JPH0661962U - プレート状のサブストレートを保持しかつ搬送するための装置 - Google Patents

プレート状のサブストレートを保持しかつ搬送するための装置

Info

Publication number
JPH0661962U
JPH0661962U JP3714293U JP3714293U JPH0661962U JP H0661962 U JPH0661962 U JP H0661962U JP 3714293 U JP3714293 U JP 3714293U JP 3714293 U JP3714293 U JP 3714293U JP H0661962 U JPH0661962 U JP H0661962U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frame
substrate
girder
facility
holding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3714293U
Other languages
English (en)
Other versions
JP2607524Y2 (ja
Inventor
ダウベ クリストフ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Oerlikon Deutschland Holding GmbH
Original Assignee
Unaxis Deutschland Holding GmbH
Oerlikon Deutschland Holding GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Unaxis Deutschland Holding GmbH, Oerlikon Deutschland Holding GmbH filed Critical Unaxis Deutschland Holding GmbH
Publication of JPH0661962U publication Critical patent/JPH0661962U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2607524Y2 publication Critical patent/JP2607524Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/458Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
    • C23C16/4582Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
    • C23C16/4587Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially vertically

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 温度作用による変形、コーティングプロセス
後の著しく面倒な洗浄並びにアーク発生のような欠点が
回避され、かつ、確実で安定した経済的なプロセス経過
が保証されるような、サブストレート支持装置を提供す
ることにある。 【構成】 真空処理設備、例えば真空コーティング設備
及びエッチング設備内でかつこの設備を介して、有利に
は垂直位置でプレート状のサブストレートを保持しかつ
搬送するための装置が、ほぼ多部分から成るフレームか
ら構成されていて、このフレーム内にサブストレートを
受容するための桁材が差し嵌められていてかつこの桁材
に、サブストレートを固定するための保持部材が設けら
れており、フレーム及び桁材が僅かな熱容量及び高い耐
熱性を有しかつエッジの鋭いコーナを持たない開かれた
薄板成形体から形成されており、全てのフレーム構成部
材及び桁材が互いに解離可能に結合されている。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、真空処理設備、例えば真空コーティング設備及びエッチング設備内 でかつこの設備を介して、有利には垂直位置でプレート状のサブストレートを保 持しかつ搬送するための装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
上記形式の装置によって一作業過程で多数のサブストレートを処理することが できる。このよう設備の市場で要求された高いサブストレート・処理能力に基づ き、このようなサブストレート支持装置を設備の生産性を考慮して構成すること が極めて重要である。
【0003】 異なる形状のサブストレート及び異なるタイプの設備を考慮したサブストレー ト支持装置は既に公知である。従って、プレート状のサブストレートが水平位置 又は垂直位置で通過運動する設備が公知である。
【0004】 垂直位置でコーティングするためにサブストレートは、同様に垂直位置で処理 設備を介して移動する例えば骨組状のサブストレート支持装置内に差し込まれる 。このサブストレート支持装置は通常鋼管から成る剛性的な方形のフレームから 構成され、このフレーム内にはサブストレートを受容するために不動に取り付け られた桁材が設けられている。
【0005】 この桁材は不都合には設備の処理区分において、サブストレート自体と同じプ ロセス条件にされされる。これによって桁材は、一方では高い周囲温度(サブス トレート温度はほぼ420℃である)によってかつ他方ではコーティングプロセ ス中の沈積によって、著しい摩耗にされされる。
