JPH0676357A - 光ディスク被覆用紫外線硬化型樹脂組成物 - Google Patents
光ディスク被覆用紫外線硬化型樹脂組成物Info
- Publication number
- JPH0676357A JPH0676357A JP4228533A JP22853392A JPH0676357A JP H0676357 A JPH0676357 A JP H0676357A JP 4228533 A JP4228533 A JP 4228533A JP 22853392 A JP22853392 A JP 22853392A JP H0676357 A JPH0676357 A JP H0676357A
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- JP
- Japan
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- resin composition
- curable resin
- meth
- film
- optical disc
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 カルボキシル基を有する（メタ）アクリル酸
エステルを３０〜７０重量％含有する光ディスク被覆用
紫外線硬化型樹脂組成物、及び該組成物組成物から成る
硬化皮膜を有する光ディスク。 【効果】 本発明の組成物によれば、高い初期帯電防止
性能を有し、基板との密着性、皮膜硬度に優れ、しかも
洗浄によっても帯電防止性能の低下がない硬化皮膜を有
する光ディスクを得ることができる。
エステルを３０〜７０重量％含有する光ディスク被覆用
紫外線硬化型樹脂組成物、及び該組成物組成物から成る
硬化皮膜を有する光ディスク。 【効果】 本発明の組成物によれば、高い初期帯電防止
性能を有し、基板との密着性、皮膜硬度に優れ、しかも
洗浄によっても帯電防止性能の低下がない硬化皮膜を有
する光ディスクを得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク被覆用紫外
線硬化型樹脂組成物に関する。
線硬化型樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】次世代の記録媒体として注目されている
光ディスク基板には、一般にポリカーボネートやポリメ
チルメタクリレートなどが用いられるが、これらの基板
自身の表面硬度は小さい。そこで取扱い時における表面
の傷付き防止のため、紫外線硬化型樹脂などの樹脂組成
物により表面を被覆することが提案されている。
光ディスク基板には、一般にポリカーボネートやポリメ
チルメタクリレートなどが用いられるが、これらの基板
自身の表面硬度は小さい。そこで取扱い時における表面
の傷付き防止のため、紫外線硬化型樹脂などの樹脂組成
物により表面を被覆することが提案されている。
【０００３】この光ディスクの表面被覆のための樹脂組
成物は、ハンドリングの際の傷つき防止のため、高い硬
度を示すものが好ましいが、それ以外に空気中の塵埃の
付着による記録、読みとり動作のエラーを防ぐため帯電
防止性能を有することが望まれている。
成物は、ハンドリングの際の傷つき防止のため、高い硬
度を示すものが好ましいが、それ以外に空気中の塵埃の
付着による記録、読みとり動作のエラーを防ぐため帯電
防止性能を有することが望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような帯電防止性
を得る手法として、例えば、界面活性剤等の帯電防止剤
を当該表面に塗布する方法が知られているが、この方法
では初期の帯電防止性能は良好であるが、表面の洗浄、
摩耗により、帯電防止剤成分が容易に脱落するので短期
間に性能の低下をきたしてしまう。
を得る手法として、例えば、界面活性剤等の帯電防止剤
を当該表面に塗布する方法が知られているが、この方法
では初期の帯電防止性能は良好であるが、表面の洗浄、
摩耗により、帯電防止剤成分が容易に脱落するので短期
間に性能の低下をきたしてしまう。
【０００５】そこで帯電防止剤が練りこまれた紫外線硬
化型樹脂組成物によりディスク表面を被覆する方法が検
討されている。このような組成物の場合、帯電防止剤が
樹脂表面にブリードすることにより帯電防止効果が発現
するが、紫外線硬化型樹脂組成物の場合、硬化後３次元
架橋した構造となるため、練りこまれた帯電防止剤が表
面に移行するのが困難である。また、この方法でも表面
にブリードした帯電防止剤が洗浄、摩耗などによって脱
落することが避けられず、光ディスク基板表面の帯電防
止性能の長期的な安定性が達成されていない。
化型樹脂組成物によりディスク表面を被覆する方法が検
討されている。このような組成物の場合、帯電防止剤が
樹脂表面にブリードすることにより帯電防止効果が発現
するが、紫外線硬化型樹脂組成物の場合、硬化後３次元
架橋した構造となるため、練りこまれた帯電防止剤が表
面に移行するのが困難である。また、この方法でも表面
にブリードした帯電防止剤が洗浄、摩耗などによって脱
落することが避けられず、光ディスク基板表面の帯電防
止性能の長期的な安定性が達成されていない。
【０００６】本発明が解決しようとする課題は、高い初
期帯電防止性能を有し、かつその性能が洗浄などによっ
ても低下しにくい光ディスクの硬化皮膜を形成可能な光
ディスク被覆用用紫外線硬化型樹脂組成物を提供するこ
とにある。
期帯電防止性能を有し、かつその性能が洗浄などによっ
ても低下しにくい光ディスクの硬化皮膜を形成可能な光
ディスク被覆用用紫外線硬化型樹脂組成物を提供するこ
とにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、カルボキシル基を有する（メタ）アクリル
酸エステルを３０〜７０重量％含有することを特徴とす
る光ディスク被覆用紫外線硬化型樹脂組成物を提供す
る。
するために、カルボキシル基を有する（メタ）アクリル
酸エステルを３０〜７０重量％含有することを特徴とす
る光ディスク被覆用紫外線硬化型樹脂組成物を提供す
る。
【０００８】以下、本発明を詳細に説明する。
【０００９】本発明で使用するカルボキシル基を有する
（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、アクリ
ル酸ダイマー、メタクリル酸ダイマー、エチレンオキシ
ド変性コハク酸アクリレート、エチレンオキシド変性コ
ハク酸メタクリレート、エチレンオキシド変性フタル酸
アクリレート、エチレンオキシド変性フタル酸メタクリ
レート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアク
リレート等が挙げられる。
（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、アクリ
ル酸ダイマー、メタクリル酸ダイマー、エチレンオキシ
ド変性コハク酸アクリレート、エチレンオキシド変性コ
ハク酸メタクリレート、エチレンオキシド変性フタル酸
アクリレート、エチレンオキシド変性フタル酸メタクリ
レート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアク
リレート等が挙げられる。
【００１０】これら化合物の紫外線硬化型樹脂組成物中
に占める割合は、３０〜７０重量％の範囲が好ましい。
３０重量％未満であると帯電防止性能が劣り、また７０
％を超えると皮膜硬度の低下を来す傾向にあるので、好
ましくない。
に占める割合は、３０〜７０重量％の範囲が好ましい。
３０重量％未満であると帯電防止性能が劣り、また７０
％を超えると皮膜硬度の低下を来す傾向にあるので、好
ましくない。
【００１１】なお、カルボキシル基を有する（メタ）ア
クリル酸エステルを５〜１５重量％含有する紫外線硬化
型樹脂組成物が特開平２−１２３１７２号に記載されて
おり、該組成物をコーティングした光ディスクも同公報
に記載されている。しかしながら、当該明細書におい
て、カルボキシル基を分子中に有する（メタ）アクリル
酸エステルは、基板との密着性を向上させる目的で添加
されたものであり、本発明において目的とする帯電防止
性能については、当該明細書には一切記載されていない
うえ、当該明細書に記載の範囲の紫外線硬化型樹脂組成
物からは、後述の比較例からも明らかなように、満足で
きる帯電防止性能を有する硬化皮膜も得られない。
クリル酸エステルを５〜１５重量％含有する紫外線硬化
型樹脂組成物が特開平２−１２３１７２号に記載されて
おり、該組成物をコーティングした光ディスクも同公報
に記載されている。しかしながら、当該明細書におい
て、カルボキシル基を分子中に有する（メタ）アクリル
酸エステルは、基板との密着性を向上させる目的で添加
されたものであり、本発明において目的とする帯電防止
性能については、当該明細書には一切記載されていない
うえ、当該明細書に記載の範囲の紫外線硬化型樹脂組成
物からは、後述の比較例からも明らかなように、満足で
きる帯電防止性能を有する硬化皮膜も得られない。
【００１２】また、本発明における紫外線硬化型樹脂組
成物は、上記化合物以外に、皮膜硬度の向上のために分
子中に少なくとも２つ以上の活性エチレン基を含有する
有機化合物を含有することが好ましい。かかる化合物と
しては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレング
リコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリ
コール、１，３−ブチレングリコール、テトラメチレン
グリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチル
グリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン及び
ペンタエリスリトール等のポリ（メタ）アクリレート；
ネオペンチルグリコール１モルに２モル以上のエチレン
オキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得
たジオールのジ（メタ）アクリレート；トリメチロール
プロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若し
くはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールの
ジ又はトリ（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ１
モルに２モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピ
レンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）ア
クリレート；ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）ア
クリレート、アクリロキシエチルイソシアヌレート、ス
チレン等が挙げられるが、いずれにしても、それ自体、
光重合開始剤の存在下で重合し、その場合の塗膜硬度が
鉛筆硬度で３Ｈ以上有れば良い。これら分子中に少なく
とも２つ以上の活性エチレン基を含有する有機化合物の
組成物中に占める割合は特に制限はない。
成物は、上記化合物以外に、皮膜硬度の向上のために分
子中に少なくとも２つ以上の活性エチレン基を含有する
有機化合物を含有することが好ましい。かかる化合物と
しては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレング
リコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリ
コール、１，３−ブチレングリコール、テトラメチレン
グリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチル
グリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン及び
ペンタエリスリトール等のポリ（メタ）アクリレート；
ネオペンチルグリコール１モルに２モル以上のエチレン
オキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得
たジオールのジ（メタ）アクリレート；トリメチロール
プロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若し
くはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールの
ジ又はトリ（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ１
モルに２モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピ
レンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）ア
クリレート；ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）ア
クリレート、アクリロキシエチルイソシアヌレート、ス
チレン等が挙げられるが、いずれにしても、それ自体、
光重合開始剤の存在下で重合し、その場合の塗膜硬度が
鉛筆硬度で３Ｈ以上有れば良い。これら分子中に少なく
とも２つ以上の活性エチレン基を含有する有機化合物の
組成物中に占める割合は特に制限はない。
【００１３】以上の混合物に、紫外線の照射条件に見合
う量の光重合開始剤を使用する。光重合開始剤について
は通例考え得るもので有れば良く、例えば、２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
（メルク社製「ダロキュア１１７３」）、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ガイギー社製
「イルガキュア１８４」）、１−（４−イソプロピルフ
ェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−
オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、ベンジル
ジメチルケタール（チバ・ガイギー社製「イルガキュア
６５１」）、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フ
ェニル〕−２−モルホリノプロパノン−１（チバ・ガイ
ギー社製「イルガキュア９０７」）、２，４−ジエチル
チオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴ
Ｘ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬
社製「カヤキュア−ＥＰＡ」）との混合物、イソプロピ
ルチオキサントン（ワードプレキンソップ社製「カンタ
キュアＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
との混合物等が挙げられる。その使用量は、硬化に用い
る紫外線照射機の条件によって決定されるが、一般的に
は上記樹脂混合物に対して重量比で３〜７重量％を用い
ることが好ましい。
う量の光重合開始剤を使用する。光重合開始剤について
は通例考え得るもので有れば良く、例えば、２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
（メルク社製「ダロキュア１１７３」）、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ガイギー社製
「イルガキュア１８４」）、１−（４−イソプロピルフ
ェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−
オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、ベンジル
ジメチルケタール（チバ・ガイギー社製「イルガキュア
６５１」）、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フ
ェニル〕−２−モルホリノプロパノン−１（チバ・ガイ
ギー社製「イルガキュア９０７」）、２，４−ジエチル
チオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴ
Ｘ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬
社製「カヤキュア−ＥＰＡ」）との混合物、イソプロピ
ルチオキサントン（ワードプレキンソップ社製「カンタ
キュアＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
との混合物等が挙げられる。その使用量は、硬化に用い
る紫外線照射機の条件によって決定されるが、一般的に
は上記樹脂混合物に対して重量比で３〜７重量％を用い
ることが好ましい。
【００１４】なお、以上の組成物に対して、適宜、重合
禁止剤、消泡剤、レベリング剤、溶剤、重合性希釈剤等
を添加しても良い。また、上記組成物は、通常、光ディ
スクのレーザー光入射側に塗布される。
禁止剤、消泡剤、レベリング剤、溶剤、重合性希釈剤等
を添加しても良い。また、上記組成物は、通常、光ディ
スクのレーザー光入射側に塗布される。
【００１５】本発明の組成物を紫外線照射により硬化さ
せた後の皮膜の表面抵抗は２５℃、５０％ＲＨの条件下
で１．０×１０14Ω／□以下であることが好ましい。
１．０×１０14Ω／□を超えると、帯電防止性能が劣
り、被覆表面の塵埃付着を防ぐ効果が低下する傾向にあ
るので、好ましくない。。
せた後の皮膜の表面抵抗は２５℃、５０％ＲＨの条件下
で１．０×１０14Ω／□以下であることが好ましい。
１．０×１０14Ω／□を超えると、帯電防止性能が劣
り、被覆表面の塵埃付着を防ぐ効果が低下する傾向にあ
るので、好ましくない。。
【００１６】また皮膜の硬度はＪＩＳ Ｋ−５４００に
従って測定したときに鉛筆硬度でＦ以上であることが、
基盤表面の傷つき防止のため好ましい。
従って測定したときに鉛筆硬度でＦ以上であることが、
基盤表面の傷つき防止のため好ましい。
【００１７】
【実施例】以下、実施例を用いて本発明を更に詳細に説
明する。なお、実施例中、「部」は『重量部』を表わ
す。また、表面抵抗は、ＪＩＳ Ｋ−６９１１に従い、
２５℃、５０％ＲＨの環境において測定した。鉛筆硬度
は、ＪＩＳ Ｋ−５４００、密着性は、ＪＩＳ Ｋ−５
４００による碁板目／セロテープ剥離試験により測定し
た。また、耐洗浄性の評価のため、塗布後の基板を純水
中に２４時間浸漬した純水浸漬試験を行った。
明する。なお、実施例中、「部」は『重量部』を表わ
す。また、表面抵抗は、ＪＩＳ Ｋ−６９１１に従い、
２５℃、５０％ＲＨの環境において測定した。鉛筆硬度
は、ＪＩＳ Ｋ−５４００、密着性は、ＪＩＳ Ｋ−５
４００による碁板目／セロテープ剥離試験により測定し
た。また、耐洗浄性の評価のため、塗布後の基板を純水
中に２４時間浸漬した純水浸漬試験を行った。
【００１８】（実施例１）カルボキシル基含有原料とし
てエチレンオキシド変性コハク酸アクリレート（東亜合
成化学工業(株)製「アロニックスＭ−５５００」）、活
性エチレン含有化合物として１，６−ヘキサンジオール
ジアクリレート（日本化薬(株)製カヤラッドＨＤＤＡ）
及びペンタエリスリトールテトラアクリレート（共栄社
油脂化学工業(株)製「ＰＥ−４Ａ」）とを各々６０、２
２、１３部混合した。この組成物に光重合開始剤として
メルク(株)製の「ダロキュアー１１７３」５部を混合し
て樹脂組成物を調製した。
てエチレンオキシド変性コハク酸アクリレート（東亜合
成化学工業(株)製「アロニックスＭ−５５００」）、活
性エチレン含有化合物として１，６−ヘキサンジオール
ジアクリレート（日本化薬(株)製カヤラッドＨＤＤＡ）
及びペンタエリスリトールテトラアクリレート（共栄社
油脂化学工業(株)製「ＰＥ−４Ａ」）とを各々６０、２
２、１３部混合した。この組成物に光重合開始剤として
メルク(株)製の「ダロキュアー１１７３」５部を混合し
て樹脂組成物を調製した。
【００１９】この組成物を光ディスク用ポリカーボネー
ト基板上にスピンコーターにより塗布後、４１０mＷ／c
m2のメタルハライドランプにより５秒間照射して硬化さ
れた皮膜をもつ基板を得た。この基板の皮膜とは反対の
面に誘電帯層、記録膜層、反射膜層を順次スパッタ法に
より製膜し、更にオーバーコートを行ない、本発明の光
ディスクを得た。このディスクに付いて物性を測定した
結果について表１に示した。
ト基板上にスピンコーターにより塗布後、４１０mＷ／c
m2のメタルハライドランプにより５秒間照射して硬化さ
れた皮膜をもつ基板を得た。この基板の皮膜とは反対の
面に誘電帯層、記録膜層、反射膜層を順次スパッタ法に
より製膜し、更にオーバーコートを行ない、本発明の光
ディスクを得た。このディスクに付いて物性を測定した
結果について表１に示した。
【００２０】（実施例２）実施例１において、エチレン
オキシド変性コハク酸アクリレートに代えてエチレンオ
キシド変性コハク酸メタクリレート（共栄社油脂化学工
業(株)製「ライトエステルＨＯ−ＭＳ」）を用いた以外
は、実施例１と同様にして光ディスクを得た。このディ
スクについて物性を測定した結果について表１に示し
た。
オキシド変性コハク酸アクリレートに代えてエチレンオ
キシド変性コハク酸メタクリレート（共栄社油脂化学工
業(株)製「ライトエステルＨＯ−ＭＳ」）を用いた以外
は、実施例１と同様にして光ディスクを得た。このディ
スクについて物性を測定した結果について表１に示し
た。
【００２１】（実施例３）実施例１において、エチレン
オキシド変性コハク酸アクリレートに代えてアクリル酸
ダイマー（東亜合成化学工業(株)製「Ｍ−５６００」）
を用いた以外は、実施例１と同様にして光ディスクを得
た。このディスクについて物性を測定した結果について
表１に示した。
オキシド変性コハク酸アクリレートに代えてアクリル酸
ダイマー（東亜合成化学工業(株)製「Ｍ−５６００」）
を用いた以外は、実施例１と同様にして光ディスクを得
た。このディスクについて物性を測定した結果について
表１に示した。
【００２２】
【表１】
【００２３】（実施例４、５、比較例１、２）実施例１
において、エチレンオキシド変性コハク酸アクリレート
の使用量を３０部（実施例４）、９０部（実施例５）、
７部（比較例１）及び１２０部（比較例２）に変更した
以外は、実施例１と同様に光ディスクを作成した。この
ディスクについて物性を測定した結果について表２に示
した。
において、エチレンオキシド変性コハク酸アクリレート
の使用量を３０部（実施例４）、９０部（実施例５）、
７部（比較例１）及び１２０部（比較例２）に変更した
以外は、実施例１と同様に光ディスクを作成した。この
ディスクについて物性を測定した結果について表２に示
した。
【００２４】
【表２】
【００２５】
【発明の効果】以上述べたように、本発明により、高い
初期帯電防止性能を有し、基板との密着性、皮膜硬度に
優れ、しかも洗浄によっても帯電防止性能の低下がない
硬化皮膜を有する光ディスクを得ることが可能となっ
た。
初期帯電防止性能を有し、基板との密着性、皮膜硬度に
優れ、しかも洗浄によっても帯電防止性能の低下がない
硬化皮膜を有する光ディスクを得ることが可能となっ
た。
Claims (2)
- 【請求項１】 カルボキシル基を有する（メタ）アクリ
ル酸エステルを３０〜７０重量％含有することを特徴と
する光ディスク被覆用紫外線硬化型樹脂組成物。 - 【請求項２】 請求項１記載の光ディスク被覆用紫外線
硬化型樹脂組成物から成る硬化皮膜を有することを特徴
とする光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4228533A JPH0676357A (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 光ディスク被覆用紫外線硬化型樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4228533A JPH0676357A (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 光ディスク被覆用紫外線硬化型樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0676357A true JPH0676357A (ja) | 1994-03-18 |
Family
ID=16877900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4228533A Pending JPH0676357A (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 光ディスク被覆用紫外線硬化型樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0676357A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011034054A (ja) * | 2009-07-10 | 2011-02-17 | Toyota Central R&D Labs Inc | 光学装置及びその製造方法 |
-
1992
- 1992-08-27 JP JP4228533A patent/JPH0676357A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011034054A (ja) * | 2009-07-10 | 2011-02-17 | Toyota Central R&D Labs Inc | 光学装置及びその製造方法 |
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