JPH0673663B2 - 水の処理装置 - Google Patents
水の処理装置Info
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- JPH0673663B2 JPH0673663B2 JP28966389A JP28966389A JPH0673663B2 JP H0673663 B2 JPH0673663 B2 JP H0673663B2 JP 28966389 A JP28966389 A JP 28966389A JP 28966389 A JP28966389 A JP 28966389A JP H0673663 B2 JPH0673663 B2 JP H0673663B2
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- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、有機ハロゲン化合物をはじめ揮発性物質を
含有する排水などを浄化する水の処理装置に関するもの
である。
含有する排水などを浄化する水の処理装置に関するもの
である。
従来の技術 従来、この種の例えば排水の処理装置として、第７図に
示すように、下部に給気口102が、上部に排気口103が設
けられたケーシング101の内部に、給気口102から供給す
る気体と給水口107からの排水とが効率的に気液接触さ
せるための仕切部（充填材部）105,106を設けたものが
知られている。
示すように、下部に給気口102が、上部に排気口103が設
けられたケーシング101の内部に、給気口102から供給す
る気体と給水口107からの排水とが効率的に気液接触さ
せるための仕切部（充填材部）105,106を設けたものが
知られている。
108は両仕切部105.106間に設けた分散管、110は給水口1
07をもった散水管で、この散水管110のケーシング101外
に突出した開口端部にはポンプ111を具えた送水管路112
が接続されている。113は送風機である。
07をもった散水管で、この散水管110のケーシング101外
に突出した開口端部にはポンプ111を具えた送水管路112
が接続されている。113は送風機である。
前記において、ポンプ111によって送水管路112を経て散
水管110の給水口107からケーシング101内に供給される
排水は、まず仕切部105の表面へ落下して該表面を伝わ
ることによってその表面積を広げ、仕切部105を通過す
る。そして、分散管108で受けとめられた後、ここから
仕切部106へ落下して該表面を伝わり、前記と同様に仕
切部106を通過し、ケーシング101の底部へ落下するが、
この間に送風機113によってケーシング101内に送られる
仕切部106下方からの空気と気液接触し、曝気処理され
る。
水管110の給水口107からケーシング101内に供給される
排水は、まず仕切部105の表面へ落下して該表面を伝わ
ることによってその表面積を広げ、仕切部105を通過す
る。そして、分散管108で受けとめられた後、ここから
仕切部106へ落下して該表面を伝わり、前記と同様に仕
切部106を通過し、ケーシング101の底部へ落下するが、
この間に送風機113によってケーシング101内に送られる
仕切部106下方からの空気と気液接触し、曝気処理され
る。
発明が解決しようとする課題 ところで、前記のような装置の場合、排水と空気との接
触を長くして曝気処理効率を上げ、排水が仕切部105,10
6の壁を伝って滴下するショートパス現象を防止するた
めに前記のような複数個の仕切部105,106と、分散管108
が必要であり、そのため、容積の大きいケーシング101
を設けねばならず、装置が大型化してしまうという問題
点があった。
触を長くして曝気処理効率を上げ、排水が仕切部105,10
6の壁を伝って滴下するショートパス現象を防止するた
めに前記のような複数個の仕切部105,106と、分散管108
が必要であり、そのため、容積の大きいケーシング101
を設けねばならず、装置が大型化してしまうという問題
点があった。
そこで、この発明は、前記のような従来の問題点を解決
し、簡単な設備によってケーシングの容積を小さくでき
て装置をコンパクト化できる水の処理装置を提供するこ
とを目的とする。
し、簡単な設備によってケーシングの容積を小さくでき
て装置をコンパクト化できる水の処理装置を提供するこ
とを目的とする。
課題を解決するための手段 前記目的を達成するため、この発明は、下部に給気口
が、上部に排気口が設けられたケーシングの内部に、前
記給気口から供給する気体を傾斜流となして通過させる
多数のスリットを有する１個の仕切部を設け、この仕切
部の上方のケーシングに給水口を設けた装置であって、
前記スリットが仕切部に同心状に形成される円形状のも
のからなっており、かつこの円形状スリットのある仕切
部の下方のケーシングを密閉構造とするとともに、該下
方のケーシング内に気体を供給して加圧し、仕切部の上
方のケーシング内に給水口から給水される水に抗して該
気体をスリットから傾斜流として通過させる気体供給部
材を前記給気口に接続し、また前記仕切部の中央部を下
方から貫通して所定高さ突出する排水管をケーシング外
から内部に向けて縦向きに設け、前記給水口から供給さ
れる水をほぼ１周させて堰き止める縦向きの遮蔽板を、
前記仕切部の上部から排水管の上部にかけて前記排水管
とケーシングの周壁との間に設け、この遮蔽板で堰き止
めた水を排水管へ導入する排水口を、前記仕切部の上方
のケーシング内の排水の液面より下方において、該遮蔽
板の流入側とは反対側の排水管の周壁に設けたことを特
徴とするものである。
が、上部に排気口が設けられたケーシングの内部に、前
記給気口から供給する気体を傾斜流となして通過させる
多数のスリットを有する１個の仕切部を設け、この仕切
部の上方のケーシングに給水口を設けた装置であって、
前記スリットが仕切部に同心状に形成される円形状のも
のからなっており、かつこの円形状スリットのある仕切
部の下方のケーシングを密閉構造とするとともに、該下
方のケーシング内に気体を供給して加圧し、仕切部の上
方のケーシング内に給水口から給水される水に抗して該
気体をスリットから傾斜流として通過させる気体供給部
材を前記給気口に接続し、また前記仕切部の中央部を下
方から貫通して所定高さ突出する排水管をケーシング外
から内部に向けて縦向きに設け、前記給水口から供給さ
れる水をほぼ１周させて堰き止める縦向きの遮蔽板を、
前記仕切部の上部から排水管の上部にかけて前記排水管
とケーシングの周壁との間に設け、この遮蔽板で堰き止
めた水を排水管へ導入する排水口を、前記仕切部の上方
のケーシング内の排水の液面より下方において、該遮蔽
板の流入側とは反対側の排水管の周壁に設けたことを特
徴とするものである。
前記において円形状のスリットに代えて、スリットを直
線状のものとし、かつ仕切部の一側に前記給水口を設け
るとともに、他側に排水口を設けてもよい。
線状のものとし、かつ仕切部の一側に前記給水口を設け
るとともに、他側に排水口を設けてもよい。
また、前記いずれの場合にも給水口にポンプを具えた送
水管路を接続し、この送水管路のポンプと給水口との間
に、送られる水を加熱する加熱手段を設けるのが好まし
い。
水管路を接続し、この送水管路のポンプと給水口との間
に、送られる水を加熱する加熱手段を設けるのが好まし
い。
作用 給水口からケーシング内に供給された水は、仕切部上を
そのスリットに沿ってほぼ１周したのち、遮蔽板に堰き
止められるが、この間に給気口から仕切部の下方のケー
シング内に供給されて加圧され、仕切部の多数のスリッ
トを傾斜流として通過し、仕切部の上方のケーシング内
に吹き上げる気体と激しく気液接触して曝気処理され
る。そして、このようにして処理された水は排水管の排
水口からケーシング外に排水される。
そのスリットに沿ってほぼ１周したのち、遮蔽板に堰き
止められるが、この間に給気口から仕切部の下方のケー
シング内に供給されて加圧され、仕切部の多数のスリッ
トを傾斜流として通過し、仕切部の上方のケーシング内
に吹き上げる気体と激しく気液接触して曝気処理され
る。そして、このようにして処理された水は排水管の排
水口からケーシング外に排水される。
スリットが直線状の場合は、給水口からスリットを通過
して排水口へ送られる間に同様に曝気処理される。
して排水口へ送られる間に同様に曝気処理される。
加熱手段がある場合は、水を加熱したうえで供給でき
る。
る。
実施例 第1,2図において１は円筒状のケーシングで、下部に給
気口２が、上部に排気口３が設けられている。給気口２
よりやや上方のケーシング１の内部には１個のスリット
板（仕切部）５が設けられ、該スリット板の上方のケー
シング１には給水口６が設けられている。
気口２が、上部に排気口３が設けられている。給気口２
よりやや上方のケーシング１の内部には１個のスリット
板（仕切部）５が設けられ、該スリット板の上方のケー
シング１には給水口６が設けられている。
７は排水管で、ケーシング１の底壁およびスリット板５
の中央部を貫通して設置されている。排水管７の上端は
閉塞されてスリット板５より所定高さ突出されており、
かつ上端よりやや下方の周壁には処理水を排水する排水
口８が形成されている。排水口８の排水管７の周方向に
おける形成位置は、例えば給水口６から供給された排水
をほぼ１周させた後に堰き止めるために、排水管７とケ
ーシング１の周壁との間に設けられた遮蔽板10の近くと
なっている。
の中央部を貫通して設置されている。排水管７の上端は
閉塞されてスリット板５より所定高さ突出されており、
かつ上端よりやや下方の周壁には処理水を排水する排水
口８が形成されている。排水口８の排水管７の周方向に
おける形成位置は、例えば給水口６から供給された排水
をほぼ１周させた後に堰き止めるために、排水管７とケ
ーシング１の周壁との間に設けられた遮蔽板10の近くと
なっている。
前記したスリット板５には第3,4図に示すように給気口
２から供給した空気（気体）を通過させる多数のスリッ
ト12が排水間７と同心に円形状に形成されている。スリ
ット12はスリット板５の中心部から外周側へスリット板
５の上面に対して所定角度θ（例えば30〜45°）傾斜し
ている。
２から供給した空気（気体）を通過させる多数のスリッ
ト12が排水間７と同心に円形状に形成されている。スリ
ット12はスリット板５の中心部から外周側へスリット板
５の上面に対して所定角度θ（例えば30〜45°）傾斜し
ている。
スリット12の巾ｌは、例えば0.1mm＜ｌ＜3mm程度となっ
ている。また、スリット板５より下方のケーシング１内
は密閉構造となっており、この密閉構造のケーシング１
内の圧力は、給気口２に接続され、ケーシング１内に空
気を供給して加圧する送風機21によって通常200〜1000m
mAq程度に保たれている。そして、このときスリット12
からスリット板５の上方のケーシング１内に吹き上げる
空気の初速度は30m/sec以上にも達するようになってい
る。したがって、スリット板５の上方のケーシング１内
に供給される排水が、スリット12から落下して下方のケ
ーシング１内に入ることはない。
ている。また、スリット板５より下方のケーシング１内
は密閉構造となっており、この密閉構造のケーシング１
内の圧力は、給気口２に接続され、ケーシング１内に空
気を供給して加圧する送風機21によって通常200〜1000m
mAq程度に保たれている。そして、このときスリット12
からスリット板５の上方のケーシング１内に吹き上げる
空気の初速度は30m/sec以上にも達するようになってい
る。したがって、スリット板５の上方のケーシング１内
に供給される排水が、スリット12から落下して下方のケ
ーシング１内に入ることはない。
第１図でケーシング１の給水口６にはポンプ15、熱交換
器16およびヒータ17を具えた送水管路18が接続され、ま
た熱交換器16と排水管７との間には別の送水管路20が接
続されている。
器16およびヒータ17を具えた送水管路18が接続され、ま
た熱交換器16と排水管７との間には別の送水管路20が接
続されている。
前記実施例の作用を、次に説明する。
ポンプ15によって送水管路18を経て送られた排水は、熱
交換器16によって温められるとともに、ヒータ17によっ
て所定温度まで上げられる。
交換器16によって温められるとともに、ヒータ17によっ
て所定温度まで上げられる。
しかる後、給水口６からケーシング１内のスリット板５
上に入った排水は、送風機21によって給気口２からスリ
ット板５の下方のケーシング１内に供給されて加圧さ
れ、スリット12から傾斜流となって吹き上げる空気と激
しく接触する。そして、接触状態で第1,2図に黒点矢印
で示すようにスリット12に沿ってほぼ１周する間に曝気
処理される。処理水は排水口８から排水管７内に入り、
ケーシング１外へ排出される。
上に入った排水は、送風機21によって給気口２からスリ
ット板５の下方のケーシング１内に供給されて加圧さ
れ、スリット12から傾斜流となって吹き上げる空気と激
しく接触する。そして、接触状態で第1,2図に黒点矢印
で示すようにスリット12に沿ってほぼ１周する間に曝気
処理される。処理水は排水口８から排水管７内に入り、
ケーシング１外へ排出される。
そして、排水された温かい処理水は送水管路20を経て熱
交換器16へ送られ、ここでポンプ15から送られてくる排
水と熱交換し、常温に戻る。一方、この処理水と熱交換
される前記ポンプからの排水はヒータ17によって加熱さ
れる前に予め温められる。
交換器16へ送られ、ここでポンプ15から送られてくる排
水と熱交換し、常温に戻る。一方、この処理水と熱交換
される前記ポンプからの排水はヒータ17によって加熱さ
れる前に予め温められる。
このように排水の水温を熱交換器16で予め高くすること
によって水中の揮発性物質の除去効率が高められ、しか
もヒータ17によって所定温度とすることによって除去効
率の安定化が図れる。例えばトリクロロエチレン800ppm
を含む排水を処理すると、0.3ppm以下の処理水が得ら
れ、また、水温10℃の排水を30℃まで上昇させて処理す
ると、処理水量が約２倍にまで可能となることが実験の
結果わかった。
によって水中の揮発性物質の除去効率が高められ、しか
もヒータ17によって所定温度とすることによって除去効
率の安定化が図れる。例えばトリクロロエチレン800ppm
を含む排水を処理すると、0.3ppm以下の処理水が得ら
れ、また、水温10℃の排水を30℃まで上昇させて処理す
ると、処理水量が約２倍にまで可能となることが実験の
結果わかった。
第5,6図は別の実施例を示し、この実施例は前記実施例
のスリット12および排水管７に代えて、角筒状のケーシ
ング51の内部に設けたスリット板52が多数の直線状のも
のからなっていて、その並列された板52間でスリット53
を形成するようになっている点、このスリット板52のス
リット53と直交するケーシング51の一側に給水口55が、
同他側に処理水の排水口56が設けられている点、で前記
実施例と相違する。
のスリット12および排水管７に代えて、角筒状のケーシ
ング51の内部に設けたスリット板52が多数の直線状のも
のからなっていて、その並列された板52間でスリット53
を形成するようになっている点、このスリット板52のス
リット53と直交するケーシング51の一側に給水口55が、
同他側に処理水の排水口56が設けられている点、で前記
実施例と相違する。
この実施例の場合、給水口55からケーシング51内に入っ
た排水は、スリット板52上をスリット53を通って排水口
56まで行く間に、前記実施例と同様にスリット53から吹
き上げる空気と激しく接触して曝気処理される。
た排水は、スリット板52上をスリット53を通って排水口
56まで行く間に、前記実施例と同様にスリット53から吹
き上げる空気と激しく接触して曝気処理される。
尚、前記においては排水の処理についてのみ説明した
が、この発明は排水だけでなく、超純水中の微量TOC除
去などほかの水の処理にも適用できる。
が、この発明は排水だけでなく、超純水中の微量TOC除
去などほかの水の処理にも適用できる。
発明の効果 請求項１、２の場合には、給水口からケーシング内に入
る水を仕切部上に沿って送る間に仕切部のスリットの下
方から吹き上げる気体と激しく接触させて曝気処理する
ため、従来の装置のように複数個の仕切部や、分散管を
設ける必要がなく、したがってケーシングの容積を大き
くする必要がなく、コンパクトなものにすることがで
き、しかも曝気処理が連続的にできるので、水の処理の
高効率化、高能率化を図れる。
る水を仕切部上に沿って送る間に仕切部のスリットの下
方から吹き上げる気体と激しく接触させて曝気処理する
ため、従来の装置のように複数個の仕切部や、分散管を
設ける必要がなく、したがってケーシングの容積を大き
くする必要がなく、コンパクトなものにすることがで
き、しかも曝気処理が連続的にできるので、水の処理の
高効率化、高能率化を図れる。
請求項３の場合には、加熱手段によって給水口からケー
シング内に供給される水を加熱することが可能となるの
で、前記効果に加えて水中からの揮発性物質の除去をよ
り効果的で、安定したものにすることができる。
シング内に供給される水を加熱することが可能となるの
で、前記効果に加えて水中からの揮発性物質の除去をよ
り効果的で、安定したものにすることができる。
第１図はこの発明の一実施例を示す全体の概略正面図、
第２図は同上の概略平面図、第３図はスリット板と排水
管の取付状態を示す平面図、第４図はスリット板、排水
管およびケーシングの取付状態を示す平面図、第５図は
別の実施例を示す要部の正面図、第６図は同上のスリッ
ト板の平面図、第７図は従来の典型的な例を示す全体の
概略正面図である。 １…ケーシング、２…給気口、３…排気口 ５…スリット板、６…給水口、７…排水管 ８…排水口、10…遮蔽板、12…スリット 15…ポンプ、16…熱交換器、17…ヒータ 18,20…送水管路、21…送風機 51…ケーシング、52…スリット板 53…スリット、55…給水口、56…排水口
第２図は同上の概略平面図、第３図はスリット板と排水
管の取付状態を示す平面図、第４図はスリット板、排水
管およびケーシングの取付状態を示す平面図、第５図は
別の実施例を示す要部の正面図、第６図は同上のスリッ
ト板の平面図、第７図は従来の典型的な例を示す全体の
概略正面図である。 １…ケーシング、２…給気口、３…排気口 ５…スリット板、６…給水口、７…排水管 ８…排水口、10…遮蔽板、12…スリット 15…ポンプ、16…熱交換器、17…ヒータ 18,20…送水管路、21…送風機 51…ケーシング、52…スリット板 53…スリット、55…給水口、56…排水口
Claims (3)
- 【請求項１】下部に給気口が、上部に排気口が設けられ
たケーシングの内部に、前記給気口から供給する気体を
傾斜流となして通過させる多数のスリットを有する１個
の仕切部を設け、この仕切部の上方のケーシングに給水
口を設けた装置であって、 前記スリットが仕切部に同心状に形成される円形状のも
のからなっており、かつこの円形状スリットのある仕切
部の下方のケーシングを密閉構造とするとともに、該下
方のケーシング内に気体を供給して加圧し、仕切部の上
方のケーシング内に給水口から給水される水に抗して該
気体をスリットから傾斜流として通過させる気体供給部
材を前記給気口に接続し、また前記仕切部の中央部を下
方から貫通して所定高さ突出する排水管をケーシング外
から内部に向けて縦向きに設け、前記給水口から供給さ
れる水をほぼ１周させて堰き止める縦向きの遮蔽板を、
前記仕切部の上部から排水管の上部にかけて前記排水管
とケーシングの周壁との間に設け、この遮蔽板で堰き止
めた水を排水管へ導入する排水口を、前記仕切部の上方
のケーシング内の排水の液面より下方において、該遮蔽
板の流入側とは反対側の排水管の周壁に設けたことを特
徴とする水の処理装置。 - 【請求項２】下部に給気口が、上部に排気口が設けられ
たケーシングの内部に、前記給気口から供給する気体を
傾斜流となして通過させる多数のスリットを有する１個
の仕切部を設け、この仕切部の上方のケーシングに給水
口を設けた装置であって、 前記スリットが仕切部に並列して形成される直線状のも
のからなっており、かつこの直線状スリットのある仕切
部の下方のケーシングを密閉構造とするとともに、該下
方のケーシング内に気体を供給して加圧し、仕切部の上
方のケーシング内に給水口から給水される水に抗して該
気体をスリットから傾斜流として通過させる気体供給部
材を前記給気口に接続し、また前記仕切部の一側に前記
給水口が配置されているとともに、他側に排水口を設け
たことを特徴とする水の処理装置。 - 【請求項３】請求項１又は２記載の水の処理装置におい
て、給水口にポンプを具えた送水管路を接続し、この送
水管路のポンプと給水口との間に、送られる水を加熱す
る加熱手段を設けたことを特徴とする水の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28966389A JPH0673663B2 (ja) | 1989-11-07 | 1989-11-07 | 水の処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28966389A JPH0673663B2 (ja) | 1989-11-07 | 1989-11-07 | 水の処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03151090A JPH03151090A (ja) | 1991-06-27 |
| JPH0673663B2 true JPH0673663B2 (ja) | 1994-09-21 |
Family
ID=17746144
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28966389A Expired - Fee Related JPH0673663B2 (ja) | 1989-11-07 | 1989-11-07 | 水の処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0673663B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2783500B2 (ja) * | 1993-11-10 | 1998-08-06 | オリオン機械株式会社 | 揮発性物質の除去方法 |
| JP2826052B2 (ja) * | 1993-11-10 | 1998-11-18 | オリオン機械株式会社 | 揮発性物質の除去装置 |
-
1989
- 1989-11-07 JP JP28966389A patent/JPH0673663B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03151090A (ja) | 1991-06-27 |
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