JPH0675306B2 - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH0675306B2 JPH0675306B2 JP5368085A JP5368085A JPH0675306B2 JP H0675306 B2 JPH0675306 B2 JP H0675306B2 JP 5368085 A JP5368085 A JP 5368085A JP 5368085 A JP5368085 A JP 5368085A JP H0675306 B2 JPH0675306 B2 JP H0675306B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magneto
- optical recording
- recording medium
- power
- optimum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 description 33
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910002546 FeCo Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910016629 MnBi Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002837 PtCo Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 235000015067 sauces Nutrition 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、レーザー光を用いて情報の記録再生消去をお
こなう光磁気記録媒体に関する。
こなう光磁気記録媒体に関する。
（従来技術とその問題点） 光デイスクメモリは高密度・大容量・高速アクセスが可
能であるということから、現在の磁気デイスクメモリに
代わる新規なメモリとして考えられている。中でも光磁
気記録媒体を用いた光磁気デイスクは書き替え性を有し
ていることから最も注目され、近年活発に研究開発がお
こなわれている。
能であるということから、現在の磁気デイスクメモリに
代わる新規なメモリとして考えられている。中でも光磁
気記録媒体を用いた光磁気デイスクは書き替え性を有し
ていることから最も注目され、近年活発に研究開発がお
こなわれている。
従来より知られている光磁気記録媒体の構成は、第７図
に示したように支持基板１としてガラスあるいは有機物
樹脂を用い、支持基板１上に基板に対して垂直方向に磁
化を有する垂直磁化膜から成る光磁気記録層２を形成し
たものである。光磁気記録層としてはMnBi,MnCuBi,MnTi
Bi,MnAlGe,PtCoなどの結晶体磁性薄膜、あるいはGd,Tb,
Dy,Hoなどの希土類とFe,Co,Niなどの遷移金属との合金
として得られるアモルフアス磁性薄膜が知られている。
また、第８図に示したように、支持基板１に深さ600〜1
000Å周期1.6〜2.5μｍの溝を同心円状もしくはうず巻
き状に形成し、前記支持基板１上に光磁気記録層２を形
成した媒体構成も知られている。ここで形成されている
溝11は、記録媒体への情報の記録、あるいは再生・消去
に用いるレーザ集光ビームのトラツキングアクセスに用
いられるものである。
に示したように支持基板１としてガラスあるいは有機物
樹脂を用い、支持基板１上に基板に対して垂直方向に磁
化を有する垂直磁化膜から成る光磁気記録層２を形成し
たものである。光磁気記録層としてはMnBi,MnCuBi,MnTi
Bi,MnAlGe,PtCoなどの結晶体磁性薄膜、あるいはGd,Tb,
Dy,Hoなどの希土類とFe,Co,Niなどの遷移金属との合金
として得られるアモルフアス磁性薄膜が知られている。
また、第８図に示したように、支持基板１に深さ600〜1
000Å周期1.6〜2.5μｍの溝を同心円状もしくはうず巻
き状に形成し、前記支持基板１上に光磁気記録層２を形
成した媒体構成も知られている。ここで形成されている
溝11は、記録媒体への情報の記録、あるいは再生・消去
に用いるレーザ集光ビームのトラツキングアクセスに用
いられるものである。
従来より知られている第７図及び第８図に示された光磁
気記録媒体においては、支持基板１上の光磁気記録層２
の膜厚に関して特に工夫はされていない。通常、半径方
向の膜厚分布は一定となるように形成されている。光磁
気記録媒体を用いて情報再生消去をおこなう場合、等角
速度で媒体を回転すると半径位置によつて媒体の線速度
が変わる。半径方向に一様な膜厚分布を持つ従来の光磁
気記録媒体においては最適記録パワー、最適再生パワ
ー、最適消去パワー各パワーを半径位置に応じて変えな
ければならない（川久保ら、電子通信学会技術研究報告
MR84-39）という欠点があつた。
気記録媒体においては、支持基板１上の光磁気記録層２
の膜厚に関して特に工夫はされていない。通常、半径方
向の膜厚分布は一定となるように形成されている。光磁
気記録媒体を用いて情報再生消去をおこなう場合、等角
速度で媒体を回転すると半径位置によつて媒体の線速度
が変わる。半径方向に一様な膜厚分布を持つ従来の光磁
気記録媒体においては最適記録パワー、最適再生パワ
ー、最適消去パワー各パワーを半径位置に応じて変えな
ければならない（川久保ら、電子通信学会技術研究報告
MR84-39）という欠点があつた。
（発明の目的） 本発明の目的は、前記従来の光磁気記録媒体の欠点を解
決し、簡単な媒体構成により、線速に依存することなく
半径方向に対して一定の最適記録パワー、最適再生パワ
ー、最適消去パワーを有し、良好な記録再生消去性能を
持つ新規な光磁気記録媒体を提供することにある。
決し、簡単な媒体構成により、線速に依存することなく
半径方向に対して一定の最適記録パワー、最適再生パワ
ー、最適消去パワーを有し、良好な記録再生消去性能を
持つ新規な光磁気記録媒体を提供することにある。
（発明の構成） 上記目的を達成するために、本発明は、レーザ光を用い
て情報の記録再生消去をおこなう光磁気記録媒体におい
て、円板状支持基板と前記円板状支持基板上に形成され
た光磁気記録層とを備え、前記光磁気記録層の膜厚が光
磁気記録媒体の外周ほど薄くなるようにしたものであ
る。
て情報の記録再生消去をおこなう光磁気記録媒体におい
て、円板状支持基板と前記円板状支持基板上に形成され
た光磁気記録層とを備え、前記光磁気記録層の膜厚が光
磁気記録媒体の外周ほど薄くなるようにしたものであ
る。
（構成の詳細な説明） 本発明は上述の構成をとることにより、従来技術の問題
点を解決した。以下、本発明の詳細について図面を用い
て説明する。第１図は本発明にかかる光磁気記録媒体の
一例を示す断面図である。支持基板１上に光磁気記録層
２が形成された構造である。支持基板１としてはポリメ
チルメタクリレート、ポリカーボネート、エポキシなど
の有機物樹脂材料あるいはガラスが使用され、第２図の
ようにレーザビームトラツキング用の溝11があらかじめ
形成されたタイプのものも使用される。
点を解決した。以下、本発明の詳細について図面を用い
て説明する。第１図は本発明にかかる光磁気記録媒体の
一例を示す断面図である。支持基板１上に光磁気記録層
２が形成された構造である。支持基板１としてはポリメ
チルメタクリレート、ポリカーボネート、エポキシなど
の有機物樹脂材料あるいはガラスが使用され、第２図の
ようにレーザビームトラツキング用の溝11があらかじめ
形成されたタイプのものも使用される。
光磁気記録層２としてはGd,Tb,Dy,Hoなどの希土類金属
とFe,Co,Niなどの遷移金属との合金から成るアモルフア
ス磁性薄膜が用いられる。たとえば、GdCo,GdTbCo,GdTb
FeCo,TbFe,TbFeCo,TbDyFeCo,GdTbFe,GdTbDyFe,TbCo,TbD
yCo,TbFeNiなどである。光磁気記録層２は内周から外周
に向けて膜厚を変えて作成され、外周ほど膜厚が薄くな
つている。これが本発明にかかる光磁気記録媒体の特徴
である。光磁気記録層２は真空蒸着法、スパツタリング
法などの成膜方法により作成される。
とFe,Co,Niなどの遷移金属との合金から成るアモルフア
ス磁性薄膜が用いられる。たとえば、GdCo,GdTbCo,GdTb
FeCo,TbFe,TbFeCo,TbDyFeCo,GdTbFe,GdTbDyFe,TbCo,TbD
yCo,TbFeNiなどである。光磁気記録層２は内周から外周
に向けて膜厚を変えて作成され、外周ほど膜厚が薄くな
つている。これが本発明にかかる光磁気記録媒体の特徴
である。光磁気記録層２は真空蒸着法、スパツタリング
法などの成膜方法により作成される。
光磁気記録層２の膜厚が外周に向けて薄くなるように成
膜するには、例えば第３図に示したように真空室５中に
デイスク３の回転中心に対して偏心した位置に蒸着源あ
るいはスパツタソース４を有する成膜装置を用いる。図
中８は排気系、９は導入ガスボンベである。デイスク３
をモータ10により回転させながら成膜することにより、
半径方向に所望の膜厚分布を持つ光磁気記録媒体が容易
に得られる。
膜するには、例えば第３図に示したように真空室５中に
デイスク３の回転中心に対して偏心した位置に蒸着源あ
るいはスパツタソース４を有する成膜装置を用いる。図
中８は排気系、９は導入ガスボンベである。デイスク３
をモータ10により回転させながら成膜することにより、
半径方向に所望の膜厚分布を持つ光磁気記録媒体が容易
に得られる。
第４図（ａ）（ｂ）（ｃ）は、それぞれ光磁気記録媒体
の最適記録パワー、最適再生パワー、最適消去パワーと
線速度との関係を示した図である。パラメータとして光
磁気記録層の膜厚をとつている。ここで言う最適記録パ
ワーとは、記録信号に最も忠実に記録ビツトが形成でき
る記録パワーである。
の最適記録パワー、最適再生パワー、最適消去パワーと
線速度との関係を示した図である。パラメータとして光
磁気記録層の膜厚をとつている。ここで言う最適記録パ
ワーとは、記録信号に最も忠実に記録ビツトが形成でき
る記録パワーである。
また最適再生パワーとは再生信号のC/N,すなわち再生信
号レベルと雑音レベルの比が最も大きくなる再生パワー
を言う。
号レベルと雑音レベルの比が最も大きくなる再生パワー
を言う。
さらに最適消去パワーとは最適記録されたビツトを完全
に消去できる消去パワーを言う。最適記録パワー、最適
再生パワー、最適消去パワーはいずれも線速が増すと高
パワー側にシフトする。また、光磁気記録層の膜厚が厚
くなると、同じ線速であつても最適となる各パワーは大
きくなる。光磁気記録媒体を等角速度で回転して用いる
場合、半径位置によつて線速度が大きく変わる。そこ
で、光磁気記録層の膜厚が半径方向に一定であると、第
４図（ａ）、（ｂ）、（ｃ）からわかるように最適な記
録パワー、再生パワー、消去パワーを半径位置に応じて
変化させなければならない。
に消去できる消去パワーを言う。最適記録パワー、最適
再生パワー、最適消去パワーはいずれも線速が増すと高
パワー側にシフトする。また、光磁気記録層の膜厚が厚
くなると、同じ線速であつても最適となる各パワーは大
きくなる。光磁気記録媒体を等角速度で回転して用いる
場合、半径位置によつて線速度が大きく変わる。そこ
で、光磁気記録層の膜厚が半径方向に一定であると、第
４図（ａ）、（ｂ）、（ｃ）からわかるように最適な記
録パワー、再生パワー、消去パワーを半径位置に応じて
変化させなければならない。
この欠点を解決するために、本発明にかかる光磁気記録
媒体の光磁気記録層の膜厚は第５図に示したように半径
方向に変化し、外周部ほど膜厚が減少するように作成さ
れる。
媒体の光磁気記録層の膜厚は第５図に示したように半径
方向に変化し、外周部ほど膜厚が減少するように作成さ
れる。
（実施例−１） 深さ700Å、幅0.8μｍ、ピツチ2.5μｍのうず巻き状の
溝を有するポリメチルメタクリレート基板（120mm直
径、厚さ1.2mm）上にGdTbFe膜をスパツタリングによつ
て成膜した。成膜には第３図に示した構成の成膜装置を
用いた。デイスクは毎分20回転で回転され、直径60mmの
スパツタソース（Gd,Tb,Feの複合型ターゲツト）はデイ
スク回転中心から30mm離れた位置に配置された。２×10
-7Torr以下に排気後、アルゴンガス圧を７×10-3Torrに
設定し、スパツタをおこなつた。５分間のスパツタによ
り、半径方向に膜厚が変化した光磁気記録媒体が作成で
きた。半径29mmでのGdTbFeの膜厚は2000Å、半径58mmで
の膜厚は1000Åであつた。
溝を有するポリメチルメタクリレート基板（120mm直
径、厚さ1.2mm）上にGdTbFe膜をスパツタリングによつ
て成膜した。成膜には第３図に示した構成の成膜装置を
用いた。デイスクは毎分20回転で回転され、直径60mmの
スパツタソース（Gd,Tb,Feの複合型ターゲツト）はデイ
スク回転中心から30mm離れた位置に配置された。２×10
-7Torr以下に排気後、アルゴンガス圧を７×10-3Torrに
設定し、スパツタをおこなつた。５分間のスパツタによ
り、半径方向に膜厚が変化した光磁気記録媒体が作成で
きた。半径29mmでのGdTbFeの膜厚は2000Å、半径58mmで
の膜厚は1000Åであつた。
次に、作成した光磁気記録媒体を用いて情報の記録再生
消去をおこなつた。媒体を毎秒30回転で回転し、記録再
生消去をおこなつたところ、半径29mmから58mmにおい
て、最適な記録パワー、再生パワー、消去パワーはそれ
ぞれ一定であり、良好な記録再生消去が可能であつた。
消去をおこなつた。媒体を毎秒30回転で回転し、記録再
生消去をおこなつたところ、半径29mmから58mmにおい
て、最適な記録パワー、再生パワー、消去パワーはそれ
ぞれ一定であり、良好な記録再生消去が可能であつた。
（実施例−２） 実施例−１で用いたものと同じ基板上に、まず保護膜兼
干渉層としてSi3N4膜を反応性スパツタリングにより成
膜した。
干渉層としてSi3N4膜を反応性スパツタリングにより成
膜した。
膜厚は内周から外周にかけて一様に1200Åとなるように
した。つづいて真空を破ることなく実施例−１と同様の
手法でGdTbFe膜を成膜した。膜厚は半径29mmでは2000
Å、半径58mmでは1000Åであつた。さらにGdTbFe膜上
に、保護膜として2000Å厚のSi3N4膜を反応性スパツタ
リングにより成膜した。本実施例にもとづく光磁気記録
媒体の断面図は第６図のようになつている。
した。つづいて真空を破ることなく実施例−１と同様の
手法でGdTbFe膜を成膜した。膜厚は半径29mmでは2000
Å、半径58mmでは1000Åであつた。さらにGdTbFe膜上
に、保護膜として2000Å厚のSi3N4膜を反応性スパツタ
リングにより成膜した。本実施例にもとづく光磁気記録
媒体の断面図は第６図のようになつている。
次に、作成した光磁気記録媒体を毎秒30回転で回転さ
せ、情報の記録再生消去をおこなつた。半径29mmから58
mmにおいて、最適となる記録パワー、再生パワー、消去
パワーはそれぞれ一定であり、良好な記録再生消去特性
が得られた。
せ、情報の記録再生消去をおこなつた。半径29mmから58
mmにおいて、最適となる記録パワー、再生パワー、消去
パワーはそれぞれ一定であり、良好な記録再生消去特性
が得られた。
（発明の効果） 以上、説明したように本発明によれば従来例と比較して
次のような効果がある。
次のような効果がある。
等角速度回転での使用において光磁気記録媒体の半
径方向に対して最適記録パワー、最適再生パワー、最適
消去パワーが一定となるように媒体設計されているの
で、従来例のように半径位置に応じて各パワーを変える
必要がなく、装置構成を簡略化できる。
径方向に対して最適記録パワー、最適再生パワー、最適
消去パワーが一定となるように媒体設計されているの
で、従来例のように半径位置に応じて各パワーを変える
必要がなく、装置構成を簡略化できる。
蒸着源あるいはスパツタソースの位置に対してデイ
スクの回転中心を偏心させることにより、容易に半径方
向に所望の膜厚分布を持つ媒体が作成できる。
スクの回転中心を偏心させることにより、容易に半径方
向に所望の膜厚分布を持つ媒体が作成できる。
本発明は等角速度回転で用いる光磁気記録媒体すべ
てに適用できる。すなわち、本発明の実施例に限らず、
種々の光磁気記録材料を用いた種々の膜構成の光磁気記
録媒体に適用できる。
てに適用できる。すなわち、本発明の実施例に限らず、
種々の光磁気記録材料を用いた種々の膜構成の光磁気記
録媒体に適用できる。
第１図及び第２図は本発明の適用された光磁気記録媒体
の構成例を示す断面図、第３図は本発明にかかる光磁気
記録媒体の作成に用いる成膜装置の概略図、第４図
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は光磁気記録媒体の最適記録パ
ワー、最適再生パワー、最適消去パワーと線速度との関
係を示した図、第５図は本発明にかかる光磁気記録媒体
の光磁気記録層の半径方向の膜厚分布を示す図、第６図
は本発明の適用された一実施例の断面図である。第７
図、第８図は従来の光磁気記録媒体の構成を示す断面図
である。 図中１……支持基板、２……光磁気記録層、３……デイ
スク、４……蒸着源あるいはスパツタソース、５……真
空室、６……保護膜兼干渉層、７……保護膜、８……排
気系、９……導入ガスボンベ、10……モーター、11……
溝である。
の構成例を示す断面図、第３図は本発明にかかる光磁気
記録媒体の作成に用いる成膜装置の概略図、第４図
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は光磁気記録媒体の最適記録パ
ワー、最適再生パワー、最適消去パワーと線速度との関
係を示した図、第５図は本発明にかかる光磁気記録媒体
の光磁気記録層の半径方向の膜厚分布を示す図、第６図
は本発明の適用された一実施例の断面図である。第７
図、第８図は従来の光磁気記録媒体の構成を示す断面図
である。 図中１……支持基板、２……光磁気記録層、３……デイ
スク、４……蒸着源あるいはスパツタソース、５……真
空室、６……保護膜兼干渉層、７……保護膜、８……排
気系、９……導入ガスボンベ、10……モーター、11……
溝である。
Claims (1)
- 【請求項１】レーザ光を用いて情報の記録再生消去をお
こなう光磁気記録媒体において、円板状支持基板と前記
円板状支持基板上に形成された光磁気記録層とを備え、
前記光磁気記録層の膜厚が光磁気記録媒体の外周ほど薄
くなっていることを特徴とする光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5368085A JPH0675306B2 (ja) | 1985-03-18 | 1985-03-18 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5368085A JPH0675306B2 (ja) | 1985-03-18 | 1985-03-18 | 光磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61211854A JPS61211854A (ja) | 1986-09-19 |
| JPH0675306B2 true JPH0675306B2 (ja) | 1994-09-21 |
Family
ID=12949530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5368085A Expired - Lifetime JPH0675306B2 (ja) | 1985-03-18 | 1985-03-18 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0675306B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01253848A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報記録担体 |
| JP2616058B2 (ja) * | 1989-11-01 | 1997-06-04 | 日本電気株式会社 | 光磁気ディスク |
-
1985
- 1985-03-18 JP JP5368085A patent/JPH0675306B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61211854A (ja) | 1986-09-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2003535423A (ja) | 光磁気記録媒体とその製造方法及びその再生方法と再生装置 | |
| US20040057343A1 (en) | Magnetic recording medium, method for producing the same and magnetic recording/reproducing apparatus | |
| JPWO2003046905A1 (ja) | 光磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH0675306B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0766577B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0675304B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0675305B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0734272B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2521664B2 (ja) | 光磁気デイスク | |
| JP2004134064A (ja) | 磁気記録媒体、その製造方法及び磁気記録再生装置 | |
| JP2000339784A (ja) | 成膜方法、光ディスクの製造方法および製造装置 | |
| JP2834846B2 (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH05290420A (ja) | 光磁気ディスクとその記録再生方法及び装置 | |
| JPH0535496B2 (ja) | ||
| JPS63228445A (ja) | 光磁気デイスク | |
| JP2000173119A (ja) | 光学記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS6342053A (ja) | 情報記録媒体 | |
| JPH0522300B2 (ja) | ||
| JPH02108258A (ja) | 光磁気ディスク | |
| JPH0417139A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPH08147782A (ja) | 光磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS62277643A (ja) | 光磁気デイスク | |
| JPH07254179A (ja) | 光磁気記録媒体とその製造方法 | |
| EP0595547A2 (en) | Magneto-optical recording medium, and data recording and reproducing method using it | |
| JPH06124488A (ja) | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |