JPH0663379A - 真空保管庫 - Google Patents
真空保管庫Info
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- JPH0663379A JPH0663379A JP23782992A JP23782992A JPH0663379A JP H0663379 A JPH0663379 A JP H0663379A JP 23782992 A JP23782992 A JP 23782992A JP 23782992 A JP23782992 A JP 23782992A JP H0663379 A JPH0663379 A JP H0663379A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/002—Component parts of these vessels not mentioned in B01J3/004, B01J3/006, B01J3/02 - B01J3/08; Measures taken in conjunction with the process to be carried out, e.g. safety measures
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空保管されたウエハや硝子基板等の保管物
に付着した炭素系の有機物からなる汚染物質を有効に取
り除く。 【構成】 保管物２を保管する真空保管庫１内に紫外線
ランプ４を配設し、この紫外線ランプ４により紫外線を
保管物２に照射することにより、真空保管中に保管物２
に付着した汚染物質を取り除く。
に付着した炭素系の有機物からなる汚染物質を有効に取
り除く。 【構成】 保管物２を保管する真空保管庫１内に紫外線
ランプ４を配設し、この紫外線ランプ４により紫外線を
保管物２に照射することにより、真空保管中に保管物２
に付着した汚染物質を取り除く。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は真空保管庫に係り、特に
真空保管中にウエハ又は硝子基板等の保管物に付着した
有機物を除去することができる真空保管庫に関する。
真空保管中にウエハ又は硝子基板等の保管物に付着した
有機物を除去することができる真空保管庫に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空中においては気流が全くないか又は
気流があったとしても極くわずかであるため、真空容器
の壁に付着している微粒子を剥離させたり、床面の粒子
を舞い上げたりするようなことはない。従って、真空中
ではクラス０（零）の空間を創り出せる可能性があるこ
とから、近年では半導体製造プロセスばかりでなく、ウ
エハや液晶パネルを作るための硝子基板等の保管物の保
管も真空中で行う傾向がある。
気流があったとしても極くわずかであるため、真空容器
の壁に付着している微粒子を剥離させたり、床面の粒子
を舞い上げたりするようなことはない。従って、真空中
ではクラス０（零）の空間を創り出せる可能性があるこ
とから、近年では半導体製造プロセスばかりでなく、ウ
エハや液晶パネルを作るための硝子基板等の保管物の保
管も真空中で行う傾向がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、真空中にお
いてはクラス０の空間を創り出せる可能性がある反面、
真空ポンプに使用されている油の蒸気によって、炭素系
（Ｃ系）の分子による有機物汚染が起こることが知られ
ている。真空中においては、上述の粒子汚染がなく、自
然酸化膜の成長がないか又はその成長を著しく抑制する
ことができるという、ウエハや硝子基板等の保管物にと
っては極めて優良な二つの環境が得られるにもかかわら
ず、上述のＣ系の分子による有機物汚染の問題が残る。
いてはクラス０の空間を創り出せる可能性がある反面、
真空ポンプに使用されている油の蒸気によって、炭素系
（Ｃ系）の分子による有機物汚染が起こることが知られ
ている。真空中においては、上述の粒子汚染がなく、自
然酸化膜の成長がないか又はその成長を著しく抑制する
ことができるという、ウエハや硝子基板等の保管物にと
っては極めて優良な二つの環境が得られるにもかかわら
ず、上述のＣ系の分子による有機物汚染の問題が残る。
【０００４】真空環境における上記二つの大きな利点を
生かすためには、真空ポンプに使用される油の蒸気によ
るＣ系の有機物汚染の対策をしなければならない。その
方法としては、第１には真空ポンプの油の蒸気をなくす
方法、第２には保管終了直前にウエハ又は硝子基板等か
ら、付着したＣ系の有機物を取り除く方法が考えられ
る。上記第１の方法については従来からさまざまな対策
がなされており、ある程度の効果を発揮しているもの
の、Ｃ系の有機物汚染は分子レベルの問題であり、この
汚染を完全になくすことはなかなか難しいのが実情であ
る。
生かすためには、真空ポンプに使用される油の蒸気によ
るＣ系の有機物汚染の対策をしなければならない。その
方法としては、第１には真空ポンプの油の蒸気をなくす
方法、第２には保管終了直前にウエハ又は硝子基板等か
ら、付着したＣ系の有機物を取り除く方法が考えられ
る。上記第１の方法については従来からさまざまな対策
がなされており、ある程度の効果を発揮しているもの
の、Ｃ系の有機物汚染は分子レベルの問題であり、この
汚染を完全になくすことはなかなか難しいのが実情であ
る。
【０００５】本発明はかかる課題を解決するためになさ
れたもので、真空保管された保管物に付着したＣ系の有
機物からなる汚染物質を有効に取り除くことができる真
空保管庫を提供することを目的とする。
れたもので、真空保管された保管物に付着したＣ系の有
機物からなる汚染物質を有効に取り除くことができる真
空保管庫を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ための本発明の真空保管庫は、保管物を保管する真空保
管室と、該真空保管室又この近傍の室に設けられ上記保
管物に紫外線を照射する紫外線ランプとを備えたもので
ある。
ための本発明の真空保管庫は、保管物を保管する真空保
管室と、該真空保管室又この近傍の室に設けられ上記保
管物に紫外線を照射する紫外線ランプとを備えたもので
ある。
【０００７】なお、上記真空保管庫は、上記紫外線ラン
プが設けられた室に、空気、酸素及びオゾンのうち少な
くともいずれかの洗浄用ガスを供給する供給装置をさら
に備える。
プが設けられた室に、空気、酸素及びオゾンのうち少な
くともいずれかの洗浄用ガスを供給する供給装置をさら
に備える。
【０００８】
【作用】本発明においては、真空保管庫に保管されてい
る保管物から、炭素系（Ｃ系）の有機物を、保管終了直
後に紫外線と、空気、酸素（Ｏ2 ）、及びオゾン
（Ｏ3）のうちいずれかのガスとの組合わせによって除
去している。
る保管物から、炭素系（Ｃ系）の有機物を、保管終了直
後に紫外線と、空気、酸素（Ｏ2 ）、及びオゾン
（Ｏ3）のうちいずれかのガスとの組合わせによって除
去している。
【０００９】空気中の酸素は、紫外線を照射することに
より発生基の酸素を生じる。この発生基の酸素は結合力
が強いため、炭素（Ｃ）、水素（Ｈ）、酸素（Ｏ）を含
む有機物と結合して二酸化炭素（ＣＯ2）と水（Ｈ2Ｏ）
となり、有機物を分解除去する。本発明の真空保管庫は
この原理を応用したもので、真空保管中に生じたＣ系の
有機物の汚染被膜を除去することができる。
より発生基の酸素を生じる。この発生基の酸素は結合力
が強いため、炭素（Ｃ）、水素（Ｈ）、酸素（Ｏ）を含
む有機物と結合して二酸化炭素（ＣＯ2）と水（Ｈ2Ｏ）
となり、有機物を分解除去する。本発明の真空保管庫は
この原理を応用したもので、真空保管中に生じたＣ系の
有機物の汚染被膜を除去することができる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明に係る真空保管庫の実施例を図
１乃至図７により説明する。図１は、本発明の第１実施
例に係る真空保管庫を示すフローシートで、真空保管庫
は立面を示している。図示するように、真空保管庫１に
は保管物２としてのウエハ、又は液晶パネル作成用の硝
子基板が一時的に保管されており、開閉可能な扉３から
搬入・搬出されるようになっている。真空保管庫１の内
部には、ウエハ又は硝子基板の表面にこの紫外線を均一
に照射するための複数の紫外線ランプ４が配設されてい
る。この紫外線ランプ４は、例えば低圧水銀ランプ、高
圧水銀ランプ、キセノンランプ及び重水素ランプ等紫外
線を発するものであればどのようなランプであってもよ
い。通常は低圧水銀ランプで合成石英のものを用いてお
り、この場合には１８４．９nmの波長の紫外線を取り出
すことができ、この波長の紫外線は、酸素（Ｏ2 ）をオ
ゾン（Ｏ3 ）に変えることができ、またＯ3 は保管物２
に付着した有機物の灰化に有効である。
１乃至図７により説明する。図１は、本発明の第１実施
例に係る真空保管庫を示すフローシートで、真空保管庫
は立面を示している。図示するように、真空保管庫１に
は保管物２としてのウエハ、又は液晶パネル作成用の硝
子基板が一時的に保管されており、開閉可能な扉３から
搬入・搬出されるようになっている。真空保管庫１の内
部には、ウエハ又は硝子基板の表面にこの紫外線を均一
に照射するための複数の紫外線ランプ４が配設されてい
る。この紫外線ランプ４は、例えば低圧水銀ランプ、高
圧水銀ランプ、キセノンランプ及び重水素ランプ等紫外
線を発するものであればどのようなランプであってもよ
い。通常は低圧水銀ランプで合成石英のものを用いてお
り、この場合には１８４．９nmの波長の紫外線を取り出
すことができ、この波長の紫外線は、酸素（Ｏ2 ）をオ
ゾン（Ｏ3 ）に変えることができ、またＯ3 は保管物２
に付着した有機物の灰化に有効である。
【００１１】上記タイプの真空保管庫１は、１枚乃至数
枚の保管物２を水平にして重ねることなく保管庫１の大
きさに合わせて、並べて保管している。また、バルブＶ
3 が設けられた配管６を介して真空保管庫１と連通して
いる真空ポンプ７により、真空保管庫１は大気圧から真
空状態になる。
枚の保管物２を水平にして重ねることなく保管庫１の大
きさに合わせて、並べて保管している。また、バルブＶ
3 が設けられた配管６を介して真空保管庫１と連通して
いる真空ポンプ７により、真空保管庫１は大気圧から真
空状態になる。
【００１２】供給部８からは、空気又はＯ2 が供給され
フィルタ９を通過し、またオゾン発生器１０からはＯ3
が供給されフィルタ９を通過する。このフィルタ９で異
物が除去された空気、Ｏ2 及びＯ3 のうち少なくともい
ずれかの洗浄用ガスは、配管１１及びバルブＶ1 を通っ
たのち真空保管庫１に導入される。上記供給部８とオゾ
ン発生器１０とフィルタ９とバルブＶ1 とにより、洗浄
用ガスを供給する供給装置５０が構成されている。さら
に、供給部１３からは空気又は窒素（Ｎ2 ）が供給さ
れ、フィルタ１４で異物が除去された後、配管１５、バ
ルブＶ2 を通ったのち真空保管庫１に導入される。
フィルタ９を通過し、またオゾン発生器１０からはＯ3
が供給されフィルタ９を通過する。このフィルタ９で異
物が除去された空気、Ｏ2 及びＯ3 のうち少なくともい
ずれかの洗浄用ガスは、配管１１及びバルブＶ1 を通っ
たのち真空保管庫１に導入される。上記供給部８とオゾ
ン発生器１０とフィルタ９とバルブＶ1 とにより、洗浄
用ガスを供給する供給装置５０が構成されている。さら
に、供給部１３からは空気又は窒素（Ｎ2 ）が供給さ
れ、フィルタ１４で異物が除去された後、配管１５、バ
ルブＶ2 を通ったのち真空保管庫１に導入される。
【００１３】真空保管庫１の内部の気体は、配管１７、
バルブＶ4 を通ったのち、オゾン処理用の活性炭を備え
る排ガス処理装置１９により処理されて排ガス用真空ポ
ンプ２０により系外に排出される。
バルブＶ4 を通ったのち、オゾン処理用の活性炭を備え
る排ガス処理装置１９により処理されて排ガス用真空ポ
ンプ２０により系外に排出される。
【００１４】次に、上記構成の真空保管庫の操作手順を
説明する。まず、真空保管庫１の内部にウエハ又は硝子
基板等の保管物２を収容し、次いでバルブＶ1 ，Ｖ2 ，
Ｖ4を閉状態にした後、真空ポンプ７を駆動するととも
にバルブＶ3 を開いて真空保管庫１の内部を真空に引
く。所定の真空度を維持させた状態で保管物２を所定時
間保管する。そして保管が完了した時点でバルブＶ3 を
閉じ、バルブＶ2 を開けて供給部１３から清浄な空気又
はＮ2 を供給して真空保管庫１の内部圧力を大気圧にし
たのちバルブＶ2 を閉じ、次いで、紫外線ランプ４を点
灯して紫外線を保管物２に照射する。次いで、バルブＶ
4 を開けるとともに排ガス用真空ポンプ２０を駆動して
真空保管庫１内のガスの排出を開始する。次いで、バル
ブＶ1 を開けて洗浄用の空気又はＯ2 を供給部８から保
管庫１に供給するか、又はオゾン発生器１０から洗浄用
のＯ3 を保管庫１に供給する。これら洗浄用ガスを所定
の流量で所定の時間流し続けるが、この場合の流量とし
ては１０Ｌ（リットル）／min 、時間としては２０乃至
３０分程度で十分である。上述の空気を供給部８，１３
から送り込む場合には、図示しないコンプレッサを用い
てもよいが真空ポンプ７又は２０により吸引してもよ
い。なお、上記空気、Ｏ2 及びＯ3 の各清浄度として
は、０．１μｍでクラス１０以下が好ましい。こうし
て、洗浄用ガスを真空保管庫１内に送り込んでこの保管
室１内を洗浄用ガスで充満させ且つ紫外線を保管物２に
照射することにより、真空保管中に保管物２に付着した
有機物を取り除いて洗浄することとなる。この洗浄が終
了したらバルブＶ1 を閉じるとともにバルブＶ2 を開け
て清浄な空気又はＮ2 を真空保管庫１に流してＯ3 を完
全に取り除く。次いで扉３を開けて、清浄な状態の保管
物２を室外に取り出せばよい。
説明する。まず、真空保管庫１の内部にウエハ又は硝子
基板等の保管物２を収容し、次いでバルブＶ1 ，Ｖ2 ，
Ｖ4を閉状態にした後、真空ポンプ７を駆動するととも
にバルブＶ3 を開いて真空保管庫１の内部を真空に引
く。所定の真空度を維持させた状態で保管物２を所定時
間保管する。そして保管が完了した時点でバルブＶ3 を
閉じ、バルブＶ2 を開けて供給部１３から清浄な空気又
はＮ2 を供給して真空保管庫１の内部圧力を大気圧にし
たのちバルブＶ2 を閉じ、次いで、紫外線ランプ４を点
灯して紫外線を保管物２に照射する。次いで、バルブＶ
4 を開けるとともに排ガス用真空ポンプ２０を駆動して
真空保管庫１内のガスの排出を開始する。次いで、バル
ブＶ1 を開けて洗浄用の空気又はＯ2 を供給部８から保
管庫１に供給するか、又はオゾン発生器１０から洗浄用
のＯ3 を保管庫１に供給する。これら洗浄用ガスを所定
の流量で所定の時間流し続けるが、この場合の流量とし
ては１０Ｌ（リットル）／min 、時間としては２０乃至
３０分程度で十分である。上述の空気を供給部８，１３
から送り込む場合には、図示しないコンプレッサを用い
てもよいが真空ポンプ７又は２０により吸引してもよ
い。なお、上記空気、Ｏ2 及びＯ3 の各清浄度として
は、０．１μｍでクラス１０以下が好ましい。こうし
て、洗浄用ガスを真空保管庫１内に送り込んでこの保管
室１内を洗浄用ガスで充満させ且つ紫外線を保管物２に
照射することにより、真空保管中に保管物２に付着した
有機物を取り除いて洗浄することとなる。この洗浄が終
了したらバルブＶ1 を閉じるとともにバルブＶ2 を開け
て清浄な空気又はＮ2 を真空保管庫１に流してＯ3 を完
全に取り除く。次いで扉３を開けて、清浄な状態の保管
物２を室外に取り出せばよい。
【００１５】なお、発明者の行った実験によれば、上記
洗浄用ガスとして空気を使用した場合には、１０Ｌ（リ
ットル）／min の流量で空気を２０乃至３０分のあいだ
流し続け、また紫外線ランプ４としては１０Ｗの水銀ラ
ンプを２０乃至３０分のあいだ照射することにより、完
全に保管物２の有機物被膜を取り除くことができ、これ
は接触角法で確認できた。この空気と紫外線を使用する
方法に対して、Ｏ2 と紫外線、又はＯ3 と紫外線を組み
合わせた方法は、有機物を取り除く時間としてはもっと
短くてすみ、より効果的であった。
洗浄用ガスとして空気を使用した場合には、１０Ｌ（リ
ットル）／min の流量で空気を２０乃至３０分のあいだ
流し続け、また紫外線ランプ４としては１０Ｗの水銀ラ
ンプを２０乃至３０分のあいだ照射することにより、完
全に保管物２の有機物被膜を取り除くことができ、これ
は接触角法で確認できた。この空気と紫外線を使用する
方法に対して、Ｏ2 と紫外線、又はＯ3 と紫外線を組み
合わせた方法は、有機物を取り除く時間としてはもっと
短くてすみ、より効果的であった。
【００１６】次に、図２乃至図７に他の実施例を示す
が、これらの図において、図１の構成要素と同一の作用
及び機能を有する構成要素は同一符号を付し、説明を省
略する。 図２は、本発明の第２実施例に係る真空保管
庫を示すフローシートであり、真空保管庫は立面を示し
ている。本実施例に係る真空保管庫１は、保管物２とし
てのウエハ又は硝子基板を水平に向けるとともに上下に
複数段収納するタイプのものである。各段には紫外線ラ
ンプ４が取付けてある。収納する段数は、真空保管庫１
の大きさと保管物２を置く場所との兼ね合いによって任
意に選択することができる。また、真空保管庫１には、
保管物２を搬入・搬出するための扉３が取付けられてい
る。このタイプの真空保管庫１は、上記第１実施例の真
空保管庫１と比べて設置面積が小さくなるという利点が
ある。なお、第２実施例において、その他の構成及び操
作手順は第１実施例と同様である。
が、これらの図において、図１の構成要素と同一の作用
及び機能を有する構成要素は同一符号を付し、説明を省
略する。 図２は、本発明の第２実施例に係る真空保管
庫を示すフローシートであり、真空保管庫は立面を示し
ている。本実施例に係る真空保管庫１は、保管物２とし
てのウエハ又は硝子基板を水平に向けるとともに上下に
複数段収納するタイプのものである。各段には紫外線ラ
ンプ４が取付けてある。収納する段数は、真空保管庫１
の大きさと保管物２を置く場所との兼ね合いによって任
意に選択することができる。また、真空保管庫１には、
保管物２を搬入・搬出するための扉３が取付けられてい
る。このタイプの真空保管庫１は、上記第１実施例の真
空保管庫１と比べて設置面積が小さくなるという利点が
ある。なお、第２実施例において、その他の構成及び操
作手順は第１実施例と同様である。
【００１７】図３は本発明の第３実施例に係る真空保管
庫を示すフローシート、図４はその真空保管庫の平面断
面図である。本実施例に係る真空保管庫１は図４に示す
ように円形状をなしており、この保管庫１の内部に保管
物２としてのウエハ又は硝子基板をほぼ同心円状に配置
し且つ縦方向を向けて保管している。また、複数の紫外
線ランプ４は、縦方向を向いて真空保管庫１内の中央部
に均等に配設されている。また真空保管庫１には、保管
物２を搬入・搬出するための扉３が取付けられている。
なお、第３実施例において、その他の構成及び操作手順
は第１実施例と同様である。
庫を示すフローシート、図４はその真空保管庫の平面断
面図である。本実施例に係る真空保管庫１は図４に示す
ように円形状をなしており、この保管庫１の内部に保管
物２としてのウエハ又は硝子基板をほぼ同心円状に配置
し且つ縦方向を向けて保管している。また、複数の紫外
線ランプ４は、縦方向を向いて真空保管庫１内の中央部
に均等に配設されている。また真空保管庫１には、保管
物２を搬入・搬出するための扉３が取付けられている。
なお、第３実施例において、その他の構成及び操作手順
は第１実施例と同様である。
【００１８】図５は図４に示す第３実施例の変形例を示
す図で、真空保管庫１の平面断面図である。この変形例
に係る真空保管庫においては、保管物２としてのウエハ
又は硝子基板をほぼ同心円状に且つ層状に配置するとと
もに縦方向を向けて保管している。なお、図５では外方
の層と内方の層の二層の場合を示したが、保管庫及び保
管物２の大きさに合わせて何層にしてもよい。また、真
空保管庫１内の複数の紫外線ランプ４は、縦方向を向い
て、保管物２の間及び保管庫１の中心部に均等に配設さ
れている。
す図で、真空保管庫１の平面断面図である。この変形例
に係る真空保管庫においては、保管物２としてのウエハ
又は硝子基板をほぼ同心円状に且つ層状に配置するとと
もに縦方向を向けて保管している。なお、図５では外方
の層と内方の層の二層の場合を示したが、保管庫及び保
管物２の大きさに合わせて何層にしてもよい。また、真
空保管庫１内の複数の紫外線ランプ４は、縦方向を向い
て、保管物２の間及び保管庫１の中心部に均等に配設さ
れている。
【００１９】図６は、本発明の第４実施例に係る真空保
管庫を示すフローシートで、真空保管庫は立面を示して
いる。本実施例においては、真空保管庫１内は保管室３
０とロボット室３１とロードロック室３２に区分されて
いる。保管室３０とロボット室３１との間にはゲートバ
ルブＶ4 が設けられ、ロボット室３１とロードロック室
３２との間にはゲートバルブＶ5 が設けられている。ロ
ボット室３１の内部には、両室３０，３１との間で保管
物２を移動させるための真空室用ロボット３５が設置さ
れており、また保管物２に紫外線を照射するための紫外
線ランプ４が取付けられている。このタイプの真空保管
庫は、保管物２を水平にして１枚又は数枚を、ある空間
をあけて上下に多段に保管するタイプであり、保管物２
をストッカごとロードロック室３２に搬入及び搬出する
ことができるようになっている。また、保管もストッカ
ごとでき、保管室３０の大きさに合わせて多数のストッ
カ保管もできる。
管庫を示すフローシートで、真空保管庫は立面を示して
いる。本実施例においては、真空保管庫１内は保管室３
０とロボット室３１とロードロック室３２に区分されて
いる。保管室３０とロボット室３１との間にはゲートバ
ルブＶ4 が設けられ、ロボット室３１とロードロック室
３２との間にはゲートバルブＶ5 が設けられている。ロ
ボット室３１の内部には、両室３０，３１との間で保管
物２を移動させるための真空室用ロボット３５が設置さ
れており、また保管物２に紫外線を照射するための紫外
線ランプ４が取付けられている。このタイプの真空保管
庫は、保管物２を水平にして１枚又は数枚を、ある空間
をあけて上下に多段に保管するタイプであり、保管物２
をストッカごとロードロック室３２に搬入及び搬出する
ことができるようになっている。また、保管もストッカ
ごとでき、保管室３０の大きさに合わせて多数のストッ
カ保管もできる。
【００２０】バルブＶ6 ，Ｖ7 ，Ｖ8 と配管６とを介し
て、保管室３０、ロボット室３１、ロードロック室３２