【0006】 桁材は、一方ではサブストレートの正確な位置決めに不都合な影響を及ぼさな いようにするために温度作用によって変形されてはならず、かつ、他方では桁材 上の残渣層が次ぎのコーティングプロセスにおいて層質に不都合な影響を及ぼす ために全てのコーティング残渣を簡単に、迅速にしかも完全に洗浄されねばなら ない。
【0007】 更に高周波数(HF)・励起による処理プロセスの場合には桁材と室壁との間 で制御不能なアーク発生が生ぜしめられ、これによって同様にコーティング結果 に不都合な影響が及ぼされる。
【0008】
【考案が解決しようとする課題】
本考案の課題は、温度作用による変形、コーティングプロセス後の著しく面倒 な洗浄並びにアーク発生のような上記欠点が回避され、かつ、確実で安定した経 済的なプロセス経過が保証されるような、サブストレート支持装置を提供するこ とにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
前記課題は本考案によれば、保持兼搬送装置がほぼ多部分から成るフレームか ら構成されていて、このフレーム内にサブストレートを受容するための桁材が差 し嵌められていてかつこの桁材に、サブストレートを固定するための保持部材が 設けられており、フレーム及び桁材が僅かな熱容量及び高い耐熱性を有しかつエ ッジの鋭いコーナを持たない開かれた薄板成形体から形成されており、全てのフ レーム構成部材及び桁材が互いに解離可能に結合されていることによって解決さ れた。
【0010】
【考案の効果】
有利には本考案によるサブストレート支持装置は、セグメント構造に基づき任 意のサブストレートサイズを考慮して調節可能できかつ個々のセグメント交換を 可能にする、極めて簡単な機械的な構造を有している。
【0011】 専ら開かれた成形体のみを使用することによって洗浄を問題なく行なうことが できる、即ち、例えばサンドブラストの際に及び次いで行なわれる湿式洗浄の際 に桁材上に残渣が残ることはない。
【0012】 温度問題は高耐熱性の材料を使用することによって解決される。従ってサブス トレート保持クランプは例えばデユラサーム(Duratherm)から製作されかつこ れによって有利にはほぼ600℃の場合にも弾性的である。
【0013】 支持構成部材を高周波数で使用するのに適するように面取りすることによって 有利にはアーク発生が阻止される。
【0014】 更に本考案によるサブストレート支持装置はセグメント構造に基づき選択的に 手動着脱からロボット操作に装備変えできる。
【0015】 本考案の有利な構成はその他の請求項に記載されている。
【0016】
【実施例】
相互間隔を置いて垂直に配置された2つの支持部材1,2(第1図参照)の間 には、2つの水平なプレート状の結合薄板3,4が設けられていて、この場合結 合薄板はそれぞれ、支持部材1,2の下端もしくは上端に固定されている。支持 部材1,2及び結合薄板3,4は方形のフレーム7を形成する。
【0017】 このフレーム7内には、それぞれ不変な相互間隔を置いて配置された水平な桁 材5,5′,...が設けられている。個々の桁材の間の残された中間スペース内に は処理すべき方形のサブストレート6,6′,...が差し嵌められている。図面で はコーティングすべきサブストレート正面側を図示している。
【0018】 支持部材1(第2図参照)はU字形の成形体から製作されかつ、成形体の開か れた背面12がフレーム7に面しないように、配置されている。成形体の中央の ウェブ内には、支持部材1の長手方向で孔列として配置された孔8,8′,...が 設けられている。
【0019】 水平の桁材5はほぼU字形の成形体として構成されていて、この成形体は開か れた背面13並びに2つの別の外側のウェブ14,15を有している。桁材5の 端面には孔を有する扁平な保持薄板10が溶接されていて、この場合この孔の孔 間隔は支持部材1内の孔8,8′,...の孔間隔に相応している。桁材5と支持部 材1とはねじ9,9′,...を介して互いに解離可能に結合されている。
【0020】 帯状のばね鋼から、ほぼ600℃の温度の場合でも弾性的な締付けばね11が 製作され、この場合この締付けばねは側方から見てほぼ横向きの二重のZ字形状 を有している。締付けばね11は一端で桁材5のウェブ14上に締め付けられる のに対して、締付けばねの自由な他端にはサブストレート6が載設される。
【0021】 サブストレート6は上縁部で、隣接する桁材5′のウェブ15′に被せ嵌めら れる別の締付けばね11′によって保持される(第3図参照)。
【0022】 支持部材の上端を互いに結合する結合薄板4(第4図参照)は上縁部17の斜 面及び下縁部18の段状の折曲げ部を以って扁平に形成されている。結合薄板4 の背面には、下縁部18に対して平行に延びる別のL字形薄板16が固定されて いる。結合薄板4の端面には、ねじ9,9′,...を介して支持部材1に固定され る、孔を備えた扁平な保持薄板10′が設けられている。
【図面の簡単な説明】
【図1】サブストレートを差し嵌められた本考案による
サブストレート支持装置の側面図。
【図2】第1図Xで示したコーナ結合部分の拡大斜視
図。
【図3】サブストレートを差し嵌められた2つの桁材の
斜視図。
【図4】第1図Yで示した上側のコーナ結合部分の拡大
斜視図。
【符号の説明】
1,2 支持部材 3,4 結合部材 5,5′,... 桁材 6,6′,... サブストレート 7 フレーム 8,8′,... 孔 9,9′,... ねじ 10 保持薄板 11,11′ 締付けばね 12,13 背面 14,15,15′ ウェブ 16 L字形薄板 17 上縁部 18 下縁部

Claims (19)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空処理設備、例えば真空コーティング
    設備及びエッチング設備内でかつこの設備を介して、有
    利には垂直位置でプレート状のサブストレート(6,
    6′,...)を保持しかつ搬送するための装置において、
    前記装置がほぼ多部分から成るフレーム(7)から構成
    されていて、このフレーム(7)内にサブストレート
    (6,6′,...)を受容するための桁材(5,
    5′,...)が差し嵌められていてかつこの桁材(5,
    5′,...)に、サブストレート(6,6′,...)を固定
    するための保持部材が設けられており、フレーム(7)
    及び桁材(5,5′,...)が僅かな熱容量及び高い耐熱
    性を有しかつエッジの鋭いコーナを持たない開かれた薄
    板成形体から形成されており、全てのフレーム構成部材
    及び桁材(5,5′,...)が互いに解離可能に結合され
    ていることを特徴とする、プレート状のサブストレート
    を保持しかつ搬送するための装置。
  2. 【請求項2】 フレーム(7)が相互間隔を置いて垂直
    に配置された支持部材(1,2)から形成されていて、
    この支持部材(1,2)が水平な部材(3,4)によっ
    て結合されている、請求項1記載の装置。
  3. 【請求項3】 フレーム(7)が垂直に真空設備内で保
    持されかつ案内されている、請求項2記載の装置。
  4. 【請求項4】 垂直な支持部材(1,2)が桁材(5,
    5′,...)を受容するための孔(8,8′,...)を有し
    ている、請求項1から3までのいずれか1項記載の装
    置。
  5. 【請求項5】 桁材(5,5′,...)が水平にしかも互
    いに平行に配置されている、請求項1記載の装置。
  6. 【請求項6】 桁材(5,5′,...)間の間隔が可変で
    ある、請求項5記載の装置。
  7. 【請求項7】 フレームセグメント(1,2,3,4,
    5,5′,...)が互いにねじ結合されている、請求項1
    から6までのいずれか1項記載の装置。
  8. 【請求項8】 桁材(5,5′,...)がフレーム(7)
    にねじ結合されている、請求項1から7までのいずれか
    1項記載の装置。
  9. 【請求項9】 フレーム(7)及び桁材(5,
    5′,...)が中空室を有していない、請求項1から8ま
    でのいずれか1項記載の装置。
  10. 【請求項10】 フレーム(7)及び桁材(5,
    5′,...)の成形体の開放側(12,13)がサブスト
    レート(6,6′,...)に面していない、請求項9記載
    の装置。
  11. 【請求項11】 フレーム(7)及び桁材(5,
    5′,...)が特殊鋼から製作されている、請求項1から
    10までのいずれか1項記載の装置。
  12. 【請求項12】 保持部材がサブストレート(6,
    6′,...)を掛止するために締付けばね(11,1
    1′,...)として形成されている、請求項1から11ま
    でのいずれか1項記載の装置。
  13. 【請求項13】 締付けばね(11,11′,...)が薄
    板又は線材から一体に製作されている、請求項12記載
    の装置。
  14. 【請求項14】 締付けばね(11,11′,...)が、4
    00℃以上の運転温度の場合でもまだ弾性的な材料から
    製作されている、請求項13記載の装置。
  15. 【請求項15】 締付けばね(11,11′,...)が桁
    材(5,5′,...)に被せ嵌め可能である、請求項1か
    ら14までのいずれか1項記載の装置。
  16. 【請求項16】 サブストレート(6,6′,...)が端
    面でのみ締付けばね(11,11′,...)に接触してい
    る、請求項1から15までのいずれか1項記載の装置。
  17. 【請求項17】 装置の全ての構成部材(1,2,3,
    4,5,5′,...、9,9′,...、11,11′,...)
    が個々に解離可能にしかも交換可能に互いに結合されて
    いる、請求項1から16までのいずれか1項記載の装
    置。
  18. 【請求項18】 2つのフレーム(7)が背中合わせに
    共通の脚部部材上に配置されている、請求項1から17
    までのいずれか1項記載の装置。
  19. 【請求項19】 両フレーム(7)間に上向きに開いた
    中間スペースが形成されている、請求項18記載の装
    置。
JP3714293U 1993-02-09 1993-07-07 プレート状のサブストレートを保持しかつ搬送するための装置 Expired - Fee Related JP2607524Y2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE9301727U DE9301727U1 (de) 1993-02-09 1993-02-09 Vorrichtung zum Halten und Transportieren plattenförmiger Substrate
DE9301727.8 1993-02-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0661962U true JPH0661962U (ja) 1994-09-02
JP2607524Y2 JP2607524Y2 (ja) 2001-11-12

Family

ID=6889114

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3714293U Expired - Fee Related JP2607524Y2 (ja) 1993-02-09 1993-07-07 プレート状のサブストレートを保持しかつ搬送するための装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2607524Y2 (ja)
DE (1) DE9301727U1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023543509A (ja) * 2020-09-30 2023-10-16 エリコン・サーフェス・ソリューションズ・アクチェンゲゼルシャフト,プフェフィコーン ばねホルダおよび被加工物担持体

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010060664A1 (de) * 2010-11-18 2012-05-24 Roth & Rau Ag Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen und Konditionieren eines Substratträgers einer Substratbeschichtungsanlage
DE102011006833A1 (de) * 2011-04-06 2012-10-11 Roth & Rau Ag Substratträger
US11688589B2 (en) 2013-06-10 2023-06-27 View, Inc. Carrier with vertical grid for supporting substrates in coater
CN105378142B (zh) * 2013-06-10 2019-04-19 唯景公司 用于溅射系统的玻璃托盘
KR20180022989A (ko) * 2015-07-01 2018-03-06 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 기판들을 위한 셀프-로킹 홀더
CN107879110B (zh) * 2016-09-30 2024-03-26 上海宝弥金属制品有限公司 玻璃支撑条、玻璃周转架及玻璃处理方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU417542A1 (ja) * 1972-01-06 1974-02-28
FR2555705B1 (fr) * 1983-11-25 1986-07-11 Dubois Rene Support adaptable a des pieces de formes et dimensions variees
DE3919611A1 (de) * 1989-06-15 1990-12-20 Wacker Chemitronic Haltevorrichtung zur aufnahme von scheibenfoermigen gegenstaenden, insbesondere halbleiterscheiben, und verfahren zu deren behandlung
DE9116285U1 (de) * 1991-11-05 1992-05-27 Leybold AG, 6450 Hanau Vorrichtung zur Halterung und zum Transport von Substraten in Vakuumanlagen

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023543509A (ja) * 2020-09-30 2023-10-16 エリコン・サーフェス・ソリューションズ・アクチェンゲゼルシャフト,プフェフィコーン ばねホルダおよび被加工物担持体

Also Published As

Publication number Publication date
DE9301727U1 (de) 1993-03-25
JP2607524Y2 (ja) 2001-11-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7260681B2 (ja) 有機膜形成装置
JPH04294535A (ja) 表面処理装置のウエハ移替装置
JPH0661962U (ja) プレート状のサブストレートを保持しかつ搬送するための装置
JP2003048733A (ja) ガラス板用ホルダー
JP3785036B2 (ja) 積載装置のワーク受け
CN115156146B (zh) 一种气体扩散器清洗工艺及清洗辅助设备
CN108251793B (zh) 掩膜版承载设备、抽真空方法及抽真空系统
DE102014119365B4 (de) Substrathaltevorrichtung, Verfahren zum Bestücken einer Substrathaltevorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Substrathaltevorrichtung
KR101696545B1 (ko) 유리 박형화용 지그
JPH0513397A (ja) 洗浄装置
JP4603326B2 (ja) 表面処理装置
CN108257899B (zh) 样品架
JP3010443U (ja) プラズマ処理装置
CN118681742B (zh) 自动化喷涂设备
JP7810399B2 (ja) 湿式処理用ワークホルダ
CN220765811U (zh) 一种五金金属薄板涂布装夹转运装置
CN217643872U (zh) 一种fpc软板喷锡固定夹具
JPS5813222B2 (ja) 薄板状基板へ均一に被膜を形成する方法および装置
JP6583449B2 (ja) ガラス板移動規制装置、及びガラス物品の製造方法
KR19990068420A (ko) 도금장치용랙
CN107845602B (zh) 一种承载治具
JPS5947739A (ja) ウエハ処理用治具
JP2526152B2 (ja) 基板用カセット
JPH06208978A (ja) ウェーハのスライスベースの剥離方法及びその装置
JPS6396911A (ja) 基板ホルダ

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees