JPH0676261A - 磁気記録ディスクファイル - Google Patents
磁気記録ディスクファイルInfo
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- JPH0676261A JPH0676261A JP5153958A JP15395893A JPH0676261A JP H0676261 A JPH0676261 A JP H0676261A JP 5153958 A JP5153958 A JP 5153958A JP 15395893 A JP15395893 A JP 15395893A JP H0676261 A JPH0676261 A JP H0676261A
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- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 極めて円滑な頂面及び高い保磁性を有する磁
気記録ディスクを提供する。 【構成】 ディスク基板６０の超仕上げされたＮｉＰコ
ーティング６２は、酸化されてＮｉＯ膜６４を形成す
る。ＮｉＯ膜は、後でスパッタ蒸着される磁性層がより
高い保磁性を有することを可能にするので、本発明のデ
ィスクは接触記録ディスクファイルで使用可能である。
ＮｉＯ膜及び後で蒸着される層は研磨されたＮｉＰの円
滑表面と一致するので、接触記録ディスクファイルにお
けるヘッド−ディスク界面に必要とされるディスク頂部
層の極めて円滑な表面が保持される。
気記録ディスクを提供する。 【構成】 ディスク基板６０の超仕上げされたＮｉＰコ
ーティング６２は、酸化されてＮｉＯ膜６４を形成す
る。ＮｉＯ膜は、後でスパッタ蒸着される磁性層がより
高い保磁性を有することを可能にするので、本発明のデ
ィスクは接触記録ディスクファイルで使用可能である。
ＮｉＯ膜及び後で蒸着される層は研磨されたＮｉＰの円
滑表面と一致するので、接触記録ディスクファイルにお
けるヘッド−ディスク界面に必要とされるディスク頂部
層の極めて円滑な表面が保持される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜合金磁気記録ディ
スク、該ディスクの製造プロセス、及び該ディスクを用
いて接触記録のために改良されたヘッド−ディスクイン
ターフェイスを提供するディスクファイルに関する。
スク、該ディスクの製造プロセス、及び該ディスクを用
いて接触記録のために改良されたヘッド−ディスクイン
ターフェイスを提供するディスクファイルに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の回転剛性ディスクファイルでは、
各読取／書込トランスデューサ（又はヘッド）は、ディ
スクがその動作速度で回転する際に対応のディスク表面
上で空気のクッション又はベアリングに載置されるキャ
リヤ（又はスライダ）に支持される。スライダは、比較
的弱いサスペンションにより線形又は回転式アクチュエ
ータへ接続される。ディスクファイルには多数のディス
クがあり、アクチュエータは多数のスライダを支持する
ことができる。アクチュエータは、各ヘッドが対応のデ
ィスク表面の記録領域をアクセスできるように、スライ
ダを放射状に移動させる。これら従来のディスクファイ
ルでは、スライダは、サスペンションからの小さい力に
よってディスク表面へ向けてバイアスされる。ディスク
ファイルがオンされてからスライダを空気ベアリングに
載置させるのに十分な速度へディスクが到達するまでス
ライダはディスク表面と接触しており、ディスクフィイ
ルがオフされてディスクの回転速度が空気ベアリングを
形成するのに必要な速度より低くなるとスライダは再び
ディスク表面と接触するので、このようなディスクファ
イルは接触開始−停止（contact start-stop、ＣＳＳ）
ディスクファイルと呼ばれる。ＣＳＳディスクファイル
では、スライダは開始及び停止動作中に接触するだけな
ので、ディスク表面は極めて滑らかである必要はない。
その代わりに、スライダがディスク表面にあるときにス
ライダ及びディスク間の静止摩擦を低減するようにディ
スク表面を組織化することが所望される。
各読取／書込トランスデューサ（又はヘッド）は、ディ
スクがその動作速度で回転する際に対応のディスク表面
上で空気のクッション又はベアリングに載置されるキャ
リヤ（又はスライダ）に支持される。スライダは、比較
的弱いサスペンションにより線形又は回転式アクチュエ
ータへ接続される。ディスクファイルには多数のディス
クがあり、アクチュエータは多数のスライダを支持する
ことができる。アクチュエータは、各ヘッドが対応のデ
ィスク表面の記録領域をアクセスできるように、スライ
ダを放射状に移動させる。これら従来のディスクファイ
ルでは、スライダは、サスペンションからの小さい力に
よってディスク表面へ向けてバイアスされる。ディスク
ファイルがオンされてからスライダを空気ベアリングに
載置させるのに十分な速度へディスクが到達するまでス
ライダはディスク表面と接触しており、ディスクフィイ
ルがオフされてディスクの回転速度が空気ベアリングを
形成するのに必要な速度より低くなるとスライダは再び
ディスク表面と接触するので、このようなディスクファ
イルは接触開始−停止（contact start-stop、ＣＳＳ）
ディスクファイルと呼ばれる。ＣＳＳディスクファイル
では、スライダは開始及び停止動作中に接触するだけな
ので、ディスク表面は極めて滑らかである必要はない。
その代わりに、スライダがディスク表面にあるときにス
ライダ及びディスク間の静止摩擦を低減するようにディ
スク表面を組織化することが所望される。
【０００３】上記従来のＣＳＳ磁気記録ディスクファイ
ルに加えて、「接触」記録剛性ディスクファイルが提唱
されている。「液体ベアリング」接触記録と称される接
触記録の１つの型では、ヘッド−ディスク界面は、トラ
ンスデューサキャリヤ及びディスク間に液体ベアリング
として液膜を有する。この型の接触記録ディスクファイ
ルの一例は、米国特許出願第０７／２６４、６０４号
（ヨーロッパ特許公開第ＥＰ３６７５１０号）に記載さ
れている。「ドライ」接触記録と呼ばれる接触記録のも
う１つの型では、ディスクファイルは、読取及び書込動
作中にディスク表面と物理的に接触する一体化ヘッド−
サスペンションを使用する。この型のヘッド−サスペン
ションでは、例えば米国特許第５、０４１、９３２号に
記載されているように、ヘッドの一部はディスクファイ
ルの寿命を通してディスクとの摩擦接触のため実際にす
り減る。両方の型の接触記録ディスクファイルとも、緊
密なヘッド−ディスク間隔のためディスク表面を極めて
円滑にする必要がある。
ルに加えて、「接触」記録剛性ディスクファイルが提唱
されている。「液体ベアリング」接触記録と称される接
触記録の１つの型では、ヘッド−ディスク界面は、トラ
ンスデューサキャリヤ及びディスク間に液体ベアリング
として液膜を有する。この型の接触記録ディスクファイ
ルの一例は、米国特許出願第０７／２６４、６０４号
（ヨーロッパ特許公開第ＥＰ３６７５１０号）に記載さ
れている。「ドライ」接触記録と呼ばれる接触記録のも
う１つの型では、ディスクファイルは、読取及び書込動
作中にディスク表面と物理的に接触する一体化ヘッド−
サスペンションを使用する。この型のヘッド−サスペン
ションでは、例えば米国特許第５、０４１、９３２号に
記載されているように、ヘッドの一部はディスクファイ
ルの寿命を通してディスクとの摩擦接触のため実際にす
り減る。両方の型の接触記録ディスクファイルとも、緊
密なヘッド−ディスク間隔のためディスク表面を極めて
円滑にする必要がある。
【０００４】剛性ディスクファイルで使用されているデ
ィスクの１つの型は、ニッケル−リン（ＮｉＰ）表面コ
ーティングを有するアルミニウム−マグネシウム（Ａｌ
Ｍｇ）合金等の基板と、基板上に磁性層としてスパッタ
蒸着されたＣｏＰｔ又はＣｏＮｉ合金等のコバルトベー
ス合金と、磁性層上に形成されたスパッタ蒸着アモルフ
ァス水素化炭素膜等の保護オーバコートと、を典型的に
含む薄膜合金ディスクである。磁性層及び保護オーバコ
ートに加えて、薄膜ディスクは、基板及び磁性層間のク
ロム（Ｃｒ）、クロム−バナジウム（ＣｒＶ）又はタン
グステン（Ｗ）等のスパッタ蒸着下方層と、磁性層及び
保護オーバコート間のＣｒ、Ｗ又はチタン（Ｔｉ）層等
のスパッタ蒸着接着層と、も含むことができる。この従
来のディスクはＣＳＳディスクファイルで使用するのに
適するが、ディスクが接触記録ディスクファイルで使用
される際所望されるようにＡｌＭｇ−ＮｉＰ基板が非常
に滑らかに製造される場合には、従来の方法でディスク
を製造し、所望のディスク保磁性（coercivity）を達成
することは不可能である。
ィスクの１つの型は、ニッケル−リン（ＮｉＰ）表面コ
ーティングを有するアルミニウム−マグネシウム（Ａｌ
Ｍｇ）合金等の基板と、基板上に磁性層としてスパッタ
蒸着されたＣｏＰｔ又はＣｏＮｉ合金等のコバルトベー
ス合金と、磁性層上に形成されたスパッタ蒸着アモルフ
ァス水素化炭素膜等の保護オーバコートと、を典型的に
含む薄膜合金ディスクである。磁性層及び保護オーバコ
ートに加えて、薄膜ディスクは、基板及び磁性層間のク
ロム（Ｃｒ）、クロム−バナジウム（ＣｒＶ）又はタン
グステン（Ｗ）等のスパッタ蒸着下方層と、磁性層及び
保護オーバコート間のＣｒ、Ｗ又はチタン（Ｔｉ）層等
のスパッタ蒸着接着層と、も含むことができる。この従
来のディスクはＣＳＳディスクファイルで使用するのに
適するが、ディスクが接触記録ディスクファイルで使用
される際所望されるようにＡｌＭｇ−ＮｉＰ基板が非常
に滑らかに製造される場合には、従来の方法でディスク
を製造し、所望のディスク保磁性（coercivity）を達成
することは不可能である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、所望される円
滑ヘッド−ディスク界面及びディスク保磁性をファイル
が有するように、接触記録ディスクファイルで使用可能
であり、従来のディスクテクノロジに基づく改良型薄膜
合金磁気記録ディスクが必要とされる。
滑ヘッド−ディスク界面及びディスク保磁性をファイル
が有するように、接触記録ディスクファイルで使用可能
であり、従来のディスクテクノロジに基づく改良型薄膜
合金磁気記録ディスクが必要とされる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の接触記録用磁気記録ディスクファイルは、
ニッケル−リン表面コーティングを有するアルミニウム
合金基板、ニッケル−リンコーティング上に形成された
酸化ニッケルを含む膜、酸化ニッケル膜上に形成された
下方層、及び下方層上に形成されたコバルトベース合金
を含む磁性層を更に含む磁気記録ディスクと、ディスク
を回転させるためにディスクへ接続された手段と、ディ
スク上の磁性層からデータを読取り又は書込むためのヘ
ッドと、読取又は書込動作中にディスクと接触するよう
付勢され、ヘッドを支持するための手段と、ディスクを
横切ってヘッドを移動させるためにヘッド支持手段へ接
続された手段と、を備える。
に、本発明の接触記録用磁気記録ディスクファイルは、
ニッケル−リン表面コーティングを有するアルミニウム
合金基板、ニッケル−リンコーティング上に形成された
酸化ニッケルを含む膜、酸化ニッケル膜上に形成された
下方層、及び下方層上に形成されたコバルトベース合金
を含む磁性層を更に含む磁気記録ディスクと、ディスク
を回転させるためにディスクへ接続された手段と、ディ
スク上の磁性層からデータを読取り又は書込むためのヘ
ッドと、読取又は書込動作中にディスクと接触するよう
付勢され、ヘッドを支持するための手段と、ディスクを
横切ってヘッドを移動させるためにヘッド支持手段へ接
続された手段と、を備える。
【０００７】
【作用】本発明は、磁気記録ディスク及びディスク製造
プロセス、並びにヘッド−ディスク界面及び磁気記録特
性が改良された接触記録ディスクファイルである。ディ
スク基板上の超仕上げされた非組織化ＮｉＰコーティン
グは、酸化されてＮｉＯ膜を形成する。ＮｉＯ膜は、後
でスパッタ蒸着された磁性層がより高い保磁性を有する
ようにし、ディスクが接触記録応用で使用されるのを可
能にする。ディスクを作り上げるＮｉＯ膜及び後で蒸着
された層は、研磨されたＮｉＰの円滑表面と一致するの
で、接触記録ディスクファイルに要求されるディスク頂
部層の極めて円滑な表面が保持される。
プロセス、並びにヘッド−ディスク界面及び磁気記録特
性が改良された接触記録ディスクファイルである。ディ
スク基板上の超仕上げされた非組織化ＮｉＰコーティン
グは、酸化されてＮｉＯ膜を形成する。ＮｉＯ膜は、後
でスパッタ蒸着された磁性層がより高い保磁性を有する
ようにし、ディスクが接触記録応用で使用されるのを可
能にする。ディスクを作り上げるＮｉＯ膜及び後で蒸着
された層は、研磨されたＮｉＰの円滑表面と一致するの
で、接触記録ディスクファイルに要求されるディスク頂
部層の極めて円滑な表面が保持される。
【０００８】基板上にＮｉＯ膜を形成するための好まし
いプロセスでは、基板は、ＮｉＰ膜を結晶化させる温度
より低い温度で、空気中でアニーリングされる。
いプロセスでは、基板は、ＮｉＰ膜を結晶化させる温度
より低い温度で、空気中でアニーリングされる。
【０００９】
【実施例】まず図１を参照すると、本発明のディスクフ
ァイルの液体ベアリング接触記録例の断面図が示されて
いる。ディスクファイルは、ディスクドライブモータ１
２及びアクチュエータ１４が固定されるベース１０とカ
バー１１とを備える。ベース１０及びカバー１１は、デ
ィスクドライブのための実質的に密封されたハウジング
を提供する。ベース１０及びカバー１１間に配置された
ガスケット１３と、ディスクファイル内部と外部環境と
の間の圧力を等しくするための息抜きポート（図示せ
ず）と、が存在するのが一般的である。この型のディス
クファイルは、ドライブモータ１２が完全にハウジング
内に配置され、内部構成表素を冷却するために外部から
加えられる空気供給が無いので、実質的に密封されてい
ると説明される。磁気記録ディスク１６はハブ１８に搭
載され、ドライブモータ１２による回転のために取付け
られる。読取／書込ヘッド又はトランスデューサ（図示
せず）は、トランスデューサキャリヤ２０上に形成され
る。キャリヤ２０は剛性アーム２２及びサスペンション
２４によりアクチュエータ１４へ接続され、サスペンシ
ョン２４は、トランスデューサキャリヤ２０を記録ディ
スク１６表面へ付勢するバイアス力を提供する。ディス
クファイルの動作中、ドライブモータ１２はディスク１
６を一定速度で回転させ、典型的には線形又は回転式ボ
イスコイルモータ（ＶＣＭ）であるアクチュエータ１４
は、読取／書込ヘッドがディスク１６上の異なるデータ
トラックをアクセスできるように、トランスデューサキ
ャリヤ２０をディスク１６表面を横切って略放射状に移
動させる。
ァイルの液体ベアリング接触記録例の断面図が示されて
いる。ディスクファイルは、ディスクドライブモータ１
２及びアクチュエータ１４が固定されるベース１０とカ
バー１１とを備える。ベース１０及びカバー１１は、デ
ィスクドライブのための実質的に密封されたハウジング
を提供する。ベース１０及びカバー１１間に配置された
ガスケット１３と、ディスクファイル内部と外部環境と
の間の圧力を等しくするための息抜きポート（図示せ
ず）と、が存在するのが一般的である。この型のディス
クファイルは、ドライブモータ１２が完全にハウジング
内に配置され、内部構成表素を冷却するために外部から
加えられる空気供給が無いので、実質的に密封されてい
ると説明される。磁気記録ディスク１６はハブ１８に搭
載され、ドライブモータ１２による回転のために取付け
られる。読取／書込ヘッド又はトランスデューサ（図示
せず）は、トランスデューサキャリヤ２０上に形成され
る。キャリヤ２０は剛性アーム２２及びサスペンション
２４によりアクチュエータ１４へ接続され、サスペンシ
ョン２４は、トランスデューサキャリヤ２０を記録ディ
スク１６表面へ付勢するバイアス力を提供する。ディス
クファイルの動作中、ドライブモータ１２はディスク１
６を一定速度で回転させ、典型的には線形又は回転式ボ
イスコイルモータ（ＶＣＭ）であるアクチュエータ１４
は、読取／書込ヘッドがディスク１６上の異なるデータ
トラックをアクセスできるように、トランスデューサキ
ャリヤ２０をディスク１６表面を横切って略放射状に移
動させる。
【００１０】図２は、カバー１１を取り外したディスク
ファイル内部の平面図を示し、ディスク１６表面に潤滑
剤を補充するために液体潤滑剤供給源を保持する手段と
して役立つ環状潤滑剤リザーバ３０を示す。潤滑剤の連
続薄膜がディスク１６表面に保持され、動作中リザーバ
３０からの潤滑剤により補充される。また、図２は、キ
ャリヤをディスク１６上で潤滑剤膜と接触して保持する
ためにキャリヤ２０へ力を提供するサスペンション２４
をより詳細に示している。サスペンションは、空気ベア
リングスライダを有する磁気ディスクファイルで使用さ
れるような従来の型のサスペンションでもよい。一例と
しては、米国特許第４、１６７、７６５号に記載される
周知のワトラス（ Watrous）サスペンションが挙げられ
る。また、この型のサスペンションはトランスデューサ
キャリヤのジンバルアタッチメント（gimballed attach
iment ）を提供し、キャリヤが液体潤滑剤膜上にあると
きに縦及び横に揺れることができるようにする。
ファイル内部の平面図を示し、ディスク１６表面に潤滑
剤を補充するために液体潤滑剤供給源を保持する手段と
して役立つ環状潤滑剤リザーバ３０を示す。潤滑剤の連
続薄膜がディスク１６表面に保持され、動作中リザーバ
３０からの潤滑剤により補充される。また、図２は、キ
ャリヤをディスク１６上で潤滑剤膜と接触して保持する
ためにキャリヤ２０へ力を提供するサスペンション２４
をより詳細に示している。サスペンションは、空気ベア
リングスライダを有する磁気ディスクファイルで使用さ
れるような従来の型のサスペンションでもよい。一例と
しては、米国特許第４、１６７、７６５号に記載される
周知のワトラス（ Watrous）サスペンションが挙げられ
る。また、この型のサスペンションはトランスデューサ
キャリヤのジンバルアタッチメント（gimballed attach
iment ）を提供し、キャリヤが液体潤滑剤膜上にあると
きに縦及び横に揺れることができるようにする。
【００１１】図３は、本発明の液体ベアリング接触記録
例におけるトランスデューサキャリヤ２０の側面図及び
ディスク１６の断面図を示す。キャリヤ２０は後方端部
にスキーフット（ski foot）４０を有し、その後縁部４
４にはヘッド４２が配置される。スキーフット４０はデ
ィスク１６上で液膜５０と接触し、取付けサスペンショ
ン２４により供給されるバイアス力によって読取又は書
込動作中接触が保持される。
例におけるトランスデューサキャリヤ２０の側面図及び
ディスク１６の断面図を示す。キャリヤ２０は後方端部
にスキーフット（ski foot）４０を有し、その後縁部４
４にはヘッド４２が配置される。スキーフット４０はデ
ィスク１６上で液膜５０と接触し、取付けサスペンショ
ン２４により供給されるバイアス力によって読取又は書
込動作中接触が保持される。
【００１２】図４は、本発明のドライ接触記録例におけ
る一体化ヘッド−サスペンション２３の側面断面図及び
ディスク１６の断面図を示す。一体化ヘッド−サスペン
ション２３は、図３の液体ベアリング例におけるサスペ
ンション２４及びキャリヤ２０の両方の機能を果たす。
しかしながら、対照的に、磁極端（pole tip）２７及び
コイル２９として示されるトランスデューサは、一体化
ヘッド−サスペンション２３内に埋め込まれる。ディス
ク１６表面に液膜は無く、潤滑剤リザーバの必要性が排
除される。ヘッド−サスペンション２３は、読取及び書
込動作中ディスク１６表面と直接接触する。
る一体化ヘッド−サスペンション２３の側面断面図及び
ディスク１６の断面図を示す。一体化ヘッド−サスペン
ション２３は、図３の液体ベアリング例におけるサスペ
ンション２４及びキャリヤ２０の両方の機能を果たす。
しかしながら、対照的に、磁極端（pole tip）２７及び
コイル２９として示されるトランスデューサは、一体化
ヘッド−サスペンション２３内に埋め込まれる。ディス
ク１６表面に液膜は無く、潤滑剤リザーバの必要性が排
除される。ヘッド−サスペンション２３は、読取及び書
込動作中ディスク１６表面と直接接触する。
【００１３】図５を参照すると、本発明のディスク１６
の断面図が示されている。ディスク基板６０は、ＮｉＰ
表面コーティング６２を有するＡｌＭｇベース６１を備
える。基板は、東洋鋼板及び日本軽金属等の幾つかの販
売会社から入手可能な市販のディスク基板である。Ａｌ
Ｍｇは典型的には５５８６アルミニウム合金であり、Ｎ
ｉＰは約１０〜１５μｍの厚さに無電解蒸着される。接
触記録の応用では、ＮｉＰコーティング６２の表面は極
めて円滑である必要がある。従って、ＮｉＰコーティン
グ６２は、約１０オングストローム又はそれ以下の算術
平均表面粗さ（Ｒa ）を有するように、Ａｌ2 Ｏ3 研磨
剤を用いる機械研磨等の種々の既知の技法により研磨さ
れる。次に、以下に説明される技法のいずれかによっ
て、特にＮｉＯから成る酸化ニッケル膜６４がＮｉＰコ
ーティング６２上に形成される。ＮｉＯ膜６４の厚さは
下方層の核形成を制御するのに十分な厚さであれば重要
ではなく、約１０〜３０オングストロームの範囲である
ことがわかっている。ＮｉＯ膜６４の形成に続いて、デ
ィスク１６の残りの周知の層がスパッタ蒸着による従来
の方法で形成される。これらには、約２００乃至１２０
０オングストロームの厚さのＣｒ又はＣｒＶ下方層６６
と、約１００乃至５００オングストロームの厚さのＣｏ
ＰｔＣｒ又はＣｏＮｉ合金等のＣｏ合金磁性層６７と、
水素の存在下炭素ターゲットからスパッタ蒸着された厚
さ約２５０オングストロームの水素化炭素保護オーバコ
ート６８と、が含まれる。後で蒸着された層は基板表面
と一致するので、接触記録ディスクファイルで要求され
るように保護オーバコート６８の表面がヘッドに対して
極めて円滑な界面を提供するためには、基板表面（即
ち、ＮｉＰ表面コーティング６２の表面）は極めて円滑
である必要がある。
の断面図が示されている。ディスク基板６０は、ＮｉＰ
表面コーティング６２を有するＡｌＭｇベース６１を備
える。基板は、東洋鋼板及び日本軽金属等の幾つかの販
売会社から入手可能な市販のディスク基板である。Ａｌ
Ｍｇは典型的には５５８６アルミニウム合金であり、Ｎ
ｉＰは約１０〜１５μｍの厚さに無電解蒸着される。接
触記録の応用では、ＮｉＰコーティング６２の表面は極
めて円滑である必要がある。従って、ＮｉＰコーティン
グ６２は、約１０オングストローム又はそれ以下の算術
平均表面粗さ（Ｒa ）を有するように、Ａｌ2 Ｏ3 研磨
剤を用いる機械研磨等の種々の既知の技法により研磨さ
れる。次に、以下に説明される技法のいずれかによっ
て、特にＮｉＯから成る酸化ニッケル膜６４がＮｉＰコ
ーティング６２上に形成される。ＮｉＯ膜６４の厚さは
下方層の核形成を制御するのに十分な厚さであれば重要
ではなく、約１０〜３０オングストロームの範囲である
ことがわかっている。ＮｉＯ膜６４の形成に続いて、デ
ィスク１６の残りの周知の層がスパッタ蒸着による従来
の方法で形成される。これらには、約２００乃至１２０
０オングストロームの厚さのＣｒ又はＣｒＶ下方層６６
と、約１００乃至５００オングストロームの厚さのＣｏ
ＰｔＣｒ又はＣｏＮｉ合金等のＣｏ合金磁性層６７と、
水素の存在下炭素ターゲットからスパッタ蒸着された厚
さ約２５０オングストロームの水素化炭素保護オーバコ
ート６８と、が含まれる。後で蒸着された層は基板表面
と一致するので、接触記録ディスクファイルで要求され
るように保護オーバコート６８の表面がヘッドに対して
極めて円滑な界面を提供するためには、基板表面（即
ち、ＮｉＰ表面コーティング６２の表面）は極めて円滑
である必要がある。
【００１４】ＮｉＯ膜６４を形成するための好ましいプ
ロセスでは、基板６０は洗浄された後チャンバに配置さ
れ、１００〜２００℃の範囲の温度で約２０乃至６０分
間、空気中で加熱される。温度は、アモルファスＮｉＰ
が結晶化される約２５０℃の温度より低く保持されなけ
ればならない。この酸化プロセスの結果、特にＮｉＯか
ら成る膜がＮｉＰコーティング６４上に約１０〜３０オ
ングストロームの厚さで形成されることがわかった。酸
化膜の試験によって明らかに優勢な成分はＮｉＯである
ことが確認され、ＮｉＯ2 及びＮｉ2 Ｏ3 等の他の酸化
物もまた存在した。比較して、洗浄後のＮｉＰコーティ
ング６２の表面の試験では、約１５オングストロームの
厚さの自然な酸化物層が示されたが、ＮｉＯは認められ
なかった。
ロセスでは、基板６０は洗浄された後チャンバに配置さ
れ、１００〜２００℃の範囲の温度で約２０乃至６０分
間、空気中で加熱される。温度は、アモルファスＮｉＰ
が結晶化される約２５０℃の温度より低く保持されなけ
ればならない。この酸化プロセスの結果、特にＮｉＯか
ら成る膜がＮｉＰコーティング６４上に約１０〜３０オ
ングストロームの厚さで形成されることがわかった。酸
化膜の試験によって明らかに優勢な成分はＮｉＯである
ことが確認され、ＮｉＯ2 及びＮｉ2 Ｏ3 等の他の酸化
物もまた存在した。比較して、洗浄後のＮｉＰコーティ
ング６２の表面の試験では、約１５オングストロームの
厚さの自然な酸化物層が示されたが、ＮｉＯは認められ
なかった。
【００１５】ＮｉＯ膜６４を形成するための別のプロセ
スでは、酸化は、酸素の存在下、スパッタエッチングに
より達成される。基板６０は真空チャンバに配置され、
ＮｉＰ表面コーティング６２は、約１０％Ｏ2 を含むア
ルゴン（Ａｒ）雰囲気中でスパッタエッチングされる。
その後直ちに真空を破ることなく、次のディスク層６
６、６７、６８がスパッタ蒸着される。
スでは、酸化は、酸素の存在下、スパッタエッチングに
より達成される。基板６０は真空チャンバに配置され、
ＮｉＰ表面コーティング６２は、約１０％Ｏ2 を含むア
ルゴン（Ａｒ）雰囲気中でスパッタエッチングされる。
その後直ちに真空を破ることなく、次のディスク層６
６、６７、６８がスパッタ蒸着される。
【００１６】ＮｉＰ表面コーティングの酸化によるディ
スク保磁性の改良は、図６及び図７に示される。図６に
おいて、種々の値の残留磁気−厚さ積（Ｍr ＊ｔ）及び
Ｃｏ 78Ｐｔ8 Ｃｒ20磁性層を有するディスクは、空気中
のアニーリングにより形成されるＮｉＯ膜を有する及び
有しない、超仕上げされた（Ｒa ＝７オングストロー
ム）基板上に製造された。図示されるように、１００〜
２００℃の範囲で６０分間のアニーリングによりＮｉＯ
膜が形成されたディスクについては、保磁性が大幅に上
昇される。例えば、ＮｉＯ膜が１５０℃で６０分間の空
気アニーリングにより形成される場合には、Ｍr ＊ｔ＝
０．７５ memu/cm2 のディスクの保磁性は９００Ｏｅ
（ＮｉＯ膜無）から１８５０Ｏｅへ上昇する。図７で
は、７５０及び１２５０スパッタエッチング電圧で１０
及び２０秒間、１０％Ｏ2 のＡｒ雰囲気中でスパッタエ
ッチングされた超仕上げ基板上に、同様のディスクが製
造された。図示されるように、基板をスパッタエッチン
グしたディスクでは、保磁性の大幅な増大がみられる。
例えば、１０秒スパッタエッチングは、７５０ボルトの
場合には１０００Ｏｅから１３００Ｏｅへ、１２５０ボ
ルトの場合には１０００Ｏｅから１８５０Ｏｅへ保磁性
を増大させる。
スク保磁性の改良は、図６及び図７に示される。図６に
おいて、種々の値の残留磁気−厚さ積（Ｍr ＊ｔ）及び
Ｃｏ 78Ｐｔ8 Ｃｒ20磁性層を有するディスクは、空気中
のアニーリングにより形成されるＮｉＯ膜を有する及び
有しない、超仕上げされた（Ｒa ＝７オングストロー
ム）基板上に製造された。図示されるように、１００〜
２００℃の範囲で６０分間のアニーリングによりＮｉＯ
膜が形成されたディスクについては、保磁性が大幅に上
昇される。例えば、ＮｉＯ膜が１５０℃で６０分間の空
気アニーリングにより形成される場合には、Ｍr ＊ｔ＝
０．７５ memu/cm2 のディスクの保磁性は９００Ｏｅ
（ＮｉＯ膜無）から１８５０Ｏｅへ上昇する。図７で
は、７５０及び１２５０スパッタエッチング電圧で１０
及び２０秒間、１０％Ｏ2 のＡｒ雰囲気中でスパッタエ
ッチングされた超仕上げ基板上に、同様のディスクが製
造された。図示されるように、基板をスパッタエッチン
グしたディスクでは、保磁性の大幅な増大がみられる。
例えば、１０秒スパッタエッチングは、７５０ボルトの
場合には１０００Ｏｅから１３００Ｏｅへ、１２５０ボ
ルトの場合には１０００Ｏｅから１８５０Ｏｅへ保磁性
を増大させる。
【００１７】また、超仕上げＮｉＰコーティングの酸化
はディスクに他の改良点も提供することがわかった。Ｎ
ｉＰの研磨は表面にいくらかの残存スクラッチを残す。
これらのスクラッチは、スクラッチ方向に沿って保磁性
及び方形度合（squareness）が向上された磁気異方性を
もたらし得る。残存スクラッチは記録トラック方向と平
行に合わせられていないので、異方性は望ましくない信
号振幅変調を生成する。ＮｉＰコーティング上にＮｉＯ
膜を形成することは、下方層及び磁性層の結晶配向を変
更することによりこの変調を大幅に低減する。
はディスクに他の改良点も提供することがわかった。Ｎ
ｉＰの研磨は表面にいくらかの残存スクラッチを残す。
これらのスクラッチは、スクラッチ方向に沿って保磁性
及び方形度合（squareness）が向上された磁気異方性を
もたらし得る。残存スクラッチは記録トラック方向と平
行に合わせられていないので、異方性は望ましくない信
号振幅変調を生成する。ＮｉＰコーティング上にＮｉＯ
膜を形成することは、下方層及び磁性層の結晶配向を変
更することによりこの変調を大幅に低減する。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の薄膜合金
磁気記録ディスクは所望の円滑ヘッド−ディスク界面及
びディスク保磁性を提供することができ、接触記録にお
いて使用可能である。
磁気記録ディスクは所望の円滑ヘッド−ディスク界面及
びディスク保磁性を提供することができ、接触記録にお
いて使用可能である。
【図１】液体ベアリング接触記録ディスクファイルの主
構成要素を概略的に説明する部分断面側面図である。
構成要素を概略的に説明する部分断面側面図である。
【図２】図１のディスクファイルのカバー１１を取り外
した平面図である。
した平面図である。
【図３】液体ベアリング接触記録ディスクファイルのヘ
ッド−ディスク界面図である。
ッド−ディスク界面図である。
【図４】ドライ接触記録ディスクファイルのヘッド−デ
ィスク界面図である。
ィスク界面図である。
【図５】種々のディスク層を示す本発明のディスクの断
面図である。
面図である。
【図６】空気アニーリングによって形成される酸化膜を
有するディスク及び有しないディスクについて、アニー
リング温度の関数としての保磁性のグラフである。
有するディスク及び有しないディスクについて、アニー
リング温度の関数としての保磁性のグラフである。
【図７】Ｏ2 −Ａｒ雰囲気中のスパッタエッチングによ
って形成される酸化膜を有するディスク及び有しないデ
ィスクについて、エッチング電圧の関数としての保磁性
のグラフである。
って形成される酸化膜を有するディスク及び有しないデ
ィスクについて、エッチング電圧の関数としての保磁性
のグラフである。
１０ ベース １１ カバー １２ ディスクドライブモータ １３ ガスケット １４ アクチュエータ １６ 磁気記録ディスク １８ ハブ ２０ トランスデューサキャリヤ ２２ 剛性アーム ２３ 一体化ヘッド−サスペンション ２４ サスペンション ２７ 磁極端 ２９ コイル ３０ 環状潤滑剤リザーバ ４０ スキーフット ４２ ヘッド ５０ 液膜 ６０ ディスク基板 ６１ ＡｌＭｇベース ６２ ＮｉＰ表面コーティング ６４ 酸化ニッケル膜６４ ６６ Ｃｒ又はＣｒＶ下方層 ６７ Ｃｏ合金磁性層 ６８ 水素化炭素保護オーバコート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 タダシ ヨギ アメリカ合衆国95120、カリフォルニア州 サンホゼ、アンジョウ クリーク サーク ル 7100 (72)発明者 アンソニー ワイ ウー アメリカ合衆国95120、カリフォルニア州 サンホゼ、ブライアー ランチ レイン 663 (72)発明者 ダン スティーヴン パーカー アメリカ合衆国95129、カリフォルニア州 サンホゼ、レイントゥリー ドライヴ 847
Claims (6)
- 【請求項１】 接触記録のための磁気記録ディスクファ
イルであって、 ニッケル−リン表面コーティングを有するアルミニウム
合金基板と、ニッケル−リンコーティング上に形成され
た酸化ニッケルを含む膜と、酸化ニッケル膜上に形成さ
れた下方層と、下方層上に形成されたコバルトベース合
金を含む磁性層と、を更に含む磁気記録ディスクと、 ディスクを回転させるためにディスクへ接続された手段
と、 ディスク上の磁性層からデータを読取り又は書込むため
のヘッドと、 読取又は書込動作中にディスクと接触するよう付勢さ
れ、ヘッドを支持するための手段と、 ディスクを横切ってヘッドを移動させるためにヘッド支
持手段へ接続された手段と、 を備えた磁気記録ディスクファイル。 - 【請求項２】 前記ディスクは磁性層上に形成された保
護オーバコートを含む請求項１記載の磁気記録ディスク
ファイル。 - 【請求項３】 前記ニッケル−リンコーティングは、約
１０オングストロームより小さい算術平均表面粗さを有
する請求項１記載の磁気記録ディスクファイル。 - 【請求項４】 前記下方層はクロム又はクロムとバナジ
ウムの合金を含む請求項１記載の磁気記録ディスクファ
イル。 - 【請求項５】 前記ディスクはその表面に液体ベアリン
グ膜を有し、前記ヘッド支持手段はヘッドキャリヤを更
に備え、該キャリヤは読取又は書込動作中に液体ベアリ
ング膜と接触するように付勢される請求項１記載の磁気
記録ディスクファイル。 - 【請求項６】 前記ヘッド及びヘッド支持手段は一体化
ヘッド−サスペンションを形成し、該ヘッド−サスペン
ションは読取又は書込動作中にディスクと接触するよう
に付勢される請求項１記載の磁気記録ディスクファイ
ル。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/926,488 US5307223A (en) | 1992-08-07 | 1992-08-07 | Magnetic recording disk file for contact recording |
| US926488 | 1992-08-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0676261A true JPH0676261A (ja) | 1994-03-18 |
| JPH07105031B2 JPH07105031B2 (ja) | 1995-11-13 |
Family
ID=25453277
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5153958A Expired - Lifetime JPH07105031B2 (ja) | 1992-08-07 | 1993-06-24 | 磁気記録ディスクファイル |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5307223A (ja) |
| JP (1) | JPH07105031B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6804085B1 (en) | 1995-03-21 | 2004-10-12 | Seagate Technology, Llc | Hard drive system interface between a disk surface and a transducer contacting the surface during communication |
| US5506017A (en) * | 1995-06-07 | 1996-04-09 | Komag Incorporated | Method for texturing magnetic media |
| US5825596A (en) * | 1996-02-13 | 1998-10-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Hard disk drive |
| JPH11296832A (ja) * | 1998-04-02 | 1999-10-29 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
| WO2000074043A1 (en) * | 1999-05-31 | 2000-12-07 | Migaku Takahashi | Base for magnetic recording medium, magnetic recording medium, method for producing the same, and magnetic recorder |
| JP2001023142A (ja) * | 1999-07-05 | 2001-01-26 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
| US6524724B1 (en) * | 2000-02-11 | 2003-02-25 | Seagate Technology Llc | Control of magnetic film grain structure by modifying Ni-P plating of the substrate |
| JP3848072B2 (ja) * | 2000-09-29 | 2006-11-22 | 富士通株式会社 | 磁気記録媒体及びこれを用いた磁気記憶装置 |
Citations (1)
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|---|---|---|---|---|
| JPS60219638A (ja) * | 1984-04-16 | 1985-11-02 | Hitachi Ltd | 磁気デイスクの製造方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS501438A (ja) * | 1973-05-11 | 1975-01-09 | ||
| JPS5151908A (ja) * | 1974-11-01 | 1976-05-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | |
| US4167765A (en) * | 1978-07-27 | 1979-09-11 | International Business Machines Corporation | Transducer suspension mount apparatus |
| US4621030A (en) * | 1982-07-19 | 1986-11-04 | Hitachi, Ltd. | Perpendicular magnetic recording medium and manufacturing method thereof |
| US4696845A (en) * | 1984-08-27 | 1987-09-29 | Nec Corporation | Magnetic storage medium with lubricating coating |
| JPS6196522A (ja) * | 1984-10-18 | 1986-05-15 | Seiko Epson Corp | 磁気記録体の製造方法 |
| JPS61246380A (ja) * | 1985-04-23 | 1986-11-01 | Nec Corp | 磁気デイスク基板の製造方法 |
| JP2633230B2 (ja) * | 1985-09-26 | 1997-07-23 | 日本電気株式会社 | 磁気記憶体 |
| JPS63140091A (ja) * | 1986-12-02 | 1988-06-11 | Kobe Steel Ltd | 磁気デイスク用無電解Ｎｉ−Ｐメツキ基盤の耐食性向上方法 |
| US5047274A (en) * | 1987-09-28 | 1991-09-10 | Noboru Tsuya | Annodized aluminum substrate for a magnetic recording disk in which pores are filled with a non magnetic material and the surface polished and etched |
| US5041932A (en) * | 1989-11-27 | 1991-08-20 | Censtor Corp. | Integrated magnetic read/write head/flexure/conductor structure |
-
1992
- 1992-08-07 US US07/926,488 patent/US5307223A/en not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-06-24 JP JP5153958A patent/JPH07105031B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60219638A (ja) * | 1984-04-16 | 1985-11-02 | Hitachi Ltd | 磁気デイスクの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07105031B2 (ja) | 1995-11-13 |
| US5307223A (en) | 1994-04-26 |
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