とそれぞれ連通している真空ポンプ７により、各室３
０，３１，３２はそれぞれ大気圧から真空状態になる。
て、保管室３０、ロボット室３１、ロードロック室３２
とそれぞれ連通している真空ポンプ７により、各室３
０，３１，３２はそれぞれ大気圧から真空状態になる。
【００２１】供給部８からは、空気又はＯ2 が供給され
フィルタ９を通過し、またオゾン発生器１０からはＯ3
が供給されフィルタ９を通過する。このフィルタ９で異
物が除去された空気、Ｏ2 及びＯ3 のいずれかの洗浄ガ
スは、配管１１及びバルブＶ1 を通ったのちロボット室
３１に導入される。さらに、供給部１３からは空気又は
Ｎ2 が供給され、フィルタ１４で異物が除去された後、
配管１５、バルブＶ2，Ｖ3 を通った後、ロボット室３
１及びロードロック室３２にそれぞれ導入される。
フィルタ９を通過し、またオゾン発生器１０からはＯ3
が供給されフィルタ９を通過する。このフィルタ９で異
物が除去された空気、Ｏ2 及びＯ3 のいずれかの洗浄ガ
スは、配管１１及びバルブＶ1 を通ったのちロボット室
３１に導入される。さらに、供給部１３からは空気又は
Ｎ2 が供給され、フィルタ１４で異物が除去された後、
配管１５、バルブＶ2，Ｖ3 を通った後、ロボット室３
１及びロードロック室３２にそれぞれ導入される。
【００２２】ロボット室３１の内部の気体は、バルブＶ
9 を通ったのち、オゾン処理用の活性炭を備える排ガス
処理装置１９により処理されて排ガス用真空ポンプ２０
により系外に排出される。
9 を通ったのち、オゾン処理用の活性炭を備える排ガス
処理装置１９により処理されて排ガス用真空ポンプ２０
により系外に排出される。
【００２３】次に、上記構成の真空保管庫の操作手順を
説明する。保管室３０とロボット室３１は、予め真空状
態にしておく。まず、大気圧状態のロードロック室３２
の扉３を開けて、ウエハ又は硝子基板の保管物２を室内
に入れる。この時、保管物２はストッカごと収納しても
よい。次いで、バルブＶ8 を開いて真空ポンプ７により
ロードロック室３２を真空に引く。このロードロック室
３２の内部が保管室３０、ロボット室３１とほぼ同圧に
なったら、ゲートバルブＶ4 ，Ｖ5 を開ける。そして、
ロボット３５を用いて保管物２をロードロック室３２か
ら保管室３０に移し替え、それが完了するとゲートバル
ブＶ4 ，Ｖ5 を閉じて保管室３０内で保管物２を所定の
真空度の下で所定の時間のあいだ保管する。そして、保
管が完了した時点でバルブＶ4 を開けて、保管してあっ
た保管物２をロボット３５によりロボット室３１に取り
出し、バルブＶ4 を閉じる。また真空ポンプ７用のバル
ブＶ7 も閉じる。次いで、バルブＶ2 を開けて清浄なＮ
2 又は空気（この時の清浄度は０．１μｍでクラス１０
以下である）を供給部１３からロボット室３１に供給し
てロボット室３１を大気圧にする。ロボット室３１が大
気圧になったらバルブＶ2 を閉じ、紫外線ランプ４を点
灯して紫外線を保管物２に照射する。次いで、バルブＶ
9 を開けるとともに排ガス用真空ポンプ２０を駆動して
ロボット室３１内のガスの排出を開始する。次いで、バ
ルブＶ1 を開けて洗浄用の空気又はＯ2 を供給部８から
供給するか、又はオゾン発生器１０から洗浄用のＯ3 を
供給し、これら洗浄用ガス（各清浄度は０．１μｍでク
ラス１０以下）を所定の流量で所定の時間流し続ける。
こうして洗浄用ガスをロボット室３１内に送り込んで、
このロボット室３１内を洗浄用ガスで充満させ且つ紫外
線を保管物２に照射することにより、真空保管中に保管
物２に付着した有機物を取り除いて洗浄することとな
る。この洗浄が終了したらバルブＶ1 を閉じるとともに
バルブＶ2 を開けて清浄な空気又はＮ2 をロボット室３
１に流してＯ3 を完全に取り除く。次いで、バルブＶ3
を開けて清浄な（０．１μｍでクラス１０以下）空気又
はＮ2 でロードロック室３２を大気圧にするとともにバ
ルブＶ5 を開けて、ロボット３５により保管物２をロー
ドロック室３２に移した後、扉３から室外に取り出せば
よい。なお、２枚目以降の保管物２を取り出すときは、
ロボット室３１を再び真空にして同様の動作を繰り返
す。このように、保管室３０の他にロボット室３１及び
ロードロック室３２を設けることにより、保管物２を保
管する保管室３０を常に真空状態に保つことができる。
説明する。保管室３０とロボット室３１は、予め真空状
態にしておく。まず、大気圧状態のロードロック室３２
の扉３を開けて、ウエハ又は硝子基板の保管物２を室内
に入れる。この時、保管物２はストッカごと収納しても
よい。次いで、バルブＶ8 を開いて真空ポンプ７により
ロードロック室３２を真空に引く。このロードロック室
３２の内部が保管室３０、ロボット室３１とほぼ同圧に
なったら、ゲートバルブＶ4 ，Ｖ5 を開ける。そして、
ロボット３５を用いて保管物２をロードロック室３２か
ら保管室３０に移し替え、それが完了するとゲートバル
ブＶ4 ，Ｖ5 を閉じて保管室３０内で保管物２を所定の
真空度の下で所定の時間のあいだ保管する。そして、保
管が完了した時点でバルブＶ4 を開けて、保管してあっ
た保管物２をロボット３５によりロボット室３１に取り
出し、バルブＶ4 を閉じる。また真空ポンプ７用のバル
ブＶ7 も閉じる。次いで、バルブＶ2 を開けて清浄なＮ
2 又は空気（この時の清浄度は０．１μｍでクラス１０
以下である）を供給部１３からロボット室３１に供給し
てロボット室３１を大気圧にする。ロボット室３１が大
気圧になったらバルブＶ2 を閉じ、紫外線ランプ４を点
灯して紫外線を保管物２に照射する。次いで、バルブＶ
9 を開けるとともに排ガス用真空ポンプ２０を駆動して
ロボット室３１内のガスの排出を開始する。次いで、バ
ルブＶ1 を開けて洗浄用の空気又はＯ2 を供給部８から
供給するか、又はオゾン発生器１０から洗浄用のＯ3 を
供給し、これら洗浄用ガス（各清浄度は０．１μｍでク
ラス１０以下）を所定の流量で所定の時間流し続ける。
こうして洗浄用ガスをロボット室３１内に送り込んで、
このロボット室３１内を洗浄用ガスで充満させ且つ紫外
線を保管物２に照射することにより、真空保管中に保管
物２に付着した有機物を取り除いて洗浄することとな
る。この洗浄が終了したらバルブＶ1 を閉じるとともに
バルブＶ2 を開けて清浄な空気又はＮ2 をロボット室３
１に流してＯ3 を完全に取り除く。次いで、バルブＶ3
を開けて清浄な（０．１μｍでクラス１０以下）空気又
はＮ2 でロードロック室３２を大気圧にするとともにバ
ルブＶ5 を開けて、ロボット３５により保管物２をロー
ドロック室３２に移した後、扉３から室外に取り出せば
よい。なお、２枚目以降の保管物２を取り出すときは、
ロボット室３１を再び真空にして同様の動作を繰り返
す。このように、保管室３０の他にロボット室３１及び
ロードロック室３２を設けることにより、保管物２を保
管する保管室３０を常に真空状態に保つことができる。
【００２４】図７は、本発明の第５実施例に係る真空保
管庫を示すフローシートで、真空保管庫は立面を示して
いる。本実施例は第４実施例の変形例で、この真空保管
庫１は第４実施例と同様に、保管物２を水平にして１枚
又は数枚を、ある空間をあけて上下に多段に保管するタ
イプであり、保管物２をストッカごとロードロック室３
２に搬入及び搬出することができるようになっている。
また、保管もストッカごとにでき、保管室３０の大きさ
に合わせて多数のストッカの保管もできる。本実施例に
おいては、真空保管庫１内は保管室３０と第１，第２ロ
ボット室３１ａ，３１ｂと紫外線照射室４０とロードロ
ック室３２とに区分されている。
管庫を示すフローシートで、真空保管庫は立面を示して
いる。本実施例は第４実施例の変形例で、この真空保管
庫１は第４実施例と同様に、保管物２を水平にして１枚
又は数枚を、ある空間をあけて上下に多段に保管するタ
イプであり、保管物２をストッカごとロードロック室３
２に搬入及び搬出することができるようになっている。
また、保管もストッカごとにでき、保管室３０の大きさ
に合わせて多数のストッカの保管もできる。本実施例に
おいては、真空保管庫１内は保管室３０と第１，第２ロ
ボット室３１ａ，３１ｂと紫外線照射室４０とロードロ
ック室３２とに区分されている。
【００２５】本実施例では、紫外線ランプ４は紫外線照
射室４０に配設されており、この紫外線照射室４０の両
側には、ゲートバルブＶ6 ，Ｖ7 を介して、第１ロボッ
ト３５ａを有する第１ロボット室３１ａと、第２ロボッ
ト３５ｂを有する第２ロボット室３１ｂとが配設されて
いる。第１ロボット室３１ａと保管室３０との間はゲー
トバルブＶ5 で仕切られ、第２ロボット室３１ｂとロー
ドロック室３２とはゲートバルブＶ8 により仕切られて
いる。
射室４０に配設されており、この紫外線照射室４０の両
側には、ゲートバルブＶ6 ，Ｖ7 を介して、第１ロボッ
ト３５ａを有する第１ロボット室３１ａと、第２ロボッ
ト３５ｂを有する第２ロボット室３１ｂとが配設されて
いる。第１ロボット室３１ａと保管室３０との間はゲー
トバルブＶ5 で仕切られ、第２ロボット室３１ｂとロー
ドロック室３２とはゲートバルブＶ8 により仕切られて
いる。
【００２６】フィルタ９の出口のバルブＶ1 は紫外線照
射室４０に接続されており、またフィルタ１４の出口の
バルブＶ2 ，Ｖ3 ，Ｖ4 は、紫外線照射室４０、第２ロ
ボット室３１ｂ、ロードロック室３２にそれぞれ接続さ
れている。また、真空ポンプ７の入口側のバルブＶ9 は
保管室３０に、バルブＶ10，Ｖ12はそれぞれ第１，第２
ロボット室３１ａ，３１ｂに、バルブＶ13はロードロッ
ク室３２に、バルブＶ11は紫外線照射室４０にそれぞれ
接続されている。さらに、排ガス処理装置１９の入口側
のバルブＶ14は紫外線照射室４０に接続されている。
射室４０に接続されており、またフィルタ１４の出口の
バルブＶ2 ，Ｖ3 ，Ｖ4 は、紫外線照射室４０、第２ロ
ボット室３１ｂ、ロードロック室３２にそれぞれ接続さ
れている。また、真空ポンプ７の入口側のバルブＶ9 は
保管室３０に、バルブＶ10，Ｖ12はそれぞれ第１，第２
ロボット室３１ａ，３１ｂに、バルブＶ13はロードロッ
ク室３２に、バルブＶ11は紫外線照射室４０にそれぞれ
接続されている。さらに、排ガス処理装置１９の入口側
のバルブＶ14は紫外線照射室４０に接続されている。
【００２７】次に、上記構成の真空保管庫の操作手順を
説明する。保管室３０と第１，第２ロボット室３１ａ，
３１ｂと紫外線照射室４０は、予め真空状態にしてお
く。まず、大気圧状態のロードロック室３２の扉３を開
けて、ウエハ又は硝子基板等の保管物２を室内に入れ
る。この時、保管物２はストッカごと収納してもよい。
次いで、バルブＶ13を開いて真空ポンプ７によりロード
ロック室３２を真空に引く。このロードロック室３２の
内部が保管室３０、第１，第２ロボット室３１ａ，３１
ｂ、紫外線照射室４０とほぼ同圧になったら、仕切用の
バルブＶ5 ，Ｖ6 ，Ｖ7 ，Ｖ8 を開ける。そして、第
１，第２ロボット３５ａ，３５ｂを用いて保管物２をロ
ードロック室３２から保管室３０に移し替える。それが
完了するとバルブＶ5 ，Ｖ6 ，Ｖ7 ，Ｖ8 を閉じて保管
室３０内で保管物２を所定の真空度の下で所定時間のあ
いだ保管する。そして、保管が完了した時点でバルブＶ
5 ，Ｖ6を開けて、保管してあった保管物２を第１ロボ
ット３５ａにより紫外線照射室４０に取り出し、バルブ
Ｖ5 ，Ｖ6 を閉じる。また真空ポンプ７用のバルブＶ11
も閉じて真空排気を中止する。次いで、バルブＶ2 を開
けて清浄なＮ2 又は空気（この時の清浄度は０．１μｍ
でクラス１０以下である）を供給部１３から紫外線照射
室４０に供給して紫外線照射室４０を大気圧にする。紫
外線照射室４０が大気圧になったらバルブＶ2 を閉じ、
紫外線ランプ４を点灯して紫外線を保管物２に照射す
る。この時、第２ロボット室３１ｂとロードロック室３
２にも同様に清浄ガスを供給して大気圧にしておく。次
いで、バルブＶ14を開けるとともに排ガス用真空ポンプ
２０を駆動して紫外線照射室４０内のガスの排出を開始
する。次いで、バルブＶ1 を開けて洗浄用の空気又はＯ
2 を供給部８から供給するか、又はオゾン発生器１０か
ら洗浄用のＯ3 を供給し、これら洗浄用ガス（各清浄度
は０．１μｍでクラス１０以下）を所定の流量で所定の
時間流し続ける。こうして洗浄用ガスを紫外線照射室４
０内に送り込んでこの照射室１内を洗浄用ガスで充満さ
せ且つ紫外線を保管物２に照射することにより、真空保
管中に保管物２に付着した有機物を取り除いて洗浄する
こととなる。この洗浄が終了したらバルブＶ1 を閉じる
とともにバルブＶ2 を開けて清浄な空気又はＮ2 を紫外
線照射室４０に流してＯ3 を完全に取り除く。次いで、
バルブＶ2 を閉じ且つバルブＶ7 ，Ｖ8 を開けて第２ロ
ボット３５ｂにより保管物２を紫外線照射室４０からロ
ードロック室３２に移したのち扉３から室外に取り出せ
ばよい。なお、２枚目以降の保管物２を取り出すとき
は、紫外線照射室４０を再び真空にして同様の動作を繰
り返す。このように、保管室３０の他に第１，第２ロボ
ット室３１ａ，３１ｂ、紫外線照射室４０及びロードロ
ック室３２を設けることにより、保管物２を保管する保
管室３０を常に真空に保つことができる。しかも、洗浄
時に発生するＯ3 、水（Ｈ2Ｏ）、炭酸ガス（ＣＯ2）を
紫外線照射室４０のみにとどめているので、他の室の汚
染を防ぐことができる。
説明する。保管室３０と第１，第２ロボット室３１ａ，
３１ｂと紫外線照射室４０は、予め真空状態にしてお
く。まず、大気圧状態のロードロック室３２の扉３を開
けて、ウエハ又は硝子基板等の保管物２を室内に入れ
る。この時、保管物２はストッカごと収納してもよい。
次いで、バルブＶ13を開いて真空ポンプ７によりロード
ロック室３２を真空に引く。このロードロック室３２の
内部が保管室３０、第１，第２ロボット室３１ａ，３１
ｂ、紫外線照射室４０とほぼ同圧になったら、仕切用の
バルブＶ5 ，Ｖ6 ，Ｖ7 ，Ｖ8 を開ける。そして、第
１，第２ロボット３５ａ，３５ｂを用いて保管物２をロ
ードロック室３２から保管室３０に移し替える。それが
完了するとバルブＶ5 ，Ｖ6 ，Ｖ7 ，Ｖ8 を閉じて保管
室３０内で保管物２を所定の真空度の下で所定時間のあ
いだ保管する。そして、保管が完了した時点でバルブＶ
5 ，Ｖ6を開けて、保管してあった保管物２を第１ロボ
ット３５ａにより紫外線照射室４０に取り出し、バルブ
Ｖ5 ，Ｖ6 を閉じる。また真空ポンプ７用のバルブＶ11
も閉じて真空排気を中止する。次いで、バルブＶ2 を開
けて清浄なＮ2 又は空気（この時の清浄度は０．１μｍ
でクラス１０以下である）を供給部１３から紫外線照射
室４０に供給して紫外線照射室４０を大気圧にする。紫
外線照射室４０が大気圧になったらバルブＶ2 を閉じ、
紫外線ランプ４を点灯して紫外線を保管物２に照射す
る。この時、第２ロボット室３１ｂとロードロック室３
２にも同様に清浄ガスを供給して大気圧にしておく。次
いで、バルブＶ14を開けるとともに排ガス用真空ポンプ
２０を駆動して紫外線照射室４０内のガスの排出を開始
する。次いで、バルブＶ1 を開けて洗浄用の空気又はＯ
2 を供給部８から供給するか、又はオゾン発生器１０か
ら洗浄用のＯ3 を供給し、これら洗浄用ガス（各清浄度
は０．１μｍでクラス１０以下）を所定の流量で所定の
時間流し続ける。こうして洗浄用ガスを紫外線照射室４
０内に送り込んでこの照射室１内を洗浄用ガスで充満さ
せ且つ紫外線を保管物２に照射することにより、真空保
管中に保管物２に付着した有機物を取り除いて洗浄する
こととなる。この洗浄が終了したらバルブＶ1 を閉じる
とともにバルブＶ2 を開けて清浄な空気又はＮ2 を紫外
線照射室４０に流してＯ3 を完全に取り除く。次いで、
バルブＶ2 を閉じ且つバルブＶ7 ，Ｖ8 を開けて第２ロ
ボット３５ｂにより保管物２を紫外線照射室４０からロ
ードロック室３２に移したのち扉３から室外に取り出せ
ばよい。なお、２枚目以降の保管物２を取り出すとき
は、紫外線照射室４０を再び真空にして同様の動作を繰
り返す。このように、保管室３０の他に第１，第２ロボ
ット室３１ａ，３１ｂ、紫外線照射室４０及びロードロ
ック室３２を設けることにより、保管物２を保管する保
管室３０を常に真空に保つことができる。しかも、洗浄
時に発生するＯ3 、水（Ｈ2Ｏ）、炭酸ガス（ＣＯ2）を
紫外線照射室４０のみにとどめているので、他の室の汚
染を防ぐことができる。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、真
空保管された保管物に付着した炭素系の有機物からなる
汚染物質を有効に取り除くことができる。
空保管された保管物に付着した炭素系の有機物からなる
汚染物質を有効に取り除くことができる。
【図１】本発明の第１実施例に係る真空保管庫を示すフ
ローシートである。
ローシートである。
【図２】本発明の第２実施例に係る真空保管庫を示すフ
ローシートである。
ローシートである。
【図３】本発明の第３実施例に係る真空保管庫を示すフ
ローシートである。
ローシートである。
【図４】図３に示す真空保管庫の平面断面図である。
【図５】図４に示す第３実施例の変形例を示す図で、真
空保管庫の平面断面図である。
空保管庫の平面断面図である。
【図６】本発明の第４実施例に係る真空保管庫を示すフ
ローシートである。
ローシートである。
【図７】本発明の第５実施例に係る真空保管庫を示すフ
ローシートである。
ローシートである。
１ 真空保管庫 ２ 保管物 ３ 扉 ４ 紫外線ランプ ７ 真空ポンプ ８ 供給部 ９，１４ フィルタ １０ オゾン発生器 １９ 排ガス処理装置 ２０ 排ガス用真空ポンプ ３０ 保管室 ３１ ロボット室 ３２ ロードロック室 Ｖ1 〜Ｖ14 バルブ ４０ 紫外線照射室 ５０ 供給装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉岡 毅 神奈川県藤沢市本藤沢４丁目２番１号 株 式会社荏原総合研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 保管物を保管する真空保管室と、該真空
保管室又はこの近傍の室に設けられ上記保管物に紫外線
を照射する紫外線ランプとを備えたことを特徴とする真
空保管庫。 - 【請求項２】 上記紫外線ランプが設けられた室に、空
気、酸素及びオゾンのうち少なくともいずれかの洗浄用
ガスを供給する供給装置をさらに備えたことを特徴とす
る請求項１記載の真空保管庫。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23782992A JPH0663379A (ja) | 1992-08-13 | 1992-08-13 | 真空保管庫 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23782992A JPH0663379A (ja) | 1992-08-13 | 1992-08-13 | 真空保管庫 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0663379A true JPH0663379A (ja) | 1994-03-08 |
Family
ID=17021026
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23782992A Pending JPH0663379A (ja) | 1992-08-13 | 1992-08-13 | 真空保管庫 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0663379A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1508385A1 (en) | 2003-08-21 | 2005-02-23 | Texas Instruments Incorporated | System for ultraviolet cleaning |
| JP2010089014A (ja) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Jpe:Kk | プラズマ洗浄装置 |
| US8232538B2 (en) | 2009-10-27 | 2012-07-31 | Lam Research Corporation | Method and apparatus of halogen removal using optimal ozone and UV exposure |
| CN104167381A (zh) * | 2014-07-11 | 2014-11-26 | 湖南红太阳光电科技有限公司 | 一种连续式真空紫外光臭氧表面清洗与氧化改性设备及其使用方法 |
| CN111359994A (zh) * | 2020-03-16 | 2020-07-03 | Tcl华星光电技术有限公司 | 清洗装置 |
-
1992
- 1992-08-13 JP JP23782992A patent/JPH0663379A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7312151B2 (en) | 2002-04-12 | 2007-12-25 | Texas Instruments Incorporated | System for ultraviolet atmospheric seed layer remediation |
| EP1508385A1 (en) | 2003-08-21 | 2005-02-23 | Texas Instruments Incorporated | System for ultraviolet cleaning |
| JP2010089014A (ja) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Jpe:Kk | プラズマ洗浄装置 |
| US8232538B2 (en) | 2009-10-27 | 2012-07-31 | Lam Research Corporation | Method and apparatus of halogen removal using optimal ozone and UV exposure |
| CN104167381A (zh) * | 2014-07-11 | 2014-11-26 | 湖南红太阳光电科技有限公司 | 一种连续式真空紫外光臭氧表面清洗与氧化改性设备及其使用方法 |
| CN111359994A (zh) * | 2020-03-16 | 2020-07-03 | Tcl华星光电技术有限公司 | 清洗装置 |
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