JPH0667775B2 - 結晶化ガラスおよびその製造方法 - Google Patents
結晶化ガラスおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0667775B2 JPH0667775B2 JP29876287A JP29876287A JPH0667775B2 JP H0667775 B2 JPH0667775 B2 JP H0667775B2 JP 29876287 A JP29876287 A JP 29876287A JP 29876287 A JP29876287 A JP 29876287A JP H0667775 B2 JPH0667775 B2 JP H0667775B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- crystallized glass
- temperature
- thermal expansion
- zro
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 83
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 18
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 9
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 9
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 claims 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 claims 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 5
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021493 α-cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021489 α-quartz Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017944 Ag—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000011112 process operation Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、各種電気機器分野、例えば、磁気ヘッド分野
等に用いられる基板材等に適した熱膨張係数と改善され
た熱膨張曲線とを有する結晶化ガラスおよびその製造方
法に関する。
等に用いられる基板材等に適した熱膨張係数と改善され
た熱膨張曲線とを有する結晶化ガラスおよびその製造方
法に関する。
[従来の技術] 磁気ヘッドは、オーディオ機器、VTRおよびコンピュ
ータ等において、情報の記録、再生、消去機能を担う重
要な部品であり、近年需要が増大している。特に、これ
らの機器の小型化、情報の高密度化の要望が高まる中
で、IC等の薄膜技術を応用した薄膜磁気ヘッドの開発
が、急速に進んできている。
ータ等において、情報の記録、再生、消去機能を担う重
要な部品であり、近年需要が増大している。特に、これ
らの機器の小型化、情報の高密度化の要望が高まる中
で、IC等の薄膜技術を応用した薄膜磁気ヘッドの開発
が、急速に進んできている。
この薄膜磁気ヘッドは、基板上に磁性材料を薄膜形成し
たもので、Ni−Znフェライト、Mn−Znフェライ
ト、パーマロイ(Fe−Ni)、センダスト(Fe−A
l−Si)およびそれらの非晶質物等の薄膜が、情報の
記録、再生、消去機能を担い、基板は磁性材料の支持と
共に摺動機能等を担うため、基板自体にも、種々の特性
が要望される。すなわち、(1)磁性材料との接着性を
良好にするため、磁性材の種類に応じ、約70〜180
×10-7/℃の範囲の熱膨張係数を選び得ること、
(2)磁性材料の薄膜形成作業等が高温で行なわれるた
め、600℃以上の耐熱性を有すること、(3)磁気テ
ープやディスクとの摺動により片ヘリを生じないように
前記磁性材料とほぼ同等の硬度、すなわち、ビッカース
硬度で約600〜1150kgf/mm2の範囲を有するこ
と、(4)組織が緻密で均質、微細であること、(5)
品質が一定で生産性に優れていること等が一般に必要と
されている。
たもので、Ni−Znフェライト、Mn−Znフェライ
ト、パーマロイ(Fe−Ni)、センダスト(Fe−A
l−Si)およびそれらの非晶質物等の薄膜が、情報の
記録、再生、消去機能を担い、基板は磁性材料の支持と
共に摺動機能等を担うため、基板自体にも、種々の特性
が要望される。すなわち、(1)磁性材料との接着性を
良好にするため、磁性材の種類に応じ、約70〜180
×10-7/℃の範囲の熱膨張係数を選び得ること、
(2)磁性材料の薄膜形成作業等が高温で行なわれるた
め、600℃以上の耐熱性を有すること、(3)磁気テ
ープやディスクとの摺動により片ヘリを生じないように
前記磁性材料とほぼ同等の硬度、すなわち、ビッカース
硬度で約600〜1150kgf/mm2の範囲を有するこ
と、(4)組織が緻密で均質、微細であること、(5)
品質が一定で生産性に優れていること等が一般に必要と
されている。
また、その他の各種電気機器の製造分野においても、基
板上に、結晶質または非結晶質の金属、合金および金属
酸化物などを接着あるいは薄膜形成した部品が、種々利
用されており、これらの基板には、上記の各種材料に応
じて、さらに40〜220×10-7/℃に及ぶ広い範囲
の熱膨張係数が要求されている。
板上に、結晶質または非結晶質の金属、合金および金属
酸化物などを接着あるいは薄膜形成した部品が、種々利
用されており、これらの基板には、上記の各種材料に応
じて、さらに40〜220×10-7/℃に及ぶ広い範囲
の熱膨張係数が要求されている。
これらの基板用材料としては、粉体焼結法によるセラミ
ックスや、溶融法による結晶化ガラスが候補とされてい
る。しかし、焼結セラミックスは、粉体の粒度調整等工
程操作が複雑であり高価となるうえ、気孔の全くない緻
密なものを得るのは困難である。
ックスや、溶融法による結晶化ガラスが候補とされてい
る。しかし、焼結セラミックスは、粉体の粒度調整等工
程操作が複雑であり高価となるうえ、気孔の全くない緻
密なものを得るのは困難である。
これに比べて、結晶化ガラスは緻密なものを容易に得ら
れる利点があり、前記要望事項に適うとするものが種々
知られている。例えば、特開昭49−125419号公
報には、SiO2−Li2O−TiO2系ガラスから得
られる高硬度、高膨張の結晶化ガラスが開示されてい
る。また、特開昭60−180934号公報には、Si
O2−Li2O−Al2O3−Au−Ag−Cu系ガラ
スから得られる科学的加工可能な高膨張ガラスセラミッ
ク体が開示されている。さらに、特公昭33−7543
号公報においては、SiO2−Al2O3−ZnO−T
iO2系ガラスから得られる高膨張、高硬度の結晶化ガ
ラスが、特公昭46−16518号公報には、SiO2
−Al2O3−RO−ZrO2系のガラスから得られる
強度の大きい結晶化ガラスが、特開昭59−20373
6号公報には、SiO2−Al2O3−ZnO−ZrO
2−TiO2系のガラスから得られる高膨張結晶化ガラ
スがそれぞれ述べられている。ところが、これらの結晶
化ガラスは、膨張係数は所要の条件を満たしているもの
の、熱膨張曲線に大きな屈曲を生じてしまうため、磁性
材その他の材料との接着性が悪く、また熱処理条件を種
々工夫しても結晶粒の粗大化を防止し難いなどの欠点が
ある。
れる利点があり、前記要望事項に適うとするものが種々
知られている。例えば、特開昭49−125419号公
報には、SiO2−Li2O−TiO2系ガラスから得
られる高硬度、高膨張の結晶化ガラスが開示されてい
る。また、特開昭60−180934号公報には、Si
O2−Li2O−Al2O3−Au−Ag−Cu系ガラ
スから得られる科学的加工可能な高膨張ガラスセラミッ
ク体が開示されている。さらに、特公昭33−7543
号公報においては、SiO2−Al2O3−ZnO−T
iO2系ガラスから得られる高膨張、高硬度の結晶化ガ
ラスが、特公昭46−16518号公報には、SiO2
−Al2O3−RO−ZrO2系のガラスから得られる
強度の大きい結晶化ガラスが、特開昭59−20373
6号公報には、SiO2−Al2O3−ZnO−ZrO
2−TiO2系のガラスから得られる高膨張結晶化ガラ
スがそれぞれ述べられている。ところが、これらの結晶
化ガラスは、膨張係数は所要の条件を満たしているもの
の、熱膨張曲線に大きな屈曲を生じてしまうため、磁性
材その他の材料との接着性が悪く、また熱処理条件を種
々工夫しても結晶粒の粗大化を防止し難いなどの欠点が
ある。
[発明が解決しようとする問題点] 本発明の目的は、前述の各要望事項を満たしつつ、上記
の熱膨張曲線の屈曲性を改善した、結晶化ガラスおよび
その製造方法を提供することにある。
の熱膨張曲線の屈曲性を改善した、結晶化ガラスおよび
その製造方法を提供することにある。
[問題点を解決するための手段] 本発明者らは、上記目的を達成するため種々の試験研究
を重ねた結果、比較的多量のZnOを含むSiO2−A
l2O3−ZnO−TiO2系において、MgO成分と
PbO成分の特定量を必須成分として含有させた原ガラ
スを熱処理すると、適切な硬度と広い範囲の熱膨張係数
を有し、しかも熱膨張曲線に屈曲を生じない結晶化ガラ
スが得られることを見出すことができた。
を重ねた結果、比較的多量のZnOを含むSiO2−A
l2O3−ZnO−TiO2系において、MgO成分と
PbO成分の特定量を必須成分として含有させた原ガラ
スを熱処理すると、適切な硬度と広い範囲の熱膨張係数
を有し、しかも熱膨張曲線に屈曲を生じない結晶化ガラ
スが得られることを見出すことができた。
また、上記組成系の原ガラスを用いて、これを結晶化温
度としては比較的低い所定の温度で結晶化熱処理を行な
うと適切な硬度と広い範囲の熱膨張係数を有し、しかも
組織の緻密性、均質微細性に優れ、そのうえ、熱膨張曲
線の屈曲性を改善した結晶化ガラスが容易に得られるこ
とを見出すことができた。本発明は、これらの知見に基
づいてなされたものである。
度としては比較的低い所定の温度で結晶化熱処理を行な
うと適切な硬度と広い範囲の熱膨張係数を有し、しかも
組織の緻密性、均質微細性に優れ、そのうえ、熱膨張曲
線の屈曲性を改善した結晶化ガラスが容易に得られるこ
とを見出すことができた。本発明は、これらの知見に基
づいてなされたものである。
本願第一の発明にかかる結晶化ガラスの特徴は、重量%
で、SiO230〜65%、Al2O35〜25%、Z
nO 10.5〜40%、MgO 3.5〜20%、P
bO 0.5〜10%、CaO+SrO+BaO 0〜
15%、TiO22〜15%、B2O30〜10%、L
a2O3+Y2O3+Gd2O3+Ta2O5+Nb2
O5+WO30〜10%、ZrO2+P2O5+SnO
20〜5%、ただしZrO20〜2.5%、P2O50
〜5%、SnO20〜2%、As2O3+Sb2O30
〜2%および上記各金属酸化物の金属元素の1種または
2種以上の弗化物をFの合計量として 0〜5%を含有
する原ガラスを熱処理することにより得られ、かつ40
〜220×10-7/℃の範囲の熱膨張係数を有するとこ
ろにある。
で、SiO230〜65%、Al2O35〜25%、Z
nO 10.5〜40%、MgO 3.5〜20%、P
bO 0.5〜10%、CaO+SrO+BaO 0〜
15%、TiO22〜15%、B2O30〜10%、L
a2O3+Y2O3+Gd2O3+Ta2O5+Nb2
O5+WO30〜10%、ZrO2+P2O5+SnO
20〜5%、ただしZrO20〜2.5%、P2O50
〜5%、SnO20〜2%、As2O3+Sb2O30
〜2%および上記各金属酸化物の金属元素の1種または
2種以上の弗化物をFの合計量として 0〜5%を含有
する原ガラスを熱処理することにより得られ、かつ40
〜220×10-7/℃の範囲の熱膨張係数を有するとこ
ろにある。
本発明の結晶化ガラス組成は、原ガラスと同様酸化物基
準で表示し得るが、原ガラスの組成範囲を上記のように
限定した理由について以下にのべる。
準で表示し得るが、原ガラスの組成範囲を上記のように
限定した理由について以下にのべる。
すなわち、SiO2成分は、その量が30%未満の場合
には、得られる結晶化ガラス製品は組織が粗大化しやす
いうえ、化学的耐久性および硬度が悪くなり、また65
%を超えると原ガラスの溶融が困難になる。
には、得られる結晶化ガラス製品は組織が粗大化しやす
いうえ、化学的耐久性および硬度が悪くなり、また65
%を超えると原ガラスの溶融が困難になる。
Al2O3成分は、その量が5%未満では製品の化学的
耐久性および硬度が悪くなり、また25%を超えると高
膨張のα−石英、α−クリストバライトの結晶析出量が
低下し、所望の高膨張製品が得難くなる。
耐久性および硬度が悪くなり、また25%を超えると高
膨張のα−石英、α−クリストバライトの結晶析出量が
低下し、所望の高膨張製品が得難くなる。
ZnO成分は、ガラスの加熱処理により、ZnOを構成
要素とするガーナイト等の結晶を生成し、製品の硬度を
向上させる効果を有するきわめて重要な成分であるが、
その量が10.5%未満では上記効果が得られず、また
40%を超えるとガラスが不安定になり、加熱処理によ
り結晶粒が粗大化しやすい。
要素とするガーナイト等の結晶を生成し、製品の硬度を
向上させる効果を有するきわめて重要な成分であるが、
その量が10.5%未満では上記効果が得られず、また
40%を超えるとガラスが不安定になり、加熱処理によ
り結晶粒が粗大化しやすい。
MgO成分は、その量が3.5%未満ではガラスが不安
定になると共に溶融性が悪化し、さらに製品の硬度が低
下する。また、20%を超えると製品中の結晶粒が粗大
になり亀裂等を生じやすい。
定になると共に溶融性が悪化し、さらに製品の硬度が低
下する。また、20%を超えると製品中の結晶粒が粗大
になり亀裂等を生じやすい。
PbO成分およびCaO、SrO、BaO成分は、膨張
曲線の200℃付近に比較的顕著な屈曲をもたらすα−
クリストバライト結晶の過大な析出を防止し、また55
0℃付近でのα−石英の相転移による屈曲を防止すると
ともに所望の熱膨張係数を得る効果が見出された重要な
成分であり、特にPbO成分はこの効果が著しい。これ
らの成分は、さらにガラスの溶融性の向上および成形時
のガラスの安定性にも寄与する。しかし、PbO成分の
量が0.5%未満では上記効果が十分でなく、また、P
bO成分が10%を、CaO、SrOおよびBaOの1
種または2種以上の成分の合計量が15%をそれぞれ超
えると、所望の結晶が析出し難くなり、結晶粒も粗大と
なる。さらに、上記効果を顕著にするためには、Mg
O:(PbO+CaO+SrO+BaO)の重量比を
(1〜3):1とすることが一層望ましい。末尾に掲げ
た第1図は、SiO249%、Al2O319%、Mg
O 7.0%、ZnO 19.7%、TiO25%、A
s2O30.3%の組成のガラスを昇温速度4.6℃/
分で加熱し、1100℃に120分間保持して得た結晶
化ガラスの熱膨張曲線(a)と、上記ガラスを基礎組成
とし、これにPbO 2.5%およびBaO 2%を添
加して、MgO:PbO+BaOの重量比を約1.5:
1としたガラスを同様に熱処理して得た結晶化ガラスの
熱膨張曲線(b)とを比較して示したものである。図か
ら明らかなように、PbO+BaOの添加によって、熱
膨張曲線の屈曲を顕著に防止することができる。
曲線の200℃付近に比較的顕著な屈曲をもたらすα−
クリストバライト結晶の過大な析出を防止し、また55
0℃付近でのα−石英の相転移による屈曲を防止すると
ともに所望の熱膨張係数を得る効果が見出された重要な
成分であり、特にPbO成分はこの効果が著しい。これ
らの成分は、さらにガラスの溶融性の向上および成形時
のガラスの安定性にも寄与する。しかし、PbO成分の
量が0.5%未満では上記効果が十分でなく、また、P
bO成分が10%を、CaO、SrOおよびBaOの1
種または2種以上の成分の合計量が15%をそれぞれ超
えると、所望の結晶が析出し難くなり、結晶粒も粗大と
なる。さらに、上記効果を顕著にするためには、Mg
O:(PbO+CaO+SrO+BaO)の重量比を
(1〜3):1とすることが一層望ましい。末尾に掲げ
た第1図は、SiO249%、Al2O319%、Mg
O 7.0%、ZnO 19.7%、TiO25%、A
s2O30.3%の組成のガラスを昇温速度4.6℃/
分で加熱し、1100℃に120分間保持して得た結晶
化ガラスの熱膨張曲線(a)と、上記ガラスを基礎組成
とし、これにPbO 2.5%およびBaO 2%を添
加して、MgO:PbO+BaOの重量比を約1.5:
1としたガラスを同様に熱処理して得た結晶化ガラスの
熱膨張曲線(b)とを比較して示したものである。図か
ら明らかなように、PbO+BaOの添加によって、熱
膨張曲線の屈曲を顕著に防止することができる。
TiO2成分は、核形成剤として不可欠であるが、その
合計量が2%未満では所望の結晶を生成させることがで
きず、また15%を超えると、ガラスが不安定になって
しまう。
合計量が2%未満では所望の結晶を生成させることがで
きず、また15%を超えると、ガラスが不安定になって
しまう。
B2O3成分は、ガラスの溶融性を改善するのに有効で
あるが、その量が10%を超えると、所望の結晶を生成
させ難くなる。
あるが、その量が10%を超えると、所望の結晶を生成
させ難くなる。
La2O3、Y2O3、Gd2O3、Ta2O5、Nb
2O5およびWO3成分は、製品の硬度と化学的耐久性
を改善するのに有効であるので、これらの成分の1種ま
たは2種以上の合計量を10%まで含有させることがで
きる。
2O5およびWO3成分は、製品の硬度と化学的耐久性
を改善するのに有効であるので、これらの成分の1種ま
たは2種以上の合計量を10%まで含有させることがで
きる。
ZrO2、P2O5およびSnO2成分は、核形成剤と
して補助的に使用し得るが、これらの成分の1種または
2種以上の合計量が5%を、また各成分がそれぞれ2.
5%、5%および2%を超えると、ガラスの安定性が悪
化したり、製品組織が不均質になったりする。
して補助的に使用し得るが、これらの成分の1種または
2種以上の合計量が5%を、また各成分がそれぞれ2.
5%、5%および2%を超えると、ガラスの安定性が悪
化したり、製品組織が不均質になったりする。
As2O3および/またはSb2O3成分は、ガラス溶
融の際の清澄剤として添加し得るが、これらの1種また
は2種の合計量は2%以下で十分である。
融の際の清澄剤として添加し得るが、これらの1種また
は2種の合計量は2%以下で十分である。
また、上記金属酸化物の1種または2種以上の金属元素
の弗化物を含有させると、結晶化の調整等に有効である
が、その量がFの合計量として5%を超えるとガラスが
不安定になるうえ、所望の製品が得られない。
の弗化物を含有させると、結晶化の調整等に有効である
が、その量がFの合計量として5%を超えるとガラスが
不安定になるうえ、所望の製品が得られない。
なお、本発明における原ガラスの上記各成分は合計で9
0%以上とすることが好ましく、上記の成分の他に、所
望の特性を損なわない範囲内で、合計で10%程度まで
のMnO2、Ni2O3、Co2O3、Fe2O3およ
びCu2O等の着色剤並びにGeO2およびBi2O3
をまた合計で1%程度までのLi2O、Na2O、K2
OおよびSO3等の成分をそれぞれ含有させることがで
きる。
0%以上とすることが好ましく、上記の成分の他に、所
望の特性を損なわない範囲内で、合計で10%程度まで
のMnO2、Ni2O3、Co2O3、Fe2O3およ
びCu2O等の着色剤並びにGeO2およびBi2O3
をまた合計で1%程度までのLi2O、Na2O、K2
OおよびSO3等の成分をそれぞれ含有させることがで
きる。
つぎに、本願第二の発明にかかる結晶化ガラスの製造方
法の特徴は、上記の組成を有する原ガラスを溶融し、成
形した後、加熱昇温し、ついで1150℃以下の温度で
結晶化熱処理を行なうところにある。
法の特徴は、上記の組成を有する原ガラスを溶融し、成
形した後、加熱昇温し、ついで1150℃以下の温度で
結晶化熱処理を行なうところにある。
本発明の結晶化ガラスの製造方法の実施に当って、ガラ
スの各形成温度の低温域を、2.5℃/分以上の速度で
加熱昇温すると、組織の緻密性、均質微細性に一段と優
れた製品が得られ易いので好ましい。
スの各形成温度の低温域を、2.5℃/分以上の速度で
加熱昇温すると、組織の緻密性、均質微細性に一段と優
れた製品が得られ易いので好ましい。
また、上記本発明の製造方法においては、原ガラスを鏡
面研磨等の精密研磨加工を行なった後結晶化させても研
磨面が実質的に変化を受けないことがみいだされている
ので、精密研磨加工を施した結晶化ガラス製品が必要な
場合は、硬度が小さく精密研磨作業に有利な原ガラスの
段階でこれを行なうことが好ましい。
面研磨等の精密研磨加工を行なった後結晶化させても研
磨面が実質的に変化を受けないことがみいだされている
ので、精密研磨加工を施した結晶化ガラス製品が必要な
場合は、硬度が小さく精密研磨作業に有利な原ガラスの
段階でこれを行なうことが好ましい。
[実施例] つぎに、本発明にかかる好適な実施例につき説明する。
表−1は、本発明の結晶化ガラスの実施組成例(No.1
〜19)と従来のSiO2−Li2O系、SiO2−A
l2O3−ZnO系およびSiO2−Al2O3−Zn
O−TiO2系の比較組成例(No.A〜D)を、それぞ
れの熱処理条件および得られた製品の線熱膨張係数;α
×10-7/℃(測定温度範囲;50〜600℃)、ビッ
カース硬度(Hv)、および結晶粒径についての測定結
果とともに示したものである。また、表−2は、本発明
の結晶化ガラスの製造方法の実施例(No.1〜3)並び
に、これらと同一ガラス組成を用い、熱処理条件のみを
変え、低温域において小さな昇温速度を与えた場合の参
考例(No.1′〜3′)につき、表−1同様使用したガ
ラス組成、各熱処理条件および得られた製品の諸性質
を、対比して示したものである。
〜19)と従来のSiO2−Li2O系、SiO2−A
l2O3−ZnO系およびSiO2−Al2O3−Zn
O−TiO2系の比較組成例(No.A〜D)を、それぞ
れの熱処理条件および得られた製品の線熱膨張係数;α
×10-7/℃(測定温度範囲;50〜600℃)、ビッ
カース硬度(Hv)、および結晶粒径についての測定結
果とともに示したものである。また、表−2は、本発明
の結晶化ガラスの製造方法の実施例(No.1〜3)並び
に、これらと同一ガラス組成を用い、熱処理条件のみを
変え、低温域において小さな昇温速度を与えた場合の参
考例(No.1′〜3′)につき、表−1同様使用したガ
ラス組成、各熱処理条件および得られた製品の諸性質
を、対比して示したものである。
また、表−3は、本発明の結晶化ガラスの製造方法の別
の実施例(No.1〜3)について、同一ガラス組成を用
い、熱処理温度のみを変えた場合の、諸性質の変化を示
したものである。 本発明の上記実施例の原ガラスは、
いずれも酸化物、炭酸塩、硝酸塩および弗化物等の原料
を混合し、これを通常の溶融装置を用いて約1350〜
1500℃の温度で溶融し、攪拌均質化した後、所望形
状に成形し冷却して得た。その後、2.6〜10℃/分
の速度で昇温し、表記の各結晶化温度で60〜180分
間保持し、結晶核を形成して微結晶を生成させ、所望の
結晶化ガラスを得た。
の実施例(No.1〜3)について、同一ガラス組成を用
い、熱処理温度のみを変えた場合の、諸性質の変化を示
したものである。 本発明の上記実施例の原ガラスは、
いずれも酸化物、炭酸塩、硝酸塩および弗化物等の原料
を混合し、これを通常の溶融装置を用いて約1350〜
1500℃の温度で溶融し、攪拌均質化した後、所望形
状に成形し冷却して得た。その後、2.6〜10℃/分
の速度で昇温し、表記の各結晶化温度で60〜180分
間保持し、結晶核を形成して微結晶を生成させ、所望の
結晶化ガラスを得た。
表−1にみられるとおり、比較例A、BおよびCの結晶
化ガラスは、主結晶がα−クリストバライトであるため
に、熱膨張曲線に屈曲を示し、また平均結晶粒径が約1
0μ以上と非常に大きい。特に比較例Aについては、表
面状態が悪く、亀裂を生じやすかった。また比較例Dの
ガラスは、溶融性が非常に悪く、熔解に1600℃の高
温を要し、かつガラスが不安定で、成形時に乳白化し、
また結晶化後は亀裂が発生し、諸物性の測定は不能であ
った。これに対し、本発明の実施例の結晶化ガラスは、
いずれも膨張曲線に屈曲がなく、約40〜220×10
-7/℃の範囲の熱膨張係数を有し、ビッカース硬度につ
いても約720〜1110kgf/mm2の数値範囲にあり、
結晶粒径についても0.02〜0.4μと非常に小さ
く、微細性に優れている。
化ガラスは、主結晶がα−クリストバライトであるため
に、熱膨張曲線に屈曲を示し、また平均結晶粒径が約1
0μ以上と非常に大きい。特に比較例Aについては、表
面状態が悪く、亀裂を生じやすかった。また比較例Dの
ガラスは、溶融性が非常に悪く、熔解に1600℃の高
温を要し、かつガラスが不安定で、成形時に乳白化し、
また結晶化後は亀裂が発生し、諸物性の測定は不能であ
った。これに対し、本発明の実施例の結晶化ガラスは、
いずれも膨張曲線に屈曲がなく、約40〜220×10
-7/℃の範囲の熱膨張係数を有し、ビッカース硬度につ
いても約720〜1110kgf/mm2の数値範囲にあり、
結晶粒径についても0.02〜0.4μと非常に小さ
く、微細性に優れている。
また、表−2にみられるとおり、2℃/分の小さな昇温
速度で加熱した参考例は、1′については結晶粒径0.
02〜0.03μと微細性には優れているが、ビッカー
ス硬度が所望の数値より小さく、2′、3′については
亀裂を生じて諸物性の測定はできなかった。これに対し
2.5℃/分以上の昇温速度で急速加熱した本発明の方
法の実施例による結晶化ガラスは、熱膨張係数、ビッカ
ース硬度とも所望の範囲にはいっており、結晶粒径につ
いても0.02〜0.3μと微細性にすぐれている。
速度で加熱した参考例は、1′については結晶粒径0.
02〜0.03μと微細性には優れているが、ビッカー
ス硬度が所望の数値より小さく、2′、3′については
亀裂を生じて諸物性の測定はできなかった。これに対し
2.5℃/分以上の昇温速度で急速加熱した本発明の方
法の実施例による結晶化ガラスは、熱膨張係数、ビッカ
ース硬度とも所望の範囲にはいっており、結晶粒径につ
いても0.02〜0.3μと微細性にすぐれている。
また、表−3にみられるとおり、本発明の方法において
は、同一組成の原ガラスを用い、所定の範囲で結晶化温
度を変えることにより、所望の諸性質を維持しながら、
熱膨張係数を大きく変化させることができる。
は、同一組成の原ガラスを用い、所定の範囲で結晶化温
度を変えることにより、所望の諸性質を維持しながら、
熱膨張係数を大きく変化させることができる。
さらに、表−1の実施例No.12およびNo.14につい
て、原ガラスを10.0×10.0×1.0mmの薄板状
にスライスし、精密研磨して、その表面粗度(Rma
x)が、185Å(No.12)と70Å(No.14)の試
料を得た後、表記の熱処理を行なったところ、得られた
結晶化ガラスは、形状に変化がなく、その表面粗度は、
それぞれ200Åと90Åであって、熱処理の前後で鏡
面状態に実質的な変化を生じないことが確かめられた。
従って結晶化後、表面精度向上のためさらに鏡面研磨作
業を付加する必要がある場合もその労力は大幅に低減さ
れたものとなる。
て、原ガラスを10.0×10.0×1.0mmの薄板状
にスライスし、精密研磨して、その表面粗度(Rma
x)が、185Å(No.12)と70Å(No.14)の試
料を得た後、表記の熱処理を行なったところ、得られた
結晶化ガラスは、形状に変化がなく、その表面粗度は、
それぞれ200Åと90Åであって、熱処理の前後で鏡
面状態に実質的な変化を生じないことが確かめられた。
従って結晶化後、表面精度向上のためさらに鏡面研磨作
業を付加する必要がある場合もその労力は大幅に低減さ
れたものとなる。
本発明の実施例による結晶化ガラスは、いずれも原ガラ
スの際の溶融性が1500℃以下と良好で生産性に優
れ、また、実質的に無アルカリで、化学的耐久性にも優
れており、かつ約2〜4kcal/m.h.℃と結晶化ガラスと
しては大きな熱伝導率を有している。
スの際の溶融性が1500℃以下と良好で生産性に優
れ、また、実質的に無アルカリで、化学的耐久性にも優
れており、かつ約2〜4kcal/m.h.℃と結晶化ガラスと
しては大きな熱伝導率を有している。
[発明の効果] 以上述べたとおり、本発明の結晶化ガラスは、特定組成
のSiO2−Al2O3−ZnO−MgO−PbO−T
iO2系ガラスを熱処理して得られるものであるから、
所望の硬度と広い範囲の熱膨張係数とを有し、しかも組
織の緻密性、均質微細性に優れているうえ、屈曲を改善
した優れた熱膨張曲線を示す。従って、薄膜型等の各種
磁気ヘッド用基板材、各種IC用基板材、磁気ディスク
用基板材および薄膜等の超電導材料用基板材等上記の諸
特性を要求される電気部品等の各種基板材として、特に
好適である。また、ベアリング球や紡糸用ガイド等の機
械部品およびタイル等の建築材料としても使用し得る。
のSiO2−Al2O3−ZnO−MgO−PbO−T
iO2系ガラスを熱処理して得られるものであるから、
所望の硬度と広い範囲の熱膨張係数とを有し、しかも組
織の緻密性、均質微細性に優れているうえ、屈曲を改善
した優れた熱膨張曲線を示す。従って、薄膜型等の各種
磁気ヘッド用基板材、各種IC用基板材、磁気ディスク
用基板材および薄膜等の超電導材料用基板材等上記の諸
特性を要求される電気部品等の各種基板材として、特に
好適である。また、ベアリング球や紡糸用ガイド等の機
械部品およびタイル等の建築材料としても使用し得る。
また、本発明の結晶化ガラスの製造方法は、上記系のガ
ラスを用いて、これを所定の比較的低温で結晶化させる
ので、上記の諸特性に一段と優れた製品を一層歩留り良
く得ることができる。
ラスを用いて、これを所定の比較的低温で結晶化させる
ので、上記の諸特性に一段と優れた製品を一層歩留り良
く得ることができる。
第1図は、従来の結晶化ガラスの熱膨張曲線(a)と、
本発明の実施例の結晶化ガラスの熱膨張曲線(b)との
比較図である。
本発明の実施例の結晶化ガラスの熱膨張曲線(b)との
比較図である。
Claims (4)
- 【請求項1】重量%で、SiO230〜65%、Al2
O35〜25%、ZnO 10.5〜40%、MgO
3.5〜20%、PbO 0.5〜10%、CaO+S
rO+BaO 0〜15%、TiO22〜15%、B2
O30〜10%、La2O3+Y2O3+Gd2O3+
Ta2O5+Nb2O5+WO30〜10%、ZrO2
+P2O5+SnO20〜5%、ただしZrO20〜
2.5%、P2O50〜5%、SnO20〜2%、As
2O3+Sb2O30〜2%および上記各金属酸化物の
1種または2種以上の金属元素の弗化物をFの合計量と
して 0〜5%を含有するガラスを熱処理することによ
り得られ、かつ40〜220×10-7/℃の範囲の熱膨
張係数を有することを特徴とする結晶化ガラス。 - 【請求項2】重量%で、SiO230〜65%、Al2
O35〜25%、ZnO 10.5〜40%、MgO
3.5〜20%、PbO 0.5〜10%、CaO+S
rO+BaO 0〜15%、TiO22〜15%、B2
O30〜10%、La2O3+Y2O3+Gd2O3+
Ta2O5+Nb2O5+WO30〜10%、ZrO2
+P2O5+SnO20〜5%、ただしZrO20〜
2.5%、P2O50〜5%、SnO20〜2%、As
2O3+Sb2O30〜2%および上記各金属酸化物の
1種または2種以上の金属元素の弗化物をFの合計量と
して 0〜5%を含有するガラスを溶融し、成形した
後、加熱昇温し、ついで1150℃以下の温度で結晶化
熱処理を行なうことを特徴とする結晶化ガラスの製造方
法。 - 【請求項3】ガラスの核形成温度の低温域を2.5℃/
分以上の速度で加熱昇温することを特徴とする特許請求
の範囲第2項記載の結晶化ガラスの製造方法。 - 【請求項4】成形において、精密研磨加工工程を含むこ
とを特徴とする特許請求の範囲第2項または第3項記載
の結晶化ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29876287A JPH0667775B2 (ja) | 1987-02-05 | 1987-11-26 | 結晶化ガラスおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-25991 | 1987-02-05 | ||
| JP2599187 | 1987-02-05 | ||
| JP29876287A JPH0667775B2 (ja) | 1987-02-05 | 1987-11-26 | 結晶化ガラスおよびその製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH013032A JPH013032A (ja) | 1989-01-06 |
| JPS643032A JPS643032A (en) | 1989-01-06 |
| JPH0667775B2 true JPH0667775B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=26363708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29876287A Expired - Fee Related JPH0667775B2 (ja) | 1987-02-05 | 1987-11-26 | 結晶化ガラスおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0667775B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0667774B2 (ja) * | 1988-02-15 | 1994-08-31 | 株式会社オハラ | 透明結晶化ガラス |
| JP2691263B2 (ja) * | 1989-08-11 | 1997-12-17 | 株式会社オハラ | 透明結晶化ガラス |
| CN113929307B (zh) * | 2021-11-23 | 2023-02-24 | 海南大学 | 一种定向析晶las微晶玻璃及其制备方法 |
-
1987
- 1987-11-26 JP JP29876287A patent/JPH0667775B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS643032A (en) | 1989-01-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3140702B2 (ja) | 磁気ディスク基板用結晶化ガラス、磁気ディスク基板および磁気ディスク | |
| US8283060B2 (en) | Crystallized glass substrate for information recording medium and method of producing the same | |
| KR100188901B1 (ko) | 자기디스크용 결정화 유리기판 | |
| US9236075B2 (en) | Crystallized glass and crystallized glass substrate for information recording medium | |
| JP2516553B2 (ja) | 磁気ディスク用結晶化ガラスおよびその製造方法 | |
| JP4680347B2 (ja) | 高剛性ガラスセラミックス基板 | |
| JP2799544B2 (ja) | 情報記録ディスク用結晶化ガラス | |
| JP3131138B2 (ja) | 磁気ディスク用結晶化ガラス基板 | |
| US20110136651A1 (en) | Glass-ceramics and method for manufacturing the same | |
| US5028567A (en) | Glass-ceramics | |
| EP2011770A2 (en) | Crystallized glass for information recording medium, cystallized glass substrate, and information recording medium using the crystallized glass | |
| US6593257B1 (en) | Glass-ceramic composition for recording disk substrate | |
| JP3420192B2 (ja) | ガラスセラミックス | |
| US6524982B1 (en) | Glass-ceramic composition for recording disk substrate | |
| US6372319B1 (en) | Nucleating agents for crystallized glasses, crystallized glasses, magnetic discs substrate and magnetic discs | |
| JPH0629152B2 (ja) | 基板用結晶化ガラスの製造方法 | |
| US20030125183A1 (en) | Glass-ceramic composition for recording disk substrate | |
| JPH0667775B2 (ja) | 結晶化ガラスおよびその製造方法 | |
| JP2001126236A (ja) | 磁気ディスク用基板および磁気ディスク | |
| JPH013032A (ja) | 結晶化ガラスおよびその製造方法 | |
| JP3144820B2 (ja) | 結晶化ガラス | |
| JP3152905B2 (ja) | 磁気ディスク用結晶化ガラス基板 | |
| US6583077B1 (en) | Glass-ceramic composition for recording disk substrate | |
| JP2002203309A (ja) | 情報記録媒体用の結晶化ガラス基板 | |
| US6458729B1 (en) | Glass-ceramic composition for recording disk substrate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |