JPH067108B2 - 異物検査装置の性能チエツク方法 - Google Patents
異物検査装置の性能チエツク方法Info
- Publication number
- JPH067108B2 JPH067108B2 JP60003833A JP383385A JPH067108B2 JP H067108 B2 JPH067108 B2 JP H067108B2 JP 60003833 A JP60003833 A JP 60003833A JP 383385 A JP383385 A JP 383385A JP H067108 B2 JPH067108 B2 JP H067108B2
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- foreign matter
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/94—Investigating contamination, e.g. dust
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- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、特に、半導体ウエハーに回路パターンを焼付
けるために用いられるレテイクルやマスクなどの検査対
象物の表面に異物が付着しているか否かの検査を行う場
合等に使用される異物検査装置の性能チェック方法、更
に詳しくは、ステージ上に載置された検査対象物の表面
にレーザービームを照射し、その照射レーザービームの
反射散乱状態を検知することにより、該検査対象物の表
面における異物の有無ならびにその位置を検出するよう
に構成してある異物検査装置の性能チェック方法に関す
る。
けるために用いられるレテイクルやマスクなどの検査対
象物の表面に異物が付着しているか否かの検査を行う場
合等に使用される異物検査装置の性能チェック方法、更
に詳しくは、ステージ上に載置された検査対象物の表面
にレーザービームを照射し、その照射レーザービームの
反射散乱状態を検知することにより、該検査対象物の表
面における異物の有無ならびにその位置を検出するよう
に構成してある異物検査装置の性能チェック方法に関す
る。
先ず、従来のこの種の異物検査装置について、レテイク
ル表面異物検査装置を例に挙げて説明する。
ル表面異物検査装置を例に挙げて説明する。
即ち、第３図に示しているように、検査対象物としての
レテイクルａを載置したステージｂを一方向（ｘ方向）
へ直線移動させると共に、そのｘ方向に対して直交する
ｙ方向における所定範囲内で往復直線走査させながら、
前記ｘ方向における適当な角度θ（例えば１５度）斜め
上方から前記レテイクルａの検査表面にレーザービーム
ｃを照射し、その照射レーザービームｃの反射散乱状態
を、ステージｂの側方上方に設置した光デイテクタｄ，
ｄにより検知することによって、前記レテイクルａの表
面に異物が有るか否かの検査ならびにその付着位置の検
出を行うのであるが、その検査性能としては、約２μｍ
程度の極めて微細な異物まで検出可能であることが要求
されるため、実際の検査を行う際には、例えばレーザー
ビームの照射系の調整不良などのために所望の検査性能
を発揮できない状態になっていないかどうか、予めその
検査性能をチェックしておくことが必要である。
レテイクルａを載置したステージｂを一方向（ｘ方向）
へ直線移動させると共に、そのｘ方向に対して直交する
ｙ方向における所定範囲内で往復直線走査させながら、
前記ｘ方向における適当な角度θ（例えば１５度）斜め
上方から前記レテイクルａの検査表面にレーザービーム
ｃを照射し、その照射レーザービームｃの反射散乱状態
を、ステージｂの側方上方に設置した光デイテクタｄ，
ｄにより検知することによって、前記レテイクルａの表
面に異物が有るか否かの検査ならびにその付着位置の検
出を行うのであるが、その検査性能としては、約２μｍ
程度の極めて微細な異物まで検出可能であることが要求
されるため、実際の検査を行う際には、例えばレーザー
ビームの照射系の調整不良などのために所望の検査性能
を発揮できない状態になっていないかどうか、予めその
検査性能をチェックしておくことが必要である。
そこで、従来は、前記検査対象物としてのレテイクルａ
のひとつをサンプルとして抽出し、そのサンプルの表面
の適当な数箇所に、ピペットなどで２μｍの標準粒子を
付着させ、かつ、その付着箇所を囲むマーキングをマジ
ック等で描いておき、性能チェックをしようとする異物
検査装置に、前記標準粒子を付着させたサンプルをセッ
トしてその表面における異物の有無ならびにその位置を
検出させ、その検出結果からＣＲＴ画面などに異物分布
マップを作成し、その異物分布マップと前記サンプルの
マーキング状態とを比較することによって、該異物検査
装置が正常に異物を検出しているか否かを判定する、と
いう手段による異物検査装置の性能チェック方法を採用
していた。
のひとつをサンプルとして抽出し、そのサンプルの表面
の適当な数箇所に、ピペットなどで２μｍの標準粒子を
付着させ、かつ、その付着箇所を囲むマーキングをマジ
ック等で描いておき、性能チェックをしようとする異物
検査装置に、前記標準粒子を付着させたサンプルをセッ
トしてその表面における異物の有無ならびにその位置を
検出させ、その検出結果からＣＲＴ画面などに異物分布
マップを作成し、その異物分布マップと前記サンプルの
マーキング状態とを比較することによって、該異物検査
装置が正常に異物を検出しているか否かを判定する、と
いう手段による異物検査装置の性能チェック方法を採用
していた。
しかしながら、上記従来方法では、次のような欠点があ
った。
った。
即ち、性能チェック時において、異物検査装置が前記サ
ンプルの表面から検出する異物は、前記標準粒子のみで
はなく他に付着していた異物をも含んでいる可能性があ
り、しかも、前記標準粒子を付着させた位置は大体のと
ころしか判っていないために、異物検査装置により検出
された異物が、前記標準粒子そのものなのか、それと
も、その標準粒子の付近に付着している他の異物なのか
不明であり、従って、サンプルの表面に付着させた全て
の標準粒子が正しく検出されているかどうかの確実な判
定を行うことは不可能であった。
ンプルの表面から検出する異物は、前記標準粒子のみで
はなく他に付着していた異物をも含んでいる可能性があ
り、しかも、前記標準粒子を付着させた位置は大体のと
ころしか判っていないために、異物検査装置により検出
された異物が、前記標準粒子そのものなのか、それと
も、その標準粒子の付近に付着している他の異物なのか
不明であり、従って、サンプルの表面に付着させた全て
の標準粒子が正しく検出されているかどうかの確実な判
定を行うことは不可能であった。
本発明は、かかる従来実情に鑑みてなされたものであっ
て、その目的は、サンプルの表面に付着させた標準粒子
の実際の位置と、異物検査装置による検出位置との対応
を正確に判定できるようにすることにより、たとえサン
プルの表面に標準粒子以外の他の異物が付着している場
合であっても、サンプルの表面に付着させた全ての標準
粒子が正しく検出されているかどうかの判定、ひいて
は、異物検査装置の性能のチェックを確実かつ容易に行
える方法を提供せんとすることにある。
て、その目的は、サンプルの表面に付着させた標準粒子
の実際の位置と、異物検査装置による検出位置との対応
を正確に判定できるようにすることにより、たとえサン
プルの表面に標準粒子以外の他の異物が付着している場
合であっても、サンプルの表面に付着させた全ての標準
粒子が正しく検出されているかどうかの判定、ひいて
は、異物検査装置の性能のチェックを確実かつ容易に行
える方法を提供せんとすることにある。
上記目的を達成するために、本発明による異物検査装置
の性能チェック方法は、ステージ上に載置された検査対
象物の表面にレーザービームを照射し、その照射レーザ
ービームの反射散乱状態を検知することにより、該検査
対象物の表面における異物の有無ならびにその位置を検
出するように構成してある異物検査装置の性能をチェッ
クする方法であって、前記検査対象物のひとつのサンプ
ルの表面に碁盤状の目盛を描き、其の碁盤状の目盛全体
の外側に其の目盛の縦方向及び横方向の座標を示す数値
を描き、其の目盛に其の全体を四分する対角線を描き、
其の目盛と座標数値が描かれたサンプルの表面を顕微鏡
で見ながら前記対角線の描かれている目盛にのみ標準粒
子を付着させ、かつ、その付着位置を確認しておくこと
により、前記標準粒子の付着位置に関するデータが既知
とされた基準検査対象物を製作しておき、性能チェック
をしようとする異物検査装置に前記基準検査対象物をセ
ットしてその表面における微小異物の有無ならびに位置
を検出させ、その検出結果と前記既知のデータとを比較
することにより、該異物検査装置が正常に検査対象物の
表面における異物を検出しているか否かを判定する、と
いう手段を採用している点に特徴がある。
の性能チェック方法は、ステージ上に載置された検査対
象物の表面にレーザービームを照射し、その照射レーザ
ービームの反射散乱状態を検知することにより、該検査
対象物の表面における異物の有無ならびにその位置を検
出するように構成してある異物検査装置の性能をチェッ
クする方法であって、前記検査対象物のひとつのサンプ
ルの表面に碁盤状の目盛を描き、其の碁盤状の目盛全体
の外側に其の目盛の縦方向及び横方向の座標を示す数値
を描き、其の目盛に其の全体を四分する対角線を描き、
其の目盛と座標数値が描かれたサンプルの表面を顕微鏡
で見ながら前記対角線の描かれている目盛にのみ標準粒
子を付着させ、かつ、その付着位置を確認しておくこと
により、前記標準粒子の付着位置に関するデータが既知
とされた基準検査対象物を製作しておき、性能チェック
をしようとする異物検査装置に前記基準検査対象物をセ
ットしてその表面における微小異物の有無ならびに位置
を検出させ、その検出結果と前記既知のデータとを比較
することにより、該異物検査装置が正常に検査対象物の
表面における異物を検出しているか否かを判定する、と
いう手段を採用している点に特徴がある。
かかる本発明によれば、標準粒子の付着位置が正確に判
っている基準検査対象物を用いて異物検査装置の性能を
チェックするようにしているので、たとえその基準検査
対象物の表面に前記標準粒子以外の他の異物が付着して
いたとしても、前記標準粒子の既知の位置と検出された
異物の測定位置とを対比することによって、全ての標準
粒子が正しく検出されているかどうかを確実かつ容易に
判定でき、もって、従来の方法に比べて、異物検査装置
の性能チェックを格段に正確に行える。しかも、前記標
準検査対象物の表面には碁盤状の目盛と座標を示す数値
を描いておくようにしているで、顕微鏡で見ながらその
表面の所望の位置に標準粒子を付着させたり、また、そ
の位置を正確に読み取ったりする際に、その作業を容易
に行うことができると共に、その位置読み取り精度を高
いものにできる。
っている基準検査対象物を用いて異物検査装置の性能を
チェックするようにしているので、たとえその基準検査
対象物の表面に前記標準粒子以外の他の異物が付着して
いたとしても、前記標準粒子の既知の位置と検出された
異物の測定位置とを対比することによって、全ての標準
粒子が正しく検出されているかどうかを確実かつ容易に
判定でき、もって、従来の方法に比べて、異物検査装置
の性能チェックを格段に正確に行える。しかも、前記標
準検査対象物の表面には碁盤状の目盛と座標を示す数値
を描いておくようにしているで、顕微鏡で見ながらその
表面の所望の位置に標準粒子を付着させたり、また、そ
の位置を正確に読み取ったりする際に、その作業を容易
に行うことができると共に、その位置読み取り精度を高
いものにできる。
さらに、碁盤状の目盛全体を四分する対角線を描き、こ
の対角線の描かれている目盛にのみ標準粒子を付着させ
るので、性能チェックが正確かつ容易になる。また、例
え、標準粒子の付着の位置に関するデータが分からなく
ても、ある程度の、性能チェックが可能となる。対角線
は、碁盤状目盛の縦方向の座標と横方向の座標の関係を
示すものであり（例えば、碁盤状目盛の全体が正方形で
あれば、縦方向の座標と横方向の座標は等しくなる）、
対角線の描かれている目盛にのみ標準粒子が付着され、
それ以外の目盛には標準粒子は付着されていないので、
異物を検出したときに縦方向の座標と横方向の座標を比
較すれば、ある程度は、性能がチェックできる。
の対角線の描かれている目盛にのみ標準粒子を付着させ
るので、性能チェックが正確かつ容易になる。また、例
え、標準粒子の付着の位置に関するデータが分からなく
ても、ある程度の、性能チェックが可能となる。対角線
は、碁盤状目盛の縦方向の座標と横方向の座標の関係を
示すものであり（例えば、碁盤状目盛の全体が正方形で
あれば、縦方向の座標と横方向の座標は等しくなる）、
対角線の描かれている目盛にのみ標準粒子が付着され、
それ以外の目盛には標準粒子は付着されていないので、
異物を検出したときに縦方向の座標と横方向の座標を比
較すれば、ある程度は、性能がチェックできる。
［発明の実施例］ 以下、本発明に係る異物検査装置の性能チェック方法の
具体的実施例を図面（第１図および第２図）に基づいて
説明する。
具体的実施例を図面（第１図および第２図）に基づいて
説明する。
第１図は、本発明方法を実施する際に用いられる治具、
即ち、予め既知の位置に標準粒子を付着して構成された
基準検査対象物１の平面図を示している。
即ち、予め既知の位置に標準粒子を付着して構成された
基準検査対象物１の平面図を示している。
この基準検査対象物１は次のような手順で製作される。
即ち、先ず、検査対象物（この例では、表裏両面を高度
な平面に研磨された透明ガラス薄板から成るレテイク
ル）ひとつのサンプル２を抽出し、その表裏両面を超純
水または超音波により洗浄して、できるだけ異物が付着
していない清浄な状態とする。
な平面に研磨された透明ガラス薄板から成るレテイク
ル）ひとつのサンプル２を抽出し、その表裏両面を超純
水または超音波により洗浄して、できるだけ異物が付着
していない清浄な状態とする。
次に、そのサンプル２の表面に、塗布またはプリントな
どの手段により、図示のような碁盤状の目盛３と座標を
示す数値４とを描く。なお、その碁盤状の目盛３を描く
に際しては、小間隔（この例では５mm間隔）毎の線を細
くし（この例では２０μｍ）、大間隔（この例では２５
mm間隔）毎の線を太くする（この例では４０μｍ）。ま
た、その碁盤状の目盛３の全体を四分する対角線５，５
も細い線（この例では２０μｍ）で描いておく。
どの手段により、図示のような碁盤状の目盛３と座標を
示す数値４とを描く。なお、その碁盤状の目盛３を描く
に際しては、小間隔（この例では５mm間隔）毎の線を細
くし（この例では２０μｍ）、大間隔（この例では２５
mm間隔）毎の線を太くする（この例では４０μｍ）。ま
た、その碁盤状の目盛３の全体を四分する対角線５，５
も細い線（この例では２０μｍ）で描いておく。
続いて、その目盛３と座標数値４を描かれたサンプル２
の表面を顕微鏡で見ながら、例えば図中斜線で示すよう
に、該サンプルの表面全体に分散する所望の部分に、２
μｍの標準粒子６・・をピペット等により複数個（２〜
３個）ずつ付着させる。
の表面を顕微鏡で見ながら、例えば図中斜線で示すよう
に、該サンプルの表面全体に分散する所望の部分に、２
μｍの標準粒子６・・をピペット等により複数個（２〜
３個）ずつ付着させる。
そして、やはりサンプル２の表面を顕微鏡で見ながら、
その付着した全ての（多すぎるときは一部でも可）標準
粒子６・・の位置を、第２図に例示するように、前記碁
盤状の目盛３と座標数値４自体を参考にし、かつ、それ
に対する内挿分割感覚も併用しながら、出来るだけ正確
に読み取って記録する。なお、前記した線の太さの規則
的な変化や対角線の存在が、この読み取り作業を容易か
つ正確に行う上で大きな助けとなる。
その付着した全ての（多すぎるときは一部でも可）標準
粒子６・・の位置を、第２図に例示するように、前記碁
盤状の目盛３と座標数値４自体を参考にし、かつ、それ
に対する内挿分割感覚も併用しながら、出来るだけ正確
に読み取って記録する。なお、前記した線の太さの規則
的な変化や対角線の存在が、この読み取り作業を容易か
つ正確に行う上で大きな助けとなる。
ところで、上記標準粒子６・・の位置の読み取り作業の
前または後で、サンプル２の表面に透明な保護膜（この
場合ペリクル膜）（図示せず）を被着させておけば、そ
の基準検査対象物１を何度も繰り返して使えるという利
点があると共に、通常のペリクル膜付きレテイクルに対
してより実情に即した検査を行える利点がある。
前または後で、サンプル２の表面に透明な保護膜（この
場合ペリクル膜）（図示せず）を被着させておけば、そ
の基準検査対象物１を何度も繰り返して使えるという利
点があると共に、通常のペリクル膜付きレテイクルに対
してより実情に即した検査を行える利点がある。
次に、上記のようにして製作された治具、つまり、標準
粒子６・・を予め付着されると共に、その付着位置に関
するデータが既知とされた基準検査対象物１を用いて、
異物検査装置の性能をチェックする方法について説明す
る。
粒子６・・を予め付着されると共に、その付着位置に関
するデータが既知とされた基準検査対象物１を用いて、
異物検査装置の性能をチェックする方法について説明す
る。
なお、図示してはいないが、その異物検査装置は、ステ
ージ上に載置された検査対象物の表面にレーザービーム
を照射し、その照射レーザービームの反射散乱状態を検
知することにより、該検査対象物の表面における異物の
有無ならびにその位置を検出するように構成されている
ものである。
ージ上に載置された検査対象物の表面にレーザービーム
を照射し、その照射レーザービームの反射散乱状態を検
知することにより、該検査対象物の表面における異物の
有無ならびにその位置を検出するように構成されている
ものである。
先ず、性能チェックをしようとする異物検査装置のステ
ージに前記基準検査対象物１をセットして、その表面に
おける異物の有無と位置とを検出させ、次に、その検出
結果と前記既知のデータとを比較して、少なくとも、前
記予め付着された標準粒子６・・の既知位置に相当する
位置の全てにおいて、異物が有ることが検出されていれ
ば、その異物検査装置は正常に異物を検出していると判
定し、実際の異物検査作業に移り、また、検出されなけ
ればならない標準粒子６・・の一部または全部の位置に
おいて、異物が有ることが検出されていなければ、該異
物検査装置の検査性能には問題があると判定し、その原
因を究明して、例えば、レーザービーム照射系の調整等
の善後策を講ずるのである。
ージに前記基準検査対象物１をセットして、その表面に
おける異物の有無と位置とを検出させ、次に、その検出
結果と前記既知のデータとを比較して、少なくとも、前
記予め付着された標準粒子６・・の既知位置に相当する
位置の全てにおいて、異物が有ることが検出されていれ
ば、その異物検査装置は正常に異物を検出していると判
定し、実際の異物検査作業に移り、また、検出されなけ
ればならない標準粒子６・・の一部または全部の位置に
おいて、異物が有ることが検出されていなければ、該異
物検査装置の検査性能には問題があると判定し、その原
因を究明して、例えば、レーザービーム照射系の調整等
の善後策を講ずるのである。
