JPH0671103A - 水切り用フッ素系溶剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式Ｃ₅ Ｈ₂ Ｆ₁₀で表わされるデカフルオ
ロペンタンを有効成分とする水切り用溶剤。 【効果】 本発明は、オゾン層破壊能の高いフロン１１
３を使用する水切り用溶剤に代わり得る有用な新規水切
り用溶剤を提供するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、精密機器、光学機器、
電子機器等の部品を水洗浄した後に部品の表面に付着し
た水を除去する水切り用溶剤に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】精密機器、光学機器、電子機器等の部品
を洗浄する場合、汚染物質に応じた適切な洗剤で処理し
た後、純水洗浄する方法が広く行われているが、最終的
に物品表面に存在する水を除去する乾燥工程が必要であ
る。乾燥手段としては加熱、減圧、遠心分離等の物理的
方法が古くから行われているが、近年、エネルギーコス
トが低く、高速乾燥が可能な溶剤を用いる乾燥法が普及
している。溶剤としてはトリクロロトリフルオロエタン
（以下フロンＲ１１３と称す）に界面活性剤やエタノー
ルを添加した液が広く用いられている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】フロンＲ１１３は不燃
性、低毒性、低表面張力など多くの優れた性能を有して
いるため急速に需要が伸びてきたが、化学的に安定で対
流圏内での寿命が長く、成層圏に達してオゾン層を破壊
し地表に達する有害な紫外線を増加させる結果、人類を
含む地球上の生態系に深刻な影響を与えることが近年指
摘されている。

【０００４】このため、フロンＲ１１３等オゾン破壊能
の高いフロンについて生産と消費を規制し、更に全廃す
る国際的な動きが活発になっている。本発明はかかる状
況に対応すべく、オゾン層を破壊せず、かつ、従来の水
切り剤に匹敵する水切り能を有する新規な水切り用溶剤
を提供するものである。

【０００５】

【課題を達成するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を重ねた結果、一般式Ｃ₅ Ｈ₂ Ｆ₁₀で表わされるデカフ
ルオロペンタンにアルコール類、ケトン類、界面活性剤
から選ばれる少なくとも１種を加えることにより上記課
題が達成できることを見出し、本発明に達した。一般式
Ｃ₅ Ｈ₂ Ｆ₁₀で表わされるデカフルオロペンタンとして
は、例えば、１Ｈ，２Ｈ−パーフルオロペンタン、１
Ｈ，４Ｈ−パーフルオロペンタン、２Ｈ，４Ｈ−パーフ
ルオロペンタン、２Ｈ，３Ｈ−パーフルオロペンタン等
を挙げることができる。

【０００６】一般式Ｃ₅ Ｈ₂ Ｆ₁₀で表わされる本願発明
の化合物は、公知の方法で製造し得る。例えば、１Ｈ，
２Ｈ−パーフルオロペンタンは、テトラフルオロエチレ
ン（ＴＦＥ）を、トリフルオロメチルアイオダイドでテ
ロメリゼーションした後還元、１Ｈ，４Ｈ−パーフルオ
ロペンタンは、ヘキサフルオロペン（ＨＦＰ）に１，
１，２，２−テトラフルオロエタンを付加、２Ｈ，４Ｈ
−パーフルオロペンタンは、ＨＦＰに１，１，１，２−
テトラフルオロエタンを付加、２Ｈ，３Ｈ−パーフルオ
ロペンタンは、ＨＦＰにＴＦＥを付加させた後還元する
等によって合成することができる。

【０００７】アルコール類としては、炭素数８以下のも
のが好ましく、例えば、メタノール、エタノール、１−
プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、２
−ブタノ−ル、イソブタノール、ｔ−ブタノール、１−
ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、
２−メチル−１−ブタノール、イソペンチルアルコー
ル、ｔ−ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノ
ール、ネオペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２
−メチル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタ
ノール、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタノー
ル、２−ヘプタノール３−ヘプタノール、１−オクタノ
ール、２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノー
ル、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、
２，２，２−トリフルオロエタノール、１Ｈ，１Ｈ−ペ
ンタフルオロ−１−プロパノール、２，２，３，３−テ
トラフルオロ−１−プロパノール、１Ｈ，１Ｈ−ペンタ
フルオロ−１−ブタノール、エチレングリコール、プロ
ピレングリコール等が挙げられる。より好ましくは、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール等である。ア
ルコール類の添加量は０〜３０重量％、好ましくは０〜
２０重量％、さらに好ましくは０〜１５重量％である。

【０００８】ケトン類としては、炭素数９以下のものが
好ましく、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、２
−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケト
ン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシ
クロヘキサノン等が挙げられる。より好ましくは、アセ
トン、メチルエチルケトン等である。ケトン類の添加量
は０〜３０重量％、好ましくは０〜２０重量％である。
アルコール類とケトン類の添加量の合計は０〜５０重量
％、好ましくは０〜３０重量％、より好ましくは０〜２
０重量％である。

【０００９】界面活性剤は、公知の陰イオン活性剤、陽
イオン活性剤、非イオン活性剤、両性活性剤が使用でき
る。陰イオン活性剤としては、例えば、カルボン酸塩、
スルホン酸塩、硫酸エステル塩、リン酸エステル塩等が
挙げられる。陽イオン活性剤としては、例えば、アミン
と各種酸の塩、第４級アンモニウム塩が挙げられる。非
イオン活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンの
エーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン
グリコール、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレ
ンアルキルエーテル、多価アルコールの脂肪酸部分エス
テル等が挙げられる。両性活性剤としては、例えば、ベ
タイン型、アミノ有機酸型、脂肪酸のアミン塩等が挙げ
られる。又、これらの化合物の分子中にフッ素原子を含
んだ活性剤も好適である。これらの界面活性剤の添加量
は０〜１０重量％、好ましくは０〜５重量％である。

【００１０】

【実施例】以下、実施例を用いて説明する。 実施例１〜２３ 直径０．８ｍｍのガラスビーズ１００ｇを直径４０ｍ
ｍ、高さ６０ｍｍの金網籠（３０メッシュ）に入れ、籠
ごと染料で着色した水に浸した後、ビーカーに仕込んだ
水切り用溶剤５００ｍｌに２分間浸漬し、水の残留状態
を目視で観察した。結果を表１〜４に示す。

【００１１】

【表１】

【００１２】

【表２】

【００１３】

【表３】

【００１４】

【表４】

【００１５】

【発明の効果】実施例から明らかなように、本発明の水
切り用溶剤は、オゾン層破壊能の高いフロン１１３を使
用する水切り用溶剤に代わる溶剤として有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平4−175458 (32)優先日 平４(1992)７月２日 (33)優先権主張国 日本（ＪＰ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式Ｃ₅ Ｈ₂ Ｆ₁₀で表わされるデカフ
   ルオロペンタンを有効成分として含む水切り用溶剤。