JPH066784B2 - 薄膜作製装置 - Google Patents
薄膜作製装置Info
- Publication number
- JPH066784B2 JPH066784B2 JP59076681A JP7668184A JPH066784B2 JP H066784 B2 JPH066784 B2 JP H066784B2 JP 59076681 A JP59076681 A JP 59076681A JP 7668184 A JP7668184 A JP 7668184A JP H066784 B2 JPH066784 B2 JP H066784B2
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- thin film
- upper lid
- mask
- timing
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Links
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、各種金属薄膜の作製装置に関する。
従来の技術 金属薄膜は、素材を真空槽内に置き、真空蒸着あるいは
スパッタリングなどによって基板に付着させて製造され
る。
スパッタリングなどによって基板に付着させて製造され
る。
発明が解決しようとする問題点 この場合、膜厚、組成、構造等の均一性を高めるため、
基板を回転しながら膜作製を行なう必要がある。また、
多数の基板を真空槽内にセットし、真空またはガス雰囲
気を破らずに基板を交換して多数の薄膜を作製すること
ができれば、作業効率の向上と薄膜作製の信頼性の改善
が期待できる。さらに同じように、複数の素材を用い、
基板を移動することにより多層膜を作製することは、新
規材料探索の見地からも可能性に富んだ方法である。
基板を回転しながら膜作製を行なう必要がある。また、
多数の基板を真空槽内にセットし、真空またはガス雰囲
気を破らずに基板を交換して多数の薄膜を作製すること
ができれば、作業効率の向上と薄膜作製の信頼性の改善
が期待できる。さらに同じように、複数の素材を用い、
基板を移動することにより多層膜を作製することは、新
規材料探索の見地からも可能性に富んだ方法である。
問題点を解決するための手段 本発明は以上の要請をすべて満足する装置であって、単
数または複数の薄膜材料発生源を備えた真空槽に円板状
の第１上蓋を回転可能に設け、該第１上蓋に円形の孔を
偏心させて設け、そこに第２上蓋を回転可能に設け、該
第２上蓋には、回転中心より偏心させた位置にて回転お
よび上下動し得る基板ホルダーと、マスクを上下動可能
に取付けたマスク保持具とを、真空槽内に垂下して設
け、薄膜材料発生源と基板との間に開閉可能なシャッタ
ーを設け、第１上蓋および第２上蓋の回転とそれらの時
期、基板ホルダーの回転および上下動とそれらの時期、
マスクの上下動とその時期、およびシャッターの開閉と
その時期を自動制御するマイクロコンピューター装置を
備えてなることを特徴とする薄膜作製装置である。
数または複数の薄膜材料発生源を備えた真空槽に円板状
の第１上蓋を回転可能に設け、該第１上蓋に円形の孔を
偏心させて設け、そこに第２上蓋を回転可能に設け、該
第２上蓋には、回転中心より偏心させた位置にて回転お
よび上下動し得る基板ホルダーと、マスクを上下動可能
に取付けたマスク保持具とを、真空槽内に垂下して設
け、薄膜材料発生源と基板との間に開閉可能なシャッタ
ーを設け、第１上蓋および第２上蓋の回転とそれらの時
期、基板ホルダーの回転および上下動とそれらの時期、
マスクの上下動とその時期、およびシャッターの開閉と
その時期を自動制御するマイクロコンピューター装置を
備えてなることを特徴とする薄膜作製装置である。
実施例 以下、上記本発明を図面に基づいて説明すると、第１図
は実施の一例の断面図で、１は真空槽である。
は実施の一例の断面図で、１は真空槽である。
真空槽１内には、単数または複数の薄膜材料発生源２を
備え、その上部には基板ホルダー３を設け、基板４を複
数個取付けるようにする。薄膜材料発生源２の直上には
シャッター５を設け、また、基板ホルダー３の直下にマ
スク６を設けてある。マスク６はマスク保持具７に上下
移動可能に取付けられている。
備え、その上部には基板ホルダー３を設け、基板４を複
数個取付けるようにする。薄膜材料発生源２の直上には
シャッター５を設け、また、基板ホルダー３の直下にマ
スク６を設けてある。マスク６はマスク保持具７に上下
移動可能に取付けられている。
真空槽１の上部には円板状の第１上蓋８を回転可能に設
け、該第１上蓋８には円形の穴９を偏心させて設け、そ
の穴９に第２上蓋10を回転可能に設ける。その第２上蓋
10の中心より偏心させた位置に前述の基板ホルダー３を
上下動可能に設けてある。なお、前述のマスク保持具７
の上端は第２上蓋10に取付けてある。
け、該第１上蓋８には円形の穴９を偏心させて設け、そ
の穴９に第２上蓋10を回転可能に設ける。その第２上蓋
10の中心より偏心させた位置に前述の基板ホルダー３を
上下動可能に設けてある。なお、前述のマスク保持具７
の上端は第２上蓋10に取付けてある。
第１上蓋８および第２上蓋10の回転、基板ホルダー３の
回転および上下動、マスク６の上下動、シャッター５の
開閉、およびそれらの時期はマイクロコンピューター装
置11に予め組込まれたプログラムにしたがって、自動的
に制御する。また、上記各部材の回転、上下動、シャッ
ター５の開閉は周知の機構により行うことができる。す
なわち、最近のコンピューター技術の発展に伴い、生産
部門における装置の自動制御をコンピューターにより行
うことはごく普通のことであり、そのためのソフト開発
は容易にできることで、又、それに伴うハードも多彩に
知られており、上述の本発明の動きは、当業者であれば
随時設計できることである。したがって、図面上はマイ
クロモーターとか、動力伝達機構等の細かい設計的なこ
とは省略してある。
回転および上下動、マスク６の上下動、シャッター５の
開閉、およびそれらの時期はマイクロコンピューター装
置11に予め組込まれたプログラムにしたがって、自動的
に制御する。また、上記各部材の回転、上下動、シャッ
ター５の開閉は周知の機構により行うことができる。す
なわち、最近のコンピューター技術の発展に伴い、生産
部門における装置の自動制御をコンピューターにより行
うことはごく普通のことであり、そのためのソフト開発
は容易にできることで、又、それに伴うハードも多彩に
知られており、上述の本発明の動きは、当業者であれば
随時設計できることである。したがって、図面上はマイ
クロモーターとか、動力伝達機構等の細かい設計的なこ
とは省略してある。
薄膜材料発生源２はガン型スパッタソースあるいは蒸発
ボートなどを用い、スパッタリングあるいは真空蒸着技
術を適用し得る。
ボートなどを用い、スパッタリングあるいは真空蒸着技
術を適用し得る。
かかる薄膜材料発生源２から原子流を発生させ、該原子
流を開かれたシャッター５、マスク６を通して基板ホル
ダー３に到達させ、基板４表面に付着せしめるのである
が、かかる作用は種々の態様で行なうことができる。
流を開かれたシャッター５、マスク６を通して基板ホル
ダー３に到達させ、基板４表面に付着せしめるのである
が、かかる作用は種々の態様で行なうことができる。
第２図はその一例を示すもので、第１上蓋８の中心Ｐと
第２上蓋10の中心Ｑとは偏心している。そして、第２上
蓋10には基板ホルダー３がその回転中心ＲをＱ点と偏心
させて設けられ、第１上蓋８および第２上蓋10を回転さ
せてＲ点がＰ点と一致するようにマイクロコンピュータ
ー11の指示により調整してある。基板ホルダー３には外
周に沿って多数の基板４をセットしてある。薄膜材料発
生源２は２個あり、それぞれの直上にあけられたマスク
６の穴を通して、順次、または交互に成膜を行ない、単
層または多層膜を作製することができる。また、２つの
薄膜材料発生源２,2の中間位置にマスク３の穴および基
板４の１つをもってくれば、薄膜材料発生源２,2を同時
に作動させて、基板４上に合金薄膜を作製することがで
きる。
第２上蓋10の中心Ｑとは偏心している。そして、第２上
蓋10には基板ホルダー３がその回転中心ＲをＱ点と偏心
させて設けられ、第１上蓋８および第２上蓋10を回転さ
せてＲ点がＰ点と一致するようにマイクロコンピュータ
ー11の指示により調整してある。基板ホルダー３には外
周に沿って多数の基板４をセットしてある。薄膜材料発
生源２は２個あり、それぞれの直上にあけられたマスク
６の穴を通して、順次、または交互に成膜を行ない、単
層または多層膜を作製することができる。また、２つの
薄膜材料発生源２,2の中間位置にマスク３の穴および基
板４の１つをもってくれば、薄膜材料発生源２,2を同時
に作動させて、基板４上に合金薄膜を作製することがで
きる。
マスク６は、複数ある基板４のうち成膜を行うもの以外
には、薄膜材料発生源２からの原子流が到達しないよう
にして、基板４の直下の適正距離に位置するよう、マイ
クロコンピューター11の指示によりマスク保持具７に沿
って上下動させる。
には、薄膜材料発生源２からの原子流が到達しないよう
にして、基板４の直下の適正距離に位置するよう、マイ
クロコンピューター11の指示によりマスク保持具７に沿
って上下動させる。
第３図は第１上蓋と８と第２上蓋10の相対位置を変え
て、基板ホルダー３の回転中心Ｒを片方の薄膜材料発生
源２の真上にもってきた例である。この場合は基板を回
転しながら薄膜の作製ができるもので均一な成膜を得る
ことができる。
て、基板ホルダー３の回転中心Ｒを片方の薄膜材料発生
源２の真上にもってきた例である。この場合は基板を回
転しながら薄膜の作製ができるもので均一な成膜を得る
ことができる。
第４図は２つの薄膜材料発生源２,2の中間位置に基板ホ
ルダー３の回転中心Ｒをもってきた例を示す。このと
き、基板４を基板ホルダー３の中心にセットすれば、基
板４を回転しながら、２つの薄膜材料発生源２,2を同時
に働かせることによって、均一な合金薄膜を作製するこ
とができる。また、基板ホルダー３の外周に複数の基板
４をセットして基板ホルダー３を回転させれば、基板４
は交互に２つの薄膜材料発生源２の上にくるので、多層
膜を作製することができる。この場合、マイクロコンピ
ュータ装置11によりパルスモーターを用いて基板ホルダ
ー３の回転を制御すれば、各層の膜厚をそれぞれ制御す
ることが可能である。
ルダー３の回転中心Ｒをもってきた例を示す。このと
き、基板４を基板ホルダー３の中心にセットすれば、基
板４を回転しながら、２つの薄膜材料発生源２,2を同時
に働かせることによって、均一な合金薄膜を作製するこ
とができる。また、基板ホルダー３の外周に複数の基板
４をセットして基板ホルダー３を回転させれば、基板４
は交互に２つの薄膜材料発生源２の上にくるので、多層
膜を作製することができる。この場合、マイクロコンピ
ュータ装置11によりパルスモーターを用いて基板ホルダ
ー３の回転を制御すれば、各層の膜厚をそれぞれ制御す
ることが可能である。
以上、代表的な３つの使用例について述べたが、いずれ
のモードの場合でも、マイクロコンピューター装置11に
必要最小限の情報を入力すれば、２つの上蓋の相対位置
を指示し、コントローラを通じてパルスモーターを動か
して、基板ホルダー３の方向、回転のタイミング、スピ
ード、シャッターの開閉のタイミング等を自動的にコン
トロールすることができる。
のモードの場合でも、マイクロコンピューター装置11に
必要最小限の情報を入力すれば、２つの上蓋の相対位置
を指示し、コントローラを通じてパルスモーターを動か
して、基板ホルダー３の方向、回転のタイミング、スピ
ード、シャッターの開閉のタイミング等を自動的にコン
トロールすることができる。
発明の効果 本発明は以上のとおり、同一の真空槽を用い、多数の基
板をセットして、雰囲気を破らずに多数の薄膜を作製す
ることができ、作業能率の向上と薄膜作製の信頼性が改
善されるばかりでなく、同一の真空槽で、種々の態様の
薄膜形成手段を実施することが可能であるから、目的に
適した真空槽を別々に用意する必要がなく、経済的であ
るばかりか、各種の使い方を複合することによって、新
しい構成の薄膜を作製することが可能となる。
板をセットして、雰囲気を破らずに多数の薄膜を作製す
ることができ、作業能率の向上と薄膜作製の信頼性が改
善されるばかりでなく、同一の真空槽で、種々の態様の
薄膜形成手段を実施することが可能であるから、目的に
適した真空槽を別々に用意する必要がなく、経済的であ
るばかりか、各種の使い方を複合することによって、新
しい構成の薄膜を作製することが可能となる。
第１図は本発明の１実施例の断面図、第２ないし第４図
はその使用態様例の平面図である。 １…真空槽、２…薄膜材料発生源、 ３…基板ホルダー、４…基板、 ５…シャッター、６…マスク、 ７…マスク保持具、８…第１上蓋、 ９…穴、10…第２上蓋、 11…マイクロコンピュータ装置。
はその使用態様例の平面図である。 １…真空槽、２…薄膜材料発生源、 ３…基板ホルダー、４…基板、 ５…シャッター、６…マスク、 ７…マスク保持具、８…第１上蓋、 ９…穴、10…第２上蓋、 11…マイクロコンピュータ装置。
Claims (1)
- 【請求項１】単数または複数の薄膜材料発生源を備えた
真空槽に円板状の第１上蓋を回転可能に設け、該第１上
蓋に円形の孔を偏心させて設け、そこに第２上蓋を回転
可能に設け、該第２上蓋には、回転中心より偏心させた
位置にて回転および上下動し得る基板ホルダーと、マス
クを上下動可能に取付けたマスク保持具とを、真空槽内
に垂下して設け、薄膜材料発生源と基板との間に開閉可
能なシャッターを設け、第１上蓋および第２上蓋の回転
とそれらの時期、基板ホルダーの回転および上下動とそ
れらの時期、マスクの上下動とその時期、およびシャッ
ターの開閉とその時期を自動制御するマイクロコンピュ
ーター装置を備えてなることを特徴とする薄膜作製装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59076681A JPH066784B2 (ja) | 1984-04-18 | 1984-04-18 | 薄膜作製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59076681A JPH066784B2 (ja) | 1984-04-18 | 1984-04-18 | 薄膜作製装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60221564A JPS60221564A (ja) | 1985-11-06 |
| JPH066784B2 true JPH066784B2 (ja) | 1994-01-26 |
Family
ID=13612170
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59076681A Expired - Lifetime JPH066784B2 (ja) | 1984-04-18 | 1984-04-18 | 薄膜作製装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH066784B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108624840A (zh) * | 2017-03-22 | 2018-10-09 | 浙江师范大学 | 一种镀膜机 |
| CN114713754B (zh) * | 2022-04-13 | 2023-04-25 | 山东大学 | 一种表面涂层及制备方法和涂层工装、锥齿轮精锻模具 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4583488A (en) * | 1984-03-23 | 1986-04-22 | International Business Machines Corporation | Variable axis rotary drive vacuum deposition system |
-
1984
- 1984-04-18 JP JP59076681A patent/JPH066784B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60221564A (ja) | 1985-11-06 |
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