 B…トラック幅、 C…除去
範囲、 D…深さ。
3…接合部、 4…記録再生用のギャップ、 5…磁性
薄膜、 6…非磁性基板、 7…ガラス、 8…ペアリ
ング、 9…巻線窓、 10…斜面、 11…溝、 12…浮
上面、 A…巻線芯幅、 B…トラック幅、 C…除去
範囲、 D…深さ。
Claims (1)
- 【請求項1】 磁性薄膜と非磁性基板とを積層してなる
C型コアバーと、同様に積層してなるC型またはI型コ
アバーとを接合してなるコアブロックを有し、前記磁性
薄膜を含む箇所に巻線を行うために施される巻線芯幅規
制の加工が、前記接合部分に達しない深さ範囲において
巻線芯幅が形成されたことを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4208041A JPH0660355A (ja) | 1992-08-04 | 1992-08-04 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4208041A JPH0660355A (ja) | 1992-08-04 | 1992-08-04 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0660355A true JPH0660355A (ja) | 1994-03-04 |
Family
ID=16549671
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4208041A Pending JPH0660355A (ja) | 1992-08-04 | 1992-08-04 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0660355A (ja) |
-
1992
- 1992-08-04 JP JP4208041A patent/JPH0660355A/ja active Pending
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