以上詳述したところから明らかなように、本発明に係る
異物検査装置の性能チェック方法によれば、標準粒子の
付着位置が正確に判っている基準検査対象物を予め製作
しておき、その基準検査対象物を用いて異物検査装置の
性能をチェックするようにしたから、たとえその基準検
査対象物の表面に前記標準粒子以外の他の異物が付着し
ていたとしても、前記標準粒子の既知の位置と検出され
た異物の測定位置とを対比することにより、該基準検査
対象物の表面に付着させた全ての標準粒子が正しく検出
されているかどうかの判定、ひいては、異物検査装置の
性能のチェックを確実かつ容易に行えるを確実かつ容易
に判定でき、従って、従来方法に比べて、微小異物検査
装置の性能チェックを格段に正確に行うことができる。
更に、前記標準検査対象物の表面には碁盤状の目盛と座
標を示す数値を描いておくようにしたので、顕微鏡で見
ながらその表面の所望の位置に標準粒子の付着させた
り、また、その位置を正確に読み取ったりする際に、そ
の作業を容易に行うことができると共に、その位置読み
取り精度を高いものにできる。
異物検査装置の性能チェック方法によれば、標準粒子の
付着位置が正確に判っている基準検査対象物を予め製作
しておき、その基準検査対象物を用いて異物検査装置の
性能をチェックするようにしたから、たとえその基準検
査対象物の表面に前記標準粒子以外の他の異物が付着し
ていたとしても、前記標準粒子の既知の位置と検出され
た異物の測定位置とを対比することにより、該基準検査
対象物の表面に付着させた全ての標準粒子が正しく検出
されているかどうかの判定、ひいては、異物検査装置の
性能のチェックを確実かつ容易に行えるを確実かつ容易
に判定でき、従って、従来方法に比べて、微小異物検査
装置の性能チェックを格段に正確に行うことができる。
更に、前記標準検査対象物の表面には碁盤状の目盛と座
標を示す数値を描いておくようにしたので、顕微鏡で見
ながらその表面の所望の位置に標準粒子の付着させた
り、また、その位置を正確に読み取ったりする際に、そ
の作業を容易に行うことができると共に、その位置読み
取り精度を高いものにできる。
さらに、碁盤状の目盛全体を四分する対角線を描き、こ
の対角線の描かれている目盛にのみ標準粒子を付着させ
るので、性能チェックが正確かつ容易になる。また、例
え、標準粒子の付着の位置に関するデータが分からなく
ても、ある程度の、性能チェックが可能となる。対角線
は、碁盤状目盛の縦方向の座標と横方向の座標の関係を
示すものであり（例えば、碁盤状目盛の全体が正方形で
あれば、縦方向の座標と横方向の座標は等しくなる）、
対角線の描かれている目盛にのみ標準粒子が付着され、
それ以外の目盛には標準粒子は付着されていないので、
異物を検出したときに縦方向の座標と横方向の座標を比
較すれば、ある程度は、性能がチェックできる。
の対角線の描かれている目盛にのみ標準粒子を付着させ
るので、性能チェックが正確かつ容易になる。また、例
え、標準粒子の付着の位置に関するデータが分からなく
ても、ある程度の、性能チェックが可能となる。対角線
は、碁盤状目盛の縦方向の座標と横方向の座標の関係を
示すものであり（例えば、碁盤状目盛の全体が正方形で
あれば、縦方向の座標と横方向の座標は等しくなる）、
対角線の描かれている目盛にのみ標準粒子が付着され、
それ以外の目盛には標準粒子は付着されていないので、
異物を検出したときに縦方向の座標と横方向の座標を比
較すれば、ある程度は、性能がチェックできる。
第１図および第２図は、本発明方法に係る異物検査装置
の性能チェック方法の具体的実施例を示し、第１図は本
発明方法を実施する際に用いる治具の全体平面図、そし
て、第２図は位置読み取り要領を説明するために要部を
拡大して示した平面図である。 また、第３図は、背景技術を説明するための要部の斜視
図である。 １…基準検査対象物、２…サンプル、３…碁盤状の目
盛、４…座標を示す数値、５…対角線、６…標準粒子。
の性能チェック方法の具体的実施例を示し、第１図は本
発明方法を実施する際に用いる治具の全体平面図、そし
て、第２図は位置読み取り要領を説明するために要部を
拡大して示した平面図である。 また、第３図は、背景技術を説明するための要部の斜視
図である。 １…基準検査対象物、２…サンプル、３…碁盤状の目
盛、４…座標を示す数値、５…対角線、６…標準粒子。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷口 実 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内 (72)発明者 向原 和秀 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内 (56)参考文献 特開 昭62−11134（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−206433（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−98532（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−97047（ＪＰ，Ａ) 特公 平４−50976（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (1)
