JPH0666134A - 内燃機関の排気浄化装置 - Google Patents
内燃機関の排気浄化装置Info
- Publication number
- JPH0666134A JPH0666134A JP4215154A JP21515492A JPH0666134A JP H0666134 A JPH0666134 A JP H0666134A JP 4215154 A JP4215154 A JP 4215154A JP 21515492 A JP21515492 A JP 21515492A JP H0666134 A JPH0666134 A JP H0666134A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- air
- fuel ratio
- exhaust
- passage
- bypass passage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exhaust Gas After Treatment (AREA)
- Electrical Control Of Air Or Fuel Supplied To Internal-Combustion Engine (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】排気通路のバイパス通路に吸着装置を備えると
共に触媒装置の触媒活性化用の２次空気を導入するもの
で、吸着装置からの未燃成分の脱離時にも触媒装置入口
の空燃比を２次空気導入の影響を受けることなく正確に
検出する。 【構成】吸着装置４下流のバイパス通路３に酸素センサ
10を設けると共に、排気切換弁８下流の排気通路２に２
次空気を２次空気供給通路12を介して導入する。
共に触媒装置の触媒活性化用の２次空気を導入するもの
で、吸着装置からの未燃成分の脱離時にも触媒装置入口
の空燃比を２次空気導入の影響を受けることなく正確に
検出する。 【構成】吸着装置４下流のバイパス通路３に酸素センサ
10を設けると共に、排気切換弁８下流の排気通路２に２
次空気を２次空気供給通路12を介して導入する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、内燃機関の排気浄化装
置に関する。
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】内燃機関の排気浄化装置の従来例とし
て、特開昭63−６８７１３号公報に示すようなものがあ
る。すなわち、機関の排気通路にはバイパス通路が設け
られ、このバイパス通路にはＨＣ等の未燃成分を吸着す
る吸着装置が取付けられている。また、バイパス通路下
流端部の排気通路との合流部より下流の排気通路には三
元触媒が取付けられている。また、吸着装置下流のバイ
パス通路には三元触媒よりも反応開始温度が低い補助用
酸化触媒を設けると共に、酸化触媒と吸着装置との間の
バイパス通路に２次空気供給通路を接続するようにして
いる。
て、特開昭63−６８７１３号公報に示すようなものがあ
る。すなわち、機関の排気通路にはバイパス通路が設け
られ、このバイパス通路にはＨＣ等の未燃成分を吸着す
る吸着装置が取付けられている。また、バイパス通路下
流端部の排気通路との合流部より下流の排気通路には三
元触媒が取付けられている。また、吸着装置下流のバイ
パス通路には三元触媒よりも反応開始温度が低い補助用
酸化触媒を設けると共に、酸化触媒と吸着装置との間の
バイパス通路に２次空気供給通路を接続するようにして
いる。
【０００３】そして、三弦触媒が活性化する温度付近ま
では、排気をバイパス通路に排気を流通させると共に、
吸着装置から未燃成分が脱離する温度（例えば80°Ｃ）
以上のときにバイパス通路に２次空気を導入する。これ
により、吸着装置の脱離温度未満のときに未燃成分を吸
着装置にて吸着捕集すると共に、脱離温度以上のときに
補助酸化触媒にて脱離された未燃成分を酸化するように
している。そして、排気温度が触媒活性化温度以上にな
ると、排気は排気通路を流通させる。
では、排気をバイパス通路に排気を流通させると共に、
吸着装置から未燃成分が脱離する温度（例えば80°Ｃ）
以上のときにバイパス通路に２次空気を導入する。これ
により、吸着装置の脱離温度未満のときに未燃成分を吸
着装置にて吸着捕集すると共に、脱離温度以上のときに
