JPH0676577A - スタティック型ランダム・アクセス・メモリ - Google Patents
スタティック型ランダム・アクセス・メモリInfo
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- JPH0676577A JPH0676577A JP4231228A JP23122892A JPH0676577A JP H0676577 A JPH0676577 A JP H0676577A JP 4231228 A JP4231228 A JP 4231228A JP 23122892 A JP23122892 A JP 23122892A JP H0676577 A JPH0676577 A JP H0676577A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】変換回路を使用すること無くシリアルデータの
書込みができ、データの書込み時間の短縮やコスト低下
を図る。 【構成】ビットラインDL,DRとワードラインWLに
接続された複数の1ビットメモリセルMS1 〜MSm を
ワードラインを共通にして配列してなるメモリ配列体M
Aと、各メモリセルの各ビットラインのレベル制御を行
い、メモリ配列体に対するデータの読出し及び書込み制
御を行う読出し・書込み制御回路121 〜12m と、メ
モリ配列体に対するデータの読出し時に各メモリセルに
対してプリチャージをかけるプリチャージ回路131 〜
13m と、データの書込み時に読出し・書込み制御回路
によるメモリ配列体の各メモリセルに対するデータの書
込みを許可するか否かを制御する書込み許可制御手段W
1 〜Wm とを設けている。
書込みができ、データの書込み時間の短縮やコスト低下
を図る。 【構成】ビットラインDL,DRとワードラインWLに
接続された複数の1ビットメモリセルMS1 〜MSm を
ワードラインを共通にして配列してなるメモリ配列体M
Aと、各メモリセルの各ビットラインのレベル制御を行
い、メモリ配列体に対するデータの読出し及び書込み制
御を行う読出し・書込み制御回路121 〜12m と、メ
モリ配列体に対するデータの読出し時に各メモリセルに
対してプリチャージをかけるプリチャージ回路131 〜
13m と、データの書込み時に読出し・書込み制御回路
によるメモリ配列体の各メモリセルに対するデータの書
込みを許可するか否かを制御する書込み許可制御手段W
1 〜Wm とを設けている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、シリアルデータを直接
格納できるスタティック型ランダム・アクセス・メモリ
に関する。
格納できるスタティック型ランダム・アクセス・メモリ
に関する。
【0002】
【従来の技術】スタティック型ランダム・アクセス・メ
モリ(以下、SRAMと称する。)は図6に示すように
m個のスタティック型1ビットメモリセルMS1 〜MS
m を横に配列したメモリ配列体MAを縦に2n+1 −1列
設けてメモリ本体を構成している。すなわちこのメモリ
本体は全体で(2n+1 −1)ワード×mビットのビット
容量を有することになる。
モリ(以下、SRAMと称する。)は図6に示すように
m個のスタティック型1ビットメモリセルMS1 〜MS
m を横に配列したメモリ配列体MAを縦に2n+1 −1列
設けてメモリ本体を構成している。すなわちこのメモリ
本体は全体で(2n+1 −1)ワード×mビットのビット
容量を有することになる。
【0003】そしてアドレスデータA0 〜An を2n+1
−1個の信号にデコードするアドレスデコーダ1を設
け、このアドレスデコーダ1からの2n+1 −1本のワー
ドラインWL1 〜WL2n+1 −1をそれぞれ各メモリ配
列体MAに配設している。
−1個の信号にデコードするアドレスデコーダ1を設
け、このアドレスデコーダ1からの2n+1 −1本のワー
ドラインWL1 〜WL2n+1 −1をそれぞれ各メモリ配
列体MAに配設している。
【0004】またデータラインD1 〜Dm にそれぞれ接
続されたm個の読出し・書込み(以下、R/Wと称す
る。)制御回路21 〜2m を設け、この各R/W制御回
路21〜2m からそれぞれ左右のビットラインD1 L,
D1 R、D2 L,D2 R、…Dm L,Dm Rを各メモリ
配列体MAの各1ビットメモリセルMS1 〜MSm に配
列している。各ビットラインD1 L,D1 R、〜D
m L,Dm Rの先端はデータの読出し時に各1ビットメ
モリセルMS1 〜MSm にプリチャージをかけるプリチ
ャージ回路31 〜3m に接続されている。
続されたm個の読出し・書込み(以下、R/Wと称す
る。)制御回路21 〜2m を設け、この各R/W制御回
路21〜2m からそれぞれ左右のビットラインD1 L,
D1 R、D2 L,D2 R、…Dm L,Dm Rを各メモリ
配列体MAの各1ビットメモリセルMS1 〜MSm に配
列している。各ビットラインD1 L,D1 R、〜D
m L,Dm Rの先端はデータの読出し時に各1ビットメ
モリセルMS1 〜MSm にプリチャージをかけるプリチ
ャージ回路31 〜3m に接続されている。
【0005】各1ビットメモリセルMS1 〜MSm は図
7に示すようにP−MOS・FET4,5とN−MOS
・FET6,7からなるプリップフロップと、これを制
御するP−MOS・FET8,9で構成され、P−MO
S・FET8をP−MOS・FET4とN−MOS・F
ET6との接続点と左のビットラインDL(D1 L〜D
m L)との間に接続するとともにP−MOS・FET9
をP−MOS・FET5とN−MOS・FET7との接
続点と右のビットラインDR(D1 R〜Dm R)との間
に接続し、かつP−MOS・FET8,9のゲートをワ
ードラインWL(WL1 〜WL2n+1 −1)に接続して
いる。
7に示すようにP−MOS・FET4,5とN−MOS
・FET6,7からなるプリップフロップと、これを制
御するP−MOS・FET8,9で構成され、P−MO
S・FET8をP−MOS・FET4とN−MOS・F
ET6との接続点と左のビットラインDL(D1 L〜D
m L)との間に接続するとともにP−MOS・FET9
をP−MOS・FET5とN−MOS・FET7との接
続点と右のビットラインDR(D1 R〜Dm R)との間
に接続し、かつP−MOS・FET8,9のゲートをワ
ードラインWL(WL1 〜WL2n+1 −1)に接続して
いる。
【0006】このメモリセルMS1 〜MSm にデータを
書込む場合には、先ずワードラインWL、ビットライン
DRにローレベルを、ビットラインDLにハイレベルを
印加する。これによりP−MOS・FET8がオンし、
P−MOS・FET9がオフする。続いてP−MOS・
FET4及びN−MOS・FET7がオンとなり、この
フリップフロップは安定化する。このレベル状態をH状
態と仮定すれば、これと逆の動作でL状態にすることが
できる。
書込む場合には、先ずワードラインWL、ビットライン
DRにローレベルを、ビットラインDLにハイレベルを
印加する。これによりP−MOS・FET8がオンし、
P−MOS・FET9がオフする。続いてP−MOS・
FET4及びN−MOS・FET7がオンとなり、この
フリップフロップは安定化する。このレベル状態をH状
態と仮定すれば、これと逆の動作でL状態にすることが
できる。
【0007】また記憶されたH状態を読出す場合には、
選択されたワードラインWLをローレベルにし、ビット
ラインDL,DRをハイレベルにプリチャージしておけ
ば、ビットラインDRは電流が流れ込みローレベルとな
ってH状態が検出できる。
選択されたワードラインWLをローレベルにし、ビット
ラインDL,DRをハイレベルにプリチャージしておけ
ば、ビットラインDRは電流が流れ込みローレベルとな
ってH状態が検出できる。
【0008】各R/W制御回路21 〜2m はデータライ
ンD1 〜Dm と左のビットラインD1 L〜Dm Lとの間
に入力端子をビットライン側にしたインバータIN1 と
トランスミッションゲートTMG1 との直列回路と入力
端子をデータライン側にしたインバータIN2 とトラン
スミッションゲートTMG2 との直列回路との並列回路
を接続し、またデータラインD1 〜Dm と右のビットラ
インD1 R〜Dm Rとの間に入力端子をデータライン側
にしたインバータIN3 ,IN4 とトランスミッション
ゲートTMG3 との直列回路を接続している。
ンD1 〜Dm と左のビットラインD1 L〜Dm Lとの間
に入力端子をビットライン側にしたインバータIN1 と
トランスミッションゲートTMG1 との直列回路と入力
端子をデータライン側にしたインバータIN2 とトラン
スミッションゲートTMG2 との直列回路との並列回路
を接続し、またデータラインD1 〜Dm と右のビットラ
インD1 R〜Dm Rとの間に入力端子をデータライン側
にしたインバータIN3 ,IN4 とトランスミッション
ゲートTMG3 との直列回路を接続している。
【0009】トランスミッションゲートTMG1 〜TM
G3 は図8に示すように双方向性スイッチを構成するゲ
ート回路Gと、このゲート回路Gに並列に接続されたイ
ンバータIN4 からなり、ゲート入力端子にハイレベル
信号が入力されるとゲート回路GがON状態となり、ロ
ーレベル信号が入力されるとゲート回路GがOFF状態
となるようになっている。
G3 は図8に示すように双方向性スイッチを構成するゲ
ート回路Gと、このゲート回路Gに並列に接続されたイ
ンバータIN4 からなり、ゲート入力端子にハイレベル
信号が入力されるとゲート回路GがON状態となり、ロ
ーレベル信号が入力されるとゲート回路GがOFF状態
となるようになっている。
【0010】トランスミッションゲートTMG1 のゲー
トには信号Rが入力され、トランスミッションゲートT
MG2 ,TMG3 のゲートには信号Wが入力され、これ
らの信号R,Wは図9に示す回路で作られるようになっ
ている。すなわちデータの読出し時にハイレベル、デー
タの書込み時にローレベルとなる読出し・書込み(R/
W)信号をインバータIN5 ,IN6 を直列に介して信
号Rを得、インバータIN7 を介して信号Wを得るよう
にしている。
トには信号Rが入力され、トランスミッションゲートT
MG2 ,TMG3 のゲートには信号Wが入力され、これ
らの信号R,Wは図9に示す回路で作られるようになっ
ている。すなわちデータの読出し時にハイレベル、デー
タの書込み時にローレベルとなる読出し・書込み(R/
W)信号をインバータIN5 ,IN6 を直列に介して信
号Rを得、インバータIN7 を介して信号Wを得るよう
にしている。
【0011】このような構成のSRAMではデータを書
込むときには、R/W信号がローレベルとなるから、各
R/W制御回路21 〜2m のトランスミッションゲート
TMG1 へのゲート入力信号Rはローレベル、トランス
ミッションゲートTMG2 ,TMG3 へのゲート入力信
号Wはハイレベルとなる。
込むときには、R/W信号がローレベルとなるから、各
R/W制御回路21 〜2m のトランスミッションゲート
TMG1 へのゲート入力信号Rはローレベル、トランス
ミッションゲートTMG2 ,TMG3 へのゲート入力信
号Wはハイレベルとなる。
【0012】これによりデータラインD1 〜Dm に印加
されるデータの反転レベルがインバータIN2 及びトラ
ンスミッションゲートTMG2 を介して左のビットライ
ンD1 L〜Dm Lに出力され、また印加されるデータと
同一レベルがインバータIN3 ,IN4 及びトランスミ
ッションゲートTMG3 を介して右のビットラインD1
R〜Dm Rに出力される。またデータの書込み対象とな
るメモリ配列体MAに対応するワードラインWLがロー
レベルとなる。
されるデータの反転レベルがインバータIN2 及びトラ
ンスミッションゲートTMG2 を介して左のビットライ
ンD1 L〜Dm Lに出力され、また印加されるデータと
同一レベルがインバータIN3 ,IN4 及びトランスミ
ッションゲートTMG3 を介して右のビットラインD1
R〜Dm Rに出力される。またデータの書込み対象とな
るメモリ配列体MAに対応するワードラインWLがロー
レベルとなる。
【0013】こうしてメモリ配列体MAの各メモリセル
MS1 〜MSm に対してパラレルデータの書込みが行わ
れる。
MS1 〜MSm に対してパラレルデータの書込みが行わ
れる。
【0014】またデータを読出すときには、R/W信号
がハイレベルとなるから、各R/W制御回路21 〜2m
のトランスミッションゲートTMG1 へのゲート入力信
号Rはハイレベル、トランスミッションゲートTM
G2 ,TMG3 へのゲート入力信号Wはローレベルとな
る。これにより左のビットラインD1 L〜Dm Lに現れ
るデータの反転レベルがインバータIN1 及びトランス
ミッションゲートTMG1を介してデータラインD1 〜
Dm に出力される。またデータの読出し対象となるメモ
リ配列体MAに対応するワードラインWLがローレベル
となる。
がハイレベルとなるから、各R/W制御回路21 〜2m
のトランスミッションゲートTMG1 へのゲート入力信
号Rはハイレベル、トランスミッションゲートTM
G2 ,TMG3 へのゲート入力信号Wはローレベルとな
る。これにより左のビットラインD1 L〜Dm Lに現れ
るデータの反転レベルがインバータIN1 及びトランス
ミッションゲートTMG1を介してデータラインD1 〜
Dm に出力される。またデータの読出し対象となるメモ
リ配列体MAに対応するワードラインWLがローレベル
となる。
【0015】こうしてメモリ配列体MAの各メモリセル
MS1 〜MSm からパラレルデータの読出しが行われ
る。
MS1 〜MSm からパラレルデータの読出しが行われ
る。
【0016】なお、データの読出し時にはプリチャージ
信号Pによりプリチャージ回路31〜3m を動作させて
メモリ配列体MAの各メモリセルMS1 〜MSm にプリ
チャージをかけることになる。
信号Pによりプリチャージ回路31〜3m を動作させて
メモリ配列体MAの各メモリセルMS1 〜MSm にプリ
チャージをかけることになる。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】このような構成のSR
AMではデータの書込みや読出しをワードラインWLを
制御してメモリ配列体MAの単位で行うためデータのパ
ラレル書込み、パラレル読出しとなり、シリアルデータ
を書込む場合にはシリアル−パラレル変換回路を使用し
て一旦パラレルデータに変換する必要があった。このた
めデータの書込み処理に時間がかかる問題があり、また
変換回路を別途使用するためコスト低下を図ることがで
きなかった。
AMではデータの書込みや読出しをワードラインWLを
制御してメモリ配列体MAの単位で行うためデータのパ
ラレル書込み、パラレル読出しとなり、シリアルデータ
を書込む場合にはシリアル−パラレル変換回路を使用し
て一旦パラレルデータに変換する必要があった。このた
めデータの書込み処理に時間がかかる問題があり、また
変換回路を別途使用するためコスト低下を図ることがで
きなかった。
【0018】そこで本発明は、変換回路を使用すること
無くシリアルデータの書込みができ、従ってデータの書
込み時間の短縮が図れ、またコスト低下も図ることがで
きるスタティック型ランダム・アクセス・メモリを提供
しようとするものである。
無くシリアルデータの書込みができ、従ってデータの書
込み時間の短縮が図れ、またコスト低下も図ることがで
きるスタティック型ランダム・アクセス・メモリを提供
しようとするものである。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明は、2本のビット
ラインと1本のワードラインに接続されたスタティック
型1ビットメモリセルをワードラインを共通にして複数
配列してなるメモリ配列体と、各メモリセルの各ビット
ラインのレベル制御を行い、メモリ配列体に対するデー
タの読出し及び書込み制御を行う読出し・書込み制御回
路と、メモリ配列体に対するデータの読出し時に各メモ
リセルに対してプリチャージをかけるプリチャージ回路
と、データの書込み時に読出し・書込み制御回路による
メモリ配列体の各メモリセルに対するデータの書込みを
許可するか否かを制御する書込み許可制御手段とを設け
たものである。
ラインと1本のワードラインに接続されたスタティック
型1ビットメモリセルをワードラインを共通にして複数
配列してなるメモリ配列体と、各メモリセルの各ビット
ラインのレベル制御を行い、メモリ配列体に対するデー
タの読出し及び書込み制御を行う読出し・書込み制御回
路と、メモリ配列体に対するデータの読出し時に各メモ
リセルに対してプリチャージをかけるプリチャージ回路
と、データの書込み時に読出し・書込み制御回路による
メモリ配列体の各メモリセルに対するデータの書込みを
許可するか否かを制御する書込み許可制御手段とを設け
たものである。
【0020】
【作用】このような構成の本発明においては、メモリ配
列体の各1ビットメモリセルに対してデータを書込む時
に、書込み許可制御手段は各メモリセルに対してデータ
の書込みを許可するか否かを制御する。従って各メモリ
セルに対して順次データが書込めるようにデータの書込
みを許可制御すれば各メモリセルに対するシリアルデー
タの書込みが可能となる。データを読出す時には各メモ
リセルに対してプリチャージをかけ、メモリ配列体の各
1ビットメモリセルから同時にデータを読出す。すなわ
ちパラレルデータとして読出しができる。
列体の各1ビットメモリセルに対してデータを書込む時
に、書込み許可制御手段は各メモリセルに対してデータ
の書込みを許可するか否かを制御する。従って各メモリ
セルに対して順次データが書込めるようにデータの書込
みを許可制御すれば各メモリセルに対するシリアルデー
タの書込みが可能となる。データを読出す時には各メモ
リセルに対してプリチャージをかけ、メモリ配列体の各
1ビットメモリセルから同時にデータを読出す。すなわ
ちパラレルデータとして読出しができる。
【0021】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。
明する。
【0022】図1に示すようにm個のスタティック型1
ビットメモリセルMS1 〜MSm を横に配列したメモリ
配列体MAを縦に2n+1 −1列設けてメモリ本体を構成
している。すなわちこのメモリ本体は全体で(2n+1 −
1)ワード×mビットの容量を有することになる。
ビットメモリセルMS1 〜MSm を横に配列したメモリ
配列体MAを縦に2n+1 −1列設けてメモリ本体を構成
している。すなわちこのメモリ本体は全体で(2n+1 −
1)ワード×mビットの容量を有することになる。
【0023】そしてアドレスデータA0 〜An を2n+1
−1個の信号にデコードするアドレスデコーダ11を設
け、このアドレスデコーダ11からの2n+1 −1本のワ
ードラインWL1 〜WL2n+1 −1をそれぞれ各メモリ
配列体MAに配設している。
−1個の信号にデコードするアドレスデコーダ11を設
け、このアドレスデコーダ11からの2n+1 −1本のワ
ードラインWL1 〜WL2n+1 −1をそれぞれ各メモリ
配列体MAに配設している。
【0024】またシリアルデータ入力ラインDIN及び
パラレルデータ出力ラインD1 〜Dm にそれぞれ接続さ
れたm個のR/W制御回路121 〜12m を設け、この
各R/W制御回路121 〜12m からそれぞれ左右のビ
ットラインD1 L,D1 R、D2 L,D2 R、…D
m L,Dm Rを各メモリ配列体MAの各1ビットメモリ
セルMSに配列している。
パラレルデータ出力ラインD1 〜Dm にそれぞれ接続さ
れたm個のR/W制御回路121 〜12m を設け、この
各R/W制御回路121 〜12m からそれぞれ左右のビ
ットラインD1 L,D1 R、D2 L,D2 R、…D
m L,Dm Rを各メモリ配列体MAの各1ビットメモリ
セルMSに配列している。
【0025】前記各R/W制御回路121 〜12m はパ
ラレルデータ出力ラインD1 〜Dmと左のビットライン
D1 L〜Dm Lとの間に入力端子をビットライン側にし
たインバータIN1 とトランスミッションゲートTMG
1 との直列回路を接続し、またシリアルデータ入力ライ
ンDINと左のビットラインD1 L〜Dm Lとの間に入
力端子をシリアルデータ入力ライン側にしたインバータ
IN2 とトランスミッションゲートTMG2 との直列回
路を接続し、さらにシリアルデータ入力ラインDINと
右のビットラインD1 R〜Dm Rとの間に入力端子をシ
リアルデータ入力ライン側にしたインバータIN3 ,I
N4 とトランスミッションゲートTMG3 との直列回路
を接続している。
ラレルデータ出力ラインD1 〜Dmと左のビットライン
D1 L〜Dm Lとの間に入力端子をビットライン側にし
たインバータIN1 とトランスミッションゲートTMG
1 との直列回路を接続し、またシリアルデータ入力ライ
ンDINと左のビットラインD1 L〜Dm Lとの間に入
力端子をシリアルデータ入力ライン側にしたインバータ
IN2 とトランスミッションゲートTMG2 との直列回
路を接続し、さらにシリアルデータ入力ラインDINと
右のビットラインD1 R〜Dm Rとの間に入力端子をシ
リアルデータ入力ライン側にしたインバータIN3 ,I
N4 とトランスミッションゲートTMG3 との直列回路
を接続している。
【0026】前記各ビットラインD1 L,D1 R、〜D
m L,Dm Rの先端はデータの読出し時に各1ビットメ
モリセルMS1 〜MSm にプリチャージをかけるプリチ
ャージ回路131 〜13m に接続されている。
m L,Dm Rの先端はデータの読出し時に各1ビットメ
モリセルMS1 〜MSm にプリチャージをかけるプリチ
ャージ回路131 〜13m に接続されている。
【0027】前記各1ビットメモリセルMS1 〜MSm
は従来同様図7に示す回路構成になっている。
は従来同様図7に示す回路構成になっている。
【0028】トランスミッションゲートTMG1 〜TM
G3 は従来同様図8に示す回路構成になっている。
G3 は従来同様図8に示す回路構成になっている。
【0029】前記各R/W制御回路121 〜12m にお
けるトランスミッションゲートTMG1 のゲートには信
号Rが入力され、トランスミッションゲートTMG2 ,
TMG3 のゲートにはそれぞれ信号W1 〜Wm が入力さ
れるようになっている。
けるトランスミッションゲートTMG1 のゲートには信
号Rが入力され、トランスミッションゲートTMG2 ,
TMG3 のゲートにはそれぞれ信号W1 〜Wm が入力さ
れるようになっている。
【0030】信号W1 〜Wm は書込み許可制御を行うも
ので、図2に示すようなm個の2入力アンドゲート14
1 〜14m からなる回路(書込み許可制御手段)により
発生するようになっている。すなわちこの回路は書込み
信号Wとビット単位でデータの書込みを制御するための
ビットイネーブル信号BE1 〜BEm とのアンドにより
信号W1 〜Wm を発生している。
ので、図2に示すようなm個の2入力アンドゲート14
1 〜14m からなる回路(書込み許可制御手段)により
発生するようになっている。すなわちこの回路は書込み
信号Wとビット単位でデータの書込みを制御するための
ビットイネーブル信号BE1 〜BEm とのアンドにより
信号W1 〜Wm を発生している。
【0031】なお、信号R,Wは従来同様図9に示す回
路で作られるようになっている。
路で作られるようになっている。
【0032】このような構成のSRAMではデータを書
込むときには、R/W信号がローレベルとなるから、信
号Rはローレベル、信号Wはハイレベルとなる。またビ
ットイネーブル信号BE1 〜BEm により信号W1 〜W
m の発生がビット単位に制御される。
込むときには、R/W信号がローレベルとなるから、信
号Rはローレベル、信号Wはハイレベルとなる。またビ
ットイネーブル信号BE1 〜BEm により信号W1 〜W
m の発生がビット単位に制御される。
【0033】例えばビットイネーブル信号BE1 がハイ
レベルになると信号W1 がハイレベルとなり、R/W制
御回路121 のトランスミッションゲートTMG2 ,T
MG3 がオンする。この状態ではシリアルデータ入力ラ
インDINに印加されるシリアルデータの反転レベルが
R/W制御回路121 のインバータIN2 及びトランス
ミッションゲートTMG2 を介して左のビットラインD
1 Lに出力され、また印加されるデータと同一レベルが
インバータIN3 ,IN4 及びトランスミッションゲー
トTMG3 を介して右のビットラインD1 Rに出力され
る。またこのときデータの書込み対象となるメモリ配列
体MAに対応するワードラインWLがローレベルとな
る。
レベルになると信号W1 がハイレベルとなり、R/W制
御回路121 のトランスミッションゲートTMG2 ,T
MG3 がオンする。この状態ではシリアルデータ入力ラ
インDINに印加されるシリアルデータの反転レベルが
R/W制御回路121 のインバータIN2 及びトランス
ミッションゲートTMG2 を介して左のビットラインD
1 Lに出力され、また印加されるデータと同一レベルが
インバータIN3 ,IN4 及びトランスミッションゲー
トTMG3 を介して右のビットラインD1 Rに出力され
る。またこのときデータの書込み対象となるメモリ配列
体MAに対応するワードラインWLがローレベルとな
る。
【0034】こうしてメモリ配列体MAのメモリセルM
S1 に対してシリアルデータの1ビット目の書込みが行
われる。
S1 に対してシリアルデータの1ビット目の書込みが行
われる。
【0035】またビットイネーブル信号BE2 がハイレ
ベルになると信号W2 がハイレベルとなり、R/W制御
回路122 のトランスミッションゲートTMG2 ,TM
G3がオンする。この状態ではシリアルデータ入力ライ
ンDINに印加されるデータの反転レベルがR/W制御
回路122 のインバータIN2 及びトランスミッション
ゲートTMG2 を介して左のビットラインD2 Lに出力
され、また印加されるデータと同一レベルがインバータ
IN3 ,IN4 及びトランスミッションゲートTMG3
を介して右のビットラインD2 Rに出力される。
ベルになると信号W2 がハイレベルとなり、R/W制御
回路122 のトランスミッションゲートTMG2 ,TM
G3がオンする。この状態ではシリアルデータ入力ライ
ンDINに印加されるデータの反転レベルがR/W制御
回路122 のインバータIN2 及びトランスミッション
ゲートTMG2 を介して左のビットラインD2 Lに出力
され、また印加されるデータと同一レベルがインバータ
IN3 ,IN4 及びトランスミッションゲートTMG3
を介して右のビットラインD2 Rに出力される。
【0036】こうしてメモリ配列体MAのメモリセルM
S2 に対してシリアルデータの2ビット目の書込みが行
われる。
S2 に対してシリアルデータの2ビット目の書込みが行
われる。
【0037】同様にしてビットイネーブル信号BE3 〜
BEm が順次ハイレベルとなることにより、メモリ配列
体MAのメモリセルMS3 〜MSm に対してシリアルデ
ータの3ビット目以降が順次書込まれる。
BEm が順次ハイレベルとなることにより、メモリ配列
体MAのメモリセルMS3 〜MSm に対してシリアルデ
ータの3ビット目以降が順次書込まれる。
【0038】例えば1バイト=8ビットのシリアルデー
タを記憶させる場合について述べると、1バイト目のデ
ータが「10010101」、2バイト目のデータが
「10101011」、3バイト目のデータが「101
11011」のとき、1バイト目をアドレス0、2バイ
ト目をアドレス1、3バイト目をアドレス2に記憶させ
るものとすると、1バイト目はアドレスAn =0とし、
かつ信号R/Wをローレベルにして以下の手順でビット
イネーブル信号BEを変化させればよい。
タを記憶させる場合について述べると、1バイト目のデ
ータが「10010101」、2バイト目のデータが
「10101011」、3バイト目のデータが「101
11011」のとき、1バイト目をアドレス0、2バイ
ト目をアドレス1、3バイト目をアドレス2に記憶させ
るものとすると、1バイト目はアドレスAn =0とし、
かつ信号R/Wをローレベルにして以下の手順でビット
イネーブル信号BEを変化させればよい。
【0039】BE1 =H、他のBE=Lのとき1バイト
目の第1ビットに「1」を記憶。
目の第1ビットに「1」を記憶。
【0040】BE2 =H、他のBE=Lのとき1バイト
目の第2ビットに「0」を記憶。
目の第2ビットに「0」を記憶。
【0041】BE3 =H、他のBE=Lのとき1バイト
目の第3ビットに「0」を記憶。
目の第3ビットに「0」を記憶。
【0042】BE4 =H、他のBE=Lのとき1バイト
目の第4ビットに「1」を記憶。
目の第4ビットに「1」を記憶。
【0043】BE5 =H、他のBE=Lのとき1バイト
目の第5ビットに「0」を記憶。
目の第5ビットに「0」を記憶。
【0044】BE6 =H、他のBE=Lのとき1バイト
目の第6ビットに「1」を記憶。
目の第6ビットに「1」を記憶。
【0045】BE7 =H、他のBE=Lのとき1バイト
目の第7ビットに「0」を記憶。
目の第7ビットに「0」を記憶。
【0046】BE8 =H、他のBE=Lのとき1バイト
目の第7ビットに「1」を記憶。
目の第7ビットに「1」を記憶。
【0047】このようにしてシリアルデータの1バイト
目がメモリ配列体MAに記憶されることになる。同様に
してアドレスAn =1として2バイト目をメモリ配列体
MAに記憶させることができ、アドレスAn =2として
3バイト目をメモリ配列体MAに記憶させることができ
る。
目がメモリ配列体MAに記憶されることになる。同様に
してアドレスAn =1として2バイト目をメモリ配列体
MAに記憶させることができ、アドレスAn =2として
3バイト目をメモリ配列体MAに記憶させることができ
る。
【0048】こうしてシリアルデータをシリアル−パラ
レル変換回路を使用すること無くメモリ配列体MAに記
憶させることができる。従ってデータの書込み時間の短
縮が図れ、またコスト低下も図ることができる。
レル変換回路を使用すること無くメモリ配列体MAに記
憶させることができる。従ってデータの書込み時間の短
縮が図れ、またコスト低下も図ることができる。
【0049】またデータを読出すときには、R/W信号
がハイレベルとなるから、各R/W制御回路121 〜1
2m のトランスミッションゲートTMG1 へのゲート入
力信号Rはハイレベル、トランスミッションゲートTM
G2 ,TMG3 へのゲート入力信号Wはローレベルとな
る。これにより左のビットラインD1 L〜Dm Lに現れ
るデータの反転レベルがインバータIN1 及びトランス
ミッションゲートTMG1 を介してパラレルデータ出力
ラインD1 〜Dm に出力される。またデータの読出し対
象となるメモリ配列体MAに対応するワードラインWL
がローレベルとなる。
がハイレベルとなるから、各R/W制御回路121 〜1
2m のトランスミッションゲートTMG1 へのゲート入
力信号Rはハイレベル、トランスミッションゲートTM
G2 ,TMG3 へのゲート入力信号Wはローレベルとな
る。これにより左のビットラインD1 L〜Dm Lに現れ
るデータの反転レベルがインバータIN1 及びトランス
ミッションゲートTMG1 を介してパラレルデータ出力
ラインD1 〜Dm に出力される。またデータの読出し対
象となるメモリ配列体MAに対応するワードラインWL
がローレベルとなる。
【0050】こうしてメモリ配列体MAの各メモリセル
MS1 〜MSm からパラレルデータの読出しが行われ
る。
MS1 〜MSm からパラレルデータの読出しが行われ
る。
【0051】なお、データの読出し時にはプリチャージ
信号Pによりプリチャージ回路31〜3m を動作させて
メモリ配列体MAの各メモリセルMS1 〜MSm にプリ
チャージをかけることになる。
信号Pによりプリチャージ回路31〜3m を動作させて
メモリ配列体MAの各メモリセルMS1 〜MSm にプリ
チャージをかけることになる。
【0052】このようにシリアルデータを入力して記憶
し、記憶したデータはパレルデータとして読み出される
ことになる。
し、記憶したデータはパレルデータとして読み出される
ことになる。
【0053】次に本発明の他の実施例について図面を参
照して説明する。なお、前記実施例と同一の部分には同
一の符号を付して詳細な説明は省略する。
照して説明する。なお、前記実施例と同一の部分には同
一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【0054】図3に示すものは、各ビットラインD
1 L,D1 R、〜Dm L,Dm Rに接続される各R/W
制御回路121 〜12m の出力部に、トランスミッショ
ンゲートTMG4 ,TMG5 を接続し、また各ビットラ
インD1 L,D1 R、〜Dm L,Dm R中にトランスミ
ッションゲートTMG1L,TMG1R、TMG2L,TMG
2R、…TMGmL,TMGmRを接続している。そしてトラ
ンスミッションゲートTMG1 のゲートに信号Rを供給
するとともにトランスミッションゲートTMG2 ,TM
G3 のゲートに信号Wを供給し、また前記トランスミッ
ションゲートTMG4 ,TMG5 のゲートにプリチャー
ジ信号Pを供給するとともにトランスミッションゲート
TMG1LとTMG1R、TMG2LとTMG2R、…TMGmL
とTMGmRのゲートにそれぞれビットイネーブル信号B
E1 〜BEm を供給している。
1 L,D1 R、〜Dm L,Dm Rに接続される各R/W
制御回路121 〜12m の出力部に、トランスミッショ
ンゲートTMG4 ,TMG5 を接続し、また各ビットラ
インD1 L,D1 R、〜Dm L,Dm R中にトランスミ
ッションゲートTMG1L,TMG1R、TMG2L,TMG
2R、…TMGmL,TMGmRを接続している。そしてトラ
ンスミッションゲートTMG1 のゲートに信号Rを供給
するとともにトランスミッションゲートTMG2 ,TM
G3 のゲートに信号Wを供給し、また前記トランスミッ
ションゲートTMG4 ,TMG5 のゲートにプリチャー
ジ信号Pを供給するとともにトランスミッションゲート
TMG1LとTMG1R、TMG2LとTMG2R、…TMGmL
とTMGmRのゲートにそれぞれビットイネーブル信号B
E1 〜BEm を供給している。
【0055】前記トランスミッションゲートTMG4 に
より各ビットラインD1 L〜Dm Lをプルアップし、前
記トランスミッションゲートTMG5 により各ビットラ
インD1 R〜Dm Rをプルダウンしている。
より各ビットラインD1 L〜Dm Lをプルアップし、前
記トランスミッションゲートTMG5 により各ビットラ
インD1 R〜Dm Rをプルダウンしている。
【0056】この実施例においては、例えばビットイネ
ーブル信号BE1 をハイレベルにすることによってビッ
トラインD1 L,D1 Rのみが有効となり、この状態で
信号WがハイレベルになるとR/W制御回路121 〜1
2m のトランスミッションゲートTMG2 ,TMG3 が
オンし、シリアルデータ入力ラインDINに印加される
シリアルデータの反転レベルがインバータIN2 及びト
ランスミッションゲートTMG2 を介して左のビットラ
インD1 L〜Dm Lに出力され、また印加されるデータ
と同一レベルがインバータIN3 ,IN4 及びトランス
ミッションゲートTMG3 を介して右のビットラインD
1 R〜Dm Rに出力される。
ーブル信号BE1 をハイレベルにすることによってビッ
トラインD1 L,D1 Rのみが有効となり、この状態で
信号WがハイレベルになるとR/W制御回路121 〜1
2m のトランスミッションゲートTMG2 ,TMG3 が
オンし、シリアルデータ入力ラインDINに印加される
シリアルデータの反転レベルがインバータIN2 及びト
ランスミッションゲートTMG2 を介して左のビットラ
インD1 L〜Dm Lに出力され、また印加されるデータ
と同一レベルがインバータIN3 ,IN4 及びトランス
ミッションゲートTMG3 を介して右のビットラインD
1 R〜Dm Rに出力される。
【0057】しかしこのときには左のビットラインD1
Lと右のビットラインD1 Rのみが有効で他のビットラ
インはデータ伝送ができない状態となっているので、R
/W制御回路121 からのデータのみがメモリセルMS
1 に書込まれることになる。
Lと右のビットラインD1 Rのみが有効で他のビットラ
インはデータ伝送ができない状態となっているので、R
/W制御回路121 からのデータのみがメモリセルMS
1 に書込まれることになる。
【0058】こうしてメモリ配列体MAのメモリセルM
S1 に対するシリアルデータの1ビット目の書込みが可
能となる。
S1 に対するシリアルデータの1ビット目の書込みが可
能となる。
【0059】またビットイネーブル信号BE2 をハイレ
ベルにすることによってビットラインD2 L,D2 Rの
みが有効となり、この状態で信号Wがハイレベルになる
とR/W制御回路121 〜12m のトランスミッション
ゲートTMG2 ,TMG3 がオンし、シリアルデータ入
力ラインDINに印加されるシリアルデータの反転レベ
ルがインバータIN2 及びトランスミッションゲートT
MG2 を介して左のビットラインD1 L〜Dm Lに出力
され、また印加されるデータと同一レベルがインバータ
IN3 ,IN4 及びトランスミッションゲートTMG3
を介して右のビットラインD1 R〜Dm Rに出力される
が、このときには左のビットラインD2Lと右のビット
ラインD2 Rのみが有効で他のビットラインはデータ伝
送ができない状態となっているので、R/W制御回路1
22 からのデータのみがメモリセルMS2 に書込まれる
ことになる。
ベルにすることによってビットラインD2 L,D2 Rの
みが有効となり、この状態で信号Wがハイレベルになる
とR/W制御回路121 〜12m のトランスミッション
ゲートTMG2 ,TMG3 がオンし、シリアルデータ入
力ラインDINに印加されるシリアルデータの反転レベ
ルがインバータIN2 及びトランスミッションゲートT
MG2 を介して左のビットラインD1 L〜Dm Lに出力
され、また印加されるデータと同一レベルがインバータ
IN3 ,IN4 及びトランスミッションゲートTMG3
を介して右のビットラインD1 R〜Dm Rに出力される
が、このときには左のビットラインD2Lと右のビット
ラインD2 Rのみが有効で他のビットラインはデータ伝
送ができない状態となっているので、R/W制御回路1
22 からのデータのみがメモリセルMS2 に書込まれる
ことになる。
【0060】こうしてメモリ配列体MAのメモリセルM
S2 に対するシリアルデータの2ビット目の書込みが可
能となる。
S2 に対するシリアルデータの2ビット目の書込みが可
能となる。
【0061】同様にしてビットイネーブル信号BE3 〜
BEm を順次ハイレベルにすることによって、各メモリ
セルMS3 〜MSm に対応するビットラインを順次有効
にし、これによりメモリ配列体MAのメモリセルMS3
〜MSm に対するシリアルデータの3ビット目以降の書
込みが可能となる。
BEm を順次ハイレベルにすることによって、各メモリ
セルMS3 〜MSm に対応するビットラインを順次有効
にし、これによりメモリ配列体MAのメモリセルMS3
〜MSm に対するシリアルデータの3ビット目以降の書
込みが可能となる。
【0062】このように本実施例においてもシリアルデ
ータをシリアル−パラレル変換回路を使用すること無く
メモリ配列体MAに記憶させることができる。従って本
実施例においても前記実施例と同様の効果が得られるも
のである。
ータをシリアル−パラレル変換回路を使用すること無く
メモリ配列体MAに記憶させることができる。従って本
実施例においても前記実施例と同様の効果が得られるも
のである。
【0063】なお、データの読出しは、ビットイネーブ
ル信号BE1 〜BEm を全てハイレベルにし、R/W信
号をハイレベルにすることによって前記実施例と同様に
メモリ配列体MAの各メモリセルMS1 〜MSm からパ
ラレルデータ出力ラインD1〜Dm にパラレルデータの
読出しが可能となる。
ル信号BE1 〜BEm を全てハイレベルにし、R/W信
号をハイレベルにすることによって前記実施例と同様に
メモリ配列体MAの各メモリセルMS1 〜MSm からパ
ラレルデータ出力ラインD1〜Dm にパラレルデータの
読出しが可能となる。
【0064】図4に示すものは、メモリ配列体MAの各
1ビットメモリセルMS1 〜MSmにビットイネーブル
ラインBE1 〜BEm をそれぞれ配設している。各R/
W制御回路121 〜12m の構成は前記実施例と同一で
ある。
1ビットメモリセルMS1 〜MSmにビットイネーブル
ラインBE1 〜BEm をそれぞれ配設している。各R/
W制御回路121 〜12m の構成は前記実施例と同一で
ある。
【0065】前記各メモリセルMS1 〜MSm は、図5
に示すようにP−MOS・FET14,15とN−MO
S・FET16,17からなるプリップフロップと、こ
れを制御するP−MOS・FET18,19,20,2
1で構成され、P−MOS・FET18,20の直列回
路をP−MOS・FET14とN−MOS・FET16
との接続点と左のビットラインDL(D1 L〜Dm L)
との間に接続するとともにP−MOS・FET19,2
1の直列回路をP−MOS・FET15とN−MOS・
FET17との接続点と右のビットラインDR(D1 R
〜Dm R)との間に接続し、かつP−MOS・FET1
8,19のゲートをワードラインWL(WL1 〜WL2
n+1 −1)に接続するとともにP−MOS・FET2
0,21のゲートをビットイネーブルラインBE(BE
1 〜BEm )に接続している。
に示すようにP−MOS・FET14,15とN−MO
S・FET16,17からなるプリップフロップと、こ
れを制御するP−MOS・FET18,19,20,2
1で構成され、P−MOS・FET18,20の直列回
路をP−MOS・FET14とN−MOS・FET16
との接続点と左のビットラインDL(D1 L〜Dm L)
との間に接続するとともにP−MOS・FET19,2
1の直列回路をP−MOS・FET15とN−MOS・
FET17との接続点と右のビットラインDR(D1 R
〜Dm R)との間に接続し、かつP−MOS・FET1
8,19のゲートをワードラインWL(WL1 〜WL2
n+1 −1)に接続するとともにP−MOS・FET2
0,21のゲートをビットイネーブルラインBE(BE
1 〜BEm )に接続している。
【0066】このメモリセルMS1 〜MSm にデータを
書込む場合には、先ずワードラインWL、ビットライン
DR及びビットイネーブルラインBEにローレベルを、
ビットラインDLにハイレベルを印加する。これにより
P−MOS・FET18,20がオンし、P−MOS・
FET19,21がオフする。続いてP−MOS・FE
T14及びN−MOS・FET17がオンとなり、この
フリップフロップは安定化する。
書込む場合には、先ずワードラインWL、ビットライン
DR及びビットイネーブルラインBEにローレベルを、
ビットラインDLにハイレベルを印加する。これにより
P−MOS・FET18,20がオンし、P−MOS・
FET19,21がオフする。続いてP−MOS・FE
T14及びN−MOS・FET17がオンとなり、この
フリップフロップは安定化する。
【0067】このレベル状態をH状態と仮定すれば、こ
れと逆の動作でL状態にすることができる。すなわちワ
ードラインWL、ビットラインDL及びビットイネーブ
ルラインBEにローレベルを、ビットラインDRにハイ
レベルを印加する。これによりP−MOS・FET1
8,20がオフし、P−MOS・FET19,21がオ
ンする。続いてP−MOS・FET15及びN−MOS
・FET16がオンとなり、このフリップフロップは安
定化する。
れと逆の動作でL状態にすることができる。すなわちワ
ードラインWL、ビットラインDL及びビットイネーブ
ルラインBEにローレベルを、ビットラインDRにハイ
レベルを印加する。これによりP−MOS・FET1
8,20がオフし、P−MOS・FET19,21がオ
ンする。続いてP−MOS・FET15及びN−MOS
・FET16がオンとなり、このフリップフロップは安
定化する。
【0068】しかしこのメモリセルにデータを書込まな
い場合には、ビットラインDL,DR及びワードライン
WLがどのようなレベルであってもビットイネーブルラ
インBEにハイレベルを印加すればP−MOS・FET
20,21がオフとなってフリップフロップは前の状態
を維持する。すなわちデータは書込まれない。
い場合には、ビットラインDL,DR及びワードライン
WLがどのようなレベルであってもビットイネーブルラ
インBEにハイレベルを印加すればP−MOS・FET
20,21がオフとなってフリップフロップは前の状態
を維持する。すなわちデータは書込まれない。
【0069】また記憶されたH状態を読出す場合には、
選択されたワードラインWL、ビットイネーブルライン
BEをローレベルにし、ビットラインDL,DRをハイ
レベルにプリチャージしておけば、ビットラインDRは
電流が流れ込みローレベルとなってH状態が検出でき
る。
選択されたワードラインWL、ビットイネーブルライン
BEをローレベルにし、ビットラインDL,DRをハイ
レベルにプリチャージしておけば、ビットラインDRは
電流が流れ込みローレベルとなってH状態が検出でき
る。
【0070】しかしこのメモリセルに対してデータを読
み出さない場合には、ビットイネーブルラインBEにハ
イレベルを印加しておけばこのメモリセルからの電流は
検出されない。すなわちデータは読み出されない。
み出さない場合には、ビットイネーブルラインBEにハ
イレベルを印加しておけばこのメモリセルからの電流は
検出されない。すなわちデータは読み出されない。
【0071】このようにメモリ配列体MAの各1ビット
メモリセルMS1 〜MSm に対するデータの書込み及び
読出しがビットイネーブルラインBE1 〜BEm によっ
てビット単位に制御することが可能となる。
メモリセルMS1 〜MSm に対するデータの書込み及び
読出しがビットイネーブルラインBE1 〜BEm によっ
てビット単位に制御することが可能となる。
【0072】従ってビットイネーブルラインBE1 〜B
Em のレベルを制御することによってシリアルデータの
書込み及びパラレルデータの読出しが可能となる。
Em のレベルを制御することによってシリアルデータの
書込み及びパラレルデータの読出しが可能となる。
【0073】すなわちデータを書込むときには、R/W
信号がローレベルとなるから、信号Rはローレベル、信
号Wはハイレベルとなる。しかしてR/W制御回路12
1 〜12m のトランスミッションゲートTMG2 ,TM
G3 がオンする。この状態ではシリアルデータ入力ライ
ンDINに印加されるシリアルデータの反転レベルがR
/W制御回路121 〜12m のインバータIN2 及びト
ランスミッションゲートTMG2 を介して左のビットラ
インD1 L〜Dm Lに出力され、また印加されるデータ
と同一レベルがインバータIN3 ,IN4 及びトランス
ミッションゲートTMG3 を介して右のビットラインD
1 R〜Dm Rに出力される。またこのときデータの書込
み対象となるメモリ配列体MAに対応するワードライン
WLがローレベルとなる。
信号がローレベルとなるから、信号Rはローレベル、信
号Wはハイレベルとなる。しかしてR/W制御回路12
1 〜12m のトランスミッションゲートTMG2 ,TM
G3 がオンする。この状態ではシリアルデータ入力ライ
ンDINに印加されるシリアルデータの反転レベルがR
/W制御回路121 〜12m のインバータIN2 及びト
ランスミッションゲートTMG2 を介して左のビットラ
インD1 L〜Dm Lに出力され、また印加されるデータ
と同一レベルがインバータIN3 ,IN4 及びトランス
ミッションゲートTMG3 を介して右のビットラインD
1 R〜Dm Rに出力される。またこのときデータの書込
み対象となるメモリ配列体MAに対応するワードライン
WLがローレベルとなる。
【0074】一方、ビットイネーブル信号BE1 〜BE
m により各1ビットメモリセルMS1 〜MSm のP−M
OS・FET20,21を制御する。例えばビットイネ
ーブルラインBE1 がローレベルで他のビットイネーブ
ルラインBE2 〜BEm がハイレベルであれば、1ビッ
トメモリセルMS1 に対するデータの書込みのみが有効
となる。
m により各1ビットメモリセルMS1 〜MSm のP−M
OS・FET20,21を制御する。例えばビットイネ
ーブルラインBE1 がローレベルで他のビットイネーブ
ルラインBE2 〜BEm がハイレベルであれば、1ビッ
トメモリセルMS1 に対するデータの書込みのみが有効
となる。
【0075】しかしてR/W制御回路121 からのデー
タのみが1ビットメモリセルMS1に書込まれることに
なる。こうしてシリアルデータの1ビット目の書込みが
行われる。
タのみが1ビットメモリセルMS1に書込まれることに
なる。こうしてシリアルデータの1ビット目の書込みが
行われる。
【0076】またビットイネーブル信号BE2 のみがロ
ーレベルになると1ビットメモリセルMS2 に対するデ
ータの書込みのみが有効となる。従ってこのときにはシ
リアルデータの2ビット目の書込みが行われる。
ーレベルになると1ビットメモリセルMS2 に対するデ
ータの書込みのみが有効となる。従ってこのときにはシ
リアルデータの2ビット目の書込みが行われる。
【0077】同様にしてビットイネーブル信号BE3 〜
BEm が順次ローレベルとなることにより、メモリ配列
体MAのメモリセルMS3 〜MSm に対してシリアルデ
ータの3ビット目以降が順次書込まれる。
BEm が順次ローレベルとなることにより、メモリ配列
体MAのメモリセルMS3 〜MSm に対してシリアルデ
ータの3ビット目以降が順次書込まれる。
【0078】こうしてシリアルデータをシリアル−パラ
レル変換回路を使用すること無くメモリ配列体MAに記
憶させることができる。従って本実施例においても前記
実施例と同様の効果が得られるものである。
レル変換回路を使用すること無くメモリ配列体MAに記
憶させることができる。従って本実施例においても前記
実施例と同様の効果が得られるものである。
【0079】またデータを読出すときには、R/W信号
がハイレベルとなるから、各R/W制御回路121 〜1
2m のトランスミッションゲートTMG1 へのゲート入
力信号Rはハイレベル、トランスミッションゲートTM
G2 ,TMG3 へのゲート入力信号Wはローレベルとな
る。またビットイネーブル信号BE1 〜BEm はすべて
ローレベルとなる。これにより左のビットラインD1 L
〜Dm Lに現れるデータの反転レベルがインバータIN
1 及びトランスミッションゲートTMG1 を介してパラ
レルデータ出力ラインD1 〜Dm に出力される。またデ
ータの読出し対象となるメモリ配列体MAに対応するワ
ードラインWLがローレベルとなる。
がハイレベルとなるから、各R/W制御回路121 〜1
2m のトランスミッションゲートTMG1 へのゲート入
力信号Rはハイレベル、トランスミッションゲートTM
G2 ,TMG3 へのゲート入力信号Wはローレベルとな
る。またビットイネーブル信号BE1 〜BEm はすべて
ローレベルとなる。これにより左のビットラインD1 L
〜Dm Lに現れるデータの反転レベルがインバータIN
1 及びトランスミッションゲートTMG1 を介してパラ
レルデータ出力ラインD1 〜Dm に出力される。またデ
ータの読出し対象となるメモリ配列体MAに対応するワ
ードラインWLがローレベルとなる。
【0080】こうしてメモリ配列体MAの各メモリセル
MS1 〜MSm からパラレルデータ出力ラインD1 〜D
m にパラレルデータの読出しが行われる。
MS1 〜MSm からパラレルデータ出力ラインD1 〜D
m にパラレルデータの読出しが行われる。
【0081】
【発明の効果】以上、本発明によれば、スタティック型
RAMにおいて、変換回路を使用すること無くシリアル
データの書込みができ、従ってデータの書込み時間の短
縮が図れ、またコスト低下も図ることができる。
RAMにおいて、変換回路を使用すること無くシリアル
データの書込みができ、従ってデータの書込み時間の短
縮が図れ、またコスト低下も図ることができる。
【図1】本発明の一実施例を示す回路構成図。
【図2】同実施例におけるトランスミッションゲートの
ゲート制御信号の発生回路を示す図。
ゲート制御信号の発生回路を示す図。
【図3】本発明の他の実施例を示す回路構成図。
【図4】本発明のさらに別の他の実施例を示す回路構成
図。
図。
【図5】同実施例における1ビットメモリセルの構成を
示す回路図。
示す回路図。
【図6】従来例を示す回路構成図。
【図7】同従来例における1ビットメモリセルの構成を
示す回路図。
示す回路図。
【図8】同従来例におけるトランスミッションゲートの
構成を示す回路図。
構成を示す回路図。
【図9】同従来例におけるトランスミッションゲートの
ゲート制御信号の発生回路を示す図。
ゲート制御信号の発生回路を示す図。
MS1 〜MSm …1ビットメモリセル、 MA…メモリ配列体、 121 〜12m …リード/ライト制御回路、 131 〜13m …プリチャージ回路、 TMG1 〜TMG3 …トランスミッションゲート、 BE1 〜BEm …ビットイネーブル信号。
Claims (1)
- 【請求項1】 2本のビットラインと1本のワードライ
ンに接続されたスタティック型1ビットメモリセルを前
記ワードラインを共通にして複数配列してなるメモリ配
列体と、前記各メモリセルの各ビットラインのレベル制
御を行い、前記メモリ配列体に対するデータの読出し及
び書込み制御を行う読出し・書込み制御回路と、前記メ
モリ配列体に対するデータの読出し時に各メモリセルに
対してプリチャージをかけるプリチャージ回路と、デー
タの書込み時に前記読出し・書込み制御回路による前記
メモリ配列体の各メモリセルに対するデータの書込みを
許可するか否かを制御する書込み許可制御手段とを設け
たことを特徴とするスタティック型ランダム・アクセス
・メモリ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4231228A JPH0676577A (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | スタティック型ランダム・アクセス・メモリ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4231228A JPH0676577A (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | スタティック型ランダム・アクセス・メモリ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0676577A true JPH0676577A (ja) | 1994-03-18 |
Family
ID=16920332
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4231228A Pending JPH0676577A (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | スタティック型ランダム・アクセス・メモリ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0676577A (ja) |
-
1992
- 1992-08-31 JP JP4231228A patent/JPH0676577A/ja active Pending
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