- 【請求項１】ステージ上に載置された検査対象物の表面
にレーザービームを照射し、その照射レーザービームの
反射散乱状態を検知することにより、該検査対象物の表
面における異物の有無ならびにその位置を検出するよう
に構成してある異物検査装置の性能をチェックする方法
であって、前記検査対象物のひとつのサンプルの表面に
碁盤状の目盛を描き、其の碁盤状の目盛全体の外側に其
の目盛の縦方向及び横方向の座標を示す数値を描き、其
の目盛に其の全体を四分する対角線を描き、其の目盛と
座標数値が描かれたサンプルの表面を顕微鏡で見ながら
前記対角線の描かれている目盛にのみ標準粒子を付着さ
せ、かつ、その付着位置を確認しておくことにより、前
記標準粒子の付着位置に関するデータが既知とされた基
準検査対象物を製作しておき、性能チェックをしようと
する異物検査装置に前記基準検査対象物をセットしてそ
の表面における微小異物の有無ならびに位置を検出さ
せ、その検出結果と前記既知のデータとを比較すること
により、該異物検査装置が正常に検査対象物の表面にお
ける異物を検出しているか否かを判定することを特徴と
する異物検査装置の性能チェック方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60003833A JPH067108B2 (ja) | 1985-01-11 | 1985-01-11 | 異物検査装置の性能チエツク方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60003833A JPH067108B2 (ja) | 1985-01-11 | 1985-01-11 | 異物検査装置の性能チエツク方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61162737A JPS61162737A (ja) | 1986-07-23 |
| JPH067108B2 true JPH067108B2 (ja) | 1994-01-26 |
Family
ID=11568193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60003833A Expired - Lifetime JPH067108B2 (ja) | 1985-01-11 | 1985-01-11 | 異物検査装置の性能チエツク方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH067108B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0623695B2 (ja) * | 1987-03-27 | 1994-03-30 | 株式会社日立製作所 | 異物検査方法 |
| JP2813147B2 (ja) * | 1995-02-14 | 1998-10-22 | 三菱電機株式会社 | 微小異物の分析方法、分析装置およびこれらを用いる半導体素子もしくは液晶表示素子の製法 |
| JP5147202B2 (ja) * | 2006-06-30 | 2013-02-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 光学式欠陥検査装置 |
| CN117949606B (zh) * | 2024-01-29 | 2024-07-23 | 江苏宏基高新材料股份有限公司 | 一种筒状等静压石墨表面检测系统 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0450976A (ja) * | 1990-06-15 | 1992-02-19 | Hitachi Koki Co Ltd | 電子写真装置の現像方法 |
-
1985
- 1985-01-11 JP JP60003833A patent/JPH067108B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61162737A (ja) | 1986-07-23 |
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Legal Events
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |