JPH0679274A - スライシング排水の回収方法 - Google Patents
スライシング排水の回収方法Info
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- JPH0679274A JPH0679274A JP23817792A JP23817792A JPH0679274A JP H0679274 A JPH0679274 A JP H0679274A JP 23817792 A JP23817792 A JP 23817792A JP 23817792 A JP23817792 A JP 23817792A JP H0679274 A JPH0679274 A JP H0679274A
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Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 スライシング排水を曇り点以下の温度で膜分
離装置にかけ，濾過水を回収する。 【効果】 膜分離装置の濾過能力の低下が抑制され，膜
の洗浄頻度を低減できる。
離装置にかけ，濾過水を回収する。 【効果】 膜分離装置の濾過能力の低下が抑制され，膜
の洗浄頻度を低減できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はスライシング排水の回収
方法に関する。更に詳しくは半導体ウェ−ハ−製造工程
のスライシング工程より排出される排水を膜分離装置に
かけ、その濾過水を切削水として再使用するスライシン
グ排水の回収方法の改良に関する。
方法に関する。更に詳しくは半導体ウェ−ハ−製造工程
のスライシング工程より排出される排水を膜分離装置に
かけ、その濾過水を切削水として再使用するスライシン
グ排水の回収方法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】シリコンウェ−ハ−を製造する工程にス
ライシング工程と称される単結晶インゴットをダイヤモ
ンドブレ−ドで所定の厚さに切断する工程がある。当該
工程ではシリコンインゴットを切断する際に潤滑性を付
与すると同時に発生熱を取り除き、ブレ−ドの寿命を延
ばすため１〜５％の水溶性切削油を含む切削水が用いら
れている。
ライシング工程と称される単結晶インゴットをダイヤモ
ンドブレ−ドで所定の厚さに切断する工程がある。当該
工程ではシリコンインゴットを切断する際に潤滑性を付
与すると同時に発生熱を取り除き、ブレ−ドの寿命を延
ばすため１〜５％の水溶性切削油を含む切削水が用いら
れている。
【０００３】切削排水（以下スライシング排水と記す）
はシリコン微粒子を含む懸濁水であることから、何らか
の処理が必要であるが、前記したように高価な水溶性切
削油を含んでいるため、使い捨てによる経済的損失は非
常に大きく、従来より濾布にケイソウ土をプレコ−トし
たフィルタ−等によりシリコンの微粒子を分離除去し、
繰り返し使用されている。
はシリコン微粒子を含む懸濁水であることから、何らか
の処理が必要であるが、前記したように高価な水溶性切
削油を含んでいるため、使い捨てによる経済的損失は非
常に大きく、従来より濾布にケイソウ土をプレコ−トし
たフィルタ−等によりシリコンの微粒子を分離除去し、
繰り返し使用されている。
【０００４】また、最近では精密濾過膜や限外濾過膜を
用いた膜分離装置による回収方法が提案されている。
用いた膜分離装置による回収方法が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、濾布に
ケイソウ土をプレコ−トして濾過する方法は０．５ミク
ロン以下のシリコン微粒子がリ−クするため、清澄な濾
過水が得られないという欠点に加え、濾布が目詰まりし
て濾過能力が低下し、濾布の洗浄を手作業で行わなけれ
ばならないという問題がある。
ケイソウ土をプレコ−トして濾過する方法は０．５ミク
ロン以下のシリコン微粒子がリ−クするため、清澄な濾
過水が得られないという欠点に加え、濾布が目詰まりし
て濾過能力が低下し、濾布の洗浄を手作業で行わなけれ
ばならないという問題がある。
【０００６】また、精密濾過膜や限外濾過膜を用いた膜
分離装置により濾過する方法は清澄な濾過水が得られ、
運転管理も容易である等の利点を有するがファウリング
が大きく徐々に濾過能力が低下してしまうため、膜の洗
浄を頻繁に行う必要がある。膜の洗浄は薬品による洗
浄、例えばアルカリ等を使って洗浄が行われるが、その
際には大量に濁った洗浄廃液が発生する。
分離装置により濾過する方法は清澄な濾過水が得られ、
運転管理も容易である等の利点を有するがファウリング
が大きく徐々に濾過能力が低下してしまうため、膜の洗
浄を頻繁に行う必要がある。膜の洗浄は薬品による洗
浄、例えばアルカリ等を使って洗浄が行われるが、その
際には大量に濁った洗浄廃液が発生する。
【０００７】また、洗浄後は濾過水中に薬品成分がコン
タミするのを防ぐため純水でリンスする必要があるが、
リンス廃水についても排水中に戻すことができないため
洗浄廃液と同様に特別の処理装置または処理手段を必要
とするなどの問題がある。この問題は例えば濾過能力が
低下した時点で膜を取り外して膜分離装置の系の外で洗
浄する場合においても解消することはできない。
タミするのを防ぐため純水でリンスする必要があるが、
リンス廃水についても排水中に戻すことができないため
洗浄廃液と同様に特別の処理装置または処理手段を必要
とするなどの問題がある。この問題は例えば濾過能力が
低下した時点で膜を取り外して膜分離装置の系の外で洗
浄する場合においても解消することはできない。
【０００８】
【課題を解決するための手段】これに対して本発明者ら
は精密濾過膜及び限外濾過膜の濾過能力を安定に保つた
めの膜分離装置の運転方法に関し、鋭意検討した結果膜
分離装置に供給するスライシング排水の温度を曇り点以
下に保持することによりファウリングが抑えられ濾過能
力安定性が著しく改善されることを見出し、本発明に到
った。
は精密濾過膜及び限外濾過膜の濾過能力を安定に保つた
めの膜分離装置の運転方法に関し、鋭意検討した結果膜
分離装置に供給するスライシング排水の温度を曇り点以
下に保持することによりファウリングが抑えられ濾過能
力安定性が著しく改善されることを見出し、本発明に到
った。
【０００９】即ち本発明は、スライシング排水を膜分離
装置にかけ、前記排水中の懸濁物質を分離、除去した濾
過水を回収する方法において、膜分離装置に供給するス
ライシング排水の温度を曇り点以下に保持することを特
徴とするスライシング排水の回収方法である。ここで曇
り点とは界面活性剤が析出して濁りを生じる温度のこと
である。
装置にかけ、前記排水中の懸濁物質を分離、除去した濾
過水を回収する方法において、膜分離装置に供給するス
ライシング排水の温度を曇り点以下に保持することを特
徴とするスライシング排水の回収方法である。ここで曇
り点とは界面活性剤が析出して濁りを生じる温度のこと
である。
【００１０】本発明が適用されるスライシング排水は水
溶性切削油、詳しくは合成潤滑剤、無機塩、アミン類と
いった防錆剤、更には界面活性剤、消泡剤等を含み、曇
り点を持つ排水であり、曇り点は通常、水溶性切削油の
濃度が５％以下の低濃度であることから、濃度による変
化はあまりないが可溶化物質の存在により変化する性質
があるので実際に確認することが好ましいが、スライシ
ング排水では濁りがあるため確認がむずかしく、水溶性
切削油を所定の濃度に希釈して確認する必要がある。
溶性切削油、詳しくは合成潤滑剤、無機塩、アミン類と
いった防錆剤、更には界面活性剤、消泡剤等を含み、曇
り点を持つ排水であり、曇り点は通常、水溶性切削油の
濃度が５％以下の低濃度であることから、濃度による変
化はあまりないが可溶化物質の存在により変化する性質
があるので実際に確認することが好ましいが、スライシ
ング排水では濁りがあるため確認がむずかしく、水溶性
切削油を所定の濃度に希釈して確認する必要がある。
【００１１】本発明で用いられる膜としては精密濾過
膜、又は限外濾過膜である。膜の材質、構造は特に限定
されないが、一般にスライシング排水のＰＨは８〜９程
度になるので、膜の材質は耐アルカリ性のものが要求さ
れ、膜の孔径は粒子径が０．５ミクロン以下のシリコン
微粒子が存在するため、０．５ミクロン以下、好ましく
は０．２ミクロン以下である。
膜、又は限外濾過膜である。膜の材質、構造は特に限定
されないが、一般にスライシング排水のＰＨは８〜９程
度になるので、膜の材質は耐アルカリ性のものが要求さ
れ、膜の孔径は粒子径が０．５ミクロン以下のシリコン
微粒子が存在するため、０．５ミクロン以下、好ましく
は０．２ミクロン以下である。
【００１２】また、膜分離装置に供給するスライシング
排水の温度はスライシング排水の貯槽に冷却器を設置す
るか、または膜分離装置の供給配管の途中に熱交換器を
設けてコントロ−ルされるが、逆洗機構を備えた膜分離
装置にあっては、通常の場合、切削水中の水溶性切削油
の濃度を一定に保つ必要があるため、逆洗水として濾過
水が使用されるので、逆洗による膜の目詰まりを防ぐた
め、逆洗水の温度も曇り点以下に保つことが重要であ
る。
排水の温度はスライシング排水の貯槽に冷却器を設置す
るか、または膜分離装置の供給配管の途中に熱交換器を
設けてコントロ−ルされるが、逆洗機構を備えた膜分離
装置にあっては、通常の場合、切削水中の水溶性切削油
の濃度を一定に保つ必要があるため、逆洗水として濾過
水が使用されるので、逆洗による膜の目詰まりを防ぐた
め、逆洗水の温度も曇り点以下に保つことが重要であ
る。
【００１３】また、膜分離装置の運転方式は濾過能力を
安定に保つためクロスフロ−方式（循環濾過方式）であ
る必要があり、循環時の線速は０．５〜３ｍ／秒、好ま
しくは１．５〜２．５ｍ／秒である。
安定に保つためクロスフロ−方式（循環濾過方式）であ
る必要があり、循環時の線速は０．５〜３ｍ／秒、好ま
しくは１．５〜２．５ｍ／秒である。
【００１４】
【実施例】以下に本発明の実施例及び比較例を挙げる
が、本発明はこれに限定されるものではない。
が、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１５】
【実施例１】中空糸状のポリアクリロニトリル限外濾過
膜（旭化成工業株式会社製、分画分子量１３０００）を
装着した膜分離装置を用いて、表１に示す平均性状のス
ライシング排水を入口圧力１．５Ｋｇ／ｃｍ2 、出口圧
力０．５Ｋｇ／ｃｍ2 、線速２．２ｍ／秒、温度２１〜
２２℃の条件下で濃縮倍率１０倍（切削水回収率９０
％）となるように処理した。なお、水溶性切削油を所定
の濃度（３％）に希釈して測定した場合の曇り点は２５
℃であった。
膜（旭化成工業株式会社製、分画分子量１３０００）を
装着した膜分離装置を用いて、表１に示す平均性状のス
ライシング排水を入口圧力１．５Ｋｇ／ｃｍ2 、出口圧
力０．５Ｋｇ／ｃｍ2 、線速２．２ｍ／秒、温度２１〜
２２℃の条件下で濃縮倍率１０倍（切削水回収率９０
％）となるように処理した。なお、水溶性切削油を所定
の濃度（３％）に希釈して測定した場合の曇り点は２５
℃であった。
【００１６】膜分離装置の運転は３０分経過する毎、限
外濾過膜に流す方向を交互に変えながら（入口、出口を
逆にして）濾過を行なった後、濾過水を使って１．０ｋ
ｇ／ｃｍ2 の圧力で３０秒間逆洗することの繰り返しで
行なった。濾過能力は初期９２リットル／ｍ2 Ｈｒ、１
ケ月後で７３リットル／ｍ2 Ｈｒであった。そして、こ
の間の濾過水の平均的性状は表１の通りであった。
外濾過膜に流す方向を交互に変えながら（入口、出口を
逆にして）濾過を行なった後、濾過水を使って１．０ｋ
ｇ／ｃｍ2 の圧力で３０秒間逆洗することの繰り返しで
行なった。濾過能力は初期９２リットル／ｍ2 Ｈｒ、１
ケ月後で７３リットル／ｍ2 Ｈｒであった。そして、こ
の間の濾過水の平均的性状は表１の通りであった。
【００１７】
【比較例１】膜分離装置を２８〜３０℃で運転した以
外、実施例１と同様の方法で１ケ月間運転した後の濾過
能力は運転初期９５リットル／ｍ2 Ｈｒに対して３７リ
ットル／ｍ2 Ｈｒであり、約６０％の低下があった。こ
の間の濾過水の平均的性状を表１に示す。
外、実施例１と同様の方法で１ケ月間運転した後の濾過
能力は運転初期９５リットル／ｍ2 Ｈｒに対して３７リ
ットル／ｍ2 Ｈｒであり、約６０％の低下があった。こ
の間の濾過水の平均的性状を表１に示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【発明の効果】本発明は膜分離装置にかけるスライシン
グ排水の温度を曇り点以下に保つことにより、有効成分
の回収率を低下させることなく、少ない洗浄回数で膜分
離装置の濾過能力を維持することができ、効率的かつ経
済的である。
グ排水の温度を曇り点以下に保つことにより、有効成分
の回収率を低下させることなく、少ない洗浄回数で膜分
離装置の濾過能力を維持することができ、効率的かつ経
済的である。
Claims (1)
- 【請求項１】 スライシング排水を膜分離装置にかけ、
前記排水中の懸濁物質を分離、除去した濾過水を回収す
る方法において、膜分離装置に供給する排水の温度を曇
り点以下に保持することを特徴とするスライシング排水
の回収方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23817792A JPH0679274A (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | スライシング排水の回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23817792A JPH0679274A (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | スライシング排水の回収方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0679274A true JPH0679274A (ja) | 1994-03-22 |
Family
ID=17026323
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23817792A Withdrawn JPH0679274A (ja) | 1992-09-07 | 1992-09-07 | スライシング排水の回収方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0679274A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002040407A1 (en) * | 2000-11-17 | 2002-05-23 | Metallkraft As | Method for utilising a waste slurry from silicon wafer production |
-
1992
- 1992-09-07 JP JP23817792A patent/JPH0679274A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002040407A1 (en) * | 2000-11-17 | 2002-05-23 | Metallkraft As | Method for utilising a waste slurry from silicon wafer production |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991130 |