JPH0678928B2 - 液体に浸る時点又は液体から出現する時点を検出する方法 - Google Patents
液体に浸る時点又は液体から出現する時点を検出する方法Info
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- JPH0678928B2 JPH0678928B2 JP1215126A JP21512689A JPH0678928B2 JP H0678928 B2 JPH0678928 B2 JP H0678928B2 JP 1215126 A JP1215126 A JP 1215126A JP 21512689 A JP21512689 A JP 21512689A JP H0678928 B2 JPH0678928 B2 JP H0678928B2
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
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-
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、中実又は多孔質物質が液体から出現する時点
又は液体に浸される時点を検出する方法に関する。中実
又は多孔質物質が液体から出現するプロセスの基準は、
例えば、デカンテーション、濾過又は真空濾過のような
液体／固体分離プロセスにおいて、固体ケークに液体レ
ベルが侵入する時点を、できる限り正確に検出しなけれ
ばならないとき、化学プロセス工学において重要な役割
を果す。例えば、洗浄用液体又はコンディショニング用
液体で濾過ケークを処置することは、従って制御された
方法で実施することができる。この場合「制御された」
という語は、洗浄用液体の量が最少にされ、そして他
方、固体の過度の乾燥が回避されることを意味する。
又は液体に浸される時点を検出する方法に関する。中実
又は多孔質物質が液体から出現するプロセスの基準は、
例えば、デカンテーション、濾過又は真空濾過のような
液体／固体分離プロセスにおいて、固体ケークに液体レ
ベルが侵入する時点を、できる限り正確に検出しなけれ
ばならないとき、化学プロセス工学において重要な役割
を果す。例えば、洗浄用液体又はコンディショニング用
液体で濾過ケークを処置することは、従って制御された
方法で実施することができる。この場合「制御された」
という語は、洗浄用液体の量が最少にされ、そして他
方、固体の過度の乾燥が回避されることを意味する。
更に、容器の充填又は排出中、一定の液体レベルの超過
又は低下が検出されなければならない。
又は低下が検出されなければならない。
超音波センサー、レーザー・センサー、放射線センサー
が液体レベルの走査に対して公知である。しかし、これ
らは、特に、液体のレベル指示器として設計され、固体
表面から液体が溢れ出るとき又は液体が固体表面を通過
するとき、適切な測定信号を与えない。
が液体レベルの走査に対して公知である。しかし、これ
らは、特に、液体のレベル指示器として設計され、固体
表面から液体が溢れ出るとき又は液体が固体表面を通過
するとき、適切な測定信号を与えない。
上記が本発明の出発点である。本発明の目的は、化学産
業において、固体表面から液体が溢れ出ることを検出
し、又は液体レベルが固体表面を通過することを検出す
る汎用センサーを開発することであり、このセンサー
は、下記のプロセスのパラメーター及び基準に独立的
に、信頼性を有し且つ安全に作動する。
業において、固体表面から液体が溢れ出ることを検出
し、又は液体レベルが固体表面を通過することを検出す
る汎用センサーを開発することであり、このセンサー
は、下記のプロセスのパラメーター及び基準に独立的
に、信頼性を有し且つ安全に作動する。
ａ）例えば、固体又は液体の組成の色、粒径、のよう
な、使用された生成物の物理及び化学的性質 ｂ）容器中の固体及び液体のレベル ｃ）容器及び容器内に位置する内容に関する幾何学的デ
ータ 本発明により、この目的は、 （ａ）振動又は機械的な衝撃によって、液体に表面波を
生成し、 （ｂ）液体の表面を照明し、反射した光を光電的に走査
し、 （ｃ）反射した光の変化する光の成分のみを検出し、上
記変化する光は、上記表面波によって反射した強度を変
化せしめることによって生成され、 （ｄ）変化する光の信号の成分を予め設定した閾値と比
較して、実際の値が閾値より下になるとき、あるいは閾
値を越えるときに、制御信号を生成する ことを特徴とする、中実物質又は多孔質物質が液体に浸
る時点、又は中実物質又は多孔質物質が液体から出現す
る時点を検出する方法 を提供することによって、達成される。
な、使用された生成物の物理及び化学的性質 ｂ）容器中の固体及び液体のレベル ｃ）容器及び容器内に位置する内容に関する幾何学的デ
ータ 本発明により、この目的は、 （ａ）振動又は機械的な衝撃によって、液体に表面波を
生成し、 （ｂ）液体の表面を照明し、反射した光を光電的に走査
し、 （ｃ）反射した光の変化する光の成分のみを検出し、上
記変化する光は、上記表面波によって反射した強度を変
化せしめることによって生成され、 （ｄ）変化する光の信号の成分を予め設定した閾値と比
較して、実際の値が閾値より下になるとき、あるいは閾
値を越えるときに、制御信号を生成する ことを特徴とする、中実物質又は多孔質物質が液体に浸
る時点、又は中実物質又は多孔質物質が液体から出現す
る時点を検出する方法 を提供することによって、達成される。
使用される測定光の波長は可視領域あるいは紫外線又は
赤外線領域とすることができる。
赤外線領域とすることができる。
変化した光の成分を検出するために、光電子的走査信号
が、有利には、時間に関して微分される。
が、有利には、時間に関して微分される。
有利には、液体の表面は複数の点において光電子的に走
査され、そして対応する整流された変化した光の成分が
合計される。それから、形成された全体値が、上記のよ
うに予め設定された閾値と比較される。
査され、そして対応する整流された変化した光の成分が
合計される。それから、形成された全体値が、上記のよ
うに予め設定された閾値と比較される。
この検出原理は非常に感度が良く、化学生産工場におい
て通常発生する事項である建物の揺れ又は化学装置の振
動は、液体表面を振動させ且つ適切な強さの表面波を生
成させるために、十分であることが実際に見いだされ
た。そのような外乱が存在しないか又は十分な振幅の表
面波を生成するためには弱すぎる場合、液体の表面にお
いて振動を起こさなければならない。この目的のため
に、液体の表面を、例えば、滴下装置の助けにより、規
則的に液滴を当てることによって振動させることができ
るし、又はノズルによって吹き付けることもできる。
て通常発生する事項である建物の揺れ又は化学装置の振
動は、液体表面を振動させ且つ適切な強さの表面波を生
成させるために、十分であることが実際に見いだされ
た。そのような外乱が存在しないか又は十分な振幅の表
面波を生成するためには弱すぎる場合、液体の表面にお
いて振動を起こさなければならない。この目的のため
に、液体の表面を、例えば、滴下装置の助けにより、規
則的に液滴を当てることによって振動させることができ
るし、又はノズルによって吹き付けることもできる。
容器中の液体レベルを走査しそして検出するために、板
又は板形状の物体が、液体の意図されたレベルまで容器
中を移動させられ、そして例えば、容器の充填又は排出
手順中、液体に対する基準レベルとして使用することが
でき、そして板表面からの溢れ出しにおいて生ずる光電
子制御信号を充填又は排出手順を停止させるために使用
することができる。
又は板形状の物体が、液体の意図されたレベルまで容器
中を移動させられ、そして例えば、容器の充填又は排出
手順中、液体に対する基準レベルとして使用することが
でき、そして板表面からの溢れ出しにおいて生ずる光電
子制御信号を充填又は排出手順を停止させるために使用
することができる。
好ましくは、本発明による方法は、濾過又は加圧／真空
濾過プロセスに関連して使用することができる。この場
合、液体レベルが濾過ケークの表面を通過するとき発生
する制御信号は、濾液の溢れ出しを停止させ、濾過ケー
クを通る洗浄用液体の流れを開始するために使用するこ
とができる。
濾過プロセスに関連して使用することができる。この場
合、液体レベルが濾過ケークの表面を通過するとき発生
する制御信号は、濾液の溢れ出しを停止させ、濾過ケー
クを通る洗浄用液体の流れを開始するために使用するこ
とができる。
上記の検出方法を実施するための変形を含む装置は、本
発明により、液体の表面を照明する光源と、液体の表面
で反射された光を検出する複数の受光器と、受光器に割
り当てられた受光器に適用された信号を時間に関して微
分するための微分要素及び受光器に割り当てられた整流
器及び整流された光受信器の信号のすべての合計を形成
するたの加算回路を有する評価回路と、受光器の信号の
合計が予め設定された閾値よりも低下又は超過するとき
制御信号を発する比較器回路とから成ることを特徴とす
る。
発明により、液体の表面を照明する光源と、液体の表面
で反射された光を検出する複数の受光器と、受光器に割
り当てられた受光器に適用された信号を時間に関して微
分するための微分要素及び受光器に割り当てられた整流
器及び整流された光受信器の信号のすべての合計を形成
するたの加算回路を有する評価回路と、受光器の信号の
合計が予め設定された閾値よりも低下又は超過するとき
制御信号を発する比較器回路とから成ることを特徴とす
る。
本発明による検出方法は液体相と固体相との間の明確な
区別を許容し、こうして液体の表面が固体ケークに侵入
する時点、又は表面が溢れる時点を検出するための特性
的な特徴分類を与える。本発明の特別な利点は、この方
法により濾過及び加圧／真空濾過プロセスの自動制御に
おけるギャップが埋められるので、プロセス工学におけ
る有用性にある。母液が洗浄用液体によって濾過ケーク
から置き換えられそしてケークが前もって吹き付けられ
て乾燥されることはないような、貫く流れ（through-fl
ow）による洗浄は、特に重要である。
区別を許容し、こうして液体の表面が固体ケークに侵入
する時点、又は表面が溢れる時点を検出するための特性
的な特徴分類を与える。本発明の特別な利点は、この方
法により濾過及び加圧／真空濾過プロセスの自動制御に
おけるギャップが埋められるので、プロセス工学におけ
る有用性にある。母液が洗浄用液体によって濾過ケーク
から置き換えられそしてケークが前もって吹き付けられ
て乾燥されることはないような、貫く流れ（through-fl
ow）による洗浄は、特に重要である。
貫く流れによる洗浄の前の湿気の除去の間に濾過ケーク
に亀裂が形成されないならば、ケークの洗浄は、亀裂が
形成された濾過ケークに対して必要とされるであろう洗
浄用液体の量の数分の一で実施することができ、同一の
洗浄効果が得られる。撹拌圧力濾過器における濾過の場
合に、濾過領域の大きさのために、亀裂形成の特別の危
険がある。ケークの全表面が液体から出現する時点にお
いて濾液の溢れ出しが停止させられるので、そのような
亀裂を本発明による方法によって回避することができ
る。亀裂の形成が防止されるので、未使用洗浄液の溢れ
出しは最少にされ、その結果、かなりの量の洗浄液を以
前に比べて節約することができる。これらの節約は作業
費用を削減するだけでなく廃棄を容易にし、このため環
境の保護に寄与する。更に、加圧／真空濾過の全体の手
順はかなり短縮される。最後に、より均質でより再生可
能な生成物の純度を設定することが又可能である。更
に、固体ケークへ液体レベルが侵入する時点の正確な検
出により、圧力、濃度、ケーキ高さの測定と組合わされ
て例えば、ケーク抵抗、粒子サイズ、多孔性等のような
生成物の特性に関して結論を導出し得る、プロセス指示
器が利用可能である。更に、特に、構造上の利点は、本
発明による方法で動作するセンサーのヘッドが小形ユニ
ットとして殆ど任意の所望の位置において設置でき、そ
して特に工場タンク又は容器において改装できることで
ある。防爆設計（例えば、保護形式 EEx ib II T 4にお
けるEX−ゾーン）を容易に使用することができる。
に亀裂が形成されないならば、ケークの洗浄は、亀裂が
形成された濾過ケークに対して必要とされるであろう洗
浄用液体の量の数分の一で実施することができ、同一の
洗浄効果が得られる。撹拌圧力濾過器における濾過の場
合に、濾過領域の大きさのために、亀裂形成の特別の危
険がある。ケークの全表面が液体から出現する時点にお
いて濾液の溢れ出しが停止させられるので、そのような
亀裂を本発明による方法によって回避することができ
る。亀裂の形成が防止されるので、未使用洗浄液の溢れ
出しは最少にされ、その結果、かなりの量の洗浄液を以
前に比べて節約することができる。これらの節約は作業
費用を削減するだけでなく廃棄を容易にし、このため環
境の保護に寄与する。更に、加圧／真空濾過の全体の手
順はかなり短縮される。最後に、より均質でより再生可
能な生成物の純度を設定することが又可能である。更
に、固体ケークへ液体レベルが侵入する時点の正確な検
出により、圧力、濃度、ケーキ高さの測定と組合わされ
て例えば、ケーク抵抗、粒子サイズ、多孔性等のような
生成物の特性に関して結論を導出し得る、プロセス指示
器が利用可能である。更に、特に、構造上の利点は、本
発明による方法で動作するセンサーのヘッドが小形ユニ
ットとして殆ど任意の所望の位置において設置でき、そ
して特に工場タンク又は容器において改装できることで
ある。防爆設計（例えば、保護形式 EEx ib II T 4にお
けるEX−ゾーン）を容易に使用することができる。
本発明の実施例を図面を参照して、以下に更に詳細に説
明する。
明する。
第１図による圧力濾過器は、容器１、攪拌器２、洗浄液
を噴霧するノズル３、固体放出口４、及び濾液排出口５
を含む。更に、加圧ガス、濾過される懸濁液、及び洗浄
液のための各供給管路６、７、８が設けられている。容
器１の下方部分に、圧力濾過器板上に位置し液体10の層
で覆われている濾過ケーク９がある。液体10は濾過され
る母液、又は洗浄液とすることができる。
を噴霧するノズル３、固体放出口４、及び濾液排出口５
を含む。更に、加圧ガス、濾過される懸濁液、及び洗浄
液のための各供給管路６、７、８が設けられている。容
器１の下方部分に、圧力濾過器板上に位置し液体10の層
で覆われている濾過ケーク９がある。液体10は濾過され
る母液、又は洗浄液とすることができる。
すでに述べたように、濾過中濾過ケーク９が液体10で浸
される時点は、プロセス工学において非常に重要であ
る。浸される時点は、液体レベルが固体の表面11に丁度
一致することを特徴とする。液体レベルが下降している
とき液体レベルが固体表面11を通過することを検出する
ために、又は液体レベルが上昇しているならば固体表面
からの溢れ出しを丁度開始したときを検出するために、
センサーのヘッド12が容器１の上方の側方の点検窓に配
置される。このセンサーの機能を、以下に更に詳細に記
載する。貯蔵容器と供給管路から成る滴下装置14が同一
のフランジ13に連結されている。
される時点は、プロセス工学において非常に重要であ
る。浸される時点は、液体レベルが固体の表面11に丁度
一致することを特徴とする。液体レベルが下降している
とき液体レベルが固体表面11を通過することを検出する
ために、又は液体レベルが上昇しているならば固体表面
からの溢れ出しを丁度開始したときを検出するために、
センサーのヘッド12が容器１の上方の側方の点検窓に配
置される。このセンサーの機能を、以下に更に詳細に記
載する。貯蔵容器と供給管路から成る滴下装置14が同一
のフランジ13に連結されている。
滴下可能14により液滴が生成され、液滴は容器１中の液
体10の表面を打つ。その結果、液体10を伝搬する表面波
が周期的に生成される。
体10の表面を打つ。その結果、液体10を伝搬する表面波
が周期的に生成される。
第２図に示されたセンサーのヘッド12は、耐圧カプセル
中の光源15と、並べて配置された複数の受光器17（光ア
レイ）に光源15からの反射光の像を形成するレンズ系16
と、受光器に連結された評価電子回路18とから成る。評
価電子回路の機能を第３図を参照して記載される。
中の光源15と、並べて配置された複数の受光器17（光ア
レイ）に光源15からの反射光の像を形成するレンズ系16
と、受光器に連結された評価電子回路18とから成る。評
価電子回路の機能を第３図を参照して記載される。
液体の表面で反射された光は受光器17によって検出され
る。反射された光ビームの強度は、液体における表面波
によって変化せしめられる。表面波は、上記の滴下装置
14によって人工的に生成されるか、あるいは経験が示す
ように、他の目的のために設置されたモーター又はポン
プによって化学生産工場において頻繁に生ずる振動又は
機械的な衝撃により発生する。経験により、完全に静か
な液体表面を要求することは、逆に、化学工場において
問題を発生させることが示された。それ故、検出方法の
機能のために必要な表面波は、実際にすでに存在し、そ
して特殊な場合にのみ人工的に生成されなければならな
い。
る。反射された光ビームの強度は、液体における表面波
によって変化せしめられる。表面波は、上記の滴下装置
14によって人工的に生成されるか、あるいは経験が示す
ように、他の目的のために設置されたモーター又はポン
プによって化学生産工場において頻繁に生ずる振動又は
機械的な衝撃により発生する。経験により、完全に静か
な液体表面を要求することは、逆に、化学工場において
問題を発生させることが示された。それ故、検出方法の
機能のために必要な表面波は、実際にすでに存在し、そ
して特殊な場合にのみ人工的に生成されなければならな
い。
受光器17に適用された走査信号は増幅され（プリアンプ
19）、帯域フィルター20を経て微分要素21に送られ、そ
して整流される（整流器22）。回路19、20、21、22は、
各受光器に割り当てられている。即ち、光電子走査信号
（第２図による４つの受光器）は、別々に増幅され、濾
過され、微分され、そして整流される。時間に関する微
分は、こうして、表面波に帰せられる変化した光の成分
のみを検出する。反対に、常に存在する一定の光は除去
される。
19）、帯域フィルター20を経て微分要素21に送られ、そ
して整流される（整流器22）。回路19、20、21、22は、
各受光器に割り当てられている。即ち、光電子走査信号
（第２図による４つの受光器）は、別々に増幅され、濾
過され、微分され、そして整流される。時間に関する微
分は、こうして、表面波に帰せられる変化した光の成分
のみを検出する。反対に、常に存在する一定の光は除去
される。
整流された変化した光の成分は加算回路23によって合計
され、そして合計値が比較器24において予め設定された
閾値と比較される。比較器24は、実際の値が設定された
閾値よりも低下又は超過するとき、制御信号を発する。
必要とされるであろう時間遅れを調整するために、遅れ
要素25が比較器24の下流に設けられる。例えば、供給管
路７、８又は濾液排出口５における弁又は他の制御要素
を作動させるために、遅れさせられた制御信号を、最終
的に出力増幅器26によって更に増幅することができる。
され、そして合計値が比較器24において予め設定された
閾値と比較される。比較器24は、実際の値が設定された
閾値よりも低下又は超過するとき、制御信号を発する。
必要とされるであろう時間遅れを調整するために、遅れ
要素25が比較器24の下流に設けられる。例えば、供給管
路７、８又は濾液排出口５における弁又は他の制御要素
を作動させるために、遅れさせられた制御信号を、最終
的に出力増幅器26によって更に増幅することができる。
ここに記載した検出方法は、液体レベルが固体の表面を
通過するか又は固体の表面から（上昇する液体レベルの
場合に）液体が溢れでるとき、受光器17に適用される変
化した光の信号が、最大変化を受けるという分類機能に
基づく。原理的に、１つの受光器17を有する単一測定チ
ャンネルで十分である。しかし、上記のように、複数の
受光器を使用しその走査信号が合計されるならば、大き
な信頼性が達成される。
通過するか又は固体の表面から（上昇する液体レベルの
場合に）液体が溢れでるとき、受光器17に適用される変
化した光の信号が、最大変化を受けるという分類機能に
基づく。原理的に、１つの受光器17を有する単一測定チ
ャンネルで十分である。しかし、上記のように、複数の
受光器を使用しその走査信号が合計されるならば、大き
な信頼性が達成される。
検出原理を、加圧濾過器における固体表面を液体の表面
が通過することに関連して記載した。しかし、本発明に
よる方法は又、他の方法において非常に成功裡に使用す
ることができる。例えば、容器が排出されるとき、頻繁
に発生する問題は、液体レベルが規定値よりも低下して
はならない、あるいは容器が空になる時点が正確に検出
されなければならないことである。この場合、基準レベ
ルとして作用する板が、基準液体レベルの高さに設置さ
れる。液体レベルが受光器の走査フィールドに位置する
板に達するやいなや、変化した光の成分が突然の変化を
受ける。こうして、例えば、液体レベルが上昇する場
合、変化した光の成分は、液体が板に丁度溢れ出る時始
めて現れるが、逆に、液体レベルが下降する場合、液体
が板においてもはや事実上存在しないとき、変化したの
光成分は事実上削減する。容器の完全な排出の場合に、
容器の底は、液体に対する基準レベルとして役立つ。液
体レベルが基準レベルを通過するとき生成された制御信
号を、例えば、充填又は排出手順を停止させるために、
上記の制御段階に類似して使用することができる。
が通過することに関連して記載した。しかし、本発明に
よる方法は又、他の方法において非常に成功裡に使用す
ることができる。例えば、容器が排出されるとき、頻繁
に発生する問題は、液体レベルが規定値よりも低下して
はならない、あるいは容器が空になる時点が正確に検出
されなければならないことである。この場合、基準レベ
ルとして作用する板が、基準液体レベルの高さに設置さ
れる。液体レベルが受光器の走査フィールドに位置する
板に達するやいなや、変化した光の成分が突然の変化を
受ける。こうして、例えば、液体レベルが上昇する場
合、変化した光の成分は、液体が板に丁度溢れ出る時始
めて現れるが、逆に、液体レベルが下降する場合、液体
が板においてもはや事実上存在しないとき、変化したの
光成分は事実上削減する。容器の完全な排出の場合に、
容器の底は、液体に対する基準レベルとして役立つ。液
体レベルが基準レベルを通過するとき生成された制御信
号を、例えば、充填又は排出手順を停止させるために、
上記の制御段階に類似して使用することができる。
本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。
1.（ａ）振動又は機械的な衝撃によって、液体に表面波
を生成し、 （ｂ）液体の表面を照明し、反射した光を光電的に走査
し、 （ｃ）反射した光の変化する光の成分のみを検出し、上
記変化する光は、上記表面波によって反射した強度を変
化せしめることによって生成され、 （ｄ）変化する光の信号の成分を予め設定した閾値と比
較して、実際の値が閾値より下になるとき、あるいは閾
値を越えるときに、制御信号を生成する ことを特徴とする、中実物質又は多孔質物質が液体に浸
る時点、又は中実物質又は多孔質物質が液体から出現す
る時点を検出する方法。
を生成し、 （ｂ）液体の表面を照明し、反射した光を光電的に走査
し、 （ｃ）反射した光の変化する光の成分のみを検出し、上
記変化する光は、上記表面波によって反射した強度を変
化せしめることによって生成され、 （ｄ）変化する光の信号の成分を予め設定した閾値と比
較して、実際の値が閾値より下になるとき、あるいは閾
値を越えるときに、制御信号を生成する ことを特徴とする、中実物質又は多孔質物質が液体に浸
る時点、又は中実物質又は多孔質物質が液体から出現す
る時点を検出する方法。
2.光電子的走査信号が、変化した光の成分を検出するた
めに、時間に関して微分されることを特徴とする上記１
に記載の方法。
めに、時間に関して微分されることを特徴とする上記１
に記載の方法。
3.液体の表面が複数の点において光電子的に走査され、
そして対応する整流された変化した光の成分が合計さ
れ、そして合計値が閾値と比較されることを特徴とする
上記１及び２に記載の方法。
そして対応する整流された変化した光の成分が合計さ
れ、そして合計値が閾値と比較されることを特徴とする
上記１及び２に記載の方法。
4.液体の表面を打つ液滴によって液体の表面を振動させ
ることを特徴とする上記１〜３に記載の方法。
ることを特徴とする上記１〜３に記載の方法。
5.液体の表面を吹き付けることによって液体の表面を振
動させることを特徴とする上記１〜３に記載の方法。
動させることを特徴とする上記１〜３に記載の方法。
6.容器内に配置されそして受光器の走査フィールドに位
置する板の表面が、容器の充填又は排出手順中、液体の
ための基準レベルとして使用され、そして板の上記の溢
れ時に生ずる制御信号が、充填又は排出手順を停止させ
るために使用されることを特徴とする上記１〜５に記載
の方法。
置する板の表面が、容器の充填又は排出手順中、液体の
ための基準レベルとして使用され、そして板の上記の溢
れ時に生ずる制御信号が、充填又は排出手順を停止させ
るために使用されることを特徴とする上記１〜５に記載
の方法。
7.懸濁液の濾過中、液体レベルが濾過ケークの表面を通
過するとき発生する制御信号が、濾液の溢れ出しを停止
させそして濾過ケークを通る洗浄用液体の流れを開始さ
せるために、使用されることを特徴とする上記１〜５に
記載の方法。
過するとき発生する制御信号が、濾液の溢れ出しを停止
させそして濾過ケークを通る洗浄用液体の流れを開始さ
せるために、使用されることを特徴とする上記１〜５に
記載の方法。
8.液体の表面を照明する光源（15）と、照明された表面
の像を形成するためのレンズ系（16）と、 液体の表面で反射された光を検出する複数の受光器（1
7）と、 受光器に割り当てられ光受信器（17）に適用された信号
を時間に関して微分するための微分要素（21）と、受光
器に割り当てられた整流器（22）と、整流された受光器
の信号のすべての合計を形成する加算回路（23）とを有
する評価回路（18）と、 受光器の信号の全体が予め設定された閾値よりも低下又
は超過するとき、制御信号を発する比較器回路（24）と
から成ることを特徴とする上記１〜７に記載の方法を実
施するための装置。
の像を形成するためのレンズ系（16）と、 液体の表面で反射された光を検出する複数の受光器（1
7）と、 受光器に割り当てられ光受信器（17）に適用された信号
を時間に関して微分するための微分要素（21）と、受光
器に割り当てられた整流器（22）と、整流された受光器
の信号のすべての合計を形成する加算回路（23）とを有
する評価回路（18）と、 受光器の信号の全体が予め設定された閾値よりも低下又
は超過するとき、制御信号を発する比較器回路（24）と
から成ることを特徴とする上記１〜７に記載の方法を実
施するための装置。
第１図は、設置された液体／固体センサーを有する加圧
濾過器を示す図。 第２図はセンサーのヘッドの斜視図。 第３図は評価電子回路のブロック図。 図中、１…容器、２…攪拌器、３…ノズル、４…固体放
出口、５…濾液排出口、６…加圧ガス供給管路、７…懸
濁液の供給管路、８…洗浄液の供給管路、９…濾過ケー
ク、10…液体、11…固体の表面、12…センサーのヘッ
ド、14…滴下装置、15…光源、16…レンズ系、17…受光
器、18…評価電子回路、19…プリアンプ、20…帯域フィ
ルター、21…微分要素、22…整流器、23…加算回路、24
…比較器、25…遅れ要素、26…出力増幅器、である。
濾過器を示す図。 第２図はセンサーのヘッドの斜視図。 第３図は評価電子回路のブロック図。 図中、１…容器、２…攪拌器、３…ノズル、４…固体放
出口、５…濾液排出口、６…加圧ガス供給管路、７…懸
濁液の供給管路、８…洗浄液の供給管路、９…濾過ケー
ク、10…液体、11…固体の表面、12…センサーのヘッ
ド、14…滴下装置、15…光源、16…レンズ系、17…受光
器、18…評価電子回路、19…プリアンプ、20…帯域フィ
ルター、21…微分要素、22…整流器、23…加算回路、24
…比較器、25…遅れ要素、26…出力増幅器、である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−16507（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−7548（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−65994（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】（ａ）振動又は機械的な衝撃によって、液
体に表面波を生成し、 （ｂ）液体の表面を照明し、反射した光を光電的に走査
し、 （ｃ）反射した光の変化する光の成分のみを検出し、上
記変化する光は、上記表面波によって反射した強度を変
化せめることによって生成され、 （ｄ）変化する光の信号の成分を予め設定した閾値と比
較して、実際の値が閾値より下になるとき、あるいは閾
値を越えるときに、制御信号を生成する ことを特徴とする、中実物質又は多孔質物質が液体に浸
る時点、又は中実物質又は多孔質物質が液体から出現す
る時点を検出する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3828821A DE3828821A1 (de) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | Verfahren zur erkennung der ueberflutung einer oberflaeche |
| DE3828821.4 | 1988-08-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02102438A JPH02102438A (ja) | 1990-04-16 |
| JPH0678928B2 true JPH0678928B2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=6361562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1215126A Expired - Lifetime JPH0678928B2 (ja) | 1988-08-25 | 1989-08-23 | 液体に浸る時点又は液体から出現する時点を検出する方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4929829A (ja) |
| EP (1) | EP0355643B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0678928B2 (ja) |
| DE (2) | DE3828821A1 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2717049B2 (ja) * | 1992-11-30 | 1998-02-18 | アサヒビール株式会社 | 泡持ち自動測定方法及び装置 |
| DE19504579A1 (de) * | 1995-02-11 | 1996-08-14 | Boehringer Mannheim Gmbh | Apparatur zur Detektion von Flüssigkeitsoberflächen |
| GB9614323D0 (en) * | 1996-07-08 | 1996-09-04 | Willis William G | Apparatus for and a method of measuring the fluid contents of containers |
| WO1999015255A1 (en) * | 1997-09-19 | 1999-04-01 | Baker Hughes Incorporated | Method and apparatus for monitoring, controlling and operating rotary drum filters |
| US6040897A (en) * | 1998-04-29 | 2000-03-21 | Laser Technology, Inc. | Remote sensor head for laser level measurement devices |
| CH696674A5 (de) * | 2003-10-30 | 2007-09-14 | Rosenmund Vta Ag | Verfahren zur Erkennung des Ein- oder Auftauchzeitpunktes eines Körpers in oder aus einer Flüssigkeit. |
| US8747669B1 (en) * | 2005-12-29 | 2014-06-10 | Spf Innovations, Llc | Method and apparatus for the filtration of biological samples |
| KR20100021848A (ko) * | 2008-08-18 | 2010-02-26 | 삼성전자주식회사 | 표시 장치용 노광 장치 및 노광 방법 |
| EP3356051B1 (en) | 2015-10-02 | 2021-06-16 | Bjarne Christian Nielsen Holding ApS | Apparatus and method for monitoring and controlling a centrifugal |
| CN108351290B (zh) * | 2015-10-26 | 2021-07-16 | 弗劳恩霍夫应用研究促进协会 | 用于光学地检测生物样品中的移动的方法和装置 |
| US20220097018A1 (en) * | 2020-09-30 | 2022-03-31 | Changzhou Syntheall Pharmaceutical Co., Ltd | Reaction kettles, polypeptide synthesis cleavage system and their use in polypeptide synthesis or cleavage |
| JP7551686B2 (ja) * | 2022-05-17 | 2024-09-17 | 株式会社神鋼環境ソリューション | 濾過機および濾過方法 |
| CH720767A1 (fr) | 2023-05-08 | 2024-11-15 | Meili Tech Sa | Système de surveillance adapté pour surveiller et/ou piloter un processus de filtration d'une boue sous pression |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS5165994A (ja) * | 1974-12-05 | 1976-06-08 | Yamada Ind | Fuyukenshutsusochi |
| US4008612A (en) * | 1975-09-17 | 1977-02-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid quantity detecting device |
| JPS5291483A (en) * | 1976-01-28 | 1977-08-01 | Hitachi Ltd | Multi-component analyzer |
| BE872578A (fr) * | 1978-12-06 | 1979-03-30 | Centre Rech Metallurgique | Dispositif pour controler la surface de la charge d'un four a cuve |
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| IT1192344B (it) * | 1978-12-20 | 1988-03-31 | Ceda Spa | Misuratore di livello |
| US4544840A (en) * | 1979-08-31 | 1985-10-01 | The Johns Hopkins University | Fiber optic fluid impurity detector |
| US4443699A (en) * | 1979-08-31 | 1984-04-17 | The Johns Hopkins University | Fluid level measuring device with linear, high resolution output |
| DE2945251A1 (de) * | 1979-11-09 | 1981-05-14 | Betriebsforschungsinstitut VDEh - Institut für angewandte Forschung GmbH, 4000 Düsseldorf | Verfahren und vorrichtung zur bestimmung der lage einer oberflaeche |
| FI60079C (fi) * | 1980-02-29 | 1981-11-10 | Vaisala Oy | Foerfarande och anordning foer angivande av daggpunkt eller liknande |
| DE3029716C2 (de) * | 1980-08-06 | 1985-05-15 | Krautkrämer GmbH, 5000 Köln | Verfahren und Vorrichtung zur automatischen Aufrechterhaltung einer Justage der Deckung und der relativen Phasenlage von Lichtstrahlen in einem für den Ultraschallempfang benutzten optischen Interferometer |
| DE3123476C2 (de) * | 1981-06-13 | 1984-05-17 | Skf Kugellagerfabriken Gmbh, 8720 Schweinfurt | Arbeitsverfahren und Vorrichtung zum Stillsetzen einer Arbeitsstelle einer Spinn- oder Zwirnmaschine |
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| US4508970A (en) * | 1982-07-15 | 1985-04-02 | Motorola, Inc. | Melt level sensing system and method |
| JPS5916507A (ja) * | 1982-07-19 | 1984-01-27 | Oval Eng Co Ltd | 相分離システム |
| US4625549A (en) * | 1985-08-01 | 1986-12-02 | Outboard Marine Corporation | Optical fluid level indicator including float with reflecting means |
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| US4665391A (en) * | 1986-02-27 | 1987-05-12 | Warner-Lambert Company | Empty container detector |
| JPS62206431A (ja) * | 1986-03-07 | 1987-09-10 | Ricoh Co Ltd | 液体の屈折率測定装置 |
| JPH0649631B2 (ja) * | 1986-10-29 | 1994-06-29 | 信越半導体株式会社 | 結晶径測定装置 |
| US4693831A (en) * | 1987-01-28 | 1987-09-15 | Zimpro Inc. | Rise-rate control of pulsed-bed granular medium filters |
-
1988
- 1988-08-25 DE DE3828821A patent/DE3828821A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-08-04 US US07/389,443 patent/US4929829A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-12 DE DE8989114976T patent/DE58904061D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-12 EP EP89114976A patent/EP0355643B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-08-23 JP JP1215126A patent/JPH0678928B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4929829A (en) | 1990-05-29 |
| DE3828821A1 (de) | 1990-03-01 |
| EP0355643A2 (de) | 1990-02-28 |
| EP0355643B1 (de) | 1993-04-14 |
| EP0355643A3 (de) | 1991-01-23 |
| DE58904061D1 (de) | 1993-05-19 |
| JPH02102438A (ja) | 1990-04-16 |
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