補助酸化触媒にて脱離された未燃成分を酸化するように
している。そして、排気温度が触媒活性化温度以上にな
ると、排気は排気通路を流通させる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、機関空燃比
を制御するための酸素センサを吸着装置よりも上流側に
単に配設すると、吸着装置から脱離された未燃成分によ
り排気中の空燃比がリッチ化したことを検出できないの
で、三元触媒装置の触媒の転化効率が悪化するという不
具合がある。逆に、酸素センサを吸着装置の下流側に配
設すると、２次空気導入の影響により、空燃比を正確に
検出できず機関の空燃比を正確に制御できないという不
具合がある。
を制御するための酸素センサを吸着装置よりも上流側に
単に配設すると、吸着装置から脱離された未燃成分によ
り排気中の空燃比がリッチ化したことを検出できないの
で、三元触媒装置の触媒の転化効率が悪化するという不
具合がある。逆に、酸素センサを吸着装置の下流側に配
設すると、２次空気導入の影響により、空燃比を正確に
検出できず機関の空燃比を正確に制御できないという不
具合がある。
【０００５】本発明は、このような実状に鑑みてなされ
たもので、吸着装置からの脱離時にも２次空気の影響を
受けることなく空燃比を正確に検出できるようにするこ
とを目的とする。
たもので、吸着装置からの脱離時にも２次空気の影響を
受けることなく空燃比を正確に検出できるようにするこ
とを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】このため、本発明は、機
関の排気通路から分岐されると共に下流端部が前記排気
通路に合流されて形成されるバイパス通路と、該バイパ
ス通路に設けられ排気中の未燃成分を吸着する吸着装置
と、前記バイパス通路下流端部の合流部より下流側の排
気通路に設けられる触媒装置と、前記バイパス通路と排
気通路とに排気を選択的に流通させる排気切換弁と、前
記吸気装置下流のバイパス通路に少なくとも設けられ空
燃比を検出する空燃比検出手段と、前記バイパス通路上
流端部の分岐部より下流でかつ前記触媒装置上流の排気
通路に２次空気を供給する２次空気供給装置と、前記空
燃比検出手段の検出空燃比に基づいて少なくとも機関冷
間運転時に機関空燃比を目標空燃比になるようにフィー
ドバック制御する空燃比フィードバック制御手段と、を
備えるようにした。
関の排気通路から分岐されると共に下流端部が前記排気
通路に合流されて形成されるバイパス通路と、該バイパ
ス通路に設けられ排気中の未燃成分を吸着する吸着装置
と、前記バイパス通路下流端部の合流部より下流側の排
気通路に設けられる触媒装置と、前記バイパス通路と排
気通路とに排気を選択的に流通させる排気切換弁と、前
記吸気装置下流のバイパス通路に少なくとも設けられ空
燃比を検出する空燃比検出手段と、前記バイパス通路上
流端部の分岐部より下流でかつ前記触媒装置上流の排気
通路に２次空気を供給する２次空気供給装置と、前記空
燃比検出手段の検出空燃比に基づいて少なくとも機関冷
間運転時に機関空燃比を目標空燃比になるようにフィー
ドバック制御する空燃比フィードバック制御手段と、を
備えるようにした。
【０００７】
【作用】そして、吸着装置下流のバイパス通路に空燃比
検出手段を設けることにより、吸着装置から未燃成分が
脱離するときにその脱離によるリッチ化時の空燃比を正
確に検出して空燃比を制御し触媒の転化効率を最適に維
持できるようにした。また、２次空気を排気通路に導入
することにより、空燃比検出手段が２次空気導入の影響
を受けることなく空燃比を検出できるようにした。
検出手段を設けることにより、吸着装置から未燃成分が
脱離するときにその脱離によるリッチ化時の空燃比を正
確に検出して空燃比を制御し触媒の転化効率を最適に維
持できるようにした。また、２次空気を排気通路に導入
することにより、空燃比検出手段が２次空気導入の影響
を受けることなく空燃比を検出できるようにした。
【０００８】
【実施例】以下に、本発明の実施例を図面に基づいて説
明する。図１〜図３は本発明の第１実施例を示す。図１
において、機関１の排気通路２から分岐されると共に下
流端部が排気通路２に再度合流するバイパス通路３が形
成され、このバイパス通路３には吸着装置４が取付けら
れている。前記バイパス通路３下流端部の合流部より下
流の排気通路２には触媒温度を検出する触媒温度センサ
６が取付けられている。また、吸着装置４の吸着剤温度
を検出する吸着剤温度センサ７が設けられている。
明する。図１〜図３は本発明の第１実施例を示す。図１
において、機関１の排気通路２から分岐されると共に下
流端部が排気通路２に再度合流するバイパス通路３が形
成され、このバイパス通路３には吸着装置４が取付けら
れている。前記バイパス通路３下流端部の合流部より下
流の排気通路２には触媒温度を検出する触媒温度センサ
６が取付けられている。また、吸着装置４の吸着剤温度
を検出する吸着剤温度センサ７が設けられている。
【０００９】前記バイパス通路３の上流端部には排気切
換弁７が設けられ、排気切換弁８上流の排気通路２には
第１酸素センサ９が設けられている。また、吸着装置４
下流のバイパス通路３には空燃比検出手段としての第２
酸素センサ10が設けられている。第１及び第２酸素セン
サ９，10，触媒温度センサ６，吸着剤温度センサ７の検
出信号は制御装置11に入力されている。また、制御装置
11には機関回転速度，スロットル弁開度，冷却水温度等
の検出信号が入力されている。
換弁７が設けられ、排気切換弁８上流の排気通路２には
第１酸素センサ９が設けられている。また、吸着装置４
下流のバイパス通路３には空燃比検出手段としての第２
酸素センサ10が設けられている。第１及び第２酸素セン
サ９，10，触媒温度センサ６，吸着剤温度センサ７の検
出信号は制御装置11に入力されている。また、制御装置
11には機関回転速度，スロットル弁開度，冷却水温度等
の検出信号が入力されている。
【００１０】また、前記排気切換弁８下流の排気通路２
には２次空気供給通路12が連通接続され、２次空気供給
通路12には電磁弁13が設けられている。前記電磁弁13及
び排気切換弁８は制御装置11により駆動制御される。こ
こでは、制御装置11が空気フィードバック制御手段を構
成する。また、２次空気供給通路12と電磁弁13と電動エ
アポンプ（図示せず）とが２次空気供給装置を構成す
る。
には２次空気供給通路12が連通接続され、２次空気供給
通路12には電磁弁13が設けられている。前記電磁弁13及
び排気切換弁８は制御装置11により駆動制御される。こ
こでは、制御装置11が空気フィードバック制御手段を構
成する。また、２次空気供給通路12と電磁弁13と電動エ
アポンプ（図示せず）とが２次空気供給装置を構成す
る。
【００１１】次に、作用を図２のフローチャートに従っ
て説明する。Ｓ１では、吸着剤温度センサ７により検出
された吸着剤温度が吸着剤の耐熱温度（例えば 500°Ｃ
前後）以下か否かを判定し、ＹＥＳのときにはＳ２に進
みＮＯのときにはＳ３に進む。Ｓ２では、未燃成分の吸
着若しくは脱離を行わせるべく排気切換弁８を駆動して
バイパス通路３を開路し排気をバイパス通路３に導入さ
せ、Ｓ４に進む。
て説明する。Ｓ１では、吸着剤温度センサ７により検出
された吸着剤温度が吸着剤の耐熱温度（例えば 500°Ｃ
前後）以下か否かを判定し、ＹＥＳのときにはＳ２に進
みＮＯのときにはＳ３に進む。Ｓ２では、未燃成分の吸
着若しくは脱離を行わせるべく排気切換弁８を駆動して
バイパス通路３を開路し排気をバイパス通路３に導入さ
せ、Ｓ４に進む。
【００１２】一方、吸着剤温度が耐熱温度を超えている
ときにはＳ３において排気導入を停止させるべく切換弁
８を駆動してバイパス通路３を閉路し排気を排気通路２
に流通させる。Ｓ４では、冷却水温度が低温用設定温度
（例えば０°Ｃ）以下か否かを判定し、ＹＥＳのときに
はＳ５に進みＮＯのときにはＳ７に進む。
ときにはＳ３において排気導入を停止させるべく切換弁
８を駆動してバイパス通路３を閉路し排気を排気通路２
に流通させる。Ｓ４では、冷却水温度が低温用設定温度
（例えば０°Ｃ）以下か否かを判定し、ＹＥＳのときに
はＳ５に進みＮＯのときにはＳ７に進む。
【００１３】Ｓ５では、触媒装置５の冷却を防止すべく
電磁弁13を閉弁し、排気通路２への２次空気の供給を停
止させる。Ｓ６では、後述の空燃比フィードバック補正
係数αを１にクランプして燃料噴射量を機関回転速度，
吸入空気量，冷却水温度等により後述の(1)式により演
算し空燃比を目標空燃比（理論空燃比）にクランプすべ
くフィードフォワード制御する。
電磁弁13を閉弁し、排気通路２への２次空気の供給を停
止させる。Ｓ６では、後述の空燃比フィードバック補正
係数αを１にクランプして燃料噴射量を機関回転速度，
吸入空気量，冷却水温度等により後述の(1)式により演
算し空燃比を目標空燃比（理論空燃比）にクランプすべ
くフィードフォワード制御する。
【００１４】Ｓ７では、冷却水温度が２次空気遮断温度
（例えば30°Ｃ）以下か否かを判定し、ＹＥＳのときに
は機関冷間運転時と判断しＳ８に進みＮＯのときにはＳ
10に進む。Ｓ８では、触媒装置５の触媒を早期に活性化
させるべく電磁弁13を開弁し２次空気を排気通路２に導
入する。
（例えば30°Ｃ）以下か否かを判定し、ＹＥＳのときに
は機関冷間運転時と判断しＳ８に進みＮＯのときにはＳ
10に進む。Ｓ８では、触媒装置５の触媒を早期に活性化
させるべく電磁弁13を開弁し２次空気を排気通路２に導
入する。
【００１５】Ｓ９では、吸着装置４下流の第２酸素セン
サ10により検出された空燃比に基づいて次の(1)式の空
燃比フィードバック補正係数αを変化させる空燃比を目
標空燃比になるようにフィードバック制御する。具体的
には、機関回転速度Ｎと吸入空気量Ｑとから算出される
基本噴射量Ｔpを次の(1)式に代入して燃料噴射量Ｔi を
算出し、燃料噴射弁を介してその燃料量を機関１に供給
する。
サ10により検出された空燃比に基づいて次の(1)式の空
燃比フィードバック補正係数αを変化させる空燃比を目
標空燃比になるようにフィードバック制御する。具体的
には、機関回転速度Ｎと吸入空気量Ｑとから算出される
基本噴射量Ｔpを次の(1)式に代入して燃料噴射量Ｔi を
算出し、燃料噴射弁を介してその燃料量を機関１に供給
する。
【００１６】Ｔi ＝Ｔp ×ＣＯＥＦ×α＋ＴＳ (1) ＴＳはバッテリ電圧の補正分、ＣＯＥＦは各種補正係数
であり以下の如く表される。 ＣＯＥＦ＝１＋混合比補正係数＋水温増量補正係数＋始
動及び始動後増量補正係数＋アイドル後増量補正係数＋
加速減量補正係数＋高水温増量補正係数＋２次空気導入
補正係数 ここで２次空気導入補正係数は、図３に示すように、吸
入空気量が高くなるに従って小さくなるように設定され
ている。かかる設定の理由は、２次空気を第１及び第２
酸素センサ９，10に影響を与えない部位に導入している
ので、酸素センサ９，10にて空燃比を目標空燃比にフィ
ードバックしていても２次空気導入時は触媒装置５に対
する空燃比は目標空燃比からずれて触媒入口ではリーン
化の傾向を示すためである。そして、２次空気は電動エ
アポンプにより機関回転速度の大小に拘わらず略一定量
供給されるので、触媒入口の空燃比への２次空気の影響
は排気流量（つまり吸入空気量）が多くなるほど小さく
なる。従って、２次空気導入時は吸入空気量に応じて２
次空気導入補正を行い、酸素センサ９，10部の空燃比を
リッチ側にシフトさせ、２次空気供給停止時は補正係数
を零にセットする。
であり以下の如く表される。 ＣＯＥＦ＝１＋混合比補正係数＋水温増量補正係数＋始
動及び始動後増量補正係数＋アイドル後増量補正係数＋
加速減量補正係数＋高水温増量補正係数＋２次空気導入
補正係数 ここで２次空気導入補正係数は、図３に示すように、吸
入空気量が高くなるに従って小さくなるように設定され
ている。かかる設定の理由は、２次空気を第１及び第２
酸素センサ９，10に影響を与えない部位に導入している
ので、酸素センサ９，10にて空燃比を目標空燃比にフィ
ードバックしていても２次空気導入時は触媒装置５に対
する空燃比は目標空燃比からずれて触媒入口ではリーン
化の傾向を示すためである。そして、２次空気は電動エ
アポンプにより機関回転速度の大小に拘わらず略一定量
供給されるので、触媒入口の空燃比への２次空気の影響
は排気流量（つまり吸入空気量）が多くなるほど小さく
なる。従って、２次空気導入時は吸入空気量に応じて２
次空気導入補正を行い、酸素センサ９，10部の空燃比を
リッチ側にシフトさせ、２次空気供給停止時は補正係数
を零にセットする。
【００１７】Ｓ10では電磁弁13を閉弁し、２次空気供給
を停止させ、Ｓ11に進む。Ｓ11では、第２酸素センサ10
の検出信号に基づいて、前記Ｓ９と同様に、空燃比をフ
ィードバック制御する。一方、Ｓ３において排気を排気
通路２に流通させたときには、Ｓ12において冷却水温度
が前記低温用設定温度以下か否かを判定し、ＹＥＳのと
きには触媒装置５の冷却を防止すべく前記Ｓ５に進みＮ
ＯのときにはＳ13に進む。
を停止させ、Ｓ11に進む。Ｓ11では、第２酸素センサ10
の検出信号に基づいて、前記Ｓ９と同様に、空燃比をフ
ィードバック制御する。一方、Ｓ３において排気を排気
通路２に流通させたときには、Ｓ12において冷却水温度
が前記低温用設定温度以下か否かを判定し、ＹＥＳのと
きには触媒装置５の冷却を防止すべく前記Ｓ５に進みＮ
ＯのときにはＳ13に進む。
【００１８】Ｓ13では、冷却水温度が前記２次空気遮断
温度以下か否かを判定し、ＹＥＳのときには機関冷間運
転時と判断し触媒装置５を早期に活性化すべくＳ14に進
みＮＯのときにはＳ16に進む。Ｓ14では、電磁弁13を開
弁し２次空気を排気通路２に導入した後Ｓ15に進む。Ｓ
15では、排気切換弁８上流の排気通路２に設けられた第
１酸素センサ９の検出信号に基づいて、前記Ｓ９及びＳ
11と同様に、空燃比をフィードバック制御する。
温度以下か否かを判定し、ＹＥＳのときには機関冷間運
転時と判断し触媒装置５を早期に活性化すべくＳ14に進
みＮＯのときにはＳ16に進む。Ｓ14では、電磁弁13を開
弁し２次空気を排気通路２に導入した後Ｓ15に進む。Ｓ
15では、排気切換弁８上流の排気通路２に設けられた第
１酸素センサ９の検出信号に基づいて、前記Ｓ９及びＳ
11と同様に、空燃比をフィードバック制御する。
【００１９】一方、Ｓ13において冷却水温度が２次空気
遮断温度を超えていると判断されたときには、Ｓ16にお
いて電磁弁13を閉弁し排気通路２への２次空気供給を停
止させＳ17に進む。Ｓ17では、前記Ｓ15と同様に、排気
通路２に設けられた第１酸素センサ９の検出信号に基づ
いて空燃比をフィードバック制御する。
遮断温度を超えていると判断されたときには、Ｓ16にお
いて電磁弁13を閉弁し排気通路２への２次空気供給を停
止させＳ17に進む。Ｓ17では、前記Ｓ15と同様に、排気
通路２に設けられた第１酸素センサ９の検出信号に基づ
いて空燃比をフィードバック制御する。
【００２０】以上説明したように、吸着剤温度が耐熱温
度以下のときに排気をバイパス通路３に流通させ吸着装
置４により未燃成分の吸着・脱離を行わせると共に、冷
却水温度が低温用設定温度を超えているときに吸着装置
４下流の第２酸素センサ10の検出信号に基づいて空燃比
のフィードバック制御（Ｓ９，Ｓ11）を行うようにした
ので、吸着装置４から未燃成分が脱離してもその脱離時
の空燃比を第２酸素センサ10により検出できる。このた
め、触媒装置５に導入される空燃比を目標空燃比に高精
度に保持できるので、触媒装置５の転化効率を最適に維
持でき排気を良好に浄化できる。また、冷却水温度が２
次空気遮断温度以下のときに触媒の活性化を早めるため
に２次空気を触媒装置５に供給するが、この２次空気を
排気切換弁８下流の排気通路２に導入するようにしたの
で、２次空気は第２酸素センサ10の取付部に導入される
ことがなく第２酸素センサ10は２次空気導入の影響を受
けることなく空燃比を正確に検出できる。
度以下のときに排気をバイパス通路３に流通させ吸着装
置４により未燃成分の吸着・脱離を行わせると共に、冷
却水温度が低温用設定温度を超えているときに吸着装置
４下流の第２酸素センサ10の検出信号に基づいて空燃比
のフィードバック制御（Ｓ９，Ｓ11）を行うようにした
ので、吸着装置４から未燃成分が脱離してもその脱離時
の空燃比を第２酸素センサ10により検出できる。このた
め、触媒装置５に導入される空燃比を目標空燃比に高精
度に保持できるので、触媒装置５の転化効率を最適に維
持でき排気を良好に浄化できる。また、冷却水温度が２
次空気遮断温度以下のときに触媒の活性化を早めるため
に２次空気を触媒装置５に供給するが、この２次空気を
排気切換弁８下流の排気通路２に導入するようにしたの
で、２次空気は第２酸素センサ10の取付部に導入される
ことがなく第２酸素センサ10は２次空気導入の影響を受
けることなく空燃比を正確に検出できる。
【００２１】図４及び図５は本発明の第２実施例を示
す。尚、第１実施例と同一要素及び同一ステップには図
１及び図２と同一符号及び同一ステップ数を付して説明
を省略する。図４において、排気切換弁８上流の排気通
路２とバイパス通路３とが小流路断面積の連通路21によ
り連通接続されている。また、前記第１実施例において
排気通路２に設けられていた第１酸素センサを設けるこ
となく、吸着装置４下流のバイパス通路３にのみ第２酸
素センサ10が設けられている。
す。尚、第１実施例と同一要素及び同一ステップには図
１及び図２と同一符号及び同一ステップ数を付して説明
を省略する。図４において、排気切換弁８上流の排気通
路２とバイパス通路３とが小流路断面積の連通路21によ
り連通接続されている。また、前記第１実施例において
排気通路２に設けられていた第１酸素センサを設けるこ
となく、吸着装置４下流のバイパス通路３にのみ第２酸
素センサ10が設けられている。
【００２２】そして、図５のフローチャートに示すＳ21
及びＳ22において、Ｓ９及びＳ11と同様に、第２酸素セ
ンサ10の検出信号に基づいて空燃比をフィードバック制
御する。かかる構成においても、前記第１実施例と同様
な効果を奏する他、排気切換弁８によりバイパス通路３
が閉路されていても、少量の排気（バイパス通路３部の
熱容量が大きく吸着剤温度は上昇しない）が連通路21を
介してバイパス通路３に常時流入するので、吸着装置４
のパージ作用が常に行われることになり暖機中、暖機後
にも脱離を促進できると共に、酸素センサを１個でフィ
ードバック制御が可能となりコスト的にもメリットが大
きくなる。
及びＳ22において、Ｓ９及びＳ11と同様に、第２酸素セ
ンサ10の検出信号に基づいて空燃比をフィードバック制
御する。かかる構成においても、前記第１実施例と同様
な効果を奏する他、排気切換弁８によりバイパス通路３
が閉路されていても、少量の排気（バイパス通路３部の
熱容量が大きく吸着剤温度は上昇しない）が連通路21を
介してバイパス通路３に常時流入するので、吸着装置４
のパージ作用が常に行われることになり暖機中、暖機後
にも脱離を促進できると共に、酸素センサを１個でフィ
ードバック制御が可能となりコスト的にもメリットが大
きくなる。
【００２３】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように、排気通
路のバイパス通路に設けられた吸着装置下流に空燃比検
出手段を設けると共に、排気通路に２次空気を導入する
ようにしたので、吸着装置から未燃成分が脱離しても触
媒装置に導入される排気の空気を２次空気導入の影響を
受けることなく正確に検出して空燃比をフィードバック
制御でき、触媒装置の転化効率を最適に維持でき、もっ
て排気を良好に浄化できる。
路のバイパス通路に設けられた吸着装置下流に空燃比検
出手段を設けると共に、排気通路に２次空気を導入する
ようにしたので、吸着装置から未燃成分が脱離しても触
媒装置に導入される排気の空気を２次空気導入の影響を
受けることなく正確に検出して空燃比をフィードバック
制御でき、触媒装置の転化効率を最適に維持でき、もっ
て排気を良好に浄化できる。
【図１】本発明の第１実施例を示す構成図
【図２】同上のフローチャート
【図３】同上の作用を説明するための図
【図４】本発明の第２実施例を示す構成図
【図５】同上のフローチャート
２ 排気通路 ３ バイパス通路 ４ 吸着装置 ５ 触媒装置 ８ 排気切換弁 ９ 第１酸素センサ 10 第２酸素センサ 11 制御装置 12 ２次空燃比供給通路 13 電磁弁
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｆ０２Ｄ 41/06 ３０５ 8011−3Ｇ 41/14 ３１０ Ｂ 8011−3Ｇ
Claims (1)
- 【請求項１】機関の排気通路から分岐されると共に下流
端部が前記排気通路に合流されて形成されるバイパス通
路と、該バイパス通路に設けられ排気中の未燃成分を吸
着する吸着装置と、前記バイパス通路下流端部の合流部
より下流側の排気通路に設けられる触媒装置と、前記バ
イパス通路と排気通路とに排気を選択的に流通させる排
気切換弁と、前記吸気装置下流のバイパス通路に少なく
とも設けられ空燃比を検出する空燃比検出手段と、前記
バイパス通路上流端部の分岐部より下流でかつ前記触媒
装置上流の排気通路に２次空気を供給する２次空気供給
装置と、前記空燃比検出手段の検出空燃比に基づいて少
なくとも機関冷間運転時に機関空燃比を目標空燃比にな
るようにフィードバック制御する空燃比フィードバック
制御手段と、を備えたことを特徴とする内燃機関の排気
浄化装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4215154A JPH0666134A (ja) | 1992-08-12 | 1992-08-12 | 内燃機関の排気浄化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4215154A JPH0666134A (ja) | 1992-08-12 | 1992-08-12 | 内燃機関の排気浄化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0666134A true JPH0666134A (ja) | 1994-03-08 |
Family
ID=16667564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4215154A Pending JPH0666134A (ja) | 1992-08-12 | 1992-08-12 | 内燃機関の排気浄化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0666134A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6029441A (en) * | 1996-12-09 | 2000-02-29 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for exhaust gas purification and system for exhaust gas purification used therein |
-
1992
- 1992-08-12 JP JP4215154A patent/JPH0666134A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6029441A (en) * | 1996-12-09 | 2000-02-29 | Ngk Insulators, Ltd. | Method for exhaust gas purification and system for exhaust gas purification used therein |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5315824A (en) | Cold HC adsorption and removal apparatus for an internal combustion engine | |
| JPH09324621A (ja) | 内燃機関の排気浄化方法及び装置 | |
| JP3154110B2 (ja) | エンジンの排気制御装置 | |
| JPH10121949A (ja) | エンジンの排気ガス浄化装置 | |
| JP2982440B2 (ja) | 内燃機関の排気浄化装置 | |
| JP2000110553A (ja) | 内燃機関の排気浄化装置 | |
| JPH0693845A (ja) | エンジンの排気浄化装置 | |
| JP3062710B2 (ja) | 触媒の劣化検出装置 | |
| JPH0666134A (ja) | 内燃機関の排気浄化装置 | |
| JP2850657B2 (ja) | 内燃機関の排気浄化装置 | |
| JP3345942B2 (ja) | エンジンの排気ガス浄化装置 | |
| JP3128873B2 (ja) | 内燃機関の排気浄化装置 | |
| JP2806170B2 (ja) | 内燃機関の排気浄化装置 | |
| JP2800579B2 (ja) | 内燃機関の排気浄化装置 | |
| JPH0726947A (ja) | エンジンの排気ガス浄化装置 | |
| JPH0674021A (ja) | 内燃機関の排気浄化装置 | |
| JP4233144B2 (ja) | ターボチャージャ付エンジンの排気ガス浄化装置、及びその制御方法 | |
| JP2800581B2 (ja) | 内燃機関の排気浄化装置 | |
| JPH05312031A (ja) | エンジンの排気制御装置 | |
| JP2008309013A (ja) | 内燃機関の排気浄化装置 | |
| JPH07103021A (ja) | 車両用排気ガス浄化装置 | |
| JPH06200750A (ja) | 内燃機関の排気浄化装置 | |
| JPH0666133A (ja) | 内燃機関の排気浄化装置 | |
| JPH0742538A (ja) | 車両用排気ガス浄化装置 | |
| JP3613673B2 (ja) | 内燃機関の排気通路切換装置 |