JPH0675242A - Production of nonlinear element substrate - Google Patents
Production of nonlinear element substrateInfo
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 大きい残留分極と低い抗電界を有する強誘電
体層を備えた非線形素子基板を得る。
【構成】 基板上に形成された強誘電体層に対し、せん
断応力を与えることにより、強誘電体における分子の配
向方向を制御して、強誘電性を発現できる結晶構造の割
合を増大させる。この強誘電体層にせん断応力を与える
ためには、布、紙または樹脂などによって強誘電体層の
表面をラビングする。また、基板がフレキシビリティー
を有する場合には、強誘電体層の延伸または曲げを行う
ことによりせん断応力を与えることもできる。(57) [Summary] [Objective] To obtain a non-linear device substrate having a ferroelectric layer having a large remanent polarization and a low coercive electric field. [Structure] By applying shear stress to a ferroelectric layer formed on a substrate, the orientation direction of molecules in the ferroelectric substance is controlled, and the ratio of the crystal structure capable of exhibiting ferroelectricity is increased. In order to apply shear stress to the ferroelectric layer, the surface of the ferroelectric layer is rubbed with cloth, paper, resin or the like. When the substrate has flexibility, it is possible to give a shear stress by stretching or bending the ferroelectric layer.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置などの表
示装置や光変調素子などに用いられる非線形素子基板の
製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a non-linear element substrate used for a display device such as a liquid crystal display device or an optical modulator.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、非線形素子基板が液晶表示装置の
アクティブ基板として用いられている。図5(a)、
(b)、(c)にこのようなアクティブ基板の一例を示
す。図5(a)においては、基板11上に、第1の電極
12が形成され、これを覆うようにして、強誘電体層1
3が形成され、その上に第2の電極14が形成されてい
る。図(b)においては、基板11上に強誘電体層こ3
が形成され、その上に離隔された状態で第1の電極12
と第2の電極14が形成されている。また、図5(c)
においては、基板11上に第1の電極12と第2の電極
14とが離隔されて形成され、それを覆うようにして強
誘電体層13が形成されている。さらにこれらの非線形
素子基板と対向基板15との間に液晶が封入されて、液
晶表示装置が形成される。2. Description of the Related Art Conventionally, a non-linear element substrate has been used as an active substrate of a liquid crystal display device. FIG. 5 (a),
An example of such an active substrate is shown in (b) and (c). In FIG. 5A, the first electrode 12 is formed on the substrate 11, and the ferroelectric layer 1 is formed so as to cover the first electrode 12.
3 is formed, and the second electrode 14 is formed thereon. In FIG. 2B, the ferroelectric layer 3 is formed on the substrate 11.
Is formed, and the first electrode 12 is formed on the first electrode 12 in a separated state.
And the second electrode 14 is formed. In addition, FIG.
In the above, the first electrode 12 and the second electrode 14 are formed on the substrate 11 at a distance from each other, and the ferroelectric layer 13 is formed so as to cover the first electrode 12 and the second electrode 14. Further, a liquid crystal is sealed between these non-linear element substrate and counter substrate 15 to form a liquid crystal display device.
【0003】このような非線形素子基板において、強誘
電体層としては、スピンコートやディッピングなどのコ
ーティング工程のみで強誘電性を示すことができるポリ
フッ化ビニリデン−トリフロロエチレン共重合体(ポリ
フッ化ビニリデン含有率が約50〜80mol%のも
の)が知られている。この材料においては、比較的大き
な残留分極と安定した抗電界を有し、耐熱性も良いなど
優れた性質を持っており、広く用いられている。In such a non-linear element substrate, the ferroelectric layer is a polyvinylidene fluoride-trifluoroethylene copolymer (polyvinylidene fluoride) which can exhibit ferroelectricity only by a coating process such as spin coating or dipping. It is known that the content is about 50 to 80 mol%. This material has excellent properties such as a relatively large remanent polarization, a stable coercive electric field, and good heat resistance, and is widely used.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記ポリフッ化ビニリ
デン−トリフロロエチレン共重合体は、上記のように、
優れた性質を持っているが、例えば、液晶表示装置のア
クティブ基板として用いられる非線形素子基板に用いた
場合においては、以下のような欠点がある。例えば、膜
厚2000オングストロームとした場合、抗電界が20
V程度あるため、駆動電圧が30〜40V以上必要とな
り、液晶表示装置の最大のメリットの1つである低消費
電力という特性が充分生かされない。また、残留分極の
値も不十分であるため、充分なコントラストが得られ
ず、良好な表示が得られないという問題点もある。また
ポリフッ化ビニリデン−トリフロロエチレン共重合体の
代わりにポリフッ化ビニリデン−テトラフロロエチレン
共重合体を用いた場合は、より耐熱性に優れたものとで
きるが、この場合、コーティング工程のみでは強誘電性
が発現されず、延伸処理やポーリング処理を行う必要が
ある。基板上に形成された層においては、上記のような
処理を行うことは困難であり、充分な強誘電性が得られ
ていない。The above-mentioned polyvinylidene fluoride-trifluoroethylene copolymer has the following structure.
Although it has excellent properties, it has the following drawbacks when used as a non-linear element substrate used as an active substrate of a liquid crystal display device, for example. For example, when the film thickness is 2000 angstrom, the coercive electric field is 20
Since the voltage is about V, a driving voltage of 30 to 40 V or more is required, and the characteristic of low power consumption, which is one of the greatest merits of the liquid crystal display device, cannot be fully utilized. Further, since the value of the remanent polarization is insufficient, sufficient contrast cannot be obtained, and good display cannot be obtained. When polyvinylidene fluoride-trifluoroethylene copolymer is used instead of polyvinylidene fluoride-trifluoroethylene copolymer, the heat resistance can be further improved. Property is not expressed, and it is necessary to perform stretching treatment or poling treatment. It is difficult to perform the above-mentioned treatment on the layer formed on the substrate, and sufficient ferroelectricity is not obtained.
【0005】本発明は、上記問題点を解決するためのも
のであり、大きい残留分極と低い抗電界を有する強誘電
体層を備えた非線形素子基板の製造方法を提供すること
を目的とする。The present invention is intended to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a non-linear element substrate having a ferroelectric layer having a large remanent polarization and a low coercive electric field.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の非線形基板の製
造方法は、基板上に第1の電極と第2の電極とが強誘電
体層を挟んで、または、強誘電体層の同一広面上に第1
の電極と第2の電極とが離隔して、形成された非線形素
子基板において、基板上に第1の電極と第2の電極と強
誘電体層とを所定の配置で形成する工程と、該強誘電体
層にせん断応力を与える工程とを含み、そのことにより
上記目的が達成される。According to the method of manufacturing a non-linear substrate of the present invention, a first electrode and a second electrode sandwich a ferroelectric layer on a substrate, or the same wide surface of the ferroelectric layer. First on top
Forming a first electrode, a second electrode and a ferroelectric layer on the substrate in a predetermined arrangement in the nonlinear element substrate formed by separating the electrode of the first electrode and the second electrode from each other; Applying a shear stress to the ferroelectric layer, whereby the above object is achieved.
【0007】前記せん断応力をラビング処理によって、
前記強誘電体層に与えてもよい。By rubbing the shear stress,
It may be applied to the ferroelectric layer.
【0008】前記せん断応力を前記強誘電体層の延伸ま
たは曲げによって与えてもよい。The shear stress may be applied by stretching or bending of the ferroelectric layer.
【0009】[0009]
【作用】基板上に形成された強誘電体層に対し、せん断
応力を与えることにより、強誘電体層における分子の配
向方向が制御される、これにより、強誘電性を発現でき
る結晶構造の割合が増大する。[Function] By giving shear stress to the ferroelectric layer formed on the substrate, the orientation direction of the molecules in the ferroelectric layer is controlled, whereby the proportion of the crystal structure capable of exhibiting the ferroelectricity. Will increase.
【0010】[0010]
【実施例】以下に本発明の実施例を図面を参照しながら
説明する。尚、本発明は以下の材料、工程条件などに限
定されるものではない。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The present invention is not limited to the following materials and process conditions.
【0011】図1に本発明の製造方法を用いて製造され
る非線形素子基板の一例を示す。FIG. 1 shows an example of a non-linear element substrate manufactured by using the manufacturing method of the present invention.
【0012】この非線形素子基板においては、基板1上
に第1の電極2が形成され、その上を覆うようにして、
基板1上に強誘電体層3が形成されている。さらに、強
誘電体層3の上に、第1の電極2と一部重なるようにし
て第2の電極4が形成されている。In this non-linear element substrate, the first electrode 2 is formed on the substrate 1 so as to cover it,
A ferroelectric layer 3 is formed on the substrate 1. Further, the second electrode 4 is formed on the ferroelectric layer 3 so as to partially overlap the first electrode 2.
【0013】この強誘電体層3は、せん断応力を与える
ことにより分子の配向方向が制御される材料からなって
いる。このような材料としては、例えば、ポリフッ化ビ
ニリデン−トリフロロエチレン共重合体、ポリフッ化ビ
ニリデン−テトラフロロエチレン共重合体、ポリフッ化
ビニリデンホモポリマー、シアン化ビニリデン−酢酸ビ
ニル共重合体などが挙げられる。The ferroelectric layer 3 is made of a material whose molecular orientation is controlled by applying shear stress. Examples of such materials include polyvinylidene fluoride-trifluoroethylene copolymer, polyvinylidene fluoride-tetrafluoroethylene copolymer, polyvinylidene fluoride homopolymer, vinylidene cyanide-vinyl acetate copolymer, and the like. .
【0014】この強誘電体層3に、せん断応力を与える
方法としては、例えば、 (1)布、紙または樹脂などによって強誘電体層3の表
面をラビングする。As a method of applying a shear stress to the ferroelectric layer 3, for example, (1) the surface of the ferroelectric layer 3 is rubbed with cloth, paper or resin.
【0015】(2)基板がフレキシビリティーを有する
場合は、強誘電体層3の延伸または曲げを行う。(2) When the substrate has flexibility, the ferroelectric layer 3 is stretched or bent.
【0016】などが挙げられる。And the like.
【0017】尚、素子構造は、ここに示したものものに
限られず、例えば、強誘電体層に対し、第1の電極が上
にあり、第2の電極が下にあるものであってもよい。ま
た、第1および第2の電極を強誘電体層の上または下に
並列させたものであってもよい。The element structure is not limited to the one shown here, and for example, the first electrode may be above and the second electrode may be below the ferroelectric layer. Good. Further, the first and second electrodes may be arranged in parallel above or below the ferroelectric layer.
【0018】この非線形素子基板は、以下のようにして
作製することができる。This non-linear element substrate can be manufactured as follows.
【0019】(実施例1)この実施例においては、図1
に示す強誘電体層3を、ポリフッ化ビニリデン−トリフ
ロロエチレン(含有率78:22)共重合体を用いて形
成した。また、強誘電体層3にせん断応力を与える方法
としては、強誘電体層3の表面をラビングする方法を用
いた。具体的には以下の通りである。(Embodiment 1) In this embodiment, FIG.
Was formed using a polyvinylidene fluoride-trifluoroethylene (content ratio 78:22) copolymer. As a method of applying shear stress to the ferroelectric layer 3, a method of rubbing the surface of the ferroelectric layer 3 was used. Specifically, it is as follows.
【0020】まず、ガラス基板上にアルミニウム、チタ
ン、タンタル、ニオブ、銅、ITOなどの導電体を用い
て第1の電極を形成した。次に、ポリフッ化ビニリデン
−トリフロロエチレン共重合体をメチルエチルケトンに
溶解し、これを第1の電極を覆うようにして、スピンコ
ート法により2000オングストロームの厚さに塗布し
た。その後、145℃で30分間焼成して、50℃/h
rの速度で降温することにより、強誘電体層を形成し
た。First, a first electrode was formed on a glass substrate using a conductor such as aluminum, titanium, tantalum, niobium, copper or ITO. Next, the polyvinylidene fluoride-trifluoroethylene copolymer was dissolved in methyl ethyl ketone, and this was applied to a thickness of 2000 angstrom by a spin coating method so as to cover the first electrode. After that, bake at 145 ° C for 30 minutes, 50 ° C / h
A ferroelectric layer was formed by lowering the temperature at a rate of r.
【0021】次に、強誘電体層の表面を、ナイロン系の
布であるYO−1O(吉川化工株式会社製)を用いてラ
ビング処理した。その後、イソプロピルアルコールを用
いて超音波洗浄して、強誘電体層の表面に付着した繊維
などを取り除いた。その上にアルミニウム、チタン、タ
ンタル、ニオブ、銅、ITOなどの導電体を用いて第2
の電極4を形成して、非線形素子基板とした。Next, the surface of the ferroelectric layer was rubbed with a nylon cloth, YO-10 (manufactured by Yoshikawa Kako Co., Ltd.). After that, ultrasonic cleaning was performed using isopropyl alcohol to remove the fibers and the like adhering to the surface of the ferroelectric layer. On top of that, a conductor such as aluminum, titanium, tantalum, niobium, copper, or ITO is used.
The electrode 4 of was formed to be a non-linear element substrate.
【0022】上記のようにして得られた非線形素子に、
容量100nFのコンデンサを直列に接続して、±40
V、30Hzの三角波を印加した時の電界−電気変位ヒ
ステリシス曲線を測定した結果を図2に示す。ここで、
Eは電界を示し、Dは電気変位を示す。また、ここに、
比較例として、ラビング工程を行わなかった以外は実施
例1と同様にして形成した素子基板も併せて示す。In the nonlinear element obtained as described above,
Connect a capacitor with a capacity of 100 nF in series to obtain ± 40
The measurement result of the electric field-electrical displacement hysteresis curve when a triangular wave of V and 30 Hz is applied is shown in FIG. here,
E indicates an electric field and D indicates an electric displacement. Also here
As a comparative example, an element substrate formed in the same manner as in Example 1 except that the rubbing step was not performed is also shown.
【0023】図2から理解されるように、本実施例の非
線形素子基板においては、図2に記号Prとして示され
る残留分極が大きくなり、かつ、図2に記号Ecとして
示される抗電界が減少している。As can be seen from FIG. 2, in the nonlinear element substrate of this embodiment, the remanent polarization indicated by the symbol Pr in FIG. 2 becomes large and the coercive electric field indicated by the symbol Ec in FIG. 2 decreases. is doing.
【0024】(実施例2)この実施例においては、図1
の強誘電体層3を、ポリフッ化ビニリデン−テトラフロ
ロエチレン(含有率20:80)共重合体を用いて形成
した。この非線形素子基板の製造は、実施例1と同様に
して行った。(Embodiment 2) In this embodiment, FIG.
The ferroelectric layer 3 of 1. was formed using a polyvinylidene fluoride-tetrafluoroethylene (content ratio 20:80) copolymer. This non-linear element substrate was manufactured in the same manner as in Example 1.
【0025】上記のようにして得られた非線形素子基板
について、実施例1と同様にして電界−電気変位ヒステ
リシス曲線を測定した結果を図3に示す。With respect to the non-linear element substrate obtained as described above, the result of measuring the electric field-electrical displacement hysteresis curve in the same manner as in Example 1 is shown in FIG.
【0026】図3から理解されるように、本実施例の非
線形素子基板においては、残留分極が大きくなり、抗電
界が減少している。As can be seen from FIG. 3, in the nonlinear element substrate of this embodiment, the remanent polarization is large and the coercive electric field is small.
【0027】通常、ポリフッ化ビニリデン−テトラフロ
ロエチレン共重合体は、ポーリング処理や延伸処理を行
わなければ強誘電性を発現しないが、ラビング処理を行
うことにより、強誘電性が発現された。Usually, the polyvinylidene fluoride-tetrafluoroethylene copolymer does not exhibit ferroelectricity unless it is subjected to poling treatment or stretching treatment, but it is exhibited by rubbing treatment.
【0028】(実施例3)この実施例においては、図1
の強誘電体層3を、ポリフッ化ビニリデンを用いて形成
した。この非線形素子基板の製造は、実施例1と同様に
して行った。(Embodiment 3) In this embodiment, FIG.
The ferroelectric layer 3 of was formed using polyvinylidene fluoride. This non-linear element substrate was manufactured in the same manner as in Example 1.
【0029】上記のようにして得られた非線形素子基板
について、実施例1と同様にして電界−電気変位ヒステ
リシス曲線を測定した結果を図4に示す。FIG. 4 shows the result of measuring the electric field-electrical displacement hysteresis curve of the non-linear element substrate obtained as described above in the same manner as in Example 1.
【0030】図4から理解されるように、本実施例の非
線形素子基板においては、残留分極が大きくなり、抗電
界が減少している。As can be seen from FIG. 4, in the nonlinear element substrate of this embodiment, the remanent polarization is large and the coercive electric field is small.
【0031】通常、ポリフッ化ビニリデンホモポリマー
は、ポーリング処理や延伸処理を行わなければ強誘電性
を発現しないが、ラビング処理を行うことにより、強誘
電性が発現された。Usually, the polyvinylidene fluoride homopolymer does not exhibit ferroelectricity unless it is subjected to poling treatment or stretching treatment, but it is exhibited by rubbing treatment.
【0032】(実施例4)この実施例においては、図1
に示す強誘電体層3を、ポリフッ化ビニリデン−トリフ
ロロエチレン(含有率78:22)共重合体を用いて形
成した。基板1としては、ポリスチレン基板を用い、そ
の上に絶縁膜を形成した。また、基板1を曲げることに
より、強誘電体層3にせん断応力を与えた。具体的には
以下の通りである。(Embodiment 4) In this embodiment, FIG.
Was formed using a polyvinylidene fluoride-trifluoroethylene (content ratio 78:22) copolymer. A polystyrene substrate was used as the substrate 1, and an insulating film was formed thereon. In addition, shear stress was applied to the ferroelectric layer 3 by bending the substrate 1. Specifically, it is as follows.
【0033】まず、ポリスチレン基板上に酸化シリコン
等からなる絶縁膜をスパッタリングによって形成する。
この上に、アルミニウム、チタン、タンタル、ニオブ、
銅、ITOなどの導電体によって第1の電極を形成し
た。次に、ポリフッ化ビニリデン−トリフロロエチレン
(含有率78:22)共重合体をメチルエチルケトンに
溶解し、これをスピンコート法により2000オングス
トロームの厚さで塗布した。その後、145℃で30分
焼成して、50℃/hrの速度で降温することにより、
強誘電層を形成した。First, an insulating film made of silicon oxide or the like is formed on a polystyrene substrate by sputtering.
On top of this, aluminum, titanium, tantalum, niobium,
The first electrode was formed of a conductor such as copper or ITO. Next, a polyvinylidene fluoride-trifluoroethylene (content ratio 78:22) copolymer was dissolved in methyl ethyl ketone, and this was applied by a spin coating method to a thickness of 2000 angstroms. After that, by baking at 145 ° C. for 30 minutes and lowering the temperature at a rate of 50 ° C./hr,
A ferroelectric layer was formed.
【0034】その状態のポリスチレン基板を、強誘電層
側が凸になるように湾曲させた後、元に戻す。その後、
アルミニウム、チタン、タンタル、ニオブ、銅、ITO
などの導電体によって第2の電極を形成して、非線形素
子とした。The polystyrene substrate in that state is bent so that the ferroelectric layer side becomes convex, and then returned to the original state. afterwards,
Aluminum, titanium, tantalum, niobium, copper, ITO
The second electrode was formed of a conductor such as to obtain a non-linear element.
【0035】上記のようにして得られた非線形素子基板
について、実施例1と同様にして電界−電気変位ヒステ
リシス曲線を測定したところ、実施例1程大きな効果は
なかったが、同様の結果が得られた。With respect to the non-linear element substrate obtained as described above, the electric field-electrical displacement hysteresis curve was measured in the same manner as in Example 1. The result was not as great as in Example 1, but similar results were obtained. Was given.
【0036】この実施例において、強誘電体層を、ポリ
フッ化ビニリデン−テトラフロロエチレン共重合体やポ
リフッ化ビニリデンを用いて形成した場合においても同
様の効果が得られた。In this example, the same effect was obtained when the ferroelectric layer was formed using polyvinylidene fluoride-tetrafluoroethylene copolymer or polyvinylidene fluoride.
【0037】[0037]
【発明の効果】上記の説明で明らかなように、本発明に
よれば、基板上に形成された強誘電体層にせん断応力を
与えることにより、強誘電性を有する非線形素子基板を
得ることができる。この非線形素子基板を液晶表示装置
などに応用することにより、コントラストが高く、駆動
電圧が低い、優れた表示品位の液晶表示装置を得ること
ができる。また、本発明は、エレクトロルミネッセン
ス、エレクトロクロミズムなどの表示素子や非線形光学
素子用にも用いることができる。As is apparent from the above description, according to the present invention, a nonlinear element substrate having ferroelectricity can be obtained by applying shear stress to the ferroelectric layer formed on the substrate. it can. By applying this nonlinear element substrate to a liquid crystal display device or the like, it is possible to obtain a liquid crystal display device having a high contrast and a low driving voltage and excellent display quality. The present invention can also be used for display elements such as electroluminescence and electrochromism, and for non-linear optical elements.
【図1】本発明の製造方法を用いて製造される非線形素
子基板の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a non-linear element substrate manufactured using a manufacturing method of the present invention.
【図2】実施例1の非線形素子基板の電界−電気変位ヒ
ステリシス曲線である。2 is an electric field-electrical displacement hysteresis curve of the nonlinear element substrate of Example 1. FIG.
【図3】実施例2の非線形素子基板の電界−電気変位ヒ
ステリシス曲線である。3 is an electric field-electrical displacement hysteresis curve of the nonlinear element substrate of Example 2. FIG.
【図4】実施例3の非線形素子基板の電界−電気変位ヒ
ステリシス曲線である。FIG. 4 is an electric field-electrical displacement hysteresis curve of a nonlinear element substrate of Example 3.
【図5】アクティブマトリクス基板として用いられる非
線形素子基板の例を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing an example of a non-linear element substrate used as an active matrix substrate.
1 基板 2 第1の電極 3 強誘電体層 4 第2の電極 1 substrate 2 first electrode 3 ferroelectric layer 4 second electrode
Claims (3)
誘電体層を挟んで、または、強誘電体層の同一広面上に
第1の電極と第2の電極とが離隔して、形成された非線
形素子基板において、 基板上に第1の電極と第2の電極と強誘電体層とを所定
の配置で形成する工程と、 該強誘電体層にせん断応力を与える工程と、を含む非線
形素子基板の製造方法。1. A first electrode and a second electrode sandwiching a ferroelectric layer on a substrate, or a first electrode and a second electrode separated from each other on the same wide surface of the ferroelectric layer. Then, in the formed nonlinear element substrate, the step of forming the first electrode, the second electrode, and the ferroelectric layer in a predetermined arrangement on the substrate, and the step of applying shear stress to the ferroelectric layer. And a method for manufacturing a non-linear element substrate, including:
て、前記強誘電体層に与える請求項1に記載の非線形素
子基板の製造方法。2. The method of manufacturing a nonlinear element substrate according to claim 1, wherein the shear stress is applied to the ferroelectric layer by rubbing treatment.
または曲げによって与える請求項1に記載の非線形素子
の製造方法。3. The method for manufacturing a non-linear element according to claim 1, wherein the shear stress is applied by stretching or bending of the ferroelectric layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22623492A JPH0675242A (en) | 1992-08-25 | 1992-08-25 | Production of nonlinear element substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22623492A JPH0675242A (en) | 1992-08-25 | 1992-08-25 | Production of nonlinear element substrate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0675242A true JPH0675242A (en) | 1994-03-18 |
Family
ID=16841999
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22623492A Withdrawn JPH0675242A (en) | 1992-08-25 | 1992-08-25 | Production of nonlinear element substrate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0675242A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101069010B1 (en) * | 2009-02-23 | 2011-09-29 | 연세대학교 산학협력단 | Crystal Orientation Control Method of PDFDF-TFRF Thin Film Using Shear Stress |
-
1992
- 1992-08-25 JP JP22623492A patent/JPH0675242A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101069010B1 (en) * | 2009-02-23 | 2011-09-29 | 연세대학교 산학협력단 | Crystal Orientation Control Method of PDFDF-TFRF Thin Film Using Shear Stress |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991102 |