JPH0663567A - 亜硝酸塩含有水溶液の亜硝酸塩含量を自動制御可能に減少させる方法 - Google Patents
亜硝酸塩含有水溶液の亜硝酸塩含量を自動制御可能に減少させる方法Info
- Publication number
- JPH0663567A JPH0663567A JP4220303A JP22030392A JPH0663567A JP H0663567 A JPH0663567 A JP H0663567A JP 4220303 A JP4220303 A JP 4220303A JP 22030392 A JP22030392 A JP 22030392A JP H0663567 A JPH0663567 A JP H0663567A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nitrite
- value
- redox potential
- hydrogen peroxide
- content
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 title claims abstract description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 title claims description 17
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 54
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 11
- 229940075397 calomel Drugs 0.000 claims description 7
- ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L dimercury dichloride Chemical compound Cl[Hg][Hg]Cl ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000005554 pickling Methods 0.000 claims description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 claims 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 7
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 nitrite ions Chemical class 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- HVBSAKJJOYLTQU-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzenesulfonic acid Chemical compound NC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 HVBSAKJJOYLTQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N anthranilic acid Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(O)=O RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 230000003113 alkalizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004737 colorimetric analysis Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000010405 reoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 229950000244 sulfanilic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/722—Oxidation by peroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/16—Acidic compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/02—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 付加的に、過酸化水素により酸化可能な他の
内容物質を変化する量で含有してもよい亜硝酸塩含有水
溶液の亜硝酸塩含量を自動制御可能に減少させる。 【構成】 過酸化水素を連続的にまたは分割して加え、
ｐＨ値３．５未満を有する亜硝酸塩含有水溶液を生成
し、かつ連続的に測定されるレドックス電位に依存して
添加を終了する方法において、過酸化水素の添加を最も
高いレドックス電位の範囲でなく、電位が６５０±１０
ｍＶの値に低下した直後に終了することにより、亜硝酸
塩含量をＮＯ2 -１ｍｇ／ｌ未満の値に自動制御可能に減
少させる。
内容物質を変化する量で含有してもよい亜硝酸塩含有水
溶液の亜硝酸塩含量を自動制御可能に減少させる。 【構成】 過酸化水素を連続的にまたは分割して加え、
ｐＨ値３．５未満を有する亜硝酸塩含有水溶液を生成
し、かつ連続的に測定されるレドックス電位に依存して
添加を終了する方法において、過酸化水素の添加を最も
高いレドックス電位の範囲でなく、電位が６５０±１０
ｍＶの値に低下した直後に終了することにより、亜硝酸
塩含量をＮＯ2 -１ｍｇ／ｌ未満の値に自動制御可能に減
少させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、過酸化水素の添加をレ
ドックス電位を介して制御する、過酸化水素を使用した
ｐＨ値３．５未満の溶液処理により、亜硝酸塩含有水溶
液、特に廃水および酸洗浄の酸の亜硝酸塩含量をＮＯ2 -
１ｍｇ／ｌ未満の値に自動制御可能に減少させる方法に
関する。該方法には、亜硝酸塩のほかに過酸化水素によ
り酸化処理可能な他の内容物質を含有する亜硝酸塩含有
水溶液の処理も含まれる。
ドックス電位を介して制御する、過酸化水素を使用した
ｐＨ値３．５未満の溶液処理により、亜硝酸塩含有水溶
液、特に廃水および酸洗浄の酸の亜硝酸塩含量をＮＯ2 -
１ｍｇ／ｌ未満の値に自動制御可能に減少させる方法に
関する。該方法には、亜硝酸塩のほかに過酸化水素によ
り酸化処理可能な他の内容物質を含有する亜硝酸塩含有
水溶液の処理も含まれる。
【０００２】
【従来の技術】弱酸のｐＨ領域内で過酸化水素を使用し
て亜硝酸イオンを酸化し、硝酸イオンを生成することに
より、亜硝酸イオンを含有する廃水を自動制御可能に浄
化する方法は、西独国特許第２８５２４７５号明細書か
ら公知である。該明細書においては、Ｈ2Ｏ2配量を制御
するために酸化中のｐＨ値の低下を利用する。該方法
は、静置法処理における浄化には適するが、しかしいわ
ゆる貫流法処理における、変化する含量の、Ｈ2Ｏ2で酸
化可能な種々の内容物質を有する多くの廃水流の処理に
は適さない。
て亜硝酸イオンを酸化し、硝酸イオンを生成することに
より、亜硝酸イオンを含有する廃水を自動制御可能に浄
化する方法は、西独国特許第２８５２４７５号明細書か
ら公知である。該明細書においては、Ｈ2Ｏ2配量を制御
するために酸化中のｐＨ値の低下を利用する。該方法
は、静置法処理における浄化には適するが、しかしいわ
ゆる貫流法処理における、変化する含量の、Ｈ2Ｏ2で酸
化可能な種々の内容物質を有する多くの廃水流の処理に
は適さない。
【０００３】欧州特許公開第０２６７１６６号明細書に
おいては、溶解したＮＯxを含有する硝酸溶液から過酸
化水素を使用した溶液処理によりＮＯxガスを減少する
方法が明示されており、この場合にレドックス電位に依
存した過酸化水素添加量の制御が行われる。該明細書の
第１図から、亜硝酸、Ｎ2Ｏ3、ＮＯおよびＮＯ2を含む
溶解したＮＯx含量に依存したレドックス電位の変化を
理解することができる。これによると、溶解したＮＯx
含量が減少するとともにレドックス電位が上昇し、完全
な酸化に到達し、従ってＮＯx含量は０となり、レドッ
クス電位は最高＋８５５ｍＶとなる。更にＨ2Ｏ2を添加
した場合は、Ｈ2Ｏ2を過剰に含有する溶液のレドックス
電位は＋６５０ｍＶに低下する。
おいては、溶解したＮＯxを含有する硝酸溶液から過酸
化水素を使用した溶液処理によりＮＯxガスを減少する
方法が明示されており、この場合にレドックス電位に依
存した過酸化水素添加量の制御が行われる。該明細書の
第１図から、亜硝酸、Ｎ2Ｏ3、ＮＯおよびＮＯ2を含む
溶解したＮＯx含量に依存したレドックス電位の変化を
理解することができる。これによると、溶解したＮＯx
含量が減少するとともにレドックス電位が上昇し、完全
な酸化に到達し、従ってＮＯx含量は０となり、レドッ
クス電位は最高＋８５５ｍＶとなる。更にＨ2Ｏ2を添加
した場合は、Ｈ2Ｏ2を過剰に含有する溶液のレドックス
電位は＋６５０ｍＶに低下する。
【０００４】欧州特許公開第０２６７１６６号明細書に
示された説明に反して、今や該明細書の方法により、過
酸化水素で処理した亜硝酸塩を含有する廃水が、酸濃度
に依存した＋８５０±３０ｍＶの範囲内のレドックス電
位の最高点で亜硝酸を含まず、従って、中和後亜硝酸塩
が廃水中に残留し、環境を悪化することが判明した。処
理すべき溶液中に亜硝酸イオンのほかに十分な鉄（Ｉ
Ｉ）イオンが存在しない場合は該方法は全く無効であ
る。この場合には開始電位はすでに＋８５０ｍＶであ
り、従って周知の制御後、全体にＨ2Ｏ2が配量されず、
それにより全く浄化されない。
示された説明に反して、今や該明細書の方法により、過
酸化水素で処理した亜硝酸塩を含有する廃水が、酸濃度
に依存した＋８５０±３０ｍＶの範囲内のレドックス電
位の最高点で亜硝酸を含まず、従って、中和後亜硝酸塩
が廃水中に残留し、環境を悪化することが判明した。処
理すべき溶液中に亜硝酸イオンのほかに十分な鉄（Ｉ
Ｉ）イオンが存在しない場合は該方法は全く無効であ
る。この場合には開始電位はすでに＋８５０ｍＶであ
り、従って周知の制御後、全体にＨ2Ｏ2が配量されず、
それにより全く浄化されない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、欧州
特許公開第０２６７１６６号明細書から公知の方法を、
一般的に亜硝酸塩含有水溶液を処理するために、付加的
に、変化する量の、Ｈ2Ｏ2により酸化可能な種々の内容
物質、たとえばより低い酸化段階のＦｅ2+および硫黄化
合物を含有する溶液もまた使用することができるように
改良することであった。この場合に、亜硝酸塩含量ＮＯ
2 -１ｍｇ／ｌ未満を確実に達成すべきである。
特許公開第０２６７１６６号明細書から公知の方法を、
一般的に亜硝酸塩含有水溶液を処理するために、付加的
に、変化する量の、Ｈ2Ｏ2により酸化可能な種々の内容
物質、たとえばより低い酸化段階のＦｅ2+および硫黄化
合物を含有する溶液もまた使用することができるように
改良することであった。この場合に、亜硝酸塩含量ＮＯ
2 -１ｍｇ／ｌ未満を確実に達成すべきである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題は、過酸化水素
を連続的にまたは分割して加え、ｐＨ値３．５未満を有
する亜硝酸塩含有水溶液を生成し、かつ連続的に測定さ
れるレドックス電位に依存して添加を終了することによ
り、付加的に、過酸化水素により酸化可能な他の内容物
質を変化する量で含有していてもよい亜硝酸塩含有水溶
液の亜硝酸塩含量をＮＯ2 -１ｍｇ／ｌ未満の値に自動制
御可能に減少させる方法において、過酸化水素の添加を
最も高いレドックス電位の範囲内でなく、６５０±１０
ｍＶの値に電位が低下した直後に終了することを特徴と
することにより解決される。
を連続的にまたは分割して加え、ｐＨ値３．５未満を有
する亜硝酸塩含有水溶液を生成し、かつ連続的に測定さ
れるレドックス電位に依存して添加を終了することによ
り、付加的に、過酸化水素により酸化可能な他の内容物
質を変化する量で含有していてもよい亜硝酸塩含有水溶
液の亜硝酸塩含量をＮＯ2 -１ｍｇ／ｌ未満の値に自動制
御可能に減少させる方法において、過酸化水素の添加を
最も高いレドックス電位の範囲内でなく、６５０±１０
ｍＶの値に電位が低下した直後に終了することを特徴と
することにより解決される。
【０００７】本発明の有利な構成は請求項２以下に記載
されている。
されている。
【０００８】欧州特許公開第０２６７１６６号明細書の
知識では、最も高いレドックス電位点で亜硝酸塩が硝酸
塩になお完全に酸化されるのでなく、過酸化水素を更に
添加することによりレドックス電位が＋６５０±１０ｍ
Ｖの値に低下した直後であることは予測できなかった。
従って、過酸化水素添加の終了点はいわゆる還元剤配量
の制御方向（＝レドックス電位の低下）とともに得られ
る。廃水の酸化処理を自動的に制御するために、レドッ
クス電位を一般的な測定装置を使用して連続的に測定
し、自動調整器を介して配量装置、一般的には配量ポン
プを制御する。比較的高い電位値から開始して、６５０
±１０ｍＶの目標値に達すると、Ｈ2Ｏ2添加を中止す
る。
知識では、最も高いレドックス電位点で亜硝酸塩が硝酸
塩になお完全に酸化されるのでなく、過酸化水素を更に
添加することによりレドックス電位が＋６５０±１０ｍ
Ｖの値に低下した直後であることは予測できなかった。
従って、過酸化水素添加の終了点はいわゆる還元剤配量
の制御方向（＝レドックス電位の低下）とともに得られ
る。廃水の酸化処理を自動的に制御するために、レドッ
クス電位を一般的な測定装置を使用して連続的に測定
し、自動調整器を介して配量装置、一般的には配量ポン
プを制御する。比較的高い電位値から開始して、６５０
±１０ｍＶの目標値に達すると、Ｈ2Ｏ2添加を中止す
る。
【０００９】過酸化水素を必要に応じて添加するための
配量装置を制御するために、任意の濃度、有利にはＨ2
Ｏ2３０〜７０重量％を有する水溶液としての過酸化水
素を添加するためには、Ｐ（＝比例）反応、ＰＩ（＝比
例−集積）反応またはＰＩＤ（＝比例−集積−デジタ
ル）反応を使用したレドックス調整器を使用することが
できる。ＳＰ制御装置（＝プログラム化可能な記憶制御
装置）の使用も可能である。
配量装置を制御するために、任意の濃度、有利にはＨ2
Ｏ2３０〜７０重量％を有する水溶液としての過酸化水
素を添加するためには、Ｐ（＝比例）反応、ＰＩ（＝比
例−集積）反応またはＰＩＤ（＝比例−集積−デジタ
ル）反応を使用したレドックス調整器を使用することが
できる。ＳＰ制御装置（＝プログラム化可能な記憶制御
装置）の使用も可能である。
【００１０】亜硝酸塩は直接硝酸塩に酸化されるのでは
なく、むしろｐＨ値３．５未満でのみ酸化され、該ｐＨ
値では亜硝酸イオンのかわりに亜硝酸が酸化窒素と平衡
で存在する。従って、浄化すべき溶液の亜硝酸塩含量に
はＨＮＯ2，Ｎ2Ｏ2，ＮＯおよびＮＯ2も含まれる。亜硝
酸塩含量の測定は、公知方法、たとえばスルファニル酸
およびアントラニル酸を用いた比色分析により行う。
なく、むしろｐＨ値３．５未満でのみ酸化され、該ｐＨ
値では亜硝酸イオンのかわりに亜硝酸が酸化窒素と平衡
で存在する。従って、浄化すべき溶液の亜硝酸塩含量に
はＨＮＯ2，Ｎ2Ｏ2，ＮＯおよびＮＯ2も含まれる。亜硝
酸塩含量の測定は、公知方法、たとえばスルファニル酸
およびアントラニル酸を用いた比色分析により行う。
【００１１】レドックス電位の測定は、酸性条件に対し
て不活性である測定電極、有利には貴金属電極、特に白
金電極を使用して行う。参照電極としては、たとえばカ
ロメル電極、塩化銀電極およびタラミド（Thalamid）電
極が適当であり、その際、カロメル電極が有利である。
て不活性である測定電極、有利には貴金属電極、特に白
金電極を使用して行う。参照電極としては、たとえばカ
ロメル電極、塩化銀電極およびタラミド（Thalamid）電
極が適当であり、その際、カロメル電極が有利である。
【００１２】すでに述べたように、亜硝酸塩含有水溶液
の酸化処理は、ｐＨ値３．５未満で行う。処理すべき溶
液が最初に３．５より多いｐＨ値を有する場合は、処理
する前に、たとえば無機酸を加えることにより、ｐＨ値
を３．５未満に調整する。たとえばステンレススチール
の酸洗浄に使用されるような、硝酸および弗化水素酸を
含有する酸性の洗浄溶液は、亜硝酸塩含量を減少させる
本発明による処理に直接導入することができる。
の酸化処理は、ｐＨ値３．５未満で行う。処理すべき溶
液が最初に３．５より多いｐＨ値を有する場合は、処理
する前に、たとえば無機酸を加えることにより、ｐＨ値
を３．５未満に調整する。たとえばステンレススチール
の酸洗浄に使用されるような、硝酸および弗化水素酸を
含有する酸性の洗浄溶液は、亜硝酸塩含量を減少させる
本発明による処理に直接導入することができる。
【００１３】有利な構成にもとづき、レドックス電位の
測定は、ほぼ一定のｐＨ値２．５±０．２で実施する。
そのような場合には、有利には亜硝酸塩含有水溶液を処
理するための反応器から連続的に少量の測定流を分けて
取り出し、該測定流内で酸または塩基を加えることによ
りｐＨ値を２．５±０．２に維持し、このｐＨ値でレド
ックス電位を測定し、一方反応器内もｐＨ値を３．５未
満に調整する。このやりかたで、亜硝酸塩を分離した溶
液を再中和するためのアルカリ溶液を節約することが可
能である。本発明にもとづく方法は、静置法処理におい
ても貫流法処理においても実施することができる。
測定は、ほぼ一定のｐＨ値２．５±０．２で実施する。
そのような場合には、有利には亜硝酸塩含有水溶液を処
理するための反応器から連続的に少量の測定流を分けて
取り出し、該測定流内で酸または塩基を加えることによ
りｐＨ値を２．５±０．２に維持し、このｐＨ値でレド
ックス電位を測定し、一方反応器内もｐＨ値を３．５未
満に調整する。このやりかたで、亜硝酸塩を分離した溶
液を再中和するためのアルカリ溶液を節約することが可
能である。本発明にもとづく方法は、静置法処理におい
ても貫流法処理においても実施することができる。
【００１４】処理すべき亜硝酸塩含有水溶液は、酸化窒
素と平衡の亜硝酸塩または亜硝酸のほかに、付加的に、
過酸化水素により酸化可能な他の内容物質、たとえば低
い酸化段階のＦｅ2+化合物または硫黄化合物を含有す
る、従って、この場合に過酸化水素の添加によりレドッ
クス電位がまず最も高い値＋８５０±３０ｍＶに上昇
し、この最高値を通り過ぎてレドックス電位が＋６５０
±１０ｍＶに低下した直後に亜硝酸塩がＮＯ2１ｍｇ／
ｌ未満の値に完全に減少することに注意することができ
る。本発明にもとづく方法の有利な構成によれば、前記
の特性化された溶液は２つの段階で過酸化水素で処理さ
れる。第１段階では、Ｈ2Ｏ2添加を電位が＋８５０±３
０ｍＶに達したところで、第２段階では、電位が＋６５
０±１０ｍＶに低下した後で終了する。従って、この２
段階の工程のＨ2Ｏ2配量の調整は、まず酸化剤配量の方
向に、その後還元剤配量の方向に行われる。
素と平衡の亜硝酸塩または亜硝酸のほかに、付加的に、
過酸化水素により酸化可能な他の内容物質、たとえば低
い酸化段階のＦｅ2+化合物または硫黄化合物を含有す
る、従って、この場合に過酸化水素の添加によりレドッ
クス電位がまず最も高い値＋８５０±３０ｍＶに上昇
し、この最高値を通り過ぎてレドックス電位が＋６５０
±１０ｍＶに低下した直後に亜硝酸塩がＮＯ2１ｍｇ／
ｌ未満の値に完全に減少することに注意することができ
る。本発明にもとづく方法の有利な構成によれば、前記
の特性化された溶液は２つの段階で過酸化水素で処理さ
れる。第１段階では、Ｈ2Ｏ2添加を電位が＋８５０±３
０ｍＶに達したところで、第２段階では、電位が＋６５
０±１０ｍＶに低下した後で終了する。従って、この２
段階の工程のＨ2Ｏ2配量の調整は、まず酸化剤配量の方
向に、その後還元剤配量の方向に行われる。
【００１５】本発明にもとづく方法の重要な利点は以下
のとおりである。
のとおりである。
【００１６】亜硝酸塩含量を確かな方法で１ｍｇ／ｌ未
満の値に減少させることができる。
満の値に減少させることができる。
【００１７】溶液を他の酸化可能な内容物質で処理する
こともできる。
こともできる。
【００１８】変化する組成の連続的な廃水流を処理する
ための制御が簡単である。
ための制御が簡単である。
【００１９】実際には過剰の過酸化水素は必要でない。
従って、高すぎる残留Ｈ2Ｏ2含量により引き起こされる
問題、たとえば亜硝酸塩を分離した溶液をアルカリ化し
た後のＣｒ3+からＣｒＯ4 -への再酸化またはＯ2を負荷
したＦｅ（ＯＨ）3（Ｈ2Ｏ2の分解からのＯ2）からなる
浮遊スラッジの形成が生じない。
従って、高すぎる残留Ｈ2Ｏ2含量により引き起こされる
問題、たとえば亜硝酸塩を分離した溶液をアルカリ化し
た後のＣｒ3+からＣｒＯ4 -への再酸化またはＯ2を負荷
したＦｅ（ＯＨ）3（Ｈ2Ｏ2の分解からのＯ2）からなる
浮遊スラッジの形成が生じない。
【００２０】酸洗浄の酸の処理においてＮＯx排出物を
完全に回避する。
完全に回避する。
【００２１】
【実施例】本発明を以下の実施例により詳細に説明す
る。
る。
【００２２】例１ ほかの内容物質とならんでＮＯ2 -２５００ｍｇ／ｌおよ
びＦｅ++８５０ｍｇ／ｌを含有する、ＨＮＯ3およびＨ
Ｆを含有する水溶液をベースとした、使用した酸洗浄の
酸４ｌをｐＨ値を変化しなかった。白金／カロメル電極
対を使用したレドックス電位の測定により、開始電位＋
７００ｍＶを測定した。ビューレットから５０重量％の
Ｈ2Ｏ2水溶液を緩慢に滴加した。この場合にレドックス
電位は＋８７０ｍＶに上昇し、次いで＋８４０ｍＶに低
下した。そのようにして処理した酸の試料をｐＨ６．５
に再び中和して亜硝酸塩を検査した。亜硝酸塩含量はＮ
Ｏ2 -４００ｍｇ／ｌであった。従って、最も高いレドッ
クス電位の範囲内では、亜硝酸塩浄化は不完全であっ
た。該酸にＨ2Ｏ2を、電位が＋８４０ｍＶから＋６５０
ｍＶに低下するまで長く滴加した。再び酸の試料をｐＨ
６．５に中和した。亜硝酸塩含量はＮＯ2 -１ｍｇ／ｌ未
満に減少した。Ｈ2Ｏ2過剰はＨ2Ｏ2１０ｍｇ／ｌであっ
た。
びＦｅ++８５０ｍｇ／ｌを含有する、ＨＮＯ3およびＨ
Ｆを含有する水溶液をベースとした、使用した酸洗浄の
酸４ｌをｐＨ値を変化しなかった。白金／カロメル電極
対を使用したレドックス電位の測定により、開始電位＋
７００ｍＶを測定した。ビューレットから５０重量％の
Ｈ2Ｏ2水溶液を緩慢に滴加した。この場合にレドックス
電位は＋８７０ｍＶに上昇し、次いで＋８４０ｍＶに低
下した。そのようにして処理した酸の試料をｐＨ６．５
に再び中和して亜硝酸塩を検査した。亜硝酸塩含量はＮ
Ｏ2 -４００ｍｇ／ｌであった。従って、最も高いレドッ
クス電位の範囲内では、亜硝酸塩浄化は不完全であっ
た。該酸にＨ2Ｏ2を、電位が＋８４０ｍＶから＋６５０
ｍＶに低下するまで長く滴加した。再び酸の試料をｐＨ
６．５に中和した。亜硝酸塩含量はＮＯ2 -１ｍｇ／ｌ未
満に減少した。Ｈ2Ｏ2過剰はＨ2Ｏ2１０ｍｇ／ｌであっ
た。
【００２３】例２ ＮＯ2 -２００〜８００ｍｇ／ｌを含有し、生成量２〜４
ｍ3／ｈの変化する廃水流をｐＨ値２．５に調整した。
白金／カロメル電極対を使用したレドックス電位の測定
により、自動調整器を介して配量ポンプを制御し、該ポ
ンプを使用してＨ2Ｏ2を、反応容器内でレドックス電位
が＋６５０±１０ｍＶに維持されるほどの量で、自動的
にかつ連続的に反応容器に配量した。亜硝酸塩含量は常
にＮＯ2 -１ｍｇ／ｌ未満であった。Ｈ2Ｏ2過剰はＨ2Ｏ2
最大２ｍｇ／ｌであった。
ｍ3／ｈの変化する廃水流をｐＨ値２．５に調整した。
白金／カロメル電極対を使用したレドックス電位の測定
により、自動調整器を介して配量ポンプを制御し、該ポ
ンプを使用してＨ2Ｏ2を、反応容器内でレドックス電位
が＋６５０±１０ｍＶに維持されるほどの量で、自動的
にかつ連続的に反応容器に配量した。亜硝酸塩含量は常
にＮＯ2 -１ｍｇ／ｌ未満であった。Ｈ2Ｏ2過剰はＨ2Ｏ2
最大２ｍｇ／ｌであった。
【００２４】例３ 亜硝酸塩含量ＮＯ2 -１５〜１７０ｍｇ／ｌおよび鉄含量
Ｆｅ++５〜２５ｍｇ／ｌ、およびｐＨ値２〜３を有す
る、生成量８０〜１５０ｍ3／ｈの変化する廃水流から
測定流１００ｌ／ｈを反応容器に供給して取り出し、該
測定流内でｐＨ値を２．５±０．２に調整した。
Ｆｅ++５〜２５ｍｇ／ｌ、およびｐＨ値２〜３を有す
る、生成量８０〜１５０ｍ3／ｈの変化する廃水流から
測定流１００ｌ／ｈを反応容器に供給して取り出し、該
測定流内でｐＨ値を２．５±０．２に調整した。
【００２５】前記の調整された測定流内での白金／カロ
メル電極対を使用したレドックス電位の測定により、自
動調整器を介して配量ポンプを制御し、該ポンプを使用
してレドックス電位を上昇させながら、５０重量％の過
酸化水素水溶液を、流れをさかのぼって測定流取り出し
位置から流入導管に、反応容器に供給するとレドックス
電位が８３０±２０ｍＶに維持されるほどの量で、自動
的かつ連続的に配量した。反応容器自体から第２の測定
流を連続的に取り出し、該測定流のＰＨ値を２．５±
０．２に調整した。白金／カロメル電極対を使用した、
この第２の、ＰＨを調整した測定流内のレドックス電位
の測定により、自動調整器を介して、反応容器に５０重
量％のＨ2Ｏ2溶液を配量するために第２の配量ポンプを
制御した。レドックス電位が低下して、Ｈ2Ｏ2を反応容
器に、該反応容器内でレドックス電位が＋６５０±１０
ｍＶに維持されるほどの量で配量した。反応容器からの
廃水中の亜硝酸塩含量は３か月の検査期間にわたり常に
ＮＯ2 -１ｍｇ／ｌ未満の値に減少させることができた。
廃水中のＨ2Ｏ2過剰はＨ2Ｏ2最大２ｍｇ／ｌであった。
メル電極対を使用したレドックス電位の測定により、自
動調整器を介して配量ポンプを制御し、該ポンプを使用
してレドックス電位を上昇させながら、５０重量％の過
酸化水素水溶液を、流れをさかのぼって測定流取り出し
位置から流入導管に、反応容器に供給するとレドックス
電位が８３０±２０ｍＶに維持されるほどの量で、自動
的かつ連続的に配量した。反応容器自体から第２の測定
流を連続的に取り出し、該測定流のＰＨ値を２．５±
０．２に調整した。白金／カロメル電極対を使用した、
この第２の、ＰＨを調整した測定流内のレドックス電位
の測定により、自動調整器を介して、反応容器に５０重
量％のＨ2Ｏ2溶液を配量するために第２の配量ポンプを
制御した。レドックス電位が低下して、Ｈ2Ｏ2を反応容
器に、該反応容器内でレドックス電位が＋６５０±１０
ｍＶに維持されるほどの量で配量した。反応容器からの
廃水中の亜硝酸塩含量は３か月の検査期間にわたり常に
ＮＯ2 -１ｍｇ／ｌ未満の値に減少させることができた。
廃水中のＨ2Ｏ2過剰はＨ2Ｏ2最大２ｍｇ／ｌであった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クラウス シュテュッツェル ドイツ連邦共和国 フランクフルト アム マイン 60 ノルトリング 74 (72)発明者 フリードヘルム ブランドナー ドイツ連邦共和国 ゲルンハウゼン ２ ラインハルトシュトラーセ ９ (72)発明者 マンフレート ディール ドイツ連邦共和国 フランクフルト アム マイン 60 ツォイレッカーシュトラー セ 40
Claims (6)
- 【請求項１】 過酸化水素を連続的にまたは分割して加
え、ｐＨ値３．５未満を有する亜硝酸塩含有水溶液を生
成し、かつ連続的に測定されるレドックス電位に依存し
て添加を終了することにより、付加的に、過酸化水素に
より酸化可能な他の内容物質を変化する量で含有しても
よい亜硝酸塩含有水溶液の亜硝酸塩含量をＮＯ2 -１ｍｇ
／ｌ未満の値に自動制御可能に減少させる方法におい
て、過酸化水素の添加を最も高いレドックス電位の範囲
内でなく、電位が６５０±１０ｍＶの値に減少した直後
に終了することを特徴とする亜硝酸塩含有水溶液の亜硝
酸塩含量を自動制御可能に減少させる方法。 - 【請求項２】 過酸化水素を２段階で配量し、その際、
第１段階でレドックス電位が８５０±３０ｍＶの値に上
昇後Ｈ2Ｏ2添加を終了し、第２段階でレドックス電位が
６５０±１０ｍＶに低下後Ｈ2Ｏ2添加を終了する請求項
１記載の方法。 - 【請求項３】 レドックス電位の測定をｐＨ値２．５±
０．２で実施する請求項１または２記載の方法。 - 【請求項４】 過酸化水素を使用して亜硝酸塩含有水溶
液を処理するための反応器から連続的に少量の測定流を
分けて取り出し、該測定流内でｐＨ値を２．５±０．２
に維持してレドックス電位を測定し、一方反応器内でｐ
Ｈ値を３．５未満に調整する請求項１から３までのいず
れか１項記載の方法。 - 【請求項５】 硝酸含有の酸洗浄の酸の亜硝酸塩含量を
ＮＯ2 -１ｍｇ／ｌ未満の値に減少させる請求項１から４
までのいずれか１項記載の方法。 - 【請求項６】 レドックス電位を測定するために貴金属
／カロメル電極対を使用する請求項１から５までのいず
れか１項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4127980.8 | 1991-08-23 | ||
| DE4127980A DE4127980A1 (de) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | Verfahren zum automatisch steuerbaren absenken des nitritgehalts nitrithaltiger waessriger loesungen auf werte unter 1 mg/l |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0663567A true JPH0663567A (ja) | 1994-03-08 |
Family
ID=6438948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4220303A Pending JPH0663567A (ja) | 1991-08-23 | 1992-08-19 | 亜硝酸塩含有水溶液の亜硝酸塩含量を自動制御可能に減少させる方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5306431A (ja) |
| EP (1) | EP0529332A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0663567A (ja) |
| AU (1) | AU649557B2 (ja) |
| DE (1) | DE4127980A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4344598A1 (de) * | 1993-12-24 | 1995-06-29 | Degussa | Verfahren zur Steuerung der Entgiftung cyanidischer Abwässer |
| EP0885985A1 (en) * | 1997-05-05 | 1998-12-23 | Akzo Nobel N.V. | Method of treating a metal |
| US5958147A (en) * | 1997-05-05 | 1999-09-28 | Akzo Nobel N.V. | Method of treating a metal |
| EP1284931A1 (en) * | 2000-03-28 | 2003-02-26 | Sck.Cen | Method and apparatus for reducing an electrolyte containing nitric acid |
| US9184463B2 (en) * | 2003-10-17 | 2015-11-10 | Leroy J. Ohlsen | Nitric acid regeneration fuel cell systems |
| US20050154391A1 (en) * | 2003-12-30 | 2005-07-14 | Thomas Doherty | Bone anchor assemblies |
| MD3567G2 (ro) * | 2007-09-20 | 2008-11-30 | Институт Химии Академии Наук Молдовы | Procedeu de purificare a apelor de nitriţi |
| MD3727G2 (ro) * | 2008-01-09 | 2009-05-31 | Институт Химии Академии Наук Молдовы | Procedeu continuu de purificare a apei de nitriţi |
| DE102009018129A1 (de) * | 2009-04-09 | 2010-10-14 | Wieland Dental + Technik Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Behandlung nitrithaltiger Abfallstoffe |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5520606A (en) * | 1978-07-29 | 1980-02-14 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Treating method for waste water |
| JPS5925635A (ja) * | 1982-08-01 | 1984-02-09 | 伊藤 進 | 農薬つきテ−プ |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2930442A1 (de) * | 1978-07-29 | 1980-02-07 | Furukawa Electric Co Ltd | Abwasserbehandlungsverfahren |
| DE2852475C2 (de) * | 1978-12-05 | 1980-05-22 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt | Verfahren zur automatisch steuerbaren Entgiftung von Nitritionen enthaltenden Abwässern |
| DE3125452C2 (de) * | 1981-06-29 | 1985-09-12 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zum Entgiften und zum Absenken des CSB und des BSB in kontinuierlichen Abwasserströmen mit wechselnden Gehalten verschiedener oxidierbarer Inhaltsstoffe mit Wasserstoffperoxid |
| EP0259533A1 (en) * | 1986-09-11 | 1988-03-16 | Eka Nobel Aktiebolag | Method of reducing the emission of nitrogen oxides from a liquid containing nitric acid |
| DE3814819A1 (de) * | 1988-05-02 | 1989-11-16 | Wieland Edelmetalle | Verfahren und vorrichtung zur behandlung nitrithaltiger abwaesser |
-
1991
- 1991-08-23 DE DE4127980A patent/DE4127980A1/de not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-07-29 EP EP92112902A patent/EP0529332A1/de not_active Withdrawn
- 1992-08-07 US US07/925,749 patent/US5306431A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-08-19 JP JP4220303A patent/JPH0663567A/ja active Pending
- 1992-08-21 AU AU21217/92A patent/AU649557B2/en not_active Ceased
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5520606A (en) * | 1978-07-29 | 1980-02-14 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Treating method for waste water |
| JPS5925635A (ja) * | 1982-08-01 | 1984-02-09 | 伊藤 進 | 農薬つきテ−プ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0529332A1 (de) | 1993-03-03 |
| US5306431A (en) | 1994-04-26 |
| DE4127980A1 (de) | 1993-02-25 |
| AU649557B2 (en) | 1994-05-26 |
| AU2121792A (en) | 1993-02-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Plisson-Saune et al. | Real-time control of nitrogen removal using three ORP bending-points: signification, control strategy and results | |
| US5498347A (en) | Reactor for the ozonization of water | |
| US4446031A (en) | Sewage treatment composition its manufacture and use | |
| GB2027004A (en) | Method of treating nitrate-containing waste water | |
| US4280914A (en) | Process for automatically controlling the detoxification of waste waters containing nitrite ions | |
| US4938838A (en) | Method of reducing the emission of NOx gas from a liquid containing nitric acid | |
| JPH0663567A (ja) | 亜硝酸塩含有水溶液の亜硝酸塩含量を自動制御可能に減少させる方法 | |
| AU2014206539B2 (en) | Process for treating effluents containing nitrogen in ammonium form, and equipment for implementing this process | |
| CA2034037C (en) | Redox-potential control | |
| JPH01189397A (ja) | 曝気槽空気量制御装置 | |
| JPS6274438A (ja) | 工業用ガス又は工業廃ガスの浄化法 | |
| JPH0691294A (ja) | 回分式活性汚泥処理の運転制御方法 | |
| JPS5913889B2 (ja) | 洗浄装置 | |
| JP3837765B2 (ja) | 硝酸濃度測定装置 | |
| JPH05220495A (ja) | 下水処理プロセスの制御方法 | |
| JPH04122498A (ja) | 活性汚泥処理装置 | |
| JP3256755B2 (ja) | 脱窒反応における供給廃水量の制御方法 | |
| JPH0362480B2 (ja) | ||
| JPH11253990A (ja) | 窒素含有排水の処理方法 | |
| JP4227784B2 (ja) | 硝酸含有酸洗い液からのＮＯｘガス発生抑制方法 | |
| JP3823357B2 (ja) | 硝化活性測定装置および硝化方法 | |
| JP3178770B2 (ja) | アンモニア態窒素含有廃水の処理装置 | |
| JP2899807B2 (ja) | 汚濁水の処理方法および処理装置 | |
| JPH06285493A (ja) | 固定床式脱窒方法 | |
| JP2014171990A (ja) | アンモニア体窒素含有水の硝化方法 |